JP4018120B2 - 液滴吐出描画装置 - Google Patents

Description

本発明は、被記録物に対して相対的に移動する保持部材に保持された液滴吐出ユニットにより被記録物に液滴を吐出する液滴吐出描画装置に関するものである。

近年、インクジェット技術は紙媒体上に画像を形成するプリンター装置としてだけでなく、製造装置としての用途が期待されている。例えば、特許文献１では、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ、電子放出素子、電気泳動表示装置などの製造装置として、インクジェット方式による液滴吐出素子を搭載した製造装置の構成が示されている。この特許文献１では、基板上への着弾位置精度を向上させるために、装置基体を石定盤として、基板を同一方向に搬送するステージと、ステージ進行方向と直交する方向にインクジェットヘッドを移動させるキャリッジ機構とを、それぞれ石定盤上に直結して設けている。

インクジェット方式による汎用プリンターには、通常は液滴を吐出させる素子として１５０〜３００ノズル／インチの間隔でノズル孔が規則配列した幅１／２〜２インチのインクジェットヘッド素子を各色毎に数個ずつ搭載した１個のインクジェットヘッドユニットを用いて画像を形成する。画像形成方法としては、記録紙を紙送りローラーで送りつつ、記録紙の搬送方向に対して直交する方向にインクジェットヘッドユニットを複数回走査することで、記録紙に画像を形成していた。

このインクジェット方式を製造装置として用いる場合でも、インクジェットヘッド素子は汎用プリンター用と同等であり、ノズル列方向のサイズは高々１〜２インチ程度しかないのが現状である。

一方、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ、電子放出素子、電気泳動表示装置の製造プロセスは、大面積基板を使用して採れ数を増やすことによって低コスト及びタクトの短縮を図る傾向にあり、インクジェット方式によりこれらを製造するためには、一辺数ｍにも及ぶ大面積基板に対応できる製造装置が必要とされてきた。

大面積基板に対して高速で処理できるインクジェット方式を用いた製造装置としては、複数のインクジェットヘッド素子を並べて基板サイズ以上の長さにしたラインヘッド方式がある。この方式は、高々１〜２インチの幅のインクジェット素子を、基板サイズに至る長さまで千鳥配列させるものであり、基板サイズが数ｍとすると少なくとも１００〜２００個のヘッドを配列させる必要がある。このラインヘッド方式による製造装置は、例えばカラーフィルタ基板のような、基板全面に吐出を必要とし、さらに吐出箇所が規則的である基板には、非常に効果的であるといえる。

また、カラーフィルタ基板の製造方法の一部として、カラーフィルタ基板に着色不良部分があった場合に、不良箇所のみにカラーフィルタ材料を吐出させる構成が知られている（特許文献２）。
特開２００３−１９１４６２号公報（平成１５年７月８日（２００３．７．８）公開） 特開２００３−６６２１８号公報（平成１５年３月５日（２００３．３．５）公開）

しかしながら、特許文献１に記載のラインヘッド方式により、特許文献２に示されているカラーフィルタ基板の修復を実施しようとすると、以下のような問題を生じる。

カラーフィルタ基板に点在する欠陥（不良箇所）を修正する手段としてラインヘッド方式を用いると、基板全面に液滴を吐出させるのと同一の処理時間を要する上に、殆どが吐出されない非動作ノズルとなり、ノズル詰まりを発生しやすい。さらに全てのノズルに対してメンテナンス動作を行うことが必要で、不要な廃液が増加する。また、吐出量を均一化させたい場合において、ラインヘッド方式では、点在する所望箇所に対して液滴を吐出させるだけであるにもかかわらず、合計数千個にも及ぶノズルに対して逐一吐出量補正を行うことが必要となり極めて非効率的である。

また、汎用プリンターで多用されてきたインクジェットヘッドユニットを複数個同一ガントリー上に並べて往復させる方式では、インクジェットヘッドユニットの走査距離は増加する上に、安定動作の面で走査速度にも限界があり、処理時間が短縮できない。

また、大面積基板上の全面に限らず、所望の箇所に液滴を効率よく吐出させたいという要望は、カラーフィルタの修復に限らず様々な製造分野で今後求められるものである。

以上のように、大面積基板に対応できる方式であって、点在する複数の所望箇所に効率的に液滴を吐出させることのできる装置の開発が望まれていた。そして、必須ではないものの、その装置が全面吐出にも対応できるものであることが望ましかった。

本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、大面積基板に点在する所望箇所に対して効率よく吐出動作を行うことのできるインクジェット方式による液滴塗布装置を提供する。さらに、望ましくは大面積基板上の全面吐出にも対応できる上記装置を提供する。

本発明に係る液滴吐出描画装置は、上記課題を解決するために、被記録物に液滴を吐出する液滴吐出ユニットと、前記液滴吐出ユニットを保持する保持手段と、前記保持手段と前記被記録物とを相対的に移動させる移動手段と、前記移動手段の移動方向を反転させる移動方向反転手段とを備えたことを特徴とする。

上記特徴により、移動手段の移動方向を反転させる移動方向反転手段を設けたので、移動手段の移動方向を反転させることにより、移動手段による１回の主走査では修復することができない互いに近接した２個の吐出標的を修復することができる。

本発明に係る液滴吐出描画装置では、前記液滴吐出ユニットは、前記被記録物上に点在する複数個の吐出標的に液滴を吐出し、前記移動手段は、前記保持手段を前記被記録物に対して主走査方向に沿って等速度で相対的に移動させ、前記液滴吐出ユニットは、前記主走査方向に交差する副走査方向に沿って移動可能であり、前記液滴吐出ユニットは、前記液滴吐出ユニットが前記複数個の吐出標的のうちの第１吐出標的から第２吐出標的へ移動する間に、前記保持手段が前記主走査方向に移動する主走査方向移動時間と、前記液滴吐出ユニットが前記副走査方向に移動する副走査方向移動時間とに基づいて定められた順番に従って、前記吐出標的に液滴を吐出することが好ましい。

上記構成によれば、前記液滴吐出ユニットが前記複数個の吐出標的のうちの第１吐出標的から第２吐出標的へ移動する間に、前記保持手段が前記主走査方向に移動する主走査方向移動時間と、前記液滴吐出ユニットが前記副走査方向に移動する副走査方向移動時間とに基づいて定められた順番に従って、前記吐出標的に液滴を吐出する巡回修復アルゴリズムに従って欠陥を修復する液滴吐出描画装置において、主走査方向移動時間よりも副走査方向移動時間が長いために、１回の主走査では修復することができない２個の吐出標的を修復することができる。

本発明に係る液滴吐出描画装置では、前記吐出標的の位置データに基づいて、前記移動方向反転手段の反転回数を決定する反転回数決定手段をさらに備えることが好ましい。

上記構成によれば、事前に吐出標的の位置データを取得し、この取得した位置データに基づいて、移動方向反転手段の反転回数を決定することができる。

本発明に係る液滴吐出描画装置では、前記液滴吐出ユニットは、前記副走査方向に沿って前記保持手段に複数個設けられ、各液滴吐出ユニットに前記複数個の吐出標的を分担させる分担決定手段をさらに含み、前記反転回数決定手段は、前記吐出標的の位置データに基づいて、前記反転回数を各液滴吐出ユニット毎に個別に算出する個別算出手段と、前記個別に算出した反転回数のうちの最大値以上の値を前記反転回数として決定する最終決定手段とを含むことが好ましい。

上記構成によれば、液滴吐出ユニットは、保持手段に複数個設けられており、必要な反転回数は液滴吐出ユニット毎に異なるが、これらの液滴吐出ユニットは、一体となって主走査方向に移動するので、移動手段の反転回数を、各液滴吐出ユニットの反転回数のうちの最大の反転回数以上とすることにより、すべての吐出標的に液滴を吐出することができる。

本発明に係る液滴吐出描画装置では、反転毎に定義される前記移動手段の移動量が一部異なることが好ましい。

上記構成によれば、被記録物上の吐出標的の点在状況に応じて、移動手段を移動させて、効率的に液滴を吐出し、タクトタイムを短縮することができる。

本発明に係る液滴吐出描画装置では、前記移動手段の移動量が前記反転の度に小さくなることが好ましい。

上記構成によれば、主走査方向への保持手段の走査を重ねるにつれて残修復箇所は減少してゆく。このため、被記録物の端から端まで保持手段を走査させる必要がなくなるので、事前マッピングで認識している必要な走査領域のみを走査することにより、タクトタイムを４０％削減することができる。

本発明に係る他の液滴吐出描画装置は、個別に移動可能なＮ個（Ｎは整数）の液滴吐出ユニットと、前記Ｎ個の液滴吐出ユニットと基板とを相対的に移動させる移動手段とを備え、前記基板上の（Ｎ＋１）個以上の修復箇所へ前記Ｎ個の液滴吐出ユニットにより液滴を吐出するために、前記移動手段による移動方向を反転させることを特徴とする。

上記特徴によれば、移動手段による移動方向を反転させることにより、液滴吐出ユニット数以上の修復箇所を修復することができる。

本発明に係るさらに他の液滴吐出描画装置は、媒体上の複数個の吐出標的に液滴を吐出する液滴吐出ユニットと、前記液滴吐出ユニットを保持する保持手段と、前記保持手段を前記媒体に対して主走査方向に沿って相対的に移動させる移動手段とを備え、前記液滴吐出ユニットは、前記主走査方向に交差する副走査方向に沿って移動可能であり、前記液滴吐出ユニットは、前記副走査方向に沿った移動を停止した状態で前記吐出標的に液滴を吐出することを特徴とする。

上記特徴によれば、媒体上の欠陥を修復する液滴吐出描画装置において、液滴吐出ユニットは、副走査方向の移動を停止した状態で液滴を吐出するので、液滴の吐出を安定化させることができる。

本発明に係る液滴吐出描画装置は、以上のように、移動手段の移動方向を反転させる移動方向反転手段を備えているので、移動手段による１回の主走査では修復することができない互いに近接した２個の吐出標的を修復することができ、大面積基板に点在する所望箇所に対して効率よく吐出動作を行うことができるという効果を奏する。

本発明に係る他の液滴吐出描画装置は、以上のように、基板上の（Ｎ＋１）個以上の修復箇所へＮ個の液滴吐出ユニットにより液滴を吐出するために、移動手段による移動方向を反転させるので、液滴吐出ユニット数以上の修復箇所を修復することができ、大面積基板に点在する所望箇所に対して効率よく吐出動作を行うことができるという効果を奏する。

本発明に係るさらに他の液滴吐出描画装置は、以上のように、液滴吐出ユニットが、副走査方向に沿った移動を停止した状態で吐出標的に液滴を吐出するので、液滴の吐出を安定化させることができ、大面積基板に点在する所望箇所に対して効率よく吐出動作を行うことができるという効果を奏する。

本発明の一実施形態について図１ないし図３８に基づいて説明すると以下の通りである。

（実施の形態１）
＜装置全体の構成説明＞
図１は、実施の形態１に係る欠陥修復装置（液滴吐出描画装置）１の外観を示す斜視図である。図２は、欠陥修復装置１の模式的断面図である。

欠陥修復装置１は、基体１６を備えている。欠陥修復装置１には、基体１６上に搭載されて基板搬入及び搬出時に移動する基板載置台１７と、基板載置台１７の上方を該基板載置台１７に接触することなく横断しているヘッドガントリーユニット４とが設けられている。ヘッドガントリーユニット４は、基体１６に連結しているガントリースライド機構５により、一方向（図１のＹ方向に平行な方向）に沿って往復移動できる構成となっている。

ヘッドガントリーユニット４の側面には、複数個の液滴吐出ユニット３が設けられている。各液滴吐出ユニット３は、ヘッドガントリーユニット４の移動方向（図１のＹ方向に平行な方向）とは異なる方向（図１のＸ方向に平行な方向）に液滴吐出ユニット３を移動させることのできる吐出ユニットスライド機構２４の上に搭載されている。吐出ユニットスライド機構２４上に搭載された液滴吐出ユニット３は、吐出ユニットスライド機構２４上の移動可能領域の範囲内で、ヘッドガントリーユニット４の移動方向と異なる方向（図１のＸ方向に平行な方向）にスライド可能となっている。

液滴吐出ユニット３は、ヘッドガントリーユニット４の側面に、複数個（図１では９個）搭載され、それぞれに個別の吐出ユニットスライド機構２４を有している。そして、複数の液滴吐出ユニット３は、それぞれの吐出ユニットスライド機構２４上を、欠陥修復装置からの制御指令に基づいて、個別に独立して図１のＸ方向に平行な方向にスライドする。

また、液滴吐出ユニット３は、その下側にヘッド吐出面を有している。ヘッド吐出面は、基板載置台１７に略平行であって、かつ、ヘッド吐出面には液滴を吐出するためのノズル孔が形成されている。液滴吐出ユニット３は、欠陥修復装置からの制御指令に基づいて、基板載置台１７上に載置した対象基板にヘッド吐出面から液滴を滴下する。

装置基体１６上には、基板載置台１７の他に、液滴吐出ユニット３に対して、非使用時に吐出面をキャップする機構、不良吐出口を検出する機構、不良吐出口を回復する機構、などを有するメンテナンス機構１８が設けられている。メンテナンス時は、ガントリースライド機構５により、ヘッドガントリーユニット４が、メンテナンス機構１８の直上に移動し、液滴吐出ユニット３に対して各種メンテナンス動作を行う。

＜装置基体１６の説明＞
装置基体１６の構成について図２を用いて説明する。

装置基体１６は、中央に位置するメインステージ１６ａを有しており、メンテナンス機構１８を有するサブステージ１６ｃと、サブステージ１６ｂとをメインステージ１６ａの両脇に機械的に連結している。

メインステージ１６ａは、御影石製の高精度のステージであり、液滴吐出ユニット３から基板載置台１７上の対象基板に向けて液滴が吐出される間は、基板載置台１７を正確に固定するものである。

サブステージ１６ｃは、メンテナンス機構１８を搭載するもので、メインステージ１６ａに比べ精度良く製造する必要はない。

サブステージ１６ｂは、基板載置台１７上に基板を搬入、または基板載置台１７上から基板を搬出する際に、基板載置台１７を装置端部に移動させる際に使用するステージである。

それぞれのステージには、メインステージ用ガントリーガイド２０ａ、及びサブステージ用ガントリーガイド２０ｂ・２０ｃがそれぞれ搭載されており、ガントリーガイド２０ａ・２０ｂ・２０ｃは、ヘッドガントリーユニット４が異なるガントリーガイド２０ａ・２０ｂ・２０ｃ間を跨いで自由にスライドできるように、それぞれの間に繋ぎ目を有しつつ連結されている。

図１では、ヘッドガントリーユニット４は、浮上スライド機構２２とガントリースライド機構５との間で常時エアー浮上しており、ガントリースライド機構５上の磁石式リニアスケール２１と浮上スライド機構２２との間のリニアモータ制御により、ヘッドガントリーユニット４の移動を可能としている。

そして、ガントリースライド機構５及びリニアスケール２１は、ヘッドガントリーユニット４がそれぞれのステージ１６ａ・１６ｂ・１６ｃを跨って自由に移動できるよう連続的に構成されている。また、装置基体１６の地面側には図示しない従来技術の除振機構が設けられている。

＜基板載置台１７の説明＞
基板載置台１７の上面には、図示しない微小な孔が複数形成されており、その孔の全てが図示しない吸引／送風機構に連結され、吸引／送風制御を行うことにより、基板載置台１７上に載置された対象基板の吸着固定、もしくは基板載置台１７からの対象基板の解放を行うことが可能となっている。

図３は、欠陥修復装置１に設けられたヘッドガントリーユニット４及び基板載置台１７の動作を説明するための模式的断面図である。基板載置台１７は、装置基体１６上に設けられた図示しないスライドレール上をリニアモータ制御により移動することが可能であり、基板搬入若しくは基板搬出時には、図３に示すように基板載置台１７は、矢印ｒ１の方向に沿ってメンテナンス機構１８と反対方向の装置端部に移動する。

さらに、基板載置台１７には、図示しないθ回転機構が内在しており、スライドレール上をリニアモータ制御により一方向に移動することが可能となっており、また、載置した基板を面内方向に自在に回転させることが可能となっている。

さらに、基板載置台１７は、スライドレールと直交する方向にも微調移動できる機構を有している。また、基板載置台１７の上面は、平坦性が良い石定盤によって形成されており、液滴吐出ユニット３の吐出面と平行である。

＜ヘッドガントリーユニット４の説明＞
図４（ａ）は、ヘッドガントリーユニット４の構成を説明するためのＺ方向から見た要部平面図であり、図４（ｂ）は、Ｘ方向から見た要部正面図である。ヘッドガントリーユニット４の構成について、図４（ａ）（ｂ）を参照して説明する。

ヘッドガントリーユニット４は、一対のガントリー２３を浮上スライド機構１６により連結した構成となっている。ガントリー２３の一方の装置外側に向いた側面には、液滴吐出ユニット３及び吐出ユニットスライド機構２４が複数個設けられている（図１に示す例では４ユニット）。

その反対面で、かつ２本のガントリー２３の間に位置する部分には、基板の面内回転制御用のアライメントカメラ２５が２台固定設置されている。図４では１台のみ図示されているが、同等のカメラ２５が図４（ａ）の上方にさらに一台設置されている。

ガントリー２３の他方は、装置外側に向いた側面に、ガントリー２３の一方と同様に液滴吐出ユニット３及び吐出ユニットスライド機構２４とを複数有する（図１に示す例では５ユニット）。その反対面で、かつ２本のガントリー２３に挟まれた部分に、観察用カメラユニット２７が、観察用カメラユニット２７をガントリー２３の長手方向に移動可能にするカメラスライド機構２６を介して移動可能に取り付けられている。

＜ガントリースライド機構５の説明＞
ガントリースライド機構５は、浮上スライド機構１６との間でヘッドガントリーユニット４をエアー浮上させるとともに、浮上スライド機構１６との間のリニア駆動制御により、欠陥修復装置１本体からの制御信号に従って、ヘッドガントリーユニット４を図１のＹ方向に平行な方向に沿って任意の位置に移動させることが可能である。

＜液滴吐出ユニット３の説明＞
図５は、液滴吐出ユニット３の構成を説明するための図１のＹ方向から見た要部側面図である。液滴吐出ユニット３は、ヘッドガントリーユニット４上に設置された吐出ユニットスライド機構２４に搭載されており、矢印ｒ３方向に沿ってそれぞれ独立して移動可能である。

液滴吐出ユニット３は、吐出素子２９と、駆動制御回路３０と、電気接続ケーブル３１と、インクタンク３２ａと、インク配管３２ｂと、それらを収納する筺体２８とを有している。筺体２８が、吐出ユニットスライド機構２４上をスライドする。

吐出素子２９の基板載置台１７の上面との平行面には、ノズルプレート３３が接着されており、ノズルプレート３３には複数のノズル孔１２が形成されている。このノズル孔１２の直径は、１０〜２０μｍである。

吐出素子２９は、圧電体基板に複数のインク室となる溝を形成した後、隔壁側面の一部に電極を形成して、隔壁の両側面の間に電界を印加して隔壁自体をせん断変形させて吐出エネルギーを発生させる公知の構成を使用した。駆動制御回路３０は、図示しないケーブルにより、図示しない駆動制御システムに接続されて吐出制御が行われる。基板載置台１７上に対象基板を載置した場合、ノズルプレート３３の最下面である液滴吐出面と対象基板の上面との間の隙間は、０．５〜１ｍｍになるように予め調整されている。

＜吐出ユニットスライド機構２４の説明＞
図６は、吐出ユニットスライド機構２４の構成を説明するための図１のＸ方向から見た要部正面図である。図６を参照して吐出ユニットスライド機構２４の構成を説明する。

吐出ユニットスライド機構２４は、２列のＬＭガイド３５（株式会社ＴＨＫ製）と、２列のＬＭガイド３５の間に設置したガントリーリニアスケール３６からなり、液滴吐出ユニット３に取り付けられているリニア駆動機構３４を駆動制御することで、図１のＸ方向に平行な方向（図６において紙面に垂直な方向）の所定の位置に液滴吐出ユニット３を摺動させることが可能である。リニアスケール３６は、小型のＮ極及びＳ極の永久磁石を交互に規則配列させたものである。

リニア駆動機構３４は、交流制御でＮ極及びＳ極を自在に発生できるものであり、リニアスケール３６とリニア駆動機構３４との間の磁石力により吐出ユニットスライド機構２４上の液滴吐出ユニット３の位置制御を可能としている。なお、ＬＭガイド３５の有効移動ストロークは２５０ｍｍであり、この有効ストローク以上の範囲でリニアスケール３６は設置されている。吐出ユニットスライド機構２４による液滴吐出ユニット３の摺動は、基板載置台１７の上面と、液滴吐出ユニット３の液滴吐出面であるノズルプレート３３との間のギャップが常に一定となるように予め調整されている。このギャップは、例えば０．２ｍｍ以上０．８ｍｍ以下に調整される。一般にこのギャップを０．２ｍｍ以下に設定すると、基板面にヘッドが接触して装置を故障させる可能性が高まるとともに、液滴を基板へ着弾させたときに生じる微小な跳ね返り滴がノズル面に到達し、ノズル面上に蓄積されて結果的に大滴化してしまう恐れがある。一方、０．８ｍｍ以上とすると、液滴が飛翔する時に風の影響を受け、着弾精度が悪化する。なお、他のガントリー２３の側面に設けられている吐出ユニットスライド機構２４も同様の構成であるため説明を除く。

＜カメラスライド機構３８の説明＞
カメラスライド機構３８の構成を、図６を用いて説明する。観察カメラユニット２７は、ガントリースライド機構５に設けられたＹ方向に平行な方向の情報取得機能と、カメラスライド機構３８に設けられたＸ方向に平行な方向の情報取得機能とにより、アライメントマークに対する対象基板のアドレス情報を出力することが可能である。観察カメラユニット２７は、主に液滴吐出ユニット３から基板上に着弾した液滴の着弾画像を観察し、それぞれの液滴吐出ユニット３の吐出状態、若しくはアライメントマーク基準の着弾位置のアドレスを出力することができる。

観察カメラユニット２７で得た着弾位置座標を用いて、それぞれの液滴吐出ユニット３について、Ｙ方向に対しては吐出タイミングの補正により、Ｘ方向に対しては吐出ユニットスライド機構２４の移動量の補正により、対象基板上の所望の位置に液滴を着弾させることができる。

カメラスライド機構３８は、前述の吐出ユニットスライド機構２４と同様に、２列のＬＭガイド３９（株式会社ＴＨＫ製）と、２列のＬＭガイド３９の列間に設置したカメラ用リニアスケール４０とからなり、観察カメラユニット２７に取り付けられているリニア駆動機構３７を駆動制御することで、図１のＸ方向（図６における紙面に垂直な方向）の所定の位置に観察カメラユニット２７を移動させることが可能である。なお、ＬＭガイド３９の有効移動ストロークは２５００ｍｍであり、この有効ストローク以上の範囲でリニアスケール４０は設置されている。

＜ノズル列の配列＞
図７（ａ）は、液滴吐出ユニット３の構成を説明するための要部下面図であり、図７（ｂ）は、他の構成の液滴吐出ユニット３ａを説明するための要部下面図である。液滴吐出ユニット内のノズル孔の配列を図７（ａ）（ｂ）を用いて説明する。図７（ａ）は、１種類の液体を吐出する液滴吐出ユニット３を複数搭載した装置を示す。ヘッドガントリーユニット４には、吐出ユニットスライド機構２４を介して、液滴吐出ユニット３が矢印Ｘ方向（図１）に移動可能に取り付けられている。液滴吐出面であるノズルプレート３３に形成されたノズル孔１２は一列に配列し、矢印Ｂに対して直角な方向から数度傾いている。配列しているノズル孔１２からは全て同一の液滴材料が吐出する。

図７（ｂ）は、３種類の液体を吐出するノズルプレートを複数搭載した液滴吐出ユニット３ａを有する装置を示す。液滴吐出ユニット３ａには、第一の液滴材料を吐出するノズル孔１２Ｒの列、第二の液滴材料を吐出するノズル孔１２Ｇの列、及び第三の液滴材料を吐出するノズル孔１２Ｂの列を有し、それぞれのノズル孔列が方向Ｂに対して直角な方向から数度傾いており、それぞれの列のＢ方向への投影領域はほぼ一致するように構成されている。また、それぞれのノズル孔列は、液滴吐出ユニット３ａ内でＢ方向に微小に移動可能となっていてもよい。

Ａ方向からのノズル孔列の傾きをθとし、ノズルピッチをｐとすると、Ｂ方向に投影したノズルピッチＱは、
Ｑ＝ｐ×ｓｉｎθ、
となるため、実際のノズルピッチに比べてＢ方向のピッチＱを高密度化できる利点がある。ピッチＱを高密度化することで、複数のヘッドを組み合わせて１つのユニットを作製する際に、各ヘッドの位置合わせを厳密に行わなくとも、少なくともピッチＱの精度以内で配列させることが可能となる。

なお、１００〜２００ＤＰＩ（１インチ幅に１００〜２００個の孔が等ピッチで配列）のノズル孔ピッチで、１吐出素子あたり２０〜８０孔の吐出素子をθ＝３〜１０°傾斜させて用いることが好ましく、これは、吐出素子あたりの孔数が小さいほど、複数の素子を配列させてなる液滴吐出ユニットの全幅が小さくなり、不能領域が小さくすることができるためである。また、製造コストが安価な１００〜２００ＤＰＩの吐出素子をθ＝３〜１０°の範囲で傾斜させることにより、複数の吐出素子間の位置合わせを厳密に行わなくても、一度、試験吐出を行って吐出タイミング制御を行えば、Ｂ方向に投影したノズルピッチを５〜３５μｍにまで高密度化でき、カラーフィルタや、有機ＥＬ表示装置などの、画素サイズよりも高密度の配列を実現することができる。

＜基板搬入動作の説明＞
図８（ａ）〜図８（ｃ）は、ヘッドガントリーユニット４及び基板載置台１７の動作を説明するための図１のＸ方向から見た模式的断面図である。

従来技術では、同一基板上の有効画素部以外の領域に、インクのダミー吐出を行うことにより、不吐出検査を行っているのに対し、本実施の形態の欠陥修復装置は、不吐出検出器を含むメンテナンス機構１８を、基板に塗布処理を行う領域以外の領域であるサブステージ１６ｃに設けた構成を有している。

図８（ａ）は対象基板２を処理した後の状態を示す。基板処理後は図８（ｂ）に示すように、欠陥修復装置の基板載置台１７は矢印ｒ１の方向に沿って紙面左側（サブステージ１６ｂ側）にスライドすると共に、ヘッドガントリーユニット４は、矢印ｒ２の方向に沿ってメンテナンス機構１８の直上に移動する。そして、基板載置台１７は、処理済の対象基板２の吸着を解放した後に、図示しない搬送ロボットに受け渡す。その後、搬送ロボットは次の対象基板２ａを基板載置台１７に載せる。そして、載せられた対象基板２ａは、即座に基板載置台１７にエアー吸着され、基板載置台１７は図８（ｃ）の矢印ｒ４に示す方向に沿って元の位置（図８（ａ）に示す位置）に戻る。

基板載置台１７から対象基板２が搬出され、次の対象基板２ａが搬入されて、基板載置台１７が元の位置に戻る間に、並行して液滴吐出ユニット３に対して、通常のメンテナンス動作が行われる。メンテナンス動作では、ヘッドガントリーユニット４は、メンテナンス機構１８上に移動し、移動を完了した後はメンテナンス作業を行う。具体的には、液滴吐出ユニット３のノズルプレート面は、図８（ｂ）に示すように、ゴム製のキャップ部材１９によりキャップされる。また、キャップされた後、キャップ部材１９の底部にある通気口より負圧吸引されて、ノズルプレートのノズル孔から液を強制排出することによりノズル孔のダスト等を除去する。その後、ノズルプレート面を図示しないワイプブレードでワイプする。そして、後述する不吐出検出器により、ノズル孔からの吐出状態をチェックする。これら一連のメンテナンス動作の順序は、前述した順序と異なっていても良い。

新たな対象基板２ａが載置された基板載置台１７と、液滴吐出ユニット３のメンテナンス動作が完了したヘッドガントリーユニット４とは、ほぼ同時に図８（ｃ）に示す矢印ｒ４・ｒ５の方向にそれぞれ移動し、図８（ａ）に示す位置に到達する。

＜メンテナンス動作の説明＞
基板の搬出及び搬入を実行する間、または基板への液滴吐出動作を長期間実施しないときは、液滴吐出ユニット３に対してメンテナンス動作を実行する。このメンテナンス動作は、不吐出検出動作と、キャップ動作と、キャップ内吸引パージ動作と、ワイピング動作とを含む。先の対象基板を処理した後に、次の対象基板の処理を直ちに行う場合、先の対象基板の搬出動作の命令が与えられるのと同時に、液滴吐出ユニット３を搭載したヘッドガントリーユニット４は、メンテナンス機構１８の直上への移動命令が与えられる。

図９（ａ）は、不吐出検出器１３の構成を説明するための図１のＸ方向から見た正面図であり、図９（ｂ）は、図１のＺ方向から見たその下面図である。メンテナンス機構１８は、レーザー発光素子４１とレーザー受光素子４２とを有する不吐出検出器１３を有している。この不吐出検出器１３は、液滴吐出ユニット３ａ毎に設置されている。

図示しないレーザー発光回路に接続されたレーザー発光素子４１は、不吐出検出の指令を受けると、レーザー受光素子４２に向けてレーザー光を連続的に照射する。レーザー受光素子４２に接続された受光量計測回路は、通常の受光量を記憶している。レーザー照射方向は、図９（ａ）（ｂ）に示すように基板面及びノズルプレート３３（・３３Ｒ・３３Ｇ・３３Ｂ）の表面に略平行で、かつノズル孔１２Ｒ・１２Ｇ・１２Ｂの列に略平行である。レーザー光は直径１ｍｍであり、一つの液滴吐出ユニット３ａの全てのノズル孔１２Ｒ・１２Ｇ・１２Ｂから吐出される液滴は、このレーザー光軸内を通過するように配置されている。

レーザー発光素子４１及びレーザー受光素子４２は、微動機構を有しており、万一レーザー光軸内を液滴が通過しない場合は、位置を調整する。まず初めに第一番目のノズル孔１２Ｒから液滴を一定時間吐出させて受光量計測回路からの光量を読み取り、通常の受光量と比較して、遮光量を計測し、その値が予め設定した設定値の範囲内にあるか判断し、設定値の範囲内の場合は正常吐出とみなし、それ以外は吐出不良とみなす。

次に２番目、３番目と順次同様の吐出制御及び遮光量計測を行い、液滴吐出ユニット３ａの全てのノズル孔１２Ｒ・１２Ｇ・１２Ｂについて、吐出不良の有無を確認する。吐出不良が無ければ、液滴吐出ユニット３ａをキャップ位置に移動させて、基板搬入動作が完了する直前までキャッピングを行う。

吐出不良がある場合、従来技術で行われている回復動作を実行する。例えば、液滴吐出ユニット３ａをキャップ位置に移動させ、そして、キャッピングし、次に、キャップを負圧に引いてノズル孔から強制排出させ、その後、キャップ解除して、ワイピングを行い、再度、不吐出検出を行う。

この不吐出検出と回復動作とを、吐出不良が無くなるまで数回を限度に繰り返して実行する。そして、吐出不良が回復しない場合は、その旨を欠陥修復装置に出力する。なお、先の対象基板を処理する直前の不吐出検出結果と、先の対象基板を搬出中に行う不吐検出結果とを比較して、吐出状態に変化が認められる場合には、先の対象基板の処理が不適として廃棄するか、修復工程に回すことができる。

図１０は、従来の欠陥修復装置の不吐出検査と基板の搬出入とのタイミングを説明するための図である。図１１は、本実施の形態に係る欠陥修復装置の不吐出検査と基板の搬出入とのタイミングを説明するための図である。

本実施の形態に係る欠陥修復装置のように、不吐出検出器を含むメンテナンス機構１８を、基板に塗布処理を行う領域以外の領域であるサブステージ１６ｃに設けて構成することにより、基板のロードと不吐出検査とをほぼ同時に行うことが可能となり、基板処理のタクトタイムが短縮できることを、図１０・１１に示すタイムチャートに従って、以下に説明する。

まず、従来技術では、図１０に示すように、基板搬出指令（Ｐ１）が出た後に、同図のように、基板載置台１７が移動を開始する（Ｐ２）。この時、メンテナンス機構は、次の基板が新たに搬入されるまで、動作に入れないために、待機状態となっている。

そして、基板載置台１７の移動が完了した後、基板吸着が解除されて（Ｐ３）、基板が搬出される（Ｐ４）。この間、メンテナンス機構は、依然として待機状態である。

基板が搬出された後、次の基板が基板載置台１７の上に新たに搬入されて（Ｐ５）、さらに同図のように、次の基板が基板載置台１７の上に吸着される（Ｐ６）。この間、メンテナンス機構は、依然として待機状態である。

次の基板が吸着された後、基板載置台１７が移動を開始する（Ｐ７）。この間、メンテナンス機構は、依然として待機状態である。

基板載置台１７が移動した後、最初の画素を着色する前に、液滴吐出ユニットは同一基板上の有効画素部以外の領域にインクのダミー吐出を行い、不吐出検査を行う（Ｐ８）。このように従来の構成では、基板上でなければ、不吐出検査ができないために、メインステージ１６ａ上の基板載置台１７に基板が存在しない搬出・搬入中はメンテナンス機構が動作に入れず待機状態となっている。

そして、次の基板を載置した基板載置台１７が移動した後、次の基板処理の前に、メンテナンス動作を行うために、図１０に示すメンテナンス時間Ｔｍ１は、基板処理のタクトタイムとして加算される。

次に、本実施の形態に係る基板処理のタイムチャートを図１１に従って説明する。基板処理後に、基板搬出指令（Ｐ１）と不吐検出指令（メンテナンス指令）（Ｐ１１）とを同時に発令する。そして、基板載置台１７の移動（Ｐ２）とヘッドガントリーユニット４の不吐出検出位置への移動（Ｐ１２）とが同時に開始する。

図８（ｂ）に示すように、欠陥修復装置の基板載置台１７は矢印ｒ１の方向に沿って紙面左側にスライドすると共に、ヘッドガントリーユニット４は、矢印ｒ２の方向に沿ってメンテナンス機構１８の直上に移動する。本実施の形態の欠陥修復装置の構成のように、不吐出検出器を含むメンテナンス機構１８を、基板に液滴吐出処理を行う領域以外の領域に設けることにより、このような並行動作が可能となる。

そして、液滴吐出処理済の対象基板の吸着を解放する（Ｐ３）。その後、図示しない搬送ロボットに対象基板を受け渡して搬出する（Ｐ４）。

次に、搬送ロボットは、次の対象基板を基板載置台１７に載せる（Ｐ５）。そして、基板載置台１７に載せられた次の対象基板は、即座に基板載置台１７にエアー吸着される（Ｐ６）。その後、次の対象基板を載せた基板載置台１７は元の位置（図８（ａ）の位置）に戻る。

図１１に示す（Ｐ３）・（Ｐ４）・（Ｐ５）・（Ｐ６）・（Ｐ８）のように、基板載置台１７から対象基板が吸着解除・搬出され、新たな対象基板が搬入されて、基板載置台１７によって吸着されるまでの間に、並行して液滴吐出ユニット３は、通常の不吐出検出を含むメンテナンス動作が行われる。したがって、従来のメンテナンス時間（図１０のＴｍ１）に比べて、メンテナンス時間（図１１のＴｍ２）を長く取ることができ、十分な検査を行うことができる。

ヘッドガントリーユニット４は、メンテナンス機構１８の上に移動し（Ｐ１２）、移動を完了後に、不吐出検出を含むメンテナンス作業を行う（Ｐ８）。図８（ａ）（ｂ）（ｃ）に示すように、メンテナンス機構１８は、基板処理を行う領域が設けられたメインステージ１６ａを挟んで、搬送ロボットにより基板を搬出入するサブステージ１６ｂと反対側の領域に存在する。不吐出検査では、ダミー吐出により液滴が周囲へ飛散する恐れがあるため、基板と離れたサブステージ１６ｃ上の位置でダミー吐出を行うことで、基板汚染を防止する効果がある。

メンテナンス機構１８は、レーザー発光機能とレーザー受光機能とを有する不吐出検出器を有している。この不吐出検出器は、各液滴吐出ユニット毎に設置されている。各液滴吐出ユニットの不吐出検出は、液滴吐出ユニット毎に設置された不吐出検出器により並行して行う。これにより、各液滴吐出ユニットの不吐出検査にかけられる時間が増えるために、十分な不吐出検査を行うことができる。

新たに搬入された次の基板が基板載置台１７によって吸着される（Ｐ６）までの間に、液滴吐出ユニット３のメンテナンス動作（Ｐ８）が完了する。したがって、従来技術と比べ、メンテナンス時間（図１０のＴｍ１）だけ、タクトタイムを短縮することができる。

図１１に示す（Ｐ７）（Ｐ１３）のように、次の対象基板が搭載された基板載置台１７と、液滴吐出ユニット３のメンテナンス動作が完了したヘッドガントリーユニット４とは、ほぼ同時に図８（ｃ）に示す矢印ｒ４・ｒ５方向に移動し、図８（ａ）に示す位置に到達する。基板載置台１７とヘッドガントリーユニット４とが図８（ａ）に示す位置に戻るタイミングが同時になるようにメンテナンス時間を調整することで、最も効果的にタクトアップを図り、かつメンテナンス時間を長くとることができる。

図１２は、本実施の形態に係る欠陥修復装置１のシステム構成を示すブロック図である。欠陥修復装置１は、基板処理指令制御ユニット４８と、ガントリースライド機構制御ユニット４４と、メンテナンス機構制御ユニット４５と、基板搬送機構制御ユニット４６と、基板搬出入機構制御ユニット４７と、アライメント動作指令制御ユニット４９とを備えている。

欠陥修復装置１には、吐出ノズル決定部１５が設けられている。吐出ノズル決定部１５は、対象基板２に点在する欠陥の位置データに基づいて、液滴吐出ユニットのノズルの中から、液滴を対象基板２上の欠陥に吐出するノズルを決定する。メンテナンス機構制御ユニット４５は、判別部１４を有している。判別部１４は、吐出ノズル決定部１５によって決定されたノズルの不吐出検出器１３による不吐出の検出結果に基づいて基板不良の有無を判別する。

ガントリースライド機構制御ユニット４４は、移動方向反転部６を有している。移動方向反転部６は、ガントリースライド機構５の移動方向を反転させる。

ガントリースライド機構制御ユニット４４には、反転回数決定部７が設けられている。反転回数決定部７は、欠損部の位置データに基づいて、移動方向反転部６の反転回数を決定する。反転回数決定部７は、個別算出部８を有している。個別算出部８は、欠損部の位置データに基づいて、移動方向反転部６による反転回数を各液滴吐出ユニット３毎に個別に算出する。反転回数決定部７には、最終決定部９が設けられている。最終決定部９は、個別に算出した反転回数のうちの最大値以上の値を、移動方向反転部６による反転回数として決定する。

基板処理指令制御ユニット４８は、基板への液滴吐出処理が完了すると、ガントリースライド機構制御ユニット４４に設けられた移動指令部４４ａと、基板搬送機構制御ユニット４６に設けられた移動開始部４６ａとに、基板処理指令を与える。

そして、移動指令部４４ａは、ガントリースライド機構５をメンテナンス機構１８の上に移動させる。次に、メンテナンス位置移動確定部４４ｂは、ガントリースライド機構５がメンテナンス機構１８の上に到達したことを確認して、メンテナンス機構制御ユニット４５に設けられた不吐出検出開始部４５ａに通知する。

その後、不吐出検出開始部４５ａは、不吐出検出器１３により各液滴吐出ユニット３の不吐出検出を開始する。そして、不吐出データ処理部４５ｂは、不吐出検出器１３による各液滴吐出ユニット３の不吐出検出データを処理する。次に、回復動作指令部４５ｃは、不吐出検出器１３により不吐出が検出された液滴吐出ユニット３の回復動作の実行を指令する。その後、キャップ指令部４５ｄは、液滴吐出ユニット３のノズル孔をキャッピングするキャップ指令を発行する。そして、キャップ時間管理部４５ｅは、液滴吐出ユニット３のノズル孔をキャッピングしているキャップ時間を管理する。次に、キャップ解除指令部４５ｆは、キャップ時間が経過した後、キャッピングを解除するための指令を、ガントリースライド機構制御ユニット４４に設けられた移動指令部４４ｃに与える。

その後、移動指令部４４ｃは、ヘッドガントリーユニット４をアライメント位置に移動させる。そして、アライメント位置移動確定部４４ｄは、ヘッドガントリーユニット４がアライメント位置に到達したことを確認してアライメント動作指令制御ユニット４９に通知する。

基板処理指令制御ユニット４８から基板処理指令を与えられた基板搬送機構制御ユニット４６の移動開始部４６ａは、対象基板を載置した基板載置台１７をサブステージ１６ｂ側に移動させる。そして、停止位置検出部４６ｂは、基板載置台１７がサブステージ１６ｂ側の搬出位置に到達して停止したことを検出する。次に、吸着解除部４６ｃは、基板載置台１７による対象基板の吸着を解除して、基板搬出入機構制御ユニット４７に設けられた搬出指令部４７ａに通知する。

搬出指令部４７ａは、基板載置台１７上の対象基板のロボットによる搬出を指令する。そして、搬出確定部４７ｂは、対象基板が搬出されたことを確認する。次に、搬入指令部４７ｃは、次の対象基板のロボットによる基板載置台１７上への搬入を指令する。その後、搬入確定部４７ｄは、次の対象基板が基板載置台１７上に搬入されたことを確認して、基板搬送機構制御ユニット４６に設けられた吸着指令部４６ｄに通知する。

吸着指令部４６ｄは、次の対象基板の基板載置台１７への吸着指令を発行する。そして、移動開始部４６ｅは、対象基板を吸着した基板載置台１７をメインステージ１６ａ側に移動させる。次に、停止位置検出部４６ｆは、基板載置台１７のメインステージ１６ａ上の所定の停止位置を検出して基板載置台１７を停止させる。その後、所定位置停止確定部４６ｇは、基板載置台１７が所定の停止位置に到達して停止したことを確認してアライメント動作指令制御ユニット４９に通知する。

アライメント動作指令制御ユニット４９は、アライメント位置移動確定部４４ｄからの通知と所定位置停止確定部４６ｇからの通知とを受け取ると、アライメント動作を指令するアライメント動作指令を発行する。

＜不吐出検出の手順＞
図１３は、液滴吐出ユニットの不吐出検出の概略手順を示すフローチャートである。まず、液滴吐出ユニットの不吐出検出の基本的概念を説明する。欠陥修復装置は、液滴吐出ユニットが基板上に液滴を吐出する基板処理の前に各液滴吐出ユニットの不吐出を検出する処理前不吐出検出器と、基板処理の後に各液滴吐出ユニットの不吐出を検出する処理後不吐出検出器とを備えている。本実施の形態に係る欠陥修復装置１の不吐出検出器１３のように、処理前不吐出検出器と処理後不吐出検出器とは、同一の不吐出検出器によって構成することが好ましい。

まず、液滴吐出ユニットを、処理前不吐出検出器に移動させる（ステップＳ２１）。そして、処理前不吐出検出器により、液滴吐出ユニットに形成された各ノズルの不吐出検出を行う（ステップＳ２２）。次に、液滴吐出ユニットにより、基板上に点在する欠陥に液滴を塗布する（ステップＳ２３）。その後、液滴吐出ユニットを、処理後不吐出検出器に移動させる（ステップＳ２４）。そして、処理後不吐出検出器により、液滴吐出ユニットの各ノズルの不吐出検出を行う（ステップＳ２５）。

次に、処理前不吐出検出器による各ノズルの不吐出検出結果と、処理後不吐出検出器による各ノズルの不吐出検出結果とを比較する（ステップＳ２６）。比較結果が一致しない場合には、比較結果が一致しなかったノズルが異常であると判断し（ステップＳ２８）、液滴を塗布した基板を修復（リペア）工程に搬送する。比較結果が一致した場合には、ノズルは正常であると判断し（ステップＳ２７）、次の処理工程に基板を搬送する。

図１４は、液滴吐出ユニットの不吐出検出の詳細手順を示すフローチャートである。この図１４は、基板載置台１７側の動き（フローチャート左側）と、ガントリーユニット１０の動き（フローチャート右側）とに分かれている。Ｎ−１番目（Ｎは２以上の整数）の基板の塗布処理が完了した時点（ステップＳ５１）で、Ｎ−１番目の基板は搬出されて、その後、次のＮ番目の基板が基板載置台１７に載置されて所定位置まで移動する（Ｓ６４からＳ７０）。具体的には、Ｎ−１番目の基板の搬出指令が発行されると（ステップＳ６４）、基板載置台１７は、サブステージ１６ｂ側に移動し（ステップＳ６５）、基板の吸着を解除して（ステップＳ６６）、Ｎ−１番目の基板を搬出する（ステップＳ６７）。そして、次の次のＮ番目の基板を基板載置台１７上に搬入し（ステップＳ６８）、この次のＮ番目の基板を吸着して（ステップＳ６９）、基板載置台１７は、メインステージ１６ａ上の定位置に移動する（ステップＳ７０）。

一方、液滴吐出ユニット３を搭載したガントリーユニット４は、不吐出検出指令を受け（ステップＳ５２）、その後メンテナンス機構１８の直上まで移動する。（ステップＳ５３）。

そして、Ｎ−１番目の不吐出検出を実行する（ステップＳ５４）。不吐検出の方法は、前述したとおりである。この不吐出検出では、ノズルの全数について吐出の有無を観測し、不吐出のノズル番号を記憶手段に記憶させる（ステップＳ５５）。吐出ノズル決定部１５（図１２）は、処理基板（ここではＮ番目の基板）について、予め決定している塗布データに基づいて吐出させるべきノズル番号、そのノズル番号ごとの吐出タイミング及び吐出量を決定している。

そして、不吐出のノズル番号と、吐出させるべきノズル番号とを照合し、吐出させるべきノズルに不吐出がないか判断する（ステップＳ５６）。吐出させるべきノズルに不吐出がない場合には、基板載置台１７が定位置に移動するまで、ノズル面をキャップして（ステップＳ６０）、待機させる（ステップＳ６１）。

一方、吐出させるべきノズルに不吐出がある場合には、不吐ノズル情報を元に、ステップＳ５６において、第２候補、第３候補のノズル群を選定し、所望の位置への所望パターンの描画の可否を判断する。

描画不可との判断が出た場合、回復動作指令が発行されて（ステップＳ５７）、キャッピング、及び負圧吸引の回復動作がなされ（ステップＳ５８）、その後、ワイピング動作が実行される（ステップＳ５９）。

そして、再度、ステップＳ５４の不吐出検出が実行され、ステップＳ５４〜Ｓ５６の判断、及び不可の場合は、ステップＳ５７〜ステップＳ５９までの動作を繰り返す。

ステップＳ５６による不可の判断が一定回数以上（ｎ回以上）繰り返されると、液滴吐出ユニットが不良と判断されて装置停止命令が出され、装置は停止して（ステップＳ６２）、液滴吐出ユニットの交換が実施される。

なお、ステップＳ５６による不可の判断ｎ回は、ステップＳ６４〜ステップＳ７０が行われる時間以内に、ステップＳ５４〜ステップＳ５９が実行可能な最大回数とすることで、装置を効率よく稼動させることができる。

キャップ待機している液滴吐出ユニット３を搭載したガントリーユニットは、基板載置台１７の定位置移動（ステップＳ７０）とほぼ同時期に、所定のアライメント位置まで移動する（ステップＳ６３）。そして、Ｎ番目基板のアライメント動作を実行し（ステップＳ７１）、Ｎ番目基板の所定位置に液滴を塗布する作業を実行する（ステップＳ７２）。ステップＳ５１からステップＳ７２の動作を繰り返し実行することで、複数の処理基板に対して連続的に液滴を塗布することが可能となる。

図１５は、液滴吐出ユニットのメンテナンス動作と基板搬出入動作との手順を示すフローチャートであり、不吐出検出と不吐出ノズル情報に着目したフローチャートである。

複数の処理基板が連続的に処理される中、Ｎ−１番目、Ｎ番目、及びＮ＋１番目の処理基板に注目する。Ｎ−１番目の基板の処理（ステップＳ３１）が完了すると、最初の不吐出検出が実行される（ステップＳ３２）。そして、吐出すべきノズルが不吐出である場合は、ｎ回を限度として回復動作、不吐出検出を繰り返す（ステップＳ３３）。

吐出すべきノズルに不吐出が無いとの判断が行われた場合、全ノズルの吐出／不吐出のデータである不吐出ノズル情報Ａが記憶手段に記憶される。（ステップＳ３４）。

ここで、ステップＳ３２において、吐出すべきノズルに不吐出が無いとの判断が行われると、ステップＳ３２における全ノズルの吐出／不吐出のデータが不吐出ノズル情報Ａとして記憶手段に記憶される。

そして、Ｎ番目の基板への塗布作業を行う（ステップＳ３５）。その後、Ｎ番目の不吐検出の１回目が行われる（ステップＳ３６）。ステップＳ３６において得られた全ノズルの吐出／不吐出のデータは、不吐出ノズル情報Ｂとして記憶手段に記憶され（ステップＳ３７）、不吐出ノズル情報Ａと不吐出ノズル情報Ｂとの間で照合、比較が行われる（ステップＳ３８）。

この比較において、不吐出ノズル情報Ａと不吐出ノズル情報Ｂとの間に差が無い場合、若しくは殆ど差が無い場合は、Ｎ番目の基板の処理は良と判断される。

一方、不吐出ノズル情報Ａと不吐出ノズル情報Ｂとの間に大きな差が見られた場合は、Ｎ番目の基板の処理は不良と判断する。

なお、不吐出ノズル情報Ａと不吐出ノズル情報Ｂとの間の差による良否の判断基準は、描画パターンによって異なり、両者の間が完全一致する必要のあるもの（微小パターンを少数のノズルで受け持つ場合など）や、概ね一致してれば良いものもある。

そして、ステップＳ３６にて、吐出すべきノズルが不吐出の場合は、ｎ回を限度として回復動作、不吐検出を繰り返す（ステップＳ３９）。吐出すべきノズルに不吐出が無いとの判断が行われた場合、全ノズルの吐出／不吐出のデータである不吐出ノズル情報Ｃが記憶手段に記憶される（ステップＳ４０）。

なお、Ｓ３６において、吐出すべきノズルに不吐出が無いとの判断が行われると、Ｓ３９の全ノズルの吐出／不吐出のデータが不吐出ノズル情報Ｃとして記憶手段に記憶される。

インクジェット方式の製造装置においては、連続して基板を処理する場合、不吐出ノズルが徐々に増加することは少なく、Ｓ３２及びＳ３３、Ｓ３６及びＳ３９は同一となる場合が殆どであり、この場合、不吐ノズル情報Ｂ及び不吐ノズル情報Ｃは同一となる。

そして、Ｎ＋１番目の基板への塗布作業を行う（ステップＳ４１）。その後、Ｎ＋１番目の不吐出検出の１回目が行われる（ステップＳ４２）。ステップＳ４２において得られた全ノズルの吐出／不吐出のデータは、不吐出ノズル情報Ｄとして記憶手段に記憶され（ステップＳ４３）、不吐出ノズル情報Ｃと不吐出ノズル情報Ｄとの間で照合、比較が行われる（ステップＳ４４）。この比較において、不吐出ノズル情報Ｃと不吐出ノズル情報Ｄとの間に差が無い場合、若しくは殆ど差が無い場合は、Ｎ＋１番目の基板の処理は良と判断される。

前述したように、不吐出ノズル情報Ａと不吐出ノズル情報Ｂとの間の差による良否の判断基準は、描画パターンによって異なるが、この判断基準の具体例を示す。例として、液晶表示装置に用いる、カラーフィルタ基板の修正を例として説明する。

カラーフィルタ基板の１画素に欠損（ダストなどにより本来色を表示しないもの）が見られた部分については、ＹＡＧレーザ等で欠損画素領域を矩形に除去した後、インクジェット技術で、欠損領域に液滴を滴下し、その後固化することが行われる。画素領域は、液晶表示装置の解像度、パネルサイズにより異なるが、一例として、１色画素サイズ３００×１００μｍ、厚み２μｍのカラーフィルタ基板の修復について、説明する。

液滴材料の固形分１０％の液滴材料を用いると、２μｍ厚の固形膜を形成するためには、約１０倍の液滴量を塗布したのち硬化させる必要がある。よって、３００×１００μｍ、厚み２μｍのカラーフィルタ基板を修復するためには、約６００ｐｌの液滴を滴下する必要があり、１滴あたり４ｐｌの液滴を吐出可能な液滴吐出ユニットでは１５０滴を滴下する。なお、１ｐｌとは、ピコリットル（＝１０^−１２リットル）を意味する。

なお、カラーフィルタ基板は、一般に色再現性の観点から、厚みの許容値が設定されており、厚み許容値２±０．２μｍとすると、液滴数の許容値は概ね１５０±１５滴となる。この滴下を１ノズルで行う場合、このノズルが不吐出だと判断されると、その基板もＮＧ（不良）と判断される。

一方、全１５ノズルで液滴を吐出するとき、１ノズル辺りの受け持ち数が均等であれば、１ノズルあたり１５０滴の１５分の１の１０滴を吐出することとなる。よって、この場合、使用する１５ノズル中の１ノズルが、基板処理後に、不吐出になったと判断されても、処理された基板は良と判断されてもよい。

逆に、使用前にＯＫであった使用ノズルのうち、１ノズルでも不吐となった場合には、上記判断とは別にＮＧ（不良）と判断してもよく、その判断は処理後の基板の望まれる姿に依存する。

また、３ノズルを使用して、ノズルＡが１００滴、ノズルＢが４０滴、ノズルＣが１０滴を受け持つ場合、ノズルＣが不吐出となった場合にはＯＫ（良）と判断してもよい（ノズルＡ＋ノズルＢで、必要最小限である１３５滴を超える１４０滴を満足するため）。

また、不吐出確率が高くなるような液滴を用いる場合には、目標の液滴吐出数を多めに設定しておき、不吐出ノズル数の許容数を多くしてもよい。例えば、１５０滴の欠損を１５ノズルで埋める場合には、１１滴／ノズルとして、目標値１６５滴に設定しておき不良ノズルの限界数を２ノズルとする（そのままでは１ノズルのみ）。

図１６は、欠陥修復装置１の液滴吐出制御ユニット５０を説明するためのブロック図である。本実施の形態の液滴吐出制御ユニット５０は、情報入力部５０ａと、巡回欠陥修復シーケンス処理部５０ｂと、インク吐出制御部５０ｆとを有している。上記巡回欠陥修復シーケンス処理部５０ｂは、データ入力部５０ｃと、判定部５０ｄと順番決定部５０ｅと分担決定部１０とを有している。

本実施の形態の欠陥修復装置１では、上記液滴吐出ユニット３は、対象基板２（図８（ａ）（ｂ）（ｃ））に対して相対的に移動可能である。言い換えれば、本実施の形態の欠陥修復装置では、（１）固定部材によって固定された対象基板（媒体）に対して、移動部材によって液滴吐出ユニット３が移動可能となっている構成、あるいは、（２）固定部材によって固定された液滴吐出ユニット３に対して、移動部材によって対象基板が移動可能になっている構成、さらには、（３）移動部材によって、液滴吐出ユニット３および対象基板の双方が移動可能になっている構成の何れであってもよい。なお、固定部材や移動部材の具体的構成は特に限定されるものではなく、本発明の技術分野において公知の構成を適宜採用することができる。

対象基板に対する液滴吐出ユニット３の相対的な移動は、インク吐出制御部５０ｆによって制御される。例えば、上記（１）の構成であれば、移動部材による液滴吐出ユニット３の移動が制御され、上記（２）の構成であれば、移動部材による対象基板の移動が制御され、上記（３）の構成であれば、移動部材による液滴吐出ユニット３および対象基板の双方の移動が制御される。上記（１）の構成の場合は、図１２に示されるガントリースライド機構制御ユニット４４が、インク吐出制御部５０ｆに相当する。なお、具体的な移動の制御と、対象基板に対する液滴吐出ユニット３の位置を決定する制御とについては、上記（１）の構成を挙げて後述する。

本実施の形態の欠陥修復装置では、情報入力部５０ａからインク吐出対象（欠損部）に関する情報などが入力される。上記情報入力部５０ａは、点在する複数のインク吐出対象に関する情報などを、データ入力部５０ｃへ入力する。情報としては、媒体上に点在する複数のインク吐出対象へインクを吐出する順番を決定するための情報であればよく、特に限定するものではない。例えば、インク吐出対象のＣＦパネル上での位置情報などが挙げられる。また、情報入力部５０ａとしては、公知の構成を用いることが可能であり、特に限定するものではないが、例えば、カメラを搭載する画像認識装置などによってインク吐出対象を認識し、その位置情報を得、その位置情報をデータ入力部５０ｃへ入力する構成であってもよい。

データ入力部５０ｃは、上記情報入力部５０ａからの情報を受信する。受信された情報は、判定部５０ｄへ入力される。データ入力部５０ｃとしては、特に限定するものではなく、公知の構成を適宜使用することができるものとする。

分担決定部１０は、情報入力部５０ａに入力された情報に基づいて、複数個のインク吐出対象（吐出標的）を各液滴吐出ユニット３に分担させる。

判定部５０ｄは、データ入力部５０ｃから入力される情報に基づいて、液滴吐出ユニット３が最初にインクを吐出するインク吐出対象を決定し、それを始点とする。上記始点の選択方法としては特に限定するものではない。例えば、媒体上に点在する複数のインク吐出対象の中で、Ｙ座標値が１番大きなものを選択してもよいし、１番小さなものを選択してもよい。あるいは、液滴吐出ユニット３から１番近い位置に存在するインク吐出対象を始点として選択することも可能である。

また、判定部５０ｄは、データ入力部５０ｃから入力される情報に基づいて、任意のインク吐出対象を、第１のインク吐出標的とする場合、上記液滴吐出ユニット３が上記第１のインク吐出標的から他のインク吐出対象へ移動する場合における主走査方向移動時間（Ｙｔ）と副走査方向移動時間（Ｘｔ）とを計算し、該副走査方向移動時間（Ｘｔ）が主走査方向移動時間（Ｙｔ）以下となるインク吐出対象を次順のインク吐出標的候補として判定する。

また、上記判定部５０ｄは、データ入力部５０ｃから入力される情報に基づいて、任意のインク吐出対象を、第１のインク吐出標的とする場合、上記第１のインク吐出標的から近い位置に存在するインク吐出対象から順番に、上記液滴吐出ユニット３が上記第１のインク吐出標的から他のインク吐出対象へ移動する場合における主走査方向移動時間（Ｙｔ）と副走査方向移動時間（Ｘｔ）とを計算し、該副走査方向移動時間（Ｘｔ）が主走査方向移動時間（Ｙｔ）以下となるか否かを判定し、かつＸｔ≦Ｙｔの条件を満たすインク吐出対象を、次順のインク吐出標的として決定する。

順番決定部５０ｅは、上記次順のインク吐出標的候補の中から、上記第１のインク吐出標的から最も短い時間で到達できるインク吐出対象を次順のインク吐出標的として決定する。なお、上記順番決定部５０ｅは、上記判定部５０ｄが、上記第１のインク吐出標的からより近い位置に存在するインク吐出対象から順番に判定を行う場合には、一番始めに次順のインク吐出標的候補として判定されたものを、次順のインク吐出標的候補として決定する。したがって、この場合には、上記順番決定部５０ｅは、省略されることも可能である。

インク吐出制御部５０ｆは、インクを吐出する順番にしたがって、液滴吐出ユニット３をインク吐出対象に対して移動させたり、液滴吐出ユニット３をインク吐出対象に対向させた状態で、主走査方向または副走査方向に傾けることが可能である。また、インク吐出制御部５０ｆは、液滴吐出ユニット３を移動させることもできるし、インク吐出対象を含む基板を移動させることも可能であり、特に限定するものではない。

液滴吐出ユニット３は、インクをインク吐出対象に対して吐出する。上記液滴吐出ユニット３としては、特に限定するものではなく、適宜、公知の構成を用いることが可能である。

図１７は、液滴吐出制御ユニット５０の動作を説明するためのフローチャートである。

（ステップＳ８１の処理について）
まず、情報入力部５０ａは、媒体上に点在する複数のインク吐出対象へインクを吐出する順番を決定するための情報を入手する（ステップＳ８１）。先ず基板上に点在した各インク吐出対象について、基板上の各ＸＹ座標値、インク吐出対象を矩形とした場合の上記インク吐出対象のＸ座標軸方向およびＹ座標軸方向の長さ、並びに液滴吐出ユニット３がＸ座標軸方向およびＹ座標軸方向に移動する速度などを入力情報とする。さらに、インク吐出対象にインクを吐出する際、Ｙ座標軸方向に移動する距離（上記インク吐出対象のＹ座標軸方向の長さ）に加え、液滴吐出ユニット３がインク吐出位置のＸ座標値に到達したときに停止に要する時間と、その停止に要する時間でＹ座標軸方向に移動する距離と、Ｘ座標軸方向に向かって移動する際の加減速とも加味するものとする。

インク吐出順番が未決定であるインク吐出対象の集合を集合Ｒ１とし、その要素をＰ（ｉ），ｉ＝１〜ｎ（ｎはインク吐出対象箇所数）で示す。また、液滴吐出ユニット３が、Ｙ座標軸方向の一方向に向かって移動する間にインク吐出可能な対象としてインク吐出順を決定したインク吐出対象の集合を集合Ｒ２とし、その要素をＰＰ（ｊ）（ｋ），ｊ＝１〜ｓ、ｋ＝１〜ｍで示す。なお、液滴吐出ユニット３が、Ｙ座標軸の一方向に向かって移動を開始し、次に移動方向を変えるまでの移動を「１回の主走査方向への移動」と規定した場合、上記ｊは、ＰＰ（ｊ）（ｋ）にインクが吐出されるときの、液滴吐出ユニット３の移動回数を示し、ｓは、全移動回数を表す。また、ｋは、ｊによって規定される移動中にインクが吐出されるインク吐出対象のインク吐出順を示し、ｍは、ｊによって規定される移動中にインクが吐出されるインク吐出対象の個数を示す。なお、ｊとｋとの初期値を、それぞれ１とする。

（ステップＳ８２の処理について）
次いで、判定部５０ｄによって、入力された情報に基づいて始点を決定する（ステップＳ８２）。始点の決定方法としては、例えば、各インク吐出対象の基板上でのＹ座標値に基づいて、各インク吐出対象を並び替える。このとき、例えば、Ｙ座標値の大きな順または小さな順でデータを並べ替えることが可能である。このとき、Ｙ座標軸のマイナス方向を主走査方向とする場合はＹ座標値を大きなものから順に並べ、Ｙ座標軸のプラス方向を主走査方向とする場合はＹ座標を小さいものから順に並べるものとする。また、各インク吐出対象を並び替える方法として、液滴吐出ユニット３から直線距離として近いものから順に、並べ替えることも可能である。なお、インク吐出対象を並べ替える基準には様々な基準があり、特に限定するものではない。

並べ替えたインク吐出対象全体を含む集合を集合Ｒ１とすると、各インク吐出対象は、集合Ｒ１の要素としてＰ（ｉ），ｉ＝１〜ｎ（ｎはインク吐出対象箇所数）として並び替えられる。そして、この集合Ｒ１の中から、最初の要素Ｐ（１）を選択して取り出し、集合Ｒ１から取り除き、新たに集合Ｒ２に入れる。このとき、集合Ｒ１の要素は、Ｐ（ｉ）、ｉ＝２〜ｎとなり、集合Ｒ２の要素は、ＰＰ（ｊ）（ｋ）＝Ｐ（１）となる。そして、このＰＰ（ｊ）（ｋ）を始点とする。

（ステップＳ８３の処理について）
次いで、判定部５０ｄによって、インク吐出標的候補の選択のためにＸｔ及びＹｔを算出する（ステップＳ８３）。具体的には、液滴吐出ユニットが、ＰＰ（ｊ）（ｋ）から、集合Ｒ１の要素である各インク吐出対象、つまりＰ（ｉ）、ｉ＝２〜ｎに向かって移動して到達するために要する、Ｘ座標軸方向およびＹ座標軸方向への移動時間を算出する。そして、Ｘ座標軸方向への移動時間がＹ座標軸方向への移動時間以下となる集合Ｒ１中の要素を、インク吐出標的候補と判定する。

なお、このとき、集合Ｒ１の要素である各インク吐出対象が判定される順番は、特に限定するものではない。判定する順番として、上記始点から近いものから順に判定してもよい。この場合、全てのインク吐出対象についてＸｔ≦Ｙｔの条件を満たすか否かを判定する必要がなく、最初にＸｔ≦Ｙｔの条件を満たすものが、次順のインク吐出標的として決定される。

以下に、ＰＰ（ｊ）（ｋ）から、集合Ｒ１の各要素に向かって移動して到達するために要する、Ｘ座標軸方向およびＹ座標軸方向への移動時間の算出方法を示す。

まず、Ｙ座標軸方向への移動時間の算出方法について示す。ここで、Ｙ座標軸方向への移動時間をＹｔ（秒）、Ｙ座標軸方向への移動距離をＹ_１（ｍｍ）、Ｙ座標軸方向への等速移動速度をａ（ｍｍ／秒）とすると、Ｙｔは、以下の（１）式によって示される。
Ｙｔ＝Ｙ_１／ａ （１）式
次に、Ｘ座標軸方向への移動時間の算出方法について示す。Ｘ座標軸方向への移動は、加速、等速移動、減速、および停止の４種類の過程を含む。Ｘ座標軸方向への移動時間をＸｔとすると、Ｘｔは、加速、等速移動、減速、および停止の４種類の過程に要する時間の和である。そこで以下に、それぞれの過程に要する時間を示す。なお、ここで停止とは減速が終了したインク吐出部１６が、Ｘ座標軸方向に対して静止する過程である。

まず、加速、減速および停止に要する時間をそれぞれｄ_１、ｄ_２およびｃ（秒）とし、加速および減速時にＸ座標軸方向へ移動する距離をともにＸ_２（ｍｍ）とする。このときＸ座標軸方向への移動距離をＸ_１とすると、等速移動する距離Ｘ_３は（２）式によって示される。

Ｘ_３＝Ｘ_１−２×Ｘ_２ （２）式
このとき、等速移動を行うときの速度をｂ（ｍｍ／秒）とすると、等速移動を行う時間ｄ_３は（３）式によって示される。
ｄ_３＝（Ｘ_１−２×Ｘ_２）／ｂ （３）式
ここでＸｔは、加速、等速移動、減速、および停止の４種類の過程に要する時間の和であり、（４）式によって示される。
Ｘｔ＝ｄ_３＋ｄ_１＋ｄ_２＋ｃ＝（Ｘ_１−２×Ｘ_２）／ｂ＋（ｄ_１＋ｄ_２）＋ｃ （４）式
したがって、（１）式および（４）式によって示されるＹｔおよびＸｔが、（５）式の条件を満たすものが、インク吐出標的候補として選択される。
Ｘｔ≦Ｙｔ （５）式
なお、Ｘ座標軸方向に対する速度が等速度ｂ（ｍｍ／秒）に到達するまでの時間ｄ_１は、Ｘ座標軸方向への加速度をＫ_１（ｍｍ/秒^２）とすると（６）式によって示される。
ｄ_１＝ｂ／Ｋ_１ （６）式
同様に、減速に要する時間ｄ_２は、Ｘ座標軸方向への減速度をＫ_２（ｍｍ／秒^２）とすると（７）式によって示される。
ｄ_２＝ｂ／Ｋ_２ （７）式
また、停止に要する時間ｃは、実際に本発明のインク吐出装置を動作させ、その値を実験的に測定することによって求めることが可能である。

なお、Ｘ座標軸方向への移動時間およびＹ座標軸方向への移動時間は、上記変数を用い、（１）式〜（７）式によって算出したが、その算出方法は、これに限定されるものではない。例えば、他の変数をも考慮し、Ｘ座標軸方向への移動時間およびＹ座標軸方向への移動時間を算出することも可能である。あるいは、上記ｄ_１、ｄ_２、ｄ_３およびｃのうち、その値が非常に小さいものに関しては、省略することも可能である。

（ステップＳ８４の処理について）
次いで、順番決定部５０ｅが、上記インク吐出標的候補の中から、上記始点から最も短い時間で到達できるインク吐出対象を次順の始点として決定する（ステップＳ８４）。なお、ステップＳ８３において、上記始点から近いインク吐出対象から順に判定した場合、最初にＸｔ≦Ｙｔの条件を満たすものが、次順のインク吐出標的として決定される。この場合には、上記判定部５０ｄが、次順のインク吐出標的を決定することも可能である。

（ステップＳ８５の処理について）
ステップＳ８４において、選択できる要素が集合Ｒ１に存在する場合は、その選択されたインク吐出対象の要素Ｐ（ｊ），（２≦ｊ≦ｎ）を集合Ｒ１から取り除き、集合Ｒ２に追加する（ＰＰ（ｊ）（ｋ），（ｋ＝ｋ＋１））。そして、その要素を新たな始点とし、ステップＳ８５の処理に進む。

ステップＳ８５において、選択できる要素が集合Ｒ１に存在しない場合は、１回の主走査方向への移動中にインクを吐出することが可能なインク吐出対象が無くなったことになり、ステップＳ８６の処理に進む。選択できる要素が集合Ｒ１に存在する場合は、ステップＳ８３に戻る。

（ステップＳ８６の処理について）
全てのインク吐出対象が集合Ｒ２の要素として選択された場合、全ての点在するインク吐出対象の処理順が決定したことになり、ステップＳ８１からステップＳ８５の処理を終了し、ステップＳ８７の処理に進む。一方、集合Ｒ２に選択されていないインク吐出対象が存在する場合は、ステップＳ８２に戻る。ステップＳ８２に戻り、新たな始点を決定したあと、液滴吐出ユニット３が、主走査方向に対して前回とは逆向きに移動しながらインクを吐出することのできるインク吐出対象を選択する。その際、液滴吐出ユニット３の主走査方向への移動回数を示すｊの値を加算し、ｊ＝ｊ＋１とする。また、インク吐出順番を示すｋを初期値に戻し、ｋ＝１とする（ステップＳ８６）。

以上のように、上記ステップＳ８２からステップＳ８６までの処理を、順番決定部５０ｅが行う。順番決定部５０ｅは、全ての点在するインク吐出対象にインクを順次吐出する際に、処理時間を最小化するように、点在するインク吐出対象へのインク吐出順番を決定する。

（ステップＳ８７の処理について）
インク吐出制御部５０ｆおよび液滴吐出ユニット３は、ステップＳ８１〜ステップＳ８６によって決定した集合Ｒ２に含まれる要素の順番にしたがって、主走査方向への移動回数に応じてインク吐出対象にインクを吐出する（ステップＳ８７）。その結果、例えば図１８に示すように複数の欠損部１１（インク吐出対象）が対象基板２上に点在する場合、図１８の矢印で示す順番にしたがってインクを吐出する。

図１８は、本実施の形態の液滴吐出ユニットおよびインク吐出制御方法によるインクの吐出順路を示す模式図である。対象基板２上には、点在した複数の欠損部１１（画素印字対象部）が存在する。液滴吐出ユニットは、同図中、矢印によって示される経路を通りながら、欠損部１１に向かってインクを吐出する。上記液滴吐出ユニットは、２つの欠損部１１（インク吐出対象）間を移動する場合、主走査方向Ｙへの移動を終了するまえに副走査方向Ｘへの移動を終了する。したがって、本実施の形態の液滴吐出ユニットおよびインク吐出制御方法では、液滴吐出ユニットがインクを吐出するとき、上記液滴吐出ユニットは主走査方向Ｙへ等速移動を行っており、それゆえ欠損部１１（画素印字対象部）へ、正確にインクを吐出することが可能となる。

図１９は、液滴吐出ユニットが欠損部に液滴を塗布する態様を示す図であり、図２０は、欠損部に液滴を塗布する他の態様を示す図である。液滴吐出ユニット３Ｒ・３Ｇ・３Ｒは、インク吐出部５８を構成する。液滴吐出ユニット３Ｒには、赤色の液滴を吐出する複数個のノズル孔１２Ｒが所定の間隔を空けて形成されている。液滴吐出ユニット３Ｇには、緑色の液滴を吐出する複数個のノズル孔１２Ｇが所定の間隔を空けて形成されている。液滴吐出ユニット３Ｂには、青色の液滴を吐出する複数個のノズル孔１２Ｂが所定の間隔を空けて形成されている。対象基板２には、互いに隣接する赤色の欠陥画素４７Ｒと緑色の欠陥画素４７Ｇと青色の欠陥画素４７Ｂとが形成されている。図１９において、一番左側のノズル孔１２Ｒは、画素４７Ｒに液滴を吐出する。左から２番目のノズル孔１２Ｇは、画素４７Ｇに液滴を吐出する。左から３番目のノズル孔１２Ｂは、画素４７Ｂに液滴を吐出する。

このとき、図２０に示すように、インク吐出制御部５０ｆ（図１６）によって、インク吐出部５８を、インク吐出対象に対向した状態で、主走査方向または副走査方向に傾けることが可能である。これによって、副走査方向における各ノズル間の距離を小さくすることが可能となる。その結果、同一のインク吐出対象に対して、複数個のノズルを用いてインクを吐出することができる。副走査方向における各ノズル間の距離は、インク吐出部５８の傾き角度によって決定することができる。なお、インク吐出部５８の傾き角度は、特に限定するものではなく、選択可能である。例えば、上記傾き角度は、インク吐出対象の大きさ、特にＸ座標軸方向の長さとインク液滴の大きさとに応じて設定することができる。

例えば、図２０に示すように、本実施の形態の液滴吐出ユニットおよびインク吐出制御方法は、インク吐出部５８を、インク吐出対象に対向した状態で、主走査方向または副走査方向に傾けることが可能である。以下に、インク吐出部５８を、主走査方向または副走査方向に傾ける前後のノズルの配置について説明する。

図１９に示すように、インク吐出部５８は、ノズル孔１２Ｒ・１２Ｇ・１２Ｂを有し、対象基板２に対向して配置されている。なお、インク吐出部５８は、矢印Ａ３に示される方向に移動しながらインクを吐出するものとする。また、対象基板２は、互いに隣接して配置された画素４７Ｒ・４７Ｇ・４７Ｂを有している。このなかで、赤色（Ｒ）のインクを吐出される画素は画素４７Ｒであり、緑色（Ｇ）のインクを吐出される画素は画素４７Ｇであり、青色（Ｂ）のインクを吐出される画素は画素４７Ｂである。インク吐出部５８は、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）および青色（Ｂ）のインクを吐出するために、それぞれ複数のノズル孔１２Ｒ・１２Ｇ・１２Ｂを有している。上記ノズルのなかで、画素４７Ｒ・４７Ｇ・４７Ｂに対してインクを吐出するノズルは、黒塗りの円にて示されている。つまり、図１９に示すように、画素４７Ｒ・４７Ｇ・４７Ｂは、それぞれ１個のノズル１２Ｒ・１２Ｇ・１２Ｂによって、インクが吐出される。

また、図２０に示すように、インク吐出部５８は、対象基板２に対向した状態で、主走査方向または副走査方向に傾けることが可能である。図２０に示すように、インク吐出部５８を傾けることによって、画素４７Ｒ・４７Ｇ・４７Ｂは、それぞれ２個のノズル孔１２Ｒ・１２Ｇ・１２Ｂによって、インクを吐出されることが可能となる。

一方、インク吐出部５８の傾きを例えば８０度と固定している場合は、隣接するインク滴の間隔は一定であるため、吐出させる液滴数を各ノズル単位で調整し、欠陥画素を穴埋めさせるためのインク滴量を決定する。ちなみに、１５０ｄｐｉ相当のノズル間隔を有すインク吐出装置のインク吐出部５８を約８０度傾けることで、副走査方向におけるノズル間の距離は約３０μｍとなる。図２１（ａ）に示すように、画素幅を１００μｍとすると、少なくとも２個のノズルからインクを吐出することにより、同一画素内を印字することができる。この２個のノズルから吐出される液滴数を制御して欠陥画素を生めるために必要な液滴総量を確保することも可能である。

また、図２１（ｂ）に示すように、画素幅が３００μｍになると、上記の場合、９個のノズルが画素幅内に収まることとなる。この場合、９個のノズルの内、例えば1個のノズルの状態が不良状態となった場合でも残り８個のノズルを用いて所望の液滴量のインクを吐出することが可能となる。なお、図２１（ｂ）において、インク吐出部５８が走査する方向は、矢印Ａ３にて示す。

また、図２２及び図２３に示すように、本実施の形態のインク吐出装置を用いれば、欠陥画素を修復する際、例えばＲＧＢ画素のうち、画素色抜けなど１色の欠陥画素を修正する場合のほか、図２２に示すように、ダストなどの異物による画素間の色リークなどによって生じるＲＧやＧＢ、ＢＲなどの隣接した２個の欠陥画素、または図２３に示すように、ＲＧＢ、ＧＢＲ、ＢＲＧなど隣接した３個の欠陥画素の修正を同時に行うことが可能となる。

そのため、インク吐出部５８の各色用の液滴吐出ユニット１２Ｒ・１２Ｇ・１２Ｂを互いに近接させ、少なくとも主走査方向に対して各液滴吐出ユニット１２Ｒ・１２Ｇ・１２Ｂのノズル位置がオーバラップするようにし、さらに前述のようにインク吐出部５８を傾けることで、副走査方向におけるインク吐出間隔を仮想的に狭くすることができる。隣接する欠陥画素を異なる色のインクを用いて修復できるように隣接画素位置に合わせてインク吐出部５８のノズル位置を微調整し、複数の異なるインクを用いて同一走査中に欠陥画素を修復することが可能である。

例えば、図２２に示すように、本実施の形態の液滴吐出ユニットおよびインク吐出制御方法は、隣接する２個の画素４７Ｒ・４７Ｇを、同一走査中に修復することができる。この場合、隣接する画素４７Ｒ・４７Ｇを、それぞれノズル１２Ｒ・１２Ｇを用いて修復することが可能となる。また、図２３に示すように、本実施の形態の液滴吐出およびインク吐出制御方法は、隣接する３個の画素４７Ｒ・４７Ｇ・４７Ｂを、同一走査中に修復することができる。この場合、インク吐出部５８を傾けることによって、隣接する画素４７Ｒ・４７Ｇ・４７Ｂを、それぞれノズル１２Ｒ・１２Ｇ・１２Ｂを用いて修復することが可能となる。

図２４（ａ）は、ヘッドガントリーユニットに設けられた液滴吐出ユニットの反転動作を説明するための模式平面図であり、図２４（ｂ）はヘッドガントリーユニットに設けられた液滴吐出ユニットの反転動作を説明するためのグラフである。

図２４（ａ）に示す例では、欠陥修復装置の担持体であるヘッドガントリーユニット４上に、３個の液滴吐出ユニット３ａ・３ｂ・３ｃが搭載されている。液滴吐出ユニット３ａは基板受け持ち領域４６ａの内にある欠損部を順次巡回しながら液滴を吐出する。液滴吐出ユニット３ｂは基板受け持ち領域４６ｂの内にある欠損部を順次巡回しながら液滴を吐出する。液滴吐出ユニット３ｃは基板受け持ち領域４６ｃの内にある欠損部を順次巡回しながら液滴を吐出する。従って、ヘッドガントリーユニット４が基板上を反転走査するごとに、基板上に残る未修復箇所は減少していく。

ある基板上の全ての修復箇所を複数回の反転走査により修復する場合、複数回の走査の後半では、残修復箇所が減少するために、必ずしも基板の一端から他端までの全領域を走査する必要がなくなる。

例えば、複数の液滴吐出ユニット３ａ・３ｂ・３ｃが一つのヘッドガントリーユニット４に搭載されているような本装置では、受け持つ修復箇所の数、及び修復箇所の配置は、液滴吐出ユニット３ａ・３ｂ・３ｃ毎に異なり、１つの液滴吐出ユニットでも１走査毎に修復する修復箇所の数、及び修復箇所が異なる。

ヘッドガントリーユニット４の必要な走査幅は、基板上の修復箇所の分布に応じて異なり、図２４（ａ）に示す例では、ヘッドガントリーユニット４の走査方向を紙面上下として、少なくとも、最上及び最下の修復箇所上に液滴吐出ユニットが到達できるような範囲をヘッドガントリーユニット４は走査すればよい。

なお、１回の走査においても液滴吐出ユニット毎に必要な走査領域は異なるために、複数の液滴吐出ユニットのそれぞれの必要な走査幅を包含する総和の幅を、ヘッドガントリーユニット４の走査幅として決定する（例えば２つの走査幅があれば、それぞれの重複領域に加えて、重複していない領域も加えた領域を走査すべき領域として決定する）。

本実施の形態では、液滴吐出ユニットによる液滴吐出動作の実行前に、基板毎の修復箇所情報を予め取得し、その修復箇所情報に基づいて、液滴吐出ユニット毎に受け持つべき修復箇所を決定しその受け持ち修復箇所情報をもとに、液滴吐出ユニット毎にヘッドガントリーユニット４の走査方向について、必要な反転回数、及び走査領域を決定する。

また、実施の形態中に記載している巡回のアルゴリズムでは、初期走査段階で基板端部近傍の修復箇所が修復されることが多くなる。

これは、実施の形態の巡回アルゴリズムでは、ヘッドガントリーユニット４の反転動作位置近傍に位置する修復箇所が優先的に処理されるために、結果としてヘッドガントリーユニット４の反転動作位置である、基板端部近傍に位置する修復箇所から先に修復されて、ガントリー反転動作を重ねるにつれて、基板中央部に修復箇所が残る場合が多いためである。

図２４（ｂ）は、横軸は修復動作の時間（ヘッドガントリーユニット４が基板上を繰り返し反転走査する時間）を示す。縦軸はヘッドガントリーユニット４の走査位置（図２４（ａ）の紙面上方向をプラス）を示す。期間Ｔ１は１回目の走査期間（図２４（ａ）の紙面下側から上側にヘッドガントリーユニット４が走査する期間）を表す。期間Ｔ２は２回目の走査期間（図２４（ａ）の紙面上側から下側にヘッドガントリーユニット４が走査する期間）を表す。期間Ｔ３は３回目の走査期間（図２４（ａ）の紙面下側から上側に走査する期間）を表す。期間Ｔ４は４回目の走査期間（図２４（ａ）の紙面上側から下側に走査する期間）を表す。初期の走査期間Ｔ１・Ｔ２よりも、後期の走査期間Ｔ３・Ｔ４の方が、１回の走査におけるヘッドガントリーユニット４の移動量が少ない。一走査当たりのヘッドガントリーユニット４の移動量は、期間Ｔ１・Ｔ２・Ｔ３・Ｔ４とヘッドガントリーユニット４の反転回数が増えるに従って、少なくなっていく。

ヘッドガントリーユニット４が基板上を反転して走査する総走査距離が、基板１枚当たりの修復時間であり、ヘッドガントリーユニット４の走査領域を上述のように限定することで、総走査距離を短くすることができ、結果としてタクトタイムを削減することが可能となる。

このように、反転回数が増えるに従って、ヘッドガントリーユニット４の走査領域を上述のように限定すると、基板サイズ、修復数等に応じて、効果は変わるが、発明者らの検討では、最大４０％のタクトタイム削減が可能であった。

本実施の形態では、まず、最初に、ヘッドガントリーユニット４を基板の端から端まで全体的に移動させ、その後、徐々に中央付近に収束する修復アルゴリズムで行う例を示したが、本発明はこれに限定されない。他のパターンであっても、タクトタイムを短縮することができる。他のパターンとしては、（１）ヘッドガントリーユニット４を反転させるまでの移動量を徐々に大きくするように修復する移動方法、（２）修復箇所が多い場合に、多い箇所において集中してヘッドガントリーユニット４を反転させる方法、（３）反転の移動量をほぼ一定にして、ヘッドガントリーユニット４の移動範囲を徐々にシフトさせていく方法などがある。

上記修復における移動パターンにおいては、欠陥箇所（修復箇所）がどのような場所に存在しているかに応じて最適な修復パターンは変わる。すなわち、修復箇所が均一に点在している場合（修復箇所が集中していない場合）は、本実施の形態で示した修復アルゴリズムで修復することが好ましい。基板によって修復箇所の配置が大きく異なっているような場合は、修復パターンデータに応じて、修復アルゴリズムを変更し、修復を行ってもよい。

＜液滴吐出ユニット３の配列＞
図２５（ａ）（ｂ）は、欠陥修復装置１のアライメント動作を説明するための平面図である。図２５（ａ）（ｂ）は欠陥修復装置１を上方から見た図であり、ヘッドガントリーユニット４上に計９個の液滴吐出ユニット３が搭載されている。

液滴吐出ユニット３毎に設けられている吐出ユニットスライド機構２４は、ヘッドガントリーユニット４の両外側に向いた両側面にそれぞれ設けられている。ヘッドガントリーユニット４の紙面左側面には４対の液滴吐出ユニット３と吐出ユニットスライド機構２４とが一定間隔を空けて取り付けられている。ヘッドガントリーユニット４の紙面右側面は、５対の液滴吐出ユニット３と吐出ユニットスライド機構２４とが一定間隔を空けて取り付けられている。そして、基板載置台１７の上面に対して、それぞれの吐出ユニットスライド機構２４は千鳥状に配列されている。すなわち、ガントリー移動方向である矢印ｒ３に直交する方向に互いに隣接する２つの吐出ユニットスライド機構２４は、吐出ユニットスライド機構２４のスライド可能方向である矢印ｒ３の方向に沿って、それぞれのスライド可能領域の端部が一部重複するように構成されている。なお、重複する移動可能領域はその領域が大きいほど好ましく、吐出ユニットスライド機構２４の長手方向の長さの三分の一以上重複していることが望ましい。

＜基板アライメント動作の説明＞
対象基板のアライメント動作を図２５（ａ）（ｂ）及び図２６（ａ）（ｂ）を用いて説明する。図２６（ａ）（ｂ）は、ヘッドガントリーユニット４に設けられたアライメントカメラ２５の構成を説明するための要部平面図である。基板載置台１７上で吸着固定された対象基板２の基板端近傍には、対象基板２の面内回転方向を補正するためのアライメントマーク４３が２箇所設けられている。

ヘッドガントリーユニット４に固定されている２個のアライメントカメラ２５は、図２５（ａ）に示す位置からヘッドガントリーユニット４と一体的に図２５（ｂ）に示す位置に移動する。そして、アライメントカメラ２５の画像情報を元に、対象基板２の面内回転方向のずれを算出し、前述の基板載置台１７のθ回転機構と矢印ｒ３の方向の微動機構により、図２５（ｂ）に示す回転矢印ｒ６の方向に基板の姿勢を補正する。

対象基板２には、予め高精度の２つのアライメントマーク４３が設けられており、対象基板２の液滴塗布位置は、このアライメントマーク４３を基準として、予め決定されている。このアライメントマーク４３は、同心円状のマークであり、対象基板２上の２つのアライメントマーク４３のピッチずれは２μｍ以内である。２つのアライメントマーク４３のピッチと同ピッチで２つのアライメントカメラ２５はヘッドガントリーユニット４上に設置されている。また、アライメントカメラ２５は、複数の広視野モード部２５ａと狭視野モード部２５ｂとを有し、広視野モード部２５ａでθ回転機構及び微動機構によりアライメントしたのち、狭視野モード部２５ｂで再度同様なアライメント動作を行う。

図２７（ａ）（ｂ）は、欠陥修復装置１のアライメント動作を説明するための要部平面図である。図２８（ａ）（ｂ）は、欠陥修復装置１のアライメント動作を説明するための要部拡大平面図である。図２８（ａ）（ｂ）は、広視野モードでのアライメントカメラ２５による撮像画像を示す模式図であり、図２７（ａ）は一対のアライメントカメラ２５の一方による画像、図２７（ｂ）は一対のアライメントカメラ２５の他方による画像である。

アライメントカメラ２５の広視野モードは、搬送ロボットの基板載置台１７への基板の配置精度以上の視野を有するように設計されている。この広視野モードでは、まず、同心円のアライメントマーク４３の外側円環部４３ａを用いて、アライメントマーク４３と基準位置とのずれを計測し、アライメントマーク４３と基準位置とが一致するように、θ回転機構及び微調整機構により基板載置台１７を調整し、対象基板２の姿勢を制御する。外側円環部４３ａの外径は、例えば２ｍｍであり、内側円部４３ｂの外径は、例えば０．２ｍｍである。

次に図２８（ａ）（ｂ）に示すように、アライメントカメラ２５を狭視野モードに切り替え、アライメントマーク４３の同心円の内側円部４３ｂを用いてアライメントマーク４３と基準位置とのずれを計測し、アライメントマーク４３と基準位置とが一致するように、θ回転機構及び微調整機構により基板載置台１７を調整し、対象基板２の姿勢を制御する。また、一対のアライメントカメラ２５による観察位置と液滴吐出ユニット３の液滴吐出位置は、液滴吐出ユニット３を取り付けた後の調整工程で予め計測されている。

図２９は、欠陥修復装置１のアライメント動作を示すフローチャートである。まず、欠陥修復装置１に設けられた制御ユニットからアライメント開始指令が発行されると（ステップＳ１），サブステージ１６ｂ側に移動した基板載置台１７上に対象基板２が搬入される（ステップＳ２）。そして、対象基板２を載置した基板載置台１７は、メインステージ１６ａ上の定位置に移動する（ステップＳ３）。

これと同時に、図２５（ａ）に示すようにメンテナンス機構１８上に位置していたヘッドガントリーユニット４は、図２５（ｂ）に示すアライメント位置に移動する（ステップＳ４）。そして、アライメントカメラ２５の広視野モード部２５ａをアライメントマーク４３上の標準位置に移動させる（ステップＳ５）。

次に、アライメントカメラ２５の広視野モード部２５ａは、アライメントマーク４３の外側円環部４３ａを撮像し（ステップＳ６）、アライメント量を算出する（ステップＳ７）。その後、算出したアライメント量に基づいて、基板載置台１７の位置を粗く調整する粗アライメント動作を実行する（ステップＳ９）。

そして、アライメントカメラ２５の狭視野モード部２５ｂをアライメントマーク４３上の標準位置に移動させる（ステップＳ８）。その後、アライメントカメラ２５の狭視野モード部２５ｂは、アライメントマーク４３の内側円部４３ｂを撮像し（ステップＳ１０）、アライメント量を算出する（ステップＳ１１）。その後、算出したアライメント量に基づいて、基板載置台１７の位置を精密に調整する本アライメント動作を実行する（ステップＳ１２）。

その後、再び、アライメントカメラ２５の狭視野モード部２５ｂは、アライメントマーク４３の内側円部４３ｂを撮像し（ステップＳ１３）、基板載置台１７の位置精度を確認する（ステップＳ１４）。そして、アライメント動作を確認する（ステップＳ１５）。

＜観察カメラユニット２７による液滴着弾位置の計測＞
図３０（ａ）（ｂ）は、欠陥修復装置１に設けられた観察カメラユニット２７による液滴着弾位置の計測動作を説明するための平面図である。観察カメラユニット２７は、液滴吐出ユニット３の液滴吐出素子２９（図５）を交換して着弾位置補正を行うための情報を取得する場合や、使用中の着弾位置を再確認する際に用いる。観察カメラユニット２７は、ガントリースライド機構５とカメラスライド機構３８とにより、欠陥修復装置１上面の任意の位置を撮像することができ、また、欠陥修復装置１上面の任意の位置を割り出すことが可能である。観察カメラユニット２７の撮像位置は、ガントリースライド機構５とカメラスライド機構３８とに内在しているスケールにより、その位置情報を出力することが可能である。

液滴着弾位置を観察する場合、基板として、通常の対象基板２と同様の所定のアライメントマーク４３が付与されたダミー基板４４を欠陥修復装置１に搬入し、通常通りの基板姿勢制御を行う。次に、観察カメラユニット２７は、ダミー基板４４上の２つのアライメントマーク４３をそれぞれ撮像し、その位置情報を取得する。

図３０（ａ）に示すように、ヘッドガントリーユニット４は、ダミー基板４４上の任意の位置まで移動する。そして、それぞれの液滴吐出ユニット３のノズル孔からダミー基板４４に向けて液滴を吐出する。このとき、全てのノズル孔から液滴を吐出しても良い。また、それぞれの液滴吐出ユニット３は、ガントリースライド機構５とそれぞれの吐出ユニットスライド機構２４に内在しているスケールに基づいて、仮想の着弾位置（理想的な着弾位置）をそれぞれ認識する。

次に、図３０（ｂ）に示すように、観察カメラユニット２７は、ガントリースライド機構５とカメラスライド機構３８とにより移動しながら、液滴着弾位置４５を順次撮像して、アライメントマーク４３に対する実際の着弾位置を割り出す。そして、仮想の着弾位置と実際の着弾位置との間の差分をそれぞれの液滴吐出ユニット３の補正データとして保管する。ずれ（差分）は、Ｘ方向、及びＹ方向に分解される。Ｙ方向のずれは、ヘッドガントリーユニット４がＹ方向に移動しながら液滴吐出を行うため、吐出タイミングを調整することによって補正することができる。Ｘ方向のずれに関しては、吐出ユニットスライド機構２４の移動量をオフセット補正する。この観察カメラユニット２７の動作により、ノズル毎の不吐出を検出し、ノズル毎の着弾よれを検出することも可能である。

＜ヘッドガントリーユニット４の往復動作／液滴吐出ユニット３の移動動作＞
図３１（ａ）（ｂ）は、ヘッドガントリーユニット４の往復動作を説明するための平面図である。姿勢制御が完了した対象基板２に対して、アライメントマーク４３基準の所望位置に液滴を滴下する方法を以下に示す。

図３１（ａ）は、対象基板２に液滴を滴下する作業において、ヘッドガントリーユニット４が図３１（ａ）において最も右に移動した状態を示している。一方、図３１（ｂ）は、最も左に移動した状態を示している。ヘッドガントリーユニット４は、矢印ｒ７によって示される範囲を１回〜複数回往復する。ヘッドガントリーユニット４に搭載されている複数の液滴吐出ユニット３は、図３１（ａ）の矢印ｒ３に示す方向にそれぞれ独立して移動可能である。ヘッドガントリーユニット４自体は、対象基板２上を、紙面左右方向（矢印ｒ７の方向）に往復動作する。それぞれの液滴吐出ユニット３は、液滴吐出動作を実行する前に、矢印ｒ３に示す方向に沿って所望のアドレスに移動し停止する。そして、ヘッドガントリーユニット４が矢印ｒ７の方向に往復動作する過程で、矢印ｒ７方向及び矢印ｒ３方向の所望位置のアドレスが一致した時点で、液滴を吐出する。複数の液滴吐出ユニット３は、その動作を、それぞれ独立して制御される。

図３１（ｂ）において、矢印ｒ７によって示されるヘッドガントリーユニット４の移動範囲は、液滴吐出ユニット３が移動する方向の直交方向の基板幅よりも大きく、基板幅の中心線をヘッドガントリーユニット４の移動範囲の略中心としている。

このように基板幅よりも大きい範囲を液滴吐出ユニット３が移動できることにより、着目した液滴吐出ユニット３は、その液滴吐出ユニット３のヘッドガントリーユニット４の移動ストロークの範囲内の基板の所望の位置（帯状の領域）に対して、液滴を滴下することが可能となる。

＜吐出動作の具体例＞
図３２（ａ）（ｂ）は、ヘッドガントリーユニット４の対象基板２に対する動作を説明するための平面図である。ヘッドガントリーユニット４には、Ｘ方向に独立して移動可能な９個の液滴吐出ユニット３ａ・３ｂ・３ｃ・３ｄ・３ｅ・３ｆ・３ｇ・３ｈ・３ｉが搭載されており、それぞれの液滴吐出ユニット３ａ〜３ｉには、対象基板２上の受け持ち領域４６ａ・４６ｂ・４６ｃ・４６ｄ・４６ｅ・４６ｆ・４６ｇ・４６ｈ・４６ｉが設定されている。

約２．２ｍ×２．８ｍの対象基板２には、約３０個から約３００個の吐出箇所（欠陥）１１が点在している。なお、基板サイズにもよるが、欠陥が３０個以上の場合には、複数の液滴吐出ユニットが搬送方向と異なる方向に個別に移動する構成とすることにより、液滴吐出ユニットが１つの場合に比べてタクトタイム短縮の効果が大きくなる。一方、欠陥が３００個以下の場合では、修復されたカラーフィルタ基板及び有機ＥＬ表示基板の修復部分に起因する色むらが、実使用上問題のないレベルとなり、高品位な前記基板を得ることができる。

それぞれの液滴吐出ユニット３ａ〜３ｉには紙面横方向に帯状に伸びた受け持ち領域４６ａ〜４６ｉが割り当てられている。液滴吐出ユニット３ａは、領域４６ａを受け持つ。液滴吐出ユニット３ｂは、領域４６ｂを受け持つ。それぞれの液滴吐出ユニット３ａ〜３ｉは、受け持ち領域４６ａ〜４６ｉに点在する吐出箇所（欠陥）１１に対して液滴吐出動作を行う。

ヘッドガントリーユニット４を紙面左右方向に繰り返し往復移動させる過程で、それぞれの液滴吐出ユニット３ａ〜３ｉはそれぞれ受け持つ吐出箇所１１の直上に移動すべく、Ｘ方向に個別に移動しＸ方向のアドレスが一致した場所で停止し、ヘッドガントリーユニット４の移動に伴って、Ｙ方向のアドレスが一致するまで待機する。そして、処理基板２上の所望位置が直下に来るタイミングで、液滴吐出ユニットを駆動し吐出口から液滴を処理基板２上の所望位置に吐出させる。

図３２（ａ）（ｂ）に示すように、９個の液滴吐出ユニット３ａ〜３ｉを２列の千鳥状に配列すると、図の点線によって示すように対象基板２を９個の領域４６ａ〜４６ｉに分割して、それぞれの液滴吐出ユニット３ａ〜３ｉ毎にその受け持ち領域を決定することができる。

図３３（ａ）〜図３３（ｄ）は、液滴吐出ユニット３の欠損部に対する吐出動作を説明するための模式的平面図である。液滴吐出ユニット３が、ヘッドガントリーユニット４の往復移動の過程で、複数の長方形状凹部に液滴を吐出させる工程を説明する。このような工程は、例として、一部に欠損を有するカラーフィルタ基板をこの欠陥修復装置を用いて欠損部分を修復する場合が相当する。一例として、カラーフィルタ基板の画素の１色が欠損した場合の修復装置としての説明を行う。

ここでの欠損部分とは、製造工程でダストが混入した部分、空白の窪みが形成された部分等について、レーザー等により不良部分を一定形状に凹み修正した部分である。液滴吐出ユニット３は、全て同一種類の液滴材料を吐出するものとして、１種類の画素（レッド、ブルー及びイエローのいずれか）の欠損について、その修復方法を示している。よって、全ての色の欠損部を修復するには、本実施の形態の欠陥修復装置を色材毎に３台設けて逐次処理するか、実施の形態２において例示するように、液滴吐出ユニットを、複数色の液滴を吐出可能とするように構成することで可能となる。

図３３（ａ）〜図３３（ｄ）は、ヘッドガントリーユニット４上に搭載されている複数の液滴吐出ユニット３のうちの１つに着目して、１つの液滴吐出ユニット３に含まれる液滴吐出面から複数の吐出箇所に吐出を行う動作を時系列に沿って示している。

図３３（ａ）を参照すると、処理基板上の欠損部（欠陥）１１ａ・１１ｂ・１１ｃは、深さ２μｍ程度の凹部であり、開口部はヘッドガントリーユニット４の移動方向を長辺とした２００μｍ×７０μｍ程度の長方形状をしている。図３３（ａ）〜図３３（ｄ）では、欠損部（欠陥）１１ａ・１１ｂ・１１ｃの長辺は、ヘッドガントリーユニット４の移動方向Ａに対して平行であるように描いているが、実際には図７（ａ）（ｂ）に示すように数度傾いている。液滴吐出ユニット３のノズル吐出面は、対向する搬送ステージ面と平行にしており、ノズルプレート３３には複数のノズル孔１２が形成されている。この複数のノズル孔１２は、ヘッドガントリーユニット４の移動方向である紙面左右方向に配列しており、個々のノズル孔１２はそれぞれ、その背面側に液滴吐出制御可能な図示しない個別のインク加圧室と加圧制御手段とを有している。また、１列に配列しているノズル孔１２は、同一の液滴材料を吐出することが可能となっている。

ヘッドガントリーユニット４は、液滴吐出ユニット３の移動や吐出動作によらず、常に紙面左右方向に略等速度（１００ｍｍ／秒〜５００ｍｍ／秒）で往復移動している。欠損部１１ａに液滴を吐出して修復するために、液滴吐出ユニット３は吐出ユニットスライド機構２４を用いて高速移動させてノズル孔１２を欠損部１１ａの中心線上に合わせて停止する。なお、液滴吐出ユニット３の移動時間は、実際に移動する時間に加えて、停止した後に吐出ユニットスライド機構２４による残留振動が液滴吐出に悪影響を与えないレベルまで低減するまでの静定時間を含んだ時間をも考慮する必要がある。

搬送ステージの進行方向側において、欠損部１１ａの中心線上まで予め移動させた液滴吐出ユニット３は、搬送ステージの等速移動により相対的に矢印Ｄ方向に移動し、欠損部１１ａ上にあるノズル孔１２から液滴が吐出される。このとき、使用するノズル孔１２は、欠損部１１ａの直上にある複数のノズル孔１２を使用することができるため、１つのノズル孔を使用する場合に比べて搬送ステージの等速移動速度を上げることができ、基板全体の処理速度を向上させることが可能となる。

次に欠損部１１ａ上に液滴を吐出した液滴吐出ユニット３は、図３３（ｂ）に示すように、欠損部１１ｃを修復するために、吐出ユニットスライド機構２４を駆動して矢印Ｅ方向に移動して、欠損部１１ｃの中心線がノズル孔１２に一致する位置で停止する。このとき、ヘッドガントリーユニット４も一定速度で紙面左方向に移動しているため、液滴吐出ユニット３は、図３３（ｃ）の矢印Ｆ方向に相対的に移動し停止する。そして、ヘッドガントリーユニット４の移動により液滴吐出ユニット３は、相対的に矢印Ｇ方向に移動しながら、欠損部１１ｃの直上にあるノズル孔１２から液滴を吐出し、欠損部１１ｃの修復を行う。

そして、ヘッドガントリーユニット４は、一方向の移動を完了した後に反対方向に移動を始める。図３３（ｄ）に示すように液滴吐出ユニット３は、欠損部１１ｂを修復するために、吐出ユニットスライド機構２４を用いて矢印Ｋ方向に移動し、欠損部１１ｂの中心線上にノズル孔１２を合わせて停止する。そして、ヘッドガントリーユニット４の移動により、液滴吐出ユニット３は相対的に矢印Ｌ方向に移動して、欠損部１１ｂの直上にあるノズル孔１２で液滴を吐出する。

このように、ヘッドガントリーユニット４の往復動作を利用して、３つの欠損部１１ａ・１１ｂ・１１ｃの修復を、欠損部１１ａ、欠損部１１ｂ、欠損部１１ｃの順で行っており、本実施の形態の欠陥修復装置の構成上の利点を最大限活用するものである。即ち、図３３（ｃ）に示すように、欠損部１１ａに複数のノズル孔１２で吐出する際に、実際に吐出を行う紙面右端のノズル孔１２が欠損部１１ａ直上から離れるまでは、移動させることはできず、少なくとも使用するノズル孔１２の両端間距離に相当する領域では、液滴吐出ユニット３を紙面上下方向に移動させて、次の欠損部の修復に向かうことはできない。

この不能範囲Ｈは、処理直後の欠損部端から使用するノズル孔１２の両端間距離に相当する帯状の範囲に加えて、搬送ステージの移動速度と、矢印Ｅ方向（図３３（ｂ））の移動に要する時間及び移動後の残留振動の静定に要する時間の和、を掛け合わせた領域も含まれる。

図３３（ｃ）に示すように、欠損部１１ｂは欠損部１１ａに対する不能範囲Ｈに入る場所に位置しているため、欠損部１１ａの修復の直後に欠損部１１ｂの処理を行なわず、不能範囲Ｈに属さない欠損部１１ｃの修復を行っている。そして、ヘッドガントリーユニット４の復路移動に伴って、欠損部１１ｃの修復後に、その不能範囲Ｈに属さない欠損部１１ｂの修復を行っている。

以上は、１つの液滴吐出ユニット３の移動動作について説明を行ったが、欠陥修復装置は複数の液滴吐出ユニット３を有し、それぞれが独立して動作している。なお、本実施の形態に係る欠陥修復装置は、カラーフィルタ基板の欠陥修復装置に限るものではなく、基板上に点在する所望箇所に液滴を吐出させることが可能である。

図３４（ａ）〜図３４（ｃ）は、３種類の液滴材料を滴下する液滴吐出ユニット３ａの移動方向が、画素４７Ｒ・４７Ｇ・４７Ｂの長手方向と直交する場合の液滴吐出ユニットの吐出動作を示す模式平面図である。図３５（ａ）〜図３５（ｃ）は、３種類の液滴材料を滴下する液滴吐出ユニット３ａの移動方向が、画素４７Ｒ・４７Ｇ・４７Ｂの長手方向と平行な場合の液滴吐出ユニットの吐出動作を示す模式平面図である。ダスト等の原因によって製造途中にＲ及びＧの画素間において混色が発生してしまい、所望の色を示さない画素ができた際に、その部分を矩形状にレーザーで除去し、本欠陥修復装置を用いて矩形部に液滴を滴下する。

図３４（ａ）〜図３４（ｃ）及び図３５（ａ）〜図３５（ｃ）では、液滴吐出ユニット３ａとその液滴吐出ユニット３ａが修復すべき画素４７Ｒ・４７Ｇ・４７Ｂを示しており、画素４７Ｒ及び画素４７Ｇが混色リークしたために、あらかじめレーザーにより、混色箇所を除去して凹みを形成している。

図３４（ａ）は、修復前の状態を示しており、液滴吐出ユニット３ａは図の矢印方向に沿って画素４７Ｒ・４７Ｇ・４７Ｂに向かって移動している。図３５（ｂ）は画素４７Ｒに液滴を滴下した直後の図であり、次に、図３５（ｃ）に示すように画素４７Ｇに液滴を滴下する。

画素４７Ｒ・４７Ｇ・４７Ｂの長手方向がヘッドガントリーユニット（液滴吐出ユニット３ａ）の移動方向の場合についても同様に、図３５（ａ）は修復前の状態を示しており、図３５（ｂ）、図３５（ｃ）の順にしたがって、画素４７Ｒ、画素４７Ｇを修復する。

（実施の形態２）
図３６（ａ）は、実施の形態２に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットの構成を示す平面図であり、図３６（ｂ）は、その動作を説明するための平面図である。

実施の形態２に係る欠陥修復装置は、所定の間隔を空けて設けられた２個のヘッドガントリーユニット４を有している。各ヘッドガントリーユニット４には、４個の液滴吐出ユニット３が設けられている。従って、液滴塗布装置には計８個の液滴吐出ユニット３が搭載されている。

１本目のヘッドガントリーユニット４に搭載された４個の液滴吐出ユニット３をスライドさせる吐出ユニットスライド機構２４の移動可能領域は、互いに重複している。このため、４個の液滴吐出ユニット３は、そのいずれかが基板の任意の位置に移動可能である。２本目のヘッドガントリーユニット４にも、同様に４個の液滴吐出ユニット３が搭載されている。

１つの液滴吐出ユニット３は吐出ユニットスライド機構２４の移動範囲Ｐだけ移動可能であり、千鳥状に隣接する吐出ユニットスライド機構２４の移動範囲は、液滴吐出ユニット３が移動する方向に沿って、一部を重複させている。このため、１つのガントリー上にある４つの液滴吐出ユニット３のいずれかが、ヘッドガントリーユニット４の長手方向に沿った位置に必ず移動することが可能である。互いに補完しながら搬送ステージ移動方向の直交方向に沿った全ての位置への移動を網羅できる液滴吐出ユニット３の集合をユニット列とすると、本実施の形態では、２本のユニット列が存在することとなる。そして、１ユニット列は４つの液滴吐出ユニットから構成されている。

対象基板２には、図中黒点で示す複数の欠損部１１がある。対象基板２の領域は、ユニット列数を列数、ユニット列毎の液滴吐出ユニット数を行数として均等分割されて、具体的には、４行×２列の領域に分割して、それぞれの液滴吐出ユニット３の受け持ち領域となる。例えば、左側のヘッドガントリーユニット４に設けられた左上の液滴吐出ユニット３は、図中のハッチングで示されている受け持ち領域４６に点在する欠損部１１のみを修復する。なお、図３２で前述したユニット配列では、ユニット列数は１となるために、図３２に示すように９行×１列に分割されている。

図３６（ｂ）は、ヘッドガントリーユニット４の移動による対象基板２の往復動作の往路の半分の状態を示す図であり、図中の白矢印方向までヘッドガントリーユニット４は移動して往路を終える。その後、ヘッドガントリーユニット４は復路に転換し、図３６（ａ）に示す状態まで戻る。この往復動作を１往復として、欠損部１１の多少に応じて１〜数往復を繰り返すことにより、対象基板２全体の欠損部１１を修復する。ここで、合計８領域ある液滴吐出ユニット３毎の受け持ち領域で欠損部１１の多少の差のために、液滴吐出ユニット３毎に完了・未完了の差が生じるが、全ての液滴吐出ユニット３が欠損部１１を修復するまでヘッドガントリーユニット４は往復を繰り返す。

ここで図３６（ｂ）に示すように、前述のユニット列は１本のヘッドガントリーユニット４上に搭載された４個の液滴吐出ユニット３であり、このユニット列の中心線は、Ｙ２−Ｙ２、及びＹ３−Ｙ３となる。本実施形態では、この２本のユニット列（ヘッドガントリーユニット４）の中心線Ｙ２−Ｙ２及び中心線Ｙ３−Ｙ３間の距離が、対象基板２の搬送方向に沿った長さの略２分の１になっている。そして、図３６（ｂ）に示すように、２本のヘッドガントリーユニット４の中心線Ｙ２−Ｙ２、及び中心線Ｙ３−Ｙ３との間の間隔が、対象基板２の幅の略半分となるように配置し、その配置位置を中心に両振幅を基板の幅の略半分の移動量で移動する。

このように、ユニット列（ヘッドガントリーユニット４）数毎に基板幅を分割し、それぞれのユニット列がその分割領域内で走査することにより、効率よく修復作業を行うことが可能となる。なお、図３２のようユニット列数が１本の場合、基板中間線をユニット列中心として、両振幅を基板幅とする。

図３７は、実施の形態２に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットの他の構成を示す平面図である。図３７には、３列のユニット列（ヘッドガントリーユニット４）を有する構成の例が示されている。この場合、１ユニット当り４個の液滴吐出ユニット３が搭載され、計３列のユニット列を形成している。よって、対象基板２は４行×３列に分割されている。

ｎ本のユニット列を有する欠陥修復装置においては、対象基板をｎ分割し、そのｎ分割領域の中間線を中心として、それぞれのユニット列を基板幅のｎ分の１の両振幅で複数回走査すると良い。このようにすることにより、往復動作によるヘッドガントリーユニット４の移動総距離を最小にすることが可能となり、基板の処理時間を最も短縮することができる。この比率は厳密に適用することなくとも、±２０％程度の誤差以内であれば、時間短縮の効果は大きい。

ここで、対象基板２の幅をＤ、ユニット列の走査幅をｄ、ユニット列数をｎとしたとき、
０．８ｄ≦Ｄ／ｎ≦１．２ｄ、
の範囲にあると、基板の処理時間を短縮することができる。

修復が終えられた処理基板は図示しない搬送ロボットにより取り出される。カラーフィルタ基板の場合は、基板は焼成炉に入れられて液滴材料は固化、完成する。実施形態２では２個のユニット列、及び、３個のユニット列を有する欠陥修復装置について説明したことから、ｎ個のユニット列を有する場合、基板導入方向の基板サイズＤに対して、基板をｎ分割し、ユニット列を分割したそれぞれの領域の中間線を中心に、基板のＤ／２ｎの振幅で往復走査することが良いことがわかる。また、ｄをＤ／ｎと略一致させることで、装置サイズの最小化を図ることが可能となるが、±１０％程度の差異であれば、装置サイズが大幅に増加することは無く装置の占有面積を小さくすることができる。また、ｄとＤ／ｎは一致することが望ましいが、±２０％までの差異であれば、基板一枚当たりに要する処理時間が大幅に増加することはなく、タクトタイムの短縮を実現することができる。

図３８（ａ）（ｂ）は、は、実施の形態２に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットのさらに他の構成を示す平面図である。ガントリー２３の一方の側面には、液滴吐出ユニット３を搭載した吐出ユニットスライド機構２４が設けられており、ガントリー２３の他方の側面にも、液滴吐出ユニット３を搭載した吐出ユニットスライド機構２４が設けられている。ガントリー２３の一方の側面は、基板載置台１７に垂直であり、ガントリー２３の他方の側面は、基板載置台１７に対して傾斜している。

ガントリー２３の一方の側面の液滴吐出ユニット３のスライド方向は、ヘッドガントリーユニットのスライド方向（図１のＹ方向に平行な方向）に垂直な方向から若干傾斜しており、ガントリー２３の他方の側面の液滴吐出ユニット３のスライド方向も、ヘッドガントリーユニットのスライド方向（図１のＹ方向に平行な方向）に垂直な方向から若干傾斜している。このように基板搬送方向に対して液滴吐出ユニットのスライド方向が垂直でなくとも、本発明は適用可能である。また、複数のスライド機構において、搬送方向に対するそれぞれのスライド方向が異なっていても、その移動軌跡を予め把握し、スライド位置座標に基づいて液滴吐出ユニットの吐出タイミングを補正することができる。

前述した実施の形態１及び２では、ＣＦパネルに生じた欠陥画素の例を説明したが、本発明はこれに限定されない。マトリクス状またはストライプ状に並んだ複数の被吐出部を有するエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置の製造に対しても本発明を適用することができる。また、プラズマ表示装置の背面基板の製造に対しても本発明を適用することができ、電子放出素子を備えた画像表示装置の製造、および配線の製造に対しても本発明を適用することができる。

なお、本発明では、搬送方向の略等速の移動は、緩やかな加速、減速状態も含まれる。

また、不吐出検査器を、メインステージ以外の領域に設けた例を示したが、本発明はこれに限定されない。メインステージの下側に不吐出検査器を設け、基板の搬出入時に不吐出検査器が液滴塗布ユニットまで上昇して不吐出検査を行うように構成してもよい。

本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。

本発明は、被記録物に対して相対的に移動する保持部材に保持された液滴吐出ユニットにより被記録物に液滴を吐出する液滴吐出描画装置に適用することができる。

実施の形態１に係る欠陥修復装置の外観を示す斜視図である。 上記欠陥修復装置の模式的断面図である。 上記欠陥修復装置に設けられたヘッドガントリーユニット及び基板載置台の動作を説明するための模式的断面図である。 （ａ）は、上記欠陥修復装置に設けられたヘッドガントリーユニットの構成を説明するための要部平面図であり、（ｂ）は、要部正面図である。 上記ヘッドガントリーユニットに設けられた液滴吐出ユニットの構成を説明するための要部側面図である。 上記ヘッドガントリーユニットに設けられた吐出ユニットスライド機構の構成を説明するための要部正面図である。 （ａ）は、上記液滴吐出ユニットの構成を説明するための要部下面図であり、（ｂ）は、上記液滴吐出ユニットの他の構成を説明するための要部下面図である。 （ａ）〜（ｃ）は、上記ヘッドガントリーユニット及び上記基板載置台の動作を説明するための模式的断面図である。 （ａ）は、上記欠陥修復装置に設けられたメンテナンス機構の不吐出検出器の構成を説明するための正面図であり、（ｂ）は、その下面図である。 従来の欠陥修復装置の不吐出検査と基板の搬出入とのタイミングを説明するための図である。 上記欠陥修復装置の不吐出検査と基板の搬出入とのタイミングを説明するための図である。 上記欠陥修復装置のシステム構成を示すブロック図である。 上記ヘッドガントリーユニットに設けられた液滴吐出ユニットの不吐出検出の概略手順を示すフローチャートである。 上記ヘッドガントリーユニットに設けられた液滴吐出ユニットの不吐出検出の詳細手順を示すフローチャートである。 上記ヘッドガントリーユニットに設けられた液滴吐出ユニットのメンテナンス動作と基板搬出入動作との手順を示すフローチャートである。ある。 上記欠陥修復装置の液滴吐出制御ユニットを説明するためのブロック図である。 上記液滴吐出制御ユニットの動作を説明するためのフローチャートである。 本実施の形態の液滴吐出ユニットおよびインク吐出制御方法によるインクの吐出順路を示す模式図である。 本実施の形態の液滴吐出ユニットが欠損部に液滴を塗布する態様を示す図である。 本実施の形態の液滴吐出ユニットが欠損部に液滴を塗布する他の態様を示す図である。 （ａ）は画素に対する本実施の形態の液滴吐出ユニットの移動方向を示す図であり、（ｂ）は画素に対する本実施の形態の液滴吐出ユニットの他の移動方向を示す図である。 隣接した２個の欠陥画素を修復するインク吐出部を示す平面図である。 隣接した３個の欠陥画素を修復するインク吐出部を示す平面図である。 （ａ）はヘッドガントリーユニットに設けられた液滴吐出ユニットの反転動作を説明するための模式平面図であり、（ｂ）はヘッドガントリーユニットに設けられた液滴吐出ユニットの反転動作を説明するためのグラフである。 （ａ）（ｂ）は、上記欠陥修復装置のアライメント動作を説明するための平面図である。 （ａ）（ｂ）は、上記ヘッドガントリーユニットに設けられたアライメントカメラの構成を説明するための要部平面図である。 （ａ）（ｂ）は、上記欠陥修復装置のアライメント動作を説明するための要部平面図である。 （ａ）（ｂ）は、上記欠陥修復装置のアライメント動作を説明するための要部拡大平面図である。 上記欠陥修復装置のアライメント動作を示すフローチャートである。 （ａ）（ｂ）は、上記欠陥修復装置に設けられた観察カメラユニットによる液滴着弾位置の計測動作を説明するための平面図である。 （ａ）（ｂ）は、上記欠陥修復装置に設けられたヘッドガントリーユニットの往復動作を説明するための平面図である。 （ａ）（ｂ）は、上記ヘッドガントリーユニットの対象基板に対する動作を説明するための平面図である。 （ａ）〜（ｄ）は、上記液滴吐出ユニットの欠損部に対する吐出動作を説明するための模式的平面図である。 （ａ）〜（ｃ）は、３種類の液滴材料を滴下する液滴吐出ユニットの移動方向が、画素長手方向と直交する場合の液滴吐出ユニットの吐出動作を示す模式平面図である。 （ａ）〜（ｃ）は、３種類の液滴材料を滴下する液滴吐出ユニットの移動方向が、画素長手方向と平行な場合の液滴吐出ユニットの吐出動作を示す模式平面図である。 （ａ）は、実施の形態２に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットの構成を示す平面図であり、（ｂ）は、その動作を説明するための平面図である。 実施の形態２に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットの他の構成を示す平面図である。 （ａ）（ｂ）は、実施の形態２に係る欠陥修復装置のヘッドガントリーユニットのさらに他の構成を示す平面図である。

符号の説明

１ 欠陥修復装置（液滴吐出描画装置）
２ 対象基板（被記録物）
３、３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ 液滴吐出ユニット
３ａ〜３ｉ 液滴吐出ユニット
４ ヘッドガントリーユニット（保持手段）
５ ガントリースライド機構（移動手段）
６ 移動方向反転手段（移動方向反転部）
７ 反転回数決定手段（反転回数決定部）
８ 個別算出手段（個別算出部）
９ 最終決定手段（最終決定部）
１０ 分担決定手段（分担決定部）
１１ 欠損部（吐出標的）
１２ ノズル孔
１３ 不吐出検出器
１４ 判別部
１５ 吐出ノズル決定部
１６基体
１６ａ メインステージ
１６ｂ、１６ｃ サブステージ
１７ 基板載置台
１８ メンテナンス機構
１９ キャップ部材
２０ａ、２０ｂ、２０ｃ ガントリーガイド
２１ リニアスケール
２２ 浮上スライド機構
２３ ガントリー
２４ 吐出ユニットスライド機構
２５ アライメントカメラ
２６ カメラスライド機構
２７ 観察カメラユニット
２８ 筐体
２９ 吐出素子
３０ 駆動制御回路
３１ ケーブル
３２ａ インクタンク
３２ｂ インク配管
３３ ノズルプレート
３４ リニア駆動機構
３５ ＬＭガイド
３６ ガントリーリニアスケール
３７ リニア駆動機構
３８ カメラスライド機構
３９ ＬＭガイド
４０ カメラ用リニアスケール
４１ レーザ発光素子
４２ レーザ受光素子
４３ アライメントマーク
４３ａ 外側円環部
４３ｂ 内側円部
４４ ダミー基板
４５ 液滴着弾位置
４６ 領域
４７Ｒ、４７Ｇ、４７Ｂ 画素

Claims (6)

1. 被記録物に液滴を吐出する液滴吐出ユニットと、
   前記液滴吐出ユニットを保持する保持手段と、
   前記保持手段と前記被記録物とを相対的に移動させる移動手段と、
   前記移動手段の移動方向を反転させる移動方向反転手段と、
   吐出標的の位置データに基づいて、前記移動方向反転手段の反転回数を決定する反転回数決定手段とを備え、
   前記液滴吐出ユニットは、主走査方向に交差する副走査方向に沿って前記保持手段に複数個設けられ、
   各液滴吐出ユニットに複数個の吐出標的を分担させる分担決定手段をさらに含み、
   前記反転回数決定手段は、前記吐出標的の位置データに基づいて、前記反転回数を各液滴吐出ユニット毎に個別に算出する個別算出手段と、
   前記個別に算出した反転回数のうちの最大値以上の値を前記反転回数として決定する最終決定手段とを含むことを特徴とする液滴吐出描画装置。
2. 前記液滴吐出ユニットは、前記被記録物上に点在する複数個の吐出標的に液滴を吐出し、
   前記移動手段は、前記保持手段を前記被記録物に対して前記主走査方向に沿って等速度で相対的に移動させ、
   前記液滴吐出ユニットは、前記主走査方向に交差する前記副走査方向に沿って移動可能であり、
   前記液滴吐出ユニットは、前記液滴吐出ユニットが前記複数個の吐出標的のうちの第１吐出標的から第２吐出標的へ移動する間に、前記保持手段が前記主走査方向に移動する主走査方向移動時間と、前記液滴吐出ユニットが前記副走査方向に移動する副走査方向移動時間とに基づいて定められた順番に従って、前記吐出標的に液滴を吐出する請求項１記載の液滴吐出描画装置。
3. 反転毎に定義される前記移動手段の移動量が一部異なる請求項１ないし請求項２のいずれかに記載の液滴吐出描画装置。
4. 前記移動手段の移動量が前記反転の度に小さくなる請求項３記載の液滴吐出描画装置。
5. 個別に移動可能なＮ個（Ｎは整数）の液滴吐出ユニットと、
   前記Ｎ個の液滴吐出ユニットと基板とを相対的に移動させる移動手段と、
   前記移動手段の移動方向を反転させる移動方向反転手段と、
   吐出標的の位置データに基づいて、前記移動方向反転手段の反転回数を決定する反転回数決定手段とを備え、
   前記液滴吐出ユニットは、主走査方向に交差する副走査方向に沿って保持手段に設けられ、
   各液滴吐出ユニットに複数個の吐出標的を分担させる分担決定手段をさらに含み、
   前記反転回数決定手段は、前記吐出標的の位置データに基づいて、前記反転回数を各液滴吐出ユニット毎に個別に算出する個別算出手段と、
   前記個別に算出した反転回数のうちの最大値以上の値を前記反転回数として決定する最終決定手段とを含み、
   前記基板上の（Ｎ＋１）個以上の修復箇所へ前記Ｎ個の液滴吐出ユニットにより液滴を吐出するために、前記移動手段による移動方向を反転させることを特徴とする液滴吐出描画装置。
6. 媒体上の複数個の吐出標的に液滴を吐出する液滴吐出ユニットと、
   前記液滴吐出ユニットを保持する保持手段と、
   前記保持手段を前記媒体に対して主走査方向に沿って相対的に移動させる移動手段と、
   前記移動手段の移動方向を反転させる移動方向反転手段と、
   吐出標的の位置データに基づいて、前記移動方向反転手段の反転回数を決定する反転回数決定手段とを備え、
   前記液滴吐出ユニットは、前記主走査方向に交差する副走査方向に沿って前記保持手段に設けられ、
   各液滴吐出ユニットに複数個の吐出標的を分担させる分担決定手段をさらに含み、
   前記反転回数決定手段は、前記吐出標的の位置データに基づいて、前記反転回数を各液滴吐出ユニット毎に個別に算出する個別算出手段と、
   前記個別に算出した反転回数のうちの最大値以上の値を前記反転回数として決定する最終決定手段とを含み、
   前記液滴吐出ユニットは、前記副走査方向に沿って移動可能であり、
   前記液滴吐出ユニットは、前記副走査方向に沿った移動を停止した状態で前記吐出標的に液滴を吐出することを特徴とする液滴吐出描画装置。

Images