JP4031303B2 - プローブカード及び半導体試験装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体装置あるいはその他の基板に対し通電試験を行う半導体試験装置のプローブカードに関するものである。
【0002】
半導体装置の製造工程中に行われるウェハ試験では、ウェハ基板上に形成された半導体装置の複数のパッドにそれぞれプローブを接触させ、あらかじめ設定されたプログラムに基づいて種々の特性を測定する通電試験が行われる。その通電試験時には、電源電流の増大や高速動作に伴う高周波ノイズが発生し、試験、評価に悪影響を及ぼす。
【0003】
近年の半導体製造技術の進歩により、半導体デバイスは多ピン化・高速化が進んでいる。また、通電試験時の精度向上のニーズも高まっている。このニーズにこたえるものとして、半導体デバイス(被測定デバイス)直近でのノイズ対策が必要となっている。
【0004】
【従来の技術】
従来、ノイズの低減においては、プローブカード基板表面に露出した電源−グランド間(それらのパターン間)に、そのノイズに見合ったコンデンサを半田付けして対処する方法が知られている。
【0005】
また、被測定デバイス直近でのグランド強化を実現したプローブカードがある。図10は、そのプローブカードの要部断面図を示す。プローブカード1は、プローブカード基板2、プローブ3、固定部4を備えている。
【0006】
プローブカード基板2は、絶縁性の材質にて略円板状に形成され、その中央部に開口部5が形成されている。該開口部5の周囲には複数の配線(図示しない)が形成され、その配線は、基板周囲に形成されたランド(図示しない)を介して試験装置に接続可能となっている。また、開口部5近傍には、パッド6が形成されている。パッド6は、試験装置のグランドに接続されている。
【0007】
各プローブ3は、基端が図示しないパターンに半田付けされ、先端が被測定デバイス(図示しない)に接触される。プローブ3は、その長手方向略中央部が、プローブカード基板2に形成されている固定部4によって固定されている。該固定部4の被測定デバイス側の側面には、薄板状の銅板7が取着されている。該銅板7は、一端がプローブカード基板2上面に形成されたパッド6と接続され、他端が被測定デバイスへ延びるプローブ3と接続されている。この銅板7は、プローブ3を被測定デバイスの近傍でグランドの強化を図り、測定精度を向上することができる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、プロービング試験に使用するプローブは基板にノイズ対策のコンデンサを搭載しているため、そのコンデンサからデバイスのパッドまでの距離が長く、ノイズ除去の効果が少ない。
【0009】
近年のテストパッドの狭ピッチ化、多ピン化により、プローブは略上下方向に複数配列されて多層化されている。このようなプローブカードでは、図10に示すグランドの強化では、下層に配置されたグランドプローブに対してグランドを補強するための銅板を取り付けるスペースが確保できないため、銅板によるグランド補強が完全ではない。特に高精度を要求されるデバイスの測定時の電位の悪化、測定不安定の要因となっている。
【0010】
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであって、その目的は、半導体デバイスのプロービング試験時における測定精度を向上させるプローブカード及び半導体試験装置を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明は、複数のプローブが接触されるプレートは、絶縁性物質で形成され、内部に導電性物質で形成された導電層と、複数のプローブのうちの少なくともグランドを被測定デバイスに供給するプローブを導電層と接続する接続部とを備えている。このようにすれば、プロービングの試験時に被測定デバイス直近でグランド強化が行われる。
【0012】
請求項2に記載の発明のように、プレートは、複数のプローブのうちの電源を被測定デバイスに供給するプローブと接続される導電層及び接続部を有している。このようにすれば、プロービングの試験時に被測定デバイス直近で電源強化が行われる。
【0015】
請求項3に記載の発明によれば、半導体試験装置のプローブカードにおいて、被測定デバイス直近でのグランド及び電源強化がなされる。
請求項4及び5に記載の発明によれば、半導体装置の試験方法において、被測定デバイス直近でのグランド及び電源強化がなされ、測定を安定に行える。
【0016】
【発明の実施の形態】
(第一実施形態)
以下、本発明を具体化した第一実施形態を図1〜図6に従って説明する。
【0017】
図1は、半導体試験装置の概略構成図である。
半導体試験装置10は、プローバ装置11と、テストヘッド12と、試験装置(テスタ)13とを備えている。
【0018】
プローバ装置11には、ウェハ基板14を載置するためのステージ15が配設されている。同ステージ15は、モータ等からなるステージ駆動部16により上下方向に移動可能に構成されている。また、プローバ装置11の上方にはテストヘッド12が配設され、該テストヘッド12にはプローブカード20が装着されている。
【0019】
プローブカード20は、プローブカード基板21、プローブ22、プレート23を備えている。プローブカード基板21は絶縁性を備えた材質で略円板状に形成されている。該プローブカード基板21は、略中央部に例えば四角形の開口部24が形成される。該開口部24の周囲には複数のパッド(図示しない)が形成され、その複数のパッドにテストヘッド12から延びる複数の接続ピン25が接触されている。これにより、プローブカード20は、テストヘッド12を介して試験装置13に接続され、プローブカード基板21には、試験装置13からグランド(GND)、電源(VDD)、信号(SIG)が供給されている。
【0020】
プローブカード基板21の下面において、開口部24の周囲には、複数のプローブ22が配設されている。図2に示すように、該プローブ22は、基端部22a,接触部22b,先端部22cからなり、タングステン、BeCu等の材質で形成されている。
【0021】
複数のプローブ22は、基端部22aを外側に配置して開口部24の四辺に沿って放射状に配列され、その基端部22aがプローブカード基板21のパターン(図示しない)に接続されている。各プローブ22は、基端部22aが開口部24の中心部に向かって所定の進入角で斜め下方に延設され、接触部22bが基端部22aと同一方向に沿って延設され、先端部22cが基端部22a及び接触部22bに比べて大きな進入角で下方に向かって延設されている。
【0022】
接触部22bは、上部に平面を有し、例えば断面半月状に形成されている。先端部22cは、その先端に向かって細針状に形成されている。
開口部24下方であってプローブ22上には、プレート23が備えられている。プレート23は、弾性部材よりなる固定部26にてプローブカード基板21の下面に弾性固定されている。また、固定部26は導電性を有し、プローブカード基板21のグランドパターンと接続されている。
【0023】
図3は、プレート23の説明図を示す。尚、一転鎖線はプレート23の外形を示す。
プレート23は、プローブ22の接触部22bが面接触する側面23aを有する逆四角錐台状に形成されている。プレート23は、絶縁性物質(ポリイミド等)で形成され、内部に導電性物質(銅等)で形成された複数(本実施形態では3つ)の導電層27,28,29を有している。各導電層27〜29はプローブカード基板21と平行に延びる四角形平板状に形成されている。各導電層27は、端部がプレート23側面に露出しない大きさに形成されている。
【0024】
プローブカード基板21側の第1の導電層27は、配線P1を介してプレート23上面に形成されたパッドP2と電気的に接続され、該パッドP2には固定部26が接続されている。従って、第1の導電層27はプローブカード基板21のグランドと接続され、グランド層(GND層)として機能する。
【0025】
プレート23の各側面(端面)23aには接続部としての複数の露出部30が形成されている。尚、図3には、2つの露出部30を示す。
各露出部30は、電源とグランドを被測定デバイスに供給するプローブ22と接触する位置に設けられており、各露出部30はプレート23の厚み方向(図2の上下方向)に沿って延び、一端がプレート23側面の下端を、他端がプレート23側面の上端を介し上表面に達している。また、各露出部30は、プローブ22の幅よりも広い幅で形成されている。
【0026】
露出部30は、それに接触するプローブ22に応じて内部の各導電層27〜29と接続部としての配線P3を介して接続されている。今、図3に示す2つの露出部30は、グランドを供給するプローブ22と、電源を供給するプローブ22とそれぞれ接触する。以下、グランドを供給するプローブ22が接触する露出部30を第1露出部30g、電源を供給するプローブ22と接続された露出部30を第2露出部30vとする。第1露出部30gは第1の導電層27と第3の導電層29と接続され、第2露出部30vは第2の導電層28と接続されている。従って、第1及び第3の導電層27,29はグランド電位となり、第2の導電層28は電源電位となる。そして、第1の導電層27は第2の導電層28に対して上方に設けられ、第3の導電層29は第2の導電層28の下方に設けられている。従って、グランド電位の第1及び第3の導電層27,29は、電源電位の第2の導電層28を離間して挟み込むことになる。
【0027】
プレート23の上面には、第1及び第2露出部30g,30vとそれぞれ接続されたパッド31g,31vが設けられ、そのパッド31g,31vには、ノイズ対策部材としてのコンデンサ32が接続されている。このコンデンサ32は、電源−グランド間のノイズに対応して予め設定された容量を持つ。
【0028】
尚、プローブ22のピン数の増大及び狭ピッチ化により、各プローブ22の基端部22aはプローブカード基板21に対し上下方向に階層状に支持され、先端部は図4(a)に示すように直線状に配置される場合、あるいは図4(b)に示すようにプローブ22の突出位置を変化させる場合がある。
【0029】
各プローブ22の先端部が直線状に配置されている場合、図4(a)に示すように、プレート23の端面は平面状に形成され、露出部30又はプレート23表面とプローブ22が接触する。
【0030】
各プローブ22の先端が突出する場合、図4(b)に示すように、プレート23の端面には突出するプローブ22の位置に対し凹部23bが形成されて凹凸面状に形成され、各プローブ22とプレート23との間隔が等距離となるように設定され、露出部30又はプレート23表面とプローブ22が接触する。
【0031】
次に、上記のように構成された半導体試験装置の作用を図5及び図6に従って説明する。
図5(a)は、半導体試験前におけるプローバ装置、図5(b)は、半導体試験時におけるプローバ装置、図6はウェハ基板のパッドを示す。
【0032】
プローバ装置11におけるステージ15(図5においては図示しない)が上方に距離Aだけ移動すると、まず、プローブ22の先端がウェハ基板14におけるパッド33に当接する。さらに、ステージ15が上方に移動するにつれて、プローブ22の先端部22cがウェハ基板14のパッド33に食い込み、かつ、プローブカード基板21の中央部方向にスライドするが、ほどなく接触部22bがプレート23に当接する。これにより、プローブ22のスライドが規制される。
【0033】
このとき、パッド33上でのプローブ22のスライドによりパッド33の表面が削り取られ、図6に示すように凹部Bが形成されるが、プローブ22の接触部22bがプレート23に当接した後は、ウェハ基板14の上方への移動に基づいてプローブ22の針圧Dが確実に増大する(図5参照)。
【0034】
更に、プレート23において、グランド又は電源を供給するプローブ22の接触部22bが、プレート23内部に設けられたグランド電位の第1及び第3の導電層27,29、又は電源電位の第2の導電層28に接続された露出部30と当接する。即ち、グランドを供給する各プローブ22は、その先端近傍にてグランド電位の第1又は第3の導電層27,29と接続される。また、電源を供給する各プローブ22はその先端近傍にて第2の導電層28により互いに接続される。従って、被測定デバイス直近においてグランド及び電源が強化される。
【0035】
更に、第1及び第3の導電層27,29と第2の導電層28との間には、露出部30を介してコンデンサ32が接続され、該コンデンサ32により電源−グランド間のノイズが除去される。
【0036】
以上記述したように、本実施形態によれば以下の効果を奏する。
(1)プローブ22の先端上方に設けられたプレート23は第1〜第3の導電層27〜29を備え、それらはグランド又は電源を供給するプローブ22とその電位に応じてプレート23の側面に形成された露出部30を介して接続されるようにした。グランド又は電源を供給する各プローブ22の先端付近が供給する電位に応じて接続される。その結果、被測定デバイスに供給するグランド及び電源をその直近で強化することができる。
【0037】
(2)露出部30は、プレート23の厚み方向(図2の上下方向)に沿って延びるように形成されている。このようにすれば、プローブ22の露出部30への接触が1点接触から線接触となり、接触面積が拡大されるので被測定デバイス直近でのグランド及び電源が強化される。
【0038】
(3)プローブ22とプレート23との接点は、接点になるプローブ22の接触部22bを平面加工して、該プローブ22の電位に対応するプレート23の露出部30に接触されている。このようにすれば、プローブ22の接触部22bと露出部30との接触面積がさらに拡大されるので、被測定デバイス直近でグランド及び電源が補強される。
【0039】
(4)露出部30は、プレート23の上表面に形成されたコンデンサ32にパッド31g,31vを介して接続されている。このようにすれば、デバイス直近でのノイズ対策が確実に行うことができる。
【0040】
(5)プレート23はその厚み方向(図2の上下方向)に、グランド層として機能する第1,第3の導電層27,29は、電源層として機能する第2の導電層28を挟むように形成されている。このようにすれば、プローブ22が露出部30に接触する時にプレート23内部にてグランド層として機能する第1,第3の導電層27,29及び電源層として機能する第2の導電層28がコンデンサの効果を奏し、ノイズ対策に有効である。
【0041】
(6)プレート23の固定部26は、弾性部材により形成されている。このようにすれば、プローブ22の先端部22cが被測定デバイスと接触した際の衝撃を和らげることができる。
【0042】
(7)プレート23の固定部26は、パッドP2と、プローブカード基板21のグランドパターンとに接続されている。このようにすれば、プレート23の第1の導電層27は、配線P1及びパッドP2を介してプローブカード基板21のグランドパターンと接続され、プロービング試験時におけるグランドが強化される。
【0043】
(8)ウェハ基板14を上方へ持ち上げてパッド33にプローブ22の先端部22cを当接させるとき、プレート23によりプローブ22のスライドを規制することができる。従って、プローブ22とパッド33との接触位置の精度が向上されるので、測定精度を向上させることができる。
【0044】
(9)プローブ22のスライドを規制することができるので、ウェハ基板14の上方への持ち上げ動作に基づいて、針圧Dを確実に増大させることができる。従って、パッド33に対するプローブ22の進入角を増大させることなく、十分な針圧を確保することができる。
【0045】
(10)パッド33表面上でのプローブ22のスライドを抑制することができるので、プローブ22によるパッド33表面の削り取り量を削減することができる。従って、プローブ22への削り屑の付着を削減して、プローブ22とパッド33との接触不良の発生を抑制することができる。
【0046】
尚、前記実施形態は、以下の態様に変更してもよい。
・上記実施形態では、コンデンサ32をプレート23上面に形成したパッド31g,31vに接続したが、プレート23の内部に備える構成としてもよい。
【0047】
・上記実施形態では、プローブ22の接触部22bは、プロービング試験時にプローブ22の先端部22cがスライドされることによって、プレート23の露出部30(又は側面23a)に当接されるが、予めプローブ22の接触部22bを露出部30(又は側面23a)に接触させておいてもよい。
【0048】
・上記実施形態では、プローブ22の基端部22aは、円柱状に形成されているが、平面加工により、平面状に形成してもよい。このようにすれば、接触面積が拡大されるので、さらにグランド、電源、信号が強化される。
【0049】
・上記実施形態のプレート23には、グランドと接続される第1及び第3導電層27,29と、電源と接続される第2の導電層28を備えたが、導電層の数を適宜変更しても良い。即ち、第1及び第3の導電層27〜29のうちの少なくとも1層を備える、又は導電層を4層以上備えて実施しても良く、プレートに設けた導電層に接続されるプローブにおけるグランド又は電源を強化することができる。
【0050】
(第二実施形態)
以下、本発明を具体化した第二実施形態を図7〜図9に従って説明する。
尚、説明の便宜上、第一実施形態と同様の構成については同一の符号を付してその説明を一部省略する。
【0051】
図7は、第二実施形態のプローブカードの要部断面図である。
プローブカード40は、プローブカード基板21を備えている。プローブカード基板21は絶縁性を備えた材質で略円板状に形成されている。該プローブカード基板21において、略中央部に四角形状で形成される開口部24の周囲には、複数のパッド(図示しない)が形成される。その複数のパッドにテストヘッド12から延びる複数の接続ピン25が接触されている。これにより、プローブカード40はテストヘッド12を介して試験装置13に接続され、プローブカード基板21には、試験装置13からのグランド(GND)、電源(VDD)、各種信号が供給されている。
【0052】
プローブカード基板21の下面には、プローブ41を固定するためのプレート42が取着されている。プローブカード基板21の下面において、開口部24の周囲には、複数のプローブ41が配設され、プレート42はそれらプローブ41を固定するために開口部24を囲むように環状に形成されている。
【0053】
先ず、プローブ41を詳述する。
プローブ41は、信号の入出力のための第1のプローブ41s、グランドを供給する第2のプローブ41g,電源を供給する第3のプローブ41vからなり、タングステン、BeCu等の材質で形成されている。各プローブ41s,41g,41vは、被測定デバイスのパッドの数に応じてそれぞれ複数設けられている。
【0054】
図8は、第1のプローブ41sを示す。プローブ41sは、基端部46s、接触部47s、先端部48sから形成されている。基端部46sは、四角形平板状に形成され、プローブカード基板21のシグナルパターン(図示しない)に接続されている。第1のプローブ41sは、基端部46sが外側に配置され、開口部24の中心部に向かって所定の角度で斜め下方に延設され、延設方向略中央部には接触部47sがプローブカード基板21と平行になるように延設され、先端部48sが基端部46sと同一方向に沿って延設されている。先端部48sは、途中から基端部46sに比べて大きな進入角で下方に向かって屈曲されている。接触部47sは、平面板状に形成され、例えば四角形平板状に形成されている。先端部48sは、その先端に向かって細針状に形成されている。
【0055】
図9は第2及び第3のプローブ41g,41vを示す。プローブ41g,41vは、接触部47g,47v、先端部48g,48vから形成されている。尚、プローブ41g,41vは、その接触部47g,47vがプローブ41sの接触部47s、先端部48g,48vがプローブ41sの先端部48sと同一形状で形成されている。
【0056】
次に、プレート42を詳述する。
プレート42は、絶縁性物質(ポリイミド等)で形成され、内部に導電性物質(銅等)で形成された複数(本実施形態では6つ)の導電層43a〜43fを有している。各第1〜第6の導電層43a〜43fはプローブカード基板21と平行に延びる四角形平板状に形成され、端部がプレート42側面に露出しない大きさに形成されている。このように、プレート42内部には、プローブカード基板21と平行に延びる導電層43a〜43f(プローブカード基板21側から順に第1〜第6の導電層とする)が形成されている。
【0057】
第1〜第4の導電層43a〜43dは、導電性を有する複数(本実施形態では2つ)の接続部44aを介してプローブカード基板21に形成されたグランドパターンPgと電気的に接続され、グランド電位となるグランド層として機能している。第5,第6の導電層43e,43fは、接続部44bを介してプローブカード基板21に形成された電源パターンPvと電気的に接続され、電源電位となる電源層として機能している。尚、接続部44bも接続部44aと同様に複数形成してもよい。
【0058】
各種信号を供給する第1のプローブ41sは、その接触部47sが絶縁層(プレート42を構成する絶縁性を備えた材質)を介して第1及び第2の導電層43a,43b、又は第3及び第4の導電層43c,43d(図において第3及び第4の導電層43c,43d)により狭持されている。グランドを供給する第2のプローブ41gは、その接触部47gが第1,第2の導電層43a,43b、又は第3及び第4の導電層43c,43d(図において第1及び第2の導電層43a,43b)により狭持されている。電源を供給する第3のプローブ41vは、その接触部47vが第5,第6の導電層43e,43fにより狭持されている。従って、第2のプローブ41gはグランド電位となり、第3のプローブ41vは電源電位となる。そして、第1のプローブ41sは、接触部47sがグランド電位の第3及び第4の導電層43c,43d(又は第1及び第2の導電層43a,43b)により挟み込まれているため、ノイズの影響を受けにくい。
【0059】
上記のように構成されたプローブカードでは、次に示す作用効果を奏する。
(1)第1のプローブ41sの接触部47s及びプローブ41g,41vの接触部47g,47vは、階層化された第1〜第6の導電層43a〜43fに狭持されている。従って、プローブ41が密集し階層化しても、下層まで確実にグランドと電源がそれぞれ強化される。
【0060】
(2)第1プローブ41sの接触部47sは、グランドの機能をもつ第3,第4の導電層43c,43dに絶縁性物質を介して挟持されている。従って、クロストークノイズ等の外的干渉を防止することができる。
【0061】
(3)プローブ41g,41vは、四角形平板状に形成された接触部47g,47vが直接、プレート42に固定され、プローブ41sのように、プレート42内からプローブカード基板21の外周に延びる部分が構成されていない。従って、プローブカード40の軽量化がなされ、コストの低減にも寄与することができる。
【0062】
(4)プローブ41sは、基端部46sが四角形平板状に形成され、プローブカード基板21の各種信号パターンに接続されている。従って、プローブカード基板21のパターンとの接触面積が従来と比べ拡大されるので、各種信号が強化されている。
【0063】
尚、前記実施形態は、以下の態様に変更してもよい。
・上記第二実施形態において、第2及び第3のプローブ41g,41vの少なくとも一方の接触部47g,47vを、第1のプローブ41sと同様に基端部を設け、それらを直接、プローブカード基板21のグランド、電源パターンに接続してもよい。このようにすれば、さらにグランド、電源が強化される。
【0064】
・上記第二実施形態では、プローブ41s,41g,41vの四角形平板状に形成された接触部47s,47g,47vにおいて電位が強化されていたが、上記構成に加え第一実施形態のプレート23を備えたプローブカードに具体化してもよい。このようにすれば、さらにプロービング試験時の電位が強化され、測定精度を向上することができる。
【0065】
・上記第二実施形態において、グランド及び電源電位に対応する導電層43a〜43fに対してプレート42の厚さ方向(図7の上下方向)上下に、絶縁層を介して異なる電位の導電層を設けてもよい。このようにすれば、異なる電位の導電層間でコンデンサの効果を奏することができ、測定精度を向上することができる。
【0066】
以上の様々な実施の形態をまとめると、以下のようになる。
(付記1) プローブカード基板にグランド及び電源、信号が供給されるパターンと、該グランド及び電源、信号を被測定デバイスに伝達する複数のプローブとを設けたプローブカードであって、
前記複数のプローブの先端上方に配置され、固定部により前記プローブカード基板と接続され、各プローブが接触されるプレートを備え、
該プレートは絶縁性物質で形成され、内部に導電性物質で形成された導電層と、前記複数のプローブのうちの少なくともグランドを前記被測定デバイスに供給するプローブを前記導電層と接続する接続部とを備えたこと
を特徴とするプローブカード。
(付記2) 前記プレートは、前記複数のプローブのうちの電源を前記被測定デバイスに供給するプローブと接続される導電層及び接続部を有していることを特徴とする付記1記載のプローブカード。
(付記3) 前記接続部は、前記プレートの側面に設けられた露出部と、該露出部と前記導電層とを接続するパターンとから構成されることを特徴とする付記2記載のプローブカード。
(付記4) 前記露出部は、前記プレート側面の上端から下端にまで延びるように形成されてなり、前記プレートは側面が前記プローブと接触する形状にて形成されていることを特徴とする付記3記載のプローブカード。
(付記5) 前記固定部は、弾性部材により形成されていることを特徴とする付記1に記載のプローブカード。
(付記6) 前記固定部は、前記導電層と、前記プローブカード基板に形成されたグランドパターンとに接続されていることを特徴とする付記2又は3に記載のプローブカード。
(付記7) 前記プローブは、前記接続部と面接触する接触部を有していることを特徴とする付記1〜4のうちのいずれか1つに記載のプローブカード。
(付記8) プローブカード基板にグランド及び電源、信号が供給されるパターンと、グランド及び電源、信号を被測定デバイスに伝達する複数のプローブを設けたプローブカードであって、
前記プローブを保持するプレートを備え、
前記プレートは、前記グランドが供給されるパターンと接続された導電層と、電源が供給されるパターンと接続された導電層とのうちの少なくとも一方を有し、
前記グランド又は電源を前記被測定デバイスに供給するプローブは、前記導電層と接触する接触部を有していることを特徴とするプローブカード。
(付記9) 前記プレートには一つの電位に対して複数の前記導電層が設けられ、一つの電位に対応するプローブは、対応する電位の複数の前記導電層に狭持され、他の電位に対応するプローブは絶縁層を介して前記複数の導電層に狭持されることを特徴とする付記6又は7に記載のプローブカード。
(付記10) 前記プローブは、前記プローブカード基板のパターンに接続される基端部が平面加工され接続されていることを特徴とする付記8又は9記載のプローブカード。
(付記11) 付記1〜10のうちの何れか1つに記載のプローブカードを備えた半導体試験装置。
【0067】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば、半導体デバイスのプロービング試験時における測定精度を向上させるプローブカード及び半導体試験装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 第一実施形態の半導体試験装置の概略構成図である。
【図2】 第一実施形態のプローブの斜視図である。
【図3】 第一実施形態のプレートの説明図である。
【図4】 第一実施形態のプローブの説明図である。
【図5】 第一実施形態のプローブカードの説明図である。
【図6】 パッドに形成される凹部を示す説明図である。
【図7】 第二実施形態のプローブカードの要部断面図である。
【図8】 第二実施形態のプローブの斜視図である。
【図9】 第二実施形態のプローブの斜視図である。
【図10】 従来のプローブカードの一部断面図である。
【符号の説明】
20,40 プローブカード
21 プローブカード基板
22,41 プローブ
23 プレート
26 固定部
27〜29 第1〜第3の導電層
30 露出部
42 プレート
43a〜43f 第1〜第6の導電層
47s,47g,47v 接触部
P3 配線
Claims (5)
- プローブカード基板と、
前記プローブカード基板に設けられ、グランドを被測定デバイスに伝達する第1プローブと、
前記第1プローブの先端上方にとは乖離して、前記プローブカード基板に設けられたプレートを備え、
該プレートは、
第1導電層及びと第2導電層と、
前記第1導電層と前記第2導電層との間に設けられた絶縁層と、
前記第1プローブと対向する位置に設けられ、前記第1導電層に接続された接続部と
を備えたことを特徴とするプローブカード。 - 前記プローブカードはさらに、電源を前期被測定デバイスに伝達する第2プローブを有し、
前記プレートは、前記第2のプローブとは乖離し、前記第2プローブと対向する位置に設けられ、前記第2導電層に接続された第2接続部をさらに有していることを特徴とする請求項1記載のプローブカード。 - 請求項1又は2に記載のプローブカードを備えた半導体試験装置。
- 被測定デバイスにプローブを接触させて、通電試験する半導体装置の試験方法であって、
請求項1に記載のプローブカードを用い、前記第1プローブを被測定デバイスに接触させ、前記第1プローブを前記接続部に接触させて通電試験することを特徴とする半導体装置の試験方法。 - 被測定デバイスにプローブを接触させて、通電試験する半導体装置の試験方法であって、
請求項2に記載のプローブカードを用い、前記第1プローブ及び第2プローブを被測定デバイスにそれぞれ接触させ、前記第1プローブ及び第2プローブを前記接続部及び第2接続部に接触させて通電試験することを特徴とする半導体装置の試験方法。
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