JP4048643B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、斜方蒸着法を適用した磁気記録媒体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、磁気テープの記録密度は急速に高密度化が図られている。この過程で、磁気テープは高抗磁力、高磁束密度を有する酸化鉄テープ、メタルテープ、及び薄膜磁気テープへと高性能なものに移行している。この磁気テープの応用として、VTR(ビデオ・テープ・レコーダ)分野では今後、ディジタル化、高精細度化を達成するために、特に薄膜磁気テープが注目されている。
【0003】
この薄膜磁気テープとしては磁性膜が斜方蒸着法により形成された、いわゆる蒸着磁気テープが実用化されている。これは、具体的には真空中でピアス型電子銃を用いて、ピアス型電子銃から出射した電子ビームをルツボ中のCo,CoNiなどの磁性材料に照射して、これらのCo,CoNiなどの磁性材料を溶融、蒸発させ、酸素を導入しながら、PET、PEN、PI(ポリイミド)、PA(アラミド)などのベースフィルム上にCoO、CoNiOなどよりなる磁性膜を薄膜に形成することにより製造される。
【0004】
図8は斜方蒸着法を適用した一般的な磁気記録媒体の製造装置を示した図、
図9は一般的な磁気記録媒体の製造装置において、シャッターの変形例を説明するための図である。
【0005】
図8に示した一般的な磁気記録媒体の製造装置では、真空槽1内に、供給ロール2、巻取りロール3、供給側の金属ガイドローラ4、巻取り側の金属ガイドローラ5、及び冷却キャンロール6が配置されている。そして、供給ロール2から送り出したベ−スフィルム7は冷却キャンロール6に沿って図中矢印方向に連続走行しており、供給側のガイドローラ4を経て回転自在な冷却キャンロール6に沿いながら更に巻取り側の金属ガイドロール5を経て巻取りロール3に巻き取られている。この際、回転自在な冷却キャンロール6の内部には、図示しない冷却器が内蔵されており、上記ベ−スフィルム7への蒸着時に、このベ−スフィルム7の温度上昇による変形等を防止している。
【0006】
また、冷却キャンロール6の下方には、Coなどの磁性材料11を収容したルツボ12が配置されており、真空槽1の供給側の側壁にはこの磁性材料11を溶融させて、蒸発磁性材料を蒸発させるための加熱器として、例えばピアス型電子銃13が斜め下方に向かって設置されている。
【0007】
また、ルツボ12からの蒸発磁性材料のベ−スフィルム7への最大入射角θmaxを規制する最大入射角規制マスク8と、ルツボ12からの蒸発磁性材料のベ−スフィルム7への最小入射角θminを規制する最小入射角規制マスク9とが冷却キャンロール6に沿って固定して取り付けられており、且つ、冷却キャンロール6に沿って上流側に設けた最大入射角規制マスク8と冷却キャンロール6に沿って下流側に設けた最小入射角規制マスク9とは所定距離離れて取り付けられていると共に、両マスク8,9間に形成された開口部を開閉するためにシャッター10が両マスク8,9に沿いながら移動自在に設けられている。
【0008】
そして、ベ−スフィルム7が冷却キャンロール6に沿って走行している時に、シャッター10を矢印方向に移動して両マスク8,9間を開口すると、ピアス型電子銃13からの電子ビーム14によってルツボ12内の磁性材料11が溶融して蒸発し、両マスク8,9間に形成された開口部から蒸発磁性材料がベ−スフィルム7に付着することで、ベ−スフィルム7上に磁性膜が膜付けされる。この際、一般に最大入射角θmax=90゜、最小入射角θmin=40゜でベ−スフィルム7上に磁性膜を形成している。
【0009】
また、ピアス型電子銃13からの電子ビーム14の制御は、ピアス型電子銃13に取り付けた偏向マグネット15と、ルツボ12に近接して設置されて電子ビーム14の軌道で偏向磁界を印加する偏向マグネット16とにより行われている。また、電子ビーム14の照射位置はルツボ12の中央部で、ベ−スフィルム7の幅方向に所定の周期で走査され、ルツボ12内の磁性材料11を溶解し、蒸発させている。
【0010】
更に、シャッター10は、ルツボ12内の磁性材料11の温度が所定の状態になるまで最小入射角θminと最大入射角θmaxとの間に形成した口部の領域を遮蔽し、所定の温度状態に達し、蒸着が可能となるとシャッター10は矢印の方向に移動し、ベ−スフィルム7上に磁性膜が所定の膜厚で膜付けされる。上記したシャッター10は図8では冷却キャンロール6に沿って移動するタイプであるが、図9に示したようにルツボ12の上方にシャッター17を水平移動可能に設置し、このシャッター17で蒸発磁気材料を遮断する方法でも良い。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記した一般的な磁気記録媒体の製造装置では、ルツボ12内の磁性材料11が所定の温度状態に達して、シャッター10を開ける際に以下の問題が生じていた。
【0012】
即ち、電子ビーム14がCoなどの磁性材料に照射されると2次電子(後方散乱電子)が大量に発生し、両マスク8,9間の開口部よりベースフィルム7に到達する。この2次電子はベースフィルム7の表面に帯電し、静電気力によりベースフィルム7は冷却キャンロール6に密着する。この密着力は両マスク8,9間の開口部の面積が広い程、大きくなる。このため、シャッター10を開口する際は密着力がフィルム走行方向で、急激に変化して、不均一になり、ベースフィルム7上でのシワの発生原因となる。またベースフィルム7は溶融した磁性材料11からの輻射熱、蒸発磁性材料がベースフィルム7上で薄膜の磁性膜となる際の凝縮熱、到達2次電子による熱により加熱される。この際、冷却キャンロール6によりベースフィルム7は冷却されているが、ベースフィルム7の耐熱温度以下の範囲で、ベースフィルム7はシャッター10の開口時に温度が上昇し、開口面積が広くなると温度上昇は大きくなる。このため、シャッター10の開口時にはフィルム温度がフィルム走行方向で、急激に変化して、不均一になり、ベースフィルム7の熱収縮、熱膨張によりベースフィルム7上でのシワの発生原因となる。両マスク8,9間の開口部で発生したシワはシャッター10が所定の状態まで移動終了後も、一度発生したシワが原因で引き続き発生する。また膜付け過程でシワの発生がなくなる場合もあるが、既に巻き取ったベースフィルム7の表面には凸状の累積したシワがあり、開口部でシワの発生がなくなった後は、凸状の累積シワの上に巻かれるため、これが転写され、巻き出された際に転写シワとして残るなどの問題が生じている。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題に鑑みてなされたたものであり、第1の発明は、ベースフィルムを送り出す供給ロールと、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを円周に沿って走行させる冷却キャンロールと、接地電位に保たれ、前記冷却キャンロールを走行した前記ベースフィルムを走行させる金属ガイドロールと、前記金属ガイドロールを走行した前記ベースフィルムを巻き取る巻取りロールと、前記冷却キャンロールの前記ベースフィルムの走行方向に沿い、かつ前記冷却キャンロールと所定の間隔を有して順次配置された第1入射角規制マスクと第2入射角規制マスクと、前記冷却キャンロールに沿って設けられた前記第1、第2入射角規制マスクの間に形成された開口部の開口面積を調節するシャッターと、ルツボ内に収納された磁性材料を溶融する電子銃とを備えた磁気記録媒体の製造装置を用い、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを前記冷却キャンロールの円周に沿って走行させ、前記電子銃から出射する電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させ、前記ベースフィルム上に磁性膜を形成した後、前記金属ガイドロールを介して前記巻取りロールで巻取る磁気記録媒体の製造方法において、
前記磁性膜は、前記シャッターを調節して、前記開口部の一部を露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて厚さ100Å〜800Åの第1の磁性膜を形成した後、前記第1の磁性膜の製造開始時の前記第1の磁性膜の先端部位が前記金属ガイドロールに到達するまでの時間経過後に、前記シャッターを再び調整して、前記開口部の全部を露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、前記ベースフィルム上に第2の磁性膜を形成して得られることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
【0014】
また、第2の発明は、ベースフィルムを送り出す供給ロールと、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを円周に沿って走行させる冷却キャンロールと、接地電位に保たれ、前記冷却キャンロールを走行した前記ベースフィルムを走行させる金属ガイドロールと、前記金属ガイドロールを走行した前記ベースフィルムを巻き取る巻取りロールと、前記冷却キャンロールの前記ベースフィルムの走行方向に沿い、かつ前記冷却キャンロールとの間に所定の間隔を有して順次配置された窓部を備えた第1入射角規制マスクと第2入射角規制マスクと、前記冷却キャンロールに沿って設けられた前記第1、第2入射角規制マスクの間に形成された開口部の開口面積を調節するシャッターと、ルツボ内に収納された磁性材料を溶融する電子銃とを備えた磁気記録媒体の製造装置を用い、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを前記冷却キャンロールの円周に沿って走行させ、前記電子銃から出射する電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させ、前記ベースフィルム上に磁性膜を形成した後、前記金属ガイドロールを介して前記巻取りロールで巻取る磁気記録媒体の製造方法において、
前記磁性膜は、前記シャッターを調節して、前記開口部を露出させない状態にし、前記窓部から露出した前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、厚さ100Å〜800Åの第1の磁性膜を形成し、前記第1の磁性膜の製造開始時の前記第1の磁性膜の先端部位が前記金属ガイドロールに到達する時間経過後に、前記シャッターを調節して、前記開口部を全部露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、前記第1の磁性膜上に第2の磁性膜を形成して得られることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下に本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製造装置の一実施形態を図1乃至図7を参照して<第1実施形態>,<第2実施形態>の順に詳細に説明する。
【0018】
<第1実施形態>
図1は本発明に係る第1実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第1実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクと最小入射角規制マスクとの間の開口部をシャッターで一部覆った状態を示した図、
図2は本発明に係る第1実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第1実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクと最小入射角規制マスクとの間の開口部を完全に開いた状態を示した図、
図3は本発明に係る第1実施形態の磁気記録媒体の製造装置を適用して、第1実施形態の実施例1によりベースフィルム上に磁性膜を膜付けする状態を説明するための図、
図4は実施例1,実施例2,比較例1の結果を示した図である。
尚、説明の便宜上、先に示した構成部材と同一構成部材に対しては同一の符号を付して説明する。
【0019】
本発明に係る第1実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第1実施形態の磁気記録媒体の製造装置では、先に説明した一般的な磁気記録媒体の製造装置を一部改良して、冷却キャンロール6に沿って取り付けた最大入射角規制マスク8と最小入射角規制マスク9との間に形成された開口部の開口面積をシャッター10により調整可能に構成し、且つ、巻取り側の金属ガイドローラ5を接地(アース)している。
【0020】
図1に示した如く、第1実施形態の磁気記録媒体の製造装置では斜方蒸着法を適用しており、真空槽1内で供給ロール2から送り出したベ−スフィルム7が供給側のガイドローラ4,回転転自在な冷却キャンロール6,接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール5を順次経て巻取りロール3に巻き取られている。上記した巻取り側の金属ガイドロール5は、後述するようにベ−スフィルム7上に膜付けした磁性膜の表面に帯電した電子を電気的にグランドに落とす接地手段である。
【0021】
一方、真空槽1内に酸素を導入した状態で、真空槽1の供給側の側壁に取り付けたピアス型電子銃13からの電子ビーム14は、冷却キャンロール6の下方に設置したルツボ12内のCoなどの磁性材料11を溶解し、蒸発磁性材料を冷却キャンロール6に向かって蒸発させている。
【0022】
また、冷却キャンロール6に沿って上流側に取り付けた最大入射角規制マスク8と、冷却キャンロール6に沿って下流側に取り付けた最小入射角規制マスク9との間に形成された開口部には、シャッター10がこの開口部の開口面積を調節可能に設けられている。
【0023】
次に、上記のように構成した第1実施形態の磁気記録媒体の製造装置を用いてベ−スフィルム7上に磁性膜を膜付けする第1実施形態の磁気記録媒体の製造方法について説明する。
【0024】
まず、膜付け開始時に、冷却キャンロール6に沿って取り付けた最大入射角規制マスク8と最小入射角規制マスク9との間に形成された開口部の開口面積が小さな開口面積Sとなるようにシャッター10を操作する。そして、ベ−スフィルム7を冷却キャンロール6に沿って矢印方向に連続走行させて、膜付け開始直後の僅かな期間中には、ルツボ12内から蒸発した蒸発磁性材料が上記小さな開口面積Sの部位だけを通過できるので、ベ−スフィルム7上に膜付け目標量となる所定の膜厚よりも薄い磁性膜が膜付けされる。
【0025】
ここで、膜付け開始直後の僅かな期間中は、後述する実施例1ではベ−スフィルム7上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール(接地手段)5に到達する期間であり、一方、後述する実施例2ではベ−スフィルム7上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール(接地手段)5の手前に到達する期間である。 そして、後述する実施例1では、膜付け開始直後の僅かな期間中に、ベ−スフィルム7上に100Å〜800Åの膜厚で薄い磁性膜が膜付けされ、このベ−スフィルム7上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール(接地手段)5に到達した後、巻取り側の金属ガイドロール5によって薄い磁性膜の表面に帯電した電子が電気的にグランドに落とされ、この後は常にベ−スフィルム7が巻取りロール3に巻き取られる途中で磁性膜の表面がグランドに落とされている。
【0026】
一方、後述する実施例2では、膜付け開始直後の僅かな期間中に、ベ−スフィルム7上に100Å〜400Åの膜厚で薄い磁性膜が膜付けされ、この膜付け開始直後の僅かな期間中ではこのベ−スフィルム7上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール(接地手段)5に到達していない。
【0027】
次に、後述する実施例1,2において、膜付け開始直後の僅かな期間を経過した後、ここで図2に示したように、シャッター10を全開させて、最大入射角規制マスク8と最小入射角規制マスク9との間に形成された開口部を全て露出させているので、全開した開口部を通過した蒸発磁性材料によりベ−スフィルム7上に所定の膜厚の磁性膜が通常通りに膜付けされる。
【0028】
この後、後述する実施例1,2では、ベ−スフィルム7上に所定の膜厚で膜付けされた磁性膜の表面を巻取り側の金属ガイドロール5でグランドに落としている。
【0029】
(実施例1)
図1,図2に示した磁気記録媒体の製造装置で、直径1000mmの冷却キャンロール6を用いて、酸素を導入しながら長さ10000m、幅300mm、厚み6μmのPETフィルム(ベースフィルム)6を50m/minで冷却キャンロール6に沿って連続走行させて、酸素を導入しながらCoO膜(磁性膜)を所定の膜厚として略0.2μm膜付けした。この際に、従来のようなシャッター10の開口時から略0.2μmを直ちに膜付けせず、フィルム走行速度50m/minでCoO膜の膜厚が所定の膜厚より薄い膜厚XÅになるように図1に示すようにシャッター10を全開せず途中で停止し、開口部の開口面積Sにより磁性膜の膜厚を調整した。即ち、この実施例1では、ベ−スフィルム7上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール5に到達する期間を、膜付け開始直後の僅かな期間として設定している。
【0030】
この際にCoO膜の蒸発速度は、シャッター10を全開、フィルム走行速度50m/minの条件下で、CoO膜が略0.2μm成膜される速度である。成膜長さは成膜した薄い膜厚XÅのCoO膜が冷却キャンロール6より離れ、PETフィルム7上の薄いCoO膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドローラ5に達成し、CoO膜の表面が電気的にグランドに落ちるまで行った。この後、シャッター10を図2に示すように全開し、略0.2μmのCoO膜を9000m成膜した。また、略0.2μmのCoO膜の成膜時の蒸発磁気材料の入射角は、初期最大入射角は90゜、最小入射角は40゜である。
【0031】
ここで、膜付け開始直後の僅かな期間ではベ−スフィルム7上に所定の膜厚よりも薄いCoO膜を膜付けした時の薄い膜厚XÅとして100Å,200Å,400Å,600Å,800Å,1000Åで膜付けを行った。
【0032】
上記実施例1の膜付け状態を図3に示すと、膜付け開始直後の僅かな期間に、ベ−スフィルム7上に所定の膜厚よりも薄い磁性膜が膜付けされ、この後、通常の膜付け期間となりベ−スフィルム7上に所定の膜厚で磁性膜が膜付けされている。
【0033】
(実施例2)
実施例1で、薄い膜厚で膜付けした初期のCoO膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドローラ5により電気的にグランドに落ちる前に、シャッター10を全開し、略0.2μmのCoO膜を9000m成膜した以外は同一条件で行った。即ち、この実施例2では、ベ−スフィルム7上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール5の手前に到達する期間を、膜付け開始直後の僅かな期間して設定としている。
【0034】
(比較例1)
膜付け開始からシャッター10を全開し、略0.2μmのCoO膜を9000m成膜した以外は実施例1と同一条件で行った。
【0035】
上記した実施例1,2及び比較例1の結果を図4に示す。図4から明らかのように、比較例1ではシワが発生するが、実施例1では初期のCoO膜の膜厚が100Å〜800Åでは、シャッター10を部分開口した時及びシャッター10を全開した時にシワが発生していない。即ち、実施例1よりPETフィルム7上の薄い磁性膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドロール5を通過する際に、薄い磁性膜の表面をグランドに落とすことにより前記開口部での帯電量を減少させることができ、成膜時にシャッター10を全開する際のフィルム走行方向でのPETフィルム7の冷却キャンロール6への密着力及びPETフィルム7の温度の急激な変化に対してシワが発生しにくくなることが分かる。上記のことから、実施例1では初期のCoO膜の膜厚が100Å〜800Åになるような開口部の開口面積Sにシャッター10を調節すれば良いものである。
【0036】
また、実施例2では初期のCoO膜の膜厚が100Å〜400Åでは、シャッター10を部分開口した時及びシャッター10を全開した時にシワが発生していない。この実施例2では、膜付け開始直後の僅かな期間中にPETフィルム7上に膜付けした薄い磁性膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドロール5に到達しないものの、金属磁性膜が膜付けされているため、ヤング率が高くなっており、シャッター10を全開した時にPETフィルム7の急激な温度上昇を押さえることができると共に、温度の不均一が緩和されるためにPETフィルム7のシワの発生を防止できる。
【0037】
初期の膜厚が800Åまでの膜付けではPETフィルム7の温度上昇や帯電による密着力の走行方向の不均一によりシワが発生していないが、1000Åではシワが発生している点から、800Åでは、この膜付け直後にシャッター10を全開して0.2μmを膜付けする際にはシワの発生に関して厳しい状況にある。
【0038】
実施例1ではシャッター10を全開し、0.2μmを膜付けする際にはグランドに落ちているため、帯電量を減少させることができ、初期の膜厚が800Åではシワの発生に関して厳しい状況でも、0.2μm膜付け時にはシワは発生していない。
【0039】
実施例2ではシャッター10を全開し、0.2μmを膜付けする際にはグランドに落ちていないため、帯電量の不均一量が増加し、初期の膜厚が800Åではシワの発生に関して厳しい状況のため、0.2μm膜付け時にシワが発生している。初期の膜厚600Åでも同様にシワが発生し、初期の膜厚が400Åでは、初期の膜付け直後のシャッター全開時にはシワ発生に関して余裕があるため、0.2μm膜付け時にシワが発生していない。
【0040】
<第2実施形態>
図5は本発明に係る第2実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第2実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクの一部に窓部を形成し、且つ、シャッターを閉じた状態を示した図、
図6は本発明に係る第2実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第2実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクの一部に窓部を形成し、且つ、シャッターを開いた状態を示した図、
図7は本発明に係る第2実施形態の磁気記録媒体の製造装置を適用して、第2実施形態の実施例1によりベースフィルム上に磁性膜を膜付けする状態を説明するための図である。
尚、説明の便宜上、先に示した構成部材と同一構成部材に対しては同一の符号を付して説明する。
【0041】
本発明に係る第2実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第2実施形態の磁気記録媒体の製造装置では、先に説明した一般的な磁気記録媒体の製造装置を一部改良して、冷却キャンロール6に沿って上流側に取り付けた最大入射角規制マスク8の下方の一部を僅かに開口して窓部8aを形成し、且つ、巻取り側の金属ガイドローラ5を接地(アース)している。
【0042】
図5に示した如く、第2実施形態の磁気記録媒体の製造装置でも斜方蒸着法を適用しており、真空槽1内で供給ロール2から送り出したベ−スフィルム7が供給側のガイドローラ4,回転転自在な冷却キャンロール6,接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール5を順次経て巻取りロール3に巻き取られている。
【0043】
一方、真空槽1の供給側の側壁に取り付けたピアス型電子銃13からの電子ビーム14は、冷却キャンロール6の下方に設置したルツボ12内のCoなどの磁性材料11を溶解し、蒸発磁性材料を冷却キャンロール6に向かって蒸発させている。
【0044】
また、冷却キャンロール6に沿って上流側に取り付けた最大入射角規制マスク8の下方の一部を僅かに開口して窓部8aを形成し、ルツボ12内で蒸発した蒸発磁性材料のうちの一部が回り込んで窓部8a内に進入して、回り込んだ蒸発磁性材料によりベ−スフィルム7上に磁性膜を所定の膜厚より薄い膜厚で膜付けできるようになっている。
【0045】
次に、上記のように構成した第2実施形態の磁気記録媒体の製造装置を用いてベ−スフィルム7上に磁性膜を膜付けする第2実施形態の磁気記録媒体の製造方法について説明する。
【0046】
まず、図5に示した如く、膜付け開始時に冷却キャンロール6に沿って取り付けた最大入射角規制マスク8と最小入射角規制マスク9との間に形成された開口部をシャッター10で閉じて、ベ−スフィルム7を冷却キャンロール6に沿って矢印方向に連続走行させさせながら、冷却キャンロール6の上流側に設置した最大入射角規制マスク8の窓部8aから回り込んだ蒸発磁性材料を進入させて、膜付け開始直後の僅かな期間にこの回り込んだ蒸発磁性材料によりベ−スフィルム7上に磁性膜が所定の膜厚より薄い膜厚でまず膜付けされる。
【0047】
ここで、第2実施形態の実施例1,2に対して先に説明した第1実施形態の実施例1,2にそれぞれ対応させて説明すると、第1実施形態と同様に、膜付け開始直後の僅かな期間中は、第2実施形態の実施例1ではベ−スフィルム7上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール(接地手段)5に到達する期間であり、一方、第2実施形態の実施例2ではベ−スフィルム7上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール(接地手段)5の手前に到達する期間である。
【0048】
そして、実施例1では、膜付け開始直後の僅かな期間中に、ベ−スフィルム7上に100Å〜800Åの膜厚で薄い磁性膜が膜付けされ、このベ−スフィルム7上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール(接地手段)5に到達した後、巻取り側の金属ガイドロール5によって薄い磁性膜の表面に帯電した電子が電気的にグランドに落とされ、この後は常にベ−スフィルム7が巻取りロール3に巻き取られる途中で磁性膜の表面がグランドに落とされている。
【0049】
一方、実施例2では、膜付け開始直後の僅かな期間中に、ベ−スフィルム7上に100Å〜400Åの膜厚で薄い磁性膜が膜付けされ、この膜付け開始直後の僅かな期間中ではこのベ−スフィルム7上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地(アース)した巻取り側の金属ガイドロール(接地手段)5に到達していない。
【0050】
次に、上記した実施例1,2において、膜付け開始直後の僅かな期間を経過した後、ここで図6に示したように、シャッター10を全開させて、最大入射角規制マスク8と最小入射角規制マスク9との間に形成された開口部を全て露出させると共に、最大入射角規制マスク8の窓部8aが開いているため、窓部8aより下流に形成した開口部を通過した蒸発磁性材料によりベ−スフィルム7上の薄い磁性膜の上に更に磁性膜が所定の膜厚で通常通りに膜付けされる。この後、ベ−スフィルム7上に所定の膜厚で膜付けされた磁性膜の表面を巻取り側の金属ガイドロール5でグランドに落としている。
【0051】
上記実施例1の膜付け状態を図7に示すと、膜付け開始直後の僅かな期間にベ−スフィルム7上に所定の膜厚よりも薄い磁性膜が膜付けされ、この状態でベ−スフィルム7上の薄い磁性膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドロール5を通過する際に、薄い磁性膜の表面を電気的にグランドに落とすことにより前記開口部での帯電量を減少させることができ、成膜時にシャッター10を全開する際のフィルム走行方向でのベ−スフィルム7の冷却キャンロール6への密着力及びベ−スフィルム7の温度の急激な変化に対してシワが発生しにくくなる。
【0052】
一方、実施例2では、膜付け開始直後の僅かな期間中にベ−スフィルム7上に膜付けした薄い磁性膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドロール5に到達しないものの、金属磁性膜が膜付けされているため、ヤング率が高くなっており、シャッター10を全開した時にベ−スフィルム7の急激な温度上昇を押さえることができると共に、温度の不均一が緩和されるためにベ−スフィルム7のシワの発生を防止できる。
【0053】
言い換えると、実施例1,2では、膜付け開始直後の僅かな期間に冷却キャンロール6の上流側でベースフィルム7上に磁性膜を所定の膜厚より薄い膜厚で膜付けし、且つ、膜付け開始直後の僅かな期間を経過した後に、冷却キャンロール6の上流側より下方の下流側でベースフィルム7上に薄い膜厚で膜付けした磁性膜の上に更に磁性膜を所定の膜厚で膜付けしている。
【0054】
尚、第2実施形態の実施例1,2の結果は、先に説明した図4を用いて説明した第1実施形態の実施例1,2と対応して同様の結果となるので、図示を省略する。
【0055】
この際、実施例1では初期の磁性膜の膜厚が100Å〜800Åに、実施例2では初期の磁性膜の膜厚が100Å〜400Åになるように最大入射角規制マスク8の窓部8aを形成すれば良いものである。
【0056】
【発明の効果】
本発明によれば、以上詳述した本発明に係る磁気記録媒体の製造方法において、請求項1によると、磁性膜を厚さ100Å〜800Åの第1の磁性膜の製造開始時の第1の磁性膜の先端部位が接地された金属ガイドロールに到達する時間経過後に、第2の磁性膜を形成して得るので、磁性膜の帯電量を減少させることができるため、ベースフィルムの冷却キャンロールへの密着力及びベースフィルムの温度の急激な変化に対してシワが発生しにくくなり、磁気記録媒体の歩留まりを向上することができる。
【0057】
更に、請求項2によると、磁性膜を、厚さ100Å〜800Åの第1の磁性膜を形成しながら、第1の磁性膜の製造開始時の第1の磁性膜の先端部位が前記金属ガイドロールに到達するまでの時間経過後に、第1の磁性膜上に第2の磁性膜を形成して得るので、請求項1と同様の効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る第1実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第1実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクと最小入射角規制マスクとの間の開口部をシャッターで一部覆った状態を示した図である。
【図2】本発明に係る第1実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第1実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクと最小入射角規制マスクとの間の開口部を完全に開いた状態を示した図である。
【図3】本発明に係る第1実施形態の磁気記録媒体の製造装置を適用して、第1実施形態の実施例1によりベースフィルム上に磁性膜を膜付けする状態を説明するための図である。
【図4】実施例1,実施例2,比較例1の結果を示した図である。
【図5】本発明に係る第2実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第2実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクの一部に窓部を形成し、且つ、シャッターを閉じた状態を示した図である。
【図6】本発明に係る第2実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第2実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクの一部に窓部を形成し、且つ、シャッターを開いた状態を示した図である。
【図7】本発明に係る第2実施形態の磁気記録媒体の製造装置を適用して、第2実施形態の実施例1によりベースフィルム上に磁性膜を膜付けする状態を説明するための図である。
【図8】斜方蒸着法を適用した一般的な磁気記録媒体の製造装置を示した図である。
【図9】一般的な磁気記録媒体の製造装置において、シャッターの変形例を説明するための図である。
【符号の説明】
1…真空槽、2…供給ロール、3…巻取りロール、
4…供給側のガイドローラ、5…巻取り側のガイドローラ(接地手段)、
6…冷却キャンロール、7…ベ−スフィルム(PETフィルム)、
8…最大入射角規制マスク、8a…窓部、9…最小入射角規制マスク、
10…シャッター、11…磁性材料、12…ルツボ、
13…ピアス型電子銃。
Claims (2)
- ベースフィルムを送り出す供給ロールと、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを円周に沿って走行させる冷却キャンロールと、接地電位に保たれ、前記冷却キャンロールを走行した前記ベースフィルムを走行させる金属ガイドロールと、前記金属ガイドロールを走行した前記ベースフィルムを巻き取る巻取りロールと、前記冷却キャンロールの前記ベースフィルムの走行方向に沿い、かつ前記冷却キャンロールと所定の間隔を有して順次配置された第1入射角規制マスクと第2入射角規制マスクと、前記冷却キャンロールに沿って設けられた前記第1、第2入射角規制マスクの間に形成された開口部の開口面積を調節するシャッターと、ルツボ内に収納された磁性材料を溶融する電子銃とを備えた磁気記録媒体の製造装置を用い、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを前記冷却キャンロールの円周に沿って走行させ、前記電子銃から出射する電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させ、前記ベースフィルム上に磁性膜を形成した後、前記金属ガイドロールを介して前記巻取りロールで巻取る磁気記録媒体の製造方法において、
前記磁性膜は、
前記シャッターを調節して、前記開口部の一部を露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて厚さ100Å〜800Åの第1の磁性膜を形成した後、前記第1の磁性膜の製造開始時の前記第1の磁性膜の先端部位が前記金属ガイドロールに到達するまでの時間経過後に、前記シャッターを再び調整して、前記開口部の全部を露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、前記ベースフィルム上に第2の磁性膜を形成して得られることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - ベースフィルムを送り出す供給ロールと、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを円周に沿って走行させる冷却キャンロールと、接地電位に保たれ、前記冷却キャンロールを走行した前記ベースフィルムを走行させる金属ガイドロールと、前記金属ガイドロールを走行した前記ベースフィルムを巻き取る巻取りロールと、前記冷却キャンロールの前記ベースフィルムの走行方向に沿い、かつ前記冷却キャンロールとの間に所定の間隔を有して順次配置された窓部を備えた第1入射角規制マスクと第2入射角規制マスクと、前記冷却キャンロールに沿って設けられた前記第1、第2入射角規制マスクの間に形成された開口部の開口面積を調節するシャッターと、ルツボ内に収納された磁性材料を溶融する電子銃とを備えた磁気記録媒体の製造装置を用い、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを前記冷却キャンロールの円周に沿って走行させ、前記電子銃から出射する電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させ、前記ベースフィルム上に磁性膜を形成した後、前記金属ガイドロールを介して前記巻取りロールで巻取る磁気記録媒体の製造方法において、
前記磁性膜は、
前記シャッターを調節して、前記開口部を露出させない状態にし、前記窓部から露出した前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、厚さ100Å〜800Åの第1の磁性膜を形成し、前記第1の磁性膜の製造開始時の前記第1の磁性膜の先端部位が前記金属ガイドロールに到達する時間経過後に、前記シャッターを調節して、前記開口部を全部露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、前記第1の磁性膜上に第2の磁性膜を形成して得られることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
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