JP4595602B2 - 画像形成装置 - Google Patents

Description

本発明は、複写機、プリンター等の露光装置として、３５０〜５００ｎｍの範囲に主たる発光波長を有する露光装置を用いて画像を形成する画像形成装置に関する。

電子写真技術は、高速、かつ高印字品質が得られるため、複写機、プリンター等の分野において広く利用されている。これらの電子写真技術に用いられる電子写真用感光体は、従来から種々のものが提案され、実用化されている。中でも、露光により電荷を発生する電荷発生層と電荷を輸送する電荷輸送層を積層する機能分離型の有機積層型感光体は、感度、帯電性及びその繰り返し安定性等、電子写真特性の点で優れており種々の提案がなされ、実用化に至っている。

また、複写機及びプリンターのデジタル化に対応して露光装置として寿命、出力安定性、価格の点から近赤外光半導体レーザーが主として採用され、感光体の感光波長域の感度も近赤外光半導体レーザーの発振波長域（７８０〜８３０ｎｍ）で最大になるように要求されてきた。

さらに、複写機及びプリンターに対する高画質化への要求は近年非常に高まりつつあり、露光系としては、静電潜像の解像度を上げるためにビーム径を更に絞る必要がある。ところが、従来の画像形成装置の露光装置として用いられてきた赤外光半導体レーザーでは、結像用レンズによってレーザー光を絞り感光体上に結像させ、静電潜像を形成しているが、現状ではビーム径を約５０μｍとするのが限界であり、赤外光半導体レーザーを用いてビーム径を現状以下に絞るために光学系の精度向上を行うことはコストアップにつながってしまう。

また、このビーム径は無限に小さくできるわけではなく、レーザーの波長と結像用レンズの開口数で決まる回折限界までしか絞り込むことができない。この限界値はレーザーの波長に比例して小さくなる。したがって、現状の７８０ｎｍの近赤外光半導体レーザーを短波長化することで光学系はそのままでビーム径を絞り込むことができ、静電潜像の解像度を現行より高くすることができる。例えば、４１０ｎｍの出力波長とすれば現行の約１／２のビーム径を得ることができ、静電潜像の解像度も約１／２にすることができる。

しかしながら、可視光の波長域に感度を有している有機感光体（例えば、特許文献１、２参照）や従来提案されている有機感光体を、３８０ｎｍ〜４５０ｎｍに発振波長を有するを紫外青紫色光レーザー用いた画像形成装置で用いた場合、従来の光源として用いられてきた蛍光燈、ＬＥＤに比べて青紫色光レーザーではエネルギー強度が高いため、繰返し使用による電荷発生材料及び電荷輸送材料の劣化が生じ、感光体の感度低下や残留電位の上昇による画質欠陥やかぶりといった画質の低下が問題となる。

また、一方で短波長感度の有る電子写真用感光体としては、セレンやセレンテルルが使用されているが、熱的な安定性に欠けるほか耐久性にも欠ける等の問題があった。
これに関しては、セレン、セレン合金を用いた青色レーザー用の感光体が提案されている（例えば、特許文献３、４参照）が、この感光体は、感度や熱的安定性に優れるものの、一方で、反転現像を行った際にかぶりを生じ易いという問題があった。

また、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、あるいはオキシチタニルフタロシアニンを用いた青色レーザー用の感光体も提案されている（例えば、特許文献５参照）。これらは光メモリー性に優れることが開示されているが、長期間安定した画像を得るためにはまだ不十分であった。
特開平８−１５８８１号公報 特開平９−２４００５１号公報 特開２０００−４７４１０号公報 特開２０００−２５８９３８号公報 特開２０００−１０５４７９号公報

本発明は、前記従来における問題を鑑みてなされたものである。
すなわち、本発明の目的は、３５０〜５００ｎｍの範囲に主たる発光波長領域を有する露光光源、特に青色のＬＥＤあるいは紫外青紫色レーザー光を発振する露光光源を備えた画像形成装置において、高画質の画像を繰り返し、安定に得ることができる画像形成装置を提供することである。

本発明者らは、３５０〜５００ｎｍの発光波長の露光装置を備える画像形成装置について、鋭意研究した結果、金属酸化物微粒子及びアクセプター性化合物を含有する下引き層を有する感光体を用いることによって、露光による劣化を受けにくく、また、カブリやゴーストなどの画質欠陥のない優れた画像を得られることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち本発明は、
＜１＞ 少なくとも、電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を備えた画像形成装置であって、前記露光手段が３５０〜５００ｎｍの範囲に主たる発光波長領域を有する露光光源を有し、かつ前記電子写真感光体が導電性基材上に少なくとも下引層と感光層とを有してなり、該下引層がシランカップリング剤を用いて表面処理された金属酸化物粒子と水酸基を有するアントラキノン系化合物とを含有することを特徴とする画像形成装置である。

＜２＞ 前記アクセプター性化合物が、ヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物からなる群から選ばれる１種以上である＜１＞に記載の画像形成装置である。

＜３＞ 少なくとも、電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を備えた画像形成装置であって、前記露光手段が３５０〜５００ｎｍの範囲に主たる発光波長領域を有する露光光源を有し、かつ前記電子写真感光体が導電性基材上に少なくとも下引層と感光層とを有してなり、該下引層が、シランカップリング剤を用いて表面が処理されるとともに、水酸基を有するアントラキノン系化合物が表面に存在する金属酸化物粒子を含有することを特徴とする画像形成装置である。

＜４＞ 前記アクセプター性化合物が、アントラキノン、ヒドロキシアントラキノン、アミノアントラキノン、アミノヒドロキシアントラキノンからなる群から選ばれる１種以上である＜３＞に記載の画像形成装置である。

＜５＞ 前記アクセプター性化合物が、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリンからなる群から選ばれる１種以上である＜３＞又は＜４＞に記載の画像形成装置である。

＜６＞ 前記金属酸化物粒子が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ及び酸化ジルコニウムから選ばれる１種以上からなる＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の画像形成装置である。

本発明によれば、３５０〜５００ｎｍの範囲に主たる発光波長を有する露光光源、特に青色のＬＥＤあるいは紫外青紫色レーザー光を発振する露光装置を備えた画像形成装置において、高画質の画像を繰り返し、安定に得ることができる画像形成装置を提供することが可能となる。

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の第１の画像形成装置（以下、「第１の本発明」という場合がある）は、少なくとも、電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を備えた画像形成装置であって、前記露光手段が３５０〜５００ｎｍの範囲に主たる発光波長領域を有する露光光源を有し、かつ前記電子写真感光体が導電性基材上に少なくとも下引き層と感光層とを有してなり、該下引き層が金属酸化物粒子と該金属酸化物粒子と反応可能な基を有するアクセプター性化合物とを含有することを特徴とする。

また、本発明の第２の画像形成装置（以下、「第２の本発明」という場合がある）は、上記第１の画像形成装置と同様の構成において、前記下引き層がアクセプター性化合物を付与した金属酸化物粒子を含有することを特徴とする。
本発明の第１、第２の画像形成装置は、下引層の構成を除いて同様であるため、以下併せて説明する。

図１は本発明の画像形成装置の好適な一実施態様を示す模式図である。
図１に示す電子写真装置１００は、回動可能に設けられたドラム状（円筒状）の電子写真感光体７を備えている。この電子写真感光体７の周囲には、電子写真感光体７の外周面の移動方向に沿って、帯電装置（帯電手段）８、露光装置（露光手段）１０、現像装置（現像手段）１１、転写装置（転写手段）１２、クリーニング装置１３及び除電器（イレーズ装置）１４がこの順で配置されている。

帯電装置８は、コロナ帯電方式の帯電装置であり、電子写真感光体７を帯電させる。帯電装置８としては、コロトロン帯電器やスコロトロン帯電器が挙げられる。この帯電装置８は、電源９に接続されている。
なお、本発明の画像形成装置は非接触帯電装置、接触帯電装置のいずれも用いることができる。接触帯電装置には帯電ローラー、帯電ブラシ、帯電ブレード、帯電フィルムなどの帯電部材を用いることができる。

露光装置１０は、帯電した電子写真感光体７を露光して電子写真感光体７上に静電潜像を形成する。本発明における露光装置（露光手段）については後述する。

現像装置１１は、静電潜像を現像剤により現像してトナー像を形成する。現像剤としては、後述するように、重合法により得られる体積平均粒子径が３〜９μｍの範囲のトナーを含有することが好ましい。
転写装置１２は、電子写真感光体７上に現像されたトナー像を被転写媒体に転写する。なお、本実施形態においては、被転写媒体は記録紙であるが、中間転写体を用いて１次転写、２次転写を行う場合には、中間転写体も被転写媒体に含まれる。

クリーニング装置１３は、転写後の電子写真感光体７上に残存するトナーを除去する。クリーニング装置１３は、クリーニング部材として磁気ブラシ、導電性ファイバーブラシ、ブレードなどを有するが、電子写真感光体７に対して線圧１０〜１５０ｇ／ｃｍで当接するブレード部材を有することが好ましい。クリーニング部材の材質は所望の特性がえられるものであれば、公知のいかなるものでも用いることができる。
除電器（イレーズ装置）１４は、電子写真感光体７の残存電荷を消去する。また、電子写真装置１００は、転写工程後の被転写媒体にトナー像を定着させる定着装置１５を備えている。

本発明の画像形成装置においては、露光装置１０が、３５０〜５００ｎｍの範囲に主たる発光波長領域を有する露光光源を有する。このうち、特に紫外青紫色レーザー光発振器が解像度に優れ好ましい。ここで、３５０〜５００ｎｍの範囲に主たる発光波長領域を有するとは、２０℃から８０℃の条件下での発光波長の平均値を主たる発光波長とし、２０℃から８０℃の条件下での発光波長の平均発光領域が３５０〜５００ｎｍの範囲であることをいう。

前記主たる発光波長領域は３５０〜４８０ｎｍの範囲であることが好ましく、３８０〜４５０ｎｍの範囲であることがより好ましい。主たる発光波長領域が５００ｎｍを超えると、高解像度の静電潜像を得ることができない。また３５０ｎｍに満たないと、後述する電荷輸送層中の電荷輸送物質の吸収と重なり始めるだけでなく、光エネルギーが大きくなりすぎるため好ましくない。

３５０〜５００ｎｍの範囲に主たる発光波長領域を有する露光光源としては、３５０〜５００ｎｍに主たる発振波長を有する紫外青紫色レーザー光を射出する紫外青紫色半導体レーザー、または近赤外半導体レーザー光を入射して３５０〜５００ｎｍに主たる発振波長を有する紫外青紫色レーザー光に変換して射出する非線型光学素子等が挙げられる。

紫外青紫色レーザーとして具体的には、日亜化学工業で開発された４１０ｎｍに主たる波長を出力するＩｎＧａＮ系半導体レーザー（日亜化学工業社製）、ＧａＮ系半導体レーザー、ＡｌＧａＮ系半導体レーザーなどが挙げられる。非線型光学素子として具体的には、４２５ｎｍに主たる波長を出力する非線型光学素子（松下電器産業社製）が挙げられる。この非線型光学素子は、８５０ｎｍの近赤外光半導体レーザーの出力光を酸化マグネシウム添加ニオブ酸リチウム結晶に入射して４２５ｎｍの第２高調波を射出する非線型光学素子である。

露光装置１０は、紫外青紫色レーザー、非線型光学素子等を用いた光源からレーザー光を射出して、電子写真用感光体上に収束させるビーム収束手段と、電子写真用感光体上を走査するビーム走査手段を備えることが好適である。
また、露光装置１０は、デジタル処理された画像信号に基づき露光を行うデジタル方式の露光手段が好適である。デジタル処理された画像信号に基づき露光を行うデジタル方式の露光手段とは、前述の紫外青紫色レーザー、非線型光学素子等の露光光源を用い、２値化又はパルス幅変調や強度変調を行い多値化された光により露光を行う露光装置である。

次に、本発明に用いられる電子写真感光体について説明する。
本発明の画像形成装置においては、導電性基材上に少なくとも下引層と感光層とを設けてなる電子写真感光体が用いられる。図２は本発明の画像形成装置に用いられる電子写真感光体の一例を示す概略断面図である。電子写真感光体５０は、導電性基体７上に下引層２、中間層４、感光層３及び保護層５が順次積層された構造を有している。なお、図２に示す電子写真感光体５０は機能分離型の感光体であり、感光層３は電荷発生層３１と電荷輸送層３２とから構成されている。

導電性基材７としては、アルミニウム・銅・鉄・ステンレス・亜鉛・ニッケルなどの金属ドラムとしてもよいし、シート・紙・プラスチック又はガラス上にアルミニウム・銅・金・銀・白金・パラジウム・チタン・ニッケル−クロム・ステンレス鋼・銅・インジウム等の金属を蒸着したり、酸化インジウム・酸化錫などの導電性金属化合物を蒸着したものとしてもよいし、金属箔をラミネートしたり、或いは、カーボンブラック・酸化インジウム・酸化錫・酸化アンチモン粉・金属粉・沃化銅等を結着樹脂に分散し、塗布することによって導電処理したもの等が用いられる。

また、導電性基材７の形状はドラム状に限られず、シート状、プレート状としてもよい。尚、導電性基材７を金属パイプとした場合、表面は素管のままであってもよいし、事前に鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニングなどの処理が行われていてもよい。

前記導電性基材上には、下引層２が形成されている。本発明の第１の画像形成装置では、下引層２が金属酸化物粒子と該金属酸化物粒子と反応可能な基を有するアクセプター性化合物とを含有し、本発明の第２の画像形成装置では、下引層２がアクセプター性化合物を付与した金属酸化物粒子を含有する。

前記下引層２は、前記導電性基材７と感光層３との密着性を上げたり、画質向上等のために設けられるが、通常樹脂の薄膜により構成されているため露光によるダメージを受けやすく、特に本発明におけるような近紫外から紫外領域の光による露光の場合には、光エネルギーが大きいだけでなく感光層３を通過して下引層２に達する光量も多くなるため、さらに繰り返し露光による劣化が早くなる。

上記に対しては、下引層２の膜厚を厚くすることが有効であるが、膜厚を厚くすると樹脂の高い電気抵抗のために導電性基材と感光層（電荷発生層）との電荷のやり取りが行われにくくなり、感光体そのものの帯電性や残留電位特性に影響を及ぼすだけでなく、画質欠陥も発生することとなってしまう。

本発明においては、基本的に従来より下引層２の膜厚を厚くしても感光体特性を損ねることがなく、近紫外から紫外領域の光により露光を行っても繰り返し安定性に優れる電子写真感光体を見出し、これを用いることにより本発明を完成するに至った。

具体的には、下引層中に金属酸化物粒子を含有させることにより、膜厚を厚くしても電気抵抗が上昇することを抑え、感光体の繰り返し使用による電気的特性の悪化を防止すると共に、同時に下引層中の樹脂比率を低減することにより短波長の光の露光に対してダメージを受けにくい構成となることがわかった。さらに、前記金属酸化物粒子を介して下引層中にアクセプター性化合物を含ませることにより、下引層中での導電性基材と電荷発生層との電荷の授受を効率的なものとし、高画質、高速対応の画像形成に対しても長期に渡って使用できることがわかった。

本発明に用いられる金属酸化物微粒子としては、１０²〜１０¹¹Ω・ｃｍ程度の粉体抵抗が必要である。その理由は、下引層２はリーク耐性獲得のために適切な抵抗を得ることが必要でるためである。中でも上記抵抗値を有する酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫及び酸化ジルコニウムから選択される少なくとも１種の金属酸化物微粒子を用いることが、長期繰り返し使用時における電気特性、画質の安定性の点で好ましい。特にこれらの中では酸化亜鉛が好ましく用いられる。

尚、上記範囲の下限よりも金属酸化物微粒子の抵抗値が低いと十分なリーク耐性が得られず、この範囲の上限よりも高いと残留電位上昇を引き起こしてしまう懸念がある。また、金属酸化物微粒子は表面処理の異なるものあるいは粒子径の異なるものなど２種以上混合して用いることもできる。また、金属酸化物微粒子としては、比表面積が１０ｍ²／ｇ以上のものが好ましく用いられる。比表面積値が１０ｍ²／ｇ以下のものは帯電性低下を招きやすく、良好な電子写真特性を得にくい欠点がある。
また、金属酸化物粒子の体積平均粒径は５０〜２００ｎｍの範囲であることが好ましい。

本発明における金属酸化物微粒子には表面処理を施す。表面処理剤としては、シランカップリング剤を用いる。シランカップリング剤は、良好な電子写真特性を与えるため好ましく用いられる。さらにアミノ基を有するシランカップリング剤、不飽和基を持つシランカップリング剤は、下引層に良好なブロッキング性を与えるだけでなく、紫外光等に対する金属酸化物粒子の変質を抑制する等の観点から好ましく用いられる。

アミノ基を有するシランカップリング剤としては、所望の感光体特性を得られるものであればいかなるものでも用いることができるが、具体的例としては、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシランなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、シランカップリング剤は２種以上混合して使用することもできる。前記アミノ基を有するシランカップリング剤と併用して用いることができるシランカップリング剤の例としてはビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシランなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

また、不飽和基を持つシランカップリング剤としてはビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でも使用可能であるが、乾式法あるいは湿式法を用いることができる。
乾式法にて表面処理を施す場合には、金属酸化物微粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接あるいは有機溶媒に溶解させたシランカップリング剤を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって均一に処理される。添加あるいは噴霧する際には溶剤の沸点以下の温度で行われることが好ましい。溶剤の沸点以上の温度で噴霧すると、均一に攪拌される前に溶剤が蒸発し、シランカップリング剤が局部的にかたまってしまい均一な処理ができにくい欠点があり、好ましくない。添加あるいは噴霧した後、さらに１００℃以上で焼き付けを行うことができる。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施できる。

湿式法としては、金属酸化物微粒子を溶剤中で攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミルなどを用いて分散し、シランカップリング剤溶液を添加し攪拌あるいは分散したのち、溶剤除去することで均一に処理される。溶剤除去方法はろ過あるいは蒸留により留去される。溶剤除去後にはさらに１００℃以上で焼き付けを行うことができる。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施できる。湿式法においては表面処理剤を添加する前に金属酸化物微粒子含有水分を除去することもでき、その例として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法を用いることもできる。

下引層中の金属酸化物微粒子に対するシランカップリング剤の量は、所望の電子写真特性が得られる量であれば任意に設定できる。

本発明の第１の画像形成装置においては、下引層２は前記金属酸化物微粒子と該金属酸化物微粒子と反応可能な基を有するアクセプター性化合物とを含有させて形成される。

アクセプター性化合物としては、水酸基を有するアントラキノン構造を有するアクセプター性化合物が用いられる。水酸基を有するアントラキノン構造を有する化合物としては、ヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物などがあげられ、いずれも好ましく用いることができる。さらに具体的にはアリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン、１―ヒドロキシアントラキノン、２―アミノー３―ヒドロキシアントラキノン、１―アミノー４―ヒドロキシアントラキノンなどが特に好ましく用いられる。

第１の本発明に用いられるアクセプター性化合物の含有量は、所望の特性が得られる範囲であれば任意に設定できるが、好ましくは金属酸化物微粒子に対して０．０１〜２０質量％の範囲で用いられる。さらに好ましくは金属酸化物に対して０．０５〜１０ 質量％の範囲で用いられる。０．０１質量％未満では下引層内の電荷蓄積改善に寄与するだけの十分なアクセプター性を付与できないため、繰り返し使用時に残留電位の上昇など維持性の悪化を招きやすい。また２０質量％を超えると金属酸化物同士の凝集を引き起こしやすく、その為下引層形成時に下引層内で金属酸化物が良好な導電路を形成することができず、繰り返し使用時に残留電位の上昇など維持性の悪化を招きやすくなるだけでなく、黒点などの画質欠陥も引き起こしやすくなる。

本発明の第２の画像形成装置においては、下引層２はアクセプター性化合物を付与した金属酸化物微粒子を含有させて形成される。ここで、上記「アクセプター性化合物を付与」とは、下引層用材料混合／分散させる前に、金属酸化物粒子表面にアクセプター性化合物をほぼ均一に存在させることをいう。

アクセプター性化合物としては、所望の特性が得られるものならばいかなるものでも使用可能であるが、特にキノン基を有する化合物が好ましく用いられる。さらにアントラキノン構造を有するアクセプター性化合物が好ましく用いられる。アントラキノン構造を有する化合物としては、ヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物等があげられ、いずれも好ましく用いることができる。さらに具体的には、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が特に好ましく用いられる。

これらのアクセプター性化合物の付与量は、所望の特性が得られる範囲であれば任意に設定できるが、好ましくは金属酸化物微粒子に対して０．０１〜２０質量％の範囲で付与される。さらに好ましくは金属酸化物微粒子に対して０．０５〜１０質量％の範囲で付与される。アクセプター性化合物の付与量が０．０１質量％未満では下引層内の電荷蓄積低減に寄与するだけの十分なアクセプター性を付与できないため、繰り返し使用時に残留電位の上昇など維持性の悪化を招きやすい。
また２０質量％を超えると、金属酸化物同士の凝集を引き起こしやすく、その為下引層形成時に下引層内で金属酸化物が良好な導電路を形成することができず、繰り返し使用時に残留電位の上昇など維持性の悪化を招きやすくなるだけでなく、黒点などの画質欠陥も引き起こしやすくなる。

金属酸化物微粒子へのアクセプター化合物の付与方法としては、金属酸化物微粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、有機溶媒に溶解させたアクセプター化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって均一に付与される。
アクセプター化合物を添加あるいは噴霧する際には溶剤の沸点以下の温度で行われることが好ましく、溶剤の沸点以上の温度で噴霧すると、均一に攪拌される前に溶剤が蒸発し、アクセプター化合物が局部的にかたまってしまい均一な処理ができにくい欠点があるため好ましくない。添加あるいは噴霧した後、さらに溶剤の沸点温度以上で乾燥を行うことができる。また、金属酸化物微粒子を溶剤中で攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミルなどを用いて分散し、アクセプター化合物の有機溶剤溶液を添加し、還流あるいは有機溶剤の沸点以下で攪拌あるいは分散したのち、溶剤除去することで均一に付与される。また、溶剤除去方法はろ過あるいは蒸留、加熱乾燥により留去される。

下引層２に用いられるのバインダー樹脂としては、良好な膜を形成できるもので、かつ所望の特性が得られるものであれば公知のいかなるものでも使用可能であるが、例えばポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂などの公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂などを用いることができる。中でも上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが好ましく用いられる。

下引層形成用塗布液中の金属酸化物微粒子とバインダー樹脂との比率は、所望する電子写真感光体特性を得られる範囲で任意に設定できるが、本発明においては、紫外光に対する下引層２のダメージをより少なくするという観点から、金属酸化物微粒子とバインダー樹脂との体積比（金属酸化物微粒子／バインダー樹脂）を１０／９０〜９０／１０の範囲とすることが好ましく、１５／８５〜６０／４０の範囲とすることがより好ましい。

また、下引層形成用塗布液には電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加物を用いることができる。
上記添加物としては、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’−テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を用いることができる。

前記シランカップリング剤は酸化亜鉛の表面処理に用いられるが、添加剤としてさらに塗布液に添加して用いることもできる。ここで用いられるシランカップリング剤の具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等である。ジルコニウムキレート化合物の例として、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。

前記チタニウムキレート化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。

前記アルミニウムキレート化合物の例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
これらの化合物は単独にあるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いることができる。

下引層形成用塗布液を調製するための溶媒としては、公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択することができる。例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いることができる。

また、これらの分散に用いる溶剤は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤としてバインダー樹脂を溶かすことができる溶剤であれば、いかなるものでも使用することが可能である。

金属酸化物微粒子を分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法を用いることができる。

さらに、このようにして調製した塗布液を用いて下引層２を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。

このようにして導電性基材上に形成された下引層２は、ビッカース硬度が３５以上であることが好ましい。また、下引層２の体積抵抗率は１０⁶〜１０¹³Ωｃｍの範囲であることが好ましく、１０⁸〜１０¹²Ωｃｍの範囲であることがより好ましい。
体積抵抗率が１０⁶Ωｃｍ未満では、帯電電位が十分のらなかったりリークが発生することがある。また、１０¹³Ωｃｍを超えると繰り返し使用で安定した電位特性を得ることができない場合がある。

さらに、下引層２は、所望の特性が得られるのであれば、いかなる厚さに設定することができるが、厚さが１〜５０μｍの範囲であることが好ましく、５〜５０μｍの範囲がより好ましく、１５〜５０μｍの範囲がさらに好ましい。
下引層２の厚さが１μｍ未満であるときには、充分な耐リーク性能を得ることができず、また５０μmを超えると、長期使用時に残留電位が残りやすくなるため画像濃度異常を招きやすい欠点がある。

下引層２の表面粗さは、モアレ像防止のために、使用される露光用レーザー波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）〜１／２λの範囲に調整される。表面粗さ調整のために、下引層中に樹脂などの粒子を添加することもできる。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ＰＭＭＡ樹脂粒子等を用いることができる。
また、表面粗さ調整のために下引層を研磨することもできる。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウエットホーニング、研削処理等を用いることもできる。

さらに、この下引層２と感光層３との間に、電気特性向上、画質向上、画質維持性向上、感光層接着性向上などのために中間層を設けてもよい。中間層には、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂などの高分子樹脂化合物のほかに、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、シリコン原子などを含有する有機金属化合物などを用いることができる。これらの化合物は、単独にあるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いることができる。 中でも、ジルコニウムもしくはシリコンを含有する有機金属化合物は残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ないなど性能上優れている。

シリコン化合物の例としてはビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−ルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等である。

これらのなかでも特に好ましく用いられるシリコン化合物は、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤が挙げられる。

有機ジルコニウム化合物の例としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。

有機チタン化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。

有機アルミニウム化合物の例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。

前記中間層４は、上層の塗布性改善の他に電気的なブロキング層の役割も果たすが、膜厚が大きすぎる場合には電気的な障壁が強くなりすぎて減感や繰り返しによる電位の上昇を引き起こす。したがって、中間層４を形成する場合には、０．１〜５μmの膜厚範囲に設定される。

次に、下引層上に形成される感光層３について説明する。
感光層３における電荷発生層３１は、電荷発生物質を真空蒸着により形成するか、電荷発生物質を含む分散液塗布により形成される。分散液塗布により電荷発生層を形成する場合、電荷発生物質を有機溶剤及び結着樹脂、添加剤等とともに分散し、得られた分散液を塗布することにより電荷発生層３１は形成される。

本発明において、電荷発生物質としては、３５０〜５００ｎｍの範囲に主たる波長領域を有する光に対して感度を有する公知の電荷発生物質なら何でも使用できる。
具体的には、例えばビスアゾ、トリスアゾなどのアゾ系顔料、ペリレン系顔料、縮合多環顔料、フタロシアニン顔料、スクアリリウム系顔料、トリゴナルセレン系顔料、色素増感した酸化亜鉛微粒子等を用いることができる。これらの中では、特に縮合多環顔料、フタロシアニン系顔料が本発明における露光系に対して高感度で繰り返し安定性に優れるため好ましい。

電荷発生層３１に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができ、また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシランなどの有機光導電性ポリマーから選択することもできる。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸との重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は、単独あるいは２種以上混合して用いることができる。

また、前記電荷発生物質と結着樹脂との配合比（質量比）は、１０：１〜１：１０の範囲が好ましい。塗布液を調製するための溶媒としては、公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択することができる。例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を用いることができる。

また、これらを混合して電荷発生物質の分散に用いる溶剤としては、単独あるいは２種以上混合して用いることができる。混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤としてバインダー樹脂を溶かすことができる溶剤であれば、いかなるものでも使用することが可能である。

分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの方法を用いることができる。この分散において、電荷発生物質の体積平均粒径を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、さらに好ましくは０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることは高感度・高安定性に対して有効である。

さらに、電荷発生物質は電気特性の安定性向上、画質欠陥防止などのために表面処理を施すことができる。表面処理剤としてはカップリング剤などを用いることができるがこれに限定されるものではない。
表面処理に用いるカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤が挙げられる。

これらのなかでも特に好ましく用いられるシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤が挙げられる。

また、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等の有機ジルコニウム化合物も用いることができる。

また、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等の有機チタン化合物、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等の有機アルミニウム化合物も用いることができる。

さらに、電荷発生層用塗布液には電気特性向上、画質向上などのために種々の添加剤を添加することもできる。添加剤としては、クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’−テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を用いることができる。

シランカップリング剤の例としてはビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等である。

ジルコニウムキレート化合物の例としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。

チタニウムキレート化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。

アルミニウムキレート化合物の例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
これらの化合物は単独にあるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いることができる。

電荷発生層３１を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
なお、電荷発生層３１の膜厚は０．１〜３μｍの範囲とすることが好ましい。

上記電荷輸送層上に形成される電荷輸送層３２に含有される電荷輸送物質としては、公知のものならいかなるものでも使用可能であるが、下記に示すものを例示することができる。
すなわち、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、トリ（ｐ−メチル）フェニルアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、ジベンジルアニリン、９，９−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−トリル）フルオレノン−２−アミン等の芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１−ビフェニル］−４，４’−ジアミン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４’−ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４’−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、４−ジフェニルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、［ｐ−（ジエチルアミノ）フェニル］（１−ナフチル）フェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよびその誘導体等の正孔輸送物質、

クロラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’−テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送物質、あるいは以上に示した化合物からなる基を主鎖又は側鎖に有する重合体等が挙げられる。
これらの電荷輸送物質は、１種又は２種以上を組み合せて使用できる。

電荷輸送層用の結着樹脂としては、公知のものであればいかなるものでも使用することができるが、電気絶縁性のフィルム形成可能な樹脂が好ましい。例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−カルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルフォルマール、ポリスルホン、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロース、フェノール樹脂、ポリアミド、カルボキシ−メチルセルロース、塩化ビニリデン系ポリマーワックス、ポリウレタン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

これらの結着樹脂は、単独又は２種類以上混合して用いられるが、特にポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂が電荷輸送物質との相溶性、溶剤への溶解性、強度の点で優れ好ましく用いられる。
結着樹脂と電荷輸送物質との配合比（質量比）は、いずれの場合も任意に設定することができるが、電気特性低下、膜強度低下に注意しなくてはならない。電荷輸送物質と上記結着樹脂との配合比は１０：１〜１：５の範囲が好ましい。

また、電荷輸送層３２は、電荷輸送層３２が電子写真感光体の表面層（感光層の導電性基体から最も遠い側に配置される層）である場合、潤滑性を付与させ、表面層を磨耗しにくくしたり、傷がつきにくくしたりするため、また感光体表面に付着した現像剤のクリーニング性を高めるために、潤滑性粒子（例えば、シリカ粒子、アルミナ粒子やポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素系樹脂粒子、シリコーン系樹脂微粒子）を含有することが好ましい。これらの潤滑性粒子は、２種以上を混合して用いることもできる。特に、フッ素系樹脂粒子は好ましく用いられる。

フッ素系樹脂粒子としては、４フッ化エチレン樹脂、３フッ化塩化エチレン樹脂、６フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、２フッ化２塩化エチレン樹脂およびそれらの共重合体の中から１種あるいは２種以上を適宜選択するのが望ましいが、特に、４フッ化エチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂が好ましい。前記フッ素系樹脂の一次粒径は０．０５〜１μｍの範囲が好ましく、更に好ましくは０．１〜０．５μｍの範囲である。一次粒径が０．０５μｍを下回ると分散時あるいは分散後の凝集が進みやすくなる。また、１μｍを上回ると画質欠陥が発生し易くなる。

フッ素系樹脂を含有する電荷輸送層３２におけるフッ素系樹脂の電荷輸送層中含量は、電荷輸送層全量に対し、０．１〜４０質量％の範囲が適当であり、特に１〜３０質量％の範囲が好ましい。含量が１質量％未満ではフッ素系樹脂粒子の分散による改質効果が十分でなく、一方、４０質量％を越えると光通過性が低下し、かつ、繰返し使用による残留電位の上昇が生じてくる。

電荷輸送層３２は、電荷輸送物質及び結着樹脂、並びにその他の材料を適当な溶媒に溶解させた電荷輸送層形成用塗布液を塗布して乾燥することによって形成することができる。
電荷輸送層３２の形成に使用される溶媒としては、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶剤、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール等の脂肪族アルコール系溶剤、アセトン、シクロヘキサノン、２−ブタノン等のケトン系溶剤、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエーテル等の環状或いは直鎖状エーテル系溶剤、或いはこれらの混合溶剤等を用いることができる。

また、電荷輸送層形成用塗布液には塗膜の平滑性向上のためのシリコーンオイル等のレベリング剤を微量添加することもできる。
電荷輸送層中に前記フッ素系樹脂を分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、高圧ホモジナイザー、超音波分散機、コロイドミル、衝突式メディアレス分散機、貫通式メディアレス分散機等の方法を用いることができる。

電荷輸送層３２を形成する塗布液の分散例としては、溶媒に溶解した結着樹脂、電荷輸送材料などの溶液中にフッ素系樹脂粒子を分散する方法が挙げられる。
電荷輸送層３２を形成する塗工液を製造する工程では、塗工液の温度を０℃〜５０℃の範囲に制御することが好ましい。塗工液製造工程での塗工液の温度を０℃〜５０℃に制御する方法として、水で冷やす、風で冷やす、冷媒で冷やす、製造工程の室温を調節する、温水で暖める、熱風で温める、ヒーターで暖める、発熱しにくい材料で塗工液製造設備を作る、放熱しやすい材料で塗工液製造設備を作る、蓄熱しやすい材料で塗工液製造設備を作るなどの方法が利用できる。

分散液の分散安定性を向上させるため、及び塗膜形成時の凝集を防止するために分散助剤を少量添加することも有効である。分散助剤として、フッ素系界面活性剤、フッ素系ポリマー、シリコーン系ポリマー、シリコーンオイル等が挙げられる。また、フッ素系樹脂と前記分散助剤を少量の分散溶剤中であらかじめ分散、攪拌、混合した後、電荷輸送材料と結着樹脂と分散溶剤とを混合溶解した液と攪拌、混合した後に前記方法により分散することも有効な手段である。

電荷輸送層３２を設けるときに用いられる塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、スプレー塗布法、ロールコータ塗布法、ワイヤーバーコーティング法、グラビアコータ塗布法、ビードコーティング法、カーテンコーティング法、ブレードコーティング法、エアーナイフコーティング法等を用いることができる。
電荷輸送層３２の膜厚は、５〜５０μｍの範囲が好ましく、１０〜４０μｍの範囲がより好ましい。

本発明における電子写真感光体には、電子写真装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光・熱による感光体の劣化を防止する目的で、感光層中に酸化防止剤・光安定剤などの添加剤を添加する事ができる。
たとえば、酸化防止剤としてはヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物などが挙げられる。

酸化防止剤の具体的な化合物例としては、フェノール系酸化防止剤では２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、スチレン化フェノール、ｎ−オクタデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−ｔ−ブチル−６−（３’−ｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニル−アクリレート、４，４’−ブチリデン−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオ−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート］−メタン、３，９−ビス［２−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ−［５，５］−ウンデカン等が挙げられる。

ヒンダードアミン系化合物としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オクチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイミル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，３，６，６，−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン−２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４ピペリジル）アミノ］−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮合物等が挙げられる。

有機イオウ系酸化防止剤としては、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオネート、２−メルカプトベンズイミダゾール等が挙げられる。

有機燐系酸化防止剤としては、トリスノニルフェニルフォスフィート、トリフェニル フォスフィート、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−フォスフィート等が挙げられる。
有機硫黄系および有機燐系酸化防止剤は２次酸化防止剤と言われフェノール系あるいはアミン系などの１次酸化防止剤と併用することにより相乗効果を得ることができる。

光安定剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ジチオカルバメート系、テトラメチルピペリジン系などの誘導体が挙げられる。
前記ベンゾフェノン系光安定剤としては、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等が挙げられる。

前記ベンゾトリアゾール系光安定剤としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（３”，４”，５”，６”−テトラ−ヒドロフタルイミド−メチル）−５’−メチルフェニル］−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ｔ−ブチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
その他の化合物としては、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、ニッケルジブチル−ジチオカルバメート等がある。

また感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として少なくとも１種の電子受容性物質を含有せしめることができる。
前記電子受容性物質としては、例えば無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等をあげる事ができる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、Ｃｌ，ＣＮ，ＮＯ₂等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特によい。

本発明においては、電荷輸送層３２の上に、さらに保護層５を設けることもできる。保護層５は、積層構造からなる感光体では帯電時の電荷輸送層３２の化学的変化を防止したり、感光層３の機械的強度をさらに改善したりする為に用いられる。
この保護層５は、硬化性樹脂、電荷輸送性化合物を含む樹脂硬化膜、導電性材料を適当な結着樹脂中に含有させて形成された膜などから成る。硬化性樹脂としては公地の樹脂であれば何でも使用できるが、例えばフェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シロキサン樹脂等が挙げられる。

前記電荷輸送性化合物としては、前述の電荷輸送層３２に用いる電荷輸送物質や電荷輸送性樹脂を用いることができる。また、前記導電性材料としては、ジメチルフェロセン等のメタロセン化合物、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化チタン、酸化インジウム、ＩＴＯ等の金属酸化物等の材料を用いることができるが、これらに限定されるものではない。

保護層５の電気抵抗は、１０⁹〜１０¹⁴Ω・ｃｍの範囲であることが好適である。電気抵抗が１０¹⁴Ω・ｃｍを越えると残留電位が増加する場合があり、他方、１０⁹Ω・ｃｍ未満であると沿面方向での電荷漏洩が無視できなくなり、解像度の低下が生じてしまう場合がある。

保護層５の膜厚は０．１〜２０μｍの範囲が好ましく、１〜１０μｍの範囲であることがより好ましい。保護層５を設けた場合、必要に応じて、感光層３と保護層５との間に、保護層５から感光層３への電荷の漏洩を阻止するためのブロッキング層を設けることができる。このブロッキング層としては、保護層５の場合と同様に公知のものを用いることができる。

前記保護層５には、表面潤滑性を付与する目的でフッ素原子含有化合物を添加できる。表面潤滑性を向上させることによりクリーニング部材との摩擦係数が低下し、耐摩耗性を向上させることができる。また、感光体表面に対する放電生成物、現像剤および紙粉などの付着を防止する効果も有し、感光体の寿命向上に役立つ。

前記フッ素含有化合物としては、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素原子含有ポリマーをそのまま添加するか、あるいはそれらポリマーの微粒子を添加することができる。
前記フッ素含有化合物の添加量としては、保護層中の２０質量％以下とすることが好ましい。これを越えると、架橋硬化膜の成膜性に問題が生じる場合がある。

前記保護層５は十分な耐酸化性を有しているが、さらに強い耐酸化性を付与する目的で、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系あるいはヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては、保護層中の１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下がさらに好ましい。

前記ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、Ｎ，Ｎ'−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマイド、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，２'−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２'−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４'−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２−ｔ−ブチル−６−（３−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４'−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、等が挙げられる。

また前記保護層５には、公知の塗膜形成に用いられるその他の添加剤を添加することも可能であり、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、界面活性剤、など公知のものを用いることができる。
前記保護層５を形成するためには、前述の各種材料、および各種添加剤の混合物を感光層の上に塗布し加熱処理する。これにより、３次元的に架橋硬化反応を起こさせ、強固な硬化膜を形成する。加熱処理の温度は、下層である感光層３に影響しなければ特に制限はないが、室温〜２００℃の範囲、特に１００〜１６０℃の範囲に設定するのが好ましい。

前記保護層５の形成において、架橋性材料を用いた場合は架橋硬化反応を行うが、その際には無触媒で行なってもよいが、適切な触媒を用いてもよい。触媒としては、塩酸、硫酸、燐酸、蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、等の酸触媒、アンモニア、トリエチルアミン等の塩基、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクトエート、オクエ酸第一錫等の有機錫化合物、テトラ−ｎ−ブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート等の有機チタン化合物、有機カルボン酸の鉄塩、マンガン塩、コバルト塩、亜鉛塩、ジルコニウム塩、アルミニウムキレート化合物等が挙げられる。

前記保護層５には、塗布を容易にするため、必要に応じて溶剤を添加して用いることができる。具体的には、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、ジメチルエーテル、ジブチルエーテル、等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。

前記保護層５の形成において、塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。

本発明に用いられる電子写真感光体は、高解像度を得るための電荷発生層より上層の機能層の膜厚は、所望の特性が得られるのであればいかなる膜厚に設定することができるが、５０μｍ以下とすることが好ましい。機能層が薄膜の場合は、前述の金属酸化物微粒子とアクセプター性化合物とを含む下引層と高強度な保護層との組み合わせが特に有効に用いられる。

本発明に用いられる電子写真感光体は、上記構成に限定されるものではない。例えば、電子写真感光体において、前記保護層５が存在しない構成のものでもよいし、また、電荷発生層３１と電荷輸送層３２とは、その積層順序が逆であってもよい。また、感光層３が単層構造であってもよい。その場合、感光層上に保護層５を備えるものであってもよく、下引層２と保護層５を共に有するものであってもよい。さらに、下引層上には、上述したように中間層４を設けてもよい。

次に、本発明に用いられる現像剤について説明する。本発明の画像形成装置には、トナーのみからなる一成分系、トナーとキャリアとからなる二成分系の現像剤を用いることができる。
前記トナーは、特に製造方法により限定されるものではなく、例えば結着樹脂と着色剤、離型剤、必要に応じて帯電制御剤等を混練、粉砕、分級する混練粉砕法、混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力または熱エネルギーにて形状を変化させる方法、結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤、離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法、結着樹脂を得るための重合性単量体と着色剤、離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法、結着樹脂と着色剤、離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により得ることができる。

また上記方法で得られたトナー粒子をコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法など、公知の方法を使用することができるが、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が好ましく、乳化重合凝集法が特に好ましい。

トナー粒子は、結着樹脂と着色剤と、必要に応じて離型剤等とからなり、さらに必要であれば、シリカや帯電制御剤を用いてもよい。トナー粒子の体積平均粒径は２〜１２μｍの範囲とすることが好ましく、３〜９μｍの範囲とすることがより好ましい。

また、トナー粒子の形状指数（（ＭＬ²／Ａ）×（π／４）×１００ ）の平均値が、１００〜１４０の範囲のものを用いることにより高い現像、転写性、及び高画質の画像を得ることができる。
なお、上記においてＭＬはトナー粒子の最大長、Ａはトナー粒子の投影面積を表す。

使用される結着樹脂としては、スチレン、クロロスチレン等のスチレン類；エチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等のモノオレフィン類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類；ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類；等の単独重合体および共重合体を例示することができ、特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン等を挙げることができる。さらに、ポリエステル、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等を挙げることができる。

また、前記着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３等を代表的なものとして例示することができる。

前記離型剤としては、低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロピィシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等を代表的なものとして例示することができる。

また、トナーには必要に応じて帯電制御剤が添加されてもよい。帯電制御剤としては、公知のものを使用することができるが、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプの帯電制御剤を用いることができる。湿式製法でトナーを製造する場合、イオン強度の制御と廃水汚染の低減の点で水に溶解しにくい素材を使用するのが好ましい。本発明におけるトナーは、磁性材料を内包する磁性トナーおよび磁性材料を含有しない非磁性トナーのいずれであってもよい。

本発明に用いるトナーは、上記トナー粒子及び下記各種外添剤をヘンシェルミキサーあるいはＶブレンダー等で混合することによって製造することができる。また、トナー粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添することも可能である。

本発明に用いるトナーに添加される滑性粒子としては、グラファイト、二硫化モリブデン、滑石、脂肪酸、脂肪酸金属塩等の固体潤滑剤や、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類、加熱により軟化点を有するシリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等のような脂肪族アミド類やカルナウバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等のような植物系ワックス、ミツロウのような動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等のような鉱物、石油系ワックス、及びそれらの変性物が使用でき、これらを単独で使用するか、あるいは併用しても良い。但し、平均粒径としては０．１〜１０μｍの範囲に上記化学構造のものを粉砕して、粒径をそろえてもよい。トナーへの添加量は好ましくは０．０５〜２．０質量％の範囲、より好ましくは０．１〜１．５質量％の範囲である。

本発明に用いるトナーには、電子写真感光体表面の付着物、劣化物除去の目的等で、無機微粒子、有機微粒子、該有機微粒子に無機微粒子を付着させた複合微粒子などを加えることができるが、研磨性に優れる無機微粒子が特に好ましい。無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、酸化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の各種無機酸化物、窒化物、ホウ化物等が好適に使用される。

上記無機微粒子に、テトラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビス（ジオクチルパイロフォスフェート）オキシアセテートチタネートなどのチタンカップリング剤、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトエリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ｏ−メチルフェニルトリメトキシシラン、ｐ−メチルフェニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤などで処理を行っても良い。また、シリコーンオイル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩によって疎水化処理することも好ましく使用される。

前記有機微粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレンアクリル樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子、ウレタン樹脂粒子等を挙げることができる。
これらの微粒子の粒子径としては、小さすぎると研磨能力に欠け、また、大きすぎると電子写真感光体表面に傷を発生しやすくなるため、体積平均粒子径で５ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲、好ましくは５ｎｍ〜８００ｎｍの範囲、より好ましくは５ｎｍ〜７００ｎｍの範囲のものが使用される。また、前記滑性粒子の添加量との和が０．６質量％以上であることが好ましい。

トナーに添加されるその他の無機酸化物としては、粉体流動性向上、帯電制御等のために、１次粒径が４０ｎｍ以下の小径無機酸化物を用い、更に付着力低減や帯電制御のため、それより大径の無機酸化物を添加することが好ましい。これらの無機酸化物微粒子は公知のものを使用できるが、精密な帯電制御を行う為にはシリカと酸化チタンを併用することが好ましい。また、小径無機微粒子については表面処理することにより、分散性が高くなり、粉体流動性をあげる効果が大きくなる。

また、電子写真用カラートナーとしては、キャリアと混合して使用されるが、キャリアとしては、鉄粉、ガラスビーズ、フェライト粉、ニッケル粉またはそれ等の表面に樹脂コーティングを施したものが使用される。また、キャリアとの混合割合は、適宜設定することができる。

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
＜電子写真感光体の作製＞
各実施例、比較例に用いた電子写真感光体は、以下のようにして作製した。
（電子写真感光体（１））
酸化亜鉛（体積平均粒子径：７０ｎｍ、テイカ社製、比表面積値：１５ｍ²／ｇ）１００質量部をテトラヒドロフラン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤としてのＮ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ６０３、信越化学社製）１．２５質量部を添加し、２時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛微粒子を得た。

前記表面処理を施した酸化亜鉛微粒子６０質量部と、アリザリン０．６質量部と、硬化剤としてブロック化イソシアネート（スミジュール３１７３、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部と、ブチラール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）１５質量部とを、メチルエチルケトン８５質量部に溶解した溶液３８質量部と、メチルエチルケトン25質量部とを混合し、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間の分散を行い分散液を得た。

得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５質量部と、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４．０質量部とを添加し、下引層塗布用液を得た。この塗布液を、浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚１ｍｍの鏡面加工したアルミニウム基材上に塗布し、１８０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ２５μｍの下引層を得た。

次に、電荷発生物質として、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が、少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、及びｎ−酢酸ブチル２００質量部からなる混合物を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。

得られた分散液に、ｎ−酢酸ブチル１７５質量部及びメチルエチルケトン１８０質量部を添加し、攪拌して電荷発生層用の塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を前記下引層上に浸漬塗布し、常温で乾燥して、厚みが０．２μｍの電荷発生層を得た。

次に、４フッ化エチレン樹脂粒子１質量部（平均粒径：０．２μｍ）及びフッ素系グラフトポリマー０．０２質量部とテトラヒドロフラン５質量部とを、トルエン２質量部とともに十分攪拌混合し、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を得た。次に、電荷輸送物質としてＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン４質量部、ビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：４０，０００）６質量部、テトラヒドロフラン２３質量部及びトルエン１０質量部を混合溶解した。

これに前記４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を加えて攪拌混合した後、微細な流露を持つ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー（ナノマイザー株式会社製、商品名ＬＡ−３３Ｓ）を用いて、４００ｋｇｆ／ｃｍ²まで昇圧しての分散処理を６回繰り返し、さらに、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２質量部を混合して電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布して１１５℃で４０分間乾燥し、膜厚が２０μｍの電荷輸送層を形成し、目的の電子写真感光体（１）を得た。

（電子写真感光体（２））
酸化亜鉛（体積平均粒子径：７０ｎｍ、テイカ社製、比表面積値：１５ｍ²／ｇ）１００質量部をテトラヒドロフラン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤としてのＮ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ６０３、信越化学社製）１．２５質量部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛微粒子を得た。

前記表面処理を施した酸化亜鉛微粒子１００質量部を５００質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、これにアリザリン１質量部を５０質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、５０℃にて５時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛微粒子をろ別し、さらに６０℃で減圧乾燥を行いアリザリン付与酸化亜鉛微粒子を得た。

このアリザリン付与酸化亜鉛微粒子６０質量部と硬化剤としてブロック化イソシアネート（スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部と、ブチラール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）１５質量部とをメチルエチルケトン８５質量部に溶解した溶液３８質量部と、メチルエチルケトン２５質量部とを混合し、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い分散液を得た。

得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５質量部と、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４０質量部とを添加し、下引層塗布用液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚１ｍｍの鏡面加工したアルミニウム基材上に塗布し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ２５μｍの下引層を得た。

次に、下引層上に感光層を形成した。まず、電荷発生物質としてジブロモアントアントロン顔料（ゼネカ社製）５質量部、ポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−１、積水化学社製）１質量部およびシクロヘキサノン１００質量部を混合し、直径１ｍｍのガラスビーズとともにペイントシェーカーを用いて１時間分散した。得られた塗工液を前記下引き層上に浸漬コーティング法により塗布し、１００℃で１０分間加熱乾燥して膜厚約１μｍの電荷発生層を形成した。

さらに、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン４質量部とビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：４００００）６質量部、テトラヒドロフラン２３質量部、トルエン１０質量部に混合溶解した後、さらに、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２質量部を混合して電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布して１１５℃で４０分間乾燥し、膜厚が２０μｍの電荷輸送層を形成し、目的の電子写真感光体（２）を得た。

（電子写真感光体（３））
酸化亜鉛（体積平均粒子径：７０ｎｍ、テイカ社製、比表面積値：１５ｍ²／ｇ）１００質量部をテトラヒドロフラン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤としてのＮ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ６０３、信越化学社製）１．２５質量部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛微粒子を得た。

前記表面処理を施した酸化亜鉛微粒子１００質量部を５００質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、これに１，２−ジアミノアントラキノン１質量部を５０質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、５０℃にて５時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛微粒子をろ別し、さらに６０℃で減圧乾燥を行いアリザ１，２−ジアミノアントラキノン付与酸化亜鉛微粒子を得た。

この１，２−ジアミノアントラキノン付与酸化亜鉛微粒子６０質量部と、硬化剤としてブロック化イソシアネート（スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部と、ブチラール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）１５質量部とをメチルエチルケトン８５質量部に溶解した溶液３８質量部と、メチルエチルケトン２５質量部とを混合し、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い分散液を得た。

得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５質量部と、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４０質量部とを添加し、下引層塗布用液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚１ｍｍの鏡面加工したアルミニウム基材上に塗布し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ２５μｍの下引層を得た。

次に、下引層上に感光層を形成した。まず、電荷発生物質としてジブロモアントアントロン顔料（ゼネカ社製）５質量部、ポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−１、積水化学社製）１質量部およびシクロヘキサノン１００質量部を混合し、直径１ｍｍのガラスビーズとともにペイントシェーカーを用いて１時間分散した。得られた塗工液を前記下引き層上に浸漬コーティング法により塗布し、１００℃で１０分間加熱乾燥して膜厚約１μｍの電荷発生層を形成した。

さらに、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン４質量部と、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：４００００）６質量部とを、テトラヒドロフラン２３質量部とトルエン１０質量部とに混合溶解した後、さらに、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２質量部を混合して電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布して１１５℃で４０分間乾燥し、膜厚が２０μｍの電荷輸送層を形成し、目的の電子写真感光体（３）を得た。

（電子写真感光体（４））
電子写真感光体（２）の作製において、下引層の厚みが１５μｍの下引層を形成し、同様にして感光層を形成して電子写真感光体（４）を得た。

（電子写真感光体（５））
電子写真感光体（１）の作製において、酸化亜鉛の表面処理に用いるシランカップリング剤としてγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを用いた以外は同様にして厚みが２５μｍの下引層を形成し、同様にして感光層を形成して電子写真感光体（５）を得た。

（電子写真感光体（６））
電子写真感光体（１）の作製において、下引層にアリザリンを加えなかった以外は同様にして厚みが２５μｍの下引層を形成し、同様にして感光層を形成して電子写真感光体（６）を得た。

（電子写真感光体（７））
電子写真感光体（２）の作製において、金属酸化物微粒子としてアリザリン付与しない酸化亜鉛微粒子を用いた以外は同様にして厚みが２５μｍの下引層を形成し、同様にして感光層を形成して電子写真感光体（７）を得た。

（電子写真感光体（８））
直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚１ｍｍの鏡面加工したアルミニウム基材上に、ジルコニウム化合物（商品名：オルガノチックスＺＣ５４０、マツモト製薬社製）２０質量部、シラン化合物（商品名：Ａ１１００、日本ユニカー社製）２．５質量部、およびブタノール４５質量部からなる塗工液を浸漬コーティング法により塗布し、１５０℃で１０分間加熱乾燥して膜厚が０．１μｍの下引き層を成膜した。
この下引層上に、電子写真感光体（２）の作製と同様にして電荷発生層、電荷輸送層を形成し、電子写真感光体（８）を得た。

（電子写真感光体（９））
直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚１ｍｍの鏡面加工したアルミニウム基材の表面を、算術平均粗さＲａが０．２μｍとなるように湿式ホーニング処理を施した。次に、ジルコニウム化合物（商品名：オルガノチックスＺＣ５４０、マツモト製薬社製）２０質量部、シラン化合物（商品名：Ａ１１００、日本ユニカー社製）２．５質量部、オリビニルブチラール（エスレックＢＭ−１、積水化学社製）２０質量部およびブタノール４５質量部からなる塗工液を浸漬コーティング法により塗布し、１５０℃で１０分間加熱乾燥して膜厚が１．０μｍの下引き層を成膜した。
この下引層上に、電子写真感光体（１）の作製と同様にして電荷発生層、電荷輸送層を形成し、電子写真感光体（９）を得た。

＜実施例１＞
電子写真感光体（１）を、富士ゼロックス社製Ｌａｓｅｒ Ｐｒｅｓｓ ４１６０II改造機（光源として、日立金属株式会社製のＳＨＧ半導体レーザーＩＣＤ−４３０（発振波長：４３０ｎｍ）を装着したもの）に装着してプリント試験を行い、２０℃、４０％ＲＨの環境下で、初期および１００００枚プリント後における画質欠陥（白ヌケ、黒ポチなど）発生の有無について評価した。なお、トナーとしては体積平均粒径が６μｍ、形状係数が１２５のものを用いた。
その結果を表１に示す。

＜実施例２〜５＞
実施例１において、電子写真感光体（１）の代わりに電子写真感光体（２）〜（５）を用いた以外は同様にして評価を行なった。
結果を表１に示す。

＜比較例１〜４＞
実施例１において、電子写真感光体（１）の代わりに、各々電子写真感光体（６）〜（９）を用いた以外は同様にして評価を行なった。
結果を表１に示す。

表１に示すように、従来の近赤外光半導体レーザーに代えて紫外青紫色光レーザーを露光装置として有する画像形成装置おいても、電子写真感光体として実施例に示した青紫色光に対して高耐久性の下引層上に形成された感光層を有する電子写真用感光体を組み合わせて用いることにより、高解像度の画像を繰り返し高安定に得ることができることがわかる。一方、比較例に示すように、従来の下引層を有する感光体では、初期からモアレが発生するだけでなく、連続印字での画質低下が著しかった。

本発明の電子写真装置の模式図である。 本発明に用いられる電子写真感光体の一例を示す模式断面図である。

符号の説明

１ 導電性基体
２ 下引層
３ 感光層
４ 中間層
５ 保護層
７ 電子写真感光体
８ 帯電装置（帯電手段）
１０ 露光装置（露光手段）
１１ 現像装置（現像手段）
１２ 転写装置（転写手段）
１３ クリーニング装置
１４ 除電装置
１５ 用紙搬送装置
３１ 電荷発生層
３２ 電荷輸送層

Claims (3)

1. 少なくとも、電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を備えた画像形成装置であって、前記露光手段が３５０〜５００ｎｍの範囲に主たる発光波長領域を有する露光光源を有し、かつ前記電子写真感光体が導電性基材上に少なくとも下引層と感光層とを有してなり、該下引層がシランカップリング剤を用いて表面処理された金属酸化物粒子と水酸基を有するアントラキノン系化合物とを含有することを特徴とする画像形成装置。
2. 少なくとも、電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を備えた画像形成装置であって、前記露光手段が３５０〜５００ｎｍの範囲に主たる発光波長領域を有する露光光源を有し、かつ前記電子写真感光体が導電性基材上に少なくとも下引層と感光層とを有してなり、該下引層が、シランカップリング剤を用いて表面が処理されるとともに、水酸基を有するアントラキノン系化合物が表面に存在する金属酸化物粒子を含有することを特徴とする画像形成装置。
3. 前記金属酸化物粒子が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ及び酸化ジルコニウムから選ばれる１種以上からなることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の画像形成装置。

Images