JP4183604B2 - 現像装置および現像方法 - Google Patents

現像装置および現像方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4183604B2
JP4183604B2 JP2003402223A JP2003402223A JP4183604B2 JP 4183604 B2 JP4183604 B2 JP 4183604B2 JP 2003402223 A JP2003402223 A JP 2003402223A JP 2003402223 A JP2003402223 A JP 2003402223A JP 4183604 B2 JP4183604 B2 JP 4183604B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
developer
development
developing
processed
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003402223A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005166843A (ja
Inventor
彰彦 中村
吉浩 稲尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd filed Critical Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority to JP2003402223A priority Critical patent/JP4183604B2/ja
Priority to US10/997,816 priority patent/US7237967B2/en
Priority to TW093136313A priority patent/TWI362970B/zh
Priority to KR1020040099010A priority patent/KR20050053009A/ko
Publication of JP2005166843A publication Critical patent/JP2005166843A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4183604B2 publication Critical patent/JP4183604B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3042Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations
    • G03F7/3057Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations characterised by the processing units other than the developing unit, e.g. washing units
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03DAPPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03D3/00Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion
    • G03D3/08Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion having progressive mechanical movement of exposed material

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Wet Developing In Electrophotography (AREA)

Description

本発明は、パドル式の現像装置およびこの現像装置を用いた現像方法に関する。
半導体ウェーハ等の被処理基板に回路を形成するには、先ず基板表面にホトレジストを塗布し、ホトリソグラフィ技術を用いることで回路パターンをホトレジストに転写し、更に潜像パターン形成面に現像液を供給することにより、塗布レジスト膜を現像し、被処理基板の表面に顕像パターンを形成する。
現像には、現像液中に被処理基板を浸漬する手段、現像液を被処理基板表面にシャワー状に流す手段、および被処理基板表面のホトレジストの上に現像液を盛り付け、所定時間経過後に被処理基板を回転させて現像液を振り切るパドル型の現像がある。このうち、パドル型の以外の現像手段は使用する現像液の量が極めて多くなるという欠点がある。
パドル型の現像手段としては、特許文献1および特許文献2に開示されるものがある。特許文献1には、スリットノズルで基板上に現像液を液盛りした後、別のノズルで使用済みの現像液を回収し、回収した現像液を再生して利用することが開示されている。また、特許文献2には、基板上に現像液を液盛りした後、吸込みノズルが接続されたケースを基板の上に被せて使用済みの現像液を回収し、回収した現像液を再生して利用することが開示されている。
特開平8−45832号公報 特開平10−12540号公報
一般的なパドル型の現像処理は、ウェーハ1枚の現像処理に現像液を4〜5回交換して行う。即ち、現像を連続して複数回繰り返す。この現像液を全て新液で行うと現像液の使用量が大量になる。したがって、特許文献1,2のように、使用済みの現像液を回収して再生すれば、現像液の有効利用になる。しかしながら、使用済みの現像液を再生するには、そのための装置と処理を行わなければならない。
本発明者は使用済みの現像液でも高濃度のものは十分に現像能力が残っていることに着目して本発明をなしたものである。
即ち、本発明に係る現像装置は、被処理物表面に現像液を盛り付けるパドル型の現像装置であって、未使用の現像液を貯留する新液タンクと被処理物から回収した使用済みの現像液を貯留する旧液タンクとを備え、被処理物を回転せしめるチャックを配置したカップ上方に前記新液タンクにつながる新液供給ノズルと旧液タンクにつながる旧液供給ノズルとが臨み、また前記カップと旧液タンクとをつなぐ回収用配管は中間部で分岐し、一方の分岐管は旧液タンクに接続され、他方の分岐管は廃棄タンクなどの廃棄部へ接続された構成とした。
上記構成によって、使用済みの現像液を1つの現像装置内で再生することなく循環して使用することができる。
また、現像装置として複数のカップ(現像ユニット)を多段状に配置し、各カップに、共通の新液タンクおよび旧液タンクから現像液を供給する構成とすることで、装置のコンパクト化を図ることができる。
一方、本発明に係るパドル型の現像方法は、先ず、現像に先立って使用済みまたは未使用の現像液を用いてカップ内および配管内に残っているリンス液の除去を行い、次いで複数回の現像を連続して行うにあたり、中間の現像には被処理物から回収した使用済みの現像液を用いるか、使用済みの現像液を用いた現像と未使用の現像液を用いた現像とを交互に行うようにした。尚、最初の現像と最後の現像には未使用の現像液を用いて行う。
本発明によれば、十分に現像能力が残っている使用済みの現像液をそのまま或いは未使用の現像液を合わせて使用するため、面内均一性は維持でき、膜減り量が多くなったり、スカムが発生するなどの問題を回避しつつ、現像液の使用量を節約できる。
以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて説明する。図1は本発明に係る現像装置の全体構成図、図2は同現像装置を異なる方向から見た全体構成図、図3は現像ユニットの構造を示す拡大断面図である。
現像装置は現像ユニット1を多段状に上下方向に積層して構成される。現像ユニット1は基板の周囲を囲むカップ2と基板を保持して回転せしめるチャック3とからなり、カップ2はチャック3に対して昇降可能とされている。各カップ2はアーム4に支持され、このアーム4はシリンダユニット5によって昇降動する支柱6に等間隔で水平方向に取付けられている。
また床面には空洞状支柱7が立設され、この空洞状支柱7に各現像ユニット1に向かって空洞状アーム8が水平方向に取付けられ、この空洞状支柱8内には図示しないモータにて回転せしめられる駆動軸9が上下方向に配置されている。この駆動軸9は各現像ユニット1ごとに分割され、分割された駆動軸9はユニバーサルジョイント10にて連結され、各分割された駆動軸9には駆動プーリ11が固着され、前記チャック3の軸には被動プーリ12が固着され、これら駆動プーリ11と被動プーリ12間に張設されたタイミングベルト13が前記水平アーム8内に収納されている。尚、水平アーム8の下側にはリンス液供給ノズル14が取付けられている。
一方、現像装置は未使用の現像液を貯留する新液タンク21と被処理物から回収した使用済みの現像液を貯留する旧液タンク22とを備えている。新液タンク21からは各現像ユニット1のカップ2の上方に先端が臨む新液供給ノズル23が導出され、旧液タンク22からは各現像ユニット1のカップ2の上方に先端が臨む旧液供給ノズル24が導出されている。これら新液供給ノズル23および旧液供給ノズル24は前記アーム4に支持されている。
尚、図示例では新液供給ノズル23および旧液供給ノズル24はそれぞれ1本の配管を途中で分岐したものを示したが、各タンクから1本づつ独立して導出してもよい。
また、前記カップ2の底面にはドレイン穴25が開口し、このドレイン穴25に回収用配管26が接続され、各回収用配管26は1本の垂直管27に合流し、この垂直管27は下部において切り替えバルブを介して2本の分岐管28,29に分かれている。そして一方の分岐管28は前記旧液タンク22につながり、他方の分岐管29は廃棄タンクなどにつながっている。
以上において、カップ2を上昇されて基板Wをカップ内に収納した状態で、基板W上に現像液を盛り付け、所定時間経過せしめて現像を行い、この後、チャック3を回転せしめて基板W上の現像液を回収する。通常はこの工程を複数回繰り返して1枚の基板に対する現像処理が終了する。以下に現像の一例を説明する。
(4回現像の場合)
(前洗浄)
使用済みの現像液を使用して、カップおよび配管内に残ってリンス液などを除去する。
(1回目現像)
未使用の現像液を使用する。これは最初の現像であるため現像液の劣化が激しくなるためであり、使用済みの現像液は全て廃棄する。
(2回目現像)
使用済みの現像液を使用する。この2回目現像で使用した現像液は濃度が低下しているため、全て廃棄する。
(3回目現像)
未使用の現像液を使用する。この3回目現像で使用した現像液は濃度はそれほど低下しないため、旧液タンク22に回収して再利用する。
(4回目現像)
未使用の現像液を使用する。この4回目現像で使用した現像液も濃度はそれほど低下しないため、旧液タンク22に回収して再利用する。
(5回現像の場合)
前洗浄から3回目現像までは前記と同様である。
(4回目現像)
使用済みの現像液を使用する。この4回目現像で使用した現像液は濃度が低下しているため、全て廃棄する。
(5回目現像)
未使用の現像液を使用する。この5回目現像で使用した現像液は濃度はそれほど低下しないため、旧液タンク22に回収して再利用する。
このように、最初と最後の現像に未使用の現像液を使用し、中間の現像では未使用の現像液の使用と使用済みの現像液の使用を交互に行うようにすることで、結果的に使用済みの現像液の使用量は全使用量の50%以下になる。
実施例では、中間の現像で未使用の現像液を使用する場合には単独で使用する例を示したが、中間の現像では、また、旧液タンク22に貯留する使用済みの現像液の濃度は90%以上とし、この値以下の現像液は廃棄する。尚、現像液の濃度は導電率計で測定する。
本発明に係る現像装置の全体構成図 同現像装置を異なる方向から見た全体構成図 現像ユニットの構造を示す拡大断面図
符号の説明
1…現像ユニット、2…カップ、3…チャック、4…アーム、5…シリンダユニット、6…支柱、7…空洞状支柱、8…空洞状アーム、9…駆動軸、10…ユニバーサルジョイント、11…駆動プーリ、12…被動プーリ、13…タイミングベルト、14…リンス液供給ノズル、21…新液タンク、22…旧液タンク、23…新液供給ノズル、24…旧液供給ノズル、25…ドレイン穴、26…回収用配管、27…垂直管、28,29…分岐管。

Claims (2)

  1. 被処理物表面に現像液を盛り付け、一定時間経過後に被処理物から現像液を除去する現像方法において、現像に先立って被処理物から回収した使用済みの現像液または未使用の現像液を用いてカップ内および配管内に残っているリンス液の除去を行い、次いで複数回の現像を連続して行うにあたり、被処理物から回収した使用済みの現像液または未使用の現像液を用いることを特徴とする現像方法。
  2. 請求項1に記載の現像方法において、前記複数回の現像のうち最初の現像と最後の現像には未使用の現像液を用いて行うことを特徴とする現像方法。
JP2003402223A 2003-12-01 2003-12-01 現像装置および現像方法 Expired - Fee Related JP4183604B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003402223A JP4183604B2 (ja) 2003-12-01 2003-12-01 現像装置および現像方法
US10/997,816 US7237967B2 (en) 2003-12-01 2004-11-24 Developing apparatus and method
TW093136313A TWI362970B (en) 2003-12-01 2004-11-25 Developing apparatus and method
KR1020040099010A KR20050053009A (ko) 2003-12-01 2004-11-30 현상장치 및 현상방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003402223A JP4183604B2 (ja) 2003-12-01 2003-12-01 現像装置および現像方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005166843A JP2005166843A (ja) 2005-06-23
JP4183604B2 true JP4183604B2 (ja) 2008-11-19

Family

ID=34725873

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003402223A Expired - Fee Related JP4183604B2 (ja) 2003-12-01 2003-12-01 現像装置および現像方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7237967B2 (ja)
JP (1) JP4183604B2 (ja)
KR (1) KR20050053009A (ja)
TW (1) TWI362970B (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5639816B2 (ja) * 2009-09-08 2014-12-10 東京応化工業株式会社 塗布方法及び塗布装置
JP5439097B2 (ja) * 2009-09-08 2014-03-12 東京応化工業株式会社 塗布装置及び塗布方法
JP5719546B2 (ja) * 2009-09-08 2015-05-20 東京応化工業株式会社 塗布装置及び塗布方法
JP5469966B2 (ja) * 2009-09-08 2014-04-16 東京応化工業株式会社 塗布装置及び塗布方法
JP5857864B2 (ja) 2012-04-23 2016-02-10 東京エレクトロン株式会社 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2561578B2 (ja) * 1991-08-07 1996-12-11 株式会社平間理化研究所 現像液管理装置
JP3116297B2 (ja) 1994-08-03 2000-12-11 東京エレクトロン株式会社 処理方法及び処理装置
JP3583552B2 (ja) 1996-06-18 2004-11-04 東京エレクトロン株式会社 処理装置及び処理方法
JP3728945B2 (ja) * 1998-10-30 2005-12-21 オルガノ株式会社 フォトレジスト現像廃液からの現像液の回収再利用方法及び装置
JP3869306B2 (ja) * 2001-08-28 2007-01-17 東京エレクトロン株式会社 現像処理方法および現像液塗布装置
TW575796B (en) * 2002-09-27 2004-02-11 Au Optronics Corp System and method for recovering TMAH developer

Also Published As

Publication number Publication date
US20050180744A1 (en) 2005-08-18
JP2005166843A (ja) 2005-06-23
TW200526330A (en) 2005-08-16
TWI362970B (en) 2012-05-01
KR20050053009A (ko) 2005-06-07
US7237967B2 (en) 2007-07-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6618334B2 (ja) 基板処理装置、膜形成ユニット、基板処理方法および膜形成方法
JP6494536B2 (ja) 基板処理装置および基板処理装置の洗浄方法
JP4183604B2 (ja) 現像装置および現像方法
JP2009060111A (ja) 基板現像方法及びこれを行うための装置
JP2008071891A (ja) 液浸補助板の洗浄方法と液浸露光方法及びパターン形成方法
JP2001217181A (ja) 現像処理方法および装置、現像制御装置、情報記憶媒体
JP2010171229A (ja) 基板処理装置の洗浄方法
KR20010049878A (ko) 습식처리장치
JP2007035733A (ja) 薬液処理装置
JP2008118042A (ja) 基板洗浄方法
JP4095478B2 (ja) 基板のエッチング装置及びエッチング方法
JP2007123559A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP2003309097A (ja) スクラブブラシの洗浄方法およびこれに用いられる洗浄用ダミーウェーハ
JPS62156659A (ja) 洗浄方法及び装置
JP2005095788A (ja) 基板洗浄装置及び洗浄方法
JP2000343046A (ja) 枚葉式洗浄装置
KR100938231B1 (ko) 기판 처리 장치
KR20080072268A (ko) 기판 이송 장치
JP3331390B2 (ja) 基板の洗浄装置
JP3065061B1 (ja) ウェハ洗浄装置
JPH10413A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP2005057179A (ja) 半導体装置の洗浄方法
JPH09205056A (ja) レジスト剥離と水洗方法
JPH0724396A (ja) 基板処理装置
JP2008028272A (ja) 基板処理方法およびその装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060407

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071121

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071204

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080131

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080311

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080509

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080902

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080902

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110912

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4183604

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110912

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120912

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120912

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130912

Year of fee payment: 5

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees