JP4019809B2 - 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 - Google Patents
電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4019809B2 JP4019809B2 JP2002173004A JP2002173004A JP4019809B2 JP 4019809 B2 JP4019809 B2 JP 4019809B2 JP 2002173004 A JP2002173004 A JP 2002173004A JP 2002173004 A JP2002173004 A JP 2002173004A JP 4019809 B2 JP4019809 B2 JP 4019809B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- photosensitive member
- electrophotographic
- electrophotographic photosensitive
- metal oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジ及び電子写真装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年電子写真感光体は、高速、かつ高印字品質が得られるという利点を有するため、複写機及びレーザービームプリンター等の分野において多く利用されている。これら電子写真装置において用いられる電子写真感光体として、従来からのセレン、セレンーテルル合金、セレンーヒ素合金、硫化カドミウム等無機光導電材料を用いた電子写真感光体に比べ、安価で製造性及び安全性の点で優れた利点を有するフタロシアニン系の顔料等の有機光導電材料を電荷発生物質として含有した電子写真感光体が主流を占める様になってきている。
【０００３】
このような感光体の中でも、露光により電荷を発生する電荷発生層と電荷を輸送する電荷輸送層とからなる感光層を有する機能分離型感光体は、感度・帯電性及びその繰り返し安定性等、電子写真特性の点で優れており、種々の構成の提案が成され、実用化されている。
【０００４】
この機能分離型感光体の場合、現在ではアルミニウム基材等の導電性支持体層上に下引き層を形成し、その後、下引き層上に電荷発生層及び電荷輸送層を順次形成する場合が多い。
【０００５】
特に、近年、電子写真装置においては、コロトロンに代わりオゾン発生が少ない接触帯電方式の帯電装置が用いられるようになってきている。そして、電子写真装置に搭載されている感光体の感光層における電荷発生物質（顔料）の分散状態を十分に均一とすることや、導電性支持体層の表面を凹凸無く形成することや汚れの混入を十分防止することが不充分となると、導電性支持体層上に塗工により形成される下引き層や感光層が塗膜むら等により厚さが塗工された領域の全域にわたり均一にできなくなるという問題、上記の導電性支持体層表面の凹凸部分を下引き層や感光層により十分に被覆できずこの凹凸部分が露出という問題、或いは、感光層中に異物が混入するという問題等、感光体に局所的な欠陥部位が発生するという問題があった。この場合、接触帯電時に感光体の欠陥部位に局所的に高電場がかかり、電気的なピンホールを生じ、これが画質欠陥となる。
【０００６】
また、上記のピンホール（ピンホールリーク）は、電子写真装置の作動中において、該装置を構成する部材から発生する異物、ゴミ、キャリア粉等の導電性の異物が感光体に接触又は感光体中に貫入することによっても発生する場合があった。
【０００７】
上述した画像の画質欠陥の発生を防止して感光体の繰り返し使用に対する画質の安定性や環境安定性の改善するためには、感光層の性能向上のみならず感光層の下地となる下引き層の性能向上も必要とされており、繰り返し使用による電荷蓄積性の少ない下引き層の実現が求められている。
【０００８】
そのため、導電性支持体層（基材）の欠陥を隠蔽しつつ残留電位の上昇等を改善して安定な電気特性を得るために、導電性微粉末を含有させた層を導電性支持体層上に形成した感光体を形成する方法の検討が行われている。
【０００９】
このような方法としては、例えば、アルミニウム基材等の導電性支持体層上に導電性微粉末を含有させた層を形成し、更にこの導電性微粉末を含有させた層上に従来の下引き層と同様の構成を有する層を形成した２層構造の下引き層を有する感光体を形成する方法が、例えば、特開平３−４５９６１号公報に提案されている。この方法の場合は、導電性微粉末を含有させた層に導電性支持体層の表面の凹凸や汚れ等の欠陥の隠蔽を行わせるとともに電気抵抗の調整を行わせ、従来の下引き層と同様の構成を有する層にブロッキング（電荷注入制御）機能を持たせている。
【００１０】
また別の方法としては、導電性支持体層上に導電性微粉末を含有させた層のみを下引き層として形成し、この層に上述のブロッキング機能と抵抗調整機能とを両有させた構成を有する感光体を形成する方法があり、例えば、このような感光体及びその製造方法は、特開２００１−７５２９６号公報に開示されている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、本発明者らは、上述の特開平３−４５９６１号公報及び特開２００１−７５２９６号公報をはじめとする導電性支持体層上に導電性微粉末を含有させた層を形成した構造を有する従来の電子写真感光体であっても、繰返し使用に耐え得る十分な電気特性を得ることが未だ不充分であり、電子写真感光体を繰り返し使用するときに、先に述べたピンホールリークが生じ易く、そのため感光体の帯電性が低下し、繰返し使用にともなって画像濃度が低下する問題、繰返し使用にともなって残留電位の上昇し画像上に黒点等のかぶりが発生する問題が依然としてあることを見出した。
【００１２】
本発明は上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、繰り返し使用に伴う電気特性の低下を充分に防止することのできる高い耐久性と高い解像品質を有しており然も容易に構成することのできる電子写真感光体及びその製造方法、並びにこの電子写真感光体を搭載したプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、下引き層に含有させる金属酸化物粒子を加水分解性の官能基を有する有機金属化合物を用いて表面処理する際に、表面処理前の金属酸化物粒子の含水率が、表面処理後に得られる金属酸化物粒子の下引き層中の分散状態、ひいては下引き層の膜抵抗に大きな影響を与えていることを見出した。
【００１４】
そして、更に本発明者らは、表面処理前の金属酸化物粒子の含水率をコントロールすることにより、所望の膜抵抗値を有し、繰り返し使用に対して良好かつ安定した電気特性を有する下引き層を容易に得ることができることを見出し、本発明に到達した。
【００１５】
すなわち、本発明は、導電性支持体層と、顔料を含む感光層と、導電性支持体層と感光層との間に配置される下引き層と、を有する電子写真感光体であって、下引き層には、加水分解性の官能基を有する有機金属化合物を用いて表面処理された金属酸化物粒子が含有されており、金属酸化物粒子の表面処理を施される以前の状態における含水率が１．０質量％以下であること、を特徴とする電子写真感光体を提供する。
【００１６】
ここで、本発明において、金属酸化物粒子の表面処理を施される以前の状態における「含水率」とは、表面処理前、通常環境下に置かれた金属酸化物粒子の表面に吸着している水分の質量を、上記同一環境下で該水分を含む金属酸化物粒子の総質量で除し、得られる値を百分率で表現した値である。
【００１７】
また、本明細書中では、加水分解性の官能基を有する有機金属化合物（以下、「加水分解性有機金属化合物」という）を用いて表面処理された後の金属酸化物粒子を「金属酸化物粒子Ａ」という。また、金属酸化物粒子Ａに対して表面処理される前の金属酸化物粒子を「金属酸化物粒子Ｂ」という。従って、金属酸化物粒子Ａは、金属酸化物粒子Ｂの表面の一部又は全部に加水分解性有機金属化合物を原料とする被膜が形成された状態の粒子を示す。更に、本発明において、加水分解性有機金属化合物を構成する金属元素にはケイ素も含まれるものとする。また、金属酸化物粒子Ｂの含水率は、熱重量分析法やカールフィッシャー法によって測定することができる。
【００１８】
本発明の電子写真感光体によれば、上述の含水率の条件を満たす金属酸化物粒子Ｂから得られる金属酸化物粒子Ａのみを選択的に下引き層に含有させることにより、繰り返し使用に伴う電荷蓄積性の少ない優れた下引き層を構成することができる。更に、この下引き層を用いることにより、繰り返し使用に伴う電気特性の低下を十分に防止することのできる高い耐久性と高い解像品質を有する電子写真感光体を容易かつ確実に構成することができる。
【００１９】
上述の含水率の条件を満たす金属酸化物粒子Ａのみを選択的に下引き層に含有させることにより、繰り返し使用に伴う電荷蓄積性の少ない優れた下引き層を構成することができることについての詳細なメカニズムは明確には解明されていないが、本発明者らは、以下のように考えている。
【００２０】
すなわち、本発明者らは、金属酸化物粒子Ｂを加水分解性有機金属化合物を用いて表面処理する際、金属酸化物粒子Ｂの含水率が１．０質量％以下であれば、これから得られる金属酸化物粒子Ａの下引き層中における分散状態が従来よりも充分に均一となり、この下引き層は置かれている環境の変化にともなう膜抵抗の変動が充分に抑制されるようになると考えている。
【００２１】
これに対して、金属酸化物粒子Ｂを加水分解性有機金属化合物を用いて表面処理する際、金属酸化物粒子Ｂの含水率が１．０質量％を超えていると、これから得られる金属酸化物粒子Ａの下引き層中における分散状態が不均一となり、この下引き層は置かれている環境の変化にともなって膜抵抗の変動が大きくなる。この場合、例えば、多湿条件下では膜抵抗値の低下が発生し、低湿条件下では膜抵抗値の上昇が発生する。このように、置かれている環境によって下引き層の膜抵抗値が大きく変動すると、これを備える電子写真感光体の、画像品質、画質維持性及びリーク耐性に重大な欠陥を与えることになる。
【００２２】
金属酸化物粒子Ａの下引き層中における分散状態が不均一となることについての詳細なメカニズムについて明確には解明されていないが、本発明者らは、金属酸化物粒子Ｂの含水率が１．０質量％を超えると、金属酸化物粒子Ｂの表面の局所部分において、金属酸化物粒子Ｂと有機金属化合物との反応に比較して金属酸化物粒子Ｂに吸着されている水と有機金属化合物との加水分解反応が優先的に進行してしまい、金属酸化物粒子Ｂを有機金属化合物で充分かつ均一に表面処理することができなくなるからであると考えている。
【００２３】
そして、本発明者らは、上記のように表面処理されていない局所的な表面部分を多く有する金属酸化物粒子Ａは、下引き層を形成するために調製される塗布液（所定の溶媒とバインダー樹脂とを少なくとも含む液）に混入された際に、金属酸化物Ａ同士の凝集を招き、それによって分散不良を起こし易いと考えている。そのため、上記塗布液を導電性支持体層上に塗布して後に得られる下引き層中には良好な導電路が形成されておらず、結果として下引き層及びこれを備える電子写真感光体の繰り返し使用に伴う電気特性の低下及び画質欠陥発生を招きやすい欠点を有すると考えられる。
【００２４】
また、本発明によれば、金属酸化物粒子Ｂの含水率を上述の条件を満たすようにコントロールするのみで、下引き層中の金属酸化物粒子Ａの分散状態を容易にコントロールして良好な状態にすることが効率よくできるので、従来よりも繰り返し使用に伴う電気特性の低下が充分に防止された電気特性を有する下引き層及び電子写真感光体を容易に然も再現性よく確実に構成することができる。
【００２５】
また、上述の含水率の条件を満たす金属酸化物粒子Ａは、加熱乾燥処理等の比較的シンプルな作業でできる処理を行うことにより容易に得ることができるので、この観点からも繰り返し使用に伴う電気特性の低下が充分に防止された下引き層及びこれを備えた電子写真感光体を容易に構成することができる。
【００２６】
更に、本発明により得られる電子写真感光体においては、金属酸化物粒子Ａが下引き層中に均一に分散されており、下引き層の膜抵抗値の環境変動を充分に抑制できるため、下引き層の層厚を厚くすること（以下、厚膜化という）が容易にできる。例えば、下引き層の層厚を例えば１５μｍ以上に調節して形成することができる。
【００２７】
このような厚膜化により、下引き層のリーク耐性を高めてピンホールリークの発生を有効に抑制することが容易にできる。また、このような厚膜化により、電子写真感光体を使用中に異物が感光層に付着しても、これが下引き層を貫いて導電性支持体層にまで混入することを有効に防止することができる。従って、このような下引き層を容易に厚膜化することができるという観点からも、本発明の製造方法によれば、繰り返し使用に伴う電気特性の低下を充分に防止することのできる高い耐久性と高い解像品質を有する電子写真感光体を得ることができる。
【００２８】
また、本発明は、導電性支持体層と、顔料を含む感光層と、導電性支持体層と感光層との間に配置される下引き層と少なくとも有する電子写真感光体の製造方法であって、含水率が１質量％以下である金属酸化物粒子を、加水分解性の官能基を有する有機金属化合物を用いて表面処理し、次いで、該表面処理により得られる粒子を用いて下引き層を形成する工程を含むこと、を特徴とする電子写真感光体の製造方法を提供する。
【００２９】
本発明の電子写真感光体の製造方法によれば、上述の含水率の条件を満たす金属酸化物粒子Ｂから得られる金属酸化物粒子Ａのみを選択的に下引き層に含有させることにより、下引き層中の金属酸化物粒子Ａの分散状態を容易且つ充分に均一にすることができる。そのため、繰り返し使用に伴う電荷蓄積性の少ない優れた下引き層を製造することができ、ひいては、繰り返し使用に伴う電気特性の低下を十分に防止することのできる高い耐久性と高い解像品質を有する先に述べた本発明の電子写真感光体を容易かつ確実に製造することができる。
【００３０】
本発明の電子写真感光体の製造方法においても、金属酸化物粒子Ｂを加水分解性有機金属化合物を用いて表面処理する際、金属酸化物粒子Ｂの含水率が１．０質量％を超えていると、これから得られる金属酸化物粒子Ａの下引き層中における分散状態が不均一となり、この下引き層は置かれている環境の変化にともなって膜抵抗の変動が大きくなる。
【００３１】
更に、本発明は、上述の本発明の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、クリーニング手段及び除電手段のうちの少なくとも一つの手段とを一体に有し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジを提供する。
【００３２】
これにより、本発明のプロセスカートリッジは、繰り返し使用するときに画像上に黒点等のかぶりが発生してしまうことなく高い解像品質を得ることができる。
【００３３】
更に、本発明は、上述の本発明の電子写真感光体と、電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、帯電手段により帯電される電子写真感光体を露光して静電潜像を形成する露光手段と、静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を被転写媒体に転写する転写手段と、を備えることを特徴とする電子写真装置を提供する。
【００３４】
これにより、本発明の電子写真装置は、繰り返し使用するときにコピー画像上に黒点等のかぶりが発生してしまうことなく高い解像品質を長期間維持することができる。
【００３５】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図中、同一又は相当部分には同一符号を付することとする。
【００３６】
なお、本発明の電子写真感光体の製造方法は、電子写真感光体の下引き層を形成する工程において、先に述べた含水率の条件を満たす金属酸化物粒子Ｂに表面処理して得られる金属酸化物粒子Ａを使用すればよく、下引き層以外の電子写真感光体の他の構成要素の製造工程における手順やその際の条件は特に限定されず、例えば、公知の薄膜製造技術を用いることができる。そのため、本発明の電子写真感光体の製造方法の好適な実施形態については、その主要部となる下引き層の形成工程の説明を以下の本発明の電子写真感光体の各実施形態の下引き層の説明において行うこととする。
【００３７】
［第一実施形態］
図１は、本発明の電子写真感光体の第一実施形態を示す断面図である。図１に示すように、電子写真感光体１００は、導電性支持体層３と、下引き層４と、感光層６とから構成されている。この電子写真感光体１００は、先に述べた本発明の電子写真感光体の製造方法により製造されるものである。
【００３８】
導電性支持体層３は、導電性を有していれば特に限定されるものはなく、例えば、アルミニウム、銅、鉄、亜鉛、ニッケル等の金属ドラムを使用することができる。また、ポリマー製シート、紙、プラスチック、又はガラス上に、アルミニウム、銅、金、銀、白金、パラジウム、チタン・ニッケルークロム・ステンレス鋼・銅ーインジウム等の金属を蒸着することによって導電処理したドラム状・シート状・プレート状のもの使用できる。
【００３９】
更には、ポリマー製シート、紙、プラスチック、又はガラス上に、酸化インジウム・酸化錫などの導電性金属化合物を蒸着するか、又は金属箔をラミネートすることによって導電処理したドラム状・シート状・プレート状の物のもの使用できる。また、この他にも、カーボンブラック・酸化インジウム・酸化錫ー酸化アンチモン粉・金属粉・沃化銅等をバインダー樹脂に分散し、ポリマー製シート、紙、プラスチック、又はガラス上に塗布することによって導電処理したドラム状・シート状・プレート状の物なども使用することができる。
【００４０】
ここで、金属パイプ基材を導電性支持体層３として用いる場合、その表面は素管のままであっても、事前に鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニング、着色処理などの処理を行なうことが好ましい。表面処理を行ない基材表面を粗面化することによりレーザービームのような可干渉光源を用いた場合に発生しうる感光体内での干渉光による木目状の濃度斑を防止することができる。
【００４１】
下引き層４は、先に述べたように、加水分解性有機金属化合物を用いて金属酸化物粒子Ｂを表面処理することにより得られた金属酸化物粒子Ａと、バインダー樹脂とを含んでいる。そして、下引き層４は、感光層６の帯電時において、導電性支持体層３から感光層６への電荷の注入を阻止する機能を有する。また、この下引き層４は、感光層６を導電性支持体層３に対して一体的に接着保持せしめる接着層としても機能する。更に、この下引き層４は、導電性支持体層３の光反射を防止する機能を有する。
【００４２】
下引き層４の層厚は可能な限り厚い方が外部からの貫入物質の効果を阻止しやすくなりリーク耐性が向上する一方、層厚が、例えば、１０μｍ以下のような薄膜では十分なリーク耐性を有しない。先に述べたように、本発明の製造方法によれば下引き層４を容易に厚膜化することができる。下引き層４のリーク耐性を高めてピンホールリークの発生を効果的に防止する観点から、下引き層４の層厚は１５μｍよりも大きく５０μｍ以下であることが好ましく、２０〜５０μｍであることがより好ましい。
【００４３】
ここで、下引き層４の層厚が５０μｍを超えると、金属酸化物粒子等の含有物質の分散性を良好に保つことが困難となり、残留電荷の増加による画質低下が生じる傾向が大きくなる。またこの場合、層厚を均一にすることも困難となる傾向が大きくなり、製造コストも増大するおそれがある。
【００４４】
但し、十分なリーク耐性を有しており上述のリーク欠陥の発生が懸念されないような場合には、下引き層の層厚は１５μｍより薄く設定することが可能であり、この場合には０．１μｍ程度の薄膜まで適用可能である。
【００４５】
また、本発明の電子写真感光体の下引き層に使用されるバインダー樹脂は、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン-アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂などの公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂などを用いることができる。
【００４６】
中でも上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが好ましく用いられる。なお、金属酸化物粒子Ｂとバインダ樹脂との配合比率は所望の電子写真感光体の特性を得られる範囲で任意に設定できる。
【００４７】
下引き層４の電気抵抗値は１０4〜１０13Ωｃｍであることが好ましく、１０8〜1013Ωcmであることがより好ましく、109〜1012Ωcmであることが更に好ましい。抵抗値が１０4Ωｃｍ未満であると、十分なリーク耐性を得ることが困難となる傾向が大きくなり、１０13Ωｃｍを超えると、残留電位上昇を引き起こしてしまう傾向が大きくなる。下引き層４の電気抵抗値は金属酸化物粒子Ａ自体の電気抵抗値とその添加量を変化させること、金属酸化物粒子Ａのバインダー樹脂中への分散状態を変化させることで制御することができる。
【００４８】
金属酸化物粒子Ｂは、酸化錫、酸化チタン及び酸化亜鉛からなる群から選択される少なくとも１種の粒子であることが好ましい。
【００４９】
金属酸化物粒子Ｂの粒径は、所望の特性が得られ、下引き層形成用塗布液中に分散が可能であり、その下引き層形成用塗布液が導電性支持体層３の被塗布面上に塗布が可能であり、かつ、下引き層４の層厚以下であればいかなる粒子径のものでも用いることができるが、平均粒子径が１００ｎｍ以下であることが好ましい。なお、ここでいう粒径とは、平均１次粒径を意味する。金属酸化物粒子Ｂとしては、粉体抵抗値が１０2〜１０11Ωcmであるものが利用可能であるが、下引き層４の優れたリーク耐性を得る観点から、特に、粉体抵抗値が１０4〜１０10Ω・cmであるものが好ましい。１０2Ωcm未満であると、十分なリーク耐性が得られず、１０11Ωcmを超えると残留電位の上昇がおこる傾向が大きくなる。
【００５０】
また、金属酸化物粒子Ｂの比表面積は電子写真特性に大きく影響するため、金属酸化物粒子Ｂの比表面積は１０ｍ2／ｇ以上であることが好ましい。比表面積値が１０ｍ2／ｇ未満であると、下引き層４の帯電性の低下を招きやすくなる傾向が大きくなる。
【００５１】
使用環境における温度や湿度の変動による下引き層４の電気抵抗値の変動を抑制する観点から、金属酸化物粒子Ｂの含水率は、１.０質量％以下に調節される。そしてこの金属酸化物粒子Ｂは加水分解性有機金属化合物で表面処理され、金属酸化物粒子Ａとされている。表面処理により金属酸化物粒子Ａとすることにより、下引き層４の電気抵抗に大きな影響を与える金属酸化物粒子の分散状態を上述の好適な電気抵抗値を得るのに適した状態に容易にコントロールすることができる。
【００５２】
ここで、表面処理とは、金属酸化物粒子Ｂの表面に加水分解性有機金属化合物を吸着させ、そこで加水分解性有機金属化合物の加水分解性を有する基を加水分解反応させる処理を示す。
【００５３】
本発明において、加水分解性有機金属化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表されものが好ましい。
ＲｐＭＹｑ …（Ｉ）
【００５４】
ただし、式（Ｉ）中、Ｒは有機基、Ｍは金属元素またはケイ素、Ｙは加水分解性の官能基を示し、p、qはそれぞれ1〜４の整数を示し、pとqとの総和はＭの原子価に相当する。
【００５５】
有機基Ｒとしては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアルール基、トリル基等のアルカリール基、ベンジル基、フェニルエチル基等のアリールアルケニル基、スチリル基等のアリールアルケニル基、フリル基、チエニル基、ピロジニル基、イミダゾリル基等の複素環残基等の有機化合物残基であれば特に限定されるものではない。加水分解性有機金属化合物中の有機基Ｒは、上記の有機化合物残基の中から選択される１種でもよく、２種以上であってもよい。
【００５６】
また、加水分解性の官能基Ｙとしては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基等のエーテル基、アセトキシ基、プロピオニルアキシ基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、ベンゾイルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニル基等のエステル基、塩素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。
【００５７】
更に、Ｍとしては、アルカリ金属以外であれば特に制限されるものではなく、珪素、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ガリウム、ゲルマニウム、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、インジウム、錫、白金等の金属が挙げられる。
【００５８】
そして、上記の有機基Ｒや加水分解性の官能基Ｙを有する加水分解性有機金属化合物としては、上記の有機基や加水分解性の官能基を置換したシランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミネート系カップリング剤及び有機ジルコニウム化合物からなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましく、シランカップリング剤であることがより好ましい。そして、これらの加水分解性有機金属化合物は単独または２種以上混合して用いることができる。
【００５９】
シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、γ-メタクリルオキシプロピル-トリス(β-メトキシエトキシ)シラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルメチルメトキシシラン、N,N-ビス(β-ヒドロキシエチル)-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００６０】
チタネート系カップリング剤としては、例えば、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、ビス（ジオクチルピロホフェート）、イソプロピルトリ（Ｎ―アミノエチルーアミノエチル）チタネート等が挙げられる。
【００６１】
アルミネート系カップリング剤としては、例えば、アセトアルコキシアルイニウムジイソプロピレート等が挙げられる。
【００６２】
また、上記の加水分解性有機金属化合物の中ではシランカップリング剤を用いることが好ましく、メルカプト基を有するシランカップリング剤を用いることがより好ましく、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシランが好ましく用いられる。
【００６３】
また、加水分解性有機金属化合物の使用量は先に述べた金属酸化物粒子Ａを得ることが可能な量を、表面処理に使用する加水分解性有機金属化合物や金属酸化物粒子Ｂなどの組み合わせ、表面処理反応の温度、表面処理に使用する装置や調製する金属酸化物粒子Ａのスケールなどの表面処理条件に合わせて最適化して設定する。
【００６４】
次に、金属酸化物粒子Ｂの含水率を１．０ｗｔ％以下に調節する方法について説明する。金属酸化物粒子Ｂの含水率を１．０ｗｔ％以下に調節する方法としては、１００℃以上に加熱乾燥する方法が有効である。また、後述する金属酸化物粒子Ｂの表面処理が湿式法にて実施される場合には、表面処理剤を添加する前に、表面処理に用いる溶剤と共に金属酸化物粒子Ｂを加熱し、共沸によって水分除去することも可能である。この金属酸化物粒子Ｂの含水率は熱重量分析やカールフィッシャー法によって測定される。
【００６５】
次に、金属酸化物粒子Ｂの表面処理方法について説明する。加水分解性有機金属化合物による金属酸化物粒子Ｂの表面処理の方法は特に限定されず、例えば、乾式法、湿式法、気相法など公知の方法を使用してよい。
【００６６】
なお、本発明においては、例えば、金属酸化物粒子Ｂを表面処理した後、得られる金属酸化物粒子Ａの中から、式（１）の件を満たす金属酸化物粒子Ａを分離してもよいが、例えば、可能な場合には、式（１）の件を満たす金属酸化物粒子Ａを得るための再現性の良い金属酸化物粒子Ｂの表面処理条件を容易に最適化して予め把握しておくことができる場合には、その最適化した金属酸化物粒子Ｂの表面処理条件により得られた金属酸化物粒子Ａの全てを下引き層の形成に使用してもよい。
【００６７】
例えば、乾式法に基づいて表面処理を行う場合の手順の一例を説明する。先ず、表面処理前に金属酸化物粒子Ｂを１００〜１５０℃の温度で予備乾燥し、表面吸着水を除去する。この表面吸着水を処理前に除去することによって、金属酸化物粒子Ｂ表面に均一に加水分解性有機金属化合物を吸着させることができる。このとき、金属酸化物粒子Ｂはせん断力の大きなミキサで攪拌しながら予備乾燥させてもよい。
【００６８】
次に、加水分解性有機金属化合物を金属酸化物粒子Ｂの表面に吸着させる。このとき、金属酸化物粒子Ｂをせん断力の大きなミキサで攪拌しながら、加水分解性有機金属化合物を乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させるか、あるいは、加水分解性有機金属化合物を溶剤（有機溶媒、水等）に溶解させた液を乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させる。これにより、金属酸化物粒子Ｂの表面に加水分解性有機金属化合物が均一吸着させられる。
【００６９】
加水分解性有機金属化合物を金属酸化物粒子Ｂの表面に吸着させる際の温度は、50℃以上の温度で行われることが好ましい。また、溶剤を使用する場合には溶剤の沸点付近の温度で行うことが好ましい。
【００７０】
そして、その後、１００℃以上の温度で焼き付け処理を行う。これにより、加水分解性有機金属化合物の加水分解反応を十分に進行させることができる。焼き付け処理は１５０〜２５０℃の温度で行うことが好ましい。１５０℃未満であると、十分に加水分解性有機金属化合物の加水分解反応を十分に進行させることができなくなるおそれがある。２５０℃を超えると加水分解性有機金属化合物の分解が起こるおそれがある。
【００７１】
次に、必要に応じて、表面処理後の金属酸化物粒子Ａを解砕する。これにより、金属酸化物粒子Ａの凝集体を解砕することができるので、下引き層４中における金属酸化物粒子の分散性を向上させることができる。
【００７２】
次に、湿式法に基づいて表面処理を行う場合の手順の一例を説明する。先ず、金属酸化物粒子Ｂを溶剤中に、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミルなどを用いて分散させ、次に、これに加水分解性有機金属化合物を含む液を添加して攪拌し、表面処理反応を進行させる。その後、この液から蒸留により溶剤を留去する。また、溶剤除去後に得られる固形物をさらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。また、乾式法と同様にこの湿式法においても、表面処理前に金属酸化物粒子Ｂの表面吸着水を除去してもよい。この表面吸着水除去方法としては、乾式法と同様に加熱乾燥による除去の他に、表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法等が挙げられる。
【００７３】
下引き層４には、その電気特性の向上、使用環境における形状安定性の向上、画質向上のために、他の添加物を含有させることができる。
【００７４】
例えば、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7-トリニトロフルオレノン、2,4,5,7-テトラニトロ-9-フルオレノン等のフルオレノン化合物、2-(4-ビフェニル)-5-(4-t-ブチルフェニル)-1,3,4-オキサジアゾール、2,5-ビス(4-ナフチル)-1,3,4-オキサジアゾール、2,5-ビス(4-ジエチルアミノフェニル)1,3,4オキサジアゾールなどのオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、3,3',5,5'テトラ-t-ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物などの電子輸送性物質、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物等の公知の材料を含有させることができる。
【００７５】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2-エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレートなどが挙げられる。
【００７６】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)などが挙げられる。なお、これらの化合物は単独にあるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いることができる。
【００７７】
また、接触帯電時の電流リークの一因となる、外部からの導電性粉等の異物が感光体を貫くことを防止し、耐久性の高い下引き層４を形成する観点から、下引き層４の硬度を高くすることが有効であり、硬度の指標として下引き層４のビッカース硬度を３０以上好ましくは３５以上とすることが好ましい。
【００７８】
また、モアレ像防止の観点から、下引き層４の表面粗さは、使用される露光用レーザー波長λとした場合に、1/4ｎ（ｎは上層の屈折率）〜λに調整されていることが好ましい。なお、ここでいう表面とは、下引き層４の感光層６の側の表面である。また、この表面粗さ調整のために下引き層４中に粒子を添加してもよい。この粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメチルメタクリレート樹脂（PMMA）、酸化ケイ素の粒子等を用いることができる。
【００７９】
更に、表面粗さ調整のために下引き層４の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウエットホーニング、研削処理等を用いることもできる。
【００８０】
次に下引き層４の形成方法（下引き層４の形成工程）について説明する。この下引き層４は、上述の金属酸化物粒子Ｂを少なくとも１種以上の加水分解性金属化合物を用いて表面処理した後にえられる金属酸化物Ａのうち、式（１）の条件を満たす粒子を先に述べたバインダー樹脂中に分散させて得られる塗布液を導電性支持体層３上に塗布することにより形成することができる。
【００８１】
下引き層４の形成用の塗布液を調整するための溶媒としては公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択することができる。
【００８２】
例えば、メタノール、エタノール、n-プロパノール、iso-プロパノール、n-ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いることができる。
【００８３】
また、これらの分散に用いる溶剤は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤としてバインダー樹脂を溶かす事ができる溶剤であれば、いかなるものでも使用することが可能である。
【００８４】
金属酸化物粒子Ａをバインダー樹脂中に分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの方法を用いることができる。さらにこの下引き層を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【００８５】
次に、感光層６について説明する。図１に示すように、感光層６は電荷発生層１と電荷輸送層２とから構成されている。
【００８６】
電荷発生層１に含有される顔料（電荷発生物質）は特に限定されず、公知の顔料を使用することができる。
【００８７】
赤外光を利用する感光体では、例えば、フタロシアニン顔料、スクアリリウム顔料、ビスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ペリレン顔料、ジチオケトピロロピロール顔料を使用することができる。また、可視光レーザを利用する感光体では、例えば、縮合多環顔料、ビスアゾ顔料、ペリレン顔料、トリゴナルセレン、色素増感した金属酸化物等を使用することができる。
【００８８】
上述した顔料の中では、優れた画像を得られることから、フタロシアニン系顔料を使用することが好ましい。これにより、特に高感度で、繰り返し使用しても良好な画質を安定して得ることのできる電子写真感光体を構成することが容易にできる。
【００８９】
フタロシアニン系顔料は一般に数種の結晶型を有しており、目的にあった感度が得られる結晶型であるならば、これらのいずれの結晶型でも用いることができる。特に、フタロシアニン系顔料の中でも下記式（１）〜（６）に示されるフタロシアニン系顔料が好ましく用いられる。
【００９０】
【化１】
【００９１】
上記の式（１）〜（６）中、クロロガリウムフタロシアニンとしては、Cukα線を用いたX線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度(2θ±0.2°)の値が7.4°,16.6°,25.5°,28.3°である位置に回折ピークを少なくとも有するものが好ましい。また、オキソチタニルフタロシアニンとしては、Cukα線を用いたX線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度(2θ±0.2°)の値が9.6°,24.1°,27.3°である位置に回折ピークを少なくとも有し、最大ピークを27.3°に有するものが好ましい。
【００９２】
また、下記式（１）〜（６）に示されるフタロシアニン顔料以外に、式（４）の配位中心となるＧａに結合しているＣｌ原子を−ＯＨ基に置換したヒドロキシガリウムフタロシアニンも好ましい。このようなヒドロキシガリウムフタロシアニンとしては、Cukα線を用いたX線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度(2θ±0.2°)の値が7.5°,9.9°,12.5°,16.3°,18.6°, 25.1°,28.1°である位置に回折ピークを少なくとも有するものが好ましい。
【００９３】
更に、このような顔料は、公知の方法で製造される顔料結晶を、自動乳鉢、遊星ミル、振動ミル、CFミル、ローラーミル、サンドミル、ニーダー等で機械的に乾式粉砕するか、乾式粉砕後、溶剤と共にボールミル、乳鉢、サンドミル、ニーダー等を用いて湿式粉砕処理を行うことによって製造することができる。
【００９４】
上記の湿式粉砕処理において使用される溶剤としては、芳香族類(トルエン、クロロベンゼン等)、アミド類(ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン等)、脂肪族アルコール類(メタノール、エタノール、ブタノール等)、脂肪族多価アルコール類(エチレングリコール、グリセリン、ポリエチレングリコール等)、芳香族アルコール類(ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等)、エステル類(酢酸エステル、酢酸ブチル等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン等)、ジメチルスルホキシド、エーテル類(ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等)、さらには数種の混合系、水とこれら有機溶剤の混合系が挙げられる。
【００９５】
また、この溶剤は、顔料結晶に対して、１〜２００質量部、好ましくは１０〜１００質量部の範囲で使用する。更に、処理温度は、０℃〜溶剤の沸点、好ましくは１０〜６０℃の範囲で行う。また、粉砕の際に食塩、ぼう硝等の磨砕助剤を用いることもできる。
【００９６】
そして磨砕助剤は顔料に対し0.5〜20倍、好ましくは1〜10倍用いればよい。また、公知の方法で製造される顔料結晶を、アシッドペースティングあるいはアシッドペースティングと前述したような乾式粉砕あるいは湿式粉砕を組み合わせることにより、結晶制御することもできる。
【００９７】
アシッドペースティングに用いる酸としては、硫酸が好ましく、濃度（質量パーセント濃度）７０〜１００%、好ましくは９５〜１００%のものが使用され、溶解温度は、−２０〜１００℃好ましくは−２０〜６０℃の範囲に設定される。濃硫酸の量は、顔料結晶の重量に対して、１〜１００倍、好ましくは３〜５０倍の範囲に設定される。析出させる溶剤としては、水あるいは、水と有機溶剤の混合溶剤、アンモニア水等が任意の量で用いられる。析出させる温度については特に制限はないが、発熱を防ぐために、氷等で冷却することが好ましい。
【００９８】
また、顔料の含有量は、電荷発生層１の全質量に対して、１０〜９０質量％であることが好ましく、４０〜７０質量％であることがより好ましい。顔料の含有量がそれぞれ上記の数値範囲の下限値未満となると、十分な感度が得られにくくなる。一方、顔料の含有量がそれぞれ上記の数値範囲の上限値を超えると、帯電性の低下、感度の低下などの弊害が発生する傾向が大きくなる。
【００９９】
電荷発生層１に含有されるバインダー樹脂は、絶縁性樹脂であれば特に限定されるものではなく、広範な絶縁性樹脂から選択して使用することができる。例えば、好ましいバインダー樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアリレート樹脂(ビスフェノールAとフタル酸の重縮合体等)、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂をあげることができる。
【０１００】
電荷発生層１用のバインダー樹脂としては、顔料の分散性の観点から、特にポリビニルアセタール樹脂及び塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体が好ましく用いられる。なお、上記のバインダー樹脂は、単独あるいは2種以上を混合して用いてもよい。
【０１０１】
また、顔料とバインダー樹脂との配合比(質量比)は、電荷発生層１の場合、10:1〜1:10の範囲が好ましい。顔料の質量に対してバインダー樹脂の質量が上記の配合比で示される値未満となると、成膜性が悪くなる等の弊害が発生する傾向が大きくなる。一方、顔料の質量に対してバインダー樹脂の質量が上記の配合比で示される値を超えると、膜中の含有量が相対的に少なくなるため十分な感度が得られなくなる傾向が大きくなる。
【０１０２】
更に、電荷発生層１を形成するための塗布液に含まれる有機溶剤は、バインダー樹脂を溶かす事ができる溶剤であり、かつ、顔料（電荷発生物質）の結晶型を変化させる影響を及ぼさないものであれば特に限定されるものではなく、公知の有機溶剤を使用することができる。
【０１０３】
例えば、アルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択することができる。具体的には、例えば、メタノール、エタノール、n-プロパノール、iso-プロパノール、n-ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いることができる。そして、これらの有機溶剤は単独あるいは2種以上混合して用いることができる。
【０１０４】
この電荷発生層１には、その電気特性の向上、画質向上などのために下引き層４の説明において記載したものと同じ他の添加剤を添加することもできる。
【０１０５】
更に、電荷発生層１の層厚は、良好な電気特性と画質を与えるために、０．０５〜５μｍであることが好ましく、０．１〜１μｍであることがより好ましい。電荷発生層１の厚みが０．０５μｍ未満であると、十分な感度を与えることができない。一方、電荷発生層１の厚みが５μｍを超えると、帯電性の不良などの弊害を生じさせ易い。
【０１０６】
電荷発生層１は、顔料（電荷発生物質）、有機溶剤、バインダー樹脂、添加剤（例えば、顔料の分散助剤等）等を混合して塗布液を調製し、これを下引き層４上に塗布して更に乾燥させることにより形成することができる。また、電荷発生層１は、電荷発生物質を下引き層４上に真空蒸着することによっても形成することができる。
【０１０７】
電荷発生層１の形成用の塗布液を調製するには、顔料、バインダー樹脂、有機溶剤、その他の添加剤（例えば、顔料の分散助剤等）等とともに混合する。顔料を液中に高分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの分散方法を用いることができる。
【０１０８】
更に、成膜性の観点から、電荷発生層１を形成するための塗布液に含まれる顔料などの分散粒子の粒子径は、0.5μm以下であることが好ましく、0.3μm以下であることがより好ましく、0.15μm以下であることが更に好ましい。分散粒子の粒子径が0.5μmを超えると、電荷発生層１の成膜性が悪くなり、画質欠陥を生じ易い。
【０１０９】
電荷発生層１の形成用の塗布液を下引き層４上に塗布する場合の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【０１１０】
次に電荷輸送層２について説明する。電荷輸送層２に含有される電荷輸送物質は、特に限定されるものではなく、公知の物質を使用することができる。
【０１１１】
例えば、2,5-ビス(p-ジエチルアミノフェニル)-1,3,4-オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、1,3,5-トリフェニル-ピラゾリン、1-[ピリジル-(2)]-3-(p-ジエチルアミノスチリル)-5-(p-ジエチルアミノスチリル)ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、トリ(P-メチル)フェニルアミン、N,N’-ビス(3,4-ジメチルフェニル)ビフェニル-4-アミン、ジベンジルアニリン、9,9-ジメチル-N,N’-ジ(p-トリル)フルオレノン-2-アミン等の芳香族第3級アミノ化合物、N,N’-ジフェニル-N,N’-ビス(3-メチルフェニル)-[1,1-ビフェニル]-4,4’-ジアミン等の芳香族第3級ジアミノ化合物、3-(4’ジメチルアミノフェニル)-5,6-ジ-(4’-メトキシフェニル)-1,2,4-トリアジン等の1,2,4-トリアジン誘導体、4-ジエチルアミノベンズアルデヒド-1,1-ジフェニルヒドラゾン、4-ジフェニルアミノベンズアルデヒド-1,1-ジフェニルヒドラゾン、[p-(ジエチルアミノ)フェニル](1-ナフチル)フェニルヒドラゾンなどのヒドラゾン誘導体、2-フェニル-4-スチリル-キナゾリン等のキナゾリン誘導体、6-ヒドロキシ-2,3-ジ(p-メトキシフェニル)-ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、p-(2,2-ジフェニルビニル)-N,N’-ジフェニルアニリン等のα-スチルベン誘導体、エナミン誘導体、N-エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ-N-ビニルカルバゾール及びその誘導体等の正孔輸送物質、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7-トリニトロフルオレノン、2,4,5,7-テトラニトロ-9-フルオレノン等のフルオレノン化合物、2-(4-ビフェニル)-5-(4-t-ブチルフェニル)-1,3,4-オキサジアゾール、2,5-ビス(4-ナフチル)-1,3,4-オキサジアゾール、2,5-ビス(4-ジエチルアミノフェニル)1,3,4オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、3,3',5,5'テトラ-t-ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物などの電子輸送物質等が挙げられる。
【０１１２】
更には、電荷輸送物質は、以上例示した化合物の基本構造を主鎖又は側鎖に有する重合体等も挙げられる。そして、これらの電荷輸送材料は、1種又は2種以上を組み合せて使用することもできる。
【０１１３】
また、電荷輸送層２に含有されるバインダー樹脂は特に限定されるものではなく、公知のものを使用することができるが、電機絶縁性のフィルムを形成することが可能な樹脂が好ましい。
【０１１４】
例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレンーブタジエン共重合体、塩化ビニリデンーアクリロニトリル共重合体、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂。シリコン−アルキッド樹脂、フェノールーホルムアルデヒド樹脂、スチレンーアルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−カルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルフォルマール、ポリスルホン、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロース、フェノール樹脂、ポリアミド、カルボキシーメチルセルロース、塩化ビニリデン系ポリマーワックス、ポリウレタン等が挙げられる。
【０１１５】
そして、これらのバインダー樹脂は、単独又は2種類以上混合して用いることができる。特に、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂が電荷輸送物質との相溶性、溶剤への溶解性、強度の点で優れているので好ましく用いられる。
【０１１６】
また、バインダー樹脂と電荷輸送物質との配合比(質量比)は電気特性低下、膜強度低下に考慮しつつ任意に設定することができる。この電荷輸送層２の層厚は5〜50μmであることが好ましく、10〜35μmであることがより好ましい。
【０１１７】
電荷輸送層２は、電荷輸送物質、有機溶剤、バインダー樹脂等を混合して塗布液を調製し、これを電荷発生層１上に塗布して更に乾燥させることにより形成することができる。
【０１１８】
電荷輸送層２の形成用の塗布液を調製するには、電荷輸送物質、有機溶剤、バインダー樹脂等とともに混合する。電荷輸送物質を液中に高分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの分散方法を用いることができる。
【０１１９】
更に、成膜性の観点から、電荷輸送層２を形成するための塗布液に含まれる顔料などの分散粒子の粒子径は、0.5μm以下であることが好ましく、0.3μm以下であることがより好ましく、0.15μm以下であることが更に好ましい。分散粒子の粒子径が0.5μmを超えると、電荷輸送層２の成膜性が悪くなり、画質欠陥を生じ易い。
【０１２０】
更に、電荷輸送層２の形成用の塗布液に用いる溶剤としては、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独あるいは2種以上混合して用いることができる。
【０１２１】
電荷輸送層２の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【０１２２】
［第二実施形態］
図２は、本発明の電子写真感光体の第二実施形態を示す断面図である。図２に示す電子写真感光体１１０は、感光層６を単層構造とした以外は図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する。
【０１２３】
図２に示す感光層６は、図１に示した電荷発生層１と電荷輸送層２に含有される電荷発生物質と電荷輸送物質をはじめとする物質を合わせて含有する層である。
【０１２４】
感光層６がこのように単層型の場合には、顔料の含有量は、感光層６の全質量に対して、０．１〜５０質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがより好ましい。また、顔料の含有量が上記の数値範囲の下限値未満となると、十分な感度が得られにくくなる。一方、顔料の含有量が上記の数値範囲の上限値を超えると、帯電性の低下、感度の低下などの弊害が発生する傾向が大きくなる。
【０１２５】
また、このように感光層６が単層型の場合、バインダー樹脂としては、正孔輸送性材料との相溶性の観点から、特にポリカーボネート樹脂及びメタクリル樹脂が好ましく用いられる。更に、これらの樹脂のポリ-N-ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシランなどの有機光導電性ポリマーの中から選択して使用してもよい。なお、上記のバインダー樹脂は、単独あるいは2種以上を混合して用いてもよい。
【０１２６】
この感光層６も、上述した電荷輸送物質、上述した電荷輸送物質、上述した有機溶剤、バインダー樹脂等を混合して塗布液を調製し、上述と同様の方法により導電性支持体層３上に塗布して更に乾燥させることにより形成することができる。
【０１２７】
［第三実施形態］
図３は、本発明の電子写真感光体の第三実施形態を示す断面図である。図３に示す電子写真感光体１２０は、感光層６上に保護層５を備えること以外は図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する。
【０１２８】
保護層５は、電子写真感光体１２０の帯電時の電荷輸送層２の化学的変化を防止したり、感光層６の機械的強度をさらに改善する為に用いられる。この保護層５は、導電性材料を適当なバインダー樹脂中に含有させた塗布液を感光層６上に塗布することにより形成することができる。
【０１２９】
この導電性材料は特に限定されるものではなく、例えば、N,N'-ジメチルフェロセン等のメタロセン化合物、N,N'-ジフェニル-N,N'-ビス(3-メチルフェニル)-[1,1'-ビフェニル]-4,4'-ジアミン等の芳香族アミン化合物、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化インジウム、酸化錫とアンチモン、硫酸バリウムと酸化アンチモンとの固溶体の担体、上記金属酸化物の混合物、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛又は硫酸バリウムの単一粒子中に上記の金属酸化物を混合したもの、或いは、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛又は硫酸バリウムの単一粒子中に上記の金属酸化物を被覆したものが挙げられる。
【０１３０】
この保護層５に用いるバインダー樹脂としては、ポリアミド樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルケトン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等の公知の樹脂が用いられる。また、これらは必要に応じて互いに架橋させて使用することもできる。
【０１３１】
また保護層５は、電荷輸送性高分子化合物により形成することもできる。この電荷輸送性高分子化合物を含む層としては、ポリビニカルバゾール等の電荷輸送能を有する基を側鎖に含む高分子化合物、特開平5-232727号公報等に開示されているような電荷輸送能を有する基を主鎖に含む高分子化合物、およびポリシラン等をあげることができる。また、電荷輸送性高分子化合物として、電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロックよりなるブロック共重合体またはグラフト共重合体を使用することもできる。
【０１３２】
更に電荷輸送性高分子化合物が、トリアリールアミン構造を繰り返し単位として含有する場合は、高い電荷輸送能と好ましい機械的特性を有しているので好ましく、また、トリアリールアミン構造がペンダント型ではなく、主鎖中に含有している場合は、さらに好ましい。ペンダント型であると、ペンダント同士が会合し、電荷トラップを形成し電荷輸送性を悪化する場合が多いが、主鎖中に含有されていることでこのような問題を回避できる。さらに、前記トリアリールアミン構造が下記式(７)又は(８)で表される構造の少なくとも1種以上を繰り返し単位として含有する場合は特に好ましい。
【０１３３】
【化２】
【０１３４】
ここで、式(７)中、Ar1及びAr2はそれぞれ独立に置換もしくは未置換のアリール基を示し、X1は芳香族環構造を有する2価の炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を示し、X2及びX3はそれぞれ独立に置換もしくは未置換のアリーレン基を示し、L1は枝分れもしくは環構造を含んでもよい2価の炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を示し、m及びnは、それぞれ0または1から選ばれる整数を示す。
【０１３５】
【化３】
【０１３６】
ここで、式（８）中、Ar3及びAr4はそれぞれ独立に置換もしくは未置換のアリール基を示し、L2は芳香族環構造を有する3価の炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を示す。
【０１３７】
更に、先に述べたように上述の式(７)中、Ar1及びAr2はそれぞれ独立に置換もしくは未置換のアリール基から選ばれ、該アリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ピレニル基等が挙げられる。また、置換基としては、メチル基、エチル基、メトキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
【０１３８】
また、先に述べたように上述の式(７)中X1は芳香族環構造を有する2価の炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基から選ばれる。具体例としては、フェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基、ナフチレン基、メチレンジフェニル基、シクロヘキシリデンジフェニル基、オキシジフェニル基、チオジフェニル基等、およびこれらのメチル置換体、エチル置換体、メトキシ置換体、またはハロゲン置換体等が挙げられ、この中でも特に置換もしくは未置換のビフェニレン基が電荷輸送性の点で、特に好ましい。
【０１３９】
更に、先に述べたように上述の式(７)中X2及びX3はそれぞれ独立に置換もしくは未置換のアリーレン基から選ばれ、具体的には、フェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基、ナフチレン基等、およびこれらのメチル置換体、エチル置換体、メトキシ置換体、またはハロゲン置換体等が挙げられる。
【０１４０】
また、先に述べたように上述の式(７)中L1は枝分れもしくは環構造を含んでもよい2価の炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基から選ばれ、上記の好ましい特性の少なくとも1つを発揮するかぎり任意であるが、エーテル結合、エステル結合、カーボネート結合、シロキサン結合等から選ばれる結合基を含み、且つ炭素数が20以下であるものが好ましい。その具体例としては、下記式（９）〜式（１６）で表されるものが挙げられる。
【０１４１】
【化４】
【０１４２】
更に、先に述べたように上述の式(８)中、Ar3及びAr4はそれぞれ独立に置換もしくは未置換のアリール基から選ばれ、該アリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ピレニル基等が挙げられる。また、置換基としては、炭素数1〜12個のアルキル基またはアルコキシ基、ジアリールアミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
【０１４３】
また、先に述べたように上述の式(８)中L2は芳香族環構造を有する3価の炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基から選ばれ、上記の好ましい特性の少なくとも1つを発揮するかぎり任意であるが、炭素数が20以下のものが好ましい。その具体例としては、下記式（１７）〜式（２１）で表されるものが挙げられる。
【０１４４】
【化５】
【０１４５】
【化６】
【０１４６】
また、上述の式(７)中のL1又は式(８)中のL2がエステル結合を有する場合は、機械的特性に優れ、電荷輸送能に優れるため、本発明において特に好ましい。
【０１４７】
保護層５の厚みは１〜２０μｍであることが好ましく、２〜１０μｍであることがより好ましい。この保護層５を形成するための塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【０１４８】
また、保護層５を形成するための塗布液に用いる溶剤としては、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独あるいは2種以上混合して用いることができるが、できるだけこの塗布液が塗布される感光層６を溶解しにくい溶剤を用いることが好ましい。
【０１４９】
［第四実施形態］
図４は、本発明の電子写真感光体の第四実施形態を示す断面図である。図４に示す電子写真感光体１３０は、感光層６を単層構造とし、感光層６上に保護層５を備える以外は図２に示した電子写真感光体１１０と同様の構成を有する。
【０１５０】
［第五実施形態］
図５は、本発明の電子写真感光体の第五実施形態を示す断面図である。図５に示す電子写真感光体１４０は、感光層６と下引き層４との間に中間層４２を備える以外は図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する。この中間層４２は、感光体１４０の電気特性の向上、画質の向上、感光層６の接着性向上のために設けられている。
【０１５１】
この中間層４２の構成材料は特に限定されず、合成樹脂、有機物質或いは無機物質の粉末、電子輸送性物質等から任意に選択することができる。
【０１５２】
中間層４２の合成樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン-アルキッド樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子樹脂化合物、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を用いることができる。
【０１５３】
そして、これらの化合物は単独にあるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いることができる。更にこれらの中でも、ジルコニウムキレート化合物、シランカップリング剤は残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ないなど性能上優れている。
【０１５４】
上記のシランカップリング剤の例としてはビニルトリメトキシシラン、γ-メタクリルオキシプロピル-トリス(β-メトキシエトキシ)シラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルメチルメトキシシラン、N,N-ビス(β-ヒドロキシエチル)-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-クロルプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【０１５５】
これらの中でも特に好ましく用いられるシリコン化合物としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2-メトキシエトキシシラン)、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-クロロプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤が挙げられる。
【０１５６】
ジルコニウムキレート化合物としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【０１５７】
チタニウムキレート化合物としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2-エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【０１５８】
アルミニウムキレート化合物としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。
【０１５９】
中間層４２中には、電気特性の向上や光散乱性の向上などの目的により、各種の有機化合物の微粉末もしくは無機化合物の微粉末を添加することができる。特に、酸化チタン、酸化亜鉛、亜鉛華、硫化亜鉛、鉛白、リトポン等の白色顔料やアルミナ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の体質顔料としての無機顔料やテフロン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、スチレン樹脂粒子などが有効である。
【０１６０】
添加微粉末の粒径は０．０１〜２μｍのものが用いられる。微粉末は必要に応じて添加されるが、その添加量は中間層４２の固形分の総質量に対して、質量比で１０〜９０質量％であることが好ましく、３０〜８０質量％であることがより好ましい。
【０１６１】
また、中間層４２中には、先に説明した電子輸送性物質、電子輸送性顔料等を含有させることも低残留電位化や環境安定性の観点から有効である。更に、中間層４２の厚みは０．０１〜３０μｍであることが好ましく、０．０５〜２５μｍであることがより好ましい。
【０１６２】
また、中間層４２を形成するための塗布液の調製する際に、微粉末状の物質を添加する場合には樹脂成分を溶解した溶液中に添加して分散処理が行われる。この分散処理方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの方法を用いることができる。
【０１６３】
更に、この中間層４２は導電性支持体層３上に中間層４２を形成するための塗布液を塗布し、乾燥させることにより形成することができる。このときの塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【０１６４】
［第六実施形態］
図６は、本発明の電子写真感光体の第六実施形態を示す断面図である。図６に示す電子写真感光体１５０は、感光層６を単層構造とし、感光層６と下引き層４との間に中間層４２を備える以外は図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する。
【０１６５】
そして、中間層４２は、上述の図５に示した感光体１４０と同様の構成を有する。
【０１６６】
［第七実施形態］
図７は、本発明の電子写真感光体の第七実施形態を示す断面図である。
図７に示す電子写真感光体１６０は、感光層６上に保護層５を設け、感光層６と下引き層４との間に中間層４２を備える以外は図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する。
【０１６７】
そして、中間層４２は、上述の図５に示した感光体１４０の中間層４２と同様の構成を有する。また、保護層５も上述の図３に示した感光体１２０の保護層５と同様の構成を有する。
【０１６８】
［第八実施形態］
図８は、本発明の電子写真感光体の第七実施形態を示す断面図である。
図８に示す電子写真感光体１７０は、感光層６上に保護層５を設け、感光層６を単層構造とし、感光層６と下引き層４との間に中間層４２を備える以外は図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する。
【０１６９】
そして、中間層４２は、上述の図５に示した感光体１４０の中間層４２と同様の構成を有する。また、保護層５も上述の図３に示した感光体１２０の保護層５と同様の構成を有する。更に、感光層６も上述の図２に示した感光体１１０の感光層６と同様の構成を有する。
【０１７０】
以上、本発明の電子写真感光体の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明の電子写真感光体は上記実施形態に限定されるものではない。
【０１７１】
例えば、本発明の電子写真感光体の感光層には、図１、図３及び図５に示した感光体１００、１２０及び１４０のように２層からなる構成の場合、図２、図４及び図６に示した感光体１１０、１３０及び１５０のように単層構造の場合の何れにおいても、電子写真装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光・熱による感光体の劣化を防止する目的で、酸化防止剤・光安定剤・熱安定剤などの添加剤を添加してもよい。
【０１７２】
例えば、酸化防止剤としてはヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物などが挙げられる。
【０１７３】
酸化防止剤の具体的な化合物例として、フェノール系酸化防止剤では2,6-ジ-t-ブチル-4-メチル フェノール、スチレン化フェノール、n-オクタデシル-3-(3',5'-ジ-t-ブチル 4'-ヒドロキシフェニル)-プロピオネート、2,2'-メチレン-ビス-(4-メチル-6-t-ブチル フェノール)、2-t-ブチル-6-(3'-t-ブチル-5'-メチル-2'-ヒドロキシベンジル)-4-メチルフェニル アクリレート、4,4'-ブチリデン-ビス-(3-メチル-6-t-ブチル-フェノール)、4,4'-チオ-ビス-(3-メチル 6-t-ブチルフェノール)、1,3,5-トリス(4-t-ブチル-3-ヒドロキシ-2,6-ジメチル ベンジル)イソシアヌレート、テトラキス-[メチレン-3-(3',5'-ジ-t-ブチル-4'-ヒドロキシ-フェニル)プロピオネート]-メタン、3,9-ビス[2-[3-(3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチル フェニル)プロピオニルオキシ]-1,1-ジメチル エチル]-2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカンなどが挙げられる。
【０１７４】
ヒンダードアミン系化合物としては、ビス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)セバケート、1-[2-[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]エチル]-4-[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、8-ベンジル-7,7,9,9-テトラメチル-3-オクチル-1,3,8-トリアザスピロ[4,5]ウンデカン-2,4-ジオン、4-ベンゾイルオキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、コハク酸ジメチル-1-(2-ヒドロキシエチル)-4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ[[6-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)イミノ-1,3,5-トリアジン-2,4-ジイミル][(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)イミノ]ヘキサメチレン[(2,3,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)イミノ]]、2-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)-2-n-ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)、N,N'-ビス(3-アミノプロピル)エチレンジアミン-2,4-ビス[N-ブチル-N-(1,2,2,6,6,-ペンタメチル-4ピペリジル)アミノ]-6-クロロ-1,3,5-トリアジン縮合物などが挙げられる。
【０１７５】
有機イオウ系酸化防止剤としては、ジラウリル-3,3'-チオジプロピオネート、ジミリスチル-3,3'-チオジプロピオネート、ジステアリル-3,3'-チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール-テトラキス-(β-ラウリル-チオプロピオネート)、ジトリデシル-3,3'-チオジプロピオネート、2-メルカプト ベンズイミダゾールなどが挙げられる。有機燐系酸化防止剤としてトリスノニルフェニル フォスフィート、トリフェニル フォスフィート、トリス(2,4-ジ-t-ブチル フェニル)-フォスフィートなどが挙げられる。
【０１７６】
有機硫黄系および有機燐系酸化防止剤は2次酸化防止剤と言われフェノール系あるいはアミン系などの1次酸化防止剤と併用することにより相乗効果を得ることができる。
【０１７７】
光安定剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ジチオカルバメート系、テトラメチルピペリジン系などの誘導体が挙げられる。例えば、ベンゾフェノン系光安定剤としては、2-ヒドロキシ-4-メトキシ ベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-オクトキシ ベンゾフェノン、2,2'-ジ-ヒドロキシ-4-メトキシ ベンゾフェノンなどが挙げられる。
【０１７８】
ベンゾトリアゾール系系光安定剤としては、2-(-2'-ヒドロキシ-5'メチル フェニル-)-ベンゾトリアゾール、2-[2'-ヒドロキシ-3'-(3'',4'',5'',6''-テトラ-ヒドロフタルイミド-メチル)-5'-メチルフェニル]-ベンゾトリアゾール、2-(-2'-ヒドロキシ-3'-t-ブチル 5'-メチルフェニル-)-5-クロロ ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-t-ブチル 5'-メチルフェニル-)-5-クロロ ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3',5'-t-ブチルフェニル-)-ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-5'-t-オクチル フェニル)-ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ 3',5'-ジ-t-アミル フェニル-)-ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
【０１７９】
その他の化合物としては、2,4,ジ-t-ブチルフェニル 3',5'-ジ-t-ブチル-4'-ヒドロキシベンゾエート、ニッケル ジブチル-ジチオカルバメートなどがある。
【０１８０】
また、感光層６には、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として少なくとも1種の電子受容性物質を含有させることができる。
【０１８１】
使用可能な電子受容性物質としては、例えば無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、o-ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、o-ニトロ安息香酸、p-ニトロ安息香酸、フタル酸などが挙げられる。
【０１８２】
これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、−Cl,−CN,−NO2等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましく用いられる。更に、本発明の感光層形成用塗布液には、塗膜の平滑性向上のためのレベリング剤としてシリコーンオイルを微量添加することもできる。
【０１８３】
以上説明した本発明の本発明の電子写真感光体は、近赤外光もしくは可視光に発光するレーザービームプリンター、デイジタル複写機、LEDプリンター、レーザーファクシミリなどの電子写真装置や、このような電子写真装置に備えれられるプロセスカートリッジに搭載することができる。また、本発明の電子写真感光体は一成分系、二成分系の正規現像剤あるいは反転現像剤とも合わせて用いることができる。また本発明の電子写真感光体は帯電ローラーや帯電ブラシを用いた接触帯電方式の電子写真装置に搭載されても電流リークの発生が少ない良好な特性が得られる。
【０１８４】
次に、本発明の本発明の電子写真感光体を搭載した電子写真装置及びプロセスカートリッジについて説明する。
【０１８５】
図９は、本発明の電子写真装置の好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。図９に示す電子写真装置２００は、電子写真感光体７と、電子写真感光体７をコロナ放電方式により帯電させるコロトロンやスコロトロンなどの帯電手段８と、帯電手段８に接続された電源９と、帯電手段８により帯電される電子写真感光体７を露光して静電潜像を形成する露光手段１０と、露光手段１０により形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段１１と、現像手段１１により形成されたトナー像を被転写媒体に転写する転写手段１２と、クリーニング装置１３と、除電器１４と、定着装置１５とを備える。
【０１８６】
また、図１０は、図９に示す本発明の電子写真装置の別の実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。
【０１８７】
図１０に示す電子写真装置２１０は、電子写真感光体７を接触方式により帯電させる帯電手段８を備えていること以外は、図９に示した電子写真装置２００と同様の構成を有する。特に、直流電圧に交流電圧を重畳した接触式の帯電手段を採用する電子写真装置においては、優れた耐摩耗性を有するため、好ましく使用できる。なお、この場合には、除電器１４が設けられていないものもある。
【０１８８】
帯電手段（帯電用部材）８は、感光体７の表面に接触するように配置され、感光体に電圧を均一に印加し、感光体表面を所定の電位に帯電させるものである。帯電手段８にはアルミニウム、鉄、銅などの金属、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェンなどの導電性高分子材料、ポリウレタンゴム、シリコーンゴム、エピクロロヒドリンゴム、エチレンプロピレンゴム、アクリルゴム、フッソゴム、スチレンーブタジエンゴム、ブタジエンゴム等のエラストマー材料にカーボンブラック、沃化銅、沃化銀、硫化亜鉛、炭化けい素、金属酸化物などの金属酸化物粒子を分散したものなどを用いることができる。
【０１８９】
この金属酸化物の例としてはZｎO、SnO2、TiO2、In2O3、MoO3等、あるいはこれらの複合酸化物が挙げられる。また、帯電手段８にはエラストマー材料中に過塩素酸塩を含有させて導電性を付与したものを使用しても良い。
【０１９０】
更に、帯電手段８にはその表面に被覆層を設けてもよい。被覆層を形成する材料としては、N-アルコキシメチル化ナイロン、セルロース樹脂、ビニルピリジン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、ポリビニルブチラール、メラミン等が単独、あるいは併用して用いられる。また、エマルジョン樹脂系材料、たとえば、アクリル樹脂エマルジョン、ポリエステル樹脂エマルジョン、ポリウレタン、特にソープフリーのエマルジョン重合により合成されたエマルジョン樹脂を用いることも出来る。
【０１９１】
これらの樹脂にはさらに抵抗率を調整するために、導電剤粒子を分散してもよいし、劣化を防止するために酸化防止剤を含有させることもできる。また、被覆層を形成する時の成膜性を向上させるために、エマルジョン樹脂にレベリング剤または界面活性剤を含有させることもできる。また、この接触帯電用部材の形状としては、ローラー型、ブレード型、ベルト型、ブラシ型、などが挙げられる。
【０１９２】
さらに、帯電手段８の電気抵抗値は、好ましくは102〜1014Ωcm、さらに好ましくは102〜1012Ωcmの範囲が良い。また、この接触帯電用部材への印加電圧は、直流、交流いずれも用いることができる。又、直流＋交流の形で印加することもできる。
【０１９３】
図１１は図９に示す本発明の電子写真装置の更に別の実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。図１１に示す電子写真装置２２０は中間転写方式の電子写真装置であり、ハウジング４００内において４つの電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄが中間転写ベルト４０９に沿って相互に並列に配置されている。
【０１９４】
ここで、電子写真装置２２０に搭載されている電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄは、それぞれ本発明の電子写真感光体である。例えば、先に述べた電子写真感光体１００、電子写真感光体１１０、電子写真感光体１２０、電子写真感光体１３０、電子写真感光体１４０、電子写真感光体１５０、電子写真感光体１６０、電子写真感光体１７０のいずれかが搭載されていてもよい。
【０１９５】
電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄのそれぞれは所定の方向（紙面上は反時計回り）に回転可能であり、その回転方向に沿って帯電ロール４０２ａ〜４０２ｄ、現像装置４０４ａ〜４０４ｄ、１次転写ロール４１０ａ〜４１０ｄ、クリーニングブレード１５ａ〜１５ｄが配置されている。現像装置４０４ａ〜４０４ｄのそれぞれにはトナーカートリッジ４０５ａ〜４０５ｄに収容されたブラック、イエロー、マゼンタ、シアンの４色のトナーが供給可能であり、また、１次転写ロール４１０ａ〜４１０ｄはそれぞれ中間転写ベルト４０９を介して電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄに当接している。
【０１９６】
更に、ハウジング４００内の所定の位置にはレーザ光源（露光手段）４０３が配置されており、レーザ光源４０３から出射されたレーザー光を帯電後の電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの表面に照射することが可能となっている。これにより、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの回転工程において帯電、露光、現像、１次転写、クリーニングの各工程が順次行われ、各色のトナー像が中間転写ベルト４０９上に重ねて転写される。
【０１９７】
中間転写ベルト４０９は駆動ロール４０６、バックアップロール４０８及びテンションロール４０７により所定の張力をもって支持されており、これらのロールの回転によりたわみを生じることなく回転可能となっている。また、２次転写ロール４１３は、中間転写ベルト４０９を介してバックアップロール４０８と当接するように配置されている。バックアップロール４０８と２次転写ロール４１３との間を通った中間転写ベルト４０９はクリーニングブレード１４により清浄面化された後、次の画像形成プロセスに繰り返し供される。
【０１９８】
また、ハウジング４００内の所定の位置にはトレイ（被転写媒体トレイ）４１１が設けられており、トレイ４１１内の紙などの被転写媒体５００が移送ロール４１２により中間転写ベルト４０９と２次転写ロール４１３との間、さらには相互に当接する２個の定着ロール４１４の間に順次移送された後、ハウジング４００の外部に排紙される。
【０１９９】
更に、図１２は、本発明のプロセスカートリッジの好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。プロセスカートリッジ３００は、電子写真感光体７とともに、帯電手段８、現像手段１１、クリーニング装置（クリーニング手段）１３、露光のための開口部１８、及び除電器１４を取り付けレール１６を用いて組み合せ、そして一体化したものである。
【０２００】
そして、このプロセスカートリッジ３００は、転写手段１２と、定着装置１５と、図示しない他の構成部分とからなる電子写真装置本体に対して着脱自在としたものであり、電子写真装置本体とともに電子写真装置を構成するものである。
【０２０１】
【実施例】
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明の内容をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【０２０２】
以下に示す手順により図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する実施例１〜実施例４、比較例１〜比較例４の電子写真感光体を作製した。
【０２０３】
（実施例１）
以下の手順にて図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する感光体を作製した。
【０２０４】
酸化スズ（商品名：Ｓ１，三菱マテリアル製，比表面積：５０ｍ2／ｇ）を空気中、１５０℃で５時間加熱乾燥させ、その含水率を調節した。熱重量分析の結果、得られた酸化スズ粒子の含水率は０．２質量％であった。この酸化スズ粒子１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（商品名：Ａ１１００，日本ユニカー社製）：１５質量部を添加し、５時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、１００℃で２時間焼き付けを行った。
【０２０５】
次に、得られた表面処理後の酸化スズ粒子３５質量部と、硬化剤（ブロック化イソシアネート スミジュール3175，住友バイエルンウレタン社製） ：１５質量部と、ブチラール樹脂 BM-1 (積水化学社製)：６質量部と、メチルエチルケトン：４４質量部とを混合し、1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い分散液を得た。
【０２０６】
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５質量部と、シリコーンオイルＳＨ２９ＰＡ（東レダウコーニングシリコーン社製）：０．０１質量部とを添加し、下引き層用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、厚さ１ｍｍのアルミニウム基材（導電性支持体層）上に塗布し、１６０℃、１００分の乾燥硬化を行い厚さ２０μｍの下引き層を形成した。
【０２０７】
次に、下引き層上に２層構造の感光層を形成した。まず、電荷発生物質としてのCukα線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度(２θ±０．２°)が少なくとも７．４゜，１６．６゜，２５．５゜，２８．３゜の位置に回折ピークを有する塩化ガリウムフタロシアニン：１５質量部、バインダー樹脂となる塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、ｎ-ブチルアルコール：３００質量部からなる混合物を、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。
【０２０８】
得られた分散液を電荷発生層形成用の塗布液として下引き層上に浸漬塗布し、乾燥して、層厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０２０９】
さらに、N,N'-ジフェニル-N,N'-ビス(3-メチルフェニル)-[1、1']ビフェニル-4,4'-ジアミン：４質量部と、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量４万）：６質量部とをクロロベンゼン：８０質量部に加えて溶解した。得られた分散液を電荷輸送層形成用の塗布液として電荷発生層上に浸漬塗布し、１３０℃、４０分の乾燥を行うことにより層厚が２５μｍの電荷輸送層を形成した。
【０２１０】
（実施例２）
以下の手順にて図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する感光体を作製した。
【０２１１】
酸化チタン（商品名：ＴＡＦ５００J，富士チタン社製，比表面積：１８ｍ2／ｇ）を空気中、１５０℃で５時間加熱乾燥させ、その含水率を調節した。熱重量分析の結果、得られた酸化チタン粒子の含水率は０．１質量％であった。この酸化チタン粒子１００質量部をミキサ中で攪拌しながら、これにトルエン１０質量部とシランカップリング剤（商品名：ＫＢＭ５０３，信越化学社製）：２質量部との混合液を添加し、１０分間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、１７０℃で２時間焼き付けを行った。
【０２１２】
次に、得られた表面処理後の酸化チタン粒子５０質量部と、硬化剤（ブロック化イソシアネート スミジュール3175，住友バイエルンウレタン社製） ：１５質量部と、ブチラール樹脂 BM-1 (積水化学社製)：６質量部と、メチルエチルケトン：６０質量部とを混合し、1ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間の分散を行い分散液を得た。
【０２１３】
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５質量部と、シリコーンオイルＳＨ２９ＰＡ（東レダウコーニングシリコーン社製）：０．０１質量部とを添加し、下引き層用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、厚さ１ｍｍのアルミニウム基材（導電性支持体層）上に塗布し、１６０℃、１００分の乾燥硬化を行い厚さ２０μｍの下引き層を形成した。
【０２１４】
次に、実施例１と同様の手順で電荷発生層と電荷輸送層とを順次形成し、電子写真感光体を作製した。
【０２１５】
（実施例３）
以下の手順にて図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する感光体を作製した。
【０２１６】
酸化亜鉛（平均粒子径７０ｎｍ，テイカ社製試作品，比表面積：１５ｍ2／ｇ）を空気中、１５０℃で５時間加熱乾燥させ、その含水率を調節した。熱重量分析の結果、得られた酸化亜鉛粒子の含水率は０．１質量％であった。この酸化亜鉛粒子１００質量部をトルエン５００質量部と撹拌混合し、これにシランカップリング剤（商品名：ＫＢＭ６０３，信越化学社製）：１．５質量部を添加し、２時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、１５０℃で２時間焼き付けを行った。
【０２１７】
次に、得られた表面処理後の酸化亜鉛粒子６０質量部と、硬化剤（ブロック化イソシアネート スミジュール3175，住友バイエルンウレタン社製） ：１５質量部と、ブチラール樹脂 BM-1 (積水化学社製)：１５質量部と、メチルエチルケトン：８５質量部とを混合した。得られた液：８質量部とメチルエチルケトン：２５質量部とを混合し、1ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い分散液を得た。
【０２１８】
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５質量部と、シリコーンオイルＳＨ２９ＰＡ（東レダウコーニングシリコーン社製）：０．０１質量部とを添加し、下引き層用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、厚さ１ｍｍのアルミニウム基材（導電性支持体層）上に塗布し、１６０℃、１００分の乾燥硬化を行い厚さ２０μｍの下引き層を形成した。
【０２１９】
次に、下引き層上に２層構造の感光層を形成した。まず、電荷発生物質としてのCukα線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度(２θ±０．２°)が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン：１５質量部、バインダー樹脂となる塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、ｎ-酢酸ブチル：３００質量部からなる混合物を、1ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。
【０２２０】
得られた分散液を電荷発生層形成用の塗布液として下引き層上に浸漬塗布し、乾燥して、層厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。次に、実施例１と同様の手順で電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を作製した。
【０２２１】
（実施例４）
以下の手順にて図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する感光体を作製した。
【０２２２】
酸化亜鉛（商品名：ＭＺ３００，テイカ社製，比表面積：４０ｍ2／ｇ）を空気中、１５０℃で５時間加熱乾燥させ、その含水率を調節した。熱重量分析の結果、得られた酸化亜鉛粒子の含水率は０．１質量％であった。この酸化亜鉛粒子１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、これにシランカップリング剤（商品名：KBM４０３，信越化学社製）：５質量部を添加し、２時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、１５０℃で２時間焼き付けを行った。
【０２２３】
次に、表面処理後の酸化亜鉛：６０質量部と、硬化剤（ブロック化イソシアネート スミジュール3175，住友バイエルンウレタン社製） ：１５質量部と、ブチラール樹脂 ＢＭ−１(積水化学社製)：１５質量部と、メチルエチルケトン：８５質量部とを混合した。得られた液：３８質量部とメチルエチルケトン：２５質量部とを混合し、1ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い分散液を得た。
【０２２４】
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５質量部と、シリコーンオイルＳＨ２９ＰＡ（東レダウコーニングシリコーン社製）：０．０１質量部とを添加し、下引き層用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、厚さ１ｍｍのアルミニウム基材（導電性支持体層）上に塗布し、１６０℃、１００分の乾燥硬化を行い厚さ２０μｍの下引き層を形成した。
【０２２５】
次に、下引き層上に２層構造の感光層を形成した。まず、電荷発生物質としてのCukα線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度(２θ±０．２°)が少なくとも２７．３゜の位置に回折ピークを有するオキシチタニルフタロシアニン：１５質量部、バインダー樹脂となる塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、ｎ-酢酸ブチル：３００質量部からなる混合物を、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。
【０２２６】
得られた分散液を電荷発生層形成用の塗布液として下引き層上に浸漬塗布し、乾燥して、層厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。次に、実施例１と同様の手順で電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を作製した。
【０２２７】
（比較例１）
実施例１で用いた金属酸化物粒子を加熱処理せずに使用したこと以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を作製した。熱重量分析の結果、使用した金属酸化物粒子の含水率は１．５質量％であった。
【０２２８】
（比較例２）
実施例２で用いた金属酸化物粒子を加熱処理せずに使用したこと以外は、実施例２と同様にして電子写真感光体を作製した。熱重量分析の結果、使用した金属酸化物粒子の含水率は１．２質量％であった。
【０２２９】
（比較例３）
実施例３で用いた金属酸化物粒子を加熱処理せずに使用したこと以外は、実施例３と同様にして電子写真感光体を作製した。熱重量分析の結果、使用した金属酸化物粒子の含水率は１．１質量％であった。
【０２３０】
（比較例４）
実施例４で用いた金属酸化物粒子を加熱処理せずに使用したこと以外は、実施例４と同様にして電子写真感光体を作製した。熱重量分析の結果、使用した金属酸化物粒子の含水率は１．３質量％であった。
【０２３１】
［電子写真感光体の電子写真特性評価試験］
（１）使用初期の特性評価（初期電位測定）
実施例１〜実施例４及び比較例１〜比較例４の電子写真感光体を図９と同様の構造を有するレーザープリンタ−スキャナー（商品名：XP-15の改造機、富士ゼロックス社製）に搭載し、それぞれの電子写真感光体の電子写真特性を以下のように評価した。
【０２３２】
常温常湿（２０℃、４０％ＲＨ）環境下、グリッド印加電圧−７００Ｖのスコロトロン帯電器で各電子写真感光体を帯電させたときの各電子写真感光体の表面の電位Ａ［Ｖ］を測定した。次に、７８０ｎｍの半導体レーザーを用いて、帯電させてから1秒後の各電子写真感光体に１０ｍＪ/ｍ2の光を照射して放電を行わせ、このときの各電子写真感光体の表面の電位Ｂ［Ｖ］を測定した。続いて、放電させてから３秒後各電子写真感光体に５０ｍＪ/ｍ2の赤色ＬＥＤ光を照射して除電を行い、このときの各電子写真感光体の表面の電位Ｃ［Ｖ］を測定した。
【０２３３】
ここで、電位Ａの値が高いほど、電子写真感光体の受容電位が高いので、コントラストを高く取ることができることになる。また、電位Ｂの値が低いほど高感度な電子写真感光体であることになる。更に、電位Ｃの値が低いほど残留電位が少なく、画像メモリーやいわゆるかぶりが少ない電子写真感光体と評価される。これらの結果を表１に示す。
【０２３４】
（２）初期（１０枚プリント後）の画質評価
実施例１〜実施例４及び比較例１〜比較例４の電子写真感光体を図１１と同様の構造を有する接触帯電装置、中間転写装置を有するフルカラープリンター（商品名：Docu Centre Color 400、富士ゼロックス社製）に搭載し、１０枚の紙への連続プリントテストを行った。
【０２３５】
そして、１０枚プリント後の画質を、「異常なし」；良好な画質が得られた、「カブリ僅かに発生」；紙面の１００ｍｍ×２００ｍｍの範囲に微細な黒点が２０個以下、「カブリ発生」；１００ｍｍ×２００ｍｍの範囲に微細な黒点が１０００個以上確認できる、とした評価基準のもとで評価した。これらの結果を表１に示す。
【０２３６】
（３）繰り返し使用後の特性評価
上述の（１）で説明した操作を1万回繰り返し、帯電、露光後の電位Ａ〜電位Ｃの測定を行った。これらの結果を表１に示す。
【０２３７】
（４）使用環境の変化に対する安定性評価
上記の操作を低温低湿（10℃、15％ＲＨ）、高温高湿（28℃、85%ＲＨ）の２つの異なる環境下で行い、帯電、露光後の電位Ａ〜電位Ｃの測定を行った。そして、これらの異なる環境間での電位Ａ〜電位Ｃの値の変動量（ΔＡ、ΔＢ、ΔＣ）を測定し、使用環境の変化に対する各電子写真感光体の安定性評価を行った。これらの結果を表１に示す。
【０２３８】
（５）１万枚プリント後の画質評価
実施例１〜実施例４及び比較例１〜比較例４の電子写真感光体を図１１と同様の構造を有する接触帯電装置、中間転写装置を有するフルカラープリンター（商品名：Docu Centre Color 400、富士ゼロックス社製）に搭載し、１万枚の紙への連続プリントテストを行った。
【０２３９】
そして、１万枚プリント後の画質を、「異常なし」；良好な画質が得られた、「全面かぶり発生」；紙面全体に微細な黒点がみられる、「黒点発生」；紙面に大きな黒点がみられる、とした評価基準のもとで評価した。これらの結果を表１に示す。
【０２４０】
【表１】
【０２４１】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、繰り返し使用に伴う電気特性の低下を充分に防止することのできる高い耐久性と高い解像品質を有しており然も容易に構成することのできる電子写真感光体及びその製造方法を提供することができる。そして、このような電子写真感光体を備えることにより、長期にわたり繰り返し使用しても高い解像品質を得ることのできるプロセスカートリッジ並びに電子写真装置を提供することできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の電子写真感光体の第一実施形態を示す断面図である。
【図２】本発明の電子写真感光体の第二実施形態を示す断面図である。
【図３】本発明の電子写真感光体の第三実施形態を示す断面図である。
【図４】本発明の電子写真感光体の第四実施形態を示す断面図である。
【図５】本発明の電子写真感光体の第五実施形態を示す断面図である。
【図６】本発明の電子写真感光体の第六実施形態を示す断面図である。
【図７】本発明の電子写真感光体の第七実施形態を示す断面図である。
【図８】本発明の電子写真感光体の第八実施形態を示す断面図である。
【図９】本発明の電子写真装置の好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。
【図１０】図９に示す本発明の電子写真装置の別の実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。
【図１１】図９に示す本発明の電子写真装置の更に別の実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。
【図１２】本発明のプロセスカートリッジの好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。
【符号の説明】
１…電荷発生層、３…導電性支持体層、４…下引き層、５…保護層、６…感光層、７…電子写真感光体、８…帯電手段、９…電源、１０…露光手段、１１…現像手段、１２…転写手段、１３…クリーニング装置、１４…除電器、１６…取り付けレール、１８…露光のための開口部、４２…中間層、１００，１１０，１２０，１３０，１４０，１５０，１６０，１７０…電子写真感光体、２００…電子写真装置、２１０…電子写真装置、３００…プロセスカートリッジ、４００・・・ハウジング、４０１ａ〜４０１ｄ・・・電子写真感光体、４０２ａ〜４０２ｄ・・・帯電ロール、４０３・・・レーザ光源（露光装置）、４０４ａ〜４０４ｄ・・・現像装置、４０５ａ〜４０５ｄ・・・トナーカートリッジ、４０６・・・駆動ロール、４０７・・・テンションロール、４０８・・・バックアップロール、４０９・・・中間転写ベルト、４１０ａ〜４１０ｄ・・・１次転写ロール、４１１・・・トレイ（被転写体トレイ）、４１２・・・移送ロール、４１３・・・２次転写ロール、４１４・・・定着ロール、５００・・・被転写媒体。
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジ及び電子写真装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年電子写真感光体は、高速、かつ高印字品質が得られるという利点を有するため、複写機及びレーザービームプリンター等の分野において多く利用されている。これら電子写真装置において用いられる電子写真感光体として、従来からのセレン、セレンーテルル合金、セレンーヒ素合金、硫化カドミウム等無機光導電材料を用いた電子写真感光体に比べ、安価で製造性及び安全性の点で優れた利点を有するフタロシアニン系の顔料等の有機光導電材料を電荷発生物質として含有した電子写真感光体が主流を占める様になってきている。
【０００３】
このような感光体の中でも、露光により電荷を発生する電荷発生層と電荷を輸送する電荷輸送層とからなる感光層を有する機能分離型感光体は、感度・帯電性及びその繰り返し安定性等、電子写真特性の点で優れており、種々の構成の提案が成され、実用化されている。
【０００４】
この機能分離型感光体の場合、現在ではアルミニウム基材等の導電性支持体層上に下引き層を形成し、その後、下引き層上に電荷発生層及び電荷輸送層を順次形成する場合が多い。
【０００５】
特に、近年、電子写真装置においては、コロトロンに代わりオゾン発生が少ない接触帯電方式の帯電装置が用いられるようになってきている。そして、電子写真装置に搭載されている感光体の感光層における電荷発生物質（顔料）の分散状態を十分に均一とすることや、導電性支持体層の表面を凹凸無く形成することや汚れの混入を十分防止することが不充分となると、導電性支持体層上に塗工により形成される下引き層や感光層が塗膜むら等により厚さが塗工された領域の全域にわたり均一にできなくなるという問題、上記の導電性支持体層表面の凹凸部分を下引き層や感光層により十分に被覆できずこの凹凸部分が露出という問題、或いは、感光層中に異物が混入するという問題等、感光体に局所的な欠陥部位が発生するという問題があった。この場合、接触帯電時に感光体の欠陥部位に局所的に高電場がかかり、電気的なピンホールを生じ、これが画質欠陥となる。
【０００６】
また、上記のピンホール（ピンホールリーク）は、電子写真装置の作動中において、該装置を構成する部材から発生する異物、ゴミ、キャリア粉等の導電性の異物が感光体に接触又は感光体中に貫入することによっても発生する場合があった。
【０００７】
上述した画像の画質欠陥の発生を防止して感光体の繰り返し使用に対する画質の安定性や環境安定性の改善するためには、感光層の性能向上のみならず感光層の下地となる下引き層の性能向上も必要とされており、繰り返し使用による電荷蓄積性の少ない下引き層の実現が求められている。
【０００８】
そのため、導電性支持体層（基材）の欠陥を隠蔽しつつ残留電位の上昇等を改善して安定な電気特性を得るために、導電性微粉末を含有させた層を導電性支持体層上に形成した感光体を形成する方法の検討が行われている。
【０００９】
このような方法としては、例えば、アルミニウム基材等の導電性支持体層上に導電性微粉末を含有させた層を形成し、更にこの導電性微粉末を含有させた層上に従来の下引き層と同様の構成を有する層を形成した２層構造の下引き層を有する感光体を形成する方法が、例えば、特開平３−４５９６１号公報に提案されている。この方法の場合は、導電性微粉末を含有させた層に導電性支持体層の表面の凹凸や汚れ等の欠陥の隠蔽を行わせるとともに電気抵抗の調整を行わせ、従来の下引き層と同様の構成を有する層にブロッキング（電荷注入制御）機能を持たせている。
【００１０】
また別の方法としては、導電性支持体層上に導電性微粉末を含有させた層のみを下引き層として形成し、この層に上述のブロッキング機能と抵抗調整機能とを両有させた構成を有する感光体を形成する方法があり、例えば、このような感光体及びその製造方法は、特開２００１−７５２９６号公報に開示されている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、本発明者らは、上述の特開平３−４５９６１号公報及び特開２００１−７５２９６号公報をはじめとする導電性支持体層上に導電性微粉末を含有させた層を形成した構造を有する従来の電子写真感光体であっても、繰返し使用に耐え得る十分な電気特性を得ることが未だ不充分であり、電子写真感光体を繰り返し使用するときに、先に述べたピンホールリークが生じ易く、そのため感光体の帯電性が低下し、繰返し使用にともなって画像濃度が低下する問題、繰返し使用にともなって残留電位の上昇し画像上に黒点等のかぶりが発生する問題が依然としてあることを見出した。
【００１２】
本発明は上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、繰り返し使用に伴う電気特性の低下を充分に防止することのできる高い耐久性と高い解像品質を有しており然も容易に構成することのできる電子写真感光体及びその製造方法、並びにこの電子写真感光体を搭載したプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、下引き層に含有させる金属酸化物粒子を加水分解性の官能基を有する有機金属化合物を用いて表面処理する際に、表面処理前の金属酸化物粒子の含水率が、表面処理後に得られる金属酸化物粒子の下引き層中の分散状態、ひいては下引き層の膜抵抗に大きな影響を与えていることを見出した。
【００１４】
そして、更に本発明者らは、表面処理前の金属酸化物粒子の含水率をコントロールすることにより、所望の膜抵抗値を有し、繰り返し使用に対して良好かつ安定した電気特性を有する下引き層を容易に得ることができることを見出し、本発明に到達した。
【００１５】
すなわち、本発明は、導電性支持体層と、顔料を含む感光層と、導電性支持体層と感光層との間に配置される下引き層と、を有する電子写真感光体であって、下引き層には、加水分解性の官能基を有する有機金属化合物を用いて表面処理された金属酸化物粒子が含有されており、金属酸化物粒子の表面処理を施される以前の状態における含水率が１．０質量％以下であること、を特徴とする電子写真感光体を提供する。
【００１６】
ここで、本発明において、金属酸化物粒子の表面処理を施される以前の状態における「含水率」とは、表面処理前、通常環境下に置かれた金属酸化物粒子の表面に吸着している水分の質量を、上記同一環境下で該水分を含む金属酸化物粒子の総質量で除し、得られる値を百分率で表現した値である。
【００１７】
また、本明細書中では、加水分解性の官能基を有する有機金属化合物（以下、「加水分解性有機金属化合物」という）を用いて表面処理された後の金属酸化物粒子を「金属酸化物粒子Ａ」という。また、金属酸化物粒子Ａに対して表面処理される前の金属酸化物粒子を「金属酸化物粒子Ｂ」という。従って、金属酸化物粒子Ａは、金属酸化物粒子Ｂの表面の一部又は全部に加水分解性有機金属化合物を原料とする被膜が形成された状態の粒子を示す。更に、本発明において、加水分解性有機金属化合物を構成する金属元素にはケイ素も含まれるものとする。また、金属酸化物粒子Ｂの含水率は、熱重量分析法やカールフィッシャー法によって測定することができる。
【００１８】
本発明の電子写真感光体によれば、上述の含水率の条件を満たす金属酸化物粒子Ｂから得られる金属酸化物粒子Ａのみを選択的に下引き層に含有させることにより、繰り返し使用に伴う電荷蓄積性の少ない優れた下引き層を構成することができる。更に、この下引き層を用いることにより、繰り返し使用に伴う電気特性の低下を十分に防止することのできる高い耐久性と高い解像品質を有する電子写真感光体を容易かつ確実に構成することができる。
【００１９】
上述の含水率の条件を満たす金属酸化物粒子Ａのみを選択的に下引き層に含有させることにより、繰り返し使用に伴う電荷蓄積性の少ない優れた下引き層を構成することができることについての詳細なメカニズムは明確には解明されていないが、本発明者らは、以下のように考えている。
【００２０】
すなわち、本発明者らは、金属酸化物粒子Ｂを加水分解性有機金属化合物を用いて表面処理する際、金属酸化物粒子Ｂの含水率が１．０質量％以下であれば、これから得られる金属酸化物粒子Ａの下引き層中における分散状態が従来よりも充分に均一となり、この下引き層は置かれている環境の変化にともなう膜抵抗の変動が充分に抑制されるようになると考えている。
【００２１】
これに対して、金属酸化物粒子Ｂを加水分解性有機金属化合物を用いて表面処理する際、金属酸化物粒子Ｂの含水率が１．０質量％を超えていると、これから得られる金属酸化物粒子Ａの下引き層中における分散状態が不均一となり、この下引き層は置かれている環境の変化にともなって膜抵抗の変動が大きくなる。この場合、例えば、多湿条件下では膜抵抗値の低下が発生し、低湿条件下では膜抵抗値の上昇が発生する。このように、置かれている環境によって下引き層の膜抵抗値が大きく変動すると、これを備える電子写真感光体の、画像品質、画質維持性及びリーク耐性に重大な欠陥を与えることになる。
【００２２】
金属酸化物粒子Ａの下引き層中における分散状態が不均一となることについての詳細なメカニズムについて明確には解明されていないが、本発明者らは、金属酸化物粒子Ｂの含水率が１．０質量％を超えると、金属酸化物粒子Ｂの表面の局所部分において、金属酸化物粒子Ｂと有機金属化合物との反応に比較して金属酸化物粒子Ｂに吸着されている水と有機金属化合物との加水分解反応が優先的に進行してしまい、金属酸化物粒子Ｂを有機金属化合物で充分かつ均一に表面処理することができなくなるからであると考えている。
【００２３】
そして、本発明者らは、上記のように表面処理されていない局所的な表面部分を多く有する金属酸化物粒子Ａは、下引き層を形成するために調製される塗布液（所定の溶媒とバインダー樹脂とを少なくとも含む液）に混入された際に、金属酸化物Ａ同士の凝集を招き、それによって分散不良を起こし易いと考えている。そのため、上記塗布液を導電性支持体層上に塗布して後に得られる下引き層中には良好な導電路が形成されておらず、結果として下引き層及びこれを備える電子写真感光体の繰り返し使用に伴う電気特性の低下及び画質欠陥発生を招きやすい欠点を有すると考えられる。
【００２４】
また、本発明によれば、金属酸化物粒子Ｂの含水率を上述の条件を満たすようにコントロールするのみで、下引き層中の金属酸化物粒子Ａの分散状態を容易にコントロールして良好な状態にすることが効率よくできるので、従来よりも繰り返し使用に伴う電気特性の低下が充分に防止された電気特性を有する下引き層及び電子写真感光体を容易に然も再現性よく確実に構成することができる。
【００２５】
また、上述の含水率の条件を満たす金属酸化物粒子Ａは、加熱乾燥処理等の比較的シンプルな作業でできる処理を行うことにより容易に得ることができるので、この観点からも繰り返し使用に伴う電気特性の低下が充分に防止された下引き層及びこれを備えた電子写真感光体を容易に構成することができる。
【００２６】
更に、本発明により得られる電子写真感光体においては、金属酸化物粒子Ａが下引き層中に均一に分散されており、下引き層の膜抵抗値の環境変動を充分に抑制できるため、下引き層の層厚を厚くすること（以下、厚膜化という）が容易にできる。例えば、下引き層の層厚を例えば１５μｍ以上に調節して形成することができる。
【００２７】
このような厚膜化により、下引き層のリーク耐性を高めてピンホールリークの発生を有効に抑制することが容易にできる。また、このような厚膜化により、電子写真感光体を使用中に異物が感光層に付着しても、これが下引き層を貫いて導電性支持体層にまで混入することを有効に防止することができる。従って、このような下引き層を容易に厚膜化することができるという観点からも、本発明の製造方法によれば、繰り返し使用に伴う電気特性の低下を充分に防止することのできる高い耐久性と高い解像品質を有する電子写真感光体を得ることができる。
【００２８】
また、本発明は、導電性支持体層と、顔料を含む感光層と、導電性支持体層と感光層との間に配置される下引き層と少なくとも有する電子写真感光体の製造方法であって、含水率が１質量％以下である金属酸化物粒子を、加水分解性の官能基を有する有機金属化合物を用いて表面処理し、次いで、該表面処理により得られる粒子を用いて下引き層を形成する工程を含むこと、を特徴とする電子写真感光体の製造方法を提供する。
【００２９】
本発明の電子写真感光体の製造方法によれば、上述の含水率の条件を満たす金属酸化物粒子Ｂから得られる金属酸化物粒子Ａのみを選択的に下引き層に含有させることにより、下引き層中の金属酸化物粒子Ａの分散状態を容易且つ充分に均一にすることができる。そのため、繰り返し使用に伴う電荷蓄積性の少ない優れた下引き層を製造することができ、ひいては、繰り返し使用に伴う電気特性の低下を十分に防止することのできる高い耐久性と高い解像品質を有する先に述べた本発明の電子写真感光体を容易かつ確実に製造することができる。
【００３０】
本発明の電子写真感光体の製造方法においても、金属酸化物粒子Ｂを加水分解性有機金属化合物を用いて表面処理する際、金属酸化物粒子Ｂの含水率が１．０質量％を超えていると、これから得られる金属酸化物粒子Ａの下引き層中における分散状態が不均一となり、この下引き層は置かれている環境の変化にともなって膜抵抗の変動が大きくなる。
【００３１】
更に、本発明は、上述の本発明の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、クリーニング手段及び除電手段のうちの少なくとも一つの手段とを一体に有し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジを提供する。
【００３２】
これにより、本発明のプロセスカートリッジは、繰り返し使用するときに画像上に黒点等のかぶりが発生してしまうことなく高い解像品質を得ることができる。
【００３３】
更に、本発明は、上述の本発明の電子写真感光体と、電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、帯電手段により帯電される電子写真感光体を露光して静電潜像を形成する露光手段と、静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を被転写媒体に転写する転写手段と、を備えることを特徴とする電子写真装置を提供する。
【００３４】
これにより、本発明の電子写真装置は、繰り返し使用するときにコピー画像上に黒点等のかぶりが発生してしまうことなく高い解像品質を長期間維持することができる。
【００３５】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図中、同一又は相当部分には同一符号を付することとする。
【００３６】
なお、本発明の電子写真感光体の製造方法は、電子写真感光体の下引き層を形成する工程において、先に述べた含水率の条件を満たす金属酸化物粒子Ｂに表面処理して得られる金属酸化物粒子Ａを使用すればよく、下引き層以外の電子写真感光体の他の構成要素の製造工程における手順やその際の条件は特に限定されず、例えば、公知の薄膜製造技術を用いることができる。そのため、本発明の電子写真感光体の製造方法の好適な実施形態については、その主要部となる下引き層の形成工程の説明を以下の本発明の電子写真感光体の各実施形態の下引き層の説明において行うこととする。
【００３７】
［第一実施形態］
図１は、本発明の電子写真感光体の第一実施形態を示す断面図である。図１に示すように、電子写真感光体１００は、導電性支持体層３と、下引き層４と、感光層６とから構成されている。この電子写真感光体１００は、先に述べた本発明の電子写真感光体の製造方法により製造されるものである。
【００３８】
導電性支持体層３は、導電性を有していれば特に限定されるものはなく、例えば、アルミニウム、銅、鉄、亜鉛、ニッケル等の金属ドラムを使用することができる。また、ポリマー製シート、紙、プラスチック、又はガラス上に、アルミニウム、銅、金、銀、白金、パラジウム、チタン・ニッケルークロム・ステンレス鋼・銅ーインジウム等の金属を蒸着することによって導電処理したドラム状・シート状・プレート状のもの使用できる。
【００３９】
更には、ポリマー製シート、紙、プラスチック、又はガラス上に、酸化インジウム・酸化錫などの導電性金属化合物を蒸着するか、又は金属箔をラミネートすることによって導電処理したドラム状・シート状・プレート状の物のもの使用できる。また、この他にも、カーボンブラック・酸化インジウム・酸化錫ー酸化アンチモン粉・金属粉・沃化銅等をバインダー樹脂に分散し、ポリマー製シート、紙、プラスチック、又はガラス上に塗布することによって導電処理したドラム状・シート状・プレート状の物なども使用することができる。
【００４０】
ここで、金属パイプ基材を導電性支持体層３として用いる場合、その表面は素管のままであっても、事前に鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニング、着色処理などの処理を行なうことが好ましい。表面処理を行ない基材表面を粗面化することによりレーザービームのような可干渉光源を用いた場合に発生しうる感光体内での干渉光による木目状の濃度斑を防止することができる。
【００４１】
下引き層４は、先に述べたように、加水分解性有機金属化合物を用いて金属酸化物粒子Ｂを表面処理することにより得られた金属酸化物粒子Ａと、バインダー樹脂とを含んでいる。そして、下引き層４は、感光層６の帯電時において、導電性支持体層３から感光層６への電荷の注入を阻止する機能を有する。また、この下引き層４は、感光層６を導電性支持体層３に対して一体的に接着保持せしめる接着層としても機能する。更に、この下引き層４は、導電性支持体層３の光反射を防止する機能を有する。
【００４２】
下引き層４の層厚は可能な限り厚い方が外部からの貫入物質の効果を阻止しやすくなりリーク耐性が向上する一方、層厚が、例えば、１０μｍ以下のような薄膜では十分なリーク耐性を有しない。先に述べたように、本発明の製造方法によれば下引き層４を容易に厚膜化することができる。下引き層４のリーク耐性を高めてピンホールリークの発生を効果的に防止する観点から、下引き層４の層厚は１５μｍよりも大きく５０μｍ以下であることが好ましく、２０〜５０μｍであることがより好ましい。
【００４３】
ここで、下引き層４の層厚が５０μｍを超えると、金属酸化物粒子等の含有物質の分散性を良好に保つことが困難となり、残留電荷の増加による画質低下が生じる傾向が大きくなる。またこの場合、層厚を均一にすることも困難となる傾向が大きくなり、製造コストも増大するおそれがある。
【００４４】
但し、十分なリーク耐性を有しており上述のリーク欠陥の発生が懸念されないような場合には、下引き層の層厚は１５μｍより薄く設定することが可能であり、この場合には０．１μｍ程度の薄膜まで適用可能である。
【００４５】
また、本発明の電子写真感光体の下引き層に使用されるバインダー樹脂は、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン-アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂などの公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂などを用いることができる。
【００４６】
中でも上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが好ましく用いられる。なお、金属酸化物粒子Ｂとバインダ樹脂との配合比率は所望の電子写真感光体の特性を得られる範囲で任意に設定できる。
【００４７】
下引き層４の電気抵抗値は１０4〜１０13Ωｃｍであることが好ましく、１０8〜1013Ωcmであることがより好ましく、109〜1012Ωcmであることが更に好ましい。抵抗値が１０4Ωｃｍ未満であると、十分なリーク耐性を得ることが困難となる傾向が大きくなり、１０13Ωｃｍを超えると、残留電位上昇を引き起こしてしまう傾向が大きくなる。下引き層４の電気抵抗値は金属酸化物粒子Ａ自体の電気抵抗値とその添加量を変化させること、金属酸化物粒子Ａのバインダー樹脂中への分散状態を変化させることで制御することができる。
【００４８】
金属酸化物粒子Ｂは、酸化錫、酸化チタン及び酸化亜鉛からなる群から選択される少なくとも１種の粒子であることが好ましい。
【００４９】
金属酸化物粒子Ｂの粒径は、所望の特性が得られ、下引き層形成用塗布液中に分散が可能であり、その下引き層形成用塗布液が導電性支持体層３の被塗布面上に塗布が可能であり、かつ、下引き層４の層厚以下であればいかなる粒子径のものでも用いることができるが、平均粒子径が１００ｎｍ以下であることが好ましい。なお、ここでいう粒径とは、平均１次粒径を意味する。金属酸化物粒子Ｂとしては、粉体抵抗値が１０2〜１０11Ωcmであるものが利用可能であるが、下引き層４の優れたリーク耐性を得る観点から、特に、粉体抵抗値が１０4〜１０10Ω・cmであるものが好ましい。１０2Ωcm未満であると、十分なリーク耐性が得られず、１０11Ωcmを超えると残留電位の上昇がおこる傾向が大きくなる。
【００５０】
また、金属酸化物粒子Ｂの比表面積は電子写真特性に大きく影響するため、金属酸化物粒子Ｂの比表面積は１０ｍ2／ｇ以上であることが好ましい。比表面積値が１０ｍ2／ｇ未満であると、下引き層４の帯電性の低下を招きやすくなる傾向が大きくなる。
【００５１】
使用環境における温度や湿度の変動による下引き層４の電気抵抗値の変動を抑制する観点から、金属酸化物粒子Ｂの含水率は、１.０質量％以下に調節される。そしてこの金属酸化物粒子Ｂは加水分解性有機金属化合物で表面処理され、金属酸化物粒子Ａとされている。表面処理により金属酸化物粒子Ａとすることにより、下引き層４の電気抵抗に大きな影響を与える金属酸化物粒子の分散状態を上述の好適な電気抵抗値を得るのに適した状態に容易にコントロールすることができる。
【００５２】
ここで、表面処理とは、金属酸化物粒子Ｂの表面に加水分解性有機金属化合物を吸着させ、そこで加水分解性有機金属化合物の加水分解性を有する基を加水分解反応させる処理を示す。
【００５３】
本発明において、加水分解性有機金属化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表されものが好ましい。
ＲｐＭＹｑ …（Ｉ）
【００５４】
ただし、式（Ｉ）中、Ｒは有機基、Ｍは金属元素またはケイ素、Ｙは加水分解性の官能基を示し、p、qはそれぞれ1〜４の整数を示し、pとqとの総和はＭの原子価に相当する。
【００５５】
有機基Ｒとしては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアルール基、トリル基等のアルカリール基、ベンジル基、フェニルエチル基等のアリールアルケニル基、スチリル基等のアリールアルケニル基、フリル基、チエニル基、ピロジニル基、イミダゾリル基等の複素環残基等の有機化合物残基であれば特に限定されるものではない。加水分解性有機金属化合物中の有機基Ｒは、上記の有機化合物残基の中から選択される１種でもよく、２種以上であってもよい。
【００５６】
また、加水分解性の官能基Ｙとしては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基等のエーテル基、アセトキシ基、プロピオニルアキシ基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、ベンゾイルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニル基等のエステル基、塩素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。
【００５７】
更に、Ｍとしては、アルカリ金属以外であれば特に制限されるものではなく、珪素、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ガリウム、ゲルマニウム、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、インジウム、錫、白金等の金属が挙げられる。
【００５８】
そして、上記の有機基Ｒや加水分解性の官能基Ｙを有する加水分解性有機金属化合物としては、上記の有機基や加水分解性の官能基を置換したシランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミネート系カップリング剤及び有機ジルコニウム化合物からなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましく、シランカップリング剤であることがより好ましい。そして、これらの加水分解性有機金属化合物は単独または２種以上混合して用いることができる。
【００５９】
シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、γ-メタクリルオキシプロピル-トリス(β-メトキシエトキシ)シラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルメチルメトキシシラン、N,N-ビス(β-ヒドロキシエチル)-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００６０】
チタネート系カップリング剤としては、例えば、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、ビス（ジオクチルピロホフェート）、イソプロピルトリ（Ｎ―アミノエチルーアミノエチル）チタネート等が挙げられる。
【００６１】
アルミネート系カップリング剤としては、例えば、アセトアルコキシアルイニウムジイソプロピレート等が挙げられる。
【００６２】
また、上記の加水分解性有機金属化合物の中ではシランカップリング剤を用いることが好ましく、メルカプト基を有するシランカップリング剤を用いることがより好ましく、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシランが好ましく用いられる。
【００６３】
また、加水分解性有機金属化合物の使用量は先に述べた金属酸化物粒子Ａを得ることが可能な量を、表面処理に使用する加水分解性有機金属化合物や金属酸化物粒子Ｂなどの組み合わせ、表面処理反応の温度、表面処理に使用する装置や調製する金属酸化物粒子Ａのスケールなどの表面処理条件に合わせて最適化して設定する。
【００６４】
次に、金属酸化物粒子Ｂの含水率を１．０ｗｔ％以下に調節する方法について説明する。金属酸化物粒子Ｂの含水率を１．０ｗｔ％以下に調節する方法としては、１００℃以上に加熱乾燥する方法が有効である。また、後述する金属酸化物粒子Ｂの表面処理が湿式法にて実施される場合には、表面処理剤を添加する前に、表面処理に用いる溶剤と共に金属酸化物粒子Ｂを加熱し、共沸によって水分除去することも可能である。この金属酸化物粒子Ｂの含水率は熱重量分析やカールフィッシャー法によって測定される。
【００６５】
次に、金属酸化物粒子Ｂの表面処理方法について説明する。加水分解性有機金属化合物による金属酸化物粒子Ｂの表面処理の方法は特に限定されず、例えば、乾式法、湿式法、気相法など公知の方法を使用してよい。
【００６６】
なお、本発明においては、例えば、金属酸化物粒子Ｂを表面処理した後、得られる金属酸化物粒子Ａの中から、式（１）の件を満たす金属酸化物粒子Ａを分離してもよいが、例えば、可能な場合には、式（１）の件を満たす金属酸化物粒子Ａを得るための再現性の良い金属酸化物粒子Ｂの表面処理条件を容易に最適化して予め把握しておくことができる場合には、その最適化した金属酸化物粒子Ｂの表面処理条件により得られた金属酸化物粒子Ａの全てを下引き層の形成に使用してもよい。
【００６７】
例えば、乾式法に基づいて表面処理を行う場合の手順の一例を説明する。先ず、表面処理前に金属酸化物粒子Ｂを１００〜１５０℃の温度で予備乾燥し、表面吸着水を除去する。この表面吸着水を処理前に除去することによって、金属酸化物粒子Ｂ表面に均一に加水分解性有機金属化合物を吸着させることができる。このとき、金属酸化物粒子Ｂはせん断力の大きなミキサで攪拌しながら予備乾燥させてもよい。
【００６８】
次に、加水分解性有機金属化合物を金属酸化物粒子Ｂの表面に吸着させる。このとき、金属酸化物粒子Ｂをせん断力の大きなミキサで攪拌しながら、加水分解性有機金属化合物を乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させるか、あるいは、加水分解性有機金属化合物を溶剤（有機溶媒、水等）に溶解させた液を乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させる。これにより、金属酸化物粒子Ｂの表面に加水分解性有機金属化合物が均一吸着させられる。
【００６９】
加水分解性有機金属化合物を金属酸化物粒子Ｂの表面に吸着させる際の温度は、50℃以上の温度で行われることが好ましい。また、溶剤を使用する場合には溶剤の沸点付近の温度で行うことが好ましい。
【００７０】
そして、その後、１００℃以上の温度で焼き付け処理を行う。これにより、加水分解性有機金属化合物の加水分解反応を十分に進行させることができる。焼き付け処理は１５０〜２５０℃の温度で行うことが好ましい。１５０℃未満であると、十分に加水分解性有機金属化合物の加水分解反応を十分に進行させることができなくなるおそれがある。２５０℃を超えると加水分解性有機金属化合物の分解が起こるおそれがある。
【００７１】
次に、必要に応じて、表面処理後の金属酸化物粒子Ａを解砕する。これにより、金属酸化物粒子Ａの凝集体を解砕することができるので、下引き層４中における金属酸化物粒子の分散性を向上させることができる。
【００７２】
次に、湿式法に基づいて表面処理を行う場合の手順の一例を説明する。先ず、金属酸化物粒子Ｂを溶剤中に、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミルなどを用いて分散させ、次に、これに加水分解性有機金属化合物を含む液を添加して攪拌し、表面処理反応を進行させる。その後、この液から蒸留により溶剤を留去する。また、溶剤除去後に得られる固形物をさらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。また、乾式法と同様にこの湿式法においても、表面処理前に金属酸化物粒子Ｂの表面吸着水を除去してもよい。この表面吸着水除去方法としては、乾式法と同様に加熱乾燥による除去の他に、表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法等が挙げられる。
【００７３】
下引き層４には、その電気特性の向上、使用環境における形状安定性の向上、画質向上のために、他の添加物を含有させることができる。
【００７４】
例えば、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7-トリニトロフルオレノン、2,4,5,7-テトラニトロ-9-フルオレノン等のフルオレノン化合物、2-(4-ビフェニル)-5-(4-t-ブチルフェニル)-1,3,4-オキサジアゾール、2,5-ビス(4-ナフチル)-1,3,4-オキサジアゾール、2,5-ビス(4-ジエチルアミノフェニル)1,3,4オキサジアゾールなどのオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、3,3',5,5'テトラ-t-ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物などの電子輸送性物質、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物等の公知の材料を含有させることができる。
【００７５】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2-エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレートなどが挙げられる。
【００７６】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)などが挙げられる。なお、これらの化合物は単独にあるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いることができる。
【００７７】
また、接触帯電時の電流リークの一因となる、外部からの導電性粉等の異物が感光体を貫くことを防止し、耐久性の高い下引き層４を形成する観点から、下引き層４の硬度を高くすることが有効であり、硬度の指標として下引き層４のビッカース硬度を３０以上好ましくは３５以上とすることが好ましい。
【００７８】
また、モアレ像防止の観点から、下引き層４の表面粗さは、使用される露光用レーザー波長λとした場合に、1/4ｎ（ｎは上層の屈折率）〜λに調整されていることが好ましい。なお、ここでいう表面とは、下引き層４の感光層６の側の表面である。また、この表面粗さ調整のために下引き層４中に粒子を添加してもよい。この粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメチルメタクリレート樹脂（PMMA）、酸化ケイ素の粒子等を用いることができる。
【００７９】
更に、表面粗さ調整のために下引き層４の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウエットホーニング、研削処理等を用いることもできる。
【００８０】
次に下引き層４の形成方法（下引き層４の形成工程）について説明する。この下引き層４は、上述の金属酸化物粒子Ｂを少なくとも１種以上の加水分解性金属化合物を用いて表面処理した後にえられる金属酸化物Ａのうち、式（１）の条件を満たす粒子を先に述べたバインダー樹脂中に分散させて得られる塗布液を導電性支持体層３上に塗布することにより形成することができる。
【００８１】
下引き層４の形成用の塗布液を調整するための溶媒としては公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択することができる。
【００８２】
例えば、メタノール、エタノール、n-プロパノール、iso-プロパノール、n-ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いることができる。
【００８３】
また、これらの分散に用いる溶剤は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤としてバインダー樹脂を溶かす事ができる溶剤であれば、いかなるものでも使用することが可能である。
【００８４】
金属酸化物粒子Ａをバインダー樹脂中に分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの方法を用いることができる。さらにこの下引き層を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【００８５】
次に、感光層６について説明する。図１に示すように、感光層６は電荷発生層１と電荷輸送層２とから構成されている。
【００８６】
電荷発生層１に含有される顔料（電荷発生物質）は特に限定されず、公知の顔料を使用することができる。
【００８７】
赤外光を利用する感光体では、例えば、フタロシアニン顔料、スクアリリウム顔料、ビスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ペリレン顔料、ジチオケトピロロピロール顔料を使用することができる。また、可視光レーザを利用する感光体では、例えば、縮合多環顔料、ビスアゾ顔料、ペリレン顔料、トリゴナルセレン、色素増感した金属酸化物等を使用することができる。
【００８８】
上述した顔料の中では、優れた画像を得られることから、フタロシアニン系顔料を使用することが好ましい。これにより、特に高感度で、繰り返し使用しても良好な画質を安定して得ることのできる電子写真感光体を構成することが容易にできる。
【００８９】
フタロシアニン系顔料は一般に数種の結晶型を有しており、目的にあった感度が得られる結晶型であるならば、これらのいずれの結晶型でも用いることができる。特に、フタロシアニン系顔料の中でも下記式（１）〜（６）に示されるフタロシアニン系顔料が好ましく用いられる。
【００９０】
【化１】
上記の式（１）〜（６）中、クロロガリウムフタロシアニンとしては、Cukα線を用いたX線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度(2θ±0.2°)の値が7.4°,16.6°,25.5°,28.3°である位置に回折ピークを少なくとも有するものが好ましい。また、オキソチタニルフタロシアニンとしては、Cukα線を用いたX線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度(2θ±0.2°)の値が9.6°,24.1°,27.3°である位置に回折ピークを少なくとも有し、最大ピークを27.3°に有するものが好ましい。
【００９２】
また、下記式（１）〜（６）に示されるフタロシアニン顔料以外に、式（４）の配位中心となるＧａに結合しているＣｌ原子を−ＯＨ基に置換したヒドロキシガリウムフタロシアニンも好ましい。このようなヒドロキシガリウムフタロシアニンとしては、Cukα線を用いたX線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度(2θ±0.2°)の値が7.5°,9.9°,12.5°,16.3°,18.6°, 25.1°,28.1°である位置に回折ピークを少なくとも有するものが好ましい。
【００９３】
更に、このような顔料は、公知の方法で製造される顔料結晶を、自動乳鉢、遊星ミル、振動ミル、CFミル、ローラーミル、サンドミル、ニーダー等で機械的に乾式粉砕するか、乾式粉砕後、溶剤と共にボールミル、乳鉢、サンドミル、ニーダー等を用いて湿式粉砕処理を行うことによって製造することができる。
【００９４】
上記の湿式粉砕処理において使用される溶剤としては、芳香族類(トルエン、クロロベンゼン等)、アミド類(ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン等)、脂肪族アルコール類(メタノール、エタノール、ブタノール等)、脂肪族多価アルコール類(エチレングリコール、グリセリン、ポリエチレングリコール等)、芳香族アルコール類(ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等)、エステル類(酢酸エステル、酢酸ブチル等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン等)、ジメチルスルホキシド、エーテル類(ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等)、さらには数種の混合系、水とこれら有機溶剤の混合系が挙げられる。
【００９５】
また、この溶剤は、顔料結晶に対して、１〜２００質量部、好ましくは１０〜１００質量部の範囲で使用する。更に、処理温度は、０℃〜溶剤の沸点、好ましくは１０〜６０℃の範囲で行う。また、粉砕の際に食塩、ぼう硝等の磨砕助剤を用いることもできる。
【００９６】
そして磨砕助剤は顔料に対し0.5〜20倍、好ましくは1〜10倍用いればよい。また、公知の方法で製造される顔料結晶を、アシッドペースティングあるいはアシッドペースティングと前述したような乾式粉砕あるいは湿式粉砕を組み合わせることにより、結晶制御することもできる。
【００９７】
アシッドペースティングに用いる酸としては、硫酸が好ましく、濃度（質量パーセント濃度）７０〜１００%、好ましくは９５〜１００%のものが使用され、溶解温度は、−２０〜１００℃好ましくは−２０〜６０℃の範囲に設定される。濃硫酸の量は、顔料結晶の重量に対して、１〜１００倍、好ましくは３〜５０倍の範囲に設定される。析出させる溶剤としては、水あるいは、水と有機溶剤の混合溶剤、アンモニア水等が任意の量で用いられる。析出させる温度については特に制限はないが、発熱を防ぐために、氷等で冷却することが好ましい。
【００９８】
また、顔料の含有量は、電荷発生層１の全質量に対して、１０〜９０質量％であることが好ましく、４０〜７０質量％であることがより好ましい。顔料の含有量がそれぞれ上記の数値範囲の下限値未満となると、十分な感度が得られにくくなる。一方、顔料の含有量がそれぞれ上記の数値範囲の上限値を超えると、帯電性の低下、感度の低下などの弊害が発生する傾向が大きくなる。
【００９９】
電荷発生層１に含有されるバインダー樹脂は、絶縁性樹脂であれば特に限定されるものではなく、広範な絶縁性樹脂から選択して使用することができる。例えば、好ましいバインダー樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアリレート樹脂(ビスフェノールAとフタル酸の重縮合体等)、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂をあげることができる。
【０１００】
電荷発生層１用のバインダー樹脂としては、顔料の分散性の観点から、特にポリビニルアセタール樹脂及び塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体が好ましく用いられる。なお、上記のバインダー樹脂は、単独あるいは2種以上を混合して用いてもよい。
【０１０１】
また、顔料とバインダー樹脂との配合比(質量比)は、電荷発生層１の場合、10:1〜1:10の範囲が好ましい。顔料の質量に対してバインダー樹脂の質量が上記の配合比で示される値未満となると、成膜性が悪くなる等の弊害が発生する傾向が大きくなる。一方、顔料の質量に対してバインダー樹脂の質量が上記の配合比で示される値を超えると、膜中の含有量が相対的に少なくなるため十分な感度が得られなくなる傾向が大きくなる。
【０１０２】
更に、電荷発生層１を形成するための塗布液に含まれる有機溶剤は、バインダー樹脂を溶かす事ができる溶剤であり、かつ、顔料（電荷発生物質）の結晶型を変化させる影響を及ぼさないものであれば特に限定されるものではなく、公知の有機溶剤を使用することができる。
【０１０３】
例えば、アルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択することができる。具体的には、例えば、メタノール、エタノール、n-プロパノール、iso-プロパノール、n-ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いることができる。そして、これらの有機溶剤は単独あるいは2種以上混合して用いることができる。
【０１０４】
この電荷発生層１には、その電気特性の向上、画質向上などのために下引き層４の説明において記載したものと同じ他の添加剤を添加することもできる。
【０１０５】
更に、電荷発生層１の層厚は、良好な電気特性と画質を与えるために、０．０５〜５μｍであることが好ましく、０．１〜１μｍであることがより好ましい。電荷発生層１の厚みが０．０５μｍ未満であると、十分な感度を与えることができない。一方、電荷発生層１の厚みが５μｍを超えると、帯電性の不良などの弊害を生じさせ易い。
【０１０６】
電荷発生層１は、顔料（電荷発生物質）、有機溶剤、バインダー樹脂、添加剤（例えば、顔料の分散助剤等）等を混合して塗布液を調製し、これを下引き層４上に塗布して更に乾燥させることにより形成することができる。また、電荷発生層１は、電荷発生物質を下引き層４上に真空蒸着することによっても形成することができる。
【０１０７】
電荷発生層１の形成用の塗布液を調製するには、顔料、バインダー樹脂、有機溶剤、その他の添加剤（例えば、顔料の分散助剤等）等とともに混合する。顔料を液中に高分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの分散方法を用いることができる。
【０１０８】
更に、成膜性の観点から、電荷発生層１を形成するための塗布液に含まれる顔料などの分散粒子の粒子径は、0.5μm以下であることが好ましく、0.3μm以下であることがより好ましく、0.15μm以下であることが更に好ましい。分散粒子の粒子径が0.5μmを超えると、電荷発生層１の成膜性が悪くなり、画質欠陥を生じ易い。
【０１０９】
電荷発生層１の形成用の塗布液を下引き層４上に塗布する場合の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【０１１０】
次に電荷輸送層２について説明する。電荷輸送層２に含有される電荷輸送物質は、特に限定されるものではなく、公知の物質を使用することができる。
【０１１１】
例えば、2,5-ビス(p-ジエチルアミノフェニル)-1,3,4-オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、1,3,5-トリフェニル-ピラゾリン、1-[ピリジル-(2)]-3-(p-ジエチルアミノスチリル)-5-(p-ジエチルアミノスチリル)ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、トリ(P-メチル)フェニルアミン、N,N’-ビス(3,4-ジメチルフェニル)ビフェニル-4-アミン、ジベンジルアニリン、9,9-ジメチル-N,N’-ジ(p-トリル)フルオレノン-2-アミン等の芳香族第3級アミノ化合物、N,N’-ジフェニル-N,N’-ビス(3-メチルフェニル)-[1,1-ビフェニル]-4,4’-ジアミン等の芳香族第3級ジアミノ化合物、3-(4’ジメチルアミノフェニル)-5,6-ジ-(4’-メトキシフェニル)-1,2,4-トリアジン等の1,2,4-トリアジン誘導体、4-ジエチルアミノベンズアルデヒド-1,1-ジフェニルヒドラゾン、4-ジフェニルアミノベンズアルデヒド-1,1-ジフェニルヒドラゾン、[p-(ジエチルアミノ)フェニル](1-ナフチル)フェニルヒドラゾンなどのヒドラゾン誘導体、2-フェニル-4-スチリル-キナゾリン等のキナゾリン誘導体、6-ヒドロキシ-2,3-ジ(p-メトキシフェニル)-ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、p-(2,2-ジフェニルビニル)-N,N’-ジフェニルアニリン等のα-スチルベン誘導体、エナミン誘導体、N-エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ-N-ビニルカルバゾール及びその誘導体等の正孔輸送物質、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7-トリニトロフルオレノン、2,4,5,7-テトラニトロ-9-フルオレノン等のフルオレノン化合物、2-(4-ビフェニル)-5-(4-t-ブチルフェニル)-1,3,4-オキサジアゾール、2,5-ビス(4-ナフチル)-1,3,4-オキサジアゾール、2,5-ビス(4-ジエチルアミノフェニル)1,3,4オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、3,3',5,5'テトラ-t-ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物などの電子輸送物質等が挙げられる。
【０１１２】
更には、電荷輸送物質は、以上例示した化合物の基本構造を主鎖又は側鎖に有する重合体等も挙げられる。そして、これらの電荷輸送材料は、1種又は2種以上を組み合せて使用することもできる。
【０１１３】
また、電荷輸送層２に含有されるバインダー樹脂は特に限定されるものではなく、公知のものを使用することができるが、電機絶縁性のフィルムを形成することが可能な樹脂が好ましい。
【０１１４】
例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレンーブタジエン共重合体、塩化ビニリデンーアクリロニトリル共重合体、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂。シリコン−アルキッド樹脂、フェノールーホルムアルデヒド樹脂、スチレンーアルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−カルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルフォルマール、ポリスルホン、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロース、フェノール樹脂、ポリアミド、カルボキシーメチルセルロース、塩化ビニリデン系ポリマーワックス、ポリウレタン等が挙げられる。
【０１１５】
そして、これらのバインダー樹脂は、単独又は2種類以上混合して用いることができる。特に、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂が電荷輸送物質との相溶性、溶剤への溶解性、強度の点で優れているので好ましく用いられる。
【０１１６】
また、バインダー樹脂と電荷輸送物質との配合比(質量比)は電気特性低下、膜強度低下に考慮しつつ任意に設定することができる。この電荷輸送層２の層厚は5〜50μmであることが好ましく、10〜35μmであることがより好ましい。
【０１１７】
電荷輸送層２は、電荷輸送物質、有機溶剤、バインダー樹脂等を混合して塗布液を調製し、これを電荷発生層１上に塗布して更に乾燥させることにより形成することができる。
【０１１８】
電荷輸送層２の形成用の塗布液を調製するには、電荷輸送物質、有機溶剤、バインダー樹脂等とともに混合する。電荷輸送物質を液中に高分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの分散方法を用いることができる。
【０１１９】
更に、成膜性の観点から、電荷輸送層２を形成するための塗布液に含まれる顔料などの分散粒子の粒子径は、0.5μm以下であることが好ましく、0.3μm以下であることがより好ましく、0.15μm以下であることが更に好ましい。分散粒子の粒子径が0.5μmを超えると、電荷輸送層２の成膜性が悪くなり、画質欠陥を生じ易い。
【０１２０】
更に、電荷輸送層２の形成用の塗布液に用いる溶剤としては、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独あるいは2種以上混合して用いることができる。
【０１２１】
電荷輸送層２の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【０１２２】
［第二実施形態］
図２は、本発明の電子写真感光体の第二実施形態を示す断面図である。図２に示す電子写真感光体１１０は、感光層６を単層構造とした以外は図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する。
【０１２３】
図２に示す感光層６は、図１に示した電荷発生層１と電荷輸送層２に含有される電荷発生物質と電荷輸送物質をはじめとする物質を合わせて含有する層である。
【０１２４】
感光層６がこのように単層型の場合には、顔料の含有量は、感光層６の全質量に対して、０．１〜５０質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがより好ましい。また、顔料の含有量が上記の数値範囲の下限値未満となると、十分な感度が得られにくくなる。一方、顔料の含有量が上記の数値範囲の上限値を超えると、帯電性の低下、感度の低下などの弊害が発生する傾向が大きくなる。
【０１２５】
また、このように感光層６が単層型の場合、バインダー樹脂としては、正孔輸送性材料との相溶性の観点から、特にポリカーボネート樹脂及びメタクリル樹脂が好ましく用いられる。更に、これらの樹脂のポリ-N-ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシランなどの有機光導電性ポリマーの中から選択して使用してもよい。なお、上記のバインダー樹脂は、単独あるいは2種以上を混合して用いてもよい。
【０１２６】
この感光層６も、上述した電荷輸送物質、上述した電荷輸送物質、上述した有機溶剤、バインダー樹脂等を混合して塗布液を調製し、上述と同様の方法により導電性支持体層３上に塗布して更に乾燥させることにより形成することができる。
【０１２７】
［第三実施形態］
図３は、本発明の電子写真感光体の第三実施形態を示す断面図である。図３に示す電子写真感光体１２０は、感光層６上に保護層５を備えること以外は図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する。
【０１２８】
保護層５は、電子写真感光体１２０の帯電時の電荷輸送層２の化学的変化を防止したり、感光層６の機械的強度をさらに改善する為に用いられる。この保護層５は、導電性材料を適当なバインダー樹脂中に含有させた塗布液を感光層６上に塗布することにより形成することができる。
【０１２９】
この導電性材料は特に限定されるものではなく、例えば、N,N'-ジメチルフェロセン等のメタロセン化合物、N,N'-ジフェニル-N,N'-ビス(3-メチルフェニル)-[1,1'-ビフェニル]-4,4'-ジアミン等の芳香族アミン化合物、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化インジウム、酸化錫とアンチモン、硫酸バリウムと酸化アンチモンとの固溶体の担体、上記金属酸化物の混合物、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛又は硫酸バリウムの単一粒子中に上記の金属酸化物を混合したもの、或いは、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛又は硫酸バリウムの単一粒子中に上記の金属酸化物を被覆したものが挙げられる。
【０１３０】
この保護層５に用いるバインダー樹脂としては、ポリアミド樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルケトン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等の公知の樹脂が用いられる。また、これらは必要に応じて互いに架橋させて使用することもできる。
【０１３１】
また保護層５は、電荷輸送性高分子化合物により形成することもできる。この電荷輸送性高分子化合物を含む層としては、ポリビニカルバゾール等の電荷輸送能を有する基を側鎖に含む高分子化合物、特開平5-232727号公報等に開示されているような電荷輸送能を有する基を主鎖に含む高分子化合物、およびポリシラン等をあげることができる。また、電荷輸送性高分子化合物として、電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロックよりなるブロック共重合体またはグラフト共重合体を使用することもできる。
【０１３２】
更に電荷輸送性高分子化合物が、トリアリールアミン構造を繰り返し単位として含有する場合は、高い電荷輸送能と好ましい機械的特性を有しているので好ましく、また、トリアリールアミン構造がペンダント型ではなく、主鎖中に含有している場合は、さらに好ましい。ペンダント型であると、ペンダント同士が会合し、電荷トラップを形成し電荷輸送性を悪化する場合が多いが、主鎖中に含有されていることでこのような問題を回避できる。さらに、前記トリアリールアミン構造が下記式(７)又は(８)で表される構造の少なくとも1種以上を繰り返し単位として含有する場合は特に好ましい。
【０１３３】
【化２】
ここで、式(７)中、Ar1及びAr2はそれぞれ独立に置換もしくは未置換のアリール基を示し、X1は芳香族環構造を有する2価の炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を示し、X2及びX3はそれぞれ独立に置換もしくは未置換のアリーレン基を示し、L1は枝分れもしくは環構造を含んでもよい2価の炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を示し、m及びnは、それぞれ0または1から選ばれる整数を示す。
【０１３５】
【化３】
ここで、式（８）中、Ar3及びAr4はそれぞれ独立に置換もしくは未置換のアリール基を示し、L2は芳香族環構造を有する3価の炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を示す。
【０１３７】
更に、先に述べたように上述の式(７)中、Ar1及びAr2はそれぞれ独立に置換もしくは未置換のアリール基から選ばれ、該アリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ピレニル基等が挙げられる。また、置換基としては、メチル基、エチル基、メトキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
【０１３８】
また、先に述べたように上述の式(７)中X1は芳香族環構造を有する2価の炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基から選ばれる。具体例としては、フェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基、ナフチレン基、メチレンジフェニル基、シクロヘキシリデンジフェニル基、オキシジフェニル基、チオジフェニル基等、およびこれらのメチル置換体、エチル置換体、メトキシ置換体、またはハロゲン置換体等が挙げられ、この中でも特に置換もしくは未置換のビフェニレン基が電荷輸送性の点で、特に好ましい。
【０１３９】
更に、先に述べたように上述の式(７)中X2及びX3はそれぞれ独立に置換もしくは未置換のアリーレン基から選ばれ、具体的には、フェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基、ナフチレン基等、およびこれらのメチル置換体、エチル置換体、メトキシ置換体、またはハロゲン置換体等が挙げられる。
【０１４０】
また、先に述べたように上述の式(７)中L1は枝分れもしくは環構造を含んでもよい2価の炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基から選ばれ、上記の好ましい特性の少なくとも1つを発揮するかぎり任意であるが、エーテル結合、エステル結合、カーボネート結合、シロキサン結合等から選ばれる結合基を含み、且つ炭素数が20以下であるものが好ましい。その具体例としては、下記式（９）〜式（１６）で表されるものが挙げられる。
【０１４１】
【化４】
更に、先に述べたように上述の式(８)中、Ar3及びAr4はそれぞれ独立に置換もしくは未置換のアリール基から選ばれ、該アリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ピレニル基等が挙げられる。また、置換基としては、炭素数1〜12個のアルキル基またはアルコキシ基、ジアリールアミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
【０１４３】
また、先に述べたように上述の式(８)中L2は芳香族環構造を有する3価の炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基から選ばれ、上記の好ましい特性の少なくとも1つを発揮するかぎり任意であるが、炭素数が20以下のものが好ましい。その具体例としては、下記式（１７）〜式（２１）で表されるものが挙げられる。
【０１４４】
【化５】
【化６】
また、上述の式(７)中のL1又は式(８)中のL2がエステル結合を有する場合は、機械的特性に優れ、電荷輸送能に優れるため、本発明において特に好ましい。
【０１４７】
保護層５の厚みは１〜２０μｍであることが好ましく、２〜１０μｍであることがより好ましい。この保護層５を形成するための塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【０１４８】
また、保護層５を形成するための塗布液に用いる溶剤としては、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独あるいは2種以上混合して用いることができるが、できるだけこの塗布液が塗布される感光層６を溶解しにくい溶剤を用いることが好ましい。
【０１４９】
［第四実施形態］
図４は、本発明の電子写真感光体の第四実施形態を示す断面図である。図４に示す電子写真感光体１３０は、感光層６を単層構造とし、感光層６上に保護層５を備える以外は図２に示した電子写真感光体１１０と同様の構成を有する。
【０１５０】
［第五実施形態］
図５は、本発明の電子写真感光体の第五実施形態を示す断面図である。図５に示す電子写真感光体１４０は、感光層６と下引き層４との間に中間層４２を備える以外は図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する。この中間層４２は、感光体１４０の電気特性の向上、画質の向上、感光層６の接着性向上のために設けられている。
【０１５１】
この中間層４２の構成材料は特に限定されず、合成樹脂、有機物質或いは無機物質の粉末、電子輸送性物質等から任意に選択することができる。
【０１５２】
中間層４２の合成樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン-アルキッド樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子樹脂化合物、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を用いることができる。
【０１５３】
そして、これらの化合物は単独にあるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いることができる。更にこれらの中でも、ジルコニウムキレート化合物、シランカップリング剤は残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ないなど性能上優れている。
【０１５４】
上記のシランカップリング剤の例としてはビニルトリメトキシシラン、γ-メタクリルオキシプロピル-トリス(β-メトキシエトキシ)シラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルメチルメトキシシラン、N,N-ビス(β-ヒドロキシエチル)-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-クロルプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【０１５５】
これらの中でも特に好ましく用いられるシリコン化合物としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2-メトキシエトキシシラン)、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-クロロプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤が挙げられる。
【０１５６】
ジルコニウムキレート化合物としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【０１５７】
チタニウムキレート化合物としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2-エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【０１５８】
アルミニウムキレート化合物としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。
【０１５９】
中間層４２中には、電気特性の向上や光散乱性の向上などの目的により、各種の有機化合物の微粉末もしくは無機化合物の微粉末を添加することができる。特に、酸化チタン、酸化亜鉛、亜鉛華、硫化亜鉛、鉛白、リトポン等の白色顔料やアルミナ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の体質顔料としての無機顔料やテフロン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、スチレン樹脂粒子などが有効である。
【０１６０】
添加微粉末の粒径は０．０１〜２μｍのものが用いられる。微粉末は必要に応じて添加されるが、その添加量は中間層４２の固形分の総質量に対して、質量比で１０〜９０質量％であることが好ましく、３０〜８０質量％であることがより好ましい。
【０１６１】
また、中間層４２中には、先に説明した電子輸送性物質、電子輸送性顔料等を含有させることも低残留電位化や環境安定性の観点から有効である。更に、中間層４２の厚みは０．０１〜３０μｍであることが好ましく、０．０５〜２５μｍであることがより好ましい。
【０１６２】
また、中間層４２を形成するための塗布液の調製する際に、微粉末状の物質を添加する場合には樹脂成分を溶解した溶液中に添加して分散処理が行われる。この分散処理方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの方法を用いることができる。
【０１６３】
更に、この中間層４２は導電性支持体層３上に中間層４２を形成するための塗布液を塗布し、乾燥させることにより形成することができる。このときの塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【０１６４】
［第六実施形態］
図６は、本発明の電子写真感光体の第六実施形態を示す断面図である。図６に示す電子写真感光体１５０は、感光層６を単層構造とし、感光層６と下引き層４との間に中間層４２を備える以外は図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する。
【０１６５】
そして、中間層４２は、上述の図５に示した感光体１４０と同様の構成を有する。
【０１６６】
［第七実施形態］
図７は、本発明の電子写真感光体の第七実施形態を示す断面図である。
図７に示す電子写真感光体１６０は、感光層６上に保護層５を設け、感光層６と下引き層４との間に中間層４２を備える以外は図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する。
【０１６７】
そして、中間層４２は、上述の図５に示した感光体１４０の中間層４２と同様の構成を有する。また、保護層５も上述の図３に示した感光体１２０の保護層５と同様の構成を有する。
【０１６８】
［第八実施形態］
図８は、本発明の電子写真感光体の第七実施形態を示す断面図である。
図８に示す電子写真感光体１７０は、感光層６上に保護層５を設け、感光層６を単層構造とし、感光層６と下引き層４との間に中間層４２を備える以外は図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する。
【０１６９】
そして、中間層４２は、上述の図５に示した感光体１４０の中間層４２と同様の構成を有する。また、保護層５も上述の図３に示した感光体１２０の保護層５と同様の構成を有する。更に、感光層６も上述の図２に示した感光体１１０の感光層６と同様の構成を有する。
【０１７０】
以上、本発明の電子写真感光体の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明の電子写真感光体は上記実施形態に限定されるものではない。
【０１７１】
例えば、本発明の電子写真感光体の感光層には、図１、図３及び図５に示した感光体１００、１２０及び１４０のように２層からなる構成の場合、図２、図４及び図６に示した感光体１１０、１３０及び１５０のように単層構造の場合の何れにおいても、電子写真装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光・熱による感光体の劣化を防止する目的で、酸化防止剤・光安定剤・熱安定剤などの添加剤を添加してもよい。
【０１７２】
例えば、酸化防止剤としてはヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物などが挙げられる。
【０１７３】
酸化防止剤の具体的な化合物例として、フェノール系酸化防止剤では2,6-ジ-t-ブチル-4-メチル フェノール、スチレン化フェノール、n-オクタデシル-3-(3',5'-ジ-t-ブチル 4'-ヒドロキシフェニル)-プロピオネート、2,2'-メチレン-ビス-(4-メチル-6-t-ブチル フェノール)、2-t-ブチル-6-(3'-t-ブチル-5'-メチル-2'-ヒドロキシベンジル)-4-メチルフェニル アクリレート、4,4'-ブチリデン-ビス-(3-メチル-6-t-ブチル-フェノール)、4,4'-チオ-ビス-(3-メチル 6-t-ブチルフェノール)、1,3,5-トリス(4-t-ブチル-3-ヒドロキシ-2,6-ジメチル ベンジル)イソシアヌレート、テトラキス-[メチレン-3-(3',5'-ジ-t-ブチル-4'-ヒドロキシ-フェニル)プロピオネート]-メタン、3,9-ビス[2-[3-(3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチル フェニル)プロピオニルオキシ]-1,1-ジメチル エチル]-2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカンなどが挙げられる。
【０１７４】
ヒンダードアミン系化合物としては、ビス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)セバケート、1-[2-[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]エチル]-4-[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、8-ベンジル-7,7,9,9-テトラメチル-3-オクチル-1,3,8-トリアザスピロ[4,5]ウンデカン-2,4-ジオン、4-ベンゾイルオキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、コハク酸ジメチル-1-(2-ヒドロキシエチル)-4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ[[6-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)イミノ-1,3,5-トリアジン-2,4-ジイミル][(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)イミノ]ヘキサメチレン[(2,3,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)イミノ]]、2-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)-2-n-ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)、N,N'-ビス(3-アミノプロピル)エチレンジアミン-2,4-ビス[N-ブチル-N-(1,2,2,6,6,-ペンタメチル-4ピペリジル)アミノ]-6-クロロ-1,3,5-トリアジン縮合物などが挙げられる。
【０１７５】
有機イオウ系酸化防止剤としては、ジラウリル-3,3'-チオジプロピオネート、ジミリスチル-3,3'-チオジプロピオネート、ジステアリル-3,3'-チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール-テトラキス-(β-ラウリル-チオプロピオネート)、ジトリデシル-3,3'-チオジプロピオネート、2-メルカプト ベンズイミダゾールなどが挙げられる。有機燐系酸化防止剤としてトリスノニルフェニル フォスフィート、トリフェニル フォスフィート、トリス(2,4-ジ-t-ブチル フェニル)-フォスフィートなどが挙げられる。
【０１７６】
有機硫黄系および有機燐系酸化防止剤は2次酸化防止剤と言われフェノール系あるいはアミン系などの1次酸化防止剤と併用することにより相乗効果を得ることができる。
【０１７７】
光安定剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ジチオカルバメート系、テトラメチルピペリジン系などの誘導体が挙げられる。例えば、ベンゾフェノン系光安定剤としては、2-ヒドロキシ-4-メトキシ ベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-オクトキシ ベンゾフェノン、2,2'-ジ-ヒドロキシ-4-メトキシ ベンゾフェノンなどが挙げられる。
【０１７８】
ベンゾトリアゾール系系光安定剤としては、2-(-2'-ヒドロキシ-5'メチル フェニル-)-ベンゾトリアゾール、2-[2'-ヒドロキシ-3'-(3'',4'',5'',6''-テトラ-ヒドロフタルイミド-メチル)-5'-メチルフェニル]-ベンゾトリアゾール、2-(-2'-ヒドロキシ-3'-t-ブチル 5'-メチルフェニル-)-5-クロロ ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-t-ブチル 5'-メチルフェニル-)-5-クロロ ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3',5'-t-ブチルフェニル-)-ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-5'-t-オクチル フェニル)-ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ 3',5'-ジ-t-アミル フェニル-)-ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
【０１７９】
その他の化合物としては、2,4,ジ-t-ブチルフェニル 3',5'-ジ-t-ブチル-4'-ヒドロキシベンゾエート、ニッケル ジブチル-ジチオカルバメートなどがある。
【０１８０】
また、感光層６には、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として少なくとも1種の電子受容性物質を含有させることができる。
【０１８１】
使用可能な電子受容性物質としては、例えば無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、o-ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、o-ニトロ安息香酸、p-ニトロ安息香酸、フタル酸などが挙げられる。
【０１８２】
これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、−Cl,−CN,−NO2等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましく用いられる。更に、本発明の感光層形成用塗布液には、塗膜の平滑性向上のためのレベリング剤としてシリコーンオイルを微量添加することもできる。
【０１８３】
以上説明した本発明の本発明の電子写真感光体は、近赤外光もしくは可視光に発光するレーザービームプリンター、デイジタル複写機、LEDプリンター、レーザーファクシミリなどの電子写真装置や、このような電子写真装置に備えれられるプロセスカートリッジに搭載することができる。また、本発明の電子写真感光体は一成分系、二成分系の正規現像剤あるいは反転現像剤とも合わせて用いることができる。また本発明の電子写真感光体は帯電ローラーや帯電ブラシを用いた接触帯電方式の電子写真装置に搭載されても電流リークの発生が少ない良好な特性が得られる。
【０１８４】
次に、本発明の本発明の電子写真感光体を搭載した電子写真装置及びプロセスカートリッジについて説明する。
【０１８５】
図９は、本発明の電子写真装置の好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。図９に示す電子写真装置２００は、電子写真感光体７と、電子写真感光体７をコロナ放電方式により帯電させるコロトロンやスコロトロンなどの帯電手段８と、帯電手段８に接続された電源９と、帯電手段８により帯電される電子写真感光体７を露光して静電潜像を形成する露光手段１０と、露光手段１０により形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段１１と、現像手段１１により形成されたトナー像を被転写媒体に転写する転写手段１２と、クリーニング装置１３と、除電器１４と、定着装置１５とを備える。
【０１８６】
また、図１０は、図９に示す本発明の電子写真装置の別の実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。
【０１８７】
図１０に示す電子写真装置２１０は、電子写真感光体７を接触方式により帯電させる帯電手段８を備えていること以外は、図９に示した電子写真装置２００と同様の構成を有する。特に、直流電圧に交流電圧を重畳した接触式の帯電手段を採用する電子写真装置においては、優れた耐摩耗性を有するため、好ましく使用できる。なお、この場合には、除電器１４が設けられていないものもある。
【０１８８】
帯電手段（帯電用部材）８は、感光体７の表面に接触するように配置され、感光体に電圧を均一に印加し、感光体表面を所定の電位に帯電させるものである。帯電手段８にはアルミニウム、鉄、銅などの金属、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェンなどの導電性高分子材料、ポリウレタンゴム、シリコーンゴム、エピクロロヒドリンゴム、エチレンプロピレンゴム、アクリルゴム、フッソゴム、スチレンーブタジエンゴム、ブタジエンゴム等のエラストマー材料にカーボンブラック、沃化銅、沃化銀、硫化亜鉛、炭化けい素、金属酸化物などの金属酸化物粒子を分散したものなどを用いることができる。
【０１８９】
この金属酸化物の例としてはZｎO、SnO2、TiO2、In2O3、MoO3等、あるいはこれらの複合酸化物が挙げられる。また、帯電手段８にはエラストマー材料中に過塩素酸塩を含有させて導電性を付与したものを使用しても良い。
【０１９０】
更に、帯電手段８にはその表面に被覆層を設けてもよい。被覆層を形成する材料としては、N-アルコキシメチル化ナイロン、セルロース樹脂、ビニルピリジン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、ポリビニルブチラール、メラミン等が単独、あるいは併用して用いられる。また、エマルジョン樹脂系材料、たとえば、アクリル樹脂エマルジョン、ポリエステル樹脂エマルジョン、ポリウレタン、特にソープフリーのエマルジョン重合により合成されたエマルジョン樹脂を用いることも出来る。
【０１９１】
これらの樹脂にはさらに抵抗率を調整するために、導電剤粒子を分散してもよいし、劣化を防止するために酸化防止剤を含有させることもできる。また、被覆層を形成する時の成膜性を向上させるために、エマルジョン樹脂にレベリング剤または界面活性剤を含有させることもできる。また、この接触帯電用部材の形状としては、ローラー型、ブレード型、ベルト型、ブラシ型、などが挙げられる。
【０１９２】
さらに、帯電手段８の電気抵抗値は、好ましくは102〜1014Ωcm、さらに好ましくは102〜1012Ωcmの範囲が良い。また、この接触帯電用部材への印加電圧は、直流、交流いずれも用いることができる。又、直流＋交流の形で印加することもできる。
【０１９３】
図１１は図９に示す本発明の電子写真装置の更に別の実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。図１１に示す電子写真装置２２０は中間転写方式の電子写真装置であり、ハウジング４００内において４つの電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄが中間転写ベルト４０９に沿って相互に並列に配置されている。
【０１９４】
ここで、電子写真装置２２０に搭載されている電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄは、それぞれ本発明の電子写真感光体である。例えば、先に述べた電子写真感光体１００、電子写真感光体１１０、電子写真感光体１２０、電子写真感光体１３０、電子写真感光体１４０、電子写真感光体１５０、電子写真感光体１６０、電子写真感光体１７０のいずれかが搭載されていてもよい。
【０１９５】
電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄのそれぞれは所定の方向（紙面上は反時計回り）に回転可能であり、その回転方向に沿って帯電ロール４０２ａ〜４０２ｄ、現像装置４０４ａ〜４０４ｄ、１次転写ロール４１０ａ〜４１０ｄ、クリーニングブレード１５ａ〜１５ｄが配置されている。現像装置４０４ａ〜４０４ｄのそれぞれにはトナーカートリッジ４０５ａ〜４０５ｄに収容されたブラック、イエロー、マゼンタ、シアンの４色のトナーが供給可能であり、また、１次転写ロール４１０ａ〜４１０ｄはそれぞれ中間転写ベルト４０９を介して電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄに当接している。
【０１９６】
更に、ハウジング４００内の所定の位置にはレーザ光源（露光手段）４０３が配置されており、レーザ光源４０３から出射されたレーザー光を帯電後の電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの表面に照射することが可能となっている。これにより、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの回転工程において帯電、露光、現像、１次転写、クリーニングの各工程が順次行われ、各色のトナー像が中間転写ベルト４０９上に重ねて転写される。
【０１９７】
中間転写ベルト４０９は駆動ロール４０６、バックアップロール４０８及びテンションロール４０７により所定の張力をもって支持されており、これらのロールの回転によりたわみを生じることなく回転可能となっている。また、２次転写ロール４１３は、中間転写ベルト４０９を介してバックアップロール４０８と当接するように配置されている。バックアップロール４０８と２次転写ロール４１３との間を通った中間転写ベルト４０９はクリーニングブレード１４により清浄面化された後、次の画像形成プロセスに繰り返し供される。
【０１９８】
また、ハウジング４００内の所定の位置にはトレイ（被転写媒体トレイ）４１１が設けられており、トレイ４１１内の紙などの被転写媒体５００が移送ロール４１２により中間転写ベルト４０９と２次転写ロール４１３との間、さらには相互に当接する２個の定着ロール４１４の間に順次移送された後、ハウジング４００の外部に排紙される。
【０１９９】
更に、図１２は、本発明のプロセスカートリッジの好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。プロセスカートリッジ３００は、電子写真感光体７とともに、帯電手段８、現像手段１１、クリーニング装置（クリーニング手段）１３、露光のための開口部１８、及び除電器１４を取り付けレール１６を用いて組み合せ、そして一体化したものである。
【０２００】
そして、このプロセスカートリッジ３００は、転写手段１２と、定着装置１５と、図示しない他の構成部分とからなる電子写真装置本体に対して着脱自在としたものであり、電子写真装置本体とともに電子写真装置を構成するものである。
【０２０１】
【実施例】
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明の内容をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【０２０２】
以下に示す手順により図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する実施例１〜実施例４、比較例１〜比較例４の電子写真感光体を作製した。
【０２０３】
（実施例１）
以下の手順にて図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する感光体を作製した。
【０２０４】
酸化スズ（商品名：Ｓ１，三菱マテリアル製，比表面積：５０ｍ2／ｇ）を空気中、１５０℃で５時間加熱乾燥させ、その含水率を調節した。熱重量分析の結果、得られた酸化スズ粒子の含水率は０．２質量％であった。この酸化スズ粒子１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（商品名：Ａ１１００，日本ユニカー社製）：１５質量部を添加し、５時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、１００℃で２時間焼き付けを行った。
【０２０５】
次に、得られた表面処理後の酸化スズ粒子３５質量部と、硬化剤（ブロック化イソシアネート スミジュール3175，住友バイエルンウレタン社製） ：１５質量部と、ブチラール樹脂 BM-1 (積水化学社製)：６質量部と、メチルエチルケトン：４４質量部とを混合し、1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い分散液を得た。
【０２０６】
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５質量部と、シリコーンオイルＳＨ２９ＰＡ（東レダウコーニングシリコーン社製）：０．０１質量部とを添加し、下引き層用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、厚さ１ｍｍのアルミニウム基材（導電性支持体層）上に塗布し、１６０℃、１００分の乾燥硬化を行い厚さ２０μｍの下引き層を形成した。
【０２０７】
次に、下引き層上に２層構造の感光層を形成した。まず、電荷発生物質としてのCukα線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度(２θ±０．２°)が少なくとも７．４゜，１６．６゜，２５．５゜，２８．３゜の位置に回折ピークを有する塩化ガリウムフタロシアニン：１５質量部、バインダー樹脂となる塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、ｎ-ブチルアルコール：３００質量部からなる混合物を、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。
【０２０８】
得られた分散液を電荷発生層形成用の塗布液として下引き層上に浸漬塗布し、乾燥して、層厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０２０９】
さらに、N,N'-ジフェニル-N,N'-ビス(3-メチルフェニル)-[1、1']ビフェニル-4,4'-ジアミン：４質量部と、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量４万）：６質量部とをクロロベンゼン：８０質量部に加えて溶解した。得られた分散液を電荷輸送層形成用の塗布液として電荷発生層上に浸漬塗布し、１３０℃、４０分の乾燥を行うことにより層厚が２５μｍの電荷輸送層を形成した。
【０２１０】
（実施例２）
以下の手順にて図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する感光体を作製した。
【０２１１】
酸化チタン（商品名：ＴＡＦ５００J，富士チタン社製，比表面積：１８ｍ2／ｇ）を空気中、１５０℃で５時間加熱乾燥させ、その含水率を調節した。熱重量分析の結果、得られた酸化チタン粒子の含水率は０．１質量％であった。この酸化チタン粒子１００質量部をミキサ中で攪拌しながら、これにトルエン１０質量部とシランカップリング剤（商品名：ＫＢＭ５０３，信越化学社製）：２質量部との混合液を添加し、１０分間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、１７０℃で２時間焼き付けを行った。
【０２１２】
次に、得られた表面処理後の酸化チタン粒子５０質量部と、硬化剤（ブロック化イソシアネート スミジュール3175，住友バイエルンウレタン社製） ：１５質量部と、ブチラール樹脂 BM-1 (積水化学社製)：６質量部と、メチルエチルケトン：６０質量部とを混合し、1ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間の分散を行い分散液を得た。
【０２１３】
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５質量部と、シリコーンオイルＳＨ２９ＰＡ（東レダウコーニングシリコーン社製）：０．０１質量部とを添加し、下引き層用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、厚さ１ｍｍのアルミニウム基材（導電性支持体層）上に塗布し、１６０℃、１００分の乾燥硬化を行い厚さ２０μｍの下引き層を形成した。
【０２１４】
次に、実施例１と同様の手順で電荷発生層と電荷輸送層とを順次形成し、電子写真感光体を作製した。
【０２１５】
（実施例３）
以下の手順にて図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する感光体を作製した。
【０２１６】
酸化亜鉛（平均粒子径７０ｎｍ，テイカ社製試作品，比表面積：１５ｍ2／ｇ）を空気中、１５０℃で５時間加熱乾燥させ、その含水率を調節した。熱重量分析の結果、得られた酸化亜鉛粒子の含水率は０．１質量％であった。この酸化亜鉛粒子１００質量部をトルエン５００質量部と撹拌混合し、これにシランカップリング剤（商品名：ＫＢＭ６０３，信越化学社製）：１．５質量部を添加し、２時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、１５０℃で２時間焼き付けを行った。
【０２１７】
次に、得られた表面処理後の酸化亜鉛粒子６０質量部と、硬化剤（ブロック化イソシアネート スミジュール3175，住友バイエルンウレタン社製） ：１５質量部と、ブチラール樹脂 BM-1 (積水化学社製)：１５質量部と、メチルエチルケトン：８５質量部とを混合した。得られた液：８質量部とメチルエチルケトン：２５質量部とを混合し、1ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い分散液を得た。
【０２１８】
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５質量部と、シリコーンオイルＳＨ２９ＰＡ（東レダウコーニングシリコーン社製）：０．０１質量部とを添加し、下引き層用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、厚さ１ｍｍのアルミニウム基材（導電性支持体層）上に塗布し、１６０℃、１００分の乾燥硬化を行い厚さ２０μｍの下引き層を形成した。
【０２１９】
次に、下引き層上に２層構造の感光層を形成した。まず、電荷発生物質としてのCukα線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度(２θ±０．２°)が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン：１５質量部、バインダー樹脂となる塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、ｎ-酢酸ブチル：３００質量部からなる混合物を、1ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。
【０２２０】
得られた分散液を電荷発生層形成用の塗布液として下引き層上に浸漬塗布し、乾燥して、層厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。次に、実施例１と同様の手順で電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を作製した。
【０２２１】
（実施例４）
以下の手順にて図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する感光体を作製した。
【０２２２】
酸化亜鉛（商品名：ＭＺ３００，テイカ社製，比表面積：４０ｍ2／ｇ）を空気中、１５０℃で５時間加熱乾燥させ、その含水率を調節した。熱重量分析の結果、得られた酸化亜鉛粒子の含水率は０．１質量％であった。この酸化亜鉛粒子１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、これにシランカップリング剤（商品名：KBM４０３，信越化学社製）：５質量部を添加し、２時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、１５０℃で２時間焼き付けを行った。
【０２２３】
次に、表面処理後の酸化亜鉛：６０質量部と、硬化剤（ブロック化イソシアネート スミジュール3175，住友バイエルンウレタン社製） ：１５質量部と、ブチラール樹脂 ＢＭ−１(積水化学社製)：１５質量部と、メチルエチルケトン：８５質量部とを混合した。得られた液：３８質量部とメチルエチルケトン：２５質量部とを混合し、1ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い分散液を得た。
【０２２４】
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５質量部と、シリコーンオイルＳＨ２９ＰＡ（東レダウコーニングシリコーン社製）：０．０１質量部とを添加し、下引き層用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、厚さ１ｍｍのアルミニウム基材（導電性支持体層）上に塗布し、１６０℃、１００分の乾燥硬化を行い厚さ２０μｍの下引き層を形成した。
【０２２５】
次に、下引き層上に２層構造の感光層を形成した。まず、電荷発生物質としてのCukα線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度(２θ±０．２°)が少なくとも２７．３゜の位置に回折ピークを有するオキシチタニルフタロシアニン：１５質量部、バインダー樹脂となる塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、ｎ-酢酸ブチル：３００質量部からなる混合物を、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。
【０２２６】
得られた分散液を電荷発生層形成用の塗布液として下引き層上に浸漬塗布し、乾燥して、層厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。次に、実施例１と同様の手順で電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を作製した。
【０２２７】
（比較例１）
実施例１で用いた金属酸化物粒子を加熱処理せずに使用したこと以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を作製した。熱重量分析の結果、使用した金属酸化物粒子の含水率は１．５質量％であった。
【０２２８】
（比較例２）
実施例２で用いた金属酸化物粒子を加熱処理せずに使用したこと以外は、実施例２と同様にして電子写真感光体を作製した。熱重量分析の結果、使用した金属酸化物粒子の含水率は１．２質量％であった。
【０２２９】
（比較例３）
実施例３で用いた金属酸化物粒子を加熱処理せずに使用したこと以外は、実施例３と同様にして電子写真感光体を作製した。熱重量分析の結果、使用した金属酸化物粒子の含水率は１．１質量％であった。
【０２３０】
（比較例４）
実施例４で用いた金属酸化物粒子を加熱処理せずに使用したこと以外は、実施例４と同様にして電子写真感光体を作製した。熱重量分析の結果、使用した金属酸化物粒子の含水率は１．３質量％であった。
【０２３１】
［電子写真感光体の電子写真特性評価試験］
（１）使用初期の特性評価（初期電位測定）
実施例１〜実施例４及び比較例１〜比較例４の電子写真感光体を図９と同様の構造を有するレーザープリンタ−スキャナー（商品名：XP-15の改造機、富士ゼロックス社製）に搭載し、それぞれの電子写真感光体の電子写真特性を以下のように評価した。
【０２３２】
常温常湿（２０℃、４０％ＲＨ）環境下、グリッド印加電圧−７００Ｖのスコロトロン帯電器で各電子写真感光体を帯電させたときの各電子写真感光体の表面の電位Ａ［Ｖ］を測定した。次に、７８０ｎｍの半導体レーザーを用いて、帯電させてから1秒後の各電子写真感光体に１０ｍＪ/ｍ2の光を照射して放電を行わせ、このときの各電子写真感光体の表面の電位Ｂ［Ｖ］を測定した。続いて、放電させてから３秒後各電子写真感光体に５０ｍＪ/ｍ2の赤色ＬＥＤ光を照射して除電を行い、このときの各電子写真感光体の表面の電位Ｃ［Ｖ］を測定した。
【０２３３】
ここで、電位Ａの値が高いほど、電子写真感光体の受容電位が高いので、コントラストを高く取ることができることになる。また、電位Ｂの値が低いほど高感度な電子写真感光体であることになる。更に、電位Ｃの値が低いほど残留電位が少なく、画像メモリーやいわゆるかぶりが少ない電子写真感光体と評価される。これらの結果を表１に示す。
【０２３４】
（２）初期（１０枚プリント後）の画質評価
実施例１〜実施例４及び比較例１〜比較例４の電子写真感光体を図１１と同様の構造を有する接触帯電装置、中間転写装置を有するフルカラープリンター（商品名：Docu Centre Color 400、富士ゼロックス社製）に搭載し、１０枚の紙への連続プリントテストを行った。
【０２３５】
そして、１０枚プリント後の画質を、「異常なし」；良好な画質が得られた、「カブリ僅かに発生」；紙面の１００ｍｍ×２００ｍｍの範囲に微細な黒点が２０個以下、「カブリ発生」；１００ｍｍ×２００ｍｍの範囲に微細な黒点が１０００個以上確認できる、とした評価基準のもとで評価した。これらの結果を表１に示す。
【０２３６】
（３）繰り返し使用後の特性評価
上述の（１）で説明した操作を1万回繰り返し、帯電、露光後の電位Ａ〜電位Ｃの測定を行った。これらの結果を表１に示す。
【０２３７】
（４）使用環境の変化に対する安定性評価
上記の操作を低温低湿（10℃、15％ＲＨ）、高温高湿（28℃、85%ＲＨ）の２つの異なる環境下で行い、帯電、露光後の電位Ａ〜電位Ｃの測定を行った。そして、これらの異なる環境間での電位Ａ〜電位Ｃの値の変動量（ΔＡ、ΔＢ、ΔＣ）を測定し、使用環境の変化に対する各電子写真感光体の安定性評価を行った。これらの結果を表１に示す。
【０２３８】
（５）１万枚プリント後の画質評価
実施例１〜実施例４及び比較例１〜比較例４の電子写真感光体を図１１と同様の構造を有する接触帯電装置、中間転写装置を有するフルカラープリンター（商品名：Docu Centre Color 400、富士ゼロックス社製）に搭載し、１万枚の紙への連続プリントテストを行った。
【０２３９】
そして、１万枚プリント後の画質を、「異常なし」；良好な画質が得られた、「全面かぶり発生」；紙面全体に微細な黒点がみられる、「黒点発生」；紙面に大きな黒点がみられる、とした評価基準のもとで評価した。これらの結果を表１に示す。
【０２４０】
【表１】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、繰り返し使用に伴う電気特性の低下を充分に防止することのできる高い耐久性と高い解像品質を有しており然も容易に構成することのできる電子写真感光体及びその製造方法を提供することができる。そして、このような電子写真感光体を備えることにより、長期にわたり繰り返し使用しても高い解像品質を得ることのできるプロセスカートリッジ並びに電子写真装置を提供することできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の電子写真感光体の第一実施形態を示す断面図である。
【図２】本発明の電子写真感光体の第二実施形態を示す断面図である。
【図３】本発明の電子写真感光体の第三実施形態を示す断面図である。
【図４】本発明の電子写真感光体の第四実施形態を示す断面図である。
【図５】本発明の電子写真感光体の第五実施形態を示す断面図である。
【図６】本発明の電子写真感光体の第六実施形態を示す断面図である。
【図７】本発明の電子写真感光体の第七実施形態を示す断面図である。
【図８】本発明の電子写真感光体の第八実施形態を示す断面図である。
【図９】本発明の電子写真装置の好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。
【図１０】図９に示す本発明の電子写真装置の別の実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。
【図１１】図９に示す本発明の電子写真装置の更に別の実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。
【図１２】本発明のプロセスカートリッジの好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。
【符号の説明】
１…電荷発生層、３…導電性支持体層、４…下引き層、５…保護層、６…感光層、７…電子写真感光体、８…帯電手段、９…電源、１０…露光手段、１１…現像手段、１２…転写手段、１３…クリーニング装置、１４…除電器、１６…取り付けレール、１８…露光のための開口部、４２…中間層、１００，１１０，１２０，１３０，１４０，１５０，１６０，１７０…電子写真感光体、２００…電子写真装置、２１０…電子写真装置、３００…プロセスカートリッジ、４００・・・ハウジング、４０１ａ〜４０１ｄ・・・電子写真感光体、４０２ａ〜４０２ｄ・・・帯電ロール、４０３・・・レーザ光源（露光装置）、４０４ａ〜４０４ｄ・・・現像装置、４０５ａ〜４０５ｄ・・・トナーカートリッジ、４０６・・・駆動ロール、４０７・・・テンションロール、４０８・・・バックアップロール、４０９・・・中間転写ベルト、４１０ａ〜４１０ｄ・・・１次転写ロール、４１１・・・トレイ（被転写体トレイ）、４１２・・・移送ロール、４１３・・・２次転写ロール、４１４・・・定着ロール、５００・・・被転写媒体。
Claims (15)
- 導電性支持体層と、顔料を含む感光層と、前記導電性支持体層と前記感光層との間に配置される下引き層と、を有する電子写真感光体であって、
前記下引き層には、加水分解性の官能基を有する有機金属化合物を用いて表面処理された金属酸化物粒子が含有されており、
前記金属酸化物粒子の前記表面処理を施される以前の状態における含水率が１．０質量％以下であること、
を特徴とする電子写真感光体。 - 前記金属酸化物粒子が、酸化錫、酸化チタン、及び、酸化亜鉛からなる群より選択される少なくとも1種の粒子であることを特徴とする請求項１記載の電子写真感光体。
- 前記加水分解性有機金属化合物がシランカップリング剤であることを特徴とする請求項１又は２に記載の電子写真感光体。
- 前記下引き層の層厚が１５μｍよりも大きく５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の電子写真感光体。
- 前記感光層に含有される前記顔料が、フタロシアニン系顔料であることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の電子写真感光体。
- 前記フタロシアニン系顔料が、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、オキソチタニルフタロシアニン及びフタロシアニンからなる群より選択される少なくとも１種であることを特徴とする請求項５記載の電子写真感光体。
- 導電性支持体層と、顔料を含む感光層と、前記導電性支持体層と前記感光層との間に配置される下引き層と少なくとも有する電子写真感光体の製造方法であって、
含水率が１質量％以下である金属酸化物粒子を、加水分解性の官能基を有する有機金属化合物を用いて表面処理し、次いで、該表面処理により得られる粒子を用いて前記下引き層を形成する工程を含むこと、
を特徴とする電子写真感光体の製造方法。 - 前記金属酸化物粒子が、酸化錫、酸化チタン、及び、酸化亜鉛からなる群より選択される少なくとも1種の粒子であることを特徴とする請求項７記載の電子写真感光体の製造方法。
- 前記加水分解性有機金属化合物がシランカップリング剤であることを特徴とする請求項７又は８に記載の電子写真感光体の製造方法。
- 前記下引き層の層厚を１５μｍよりも大きく５０μｍ以下に調節することを特徴とする請求項７〜９の何れかに記載の電子写真感光体の製造方法。
- 前記感光層に含有される前記顔料が、フタロシアニン系顔料であることを特徴とする請求項７〜１０の何れかに記載の電子写真感光体の製造方法。
- 前記フタロシアニン系顔料が、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、オキソチタニルフタロシアニン及びフタロシアニンからなる群より選択される少なくとも１種であることを特徴とする請求項１１記載の電子写真感光体の製造方法。
- 請求項１〜６の何れかに記載の電子写真感光体と、
帯電手段、現像手段、クリーニング手段及び除電手段のうちの少なくとも一つの手段とを一体に有し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。 - 請求項１〜６の何れかに記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、
前記帯電手段により帯電される前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成する露光手段と、
前記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を被転写媒体に転写する転写手段と、
を備えることを特徴とする電子写真装置。 - 前記転写手段の転写方式が、前記トナー像を中間転写体に１次転写し、該中間転写体上の１次転写像を前記被転写媒体に２次転写する中間転写方式であることを特徴とする特徴とする請求項１４に記載の電子写真装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002173004A JP4019809B2 (ja) | 2002-06-13 | 2002-06-13 | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002173004A JP4019809B2 (ja) | 2002-06-13 | 2002-06-13 | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004020727A JP2004020727A (ja) | 2004-01-22 |
| JP2004020727A5 JP2004020727A5 (ja) | 2005-10-06 |
| JP4019809B2 true JP4019809B2 (ja) | 2007-12-12 |
Family
ID=31172417
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002173004A Expired - Fee Related JP4019809B2 (ja) | 2002-06-13 | 2002-06-13 | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4019809B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1955754B (zh) * | 2005-10-26 | 2010-09-01 | C.R.F.阿西安尼顾问公司 | 用于检测物理量、特别是磁场的薄膜器件及相应检测方法 |
| CN1955755B (zh) * | 2005-10-26 | 2010-09-01 | C.R.F.阿西安尼顾问公司 | 用于磁场探测的纳米结构磁阻网络和相应的方法 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005266503A (ja) * | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像形成装置及びプロセスカートリッジ |
| JP2005266542A (ja) * | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像形成装置 |
| JP2008116659A (ja) * | 2006-11-02 | 2008-05-22 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 |
| JP5158565B2 (ja) * | 2008-03-17 | 2013-03-06 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
| US9063448B2 (en) * | 2012-08-06 | 2015-06-23 | Konica Minolta, Inc. | Electrophotographic photoconductor and image forming apparatus |
| JP6155726B2 (ja) * | 2013-03-19 | 2017-07-05 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 |
| JP7301613B2 (ja) * | 2019-06-14 | 2023-07-03 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
-
2002
- 2002-06-13 JP JP2002173004A patent/JP4019809B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1955754B (zh) * | 2005-10-26 | 2010-09-01 | C.R.F.阿西安尼顾问公司 | 用于检测物理量、特别是磁场的薄膜器件及相应检测方法 |
| CN1955755B (zh) * | 2005-10-26 | 2010-09-01 | C.R.F.阿西安尼顾问公司 | 用于磁场探测的纳米结构磁阻网络和相应的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2004020727A (ja) | 2004-01-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3991638B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 | |
| US20030118927A1 (en) | Electrophotographic photoreceptor, processes for producing the same, process cartridge, and electrophotographic apparatus | |
| JP2006221094A (ja) | 画像形成装置及びプロセスカートリッジ | |
| JP4640042B2 (ja) | 画像形成装置 | |
| JP4595602B2 (ja) | 画像形成装置 | |
| JP6155726B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 | |
| JP4019809B2 (ja) | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 | |
| JP4640159B2 (ja) | 電子写真感光体の製造方法、電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 | |
| JP2004126069A (ja) | 電子写真用感光体、電子写真用カートリッジおよび画像形成装置 | |
| JP5982769B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
| JP3823852B2 (ja) | 電子写真感光体の製造方法、電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 | |
| JP4140393B2 (ja) | 金属酸化物微粒子を含有する被処理液の分散処理方法、電子写真感光体及びその製造方法、電子写真装置並びにプロセスカートリッジ | |
| JP4045944B2 (ja) | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 | |
| JP2003091086A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 | |
| JP4140473B2 (ja) | 電子写真感光体、画像形成装置及びプロセスカートリッジ | |
| JP4360288B2 (ja) | 電子写真感光体、画像形成装置及びプロセスカートリッジ | |
| JP2013083727A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
| JP2002123028A (ja) | 画像形成装置 | |
| JP4289142B2 (ja) | 電子写真感光体及びその製造方法、プロセスカートリッジ並びに画像形成装置 | |
| JP4577060B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 | |
| JP2004287027A (ja) | 画像形成装置、およびプロセスカートリッジ | |
| JP3700421B2 (ja) | 電子写真感光体及びそれを用いた電子写真装置 | |
| JP2000330305A (ja) | 電子写真感光体、電子写真装置及び電子写真プロセスカートリッジ | |
| JP2009058603A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
| JP4591146B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050517 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050517 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070410 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070703 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070725 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070904 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070917 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101005 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4019809 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111005 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121005 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121005 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131005 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |