JP4025414B2 - Spin processing equipment - Google Patents

Spin processing equipment Download PDF

Info

Publication number
JP4025414B2
JP4025414B2 JP8349198A JP8349198A JP4025414B2 JP 4025414 B2 JP4025414 B2 JP 4025414B2 JP 8349198 A JP8349198 A JP 8349198A JP 8349198 A JP8349198 A JP 8349198A JP 4025414 B2 JP4025414 B2 JP 4025414B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cup
space
exhaust
substrate
space portion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP8349198A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH11276971A (en
Inventor
直樹 輪島
暁 原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shibaura Mechatronics Corp
Original Assignee
Shibaura Mechatronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shibaura Mechatronics Corp filed Critical Shibaura Mechatronics Corp
Priority to JP8349198A priority Critical patent/JP4025414B2/en
Publication of JPH11276971A publication Critical patent/JPH11276971A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4025414B2 publication Critical patent/JP4025414B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は回転テーブルによって基板を回転させて処理するスピン処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
たとえば液晶表示装置の製造過程においては、ワークとしてのガラス製の基板に回路パターンを形成するための成膜プロセスやフォトプロセスがある。これらのプロセスでは、上記基板の処理と洗浄とが繰り返し行われる。洗浄された基板を乾燥させたり、基板にレジストを均一に塗布するためには、上記基板を回転テーブルに保持し、この回転テーブルとともに回転させ、それによって生じる遠心力を利用する、スピン処理装置が用いられている。
【0003】
一般に、スピン処理装置はカップを有する。このカップは上面が開放したお椀状に形成され、その底部中心部分には通孔が形成されている。
上記カップの底部に形成された通孔からそのカップの内部へはモータの駆動軸が挿通されている。この駆動軸の上端には十字状の回転テーブルが取付けられている。この回転テーブルの上面には支持ピンおよびガイドピンが設けられ、上記支持ピンには回転テーブルの上面に供給される、矩形状のガラス基板の下面四隅部が支持され、上記ガイドピンは上記ガラス基板の四隅部の外周面に係合してそのガラス基板が回転テーブル上で動くのを阻止している。
【0004】
上記カップの底部には周方向に所定間隔で複数の排気口が形成され、各排気口には図示しない吸引ポンプに連通した排気管が接続されている。
このような構成のスピン処理装置によれば、上記ガラス基板をたとえば乾燥処理する場合、上記モータに通電し、その駆動軸に取付けられた回転テーブルを回転させる。
【0005】
回転テーブルを回転させて遠心力を発生させれば、その遠心力によってガラス基板の上面に付着した洗浄液が飛散するから、そのガラス基板を乾燥処理することができる。
【0006】
ところで、回転テーブルを回転させると、その回転によって遠心力が発生するだけでなく、カップ内には回転テーブルの回転にともない空気の流れが生じることが避けられない。その空気流はカップ内の径方向周辺部からその底部に設けられた排気口へ向かう円滑な流れだけでなく、カップの径方向内方で、上記回転テーブルの下面側において渦を巻く乱気流も発生する。
【0007】
このような乱気流が発生すると、その気流によってガラス基板からカップの内底部に滴下する洗浄液が巻き込まれ、ミストとなって上記ガラス基板の下面に付着することがある。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
このように、従来のスピン処理装置においては、回転テーブルの下面側において乱気流が発生すると、その乱気流によって上記回転テーブルに保持された基板の下面にミストが付着し、基板が汚染されるということがあった。
【0009】
この発明は、回転テーブルを回転させることで、この回転テーブルの下面側に乱気流が発生しても、その乱気流で基板の下面をミストなどによって汚染するのを防止できるようにしたスピン処理装置を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために請求項1の発明は、基板を回転させることで、この基板に所定の処理を行うスピン処理装置において、
カップと、
このカップの底部中心部に形成された通孔から内部へ挿通された回転駆動される駆動体と、
この駆動体に連結されて回転されるとともに上面に上記基板が保持される回転テ−ブルと、
この回転テーブルの下面側に設けられ周壁が上記カップの中心部から径方向外方に向かって低く傾斜した第1の傾斜面に形成された上記通孔を覆うカバーと、
上記カップの内底部に設けられこのカップ内部を上記回転テーブルの下面側で、かつ上記カップの内底部付近の第1の空間部およびそれ以外の第2の空間部とに隔別するとともに上面が上記カップの径方向中心部に向かって低く傾斜し先端が上記第1の傾斜面に間隔を介して対向する第2の傾斜面に形成された仕切り体と、
上記カップの底部に上記第1の空間部と第2の空間部との両方にまたがって開口形成された排気口を有し、連通して設けられ上記回転テーブルの回転によって発生する空気流を排出する排出手段とを具備し、
上記排出手段は、上記排気口に接続された排気管を有し、この排気管内には上記第1の空間部あるいは第2の空間部に連通する制御管が収納され、この制御管には上記各空間部からの排気量を調整する制御弁が設けられていることを特徴とする。
【0012】
請求項1の発明によれば、カップ内を第1の空間部と第2の空間部とに隔別する仕切り体の上面をカップの径方向中心部に向かって低く傾斜した第2の傾斜面に形成したことで、カップ内の回転テーブルの下面側に滴下する洗浄液を上記仕切り体の第2の傾斜面に沿って円滑に流すことができるから、その洗浄液が回転テーブルの下面側で発生する乱気流に巻き込まれてミストとなり、基板の下面に付着するのを防止することができ、また第1の空間部と第2の空間部とは、これらの両方に排気手段が連通して設けられているから、各空間部で発生するミストが確実に排出されるばかりか、2つの空間部を同時に排気できるため、別々に排気する場合に比べて構成を簡略化することができる。
【0013】
しかも、第1の空間部と第2の空間部とに連通する排気管に、どちらか一方の空間部に連通する制御管を設け、その制御管に排気量を調整する制御弁を設けることで排気手段を構成したから、第1の空間部と第2の空間部とからの排気量を最適な割合になるよう調整することができる。
【0014】
【実施の形態】
以下、この発明の一実施の形態を図1と図2を参照して説明する。図1に示すスピン処理装置は、たとえば液晶表示装置のガラス製の基板1を乾燥処理するためのもので、その装置はベースB上に配置されたカップ2を備えている。このカップ2は下カップ2aおよびこの下カップ2aの上端に連結された上カップ2bによって上面が開放したお椀状に形成されている。
【0015】
上記下カップ2aの底壁中心部には通孔3が形成されている。この通孔3には、モータ4の回転軸5に連結された取付体6が挿通され、カップ2内に突出した上記取付体6の上端は平面形状がT字状をなした回転テーブル7の下面中心部分に連結されている。この回転テーブル7には、上記基板1の下面を支持する支持ピン7aと、上記基板1の周辺部に係合する係合ピン7bとが突設されている。
【0016】
なお、上記回転軸5と上記取付体6とでこの発明の駆動体を構成している。
上記通孔3は周壁がカップ2の中心部から径方向外方に向かって低く傾斜した第1の傾斜面9に形成された断面形状が円錐台状のカバー11によって覆われている。このカバー11は上記回転テーブル7の中心部の下面側をシールするシール部材12に取付けられている。
【0017】
上記カップ2の内底部には仕切り体15が支持柱16によって保持されている。この仕切り体15は環状の周壁17およびこの周壁17の上端に折曲形成された上部壁18とから形成されている。この上部壁18の上面はカップ2の径方向中心に向かって低く傾斜した第2の傾斜面19となっており、その先端は上記第1の傾斜面9とわずかな隙間を介して対向している。
【0018】
上記仕切り体15によってカップ2内の空間部は、上記仕切り体15の内面側、
つまり上記回転テーブル7の下面側で、カップ2の内底部の部分となる第1の空間部21と、それ以外の部分である第2の空間部22とに隔別している。第2の空間部22は上記カップ2の上面開口に連通している。
【0019】
上記カップ2の底部には周方向に所定間隔、この実施の形態では90度間隔で4つの排気口23(2つのみ図示)が形成されている。各排気口23は上記第1の空間部21と第2の空間部22との両方にまたがって開口形成されている。つまり、仕切り体15の側壁17の下端が上記排気口23を分割する状態で位置している。
【0020】
上記排気口23には排気管24の一端が取付板31を介して接続されている。この排気管24は上記取付板31を介して上記第1 の空間部21に連通している。この取付板31には図2に示すように上記排気口23と対応する通孔31aが形成されている。
【0021】
上記排気管24内には、上記第1の空間部21に連通する短管状の制御管25が図示しない支持部材によって支持されている。この制御管25には上記排気管24の外部から角度調整可能な制御弁26が設けられている。
【0022】
上記排気管24の他端には排気ホース27の一端が接続され、この排気ホース27の他端は図示しない排気ポンプに連通している。したがって、上記排気ポンプが作動すれば、上記排気管24を介して上記第1の空間部21と第2の空間部22とに吸引力を作用させ、これら空間部内の雰囲気を排出できるようになっている。その際、上記制御弁26の開き角度を変えることで、第1の空間部21と第2の空間部22からの排気量を制御できるようになっている。
【0023】
つぎに、上記構成のスピン処理装置によって洗浄後の基板1を乾燥処理する場合について説明する。回転テーブル7に洗浄液によって洗浄処理されて濡れた状態にある基板1が供給されると、モータ4に通電されて上記回転テーブル7が回転駆動される。それによって、基板20に付着した洗浄液に遠心力が作用し、その遠心力で洗浄液が飛散し、基板1が乾燥処理される。
【0024】
上記回転テーブル7を回転させる場合には、排気ホース27に接続された排気ポンプを作動させてカップ2内の雰囲気を排気する。つまり、回転テーブル7を回転させることでカップ2内に気流が生じるとともに、基板1に付着した洗浄液が回転にともなう遠心力でカップ2の内面に衝突することでミストが発生するから、ミストを含む第2の空間部22内の雰囲気が排気管24を通じて上記排気ホース27から排出されることになる。
【0025】
上記カップ2内は仕切り体15によって第1の空間部21と第2の空間部22とに隔別されている。上記仕切り体15の上記第1の空間部21を覆う上部壁18はカップ2の径方向内方に向かって低く傾斜した第2の傾斜面19に形成されている。
【0026】
そのため、回転テーブル7に保持された基板1からその下面側に滴下する洗浄液は上記仕切り体15の第2の傾斜面19に沿って円滑に流れ、この第2の傾斜面19からカバー11の第1の傾斜面9を伝わって第1の空間部21へ滴下し、この第1の空間部21から排気管24へ排出されることになる。
【0027】
そのため、回転テーブル7が回転駆動されることで、この回転テーブル7の下面側に乱気流が発生しても、回転テーブル7の下面側に滴下する洗浄液は、仕切り体15によって覆われた第1の空間部21に円滑に流入するから、第1 の空間部21へ流入した洗浄液が上記乱気流によってミスト化されて基板1の下面に付着するのを防止することができる。
【0028】
つまり、第1の空間部21は仕切り体15によって覆われているため、その第1の空間部21に滴下した洗浄液が仕切り15の上面側で発生する乱気流によってミスト化されるということがほとんどない。
【0029】
さらに、回転テーブル7の回転によって周囲に飛散する洗浄液はカップ2の内周面に衝突してミスト化するものの、上記カップ2内の周辺部、つまり第2の空間部22には排気ポンプの吸引力が確実に作用する。
【0030】
そのため、カップ2の内周部で発生するミストが回転テーブル7の下面側に回り込むのが阻止されるばかりか、仕切り体15の周壁17によっても回転テーブル7の下面側に回り込むのが阻止されるから、基板1から飛散する洗浄液がカップ2の内周面に衝突することでミストが発生しても、そのミストが回転テーブル7に保持された基板1の下面側に回り込んで付着するということも防止される。
【0031】
カップ2の底部に接続された排気管24は、第1の空間部21と第2の空間部22との両方に連通している。そのため、カップ2内を仕切り体15によって2つの空間部21,22に分けても、各空間部21,22を排気するために別々に排気管を接続するということをせずにすむから、その分、排気管24や排気ホース27の数を少なくし、構成の簡略化を計ることができる。
【0032】
上記第1の空間部21に連通した制御管25には制御弁26が設けられ、この制御弁26の開度を調整することで、上記制御管25からの排気量、つまり第1の空間部21の排気量を制御することができる。
【0033】
上記第1の空間部21は仕切り体15によって覆われた閉塞空間であり、第2の空間部22はカップ2の上面開口に連通した開放空間であるから、第1の空間部21からの排気量が第2の空間部22からの排気量よりも少なくなるよう上記制御管25の制御弁26の開度を制御することで、各空間部21,22からの排気度合(各空間部の雰囲気の置換度合)が同じようになるよう制御できる。また、第1の空間部21と第2の空間部22におけるミストの発生度合に応じて制御弁26の開度を設定し、それによって各空間部からの排気度合を設定することもできる。
【0034】
この発明は上記一実施の形態に限定されず、種々変形可能である。たとえば、上記一実施の形態では制御管を第1の空間部に連通させて設けたが、第2の空間部に連通させて設けてもよく、要は第1の空間部と第2の空間部からの排気量を制御できる構成であればよい。
【0035】
【発明の効果】
請求項1の発明によれば、カップ内を第1の空間部と第2の空間部とに隔別する仕切り体の上面をカップの径方向中心部に向かって低く傾斜した第2の傾斜面に形成した。
【0036】
そのため、カップ内の回転テーブルの下面側に滴下する洗浄液を上記仕切り体の第2の傾斜面に沿って上記仕切りで覆われた第1の空間部へ円滑に流すことができるから、回転テーブルの下面側で乱気流が発生しても、その乱気流によって回転テーブルの下方の第1の空間部に流入した洗浄液がミスト化されて基板の下面に付着するのを防止することができる。
【0037】
また、第1の空間部と第2の空間部とには、これらの両方にわたる排気手段が連通して設けられているから、各空間部で発生するミストが確実に排出されるばかりか、2つの空間部を同時に排気できるため、別々に排気する場合に比べて構成を簡略化することができる。
【0038】
しかも、第1の空間部と第2の空間部とに連通する排気管およびどちらか一方の空間部に連通する制御管、さらにその制御管に排気量を調整する制御弁を設けることで排気手段を構成した。
【0039】
そのため、上記制御弁の開度を制御することで、第1の空間部と第2の空間部とからの排気量が最適な割合になるよう制御できるから、それぞれの空間部にミストを含む雰囲気が滞留するのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施の形態を示す装置の縦断面図。
【図2】同じく排気管の拡大断面図。
【符号の説明】
1…基板
2…カップ
5…回転軸(駆動体)
6…取付体(駆動体)
7…回転テーブ
15…仕切り体
19…第2の傾斜面
21…第1の空間部
22…第2の空間部
23…排気口(排出手段)
24…排気管(排出手段)
25…制御管(排出手段)
26…制御弁(排出手段)
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a spin processing apparatus for processing by rotating a substrate with a rotary table.
[0002]
[Prior art]
For example, in the manufacturing process of a liquid crystal display device, there are a film forming process and a photo process for forming a circuit pattern on a glass substrate as a workpiece. In these processes, the processing and cleaning of the substrate are repeated. In order to dry the cleaned substrate or to uniformly apply the resist to the substrate, a spin processing apparatus that uses the centrifugal force generated by holding the substrate on a rotating table and rotating the substrate together with the rotating table is provided. It is used.
[0003]
Generally, a spin processing apparatus has a cup. This cup is formed in a bowl shape with an open upper surface, and a through hole is formed at the center of the bottom.
A drive shaft of the motor is inserted from the through hole formed in the bottom of the cup into the cup. A cross-shaped rotary table is attached to the upper end of the drive shaft. Support pins and guide pins are provided on the upper surface of the rotary table, and the support pins support the lower four corners of a rectangular glass substrate supplied to the upper surface of the rotary table, and the guide pins serve as the glass substrate. The glass substrate is engaged with the outer peripheral surfaces of the four corners to prevent the glass substrate from moving on the rotary table.
[0004]
A plurality of exhaust ports are formed at predetermined intervals in the circumferential direction at the bottom of the cup, and an exhaust pipe connected to a suction pump (not shown) is connected to each exhaust port.
According to the spin processing apparatus having such a configuration, when the glass substrate is dried, for example, the motor is energized, and the rotary table attached to the drive shaft is rotated.
[0005]
If the rotary table is rotated to generate a centrifugal force, the cleaning liquid adhering to the upper surface of the glass substrate is scattered by the centrifugal force, so that the glass substrate can be dried.
[0006]
By the way, when the rotary table is rotated, not only centrifugal force is generated by the rotation, but also an air flow is inevitably generated in the cup as the rotary table rotates. The air flow generates not only a smooth flow from the radial periphery in the cup to the exhaust port provided at the bottom, but also turbulent airflow that swirls on the lower surface side of the rotary table inside the cup in the radial direction. To do.
[0007]
When such a turbulent air flow is generated, the cleaning liquid dropped from the glass substrate onto the inner bottom portion of the cup is entrained by the air flow, and may become mist and adhere to the lower surface of the glass substrate.
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
As described above, in the conventional spin processing apparatus, when turbulent airflow is generated on the lower surface side of the rotary table, mist adheres to the lower surface of the substrate held on the rotary table by the turbulent airflow, and the substrate is contaminated. there were.
[0009]
The present invention provides a spin processing apparatus capable of preventing a lower surface of a substrate from being contaminated by mist or the like even when turbulence occurs on the lower surface side of the rotary table by rotating the rotary table. There is to do.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-mentioned problems, the invention of claim 1 is directed to a spin processing apparatus for performing predetermined processing on a substrate by rotating the substrate.
A cup,
A rotationally driven drive body inserted through a through hole formed in the center of the bottom of the cup;
A rotating table coupled to the driving body and rotated, and the substrate is held on the upper surface;
A cover for covering the through-hole formed on the first inclined surface provided on the lower surface side of the rotary table and having a peripheral wall inclined downward in the radial direction from the center of the cup;
The cup is provided on the inner bottom portion of the cup, and the inside of the cup is separated into a first space portion near the inner bottom portion of the cup and a second space portion other than the first space portion and the upper surface of the cup is separated. A partition body formed on a second inclined surface which is inclined low toward the radial center of the cup and whose tip is opposed to the first inclined surface with a gap therebetween ;
The bottom of the cup has an exhaust port that is open over both the first space and the second space, and exhausts an air flow that is provided in communication and is generated by the rotation of the rotary table. And a discharging means for
The exhaust means has an exhaust pipe connected to the exhaust port, and a control pipe communicating with the first space part or the second space part is accommodated in the exhaust pipe. A control valve for adjusting the amount of exhaust from each space is provided .
[0012]
According to invention of Claim 1, the 2nd inclined surface which inclined the upper surface of the partition body which divides the inside of a cup into a 1st space part and a 2nd space part low toward the radial direction center part of a cup Since the cleaning liquid dripped onto the lower surface side of the rotary table in the cup can be smoothly flowed along the second inclined surface of the partition body, the cleaning liquid is generated on the lower surface side of the rotary table. It is possible to prevent mist from being caught in the turbulent airflow and adhere to the lower surface of the substrate, and the first space portion and the second space portion are provided with exhaust means communicating with both of them. Therefore, not only the mist generated in each space portion is surely discharged, but also the two space portions can be exhausted at the same time, so that the configuration can be simplified as compared with the case of exhausting separately.
[0013]
In addition, the exhaust pipe communicating with the first space part and the second space part is provided with a control pipe communicating with either one of the space parts, and a control valve for adjusting the exhaust amount is provided in the control pipe. Since the exhaust means is configured, the exhaust amount from the first space portion and the second space portion can be adjusted to an optimal ratio.
[0014]
[Embodiment]
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. The spin processing apparatus shown in FIG. 1 is for drying a glass substrate 1 of a liquid crystal display device, for example. The apparatus includes a cup 2 disposed on a base B. The cup 2 is formed in a bowl shape having an upper surface opened by a lower cup 2a and an upper cup 2b connected to the upper end of the lower cup 2a.
[0015]
A through hole 3 is formed at the center of the bottom wall of the lower cup 2a. A mounting body 6 connected to the rotating shaft 5 of the motor 4 is inserted into the through hole 3, and the upper end of the mounting body 6 protruding into the cup 2 is a T-shaped planar table 7. It is connected to the bottom center part. On the turntable 7, a support pin 7 a that supports the lower surface of the substrate 1 and an engagement pin 7 b that engages with the peripheral portion of the substrate 1 are projected.
[0016]
The rotating shaft 5 and the attachment body 6 constitute a drive body of the present invention.
The through hole 3 is covered with a cover 11 having a frustoconical cross section formed on a first inclined surface 9 whose peripheral wall is inclined downward from the center of the cup 2 in the radially outward direction. The cover 11 is attached to a seal member 12 that seals the lower surface side of the center portion of the rotary table 7.
[0017]
A partition 15 is held by a support column 16 at the inner bottom of the cup 2. The partition 15 includes an annular peripheral wall 17 and an upper wall 18 bent at the upper end of the peripheral wall 17. The upper surface of the upper wall 18 is a second inclined surface 19 that is inclined low toward the radial center of the cup 2, and the tip thereof faces the first inclined surface 9 with a slight gap therebetween. Yes.
[0018]
The space in the cup 2 is separated from the inner surface of the partition 15 by the partition 15.
That is, on the lower surface side of the rotary table 7, the first space portion 21 which is the inner bottom portion of the cup 2 is separated from the second space portion 22 which is the other portion. The second space portion 22 communicates with the upper surface opening of the cup 2.
[0019]
Four exhaust ports 23 (only two are shown) are formed in the bottom of the cup 2 at predetermined intervals in the circumferential direction, in this embodiment at intervals of 90 degrees. Each exhaust port 23 is formed to open over both the first space portion 21 and the second space portion 22. That is, the lower end of the side wall 17 of the partition 15 is positioned in a state where the exhaust port 23 is divided.
[0020]
One end of an exhaust pipe 24 is connected to the exhaust port 23 via a mounting plate 31. The exhaust pipe 24 communicates with the first space portion 21 through the mounting plate 31. As shown in FIG. 2, a through hole 31 a corresponding to the exhaust port 23 is formed in the mounting plate 31.
[0021]
A short tubular control pipe 25 communicating with the first space 21 is supported in the exhaust pipe 24 by a support member (not shown). The control pipe 25 is provided with a control valve 26 whose angle can be adjusted from the outside of the exhaust pipe 24.
[0022]
One end of an exhaust hose 27 is connected to the other end of the exhaust pipe 24, and the other end of the exhaust hose 27 communicates with an exhaust pump (not shown). Accordingly, when the exhaust pump is operated, a suction force is applied to the first space portion 21 and the second space portion 22 through the exhaust pipe 24, and the atmosphere in these space portions can be discharged. ing. At that time, the exhaust amount from the first space 21 and the second space 22 can be controlled by changing the opening angle of the control valve 26.
[0023]
Next, a case where the substrate 1 after cleaning is dried by the spin processing apparatus having the above configuration will be described. When the substrate 1 that has been wetted by the cleaning liquid is supplied to the turntable 7, the motor 4 is energized and the turntable 7 is driven to rotate. Thereby, a centrifugal force acts on the cleaning liquid adhering to the substrate 20, the cleaning liquid is scattered by the centrifugal force, and the substrate 1 is dried.
[0024]
When the rotary table 7 is rotated, the exhaust pump connected to the exhaust hose 27 is operated to exhaust the atmosphere in the cup 2. That is, when the rotary table 7 is rotated, an air flow is generated in the cup 2 and the cleaning liquid adhering to the substrate 1 collides with the inner surface of the cup 2 due to the centrifugal force accompanying the rotation, so that mist is generated. The atmosphere in the second space 22 is exhausted from the exhaust hose 27 through the exhaust pipe 24.
[0025]
The cup 2 is divided into a first space 21 and a second space 22 by a partition 15. The upper wall 18 that covers the first space portion 21 of the partition 15 is formed on a second inclined surface 19 that is inclined lower toward the radially inner side of the cup 2.
[0026]
Therefore, the cleaning liquid dripped from the substrate 1 held on the rotary table 7 to the lower surface side smoothly flows along the second inclined surface 19 of the partition 15, and the second inclined surface 19 passes through the second inclined surface 19. The first space portion 21 is dropped on the first inclined surface 9 and discharged from the first space portion 21 to the exhaust pipe 24.
[0027]
Therefore, even if turbulent airflow is generated on the lower surface side of the rotary table 7 by rotating the rotary table 7, the cleaning liquid dropped on the lower surface side of the rotary table 7 is covered with the partition 15. Since the liquid smoothly flows into the space portion 21, the cleaning liquid that has flowed into the first space portion 21 can be prevented from being misted by the turbulent air flow and attached to the lower surface of the substrate 1.
[0028]
That is, since the first space portion 21 is covered with the partition body 15, the cleaning liquid dripped into the first space portion 21 is almost misted by the turbulent air flow generated on the upper surface side of the partition body 15. Absent.
[0029]
Further, although the cleaning liquid scattered around by the rotation of the rotary table 7 collides with the inner peripheral surface of the cup 2 and becomes mist, the peripheral portion in the cup 2, that is, the second space portion 22 is sucked by the exhaust pump The force works reliably.
[0030]
Therefore, the mist generated at the inner peripheral portion of the cup 2 is not only prevented from turning to the lower surface side of the rotary table 7, but is also prevented from going to the lower surface side of the rotary table 7 by the peripheral wall 17 of the partition 15. Therefore, even if the cleaning liquid splashed from the substrate 1 collides with the inner peripheral surface of the cup 2 and mist is generated, the mist wraps around and adheres to the lower surface side of the substrate 1 held by the rotary table 7. Is also prevented.
[0031]
The exhaust pipe 24 connected to the bottom of the cup 2 communicates with both the first space 21 and the second space 22. Therefore, even if the inside of the cup 2 is divided into the two space portions 21 and 22 by the partition body 15, it is not necessary to separately connect the exhaust pipe in order to exhaust the space portions 21 and 22. Therefore, the number of exhaust pipes 24 and exhaust hoses 27 can be reduced, and the configuration can be simplified.
[0032]
The control pipe 25 communicated with the first space 21 is provided with a control valve 26. By adjusting the opening of the control valve 26, the exhaust amount from the control pipe 25, that is, the first space The displacement of 21 can be controlled.
[0033]
Since the first space portion 21 is a closed space covered with the partition 15 and the second space portion 22 is an open space communicating with the upper surface opening of the cup 2, the exhaust from the first space portion 21. By controlling the opening degree of the control valve 26 of the control pipe 25 so that the amount becomes smaller than the exhaust amount from the second space portion 22, the degree of exhaust from each space portion 21, 22 (atmosphere of each space portion) The degree of substitution) can be controlled to be the same. Moreover, the opening degree of the control valve 26 can be set according to the generation degree of mist in the first space part 21 and the second space part 22, and thereby the exhaust degree from each space part can be set.
[0034]
The present invention is not limited to the one embodiment described above and can be variously modified. For example, in the above-described embodiment, the control pipe is provided in communication with the first space, but may be provided in communication with the second space. In short, the first space and the second space are essential. Any configuration can be used as long as the exhaust amount from the unit can be controlled.
[0035]
【The invention's effect】
According to invention of Claim 1, the 2nd inclined surface which inclined the upper surface of the partition body which divides the inside of a cup into a 1st space part and a 2nd space part low toward the radial direction center part of a cup Formed.
[0036]
Therefore, the cleaning liquid dripped onto the lower surface side of the rotary table in the cup can be smoothly flowed along the second inclined surface of the partition body to the first space portion covered with the partition body. Even if turbulent airflow is generated on the lower surface side of the substrate, it is possible to prevent the cleaning liquid flowing into the first space portion below the rotary table from being misted and adhering to the lower surface of the substrate due to the turbulent airflow.
[0037]
In addition, since the first space portion and the second space portion are provided with exhaust means that communicate with both of them, the mist generated in each space portion is not only reliably discharged, but also 2 Since two spaces can be exhausted simultaneously, the configuration can be simplified as compared with the case of exhausting separately.
[0038]
In addition, an exhaust means is provided by providing an exhaust pipe communicating with the first space part and the second space part, a control pipe communicating with one of the space parts, and a control valve for adjusting the exhaust amount in the control pipe. Configured.
[0039]
Therefore, by controlling the opening degree of the control valve, it is possible to control the exhaust amount from the first space portion and the second space portion to an optimal ratio, so that the atmosphere containing mist in each space portion. Can be prevented from staying.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a longitudinal sectional view of an apparatus showing an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an enlarged sectional view of the exhaust pipe.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Board | substrate 2 ... Cup 5 ... Rotating shaft (driving body)
6 ... Mounting body (driving body)
7 ... Rotating table 15 ... Partition 19 ... Second inclined surface 21 ... First space 22 ... Second space 23 ... Exhaust port (discharge means)
24 ... Exhaust pipe (discharge means)
25. Control pipe (discharge means)
26 ... Control valve (discharge means)

Claims (1)

基板を回転させることで、この基板に所定の処理を行うスピン処理装置において、
カップと、
このカップの底部中心部に形成された通孔から内部へ挿通された回転駆動される駆動体と、
この駆動体に連結されて回転されるとともに上面に上記基板が保持される回転テ−ブルと、
この回転テーブルの下面側に設けられ周壁が上記カップの中心部から径方向外方に向かって低く傾斜した第1の傾斜面に形成された上記通孔を覆うカバーと、
上記カップの内底部に設けられこのカップ内部を上記回転テーブルの下面側で、かつ上記カップの内底部付近の第1の空間部およびそれ以外の第2の空間部とに隔別するとともに上面が上記カップの径方向中心部に向かって低く傾斜し先端が上記第1の傾斜面に間隔を介して対向する第2の傾斜面に形成された仕切り体と、
上記カップの底部に上記第1の空間部と第2の空間部との両方にまたがって開口形成された排気口を有し、連通して設けられ上記回転テーブルの回転によって発生する空気流を排出する排出手段とを具備し、
上記排出手段は、上記排気口に接続された排気管を有し、この排気管内には上記第1の空間部あるいは第2の空間部に連通する制御管が収納され、この制御管には上記各空間部からの排気量を調整する制御弁が設けられていることを特徴とするスピン処理装置。
In a spin processing apparatus that performs predetermined processing on this substrate by rotating the substrate,
A cup,
A rotationally driven drive body inserted through a through hole formed in the center of the bottom of the cup;
A rotating table coupled to the driving body and rotated, and the substrate is held on the upper surface;
A cover for covering the through-hole formed on the first inclined surface provided on the lower surface side of the rotary table and having a peripheral wall inclined downward in the radial direction from the center of the cup;
The cup is provided on the inner bottom portion of the cup, and the inside of the cup is separated into a first space portion near the inner bottom portion of the cup and a second space portion other than the first space portion and the upper surface of the cup is separated. A partition body formed on a second inclined surface which is inclined low toward the radial center of the cup and whose tip is opposed to the first inclined surface with a gap therebetween ;
The bottom of the cup has an exhaust port that is open over both the first space and the second space, and exhausts an air flow that is provided in communication and is generated by the rotation of the rotary table. And a discharging means for
The exhaust means has an exhaust pipe connected to the exhaust port, and a control pipe communicating with the first space part or the second space part is accommodated in the exhaust pipe. A spin processing apparatus comprising a control valve for adjusting an exhaust amount from each space portion .
JP8349198A 1998-03-30 1998-03-30 Spin processing equipment Expired - Fee Related JP4025414B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8349198A JP4025414B2 (en) 1998-03-30 1998-03-30 Spin processing equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8349198A JP4025414B2 (en) 1998-03-30 1998-03-30 Spin processing equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11276971A JPH11276971A (en) 1999-10-12
JP4025414B2 true JP4025414B2 (en) 2007-12-19

Family

ID=13803960

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8349198A Expired - Fee Related JP4025414B2 (en) 1998-03-30 1998-03-30 Spin processing equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4025414B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101677037B1 (en) * 2015-10-16 2016-11-17 주식회사 케이씨텍 Rinsing and drying device

Also Published As

Publication number Publication date
JPH11276971A (en) 1999-10-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0444216Y2 (en)
US20020045413A1 (en) Substrate cleaning apparatus and substrate polishing apparatus with substrate cleaning apparatus
JP4025414B2 (en) Spin processing equipment
JP2003163147A (en) Substrate liquid treatment unit
JP4567178B2 (en) Spin processing equipment
JP3948963B2 (en) Spin processing equipment
JP3133735B2 (en) Rotary coating device
JPH07263324A (en) Suction chuck type rotary substrate treating device
JP4410331B2 (en) Spin processing equipment
JPH09122560A (en) Spin coater
JP2849539B2 (en) Rotary coating device
JP4018232B2 (en) Spin processing equipment
JP2002009036A (en) Spin-treating device
JP4727080B2 (en) Spin processing equipment
JP4447673B2 (en) Spin processing equipment
JP4358410B2 (en) Spin processing equipment
JP4298840B2 (en) Spin processing apparatus and spin processing method
JPH06275506A (en) Spin coating device and method therefor
JP3636605B2 (en) Rotary coater
JP2001276714A (en) Spinning treatment apparatus
JP2003093979A (en) Spinning apparatus
JP2003145014A (en) Rotary coating apparatus
JPH03129826A (en) Resist film formation device
JPH0684775A (en) Rotating mechanism
JPS60234323A (en) Manufacturing apparatus of semiconductor integrated circuit device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050322

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070517

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070522

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070720

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20071002

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20071005

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101012

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111012

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121012

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121012

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131012

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees