JP4040363B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体装置に関し、特に多層配線を有する半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体集積回路装置の高集積化に伴い、集積回路装置の配線規模は世代毎に増加する傾向にある。ロードマップによると、1999年の0.18μm世代の代表的半導体チップの総配線長は約500m、配線層数は3ないし4であった。次世代の0.10μm世代の代表的1チップの総配線長は約4km、配線層数は約10になる。約10年後と考えられる0.50μm世代の代表的1チップの総配線長は200kmを越えると考えられる。
【0003】
半導体集積回路の高集積化と共に、集積回路の高速動作化が望まれる。高速動作のためには、配線の抵抗を低減し、付随容量を低減することが望まれる。低抵抗化のため、Al配線に代え、Cu配線が用いられるようになった。しかしCuより低い抵抗率を持つ配線材料を用いることは困難である。配線の低抵抗化が限界に近づくと、高速動作化のためには配線の付随容量を減少させることが必要となる。
【0004】
配線の付随容量は、配線を絶縁分離する絶縁層の誘電率に依存する。誘電率約4.1の酸化シリコン(USG)やPドープ酸化シリコン(PSG)、B、Pドープ酸化シリコン(BPSG)に代ってFをドープした酸化シリコン(FSG、誘電率εは約3.7)が用いられるようになった。さらに低誘電率の有機絶縁物(登録商標SiLK、登録商標FLARE等)が用いられるようにもなった。さらなる低誘電率化を実現する多孔材料(多孔酸化シリコン等)も提案されている。
【0005】
図8(A)〜(C)は、従来の技術による配線構造の例を示す。
図8(A)は、0.18μm世代の配線構造の例である。第1配線層M1、第3配線層M3の間に、酸化シリコン層100に埋め込まれた第2配線層M2が配置されている。第2配線層M2の線幅は、例えば260nm、高さは例えば545nmである。第1配線層M1と、第2配線層M2の間隔は、例えば約750nmである。配線層M2の面抵抗は、91mΩ/□であり、付随容量は253fF/mm(0.137fF/grid)である。酸化シリコン層100の誘電率εは、約4.1である。
【0006】
図8(B)は、0.13μm世代の配線構造の例を示す。第1配線層M1と第3配線層M3の間に、第2配線層M2が配置されている。第2配線層M2を埋め込む絶縁層は、第2配線層下側の酸化シリコンによる絶縁層101a、第2配線層の主要部を横方向で分離する誘電率約2.7の有機絶縁層101b、さらのその上部に配置された酸化シリコンの絶縁層101cである。第2配線層M2の線幅は例えば約200nmであり、高さは約275nmである。第2配線層M2と第1配線層M1との間隔は、例えば約350nmである。このような第2配線層M2の面抵抗は、約90mΩ/□であり、付随容量は約214fF/mm(0.086fF/grid)である。
【0007】
図8(C)は、0.1μm世代の配線構造の例を示す。第1配線層M1、第3配線層M3の間に第2配線層M2が配置されている。第2配線層M2は、全て低誘電率(約2.7)の有機絶縁層102によって埋め込まれている。第2配線層M2の線幅は例えば約240nmであり、高さは約250nmである。第1配線層M1と第2配線層M2との間隔は、約300nmである。このような第2配線層M2の面抵抗は、95mΩ/□であり、付随容量は約185fF/mm(0.052fF/grid)である。
【0008】
低誘電率の絶縁材料を用いることにより、配線の付随容量を低減することができる。しかしながら、半導体集積回路装置における配線は、上層に行くほど線幅が広く、高さも高くなる傾向を有する。
【0009】
下層配線は、トランジスタの信号線等としての役割が大きく、配線のピッチが小さく、高速動作を行なうために配線の付随容量は低ければ低いほどよい。このため、有機膜等の低誘電率絶縁材料が用いられる。
【0010】
上層配線は、電源線としての役割が主となる。高速動作は要求されず、スピードよりも放熱や加工性が優先される。従来広く用いられていた酸化シリコンを主体とした絶縁膜を用いることにより、このような要求が満たされ、高い信頼性も実現できる。上層配線用と下層配線用とで絶縁材料を使い分けることにより、半導体集積回路装置として高い性能を期待することができる。
【0011】
低誘電率の膜は、有機膜や無機膜等が様々なメーカから提案されている。これらの低誘電率材料は、酸化シリコンを主体とした絶縁材料とはその物理定数に大きな相違がある。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
物理定数に大きな差のある絶縁層を積層すると、層間にクラックや剥がれが生じ易くなる。
【0013】
本発明の目的は、高性能で信頼性の高い多層配線を有する半導体装置を提供することである。
本発明の他の目的は、多層配線構造内で応力を緩和することのできる半導体装置を提供することである。
【0014】
【課題を解決するための手段】
本発明の1観点によれば、半導体基板と、前記半導体基板に形成された多数の半導体素子と、前記半導体素子に電気的に接続された複数の下層配線層と、前記下層配線層を電気的に分離し、第1の誘電率を有する複数の第1絶縁層と、前記下層配線層に電気的に接続された複数の中層配線層と、前記中層配線層を電気的に分離し、第1の誘電率よりも大きい第2の誘電率を有する複数の第2の絶縁層と、前記中層配線層に電気的に接続された複数の上層配線層と、前記上層配線層を電気的に分離し、第2の誘電率よりも大きい第3の誘電率を有する複数の第3の絶縁層と、を有する半導体装置が提供される。
【0015】
本発明の他の観点によれば、半導体基板と、前記半導体基板に形成された多数の半導体素子と、前記半導体素子に電気的に接続された複数の下層配線層と、前記下層配線層に電気的に接続された複数の中層配線層と、前記中層配線層に電気的に接続された複数の上層配線層と、前記下層配線層を電気的に分離し、第1の物理定数を有する複数の第1絶縁層と、前記上層配線層を電気的に分離し、第1の物理定数と異なる第3の物理定数を有する複数の第3の絶縁層と、前記中層配線層を電気的に分離し、第1の物理定数と第2の物理定数との中間の物理定数を有する複数の第2の絶縁層と、を有し、前記物理定数は熱膨張係数、弾性定数、密度、硬度のいずれか 1 つであり、前記物理定数が熱膨張係数の場合は前記第 3 の物理定数が前記第 1 の物理定数より小さく、前記物理定数が弾性定数、密度、硬度のいずれか 1 つである場合は前記第 3 の物理定数が前記第 1 の物理定数より大きい半導体装置が提供される。
【0016】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明の実施例による多層配線を有する半導体層を概略的に示す断面図である。Si基板11の表面にシャロートレンチアイソレーション(STI)による分離領域12が形成され、半導体基板11表面に多数のMOSトランジスタ等の半導体素子が形成される。これらの半導体素子を埋め込んで、アンドープ又はPやBをドープした酸化シリコン層14が形成される。
【0017】
酸化シリコン層14にコンタクト孔が形成され、バリア金属とW等によりコンタクトプラグやローカルインタコネクト16が埋め込まれる。コンタクトプラグやローカルインタコネクトの表面を覆って、酸化シリコン層14の上にSiC等のCu拡散防止兼エッチストッパ層15が形成されている。Cu拡散防止兼エッチストッパ層15の上に、SiLK等の低誘電率の有機絶縁層21が形成され、その表面にSiC等のハードマスク層22が形成される。
【0018】
これらの絶縁層の中に、配線用トレンチ及びビア孔が形成され、バリアメタル層とCu層を埋め込んで第1配線層M1Lが形成される。第1配線層M1Lの表面を覆って、ハードマスク層22表面上にSiC等のCu拡散防止兼エッチストッパ層23が形成される。Cu拡散防止兼エッチストッパ層23の上に、下層同様のSiLK等の低誘電率有機絶縁層24、SiC等のハードマスク層25が積層され、Cuの第2配線層M2Lが埋め込まれる。さらに上層に、第2配線層と同様の第3配線層が、Cu拡散防止層26、低誘電率有機絶縁層27、ハードマスク層28、バリアメタルとCu層による第3配線層M3Lを用いて形成される。
【0019】
同様の構成により、第4配線層M4Lも形成される。第4配線層M4Lの上にCu拡散防止層31、SiOC層32、SiCのエッチストッパ層33、SiOC層34が積層され、配線用トレンチ、ビア孔が形成され、バリアメタル層、Cu層を埋め込んで第5配線層M5Lが形成される。
【0020】
Cu拡散防止層35、SiOC層36、エッチストッパSiC層37、SiOC層38が積層され、バリアメタル層、Cu層が埋め込まれて第6配線層M6Lが形成される。同様の構成により、第7配線層M7L、第8配線層M8Lが形成される。
【0021】
第8配線層M8Lの上に、Cu拡散防止層41、酸化シリコン層42、エッチストッパSiC層43、酸化シリコン層44が積層され、配線用トレンチ及びビア孔が形成され、バリアメタル層、Cu層を埋め込んで第9配線層M9Lが形成される。
【0022】
SiCによるCu拡散防止層45、酸化シリコン層46、Cu拡散防止層47、酸化シリコン層48が積層され、配線用トレンチ、ビア孔が形成され、バリアメタル層、Cu層を埋め込んで第10配線層M10Lが形成される。
【0023】
第10配線層M10Lの上に、Cu拡散防止SiC層51、酸化シリコン等の絶縁層52が積層される。これらの絶縁層を貫通して、接続導体50が埋め込まれる。さらに、Al等の電極層が堆積され、パターニングされて第11配線層M11Lが形成される。第11配線層M11Lを覆って、酸化シリコン層53、窒化シリコン層54等が積層される。酸化シリコン層53、窒化シリコン層54の積層に選択的に開口が形成され、パッド表面が露出される。
【0024】
図2(A)は、第1配線層M1Lの構成例を示す。導電性プラグ16と第1配線層M1Lとの間の距離は、例えば約300nmである。第1配線層M1Lは、例えば線幅0.14μm、配線間隔0.14μmで配置される。配線厚は例えば250nmである。絶縁層は、SiC層15が誘電率4.5、厚さ50nm、SiLK層21が誘電率2.7、厚さ250nm+200nm、SiC層22が誘電率4.5、厚さ50nm、SiC層23が厚さ50nmである。
【0025】
図2(B)は、第2配線層M2L〜第4配線層M4Lの構成例を示す。例えば、厚さ50nmのSiC層23、厚さ450nmのSiLK層24、厚さ50nmのSiC層25が積層され、第2(3、4)配線層M2(3、4)Lが埋め込まれる。配線層の厚さは約250nm、線幅及び配線間隔が共に約0.14μmである。下層配線層との間隔は例えば約300nmである。
【0026】
図3(A)は、第5配線層M5Lの構成例を示す。厚さ約70nmのSiC層31、厚さ約350nmのSiOC層32、厚さ約30nmのSiC層33、厚さ約350nmのSiOC層34が積層され、表面から深さ約400nmの配線用トレンチが形成され、残りの深さにビア孔が形成される。配線用トレンチ及びビア孔を埋め込んで、バリアメタル層、Cu配線層が形成され、第5配線層M5Lが形成される。第5配線層表面には、SiC層35が形成される。
【0027】
第5配線層M5Lは、例えば高さ約400nm、配線幅及び配線間隔共に0.28μm、下層配線との間隔約400nmである。
図3(B)は、第6配線層M6L〜第8配線層M8Lの構成例を示す。第6配線層の場合を例にとって説明する。第5配線層M5Lの上に、厚さ約70nmのSiC層35、厚さ約550nmのSiOC層36、厚さ約30nmのSiC層37、厚さ約350nmのSiOC層38が積層されている。
【0028】
表面から深さ400nmの配線用トレンチが形成され、残りの厚さ600nmを貫通するビア孔が形成される。配線用トレンチ、ビア孔を埋め込んでバリアメタル層、Cu層が形成され、第5配線層M6Lが形成される。第6配線層を覆って厚さ約70nmのSiC層39が形成される。
【0029】
図4は、第9配線層M9L、第10配線層M10Lの構成例を示す。下層配線上に、厚さ約70nmのSiC層41、厚さ約550nmの酸化シリコン層42、厚さ約30nmのSiC層43、厚さ約850nmの酸化シリコン層44が積層されている。
【0030】
表面から深さ900nmの配線用トレンチが形成され、下層配線に達するビア孔が形成される。配線用トレンチ、ビア孔にバリアメタル層、Cu層を埋め込み、第9配線層M9Lが形成される。第9配線層を覆って、SiC層45が形成される。第9配線層M9Lは、高さ約900nm、線幅及び配線間隔約0.42μmである。
【0031】
図1に戻って、多層配線の絶縁層構成について考察する。Cu拡散防止層や、エッチストップ層、ハードマスク層等を除外して考えると、下層配線の層間絶縁層はSiLKによる有機絶縁層で形成されている。第9配線層M9L、第10配線層M10Lの上層配線層の層間絶縁層は、酸化シリコン層によって形成されている。第5配線層M5Lから第8配線層M8Lまでの中間配線層に対する層間絶縁膜は、SiOC層によって形成されている。
【0032】
SiOCは、熱膨張係数、弾性定数、密度、硬度等において酸化シリコンとSiLK内の有機絶縁層との中間の性質を有する。有機絶縁層上に直接酸化シリコン層を用いた多層配線構造を形成する場合に較べ、有機絶縁層と酸化シリコン層との中間にSiOCを用いた層間絶縁層を配置することにより、下層、上層の物理定数の差による応力発生等を緩和することができる。
【0033】
図5は、図1に示す配線に生じる応力を計算によって求めた結果を示す。丸いプロットは面内応力であり、四角いプロットは面法線方向の応力である。横軸は配線層の高さを示し、縦軸は応力の大きさを示す。
【0034】
下層においては、法線方向のビア部分の応力が大きなマイナスの値を示し、上層においてはビア部分の応力が大きなプラスの値を示している。これらを直接積層すると、下層と上層間において大きな応力が発生してしまうことが予想される。エッチストッパ層、ハードマスク層を除いた層間絶縁層として、多層配線用の層間絶縁層の中間層としてSiOCを用いることにより、図に示すように応力の変化が緩和される。
【0035】
誘電率に関して、下層、中間層、上層の層間絶縁層の誘電率を徐々に変化させることによりこのような応力の緩和が得られると考えられる。なお、エッチストッパ層、ハードマスク層も含めた複数の絶縁層の実効的誘電率を求めても同様の結果となろう。
【0036】
図1の構成においては、エッチストッパ層、ハードマスク層を除くと、単一の配線層に対しては同一の絶縁材料を用いた。エッチストッパ層として薄い層を中間に配置する場合も、その下とその上の絶縁層は同一材料であった。しかし、配線パターン側方の絶縁層と、ビア導電体側方の絶縁層との材料を別にすることもできる。
【0037】
図6は、配線パターンを埋め込む絶縁層とビア導電体を埋め込む絶縁層とを種々に変化させた時に配線とビア導電体との間に働く垂直方向の応力差を求めた結果を示す。図において横軸は配線幅を単位μmで示し、縦軸は配線パターンとビア導電体との間の垂直方向の応力差を単位(Mpa)で示す。応力差が大きいほど配線に欠陥が生じる可能性が高くなる。
【0038】
曲線s1は、配線パターン側方の絶縁層及びビア導電体側方の絶縁層を共にSiLKの有機絶縁層とした場合の応力差を示す。曲線s2は、配線パターン側方の絶縁層をSiOCとし、ビア導電体側方の絶縁層をSiLKの有機絶縁層とした場合を示す。曲線s3は、配線パターン側方の絶縁層及びビア導電体側方の絶縁層を共に酸化シリコンとした場合の特性である。曲線s3'は、配線層を埋め込む絶縁層の一部にSiLKを用いた場合の結果を示す。曲線s4は、配線パターン側方の絶縁層を酸化シリコン、ビア導電体側方の絶縁層をSiOCとした場合の応力差を示す。
【0039】
配線層を埋め込む絶縁層がSiLKの場合の応力差と、配線層を埋め込む絶縁層が酸化シリコンである場合の応力差との間に大きな差が存在している。配線パターンを埋め込む絶縁層を酸化シリコン、ビア導電体を埋め込む絶縁層をSiOCとした層間絶縁膜の応力差は、これら2種類の応力差の中間の値を有する。
【0040】
このように、上層配線層及び下層配線層の中間に、両配線層の層間絶縁膜を混合した性質を有する層間絶縁膜を配置すると、応力差が低減できることが分かる。
【0041】
図7(A)、(B)、(C)は、種々の絶縁材料の物理定数を示す。各図において横軸は誘電率を示し、縦軸は図7(A)においては熱膨張係数、図7(B)においては弾性定数、図7(C)においては密度及び硬度を示す。
【0042】
図7(A)に示すように、誘電率と熱膨張係数とはほぼ逆比例の関係を示している。誘電率が低くなるほど熱膨張係数は高くなっている。SiLKやFドープのポリイミド等の有機絶縁材料は、高い熱膨張係数を示している。又、多孔性酸化シリコンも高い熱膨張係数を示している。すなわち、低誘電率の絶縁材料は高い熱膨張係数を示す。これらに比較して、酸化シリコンの熱膨張係数は1桁以上低い。酸化シリコンの熱膨張係数から、Fドープの酸化シリコン、ポリイミド、SiOCと熱膨張係数は増加する傾向にある。
【0043】
図7(B)は、誘電率に対する弾性定数の関係を示す。誘電率が低くなるにつれ弾性定数は指数関数的に低下する傾向がある。
図7(C)は、誘電率に対する密度及び硬度の関係を示す。○のプロットが密度を示し、□のプロットが高度を示す。縦方向の2つのプロットは誘電率が等しい同一材料である。誘電率が低下すると、密度もほぼリニアに低下する傾向が見られる。誘電率が低下すると、硬度は指数関数的に低下する。
【0044】
図7の各グラフをまとめると、誘電率に対して他の物理定数は誘電率と密接な関係を有している。すなわち、異なる物理定数を選択すると、他の物理定数も異なる値となり、その傾向は一致している。従って、材料選択の際の指標として誘電率の代りに熱膨張係数、弾性定数、密度、硬度等を用いても、誘電率を指標とした場合とほぼ同一の結果を得ることができる。
【0045】
酸化シリコンと較べ、誘電率が著しく低い材料は、熱膨張係数、弾性定数、密度、硬度等の物理定数においても大きな差を示す。これら物理定数に大きな差のある材料を直接隣接させて積層すると、それらの間には大きな応力が働き、剥がれ、クラック、密着性劣化等の原因となることが十分予測される。このような場合、これらの中間に中間の物理定数を有する絶縁層を挿入することにより、発生する応力を緩和することが可能であろう。
【0046】
又、図6に示したように、異なる物理定数を有する層を積層すると、積層全体としては中間の物理定数を有すると見なせる構造が期待できる。従って、複数種類の絶縁層を積層し、その中間の物理定数を期待することも可能であろう。
【0047】
なお、層間絶縁層が複数層の積層である場合、積層の物理定数の平均値を実効物理定数としてもよい。配線から見た物理定数を層間絶縁層の実効物理定数としてもよい。また、エッチストッパ層、ハードマスク層等として多層配線層の層間絶縁層に共通の材料を用いる場合、これらの層を除外して層間絶縁層の実効物理定数を求めてもよい。
【0048】
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば種々の変更、改良、組合わせが可能なことは当業者に自明であろう。以下本発明の特徴を付記する。
【0049】
(付記1) 半導体基板と、
前記半導体基板に形成された多数の半導体素子と、
前記半導体素子に電気的に接続された複数の下層配線層と、
前記下層配線層を電気的に分離し、第1の誘電率を有する複数の第1絶縁層と、
前記下層配線層に電気的に接続された複数の中層配線層と、
前記中層配線層を電気的に分離し、第1の誘電率よりも大きい第2の誘電率を有する複数の第2の絶縁層と、
前記中層配線層に電気的に接続された複数の上層配線層と、
前記上層配線層を電気的に分離し、第2の誘電率よりも大きい第3の誘電率を有する複数の第3の絶縁層と、
を有する半導体装置。
【0050】
(付記2) 前記第3絶縁層は、酸化シリコンで形成されている付記1記載の半導体装置。
(付記3) 前記第1絶縁層は、有機絶縁体又は多孔性酸化シリコンで形成されている付記1または2記載の半導体装置。
【0051】
(付記4) 前記第2絶縁層は、酸化炭化シリコンで形成されている付記1〜3のいずれか1項記載の半導体装置。
(付記5) 前記下層、中層、上層配線層は銅で形成されている付記1〜4のいずれか1項記載の半導体装置。
【0052】
(付記6) 前記第1、第2、第3の絶縁層の各々は、複数の構成絶縁層の積層で形成され、前記第1、第2、第3の誘電率は対応する配線層にとって実効的な積層の実効誘電率である付記1〜5のいずれか1項記載の半導体装置。
【0053】
(付記7) 前記構成絶縁層の積層が窒化シリコン層または炭化シリコン層を含む付記6記載の半導体装置。
(付記8) 前記第1の絶縁層の積層が炭化シリコン層を含み、前記第2の絶縁層の積層が炭化シリコン層または窒化シリコン層を含む付記7記載の半導体装置。
【0054】
(付記9) 前記下層配線層は、線幅0.1μm以下の配線を含む
付記1〜8のいずれか1項記載の半導体装置。
(付記10)半導体基板と、
前記半導体基板に形成された多数の半導体素子と、
前記半導体素子に電気的に接続された第1の配線層と、
前記第1の配線層を電気的に分離し、第1の誘電率を有する第1絶縁層と、
前記第1の配線層に電気的に接続された第2の配線層と、
前記第2の配線層を電気的に分離し、前記第1の誘電率を有する第1絶縁層と、
前記第2の配線層に電気的に接続された第3の配線層と、
前記第3の配線層を電気的に分離し、前記第1の誘電率を有する第1絶縁層と、
前記第3の配線層に電気的に接続された第4の配線層と、
前記第4の配線層を電気的に分離し、前記第1の誘電率よりも大きい第2の誘電率を有する第4の絶縁層と、
前記第4の配線層に電気的に接続された第5の配線層と、
前記第5の配線層を電気的に分離し、前記第2の誘電率よりも大きい第3の誘電率を有する第5の絶縁層と、
を有する半導体装置。
【0055】
(付記11) 前記第5絶縁層は、酸化シリコンで形成されている付記10記載の半導体装置。
(付記12) 前記第1、第2,第3の絶縁層は、有機絶縁体又は多孔性酸化シリコンで形成されている付記10または11記載の半導体装置。
【0056】
(付記13) 前記第4絶縁層は、酸化炭化シリコンで形成されている付記10〜12のいずれか1項記載の半導体装置。
(付記14) 半導体基板と、
前記半導体基板に形成された多数の半導体素子と、
前記半導体素子に電気的に接続された複数の下層配線層と、
前記下層配線層に電気的に接続された複数の中層配線層と、
前記中層配線層に電気的に接続された複数の上層配線層と、
前記下層配線層を電気的に分離し、第1の物理定数を有する複数の第1絶縁層と、
前記上層配線層を電気的に分離し、第1の物理定数と異なる第3の物理定数を有する複数の第3の絶縁層と、
前記中層配線層を電気的に分離し、第1の物理定数と第2の物理定数との中間の物理定数を有する複数の第2の絶縁層と、
を有する半導体装置。
【0057】
(付記15) 前記第3絶縁層は、酸化シリコンで形成されている付記14記載の半導体装置。
(付記16) 前記第1絶縁層は、有機絶縁体又は多孔性酸化シリコンで形成されている付記14または15記載の半導体装置。
【0058】
(付記17) 前記第2絶縁層は、酸化炭化シリコンで形成されている付記14〜16のいずれか1項記載の半導体装置。
【0059】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、多層配線を有する半導体装置の性能を高く維持しつつ、信頼性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施例による多層配線を有する半導体装置の概略断面図である。
【図2】 多層配線の一部の構成を示す概略断面図である。
【図3】 多層配線の一部の構成を示す概略断面図である。
【図4】 多層配線の一部の構成を示す概略断面図である。
【図5】 図1に示す多層配線構造において発生する応力を高さの関数として示すグラフである。
【図6】 複数種類の絶縁積層に配線パターンとビア導電体とを形成した場合の配線パターンとビア間に働く垂直方向の応力差を示すグラフである。
【図7】 種々の絶縁材料の物理定数と誘電率との関係を示すグラフである。
【図8】 従来技術による配線構造の例を示す断面図である。
【符号の説明】
11 Si基板
12 STI
13 MOSトランジスタ
14 酸化シリコン層
15 Cu拡散防止層兼エッチストッパ層
16 導電性プラグないしローカルインタコネクト
21、23、27、 有機絶縁層(SiLK)
15、22、23、25、26、28 SiC層
31、33、37 SiC層
32、34、36、38 SiOC層
41、43、45 SiC層
42、44、46、48 酸化シリコン層
M 配線層
Claims (10)
- 半導体基板と、前記半導体基板に形成された多数の半導体素子と、前記半導体素子に電気的に接続された複数の下層配線層と、前記下層配線層を電気的に分離し、第1の誘電率を有する複数の第1絶縁層と、前記下層配線層に電気的に接続された複数の中層配線層と、前記中層配線層を電気的に分離し、第1の誘電率よりも大きい第2の誘電率を有する複数の第2の絶縁層と、前記中層配線層に電気的に接続された複数の上層配線層と、前記上層配線層を電気的に分離し、第2の誘電率よりも大きい第3の誘電率を有する複数の第3の絶縁層と、を有する半導体装置。
- 前記第3絶縁層は、酸化シリコンで形成されている請求項1記載の半導体装置。
- 前記第1絶縁層は、有機絶縁体又は多孔性酸化シリコンで形成されている請求項1または2記載の半導体装置。
- 前記第2絶縁層は、酸化炭化シリコンで形成されている請求項1〜3のいずれか1項記載の半導体装置。
- 前記下層、中層、上層配線層は銅で形成されている請求項1〜4のいずれか1項記載の半導体装置。
- 前記第1、第2、第3の絶縁層の各々は、複数の構成絶縁層の積層で形成され、前記第1、第2、第3の誘電率は対応する配線層にとって実効的な積層の実効誘電率である請求項1〜5のいずれか1項記載の半導体装置。
- 前記構成絶縁層の積層が窒化シリコン層または炭化シリコン層を含む請求項6記載の半導体装置。
- 前記第1の絶縁層の積層が炭化シリコン層を含み、前記第2の絶縁層の積層が炭化シリコン層または窒化シリコン層を含む請求項7記載の半導体装置。
- 半導体基板と、前記半導体基板に形成された多数の半導体素子と、前記半導体素子に電気的に接続された第1の配線層と、前記第1の配線層を電気的に分離し、第1の誘電率を有する第1絶縁層と、前記第1の配線層に電気的に接続された第2の配線層と、前記第2の配線層を電気的に分離し、前記第1の誘電率を有する第1絶縁層と、前記第2の配線層に電気的に接続された第3の配線層と、前記第3の配線層を電気的に分離し、前記第1の誘電率を有する第1絶縁層と、前記第3の配線層に電気的に接続された第4の配線層と、前記第4の配線層を電気的に分離し、前記第1の誘電率よりも大きい第2の誘電率を有する第4の絶縁層と、前記第4の配線層に電気的に接続された第5の配線層と、前記第5の配線層を電気的に分離し、前記第2の誘電率よりも大きい第3の誘電率を有する第5の絶縁層と、を有し、前記第 1 の配線層、前記第 2 の配線層、前記第 3 の配線層、前記第 4 の配線層、前記第 5 の配線層は順次下方から上方に向かって形成されている半導体装置。
- 半導体基板と、前記半導体基板に形成された多数の半導体素子と、前記半導体素子に電気的に接続された複数の下層配線層と、前記下層配線層に電気的に接続された複数の中層配線層と、前記中層配線層に電気的に接続された複数の上層配線層と、前記下層配線層を電気的に分離し、第1の物理定数を有する複数の第1絶縁層と、前記上層配線層を電気的に分離し、第1の物理定数と異なる第3の物理定数を有する複数の第3の絶縁層と、前記中層配線層を電気的に分離し、第1の物理定数と第2の物理定数との中間の物理定数を有する複数の第2の絶縁層と、を有し、前記物理定数は熱膨張係数、弾性定数、密度、硬度のいずれか 1 つであり、前記物理定数が熱膨張係数の場合は前記第 3 の物理定数が前記第 1 の物理定数より小さく、前記物理定数が弾性定数、密度、硬度のいずれか 1 つである場合は前記第 3 の物理定数が前記第 1 の物理定数より大きい半導体装置。
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