JP2002009036A - Spin-treating device - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は回転テ−ブルによ
って基板を回転させて処理するスピン処理装置に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a spin processing apparatus for processing a substrate by rotating a substrate using a rotating table.
【０００２】[0002]
【従来の技術】たとえば、液晶表示装置や半導体装置の
製造過程においては、ガラス基板や半導体ウエハなどの
基板に回路パタ−ンを形成するための成膜プロセスやフ
ォトプロセスがある。これらのプロセスでは、上記基板
に対して処理液による処理及び洗浄が行なわれたのち、
乾燥処理が行なわれる。基板に対してこのような一連の
処理を行なう場合、上記基板を回転テ−ブルに保持し、
この回転テ−ブルとともに回転させ、それによって生じ
る遠心力を利用する、スピン処理装置が用いられる。2. Description of the Related Art For example, in a process of manufacturing a liquid crystal display device or a semiconductor device, there are a film forming process and a photo process for forming a circuit pattern on a substrate such as a glass substrate or a semiconductor wafer. In these processes, after the above-mentioned substrate is processed and washed with a processing liquid,
A drying process is performed. When performing such a series of processes on a substrate, the substrate is held on a rotating table,
A spin processing device is used which rotates with the rotating table and utilizes the centrifugal force generated thereby.
【０００３】一般に、スピン処理装置は処理槽を有し、
この処理槽内にスピンカップが配置されている。このス
ピンカップは上面が開口しており、内部には回転テーブ
ルが設けられている。この回転テーブルには上記基板が
保持される。In general, a spin processing apparatus has a processing tank,
A spin cup is arranged in the processing tank. The spin cup has an open upper surface, and a rotary table is provided inside. The substrate is held on the turntable.
【０００４】上記カップ体の底部には排出管が接続さ
れ、この排出管は上記処理槽の底壁を貫通して外部に導
出され、気液分離器を介して排気ポンプに接続されてい
る。[0004] A discharge pipe is connected to the bottom of the cup body. The discharge pipe penetrates the bottom wall of the processing tank and is led out to the outside, and is connected to an exhaust pump via a gas-liquid separator.
【０００５】したがって、排気ポンプを作動させれば、
上記カップ体内の空気及び処理液が上記排出管から外部
へ排出されるようになっている。Therefore, if the exhaust pump is operated,
The air and the processing liquid in the cup body are discharged to the outside from the discharge pipe.
【０００６】上記スピン処理装置によってたとえば洗浄
された基板を乾燥処理する場合、回転テーブルに基板を
保持してこの回転テーブルを高速度で回転させること
で、基板に付着した処理液を遠心力で飛散させ、乾燥さ
せるようにしている。基板から飛散した処理液は、上記
排出管に生じた吸引力によってカップ体内から排出され
るようになっている。In the case of drying a substrate, for example, which has been washed by the spin processing apparatus, the substrate is held on a rotary table and the rotary table is rotated at a high speed, whereby the processing liquid attached to the substrate is scattered by centrifugal force. And let it dry. The processing liquid scattered from the substrate is discharged from the inside of the cup by the suction force generated in the discharge pipe.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】ところで、乾燥処理時
に基板を高速度で回転駆動して基板から処理液を周方向
（ほぼ接線方向）に飛散させると、処理液はカップ体の
内周面に衝突して反射し、ミスト状となる。By the way, when the substrate is rotated at a high speed during the drying process to scatter the processing liquid from the substrate in the circumferential direction (almost tangential direction), the processing liquid is deposited on the inner peripheral surface of the cup body. It collides and reflects and becomes mist-like.
【０００８】カップ体の内周面で反射してミスト状とな
った処理液の飛散方向は、上記排気管によって上記カッ
プ体内が吸引されていても、その吸引力によって排気管
へ確実に排気されず、一部は基板に戻って再付着する。
そのため、基板の汚染原因になるということがあった。[0008] Even if the inside of the cup is sucked by the exhaust pipe, the processing liquid reflected by the inner peripheral surface of the cup and formed into a mist is reliably exhausted to the exhaust pipe by the suction force. Some of them return to the substrate and adhere again.
As a result, it may cause contamination of the substrate.
【０００９】この発明は、基板をスピン処理する際に、
基板から飛散した液体がスピンカップの内周面で反射し
て基板に再付着し、その基板の汚染原因になるのを防止
したスピン処理装置を提供することにある。According to the present invention, when spin-treating a substrate,
An object of the present invention is to provide a spin processing apparatus that prevents liquid scattered from a substrate from being reflected on the inner peripheral surface of a spin cup and re-adhering to the substrate to cause contamination of the substrate.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、基板
を回転させて洗浄処理及び乾燥処理するスピン処理装置
において、スピンカップと、このスピンカップ内に設け
られ上記基板を保持するとともに回転駆動される回転テ
ーブルと、上記スピンカップの周壁の上記回転テーブル
に保持された基板とほぼ同じ高さ位置に形成され基板の
回転によって生じる気流をスピンカップの外部に逃がす
逃し手段とを具備したことを特徴とするスピン処理装置
にある。According to a first aspect of the present invention, there is provided a spin processing apparatus for performing a cleaning process and a drying process by rotating a substrate, a spin cup, a substrate provided in the spin cup, and holding and rotating the substrate. A rotating table to be driven, and escape means formed at substantially the same height position as the substrate held on the rotary table on the peripheral wall of the spin cup and releasing airflow generated by rotation of the substrate to the outside of the spin cup. And a spin processing device.
【００１１】請求項２の発明は、上記逃し手段は、上記
スピンカップの周壁に形成された通孔と、この通孔を閉
塞するとともに基板の回転によって生じる気流で作動し
て上記通孔を開放する可撓弁とから構成されていること
を特徴とする請求項１記載のスピン処理装置にある。According to a second aspect of the present invention, the release means opens the through hole by operating through a through hole formed in the peripheral wall of the spin cup and an air flow generated by rotation of the substrate. 2. The spin processing apparatus according to claim 1, wherein the spin processing apparatus comprises a flexible valve.
【００１２】この発明によれば、基板を乾燥処理する際
に回転テーブルを高速回転させると、そのときに生じる
気流はスピンカップの周壁に形成された逃し手段から外
部に逃げるため、その気流に含まれる液体がスピンカッ
プの内周面で反射して基板に戻るのを防止できる。According to the present invention, when the rotary table is rotated at a high speed during the drying process of the substrate, the airflow generated at that time escapes from the escape means formed on the peripheral wall of the spin cup to the outside, and is included in the airflow. The liquid to be reflected can be prevented from being reflected on the inner peripheral surface of the spin cup and returning to the substrate.
【００１３】[0013]
【実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図面を参
照して説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００１４】図１と図２はこの発明の第１の実施の形態
を示し、図１に示すスピン処理装置は架台１を備えてい
る。この架台１は下板２及びこの下板２の上面に立設さ
れた脚体３によって上記下板２の上方向に所定間隔で保
持された上板４とを有し、この上板４上には処理槽５が
設置されている。FIGS. 1 and 2 show a first embodiment of the present invention. The spin processing apparatus shown in FIG. The gantry 1 has a lower plate 2 and an upper plate 4 held at a predetermined interval in the upper direction of the lower plate 2 by a leg 3 erected on the upper surface of the lower plate 2. Is provided with a processing tank 5.
【００１５】上記処理槽５は上面が開放した角筒状をな
していて、周壁は高さ方向中途部から上端に向かって外
形寸法が次第に小さくなるテーパ壁５ａに形成されてい
る。処理槽５の上壁６にはクリンエアユニット７が取付
けられている。The processing tank 5 has a rectangular cylindrical shape with an open upper surface, and the peripheral wall is formed as a tapered wall 5a whose outer dimensions gradually decrease from a middle part in the height direction toward the upper end. A clean air unit 7 is attached to an upper wall 6 of the processing tank 5.
【００１６】上記クリンエアユニット７は、スピン処理
装置が設置されるクリーンルームの天井から吹き降ろす
ダウンフロー（図中矢印で示す）を浄化して処理槽５内
に導入するためのもので、具体的にはＨＥＰＡなどのフ
ィルタによってクリーンルームの清浄空気をさらに浄化
して処理槽１内に導入するようになっている。The clean air unit 7 is for purifying a down flow (indicated by an arrow in the drawing) blown down from a ceiling of a clean room in which a spin processing device is installed, and introducing the down flow into the processing tank 5. Further, the clean air in the clean room is further purified by a filter such as HEPA and introduced into the processing tank 1.
【００１７】上記処理槽５の内部には回転テーブル８が
設けられている。この回転テーブル８の上面には複数の
支持部材９が周方向に所定間隔で設けられ、これら支持
部材９にはたとえば半導体ウエハなどの基板１１が着脱
可能に保持される。A rotary table 8 is provided inside the processing tank 5. A plurality of support members 9 are provided on the upper surface of the turntable 8 at predetermined intervals in a circumferential direction, and a substrate 11 such as a semiconductor wafer is detachably held on the support members 9.
【００１８】上記処理槽５の底部には開口部１２が形成
され、この開口部１２にはモータ１３によって回転駆動
される駆動軸１３ａが挿通され、この駆動軸１３ａの上
端に上記回転テーブル８が連結されている。An opening 12 is formed at the bottom of the processing tank 5, and a drive shaft 13a that is driven to rotate by a motor 13 is inserted into the opening 12, and the rotary table 8 is mounted on the upper end of the drive shaft 13a. Are linked.
【００１９】上記モータ１３は上下駆動機構１４に取付
けられている。それによって、上記回転テーブル８は、
上記モータ１３によって回転駆動され、さらに上記上下
駆動機構１４によってモータ１３とともに上下駆動され
るようになっている。なお、上下駆動機構１４は下板２
上に載置部材１５を介して設置されている。The motor 13 is mounted on a vertical drive mechanism 14. Thereby, the turntable 8 becomes
It is rotationally driven by the motor 13 and is further vertically driven by the vertical drive mechanism 14 together with the motor 13. In addition, the vertical drive mechanism 14 is a lower plate 2
It is installed on a mounting member 15 above.
【００２０】上記処理槽５の内底部にはスピンカップ１
６が設けられている。このスピンカップ１６の内部、つ
まり処理空間部１７には上記回転テーブル８が収容され
ている。A spin cup 1 is provided on the inner bottom of the processing tank 5.
6 are provided. The rotating table 8 is accommodated in the spin cup 16, that is, in the processing space 17.
【００２１】上記スピンカップ１６の底部には排出管２
２が接続されている。この排出管２２は気液分離器２３
を介して図示しない排出ポンプに接続されている。気液
分離器２３では気体と液体とを分離し、液体は排液管２
４を通じて排出し、気体はたとえば大気中に放散するよ
うになっている。したがって、上記排出ポンプが作動す
ると、スピンカップ１６内の気体と液体とが上記排出管
２２を通じて排出されるようになっている。A discharge pipe 2 is provided at the bottom of the spin cup 16.
2 are connected. This discharge pipe 22 is connected to a gas-liquid separator 23.
Is connected to a discharge pump (not shown). The gas-liquid separator 23 separates gas and liquid, and the liquid is
The gas is exhausted through, for example, the atmosphere 4. Therefore, when the discharge pump operates, the gas and liquid in the spin cup 16 are discharged through the discharge pipe 22.
【００２２】さらに、排出管２２には分岐管２２ａが設
けられ、この分岐管２２ａは処理槽５のスピンカップ１
６の外側の部分に連通している。したがって、処理槽５
内は、スピンカップ１６の内部だけでなく、外部も排気
されるようになっている。Further, the discharge pipe 22 is provided with a branch pipe 22a, and this branch pipe 22a is connected to the spin cup 1 of the processing tank 5.
6 communicates with the outer part. Therefore, processing tank 5
The inside is evacuated not only the inside of the spin cup 16 but also the outside.
【００２３】なお、図１では排出管２２及び分岐管２２
ａは１本だけしか示されていないが、スピンカップ１６
の周方向に所定の間隔で複数本設けられ、スピンカップ
１６内の排気を周方向において均一に行なうことができ
るようになっている。In FIG. 1, the discharge pipe 22 and the branch pipe 22
Although only one a is shown, the spin cup 16
Are provided at predetermined intervals in the circumferential direction so that the air in the spin cup 16 can be uniformly exhausted in the circumferential direction.
【００２４】上記処理槽５の底部に形成された開口部１
２の周辺部には円筒状の遮蔽壁２５が設けられている。
この遮蔽壁２５の上端は回転テーブル８の下面周辺部に
設けられたリング状部材２６の内周面にわずかの隙間を
介して対向している。それによって、上記開口部１２を
通じて処理空間部１７で飛散する処理液が処理槽５の外
底部に流出するのを阻止している。An opening 1 formed at the bottom of the processing tank 5
2, a cylindrical shielding wall 25 is provided.
The upper end of the shielding wall 25 is opposed to the inner peripheral surface of a ring-shaped member 26 provided around the lower surface of the turntable 8 with a slight gap. This prevents the processing liquid scattered in the processing space 17 through the opening 12 from flowing out to the outer bottom of the processing tank 5.
【００２５】上記処理槽５の処理空間部１７の底面は、
径方向中心部から周辺部にゆくにつれて次第に低くなる
傾斜面２７に形成され、この傾斜面２７の最も低い位置
に上記排出管２２が接続されている。The bottom of the processing space 17 of the processing tank 5
The inclined surface 27 is formed to be gradually lower as going from the radial center portion to the peripheral portion, and the discharge pipe 22 is connected to the lowest position of the inclined surface 27.
【００２６】上記上下駆動機構１４によって回転テーブ
ル８を上昇方向に駆動すると、この回転テーブル８に保
持された基板１１がスピンカップ１６上端面よりも上方
に突出位置する。When the rotary table 8 is driven in the ascending direction by the vertical drive mechanism 14, the substrate 11 held on the rotary table 8 projects above the upper end surface of the spin cup 16.
【００２７】上記処理槽５の一側には出し入れ口３２が
開口形成されている。この出し入れ口３２はシリンダ３
３によって上下方向に駆動されるシャッタ３４で開閉さ
れるようになっている。An access port 32 is formed on one side of the processing tank 5. This inlet / outlet 32 is a cylinder 3
The shutter 3 is opened and closed by a shutter 34 driven in the vertical direction by the shutter 3.
【００２８】上記回転テーブル８が上昇方向に駆動さ
れ、出し入れ口３２が開放されると、この出し入れ口３
２に進入可能な図示しないロボットのハンドによって上
記回転テーブル８に保持された処理済の基板１１を取り
出したり、未処理の基板１１を供給できるようになって
いる。未処理の基板１１には、回転テーブル８の上方に
設けられた洗浄用ノズル体３５から処理液が噴射される
ようになっている。処理液としては、洗浄液、エッチン
グ液、レジストを剥離するための剥離液などがあり、こ
の実施の形態では基板１１を洗浄処理するための洗浄液
が供給されるようになっている。When the rotary table 8 is driven in the ascending direction and the access port 32 is opened, the access port 3 is opened.
The unprocessed substrate 11 held on the turntable 8 can be taken out or the unprocessed substrate 11 can be supplied by a hand of a robot (not shown) capable of entering the apparatus 2. The processing liquid is sprayed onto the unprocessed substrate 11 from a cleaning nozzle body 35 provided above the turntable 8. Examples of the processing liquid include a cleaning liquid, an etching liquid, a stripping liquid for stripping the resist, and the like. In this embodiment, a cleaning liquid for cleaning the substrate 11 is supplied.
【００２９】上記スピンカップ１６の周壁には逃し手段
４１が設けられている。この逃し手段４１は、上記スピ
ンカップ１６の周壁の上記回転テーブル８に保持された
基板１１とほぼ同じ高さ位置に周方向に所定間隔で穿設
された複数の通孔４２と、スピンカップ１６の周壁外面
に設けられ各通孔４２を閉塞した可撓弁４３とから構成
されている。A relief means 41 is provided on the peripheral wall of the spin cup 16. The relief means 41 includes a plurality of through-holes 42 formed at predetermined positions in the circumferential direction at substantially the same height as the substrate 11 held on the rotary table 8 on the peripheral wall of the spin cup 16, and the spin cup 16. And a flexible valve 43 provided on the outer surface of the peripheral wall and closing each through hole 42.
【００３０】上記可撓弁４３は、図２に示すようにフッ
素樹脂などによって固定部４３ａと可動部４３ｂとが薄
肉部４３ｃを介して一体形成されてなり、固定部４３ａ
がスピンカップ１６の外面に固定され、可動部４３ｂが
通孔４２を閉塞している。可動部４３ｂはスピンカップ
１６の内部からわずかな力が加わることで揺れ動いて通
孔４２を開放するようになっている。As shown in FIG. 2, the flexible valve 43 has a fixed portion 43a and a movable portion 43b integrally formed of a fluorine resin or the like via a thin portion 43c.
Are fixed to the outer surface of the spin cup 16, and the movable portion 43 b closes the through hole 42. The movable portion 43b swings when a slight force is applied from the inside of the spin cup 16 to open the through hole.
【００３１】つぎに、上記構成のスピン処理装置によっ
て基板１１を処理液によって洗浄処理し、ついで乾燥処
理する場合の動作について説明する。Next, a description will be given of the operation when the substrate 11 is cleaned with the processing liquid by the spin processing apparatus having the above-described configuration, and then dried.
【００３２】シャッタ３４によって閉塞された処理槽５
の出し入れ口３２を開放するとともに、上下駆動機構１
４を作動させて回転テーブル８をスピンカップ１６の上
端から上方に突出する位置まで上昇させる。Processing tank 5 closed by shutter 34
The opening 32 is opened and the vertical drive mechanism 1 is opened.
4 is operated to raise the turntable 8 to a position protruding upward from the upper end of the spin cup 16.
【００３３】ついで、図示しないロボットによって回転
テーブル８に基板１１を供給したならば、この回転テー
ブル８を下降させて出し入れ口３２を閉じる。つぎに、
排気ポンプを作動させて排出管２２に吸引力を発生させ
たのち、モータ１３によって回転テーブル８を回転させ
る。さらに、洗浄用ノズル体３５から基板１１の上面に
向けて洗浄液を供給する。それによって、基板１１の上
面は洗浄液によって洗浄されることになる。Next, when the substrate 11 is supplied to the turntable 8 by a robot (not shown), the turntable 8 is lowered to close the slot 32. Next,
After the suction pump is operated to generate a suction force in the discharge pipe 22, the rotary table 8 is rotated by the motor 13. Further, a cleaning liquid is supplied from the cleaning nozzle body 35 toward the upper surface of the substrate 11. Thereby, the upper surface of the substrate 11 is cleaned by the cleaning liquid.
【００３４】洗浄後、洗浄用ノズル体３５から洗浄液を
供給せずに、回転テーブル８を高速回転させる。回転テ
ーブル８とともに基板１１が高速回転することで、その
回転に伴う気流が基板１１の接線方向に生じるととも
に、遠心力によって基板１１に付着した洗浄液が上記気
流に乗って基板１１の接線方向に飛散する。After the cleaning, the rotary table 8 is rotated at a high speed without supplying the cleaning liquid from the cleaning nozzle body 35. The high-speed rotation of the substrate 11 together with the turntable 8 causes an airflow accompanying the rotation to occur in the tangential direction of the substrate 11, and the cleaning liquid attached to the substrate 11 by the centrifugal force is scattered in the tangential direction of the substrate 11 on the airflow. I do.
【００３５】基板１１から飛散した液体を含む気体はス
ピンカップ１６の周壁に衝突する。スピンカップ１６の
周壁には、周方向に所定間隔で複数の通孔４２が形成さ
れている。各通孔４２は可撓弁４３の可動部４３ｂによ
って閉塞されているが、その可動部４３ｂに回転テーブ
ル８が高速回転することで発生する気流が作用すること
で、薄肉部４３ｃを支点として揺動し、通孔４２を開放
する。The gas containing the liquid scattered from the substrate 11 collides with the peripheral wall of the spin cup 16. A plurality of through holes 42 are formed in the peripheral wall of the spin cup 16 at predetermined intervals in the circumferential direction. Each through-hole 42 is closed by a movable portion 43b of the flexible valve 43, and the airflow generated by the high-speed rotation of the rotary table 8 acts on the movable portion 43b. Then, the through hole 42 is opened.
【００３６】したがって、基板１１から飛散した液体
は、スピンカップ１６内で発生する気流に乗って上記通
孔４２を通ってスピンカップ１６の外部に放散され、分
岐管２２ａから排出されるから、スピンカップ１６の内
周面で反射して基板１１に再付着するということがほと
んどなくなる。つまり、基板１１から飛散した液体が基
板１１に再付着して基板１１を汚染するのを防止するこ
とができる。Therefore, the liquid scattered from the substrate 11 is scattered outside the spin cup 16 through the through-hole 42 on the airflow generated in the spin cup 16 and is discharged from the branch pipe 22a. Almost no reflection on the inner peripheral surface of the cup 16 and reattachment to the substrate 11 occur. That is, it is possible to prevent the liquid scattered from the substrate 11 from re-adhering to the substrate 11 and contaminating the substrate 11.
【００３７】基板１１から飛散した液体が可撓弁４３の
可動部４３ｂに衝突すると、この可動部４３ｂが揺動す
ることで、液体の衝突による衝撃が緩和される。そのた
め、基板１１から飛散した液体が可撓弁４３で反射して
スピンカップ１６内で浮遊するのをなくすことができ
る。When the liquid scattered from the substrate 11 collides with the movable portion 43b of the flexible valve 43, the movable portion 43b swings, so that the impact due to the collision of the liquid is reduced. Therefore, it is possible to prevent the liquid scattered from the substrate 11 from being reflected by the flexible valve 43 and floating in the spin cup 16.
【００３８】上記可撓弁４３は通常は通孔４２を閉塞し
ており、スピンカップ１６の外部から加わる圧力によっ
て通孔４２を開放するようなことがない。そのため、ス
ピンカップ１６の外部の汚れた雰囲気が内部へ浸入して
基板１１を汚染のを防止することができる。The flexible valve 43 normally closes the through-hole 42, so that the through-hole 42 is not opened by the pressure applied from the outside of the spin cup 16. Therefore, it is possible to prevent a dirty atmosphere outside the spin cup 16 from entering the inside and prevent the substrate 11 from being contaminated.
【００３９】なお、スピンカップ１６の通孔４２から外
部に気体とともに流出した液体は、処理槽５の底部に接
続された図示しない排液管から排出される。The liquid flowing out together with the gas from the through hole 42 of the spin cup 16 to the outside is discharged from a drain pipe (not shown) connected to the bottom of the processing tank 5.
【００４０】図３（ａ）はこの発明のスピンカップ１６
内の気体の流れを示しており、図３（ｂ）は従来のスピ
ンカップ１６内の気体の流れを示している。図３
（ａ），（ｂ）において、矢印Ａはクリンユニット７か
らのダウンフローを示しており、矢印Ｂはダウンフロー
Ａがスピンカップ１６内で流れる内部気流である。図３
（ｂ）に示す従来の場合、回転テーブル８の回転によっ
て生じた気流Ｃはスピンカップ１６の内周面で反射して
渦流となる。そのため、気流Ｃに含まれた液体がスピン
カップ１６内で浮遊し易く，それによって基板１１に再
付着することになる。FIG. 3A shows a spin cup 16 according to the present invention.
FIG. 3B shows the flow of gas in the conventional spin cup 16. FIG.
3A and 3B, an arrow A indicates a downflow from the clean unit 7, and an arrow B indicates an internal airflow through which the downflow A flows in the spin cup 16. FIG.
In the case of the related art shown in FIG. 2B, the airflow C generated by the rotation of the turntable 8 is reflected on the inner peripheral surface of the spin cup 16 and becomes a vortex. Therefore, the liquid contained in the airflow C easily floats in the spin cup 16, and thereby re-adheres to the substrate 11.
【００４１】一方、図３（ａ）に示すこの発明の場合に
は、回転テーブル８の回転によって気流Ｃが生じると、
その気流Ｃの流れによって通孔４２が開放され、その通
孔４２から気流Ｃがスピンカップ１６の外部に流出す
る。そのため、気流Ｃに含まれる液体も一緒に流出する
から、基板１１から飛散した液体が再付着するのが防止
される。On the other hand, in the case of the present invention shown in FIG. 3A, when the airflow C is generated by the rotation of the turntable 8,
The through-hole 42 is opened by the flow of the airflow C, and the airflow C flows out of the spin cup 16 from the through-hole 42. Therefore, the liquid contained in the airflow C also flows out, so that the liquid scattered from the substrate 11 is prevented from reattaching.
【００４２】この発明は上記一実施の形態に限定され
ず、種々変形可能である。たとえば、スピンカップ内で
生じる気流を外部に逃すための逃し手段を通孔及び可撓
弁から構成したが、スピンカップの内部が外部より圧力
が低くなった場合に、スピンカップの外部の気体が通孔
を通過して内部に流入するのを防止できる構成であれば
よい。The present invention is not limited to the above embodiment, but can be variously modified. For example, although a release means for releasing the air flow generated in the spin cup to the outside is constituted by a through hole and a flexible valve, when the pressure inside the spin cup becomes lower than the outside, the gas outside the spin cup is discharged. What is necessary is just a structure which can prevent flowing into the inside through a through-hole.
【００４３】スピンカップの外部の雰囲気の清浄状態が
維持できれば上記通孔を可撓弁で閉塞しなくともよい。If the atmosphere outside the spin cup can be maintained in a clean state, the through-hole does not need to be closed by the flexible valve.
【００４４】[0044]
【発明の効果】請求項１の発明によれば、基板を乾燥処
理する際に回転テーブルを高速回転させることで生じる
気流を、スピンカップから逃すために、スピンカップの
周壁に逃し手段を形成した。According to the first aspect of the present invention, a relief means is formed on the peripheral wall of the spin cup in order to release the air flow generated by rotating the rotary table at a high speed during the drying process of the substrate from the spin cup. .
【００４５】そのため、基板の乾燥処理時には、回転テ
ーブルの高速回転によって生じる気流とともにその気流
に含まれる基板から飛散する液体もスピンカップの外部
に流出するため、液体がスピンカップの内周面で反射し
て基板に再付着するのを防止することができる。Therefore, during the drying process of the substrate, the liquid scattered from the substrate contained in the air flow flows out of the spin cup together with the air flow generated by the high-speed rotation of the rotary table, so that the liquid is reflected by the inner peripheral surface of the spin cup. Thus, it can be prevented from re-adhering to the substrate.
【００４６】請求項２の発明によれば、スピンカップに
形成された通孔に、回転テーブルの高速回転によって生
じる気流で通孔を開放する可撓弁を設けるようにしたか
ら、高速回転によって生じた気流が衝突すると、その衝
突によって揺動して衝撃を吸収緩和するから、スピンカ
ップ内周面での気流の反射を抑制することができる。According to the second aspect of the present invention, a flexible valve is provided in the through-hole formed in the spin cup to open the through-hole by an air current generated by the high-speed rotation of the rotary table. When the airflow collides, the airflow oscillates due to the collision and absorbs and reduces the impact, so that the reflection of the airflow on the inner peripheral surface of the spin cup can be suppressed.
【図１】この発明の一実施の形態を示すスピン処理装置
の概略的構成の縦断面図。FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a schematic configuration of a spin processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図２】スピンカップに形成された通孔の部分の拡大断
面図。FIG. 2 is an enlarged sectional view of a portion of a through hole formed in a spin cup.
【図３】（ａ）はこの発明のスピンカップ内における気
流の流れを示す説明図、（ｂ）は従来のスピンカップ内
における気流の流れを示す説明図。FIG. 3A is an explanatory diagram showing an airflow in a spin cup according to the present invention, and FIG. 3B is an explanatory diagram showing an airflow in a conventional spin cup.
８…回転テーブル １１…基板 １６…スピンカップ ４１…逃し手段 ４２…通孔 ４３…可撓弁 ４３ａ…固定部 ４３ｂ…可動部 Reference Signs List 8 rotary table 11 substrate 16 spin cup 41 relief means 42 through hole 43 flexible valve 43a fixed part 43b movable part
Claims (2)
するスピン処理装置において、 スピンカップと、 このスピンカップ内に設けられ上記基板を保持するとと
もに回転駆動される回転テーブルと、 上記スピンカップの周壁の上記回転テーブルに保持され
た基板とほぼ同じ高さ位置に形成され基板の回転によっ
て生じる気流をスピンカップの外部に逃がす逃し手段と
を具備したことを特徴とするスピン処理装置。1. A spin processing apparatus for performing a cleaning process and a drying process by rotating a substrate, comprising: a spin cup; a rotary table provided in the spin cup for holding and rotating the substrate; A spin processing apparatus, comprising: a relief means formed at substantially the same height as the substrate held on the rotary table on the peripheral wall and configured to release airflow generated by rotation of the substrate to the outside of the spin cup.
壁に形成された通孔と、この通孔を閉塞するとともに基
板の回転によって生じる気流で作動して上記通孔を開放
する可撓弁とから構成されていることを特徴とする請求
項１記載のスピン処理装置。2. The relief means includes a through hole formed in a peripheral wall of the spin cup, and a flexible valve that closes the through hole and is opened by the air flow generated by rotation of the substrate. 2. The spin processing device according to claim 1, wherein the spin processing device comprises:
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