JP4048643B2

JP4048643B2 - Method for manufacturing magnetic recording medium

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Publication number: JP4048643B2
Application number: JP09169799A
Authority: JP
Inventors: 正彦杉山
Original assignee: Victor Company of Japan Ltd
Current assignee: Victor Company of Japan Ltd
Priority date: 1999-03-31
Filing date: 1999-03-31
Publication date: 2008-02-20
Anticipated expiration: 2019-03-31
Also published as: JP2000285451A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、斜方蒸着法を適用した磁気記録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、磁気テープの記録密度は急速に高密度化が図られている。この過程で、磁気テープは高抗磁力、高磁束密度を有する酸化鉄テープ、メタルテープ、及び薄膜磁気テープへと高性能なものに移行している。この磁気テープの応用として、ＶＴＲ（ビデオ・テープ・レコーダ）分野では今後、ディジタル化、高精細度化を達成するために、特に薄膜磁気テープが注目されている。
【０００３】
この薄膜磁気テープとしては磁性膜が斜方蒸着法により形成された、いわゆる蒸着磁気テープが実用化されている。これは、具体的には真空中でピアス型電子銃を用いて、ピアス型電子銃から出射した電子ビームをルツボ中のＣｏ，ＣｏＮｉなどの磁性材料に照射して、これらのＣｏ，ＣｏＮｉなどの磁性材料を溶融、蒸発させ、酸素を導入しながら、ＰＥＴ、ＰＥＮ、ＰＩ（ポリイミド）、ＰＡ（アラミド）などのベースフィルム上にＣｏＯ、ＣｏＮｉＯなどよりなる磁性膜を薄膜に形成することにより製造される。
【０００４】
図８は斜方蒸着法を適用した一般的な磁気記録媒体の製造装置を示した図、
図９は一般的な磁気記録媒体の製造装置において、シャッターの変形例を説明するための図である。
【０００５】
図８に示した一般的な磁気記録媒体の製造装置では、真空槽１内に、供給ロール２、巻取りロール３、供給側の金属ガイドローラ４、巻取り側の金属ガイドローラ５、及び冷却キャンロール６が配置されている。そして、供給ロール２から送り出したベ−スフィルム７は冷却キャンロール６に沿って図中矢印方向に連続走行しており、供給側のガイドローラ４を経て回転自在な冷却キャンロール６に沿いながら更に巻取り側の金属ガイドロール５を経て巻取りロール３に巻き取られている。この際、回転自在な冷却キャンロール６の内部には、図示しない冷却器が内蔵されており、上記ベ−スフィルム７への蒸着時に、このベ−スフィルム７の温度上昇による変形等を防止している。
【０００６】
また、冷却キャンロール６の下方には、Ｃｏなどの磁性材料１１を収容したルツボ１２が配置されており、真空槽１の供給側の側壁にはこの磁性材料１１を溶融させて、蒸発磁性材料を蒸発させるための加熱器として、例えばピアス型電子銃１３が斜め下方に向かって設置されている。
【０００７】
また、ルツボ１２からの蒸発磁性材料のベ−スフィルム７への最大入射角θｍａｘを規制する最大入射角規制マスク８と、ルツボ１２からの蒸発磁性材料のベ−スフィルム７への最小入射角θｍｉｎを規制する最小入射角規制マスク９とが冷却キャンロール６に沿って固定して取り付けられており、且つ、冷却キャンロール６に沿って上流側に設けた最大入射角規制マスク８と冷却キャンロール６に沿って下流側に設けた最小入射角規制マスク９とは所定距離離れて取り付けられていると共に、両マスク８，９間に形成された開口部を開閉するためにシャッター１０が両マスク８，９に沿いながら移動自在に設けられている。
【０００８】
そして、ベ−スフィルム７が冷却キャンロール６に沿って走行している時に、シャッター１０を矢印方向に移動して両マスク８，９間を開口すると、ピアス型電子銃１３からの電子ビーム１４によってルツボ１２内の磁性材料１１が溶融して蒸発し、両マスク８，９間に形成された開口部から蒸発磁性材料がベ−スフィルム７に付着することで、ベ−スフィルム７上に磁性膜が膜付けされる。この際、一般に最大入射角θｍａｘ＝９０゜、最小入射角θｍｉｎ＝４０゜でベ−スフィルム７上に磁性膜を形成している。
【０００９】
また、ピアス型電子銃１３からの電子ビーム１４の制御は、ピアス型電子銃１３に取り付けた偏向マグネット１５と、ルツボ１２に近接して設置されて電子ビーム１４の軌道で偏向磁界を印加する偏向マグネット１６とにより行われている。また、電子ビーム１４の照射位置はルツボ１２の中央部で、ベ−スフィルム７の幅方向に所定の周期で走査され、ルツボ１２内の磁性材料１１を溶解し、蒸発させている。
【００１０】
更に、シャッター１０は、ルツボ１２内の磁性材料１１の温度が所定の状態になるまで最小入射角θｍｉｎと最大入射角θｍａｘとの間に形成した口部の領域を遮蔽し、所定の温度状態に達し、蒸着が可能となるとシャッター１０は矢印の方向に移動し、ベ−スフィルム７上に磁性膜が所定の膜厚で膜付けされる。上記したシャッター１０は図８では冷却キャンロール６に沿って移動するタイプであるが、図９に示したようにルツボ１２の上方にシャッター１７を水平移動可能に設置し、このシャッター１７で蒸発磁気材料を遮断する方法でも良い。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記した一般的な磁気記録媒体の製造装置では、ルツボ１２内の磁性材料１１が所定の温度状態に達して、シャッター１０を開ける際に以下の問題が生じていた。
【００１２】
即ち、電子ビーム１４がＣｏなどの磁性材料に照射されると２次電子（後方散乱電子）が大量に発生し、両マスク８，９間の開口部よりベースフィルム７に到達する。この２次電子はベースフィルム７の表面に帯電し、静電気力によりベースフィルム７は冷却キャンロール６に密着する。この密着力は両マスク８，９間の開口部の面積が広い程、大きくなる。このため、シャッター１０を開口する際は密着力がフィルム走行方向で、急激に変化して、不均一になり、ベースフィルム７上でのシワの発生原因となる。またベースフィルム７は溶融した磁性材料１１からの輻射熱、蒸発磁性材料がベースフィルム７上で薄膜の磁性膜となる際の凝縮熱、到達２次電子による熱により加熱される。この際、冷却キャンロール６によりベースフィルム７は冷却されているが、ベースフィルム７の耐熱温度以下の範囲で、ベースフィルム７はシャッター１０の開口時に温度が上昇し、開口面積が広くなると温度上昇は大きくなる。このため、シャッター１０の開口時にはフィルム温度がフィルム走行方向で、急激に変化して、不均一になり、ベースフィルム７の熱収縮、熱膨張によりベースフィルム７上でのシワの発生原因となる。両マスク８，９間の開口部で発生したシワはシャッター１０が所定の状態まで移動終了後も、一度発生したシワが原因で引き続き発生する。また膜付け過程でシワの発生がなくなる場合もあるが、既に巻き取ったベースフィルム７の表面には凸状の累積したシワがあり、開口部でシワの発生がなくなった後は、凸状の累積シワの上に巻かれるため、これが転写され、巻き出された際に転写シワとして残るなどの問題が生じている。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題に鑑みてなされたたものであり、第１の発明は、ベースフィルムを送り出す供給ロールと、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを円周に沿って走行させる冷却キャンロールと、接地電位に保たれ、前記冷却キャンロールを走行した前記ベースフィルムを走行させる金属ガイドロールと、前記金属ガイドロールを走行した前記ベースフィルムを巻き取る巻取りロールと、前記冷却キャンロールの前記ベースフィルムの走行方向に沿い、かつ前記冷却キャンロールと所定の間隔を有して順次配置された第１入射角規制マスクと第２入射角規制マスクと、前記冷却キャンロールに沿って設けられた前記第１、第２入射角規制マスクの間に形成された開口部の開口面積を調節するシャッターと、ルツボ内に収納された磁性材料を溶融する電子銃とを備えた磁気記録媒体の製造装置を用い、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを前記冷却キャンロールの円周に沿って走行させ、前記電子銃から出射する電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させ、前記ベースフィルム上に磁性膜を形成した後、前記金属ガイドロールを介して前記巻取りロールで巻取る磁気記録媒体の製造方法において、
前記磁性膜は、前記シャッターを調節して、前記開口部の一部を露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて厚さ１００Å〜８００Åの第１の磁性膜を形成した後、前記第１の磁性膜の製造開始時の前記第１の磁性膜の先端部位が前記金属ガイドロールに到達するまでの時間経過後に、前記シャッターを再び調整して、前記開口部の全部を露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、前記ベースフィルム上に第２の磁性膜を形成して得られることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
【００１４】
また、第２の発明は、ベースフィルムを送り出す供給ロールと、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを円周に沿って走行させる冷却キャンロールと、接地電位に保たれ、前記冷却キャンロールを走行した前記ベースフィルムを走行させる金属ガイドロールと、前記金属ガイドロールを走行した前記ベースフィルムを巻き取る巻取りロールと、前記冷却キャンロールの前記ベースフィルムの走行方向に沿い、かつ前記冷却キャンロールとの間に所定の間隔を有して順次配置された窓部を備えた第１入射角規制マスクと第２入射角規制マスクと、前記冷却キャンロールに沿って設けられた前記第１、第２入射角規制マスクの間に形成された開口部の開口面積を調節するシャッターと、ルツボ内に収納された磁性材料を溶融する電子銃とを備えた磁気記録媒体の製造装置を用い、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを前記冷却キャンロールの円周に沿って走行させ、前記電子銃から出射する電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させ、前記ベースフィルム上に磁性膜を形成した後、前記金属ガイドロールを介して前記巻取りロールで巻取る磁気記録媒体の製造方法において、
前記磁性膜は、前記シャッターを調節して、前記開口部を露出させない状態にし、前記窓部から露出した前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、厚さ１００Å〜８００Åの第１の磁性膜を形成し、前記第１の磁性膜の製造開始時の前記第１の磁性膜の先端部位が前記金属ガイドロールに到達する時間経過後に、前記シャッターを調節して、前記開口部を全部露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、前記第１の磁性膜上に第２の磁性膜を形成して得られることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下に本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製造装置の一実施形態を図１乃至図７を参照して＜第１実施形態＞，＜第２実施形態＞の順に詳細に説明する。
【００１８】
＜第１実施形態＞
図１は本発明に係る第１実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第１実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクと最小入射角規制マスクとの間の開口部をシャッターで一部覆った状態を示した図、
図２は本発明に係る第１実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第１実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクと最小入射角規制マスクとの間の開口部を完全に開いた状態を示した図、
図３は本発明に係る第１実施形態の磁気記録媒体の製造装置を適用して、第１実施形態の実施例１によりベースフィルム上に磁性膜を膜付けする状態を説明するための図、
図４は実施例１，実施例２，比較例１の結果を示した図である。
尚、説明の便宜上、先に示した構成部材と同一構成部材に対しては同一の符号を付して説明する。
【００１９】
本発明に係る第１実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第１実施形態の磁気記録媒体の製造装置では、先に説明した一般的な磁気記録媒体の製造装置を一部改良して、冷却キャンロール６に沿って取り付けた最大入射角規制マスク８と最小入射角規制マスク９との間に形成された開口部の開口面積をシャッター１０により調整可能に構成し、且つ、巻取り側の金属ガイドローラ５を接地（アース）している。
【００２０】
図１に示した如く、第１実施形態の磁気記録媒体の製造装置では斜方蒸着法を適用しており、真空槽１内で供給ロール２から送り出したベ−スフィルム７が供給側のガイドローラ４，回転転自在な冷却キャンロール６，接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール５を順次経て巻取りロール３に巻き取られている。上記した巻取り側の金属ガイドロール５は、後述するようにベ−スフィルム７上に膜付けした磁性膜の表面に帯電した電子を電気的にグランドに落とす接地手段である。
【００２１】
一方、真空槽１内に酸素を導入した状態で、真空槽１の供給側の側壁に取り付けたピアス型電子銃１３からの電子ビーム１４は、冷却キャンロール６の下方に設置したルツボ１２内のＣｏなどの磁性材料１１を溶解し、蒸発磁性材料を冷却キャンロール６に向かって蒸発させている。
【００２２】
また、冷却キャンロール６に沿って上流側に取り付けた最大入射角規制マスク８と、冷却キャンロール６に沿って下流側に取り付けた最小入射角規制マスク９との間に形成された開口部には、シャッター１０がこの開口部の開口面積を調節可能に設けられている。
【００２３】
次に、上記のように構成した第１実施形態の磁気記録媒体の製造装置を用いてベ−スフィルム７上に磁性膜を膜付けする第１実施形態の磁気記録媒体の製造方法について説明する。
【００２４】
まず、膜付け開始時に、冷却キャンロール６に沿って取り付けた最大入射角規制マスク８と最小入射角規制マスク９との間に形成された開口部の開口面積が小さな開口面積Ｓとなるようにシャッター１０を操作する。そして、ベ−スフィルム７を冷却キャンロール６に沿って矢印方向に連続走行させて、膜付け開始直後の僅かな期間中には、ルツボ１２内から蒸発した蒸発磁性材料が上記小さな開口面積Ｓの部位だけを通過できるので、ベ−スフィルム７上に膜付け目標量となる所定の膜厚よりも薄い磁性膜が膜付けされる。
【００２５】
ここで、膜付け開始直後の僅かな期間中は、後述する実施例１ではベ−スフィルム７上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール（接地手段）５に到達する期間であり、一方、後述する実施例２ではベ−スフィルム７上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール（接地手段）５の手前に到達する期間である。そして、後述する実施例１では、膜付け開始直後の僅かな期間中に、ベ−スフィルム７上に１００Å〜８００Åの膜厚で薄い磁性膜が膜付けされ、このベ−スフィルム７上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール（接地手段）５に到達した後、巻取り側の金属ガイドロール５によって薄い磁性膜の表面に帯電した電子が電気的にグランドに落とされ、この後は常にベ−スフィルム７が巻取りロール３に巻き取られる途中で磁性膜の表面がグランドに落とされている。
【００２６】
一方、後述する実施例２では、膜付け開始直後の僅かな期間中に、ベ−スフィルム７上に１００Å〜４００Åの膜厚で薄い磁性膜が膜付けされ、この膜付け開始直後の僅かな期間中ではこのベ−スフィルム７上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール（接地手段）５に到達していない。
【００２７】
次に、後述する実施例１，２において、膜付け開始直後の僅かな期間を経過した後、ここで図２に示したように、シャッター１０を全開させて、最大入射角規制マスク８と最小入射角規制マスク９との間に形成された開口部を全て露出させているので、全開した開口部を通過した蒸発磁性材料によりベ−スフィルム７上に所定の膜厚の磁性膜が通常通りに膜付けされる。
【００２８】
この後、後述する実施例１，２では、ベ−スフィルム７上に所定の膜厚で膜付けされた磁性膜の表面を巻取り側の金属ガイドロール５でグランドに落としている。
【００２９】
（実施例１）
図１，図２に示した磁気記録媒体の製造装置で、直径１０００ｍｍの冷却キャンロール６を用いて、酸素を導入しながら長さ１００００ｍ、幅３００ｍｍ、厚み６μｍのＰＥＴフィルム（ベースフィルム）６を５０ｍ／ｍｉｎで冷却キャンロール６に沿って連続走行させて、酸素を導入しながらＣｏＯ膜（磁性膜）を所定の膜厚として略０．２μｍ膜付けした。この際に、従来のようなシャッター１０の開口時から略０．２μｍを直ちに膜付けせず、フィルム走行速度５０ｍ／ｍｉｎでＣｏＯ膜の膜厚が所定の膜厚より薄い膜厚ＸÅになるように図１に示すようにシャッター１０を全開せず途中で停止し、開口部の開口面積Ｓにより磁性膜の膜厚を調整した。即ち、この実施例１では、ベ−スフィルム７上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール５に到達する期間を、膜付け開始直後の僅かな期間として設定している。
【００３０】
この際にＣｏＯ膜の蒸発速度は、シャッター１０を全開、フィルム走行速度５０ｍ／ｍｉｎの条件下で、ＣｏＯ膜が略０．２μｍ成膜される速度である。成膜長さは成膜した薄い膜厚ＸÅのＣｏＯ膜が冷却キャンロール６より離れ、ＰＥＴフィルム７上の薄いＣｏＯ膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドローラ５に達成し、ＣｏＯ膜の表面が電気的にグランドに落ちるまで行った。この後、シャッター１０を図２に示すように全開し、略０．２μｍのＣｏＯ膜を９０００ｍ成膜した。また、略０．２μｍのＣｏＯ膜の成膜時の蒸発磁気材料の入射角は、初期最大入射角は９０゜、最小入射角は４０゜である。
【００３１】
ここで、膜付け開始直後の僅かな期間ではベ−スフィルム７上に所定の膜厚よりも薄いＣｏＯ膜を膜付けした時の薄い膜厚ＸÅとして１００Å，２００Å，４００Å，６００Å，８００Å，１０００Åで膜付けを行った。
【００３２】
上記実施例１の膜付け状態を図３に示すと、膜付け開始直後の僅かな期間に、ベ−スフィルム７上に所定の膜厚よりも薄い磁性膜が膜付けされ、この後、通常の膜付け期間となりベ−スフィルム７上に所定の膜厚で磁性膜が膜付けされている。
【００３３】
（実施例２）
実施例１で、薄い膜厚で膜付けした初期のＣｏＯ膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドローラ５により電気的にグランドに落ちる前に、シャッター１０を全開し、略０．２μｍのＣｏＯ膜を９０００ｍ成膜した以外は同一条件で行った。即ち、この実施例２では、ベ−スフィルム７上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール５の手前に到達する期間を、膜付け開始直後の僅かな期間して設定としている。
【００３４】
（比較例１）
膜付け開始からシャッター１０を全開し、略０．２μｍのＣｏＯ膜を９０００ｍ成膜した以外は実施例１と同一条件で行った。
【００３５】
上記した実施例１，２及び比較例１の結果を図４に示す。図４から明らかのように、比較例１ではシワが発生するが、実施例１では初期のＣｏＯ膜の膜厚が１００Å〜８００Åでは、シャッター１０を部分開口した時及びシャッター１０を全開した時にシワが発生していない。即ち、実施例１よりＰＥＴフィルム７上の薄い磁性膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドロール５を通過する際に、薄い磁性膜の表面をグランドに落とすことにより前記開口部での帯電量を減少させることができ、成膜時にシャッター１０を全開する際のフィルム走行方向でのＰＥＴフィルム７の冷却キャンロール６への密着力及びＰＥＴフィルム７の温度の急激な変化に対してシワが発生しにくくなることが分かる。上記のことから、実施例１では初期のＣｏＯ膜の膜厚が１００Å〜８００Åになるような開口部の開口面積Ｓにシャッター１０を調節すれば良いものである。
【００３６】
また、実施例２では初期のＣｏＯ膜の膜厚が１００Å〜４００Åでは、シャッター１０を部分開口した時及びシャッター１０を全開した時にシワが発生していない。この実施例２では、膜付け開始直後の僅かな期間中にＰＥＴフィルム７上に膜付けした薄い磁性膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドロール５に到達しないものの、金属磁性膜が膜付けされているため、ヤング率が高くなっており、シャッター１０を全開した時にＰＥＴフィルム７の急激な温度上昇を押さえることができると共に、温度の不均一が緩和されるためにＰＥＴフィルム７のシワの発生を防止できる。
【００３７】
初期の膜厚が８００Åまでの膜付けではＰＥＴフィルム７の温度上昇や帯電による密着力の走行方向の不均一によりシワが発生していないが、１０００Åではシワが発生している点から、８００Åでは、この膜付け直後にシャッター１０を全開して０．２μｍを膜付けする際にはシワの発生に関して厳しい状況にある。
【００３８】
実施例１ではシャッター１０を全開し、０．２μｍを膜付けする際にはグランドに落ちているため、帯電量を減少させることができ、初期の膜厚が８００Åではシワの発生に関して厳しい状況でも、０．２μｍ膜付け時にはシワは発生していない。
【００３９】
実施例２ではシャッター１０を全開し、０．２μｍを膜付けする際にはグランドに落ちていないため、帯電量の不均一量が増加し、初期の膜厚が８００Åではシワの発生に関して厳しい状況のため、０．２μｍ膜付け時にシワが発生している。初期の膜厚６００Åでも同様にシワが発生し、初期の膜厚が４００Åでは、初期の膜付け直後のシャッター全開時にはシワ発生に関して余裕があるため、０．２μｍ膜付け時にシワが発生していない。
【００４０】
＜第２実施形態＞
図５は本発明に係る第２実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第２実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクの一部に窓部を形成し、且つ、シャッターを閉じた状態を示した図、
図６は本発明に係る第２実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第２実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクの一部に窓部を形成し、且つ、シャッターを開いた状態を示した図、
図７は本発明に係る第２実施形態の磁気記録媒体の製造装置を適用して、第２実施形態の実施例１によりベースフィルム上に磁性膜を膜付けする状態を説明するための図である。
尚、説明の便宜上、先に示した構成部材と同一構成部材に対しては同一の符号を付して説明する。
【００４１】
本発明に係る第２実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第２実施形態の磁気記録媒体の製造装置では、先に説明した一般的な磁気記録媒体の製造装置を一部改良して、冷却キャンロール６に沿って上流側に取り付けた最大入射角規制マスク８の下方の一部を僅かに開口して窓部８ａを形成し、且つ、巻取り側の金属ガイドローラ５を接地（アース）している。
【００４２】
図５に示した如く、第２実施形態の磁気記録媒体の製造装置でも斜方蒸着法を適用しており、真空槽１内で供給ロール２から送り出したベ−スフィルム７が供給側のガイドローラ４，回転転自在な冷却キャンロール６，接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール５を順次経て巻取りロール３に巻き取られている。
【００４３】
一方、真空槽１の供給側の側壁に取り付けたピアス型電子銃１３からの電子ビーム１４は、冷却キャンロール６の下方に設置したルツボ１２内のＣｏなどの磁性材料１１を溶解し、蒸発磁性材料を冷却キャンロール６に向かって蒸発させている。
【００４４】
また、冷却キャンロール６に沿って上流側に取り付けた最大入射角規制マスク８の下方の一部を僅かに開口して窓部８ａを形成し、ルツボ１２内で蒸発した蒸発磁性材料のうちの一部が回り込んで窓部８ａ内に進入して、回り込んだ蒸発磁性材料によりベ−スフィルム７上に磁性膜を所定の膜厚より薄い膜厚で膜付けできるようになっている。
【００４５】
次に、上記のように構成した第２実施形態の磁気記録媒体の製造装置を用いてベ−スフィルム７上に磁性膜を膜付けする第２実施形態の磁気記録媒体の製造方法について説明する。
【００４６】
まず、図５に示した如く、膜付け開始時に冷却キャンロール６に沿って取り付けた最大入射角規制マスク８と最小入射角規制マスク９との間に形成された開口部をシャッター１０で閉じて、ベ−スフィルム７を冷却キャンロール６に沿って矢印方向に連続走行させさせながら、冷却キャンロール６の上流側に設置した最大入射角規制マスク８の窓部８ａから回り込んだ蒸発磁性材料を進入させて、膜付け開始直後の僅かな期間にこの回り込んだ蒸発磁性材料によりベ−スフィルム７上に磁性膜が所定の膜厚より薄い膜厚でまず膜付けされる。
【００４７】
ここで、第２実施形態の実施例１，２に対して先に説明した第１実施形態の実施例１，２にそれぞれ対応させて説明すると、第１実施形態と同様に、膜付け開始直後の僅かな期間中は、第２実施形態の実施例１ではベ−スフィルム７上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール（接地手段）５に到達する期間であり、一方、第２実施形態の実施例２ではベ−スフィルム７上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール（接地手段）５の手前に到達する期間である。
【００４８】
そして、実施例１では、膜付け開始直後の僅かな期間中に、ベ−スフィルム７上に１００Å〜８００Åの膜厚で薄い磁性膜が膜付けされ、このベ−スフィルム７上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール（接地手段）５に到達した後、巻取り側の金属ガイドロール５によって薄い磁性膜の表面に帯電した電子が電気的にグランドに落とされ、この後は常にベ−スフィルム７が巻取りロール３に巻き取られる途中で磁性膜の表面がグランドに落とされている。
【００４９】
一方、実施例２では、膜付け開始直後の僅かな期間中に、ベ−スフィルム７上に１００Å〜４００Åの膜厚で薄い磁性膜が膜付けされ、この膜付け開始直後の僅かな期間中ではこのベ−スフィルム７上に膜付けされた薄い磁性膜の先頭部位が接地（アース）した巻取り側の金属ガイドロール（接地手段）５に到達していない。
【００５０】
次に、上記した実施例１，２において、膜付け開始直後の僅かな期間を経過した後、ここで図６に示したように、シャッター１０を全開させて、最大入射角規制マスク８と最小入射角規制マスク９との間に形成された開口部を全て露出させると共に、最大入射角規制マスク８の窓部８ａが開いているため、窓部８ａより下流に形成した開口部を通過した蒸発磁性材料によりベ−スフィルム７上の薄い磁性膜の上に更に磁性膜が所定の膜厚で通常通りに膜付けされる。この後、ベ−スフィルム７上に所定の膜厚で膜付けされた磁性膜の表面を巻取り側の金属ガイドロール５でグランドに落としている。
【００５１】
上記実施例１の膜付け状態を図７に示すと、膜付け開始直後の僅かな期間にベ−スフィルム７上に所定の膜厚よりも薄い磁性膜が膜付けされ、この状態でベ−スフィルム７上の薄い磁性膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドロール５を通過する際に、薄い磁性膜の表面を電気的にグランドに落とすことにより前記開口部での帯電量を減少させることができ、成膜時にシャッター１０を全開する際のフィルム走行方向でのベ−スフィルム７の冷却キャンロール６への密着力及びベ−スフィルム７の温度の急激な変化に対してシワが発生しにくくなる。
【００５２】
一方、実施例２では、膜付け開始直後の僅かな期間中にベ−スフィルム７上に膜付けした薄い磁性膜の先頭部位が巻取り側の金属ガイドロール５に到達しないものの、金属磁性膜が膜付けされているため、ヤング率が高くなっており、シャッター１０を全開した時にベ−スフィルム７の急激な温度上昇を押さえることができると共に、温度の不均一が緩和されるためにベ−スフィルム７のシワの発生を防止できる。
【００５３】
言い換えると、実施例１，２では、膜付け開始直後の僅かな期間に冷却キャンロール６の上流側でベースフィルム７上に磁性膜を所定の膜厚より薄い膜厚で膜付けし、且つ、膜付け開始直後の僅かな期間を経過した後に、冷却キャンロール６の上流側より下方の下流側でベースフィルム７上に薄い膜厚で膜付けした磁性膜の上に更に磁性膜を所定の膜厚で膜付けしている。
【００５４】
尚、第２実施形態の実施例１，２の結果は、先に説明した図４を用いて説明した第１実施形態の実施例１，２と対応して同様の結果となるので、図示を省略する。
【００５５】
この際、実施例１では初期の磁性膜の膜厚が１００Å〜８００Åに、実施例２では初期の磁性膜の膜厚が１００Å〜４００Åになるように最大入射角規制マスク８の窓部８ａを形成すれば良いものである。
【００５６】
【発明の効果】
本発明によれば、以上詳述した本発明に係る磁気記録媒体の製造方法において、請求項１によると、磁性膜を厚さ１００Å〜８００Åの第１の磁性膜の製造開始時の第１の磁性膜の先端部位が接地された金属ガイドロールに到達する時間経過後に、第２の磁性膜を形成して得るので、磁性膜の帯電量を減少させることができるため、ベースフィルムの冷却キャンロールへの密着力及びベースフィルムの温度の急激な変化に対してシワが発生しにくくなり、磁気記録媒体の歩留まりを向上することができる。
【００５７】
更に、請求項２によると、磁性膜を、厚さ１００Å〜８００Åの第１の磁性膜を形成しながら、第１の磁性膜の製造開始時の第１の磁性膜の先端部位が前記金属ガイドロールに到達するまでの時間経過後に、第１の磁性膜上に第２の磁性膜を形成して得るので、請求項１と同様の効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る第１実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第１実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクと最小入射角規制マスクとの間の開口部をシャッターで一部覆った状態を示した図である。
【図２】本発明に係る第１実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第１実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクと最小入射角規制マスクとの間の開口部を完全に開いた状態を示した図である。
【図３】本発明に係る第１実施形態の磁気記録媒体の製造装置を適用して、第１実施形態の実施例１によりベースフィルム上に磁性膜を膜付けする状態を説明するための図である。
【図４】実施例１，実施例２，比較例１の結果を示した図である。
【図５】本発明に係る第２実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第２実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクの一部に窓部を形成し、且つ、シャッターを閉じた状態を示した図である。
【図６】本発明に係る第２実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び第２実施形態の磁気記録媒体の製造装置を説明するための図であり、最大入射角規制マスクの一部に窓部を形成し、且つ、シャッターを開いた状態を示した図である。
【図７】本発明に係る第２実施形態の磁気記録媒体の製造装置を適用して、第２実施形態の実施例１によりベースフィルム上に磁性膜を膜付けする状態を説明するための図である。
【図８】斜方蒸着法を適用した一般的な磁気記録媒体の製造装置を示した図である。
【図９】一般的な磁気記録媒体の製造装置において、シャッターの変形例を説明するための図である。
【符号の説明】
１…真空槽、２…供給ロール、３…巻取りロール、
４…供給側のガイドローラ、５…巻取り側のガイドローラ（接地手段）、
６…冷却キャンロール、７…ベ−スフィルム（ＰＥＴフィルム）、
８…最大入射角規制マスク、８ａ…窓部、９…最小入射角規制マスク、
１０…シャッター、１１…磁性材料、１２…ルツボ、
１３…ピアス型電子銃。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
  The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic recording medium to which oblique deposition is applied.InRelated.
[0002]
[Prior art]
In recent years, the recording density of magnetic tape has been rapidly increased. In this process, the magnetic tape has shifted to high-performance ones such as iron oxide tape, metal tape, and thin film magnetic tape having high coercive force and high magnetic flux density. As an application of this magnetic tape, in the field of VTR (video tape recorder), in order to achieve digitalization and high definition, a thin film magnetic tape is particularly attracting attention.
[0003]
As this thin film magnetic tape, a so-called vapor-deposited magnetic tape in which a magnetic film is formed by an oblique vapor deposition method has been put into practical use. Specifically, a pierce-type electron gun is used in a vacuum, and an electron beam emitted from the pierce-type electron gun is irradiated to a magnetic material such as Co or CoNi in the crucible, so that these Co, CoNi, etc. Manufactured by forming a magnetic film made of CoO, CoNiO, etc. on a base film such as PET, PEN, PI (polyimide), PA (aramid), etc., while melting and evaporating the magnetic material and introducing oxygen. The
[0004]
FIG. 8 is a diagram showing a general magnetic recording medium manufacturing apparatus to which oblique vapor deposition is applied,
FIG. 9 is a diagram for explaining a modified example of a shutter in a general magnetic recording medium manufacturing apparatus.
[0005]
In the general magnetic recording medium manufacturing apparatus shown in FIG. 8, a supply roll 2, a take-up roll 3, a supply-side metal guide roller 4, a take-up-side metal guide roller 5, and cooling are provided in a vacuum chamber 1. A can roll 6 is arranged. The base film 7 fed out from the supply roll 2 continuously travels along the cooling can roll 6 in the direction of the arrow in the figure, and passes along the cooling can roll 6 that is rotatable through the guide roller 4 on the supply side. Furthermore, it is wound around the winding roll 3 through the metal guide roll 5 on the winding side. At this time, a cooler (not shown) is built in the rotatable cooling can roll 6 to prevent deformation of the base film 7 due to a temperature rise during vapor deposition on the base film 7. is doing.
[0006]
A crucible 12 containing a magnetic material 11 such as Co is disposed below the cooling can roll 6. The magnetic material 11 is melted on the supply side wall of the vacuum chamber 1 to evaporate the magnetic material. For example, a pierce-type electron gun 13 is installed obliquely downward as a heater for evaporating water.
[0007]
Further, a maximum incident angle restriction mask 8 for restricting the maximum incident angle θmax of the evaporated magnetic material from the crucible 12 to the base film 7, and a minimum incident angle of the evaporated magnetic material from the crucible 12 to the base film 7. A minimum incident angle regulating mask 9 that regulates θmin is fixedly attached along the cooling can roll 6, and the maximum incident angle regulating mask 8 provided on the upstream side along the cooling can roll 6 and the cooling can roll. Along with the minimum incident angle restriction mask 9 provided on the downstream side along the roll 6, the mask 10 is attached at a predetermined distance, and the shutter 10 is used to open and close the opening formed between the masks 8 and 9. 8 and 9 are provided so as to be movable.
[0008]
When the base film 7 is traveling along the cooling can roll 6, if the shutter 10 is moved in the direction of the arrow to open between the masks 8 and 9, the electron beam 14 from the pierce-type electron gun 13 is obtained. As a result, the magnetic material 11 in the crucible 12 melts and evaporates, and the evaporated magnetic material adheres to the base film 7 from the opening formed between the masks 8 and 9. A magnetic film is deposited. At this time, the magnetic film is generally formed on the base film 7 with the maximum incident angle θmax = 90 ° and the minimum incident angle θmin = 40 °.
[0009]
The electron beam 14 from the pierce-type electron gun 13 is controlled by a deflection magnet 15 attached to the pierce-type electron gun 13 and a deflection magnet installed near the crucible 12 and applying a deflection magnetic field in the trajectory of the electron beam 14. This is performed by the magnet 16. The irradiation position of the electron beam 14 is scanned at a predetermined period in the width direction of the base film 7 at the center of the crucible 12, and the magnetic material 11 in the crucible 12 is dissolved and evaporated.
[0010]
Further, the shutter 10 shields the region of the mouth formed between the minimum incident angle θmin and the maximum incident angle θmax until the temperature of the magnetic material 11 in the crucible 12 reaches a predetermined state, so that the predetermined temperature state is obtained. When the vapor deposition is possible, the shutter 10 moves in the direction of the arrow, and a magnetic film is deposited on the base film 7 with a predetermined thickness. The shutter 10 described above is of the type that moves along the cooling can roll 6 in FIG. 8, but as shown in FIG. 9, a shutter 17 is installed above the crucible 12 so as to be horizontally movable. A method of blocking the material may be used.
[0011]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, in the above-described general magnetic recording medium manufacturing apparatus, when the magnetic material 11 in the crucible 12 reaches a predetermined temperature state and the shutter 10 is opened, the following problems occur.
[0012]
That is, when the electron beam 14 is irradiated onto a magnetic material such as Co, a large amount of secondary electrons (backscattered electrons) are generated and reach the base film 7 through the opening between the masks 8 and 9. The secondary electrons are charged on the surface of the base film 7, and the base film 7 comes into close contact with the cooling can roll 6 by electrostatic force. This adhesion force increases as the area of the opening between the masks 8 and 9 increases. For this reason, when the shutter 10 is opened, the adhesion force changes suddenly in the film running direction and becomes non-uniform, which causes generation of wrinkles on the base film 7. The base film 7 is heated by radiant heat from the melted magnetic material 11, heat of condensation when the evaporated magnetic material becomes a thin magnetic film on the base film 7, and heat from reaching secondary electrons. At this time, the base film 7 is cooled by the cooling can roll 6, but the temperature of the base film 7 rises when the shutter 10 is opened within the range of the heat resistance temperature of the base film 7, and the temperature rises when the opening area is widened. Becomes bigger. For this reason, when the shutter 10 is opened, the film temperature changes abruptly in the film traveling direction and becomes non-uniform, which causes wrinkles on the base film 7 due to thermal contraction and thermal expansion of the base film 7. The wrinkles generated at the opening between the masks 8 and 9 continue to be generated due to the wrinkles once generated even after the shutter 10 has been moved to a predetermined state. In addition, the generation of wrinkles may be eliminated during the filming process, but the surface of the base film 7 that has already been wound has convex wrinkles, and after the generation of wrinkles at the openings, Since it is wound on the cumulative wrinkle, there is a problem that it is transferred and left as a transfer wrinkle when unwound.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
  The present invention has been made in view of the above problems, and the first invention isA supply roll that feeds out the base film, a cooling can roll that travels the base film fed from the supply roll along the circumference, and a base film that travels on the cooling can roll while being kept at ground potential. A metal guide roll, a winding roll that winds up the base film that has traveled the metal guide roll, and a traveling direction of the base film of the cooling can roll, and has a predetermined distance from the cooling can roll. The opening area of the opening formed between the first incident angle restricting mask and the second incident angle restricting mask which are sequentially arranged, and the first and second incident angle restricting masks provided along the cooling can roll. An apparatus for manufacturing a magnetic recording medium, comprising: a shutter for adjusting the magnetic field; and an electron gun for melting a magnetic material housed in the crucible. There, theSent from the supply rollSaidBase filmSaidCooling can rollCircumferenceRun alongEvaporating the magnetic material by an electron beam emitted from the electron gun;Magnetic film on the base filmAfter forming, through the metal guide rollWinding rollsoIn the method of manufacturing a magnetic recording medium to be wound,
  The magnetic film adjusts the shutter to expose a part of the opening, and evaporates the magnetic material by the electron beam on the base film to form a first film having a thickness of 100 to 800 mm. After the magnetic film is formed, the shutter is adjusted again after a lapse of time until the tip portion of the first magnetic film reaches the metal guide roll at the start of manufacturing the first magnetic film, It is obtained by forming a second magnetic film on the base film by exposing the entire opening and evaporating the magnetic material by the electron beam on the base film.A method of manufacturing a magnetic recording medium.
[0014]
  In addition, the second invention,A supply roll that feeds out the base film, a cooling can roll that travels the base film fed from the supply roll along the circumference, and a base film that travels on the cooling can roll while being kept at ground potential. A predetermined distance is provided between the metal guide roll, the winding roll that winds the base film that has traveled the metal guide roll, and the cooling can roll along the traveling direction of the base film of the cooling can roll. And a first incident angle restriction mask and a second incident angle restriction mask provided with sequentially arranged windows, and the first and second incident angle restriction masks provided along the cooling can roll. Magnetic recording device comprising a shutter for adjusting the opening area of the formed opening and an electron gun for melting the magnetic material housed in the crucible. Using the manufacturing apparatus of the medium, theSent from the supply rollSaidBase filmSaidCooling can rollCircumferenceRun alongEvaporating the magnetic material by an electron beam emitted from the electron gun;Magnetic film on the base filmAfter forming, through the metal guide rollWinding rollsoIn the method of manufacturing a magnetic recording medium to be wound,
  The magnetic film adjusts the shutter so as not to expose the opening, and evaporates the magnetic material by the electron beam on the base film exposed from the window, and has a thickness of 100 to 800 mm. The first magnetic film is formed, and after the time that the tip portion of the first magnetic film reaches the metal guide roll at the start of manufacture of the first magnetic film, the shutter is adjusted to adjust the opening. And the second magnetic film is formed on the first magnetic film by evaporating the magnetic material with the electron beam on the base film.A method of manufacturing a magnetic recording medium.
[0017]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment of a magnetic recording medium manufacturing method and a magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the present invention will be described in detail in the order of <first embodiment> and <second embodiment> with reference to FIGS. explain.
[0018]
<First Embodiment>
FIG. 1 is a diagram for explaining a magnetic recording medium manufacturing method according to a first embodiment and a magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention, and a maximum incident angle restricting mask and a minimum incident angle restricting mask. The figure which showed the state which covered a part of opening part between with a shutter,
FIG. 2 is a view for explaining the magnetic recording medium manufacturing method according to the first embodiment and the magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention. The figure which showed the state which opened completely the opening part between,
FIG. 3 is a diagram for explaining a state in which a magnetic film is formed on a base film according to Example 1 of the first embodiment by applying the magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention;
FIG. 4 is a diagram showing the results of Example 1, Example 2, and Comparative Example 1.
For convenience of explanation, the same reference numerals are given to the same constituent members as those shown above.
[0019]
In the magnetic recording medium manufacturing method of the first embodiment and the magnetic recording medium manufacturing apparatus of the first embodiment according to the present invention, the general magnetic recording medium manufacturing apparatus described above is partially improved and cooled. The opening area of the opening formed between the maximum incident angle restricting mask 8 and the minimum incident angle restricting mask 9 attached along the can roll 6 is configured to be adjustable by the shutter 10, and the winding side metal The guide roller 5 is grounded.
[0020]
As shown in FIG. 1, the oblique recording method is applied to the magnetic recording medium manufacturing apparatus of the first embodiment, and the base film 7 fed from the supply roll 2 in the vacuum chamber 1 is a supply-side guide. The roller 4 is wound around the winding roll 3 through a winding roller 3 which can rotate and roll, and a metal guide roll 5 on the winding side which is grounded. The winding-side metal guide roll 5 described above is a grounding means for electrically dropping electrons charged on the surface of the magnetic film formed on the base film 7 to the ground as will be described later.
[0021]
On the other hand, in a state where oxygen is introduced into the vacuum chamber 1, the electron beam 14 from the pierce-type electron gun 13 attached to the supply side wall of the vacuum chamber 1 passes through the crucible 12 installed below the cooling can roll 6. The magnetic material 11 such as Co is dissolved, and the evaporated magnetic material is evaporated toward the cooling can roll 6.
[0022]
Further, in an opening formed between the maximum incident angle restriction mask 8 attached upstream along the cooling can roll 6 and the minimum incident angle restriction mask 9 attached downstream along the cooling can roll 6. The shutter 10 is provided so that the opening area of the opening can be adjusted.
[0023]
Next, a method of manufacturing the magnetic recording medium according to the first embodiment in which a magnetic film is formed on the base film 7 using the magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the first embodiment configured as described above will be described. .
[0024]
First, at the start of film formation, the opening area of the opening formed between the maximum incident angle restriction mask 8 and the minimum incident angle restriction mask 9 attached along the cooling can roll 6 is set to a small opening area S. The shutter 10 is operated. Then, the base film 7 is continuously run along the cooling can roll 6 in the direction of the arrow, and during a short period immediately after the start of film formation, the evaporated magnetic material evaporated from the crucible 12 has the small opening area S. Therefore, a magnetic film thinner than a predetermined film thickness, which is the target film deposition amount, is deposited on the base film 7.
[0025]
Here, during a short period immediately after the start of film deposition, in the first embodiment to be described later, the winding-side metal guide roll in which the leading portion of the thin magnetic film deposited on the base film 7 is grounded (grounded). (Grounding means) 5 is a period of time to reach 5 and, on the other hand, in Example 2 to be described later, the winding side metal guide roll in which the leading portion of the thin magnetic film formed on the base film 7 is grounded. (Grounding means) This is a period of time before reaching 5. In Example 1 to be described later, a thin magnetic film having a thickness of 100 to 800 mm is formed on the base film 7 during a short period immediately after the start of filming. After the leading portion of the thin magnetic film formed reaches the winding-side metal guide roll (grounding means) 5 that is grounded (grounded), the surface of the thin magnetic film is charged by the winding-side metal guide roll 5. The electrons are electrically dropped to the ground, and thereafter, the surface of the magnetic film is always dropped to the ground while the base film 7 is being wound around the winding roll 3.
[0026]
On the other hand, in Example 2, which will be described later, a thin magnetic film with a thickness of 100 to 400 mm is formed on the base film 7 during a short period immediately after the start of film formation. During the period, the leading portion of the thin magnetic film formed on the base film 7 does not reach the winding-side metal guide roll (grounding means) 5 that is grounded.
[0027]
Next, in Examples 1 and 2 described later, after a lapse of a short period immediately after the start of film deposition, the shutter 10 is fully opened, as shown in FIG. Since all the openings formed between the incident angle restricting mask 9 are exposed, the magnetic film having a predetermined film thickness is normally formed on the base film 7 by the evaporated magnetic material that has passed through the fully opened openings. It is filmed.
[0028]
Thereafter, in Examples 1 and 2 to be described later, the surface of the magnetic film formed with a predetermined film thickness on the base film 7 is dropped to the ground by the metal guide roll 5 on the winding side.
[0029]
Example 1
1 and 2, a PET film (base film) 6 having a length of 10000 m, a width of 300 mm, and a thickness of 6 μm is introduced while introducing oxygen using a cooling can roll 6 having a diameter of 1000 mm. The film was continuously run along the cooling can roll 6 at 50 m / min, and a CoO film (magnetic film) was formed to a predetermined film thickness of approximately 0.2 μm while introducing oxygen. At this time, a film of about 0.2 μm is not immediately formed from the time of opening of the shutter 10 as in the prior art, and the film thickness of the CoO film is less than a predetermined film thickness XÅ at a film traveling speed of 50 m / min. As shown in FIG. 1, the shutter 10 was stopped halfway without being fully opened, and the film thickness of the magnetic film was adjusted by the opening area S of the opening. That is, in the first embodiment, a period in which the leading portion of the thin magnetic film formed on the base film 7 reaches the winding-side metal guide roll 5 that is grounded (grounded) is a period immediately after the start of film formation. A short period is set.
[0030]
At this time, the evaporation speed of the CoO film is a speed at which the CoO film is formed to be approximately 0.2 μm under the condition that the shutter 10 is fully opened and the film traveling speed is 50 m / min. The film thickness of the CoO film having a thin film thickness XÅ is separated from the cooling can roll 6, and the leading portion of the thin CoO film on the PET film 7 is achieved by the metal guide roller 5 on the winding side. This was done until the surface electrically fell to ground. Thereafter, the shutter 10 was fully opened as shown in FIG. 2, and a CoO film having a thickness of about 0.2 μm was formed to 9000 m. In addition, the incident angle of the evaporated magnetic material when forming the CoO film of about 0.2 μm is 90 ° for the initial maximum incident angle and 40 ° for the minimum incident angle.
[0031]
  Here, in a short period of time immediately after the start of film formation, a thin film thickness XÅ when a CoO film thinner than a predetermined film thickness is formed on the base film 7 is 100 mm, 200 mm, 400 mm, 600 mm, 800 mm, 1000 mm.soFilming was performed.
[0032]
When the film application state of Example 1 is shown in FIG. 3, a magnetic film thinner than a predetermined film thickness is formed on the base film 7 in a short period immediately after the start of film application. The magnetic film is formed on the base film 7 with a predetermined film thickness.
[0033]
(Example 2)
In Example 1, the shutter 10 is fully opened before the leading portion of the initial CoO film deposited with a thin film thickness is electrically dropped to the ground by the metal guide roller 5 on the winding side, and the CoO of about 0.2 μm is formed. The film was formed under the same conditions except that a film of 9000 m was formed. That is, in the second embodiment, during the period in which the leading portion of the thin magnetic film formed on the base film 7 reaches before the metal guide roll 5 on the winding side that is grounded (grounded), the film formation starts. It is set for a short period immediately after.
[0034]
(Comparative Example 1)
The same procedure as in Example 1 was performed except that the shutter 10 was fully opened from the start of film formation and a CoO film of approximately 0.2 μm was formed to 9000 m.
[0035]
The results of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 are shown in FIG. As apparent from FIG. 4, wrinkles occur in Comparative Example 1, but in Example 1, when the initial CoO film thickness is 100 to 800 mm, the wrinkles are generated when the shutter 10 is partially opened and when the shutter 10 is fully opened. Has not occurred. That is, when the leading portion of the thin magnetic film on the PET film 7 from Example 1 passes through the metal guide roll 5 on the winding side, the charge amount at the opening is reduced by dropping the surface of the thin magnetic film to the ground. Wrinkles are generated due to the abrupt change in the adhesion of the PET film 7 to the cooling can roll 6 and the temperature of the PET film 7 in the film running direction when the shutter 10 is fully opened during film formation. It turns out that it becomes difficult to do. From the above, in Example 1, the shutter 10 may be adjusted to the opening area S of the opening so that the initial thickness of the CoO film is 100 to 800 mm.
[0036]
  In Example 2, when the initial thickness of the CoO film is 100 to 400 mm, no wrinkle is generated when the shutter 10 is partially opened and when the shutter 10 is fully opened.ThisIn Example 2, although the leading portion of the thin magnetic film formed on the PET film 7 does not reach the winding-side metal guide roll 5 during a short period immediately after the start of film formation, the metal magnetic film is formed on the film. Therefore, the Young's modulus is high, and when the shutter 10 is fully opened, the rapid temperature rise of the PET film 7 can be suppressed, and the unevenness of temperature is alleviated. Occurrence can be prevented.
[0037]
  When the initial film thickness is up to 800 mm, wrinkles are not generated due to the temperature increase of the PET film 7 or unevenness in the running direction of the adhesion due to charging.NoHowever, since wrinkles are generated at 1000 mm, at 800 mm, when the shutter 10 is fully opened immediately after film formation and 0.2 μm film is formed, there is a severe situation regarding the generation of wrinkles.
[0038]
In Example 1, since the shutter 10 is fully opened and the film is deposited to a thickness of 0.2 μm, it falls to the ground, so the amount of charge can be reduced. Even when the initial film thickness is 800 mm, wrinkle generation is severe. No wrinkles were generated when 0.2 μm film was applied.
[0039]
In Example 2, when the shutter 10 is fully opened and 0.2 μm is deposited, it does not fall to the ground, so the amount of charge unevenness increases, and when the initial film thickness is 800 mm, the situation is severe with respect to wrinkles. Therefore, wrinkles are generated when a 0.2 μm film is formed. Wrinkles are similarly generated even at an initial film thickness of 600 mm, and when the initial film thickness is 400 mm, there is a margin for the generation of wrinkles when the shutter is fully opened immediately after the initial film formation, so no wrinkles are generated when a 0.2 μm film is formed. .
[0040]
Second Embodiment
FIG. 5 is a view for explaining the magnetic recording medium manufacturing method according to the second embodiment and the magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the second embodiment of the present invention. The figure which formed the state and showed the state which closed the shutter,
FIG. 6 is a view for explaining the magnetic recording medium manufacturing method according to the second embodiment and the magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the second embodiment of the present invention. The figure which formed the state and showed the state which opened the shutter,
FIG. 7 is a diagram for explaining a state in which a magnetic film is formed on a base film according to Example 1 of the second embodiment by applying the magnetic recording medium manufacturing apparatus of the second embodiment according to the present invention. is there.
For convenience of explanation, the same reference numerals are given to the same constituent members as those shown above.
[0041]
In the magnetic recording medium manufacturing method of the second embodiment and the magnetic recording medium manufacturing apparatus of the second embodiment according to the present invention, the general magnetic recording medium manufacturing apparatus described above is partially improved and cooled. A window 8a is formed by slightly opening a portion below the maximum incident angle restriction mask 8 attached upstream along the can roll 6, and the metal guide roller 5 on the winding side is grounded (earth). is doing.
[0042]
As shown in FIG. 5, the oblique vapor deposition method is also applied to the magnetic recording medium manufacturing apparatus of the second embodiment, and the base film 7 fed from the supply roll 2 in the vacuum chamber 1 is the supply side guide. The roller 4 is wound around the winding roll 3 through a winding roller 3 which can rotate and roll, and a metal guide roll 5 on the winding side which is grounded.
[0043]
On the other hand, the electron beam 14 from the pierce-type electron gun 13 attached to the supply side wall of the vacuum chamber 1 dissolves the magnetic material 11 such as Co in the crucible 12 installed below the cooling can roll 6 to evaporate magnetism. The material is evaporated toward the cooling can roll 6.
[0044]
Of the evaporated magnetic material evaporated in the crucible 12, the window 8 a is formed by slightly opening a part below the maximum incident angle restriction mask 8 attached upstream along the cooling can roll 6. A part of the magnetic film enters the window portion 8a, and the magnetic film can be deposited on the base film 7 with a film thickness smaller than a predetermined film thickness by the evaporated magnetic material.
[0045]
Next, a method for manufacturing a magnetic recording medium according to the second embodiment in which a magnetic film is formed on the base film 7 using the magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the second embodiment configured as described above will be described. .
[0046]
First, as shown in FIG. 5, the opening formed between the maximum incident angle restriction mask 8 and the minimum incident angle restriction mask 9 attached along the cooling can roll 6 at the start of film formation is closed by the shutter 10. The evaporative magnetic material wraps around from the window portion 8a of the maximum incident angle regulating mask 8 installed on the upstream side of the cooling can roll 6 while continuously moving the base film 7 along the cooling can roll 6 in the direction of the arrow. In a short period immediately after the start of film deposition, the magnetic film is first deposited on the base film 7 with a film thickness smaller than a predetermined film thickness by the evaporated magnetic material.
[0047]
Here, when describing the first and second embodiments corresponding to the first and second embodiments described above with respect to the first and second embodiments, as in the first embodiment, immediately after the start of film deposition. During a short period of time, in Example 1 of the second embodiment, the winding-side metal guide roll (grounding means) in which the leading portion of the thin magnetic film formed on the base film 7 is grounded (grounded) On the other hand, in Example 2 of the second embodiment, on the winding side metal guide roll (the ground portion of the thin magnetic film formed on the base film 7 is grounded) This is a period of time before reaching the grounding means 5.
[0048]
In Example 1, a thin magnetic film having a thickness of 100 to 800 mm is formed on the base film 7 during a short period immediately after the start of film formation, and the film is formed on the base film 7. After the leading portion of the thin magnetic film reaches the winding-side metal guide roll (grounding means) 5 that is grounded (grounded), electrons charged on the surface of the thin magnetic film by the winding-side metal guide roll 5 The surface of the magnetic film is dropped to the ground while the base film 7 is always wound around the winding roll 3.
[0049]
On the other hand, in Example 2, a thin magnetic film with a film thickness of 100 to 400 mm was formed on the base film 7 during a short period immediately after the start of film formation, and during a short period immediately after the start of film formation. Then, the leading portion of the thin magnetic film formed on the base film 7 does not reach the winding-side metal guide roll (grounding means) 5 that is grounded.
[0050]
Next, in Examples 1 and 2 described above, after a short period immediately after the start of film deposition, as shown in FIG. 6, the shutter 10 is fully opened, and the maximum incident angle restriction mask 8 and the minimum All the openings formed between the incident angle restriction mask 9 are exposed and the window 8a of the maximum incident angle restriction mask 8 is open, so that the evaporation that has passed through the opening formed downstream from the window 8a. A magnetic film is further formed on the thin magnetic film on the base film 7 by a magnetic material as usual with a predetermined film thickness. Thereafter, the surface of the magnetic film formed with a predetermined film thickness on the base film 7 is dropped to the ground by the metal guide roll 5 on the winding side.
[0051]
FIG. 7 shows the state of film formation in Example 1 described above. A magnetic film thinner than a predetermined film thickness is formed on the base film 7 in a short period immediately after the start of film formation. When the leading portion of the thin magnetic film on the film 7 passes through the metal guide roll 5 on the winding side, the charge amount at the opening is reduced by electrically dropping the surface of the thin magnetic film to the ground. The film is wrinkled against a rapid change in the adhesion force of the base film 7 to the cooling can roll 6 and the temperature of the base film 7 when the shutter 10 is fully opened during film formation. Less likely to occur.
[0052]
On the other hand, in Example 2, although the leading portion of the thin magnetic film formed on the base film 7 does not reach the winding-side metal guide roll 5 during a short period immediately after the start of film formation, the metal magnetic film Since the film is attached, the Young's modulus is high, and when the shutter 10 is fully opened, the rapid temperature rise of the base film 7 can be suppressed and the unevenness of temperature is alleviated. -Generation | occurrence | production of the wrinkle of the film 7 can be prevented.
[0053]
In other words, in Examples 1 and 2, the magnetic film is deposited on the base film 7 on the upstream side of the cooling can roll 6 in a short period immediately after the start of film deposition, with a film thickness smaller than a predetermined film thickness, and After a short period immediately after the start of film formation, a predetermined film is further formed on the magnetic film formed on the base film 7 with a thin film thickness on the downstream side below the upstream side of the cooling can roll 6. It is coated with a thickness.
[0054]
The results of Examples 1 and 2 of the second embodiment are similar to the results of Examples 1 and 2 of the first embodiment described with reference to FIG. Omitted.
[0055]
At this time, the window portion 8a of the maximum incident angle restricting mask 8 is set so that the initial magnetic film thickness is 100 to 800 mm in Example 1 and the initial magnetic film thickness is 100 to 400 mm in Example 2. What is necessary is just to form.
[0056]
【The invention's effect】
  According to the present invention, the method of manufacturing the magnetic recording medium according to the present invention described in detail above.InClaim1according to,The second magnetic film is formed after a lapse of time until the tip portion of the first magnetic film reaches the grounded metal guide roll at the start of manufacturing the first magnetic film having a thickness of 100 to 800 mm. Because you getCan reduce the amount of charge on the magnetic filmBecauseBase fillMuAdhesive strength to the cooling can roll and base fillMuThus, wrinkles are less likely to occur due to a sudden change in temperature, and the yield of magnetic recording media can be improved.
[0057]
  Further claims2according to,While the first magnetic film having a thickness of 100 to 800 mm is formed as the magnetic film, the time elapses until the tip portion of the first magnetic film reaches the metal guide roll at the start of manufacturing the first magnetic film. Since the second magnetic film is formed on the first magnetic film later,Similar effectcan get.
[Brief description of the drawings]
BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a diagram for explaining a magnetic recording medium manufacturing method according to a first embodiment and a magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention. It is the figure which showed the state which partially covered the opening part between masks with the shutter.
FIGS. 2A and 2B are diagrams for explaining the magnetic recording medium manufacturing method according to the first embodiment and the magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the first embodiment, and are a maximum incident angle restriction mask and a minimum incident angle restriction; FIGS. It is the figure which showed the state which opened the opening part between masks completely.
FIG. 3 is a diagram for explaining a state in which a magnetic film is formed on a base film according to Example 1 of the first embodiment by applying the magnetic recording medium manufacturing apparatus of the first embodiment according to the present invention. It is.
4 is a graph showing the results of Example 1, Example 2, and Comparative Example 1. FIG.
FIG. 5 is a view for explaining a magnetic recording medium manufacturing method according to a second embodiment and a magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the second embodiment of the present invention. It is the figure which showed the state which formed the part and closed the shutter.
FIG. 6 is a view for explaining a magnetic recording medium manufacturing method according to a second embodiment and a magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the second embodiment of the present invention; It is the figure which showed the state which formed the part and opened the shutter.
FIG. 7 is a diagram for explaining a state in which a magnetic film is formed on a base film according to Example 1 of the second embodiment by applying the magnetic recording medium manufacturing apparatus of the second embodiment according to the present invention. It is.
FIG. 8 is a diagram showing a general magnetic recording medium manufacturing apparatus to which oblique vapor deposition is applied.
FIG. 9 is a diagram for explaining a modified example of a shutter in a general magnetic recording medium manufacturing apparatus.
[Explanation of symbols]
1 ... Vacuum tank, 2 ... Supply roll, 3 ... Winding roll,
4 ... Guide roller on the supply side, 5 ... Guide roller on the take-up side (grounding means),
6 ... Cooling can roll, 7 ... Base film (PET film),
8 ... Maximum incident angle regulating mask, 8a ... Window, 9 ... Minimum incident angle regulating mask,
10 ... shutter, 11 ... magnetic material, 12 ... crucible,
13 ... Piercing electron gun.

Claims

ベースフィルムを送り出す供給ロールと、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを円周に沿って走行させる冷却キャンロールと、接地電位に保たれ、前記冷却キャンロールを走行した前記ベースフィルムを走行させる金属ガイドロールと、前記金属ガイドロールを走行した前記ベースフィルムを巻き取る巻取りロールと、前記冷却キャンロールの前記ベースフィルムの走行方向に沿い、かつ前記冷却キャンロールと所定の間隔を有して順次配置された第１入射角規制マスクと第２入射角規制マスクと、前記冷却キャンロールに沿って設けられた前記第１、第２入射角規制マスクの間に形成された開口部の開口面積を調節するシャッターと、ルツボ内に収納された磁性材料を溶融する電子銃とを備えた磁気記録媒体の製造装置を用い、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを前記冷却キャンロールの円周に沿って走行させ、前記電子銃から出射する電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させ、前記ベースフィルム上に磁性膜を形成した後、前記金属ガイドロールを介して前記巻取りロールで巻取る磁気記録媒体の製造方法において、
前記磁性膜は、
前記シャッターを調節して、前記開口部の一部を露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて厚さ１００Å〜８００Åの第１の磁性膜を形成した後、前記第１の磁性膜の製造開始時の前記第１の磁性膜の先端部位が前記金属ガイドロールに到達するまでの時間経過後に、前記シャッターを再び調整して、前記開口部の全部を露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、前記ベースフィルム上に第２の磁性膜を形成して得られることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 A supply roll that feeds out the base film, a cooling can roll that travels the base film fed from the supply roll along the circumference, and a base film that travels on the cooling can roll while being kept at ground potential. A metal guide roll, a winding roll that winds up the base film that has traveled the metal guide roll, and a traveling direction of the base film of the cooling can roll, and has a predetermined distance from the cooling can roll. The opening area of the opening formed between the first incident angle restricting mask and the second incident angle restricting mask which are sequentially arranged, and the first and second incident angle restricting masks provided along the cooling can roll. An apparatus for manufacturing a magnetic recording medium, comprising: a shutter for adjusting the magnetic field; and an electron gun for melting a magnetic material housed in the crucible. There, the base film fed from the supply roll to run along the circumference of the cooling can roll, wherein evaporated the magnetic material by the electron beam emitted from an electron gun, a magnetic layer on the base film After forming, in the method for manufacturing a magnetic recording medium wound up by the winding roll through the metal guide roll ,
The magnetic film is
The shutter was adjusted to expose a part of the opening, and the magnetic material was evaporated by the electron beam on the base film to form a first magnetic film having a thickness of 100 mm to 800 mm. Thereafter, after the elapse of time until the tip portion of the first magnetic film reaches the metal guide roll at the start of manufacture of the first magnetic film, the shutter is adjusted again so that the entire opening is the state of being exposed, said by electron beam evaporation of the magnetic material to the base film, manufacturing a magnetic recording medium characterized Rukoto obtained by forming a second magnetic layer on the base film Method.

ベースフィルムを送り出す供給ロールと、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを円周に沿って走行させる冷却キャンロールと、接地電位に保たれ、前記冷却キャンロールを走行した前記ベースフィルムを走行させる金属ガイドロールと、前記金属ガイドロールを走行した前記ベースフィルムを巻き取る巻取りロールと、前記冷却キャンロールの前記ベースフィルムの走行方向に沿い、かつ前記冷却キャンロールとの間に所定の間隔を有して順次配置された窓部を備えた第１入射角規制マスクと第２入射角規制マスクと、前記冷却キャンロールに沿って設けられた前記第１、第２入射角規制マスクの間に形成された開口部の開口面積を調節するシャッターと、ルツボ内に収納された磁性材料を溶融する電子銃とを備えた磁気記録媒体の製造装置を用い、前記供給ロールから送り出された前記ベースフィルムを前記冷却キャンロールの円周に沿って走行させ、前記電子銃から出射する電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させ、前記ベースフィルム上に磁性膜を形成した後、前記金属ガイドロールを介して前記巻取りロールで巻取る磁気記録媒体の製造方法において、
前記磁性膜は、
前記シャッターを調節して、前記開口部を露出させない状態にし、前記窓部から露出した前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、厚さ１００Å〜８００Åの第１の磁性膜を形成し、前記第１の磁性膜の製造開始時の前記第１の磁性膜の先端部位が前記金属ガイドロールに到達する時間経過後に、前記シャッターを調節して、前記開口部を全部露出させた状態にし、前記ベースフィルム上に前記電子ビームにより前記磁性材料を蒸発させて、前記第１の磁性膜上に第２の磁性膜を形成して得られることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 A supply roll that feeds out the base film, a cooling can roll that travels the base film fed from the supply roll along the circumference, and a base film that travels on the cooling can roll while being kept at ground potential. A predetermined distance is provided between the metal guide roll, the winding roll that winds the base film that has traveled the metal guide roll, and the cooling can roll along the traveling direction of the base film of the cooling can roll. And a first incident angle restriction mask and a second incident angle restriction mask provided with sequentially arranged windows, and the first and second incident angle restriction masks provided along the cooling can roll. Magnetic recording device comprising a shutter for adjusting the opening area of the formed opening and an electron gun for melting the magnetic material housed in the crucible. Using the manufacturing apparatus of the medium, the base film fed from the supply roll to run along the circumference of the cooling can roll, evaporate the magnetic material by the electron beam emitted from the electron gun, the base film In the method of manufacturing a magnetic recording medium, after forming a magnetic film on the winding film, the winding roll is wound through the metal guide roll .
The magnetic film is
The shutter is adjusted so that the opening is not exposed, and the magnetic material is evaporated by the electron beam on the base film exposed from the window, so that a first magnetic film having a thickness of 100 to 800 mm is obtained. After the elapse of time when the tip portion of the first magnetic film reaches the metal guide roll at the start of manufacturing the first magnetic film, the shutter is adjusted to expose all the openings. and the state, said base film by the electron beam on the evaporation of the magnetic material, the magnetic recording medium characterized obtain isosamples forming a second magnetic layer on the first magnetic layer Production method.