JP4030509B2 - 真空処理方法及び真空処理装置 - Google Patents
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Description
1)2つ以上の処理室を処理経路として使って運転中に、処理室の内どれかが故障等で使用できなくなった場合でも運転続行でき、又、
2)修復する必要のあるプロセス処理装置がある場合は、正常な処理室のみを処理経路として使って運転でき、又
3)運転中に運転の一時中断、及び中断状態からの再開運転、及び運転中に運転を一時中断させ、中断させる迄にその運転の処理経路に使っていなかった処理室を処理経路として使った割り込み処理を実行し、その割り込み処理が終了した後は一時中断させていた処理を続行させる運転ができ、又
4)2つ以上の処理室を処理経路として使って運転中に、その運転の処理経路に使用していない処理室の機器に対する操作指示ができ、またその運転の処理経路に使用していない処理室の機器に対して操作指示をする場合や、通常の操作指示をする操作部と離れた場所にある操作部で行う場合、操作上の安全性確保できるようにすることにより、装置の稼働率を向上できる真空処理装置を提供することにある。
同一のプロセス処理条件(以下では、プロセス処理条件をレシピと称する)で処理するウエハが収納されたカセット内の最下段もしくは最上段のウエハから順番にカセットから抜き出し搬送処理装置に搬入しプロセス処理をするものである。ウエハは、プロセス処理装置2ー2でエッチング処理した後プロセス処理装置2ー1で後処理をして元のカセットに戻す経路(この経路Aという)と、プロセス処理装置2ー3でエッチング処理した後プロセス処理装置2ー4で後処理をして元のカセットに戻す経路(この経路Bという)の両方を使って処理する。
経路A:カセットC1→プロセス処理装置2ー2→プロセス処理装置2ー1→カ セットC1
経路B:カセットC1→プロセス処理装置2ー3→プロセス処理装置2ー4→カ セットC1
の組み合わせとしたが、
経路C:カセットC1→プロセス処理装置2ー2→プロセス処理装置2ー4→カ セットC1
経路D:カセットC1→プロセス処理装置2ー3→プロセス処理装置2ー1→カ セットC1
の組み合わせであっても良い。
(2カセットを1ロットとして運転している場合は、指定した方のカセットか らのウエハ取り出しを中止する。)
イ)カセット供給停止:現在処理中のカセット内のウエハを全て処理終了した後、 その処理終了迄に設置されてあったカセットの処理を中止する。
(2カセットを1ロットとして運転している場合は、指定した方のカセット内のウエハを全て処理終了した後、その時迄に設置されてあったカセットの処理を中 止する。)
ウ)サイクル停止:現在実行中のプロセス処理、排気、リーク、搬送等の動作終了 後その場で停止する。
エ)処理室一時停止:指定処理室について、現在処理中のプロセス処理終了後停止 する。この場合は、運転の再開操作により一時停止した状態から運転を再開す ることができる。またその処理室のみ手動操作は可能である。
同一のプロセス処理条件(レシピ)で処理するウエハが収納されたカセット内の最下段もしくは最上段のウエハから順番にカセットから抜き出し搬送処理装置に搬入しプロセス処理をするものである。
前記の「1カセット1レシピ並列運転」の場合は、同一カセットから順次ウエハを抜き出し搬送処理装置に搬入しプロセス処理を実施し、そのカセットのウエハを全て終了した後次のカセットのウエハの処理に移ったが、本「2カセット1レシピ並列運転」では、カセットC1とカセットC2から交互にウエハを抜き出し搬送処理装置に搬入しプロセス処理を実施する。ウエハの処理経路は前記の「1カセット1レシピ並列運転」の場合と同様に、プロセス処理装置2ー2でエッチング処理した後プロセス処理装置2ー1で後処理をして元のカセットに戻す経路(この経路Aという)と、プロセス処理装置2ー3でエッチング処理した後プロセス処理装置2ー4で後処理をして元のカセットに戻す経路(この経路Bという)の両方を使って処理する。
この運転では、C1カセットとC2カセットとのウエハ処理レシピが異なる事以外は前記「2カセット1レシピ並列運転」と同じある。
この運転では、同一のプロセス処理条件(レシピ)で処理するウエハが収納されたカセット内の最下段もしくは最上段のウエハから順番にカセットから抜き出し搬送処理装置に搬入しプロセス処理をすることは前記「1カセット1レシピ並列運転」の場合と同じである。ところがウエハの処理経路は前記「1カセット1レシピ並列運転」の場合と異なる。本「1カセット1レシピ直列運転」では、ウエハはプロセス処理装置2ー2(もしくはプロセス処理装置2ー3)でエッチング処理した後、更にプロセス処理装置2ー3(もしくはプロセス処理装置2ー2)でエッチング処理した後、プロセス処理装置2ー1(もしくはプロセス処理装置2ー4)で後処理をして元のカセットに戻す経路(この経路Eという)で処理する。
1)1カセット1レシピ並列運転
同一のプロセス処理条件(レシピ)で処理するウエハが収納されたカセット内の最下段もしくは最上段のウエハから順番にカセットから抜き出しプロセス処理装置に搬入しプロセス処理をするものである。ウエハは、プロセス処理装置2ー2でエッチング処理した後プロセス処理装置2ー1で後処理をして元のカセットに戻す経路(この経路Aという)と、プロセス処理装置2ー3でエッチング処理した後プロセス処理装置2ー4で後処理をして元のカセットに戻す経路(この経路Bという)の両方を使って処理する。
経路A:ロードロック室内カセット→プロセス処理装置2ー2→プロセス処理装置 2ー1→アンロードロック室内カセット
経路B:ロードロック室内カセット→ プロセス処理装置2ー3→プロセス処理装 置2ー4→アンロードロック室内カセット
又は、
経路C:ロードロック室内カセット→プロセス処理装置2ー2→プロセス処理装置 2ー4→アンロードロック室内カセット
経路D:ロードロック室内カセット→プロセス処理装置2ー3→プロセス処理装置 2ー1→アンロードロック室内カセット
の組み合わせであっても良い。また上記処理順序では処理したウエハはアンロードロック室内カセットに戻したがウエハを取り出したロードロック室内カセットに戻すこともできる。
同一のプロセス処理条件(以下では、プロセス処理条件をレシピと称する)で処理するウエハが収納されたカセット内の最下段もしくは最上段のウエハから順番にカセットから抜き出しプロセス処理装置に搬入しプロセス処理をするものである。
この運転では、ロードロック室内のカセットとアンロードロック室内のカセットとのウエハ処理レシピが異なる事以外は前記「2カセット1レシピ並列運転」と同じある。
この運転では、同一のプロセス処理条件(以下では、プロセス処理条件をレシピと称する)で処理するウエハが収納されたカセット内の最下段もしくは最上段のウエハから順番にカセットから抜き出しプロセス処理装置に搬入しプロセス処理をすることは前記「1カセット1レシピ並列運転」の場合と同じである。ところがウエハの処理経路は前記「1カセット1レシピ並列運転」の場合と異なる。本「1カセット1レシピ直列運転」では、ウエハはプロセス処理装置2ー2(もしくはプロセス処理装置2ー3)でエッチング処理した後、更にプロセス処理装置2ー3(もしくはプロセス処理装置2ー2)でエッチング処理した後、プロセス処理装置2ー1(もしくはプロセス処理装置2ー4)で後処理をして元のカセットに戻す経路(この経路Eという)で処理する。
1)プロセス処理装置の装置電源の遮断信号を用いる
2)プロセス処理装置の使用の有効/無効を設定する運転切り替え信号(例えば、切り替えスイッチ)を用いる
3)プロセス処理装置の使用の有効/無効を示す運転制御信号として、オペレータが設定入力した入力情報を用いる
ことができる。
1)プロセス処理装置の装置電源の遮断信号を用いる場合は、該プロセス処理装置の装置電源供給用電磁開閉器をOFFする。これにより、遮断信号が発生し、運転情報信号記憶手段17に伝えられ、図4に記載された情報として記憶される。
「2カセット2レシピ並列」、「1カセット1レシピ直列」のいずれかを選択
2)ウエハの搬送経路を設定する。
2ー1)パラレル処理の場合:
C1:E1→A1、C1:E2→A2
C2:E1→A1、C2:E2→A2
E1:プロセス処理装置2ー2、E2:プロセス処理装置2ー3
A1:プロセス処理装置2ー1、A2:プロセス処理装置2ー4
2ー2)シリーズ処理の場合:
C1:E1→E2→A1
C2:E2→E1→A2
3)プロセス処理室毎にプロセス処理条件(プロセスレシピともいう)を設定する。
C1:E1→A1及びE2→A2
C2:E1→A1及びE2→A2にて運転し、E2では(N)枚目のウエハがエッチング処理中でA1では(Nー1)枚目のウエハが後処理中の時に図Bに示すようにE2で異常が発生すると、エッチング処理は終了しA1の(Nー1)枚目のウエハは後処理終了後、アンロードロック室4に搬出しないで自動運転を一時中断する。E2で異常の発生した(N)枚目ウエハについては図7の76と78の処置を行う。その後E2とA2については図7の80の運転情報信号発生手段による切替操作として図6の説明で説明した1)または2)または3)の操作を行い、図4で示したようにプロセス処理装置3(E2)、プロセス処理装置4(A2)の運転情報を「無効:0」とする。この後異常発生情報をリセット(図7の80)し、自動運転を再開する。再開後は図CのようにA2の(Nー1)枚目のウエハはアンロードロック室4に搬送され、以降はE1とA1とを使って処理を続行する。
運転モードでウエハの搬送経路が
C1:E1→A1及びE2→A2
C2:E1→A1及びE2→A2にて運転できる。
C1:E1→A1及びE2→A2
C2:E1→A1及びE2→A2にて運転し、E2では(N)枚目のウエハがエッチング処理中でA1では(Nー1)枚目のウエハが後処理中の時に図Aに示すようにE2とA2に運転停止操作により停止指示が出されると、A1の(Nー1)枚目のウエハは後処理終了後、元のカセットに戻され、(N)枚目のウエハのエッチング処理が終了しA2に搬送され後処理終了後元のカセットに戻される。ところで、E2とA2は運転停止状態となっている為(N+1)枚目以降のウエハは、E1とA1とを使って運転が続行される。
C1:E1→A1及びE2→A2
C2:E1→A1及びE2→A2にて運転し、E2ではC1カセットの(N)枚目のウエハがエッチング処理中で、A1ではC1カセットの(Nー1)枚目のウエハが後処理中の時に図Aに示すようにE2とA2を使った割り込み特急処理を行う為に自動運転の中断操作を行う。E2とA2に運転停止操作により停止指示が出されると、A1の(Nー1)枚目のウエハは後処理終了後、元のカセットに戻され、(N)枚目のウエハはエッチング処理が終了しA2に搬送され後処理終了後元のカセットに戻される。ところで、E2とA2は運転停止状態となっている為(N+1)枚目以降のウエハは、E1とA1とを使って運転が続行される(図C)。E1とA1とを使った運転中に、E2とA2とを使った割り込み特急処理のカセットがC2(7ー2)に置かれ割り込み処理の起動運転が掛かけられる(図C)とその時迄にC1(7−1)カセットから抜き出されたウエハが全て処理されC1カセットに搬入後、C1カセット内ウエハのE1とA1とを使った運転は一時中断状態となり、割り込み特急処理用のカセットC2内ウエハの処理が開始される(図D)。C2カセットのウエハについては順次E2 → A2の処理を行いC2カセットに搬入する。パイロットカセットの処理が終了すると割り込み処理終了と一時中断状態の運転の再開設定を行い、中断していたC1(7−1)カセットからウエハの処理が再開する(図Cの状態に戻る)。次に図Cに戻った状態で運転中に自動運転の中断操作を行い、運転モードの処理経路から切り離したE2とA2とを有効と設定することで図Aに移行することができ、運転モードでウエハの搬送経路が
C1:E1→A1及びE2→A2
C2:E1→A1及びE2→A2にて運転できる。
Claims (6)
- ウェハを真空処理する複数の真空処理室と、該各真空処理室にウェハを搬入出する真空搬送手段と、前記各真空処理室へウェハを搬入出するための大気雰囲気もしくは真空雰囲気に切り替え可能な室と、ウェハを収納できる複数のカセットを載置し得るカセット載置手段と、該カセット載置手段上の任意のカセット内からウェハを抜き取れるように構成された搬送手段と、前記任意のカセット内のウェハを前記搬送手段及び前記切り替え可能な室並びに前記真空搬送手段を介して各真空処理室に搬入し、前記各真空処理室で真空処理された処理済ウェハを搬出するための搬送制御を行う制御手段とで構成された真空処理装置において、
前記カセット載置手段は、予め搬送順序が設定されたウェハを収納する自動運転用カセットと割り込みで処理されるウェハを収納する割り込み用カセットとを載置し得る手段であって、
前記制御手段は、前記予め搬送順序が設定されたウェハ処理を前記複数の真空処理室の一方を用いて行う自動運転途中に、前記予め搬送順序が設定されたウェハ処理条件とは異なるウェハ処理条件でウェハの処理を行う他の運転を他方の真空処理室を用いて割り込ませ、該他方の真空処理室で割り込み用カセット内のウェハ処理を行うことを特徴とする真空処理装置。 - 複数の真空処理室へウェハを搬入出するための大気雰囲気もしくは真空雰囲気に切り替え可能な室と、
自動運転で処理されるウェハを収納する自動運転用カセットと割り込みで処理されるウェハを収納する割り込み用カセットとを載置し得るカセット載置手段と、
前記カセット載置手段に載置される任意のカセット内のウェハを抜き取り前記切り替え可能な室へ搬入出する搬送手段と、
前記自動運転用カセット内のウェハ処理の自動運転を前記複数の真空処理室の一方を用いて開始する手段と、
前記自動運転途中で処理条件の異なる他の運転を他方の真空処理室を用いて割り込ませる手段と、
制御手段とを具備し、
前記制御手段は、前記複数の真空処理室の一方を用いて行うウェハ処理の自動運転途中に、前記他の運転を他方の真空処理室を用いて割り込ませた後も前記自動運転用カセット内に収納されているウェハの搬送を続行し、前記割り込み用カセットが載置され前記割り込み用カセットに収納されているウェハの処理の起動運転が掛けられた後に、前記他方の真空処理室を用いて割り込み用カセット内のウェハの搬送を開始するように前記搬送手段を制御することを特徴とする真空処理装置。 - 請求項1又は請求項2のいずれかに記載の真空処理装置において、
前記真空処理室で割り込み用カセット内のウェハ処理終了後、前記自動運転を再開してウェハ処理を継続することを特徴とする真空処理装置。 - ウェハを真空処理する複数の真空処理室と、該各真空処理室にウェハを搬搬入出する真空搬送手段と、前記各真空処理室へウェハを搬入出するための大気雰囲気もしくは真空雰囲気に切り替え可能な室と、ウェハを収納できる複数のカセットを載置し得るカセット載置手段と、該カセット載置手段上の任意のカセット内からウェハを抜き取れるように構成された搬送手段とを備え、前記任意のカセット内のウェハを前記搬送手段及び前記切り替え可能な室並びに前記真空搬送手段を介して真空処理室に搬入し、前記各真空処理室で真空処理された処理済ウェハを搬出するための搬送制御を行う制御手段とで構成された真空処理装置を用いてウェハの真空処理を行う真空処理方法において、
前記カセット載置手段に、予め搬送順序が設定されたウェハを収納する自動運転用カセットと割り込みで処理されるウェハを収納する割り込み用カセットとを載置し、
前記予め搬送順序が設定されたウェハ処理を前記複数の真空処理室の一方を用いて行う自動運転途中に、前記予め搬送順序が設定されたウェハ処理条件とは異なるウェハ処理条件でウェハの処理を行う他の運転を他方の真空処理室を用いて割り込ませ、該他方の真空処理室で割り込み用カセット内のウェハ処理を行うことを特徴とする真空処理方法。 - カセット載置手段に載置される任意のカセット内からウェハを抜き取り、大気雰囲気もしくは真空雰囲気に切り替え可能な室を経由して複数の真空処理室に搬送し、ウェハの真空処理を行う真空処理方法において、
前記カセット載置手段に載置される少なくとも1つの自動運転用カセット内のウェハの自動運転を前記複数の真空処理室の一方を用いて開始する工程と、
前記自動運転の途中で処理条件の異なる他の運転を他方の真空処理室を用いて割り込ませる工程と、
前記複数の真空処理室の一方を用いて行うウェハ処理の自動運転途中に、他の運転を他方の真空処理室を用いて割り込ませる工程の後も前記自動運転用カセット内に収納されているウェハを搬送する工程と、
前記自動運転の途中に割り込んで処理するために載置された割り込み用カセット内のウェハの処理を開始する工程と、
前記割り込み処理を開始する工程の後に他方の真空処理室へ前記割り込み用カセット内のウェハの搬送を開始する工程とを具備したことを特徴とする真空処理方法。 - 請求項4又は請求項5のいずれかに記載の真空処理方法において、
前記真空処理室で割り込み用カセット内のウェハ処理終了後、前記自動運転を再開してウェハ処理を継続することを特徴とする真空処理方法。
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