JP4083449B2 - CdTe単結晶の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、II−VI化合物半導体の単結晶およびその製造方法に関し、特に、放射線検出器等の半導体素子用基板として有用な高抵抗のCdTe系化合物半導体単結晶、および前記CdTe単結晶の原料となるCdTe多結晶、並びにそれらの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、放射線検出器やICテスタ等の半導体素子用基板には、高純度で高抵抗のCdTe単結晶が適しており、使用するCdTe単結晶の抵抗が高いほど(例えば、1.0×109Ω・cm以上)素子特性が向上することが知られている。
従来、CdTe等のII−VI族化合物半導体単結晶の製造には、育成する化合物結晶と同一組成の柱状の原料と、その原料を結晶成長時に溶解させる溶媒となる材料とを、原料が溶媒材料の上にのった状態で成長容器内に入れ、溶媒体をヒータにより局所的に加熱して融解するとともに原料の下端も融解させて溶解帯を形成し、その後、ヒータを上方に移動させる、あるいは成長容器を下方に移動させることによって、溶解帯の下端から単結晶を連続的に析出させて成長させるTHM(トラベリングヒータ法)が一般的に利用されている。このTHMは、垂直グラジェントフリージング(VGF)法等の他の方法よりも高純度でかつ高抵抗のII−VI族化合物半導体単結晶を成長させることが可能であるとされている。
【0003】
また、CdTe単結晶を高抵抗化するために、例えば塩素等のハロゲン元素を結晶中に添加する手法が一般的に用いられている。しかし、CdTe単結晶の抵抗を高抵抗とするために結晶中に添加する塩素量を増加すると、放射線が入射して生成されるキャリア(電子または正孔)のライフタイムが小さくなってしまい放射線検出器の感度が低下してしまうという問題がある。そのため、塩素濃度が低く(5ppmwt以下)かつ高抵抗な(1×109Ω・cm以上)CdTe単結晶を製造する技術が要求されている。
【0004】
上記課題を達成するために、例えば、THMを利用して塩素をドーピングしたCdTe結晶を育成した後に350℃〜450℃の温度で熱処理することによりCdTe単結晶を高抵抗化する技術が開示されている(特開平5−283729号公報)。
また、放射線検出器等の半導体素子の作製には数mm角以上の大きさの半導体単結晶が必要とされているため、THMを利用して大粒径のCdTe単結晶を成長させる技術が開示されている(特開平7−300387号公報、特許第2844430号)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記特開平5−283729号公報の技術では、従来のTHMを利用した製造方法に比較すると高抵抗なCdTe単結晶を製造することができたが、5ppmwt以下の塩素濃度で、1.0×109Ω・cm以上の抵抗率を実現することはできなかった。そのため、上記CdTe単結晶は放射線検出器等の半導体素子用基板として用いる半導体単結晶としては最適とはいえず、改良の余地がある。
【0006】
一方、前記特開平7−300387号公報や特許第2844430号の技術には、結晶の大粒径化を図る技術が開示されているが、得られた単結晶の大きさはせいぜい30mmが限度であった。
また、一般的にTHMによる単結晶の成長は、1日当たり5mm程度と非常に成長速度が遅いために、VGF法等に比較して生産効率が悪いという欠点があった。
このように、従来のTHMによるCdTe単結晶の製造方法では、高純度で高抵抗なCdTe単結晶を生産性よく製造することは困難であった。
【0007】
本発明は、高純度で、高抵抗(1.0×109Ω・cm以上)なCdTe単結晶、および前記CdTe単結晶の原料として最適なCdTe多結晶、並びに生産性に優れたCdTe単結晶の製造方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
以下、本発明を完成するに至った経緯について簡単に説明する。
まず、本発明者等は、THMにより生産性を向上させることは困難であると考え、CdTe単結晶の製造方法としてTHMとは別の結晶成長方法(例えばVGF法)を利用することとした。
そして、異なる量の塩素をドーピングしたCdTe多結晶(例えば、100〜500ppmwt)を原料として、VGF法によりCdTe単結晶を成長させ、得られた単結晶について塩素濃度と抵抗率を測定する実験を行った。
【0009】
その結果を図3の■、▲、×、◆印で示す。図中、■印は結晶育成時の塩素ドープ量を100ppmwtとしたCdTe多結晶を原料として製造したCdTe単結晶に関するもので、▲印は結晶への塩素ドープ量を150ppmwtとしたCdTe多結晶を原料として製造したCdTe単結晶に関するもので、×印は結晶への塩素ドープ量を200ppmwtとしたCdTe多結晶を原料として製造したCdTe単結晶に関するもので、◆印は結晶への塩素ドープ量を500ppmwtのCdTe多結晶を原料として製造したCdTe単結晶に関するものである。
【0010】
図3より、原料となるCdTe多結晶への塩素ドープ量が〜200ppmwtであれば、CdTe単結晶の塩素濃度はおおよそ10ppmwt以下になることが分かった。また、CdTe単結晶中の塩素濃度が大きくなるに伴い抵抗率も大きくなるが、1.0×109Ω・cm以上の高抵抗を実現できないことがわかった。
また、原料となるCdTe多結晶の塩素ドープ量を500ppmwtした場合(図中◆印)は、抵抗率が9.0×108Ω・cm以上と比較的高抵抗となったが、そのときのCdTe単結晶の塩素濃度は10ppmwt以上となるため、半導体素子用基板の用途には不適切であった。
以上のことから、第1の実験では塩素濃度が5ppmwt以下で、1.0×109Ω・cm以上の高抵抗を有するCdTe単結晶を得ることはできなかった。
【0011】
次に、本発明者等はCdTe単結晶の原料となるCdTe多結晶に着目した。そして、特許第2517803号を参考にしてCdTe多結晶の合成を行う装置についての検討を行った。具体的には、図1に示す装置によってCdTe多結晶の合成を行うが、原料を合成する内側容器4aとしてpBN製の容器を用いた場合について検討を行った。なお、上記第1の実験においては、内側容器4aとして石英製の容器を用いた。
内側容器4aとしてpBN製容器を用いてCdTe多結晶を合成し、得られたCdTe多結晶を原料として製造したCdTe単結晶について、塩素濃度と抵抗率(室温)を測定した結果を図3の○印で示す。ここで、原料として用いたCdTe多結晶への塩素ドープ量は200ppmwtとした。
【0012】
図3より、pBN製内側容器を用いてCdTe多結晶を合成し、このCdTe多結晶を原料としてCdTe単結晶を製造した場合、CdTe単結晶中の塩素濃度はおおよそ5ppmwt付近となり、抵抗率は1.0×109Ω・cm以上となることがわかった。
これより、CdTe多結晶を合成する際の密閉容器(内側容器4a)の材質がそのCdTe多結晶を原料としたCdTe単結晶の抵抗率に影響することを確信し、前記容器の材質をpBNとすることにより過剰な塩素をドーピングすることなくCdTe単結晶の抵抗率を高くできることを見出した。
【0013】
本発明は、上記知見に基づいてなされたものであり、結晶中の塩素濃度が0.1〜5.0ppmwt、かつ室温での抵抗率が1.0×109ΩcmであるCdTe単結晶である。また、育成された単結晶インゴットの径が、50mm以上、好ましくは75mm以上、より好ましくは100mm以上であるCdTe単結晶である。
【0014】
上記CdTe単結晶は、過剰な塩素をドーピングすることなく高抵抗化を実現されているので、放射線検出器等の半導体素子用基板として最適である。
また、上記CdTe単結晶は、塩素をドーピングしない状態におけるキャリア濃度が1.0×1015cm−3以下のn型電気特性、またはキャリア濃度が1.0×1014cm−3以下のp型電気特性を示すCdTe多結晶に、塩素を50〜200ppmwtドーピングしたCdTe多結晶を原料として、垂直グラジェントフリージング法、水平グラジェントフリージング法、垂直ブリッジマン法、水平ブリッジマン法、および液体封止チョクラルスキー法の何れか1の方法により製造することにより実現できる。
【0015】
また、純度99.9999wt%以上のCdと、純度99.9999wt%以上のTeと、純度99.99wt%以上の塩化カドミウムとを原料として半密閉型のpBN製内側容器内に配置し、前記pBN製内側容器を耐熱性の外側容器に入れて真空封止し、これらを加熱装置によって加熱昇温することにより、前記pBN製内側容器内の原料を融解して合成反応させた後、原料の温度を徐々に下げることにより結晶を育成するようにした。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施の形態を図面に基づいて説明する。
まず、図1の装置を用いたCdTe多結晶の合成方法について説明する。図1は、本実施形態のCdTe多結晶の合成に使用する装置の概略構成図である。
図1中、符号1は高圧容器であり、この高圧容器1には配管2aを介して真空ポンプ6が、また配管2bを介して加圧装置3がそれぞれ接続されており、真空ポンプ6により高圧容器1内の空気を排気した後、配管2bよりN2ガス等を導入して内部ガスを置換し、さらに加圧装置3によりN2ガス等を圧入して高圧容器1内の圧力を調整できるように構成されている。
【0017】
また、高圧容器1には、第3の配管2cが接続されており、その途中に設けられたバルブ7を開いて炉内に圧入されたガスを排気できるように構成されている。
上記加圧装置3には、例えば高圧ガスボンベを使用し、そのガスの圧力を減圧弁で減圧してそれを圧力コントローラ8を通して高圧容器1内に供給させ、所望の圧力に設定するような構成が考えられる。
【0018】
また、本実施形態の結晶成長装置では、上記高圧容器1の中心にpBN製内側容器4aと石英製外側容器4bとからなる二重構造の合成容器4が配置され、この合成容器4を包囲するようにヒータ5が設けられている。
なお、内側容器4aの構成は特に限定されないが、本実施形態では茶筒状構造としている。すなわち、内側容器4aは、一端が閉塞、他端が開口された円筒状胴体と、この円筒状胴体の開口端の外径と同一もしくは僅かに大きな内径を有する開口部を持つ円筒状蓋体とから構成され、胴体の開口端に蓋体を嵌合させることで容器を封入できる。
【0019】
本実施形態では、図1の装置を用いてCdTe多結晶の合成を行った。
まず、純度が6N(99.9999wt%)以上のCdを717.4gと、同じく純度が6N以上のTeを811.4gと、純度4N(99.99wt%)以上の塩化カドミウムを0.789gとを、内側容器4aの円筒状胴体内に入れて円筒状蓋体で蓋をした。
【0020】
次に、この内側容器4aを外側容器4b内に入れ、外側容器4b内を2.5×10−7Torrまで真空排気後、酸水素バーナーにて封止した。
そして、二重密閉容器4を高圧容器1内に収納した後、加圧装置3により高圧容器1内に2.0kg/cm2Gの圧力のN2ガスを供給し、同時にヒータ5により密閉容器4を加熱昇温した。
【0021】
次に、高圧容器1内の温度がTeの融点を超えた時点(例えば600℃)または容器温度が急速に上昇したことを検出した時点でヒータ5への供給電力を下げるとともに、加圧装置3により加圧して高圧容器1内の圧力を4kg/cm2Gとした。
【0022】
次に、合成反応が一段落して温度が徐々に下がり始めた時点で、ヒータ5により再び加熱昇温し、密閉容器4の温度をCdTeの融点である1092℃以上に上昇させ、容器内の化合物を完全に融解させた。そして、組成の均一化を行うため、密閉容器4の温度を1100〜1130℃付近で1時間保持した。
その後、高圧容器1内の圧力を2.0kg/cm2Gまで減圧しながらヒータ5への給電を停止して室温まで冷却した。
【0023】
次に、上述した製造方法により得られたCdTe多結晶を原料として、CdTe単結晶を成長させる方法について説明する。図2は、本実施形態のCdTe単結晶をVGF法により成長させる結晶成長装置の概略構成図である。
図2中、符号10は高圧容器であり、この高圧容器10の中心にはリザーバ部11aを有する石英アンプル11が配置されている。また、石英アンプル11内にはpBN製ルツボ13が配置され、石英アンプル11を包囲するようにヒータ12が設けられている。なお、ヒータ12の構成は、特に制限されないが、本実施形態のように、ルツボ13に対応する部分とリザーバ部11aに対応する部分とを別々の温度に加熱でき、かつ高圧容器10内の温度部分布を細かく制御できるように例えば3段の多段型構造とするのが望ましい。
【0024】
まず、石英アンプル11のリザーバ部11aに易揮発性元素であるCd単体16を10g入れるとともに、CdTe原料15をpBN製ルツボ13に入れて石英アンプル11内に配置した後、石英アンプル11を真空封止した。このとき、上述した方法で得られたCdTe多結晶をブロック状に分割したものと、粒状のZnTe塊をCdTe原料として用いた。
そして、ヒータ12で加熱昇温してルツボ13内のCdTe原料15を融解し、ヒータ12でリザーバ部11aを所定温度、例えば、770〜830℃に加熱して蒸気圧制御を行うとともに、ルツボ13を加熱した。
【0025】
さらに、高圧容器10内に所望の温度分布が生じるように各ヒータへの供給電力量を制御装置(図示しない)で制御しながら加熱炉内の温度を徐々に下げて原料融液の表面から下方に向かってCdTe単結晶を成長させた。そして、0.24mm/hrの成長速度で、250時間成長させることにより、直径78mm、長さ60mmのCdTe単結晶インゴットを得た。
【0026】
次に、上述した製造方法により得られたCdTe単結晶インゴットの上部、中部、下部の3点に対して塩素濃度および抵抗率(室温)を測定した。
測定結果を表1に示す。表1に示すように、CdTe単結晶インゴットの上部においては塩素濃度が4.5ppmwtで、抵抗率が2.1×109Ω・cm、中部においては塩素濃度が5.0ppmwtで、抵抗率が1.8×109Ω・cm、下部においては塩素濃度が5.3ppmwtで、抵抗率が1.9×109Ω・cmであった。
すなわち、本実施形態の製造方法により、5ppmwt程度の塩素濃度で、1.0×109以上の抵抗率を有するCdTe単結晶を得ることができた。
【0027】
【表1】
【0028】
次に、比較例として、石英製の内側容器4a(図1)を使用した場合のCdTe多結晶を原料として製造したCdTe単結晶について説明する。なお、内側容器4aの材質を変更した以外のCdTe多結晶の製造条件は上記実施形態と同様とした。また、CdTe単結晶の製造条件も上記実施形態と同様とした。
【0029】
上述した方法により、直径75mm、長さ40mmのCdTe単結晶インゴットを得た。
このCdTe単結晶インゴットの塩素濃度および抵抗率(室温)を測定した結果を表2に示す。表2に示すように、CdTe単結晶インゴットの上部においては塩素濃度が3.6ppmwtで、抵抗率が5.1×108Ω・cm、中部においては塩素濃度が4.4ppmwtで、抵抗率が6.4×108Ω・cm、下部においては塩素濃度が7.0ppmwtで、抵抗率が7.1×108Ω・cmであった。
すなわち、比較例の製造方法では、5ppmwt程度の塩素濃度で、1.0×109以上の抵抗率を有するCdTe単結晶を製造することはできなかった。
【0030】
【表2】
【0031】
つまり、CdTe多結晶を合成する際に、原料(Cd,Te,CdCl2)を配置する内側容器4aをpBN製にすることにより、過剰な塩素をドーピングすることなく高抵抗のCdTe単結晶を実現することができた。
【0032】
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づいて具体的に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で変更可能である。
例えば、上記実施形態では、VGF法を利用してCdTe単結晶を成長する方法について説明したが、水平グラジェントフリージング法、垂直ブリッジマン法、水平ブリッジマン法、および液体封止チョクラルスキー法によっても同様に過剰な塩素をドーピングすることなく高抵抗のCdTe単結晶を生産性よく製造することができる。ただし、単結晶化率に優れたVGF法が最も好ましい。
【0033】
また、上記実施形態では、CdTe多結晶中の塩素濃度を200ppmwtとした場合について説明したが、結晶中の塩素濃度が50〜200ppmwtのCdTe多結晶を原料とすることにより、製造されるCdTe単結晶中の塩素濃度を5ppmwt以下に制御することができる。
【0034】
【発明の効果】
本発明によれば、結晶中の塩素濃度が0.1〜5.0ppmwtで、室温での抵抗率が1.0×109Ωcm以上である、高抵抗でかつ高純度のCdTe単結晶を実現できるので、このCdTe単結晶を基板とすることにより高性能の放射線検出器等の半導体素子を提供できる。
また、塩素を50〜200ppmwtドーピングしたCdTe多結晶を原料として、垂直グラジェントフリージング法、水平グラジェントフリージング法、垂直ブリッジマン法、水平ブリッジマン法、および液体封止チョクラルスキー法の何れか1の方法によりCdTe単結晶を製造することにより、CdTe単結晶の生産効率を格段に向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施形態のCdTe多結晶の合成に用いる結晶成長装置の概略構成図である。
【図2】本実施形態のCdTe単結晶をVGF法により成長させる結晶成長装置の概略構成図である。
【図3】CdTe単結晶の塩素濃度と抵抗率の関係について示したグラフである。
【符号の説明】
1 高圧容器
2 配管
3 加圧装置
4 半密閉容器(内側容器4a、外側容器4b)
5 ヒータ
6 真空ポンプ
7 バルブ
8 圧力コントローラ
10 高圧容器
11 石英アンプル
12 ヒータ
13 ルツボ
14 Cd原料
15 CdTe多結晶原料
Claims (2)
- pBN製容器を用いて合成され、塩素をドーピングしない状態におけるキャリア濃度が1.0×1015cm−3以下のn型電気特性、またはキャリア濃度が1.0×1014cm−3以下のp型電気特性を示すCdTe多結晶に、塩素を50〜200ppmwtドーピングしたCdTe多結晶を原料として、
垂直グラジェントフリージング法、水平グラジェントフリージング法、垂直ブリッジマン法、水平ブリッジマン法、および液体封止チョクラルスキー法の何れか1の方法により、
結晶中の塩素濃度が0.1〜5.0ppmwtであり、室温での抵抗率が1.0×109Ωcm以上であるCdTe単結晶を製造することを特徴とするCdTe単結晶の製造方法。 - 純度99.9999wt%以上のCdと、純度99.9999wt%以上のTeと、純度99.99wt%以上の塩化カドミウムとを原料として半密閉型のpBN製内側容器内に配置し、
前記pBN製内側容器を耐熱性の外側容器に入れて真空封止し、
これらを加熱装置によって加熱昇温することにより、前記pBN製内側容器内の原料を融解して合成反応させた後、
融解した原料の温度を徐々に下げることにより育成された、結晶中の塩素濃度が50〜200ppmwtであるCdTe多結晶を原料として、
垂直グラジェントフリージング法、水平グラジェントフリージング法、垂直ブリッジマン法、水平ブリッジマン法、および液体封止チョクラルスキー法の何れか1の方法により、
結晶中の塩素濃度が0.1〜5.0ppmwtであり、室温での抵抗率が1.0×109Ωcm以上であるCdTe単結晶を製造することを特徴とするCdTe単結晶の製造方法。
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