JP3959759B2 - ピリダジン−3−オン誘導体、その用途およびその製造中間体 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明はピリダジン−3−オン誘導体、その用途およびその製造中間体に関する。
【発明が解決しようとする課題】
本発明は優れた除草活性を有する化合物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
本発明者等は優れた除草活性を有する化合物を見い出すべく鋭意検討した結果、下記一般式 化5で示されるピリダジン−3−オン誘導体が優れた除草活性を有することを見い出し、本発明を完成した。
即ち、本発明は、一般式 化5
【化5】
〔式中、R1 はC1−C3ハロアルキル基を表わし、R2 およびR3 は同一または相異なり、水素原子、C1−C3アルキル基、C1−C3ハロアルキル基またはC1−C3アルコキシC1−C3アルキル基を表わし、
Qは一般式 化6
【化6】
{式中、Xは水素原子又はハロゲン原子を表し、
Yはハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基またはトリフルオロメチル基を表し、
Z1 は酸素原子、硫黄原子またはNH基を表し、
Z2 は酸素原子または硫黄原子を表し、
nは0又は1を表し、
Bは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、クロロスルホニル基、−OR10基、−SR10基、−SO2 OR10基、−N(R11)R12基、−SO2 N(R11)R12基、−NR11(COR13)基、−NR11(SO2 R14)基、−N(SO2 R14)(SO2 R15)基、−N(SO2 R14)(COR13)基、−NHCOOR13基、−COOR10基、−CON(R11)R12基、−CSN(R11)R12基、−COR16基、−CR17=CR18COR16基、−CR17=CR18COOR13基、CR17=CR18CON(R11)R12基、−CH2 CHWCOOR13基、−CH2 CHWCON(R11)R12基、−CR17=NOR33基、−CR17=NN(R11)R12基、−CR17(Z2 R34)2 基、−OCO2 R19基または−OCOR18基を表し、
(ここで、Wは水素原子、塩素原子または臭素原子を表し、
R10は水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、ベンジル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアルケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロアルキニル基、シアノC1−C6アルキル基、C2−C8アルコキシアルキル基、C2−C8アルキルチオアルキル基、カルボキシC1−C6アルキル基、(C1−C8アルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基、(C1−C6ハロアルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基、{(C1−C4アルコキシ)C1−C4アルコキシ}カルボニルC1−C6アルキル基、(C3−C8シクロアルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基、(C1−C6アルキル)カルボニルC1−C6アルキル基、(C1−C6ハロアルキル)カルボニルC1−C6アルキル基、{(C1−C4アルコキシ)C1−C4アルキル}カルボニルC1−C6アルキル基、(C3−C8シクロアルキル)カルボニルC1−C6アルキル基、−CH2 CON(R11)R12基、−CH2 COON(R11)R12基、−CH(C1−C4アルキル)CON(R11)R12基、−CH(C1−C4アルキル)COON(R11)R12基、{(C1−C6アルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル}オキシカルボニルC1−C6アルキル基またはヒドロキシC1−C6アルキル基を表し、
R11とR12はそれぞれ独立して水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6アルキニル基、シアノC1−C6アルキル基、C2−C8アルコキシアルキル基、C2−C8アルキルチオアルキル基、カルボキシC1−C6アルキル基、(C1−C6アルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基、(C3−C8シクロアルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基または、{(C1−C4アルコキシ)C1−C4アルコキシ}カルボニルC1−C6アルキル基を表すか、あるいは、R11とR12とで、テトラメチレン、ペンタメチレンまたはエチレンオキシエチレンを表し、
R13は水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基またはC3−C6アルケニル基を表し、
R14とR15はそれぞれ独立してC1−C6アルキル基またはC1−C6ハロアルキル基を表わすか、あるいはメチル基もしくはニトロ基で置換されてもよいフェニル基を表し、
R16は水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C2−C6アルケニル基、C2−C6ハロアルケニル基、C2−C6アルキニル基、C2−C6ハロアルキニル基、C2−C8アルコキシアルキル基またはヒドロキシC1−C6アルキル基を表し、
R17およびR18はそれぞれ独立して、水素原子またはC1−C6アルキル基を表し、
R19はC1−C6アルキル基を表し、
R33は水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアルケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロアルキニル基、シアノC1−C6アルキル基、または、(C1−C6アルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基を表し、
R34はC1−C6アルキル基、あるいは、R342つが結合してエチレンまたはトリメチレンを表す。)
R4 は水素原子またはC1−C3アルキル基を表し、
R5 は水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、(C3−C8シクロアルキル)アルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアルケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロアルキニル基、シアノC1−C6アルキル基、C2−C8アルコキシアルキル基、C3−C8アルコキシアルコキシアルキル基、カルボキシC1−C6アルキル基、(C1−C6アルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基、{(C1−C4アルコキシ)C1−C4アルコキシ}カルボニルC1−C6アルキル基、(C3−C8シクロアルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基、−CH2 CON(R11)R12基、−CH2 COON(R11)R12基、−CH(C1−C4アルキル)CON(R11)R12基、−CH(C1−C4アルキル)COON(R11)R12基(ここで、R11およびR12は前記と同じ意味を表す。)、C2−C8アルキルチオアルキル基、またはヒドロキシC1−C6アルキル基を表し、
R6 はC1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、ホルミル基、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシC1−C6アルコキシC1−C6アルキル基、(C1−C6アルキル)カルボニルオキシC1−C6アルキル基、(C1−C6ハロアルキル)カルボニルオキシC1−C6アルキル基、(C1−C6アルコキシ)カルボニル基または(C1−C6アルキル)カルボニル基を表し、
R7 は水素原子またはC1−C6アルキル基を表し、
R8 はC1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C1−C6ヒドロキシアルキル基、C2−C8アルコキシアルキル基、C3−C10アルコキシアルコキシアルキル基、(C1−C5アルキル)カルボニルオキシC1−C6アルキル基、(C1−C6ハロアルキル)カルボニルオキシC1−C6アルキル基、カルボキシル基、カルボキシC1−C6アルキル基、(C1−C8アルコキシ)カルボニル基、(C1−C6ハロアルコキシ)カルボニル基、(C3−C10シクロアルコキシ)カルボニル基、(C3−C8アルケニルオキシ)カルボニル基、(C3−C8アルキニルオキシ)カルボニル基、アミノカルボニル基、(C1−C6アルキル)アミノカルボニル基、ジ(C1−C6アルキル)アミノカルボニル基、(C1−C6アルキル)アミノカルボニルオキシC1−C6アルキル基または、ジ(C1−C6アルキル)アミノカルボニルオキシC1−C6アルキル基を表す。}
で示されるQ−1、Q−2、Q−3、Q−4またはQ−5を表わす。〕
で示されるピリダジン−3−オン誘導体(以下、本発明化合物と記す。)およびそれを有効成分とする除草剤を提供する。
【0002】
本発明はさらに、本発明化合物のうち特に優れた除草効力を有するR1 がトリフルオロメチル基でありQが下記Q1 である化合物の製造中間体として有用な、一般式 化7
【化7】
〔式中、R3 は前記と同じ意味を表わし、Q1 は一般式 化8
【化8】
{式中、X、Y、Z1 、Z2 、n、R4 、R5 、R7 およびR8 は前記と同じ意味を表わし、
R9 は前記R6 のうちホルミル基以外を表わし、
B1 は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、OR27基、SR27基、SO2 OR27基、N(R11)R12基、SO2 N(R11)R12基、NR11(COR13)基、NR11(SO2 R14)基、N(SO2 R14)(SO2 R15)基、N(SO2 R14)(COR13)基、NHCOOR13基、COOR27基、CON(R11)R12基、CSN(R11)R12基、CR17=CR18COOR13基、CR17=CR18CON(R11)R12基、CH2 CHWCOOR13基、CH2 CHWCON(R11)R12基、CR17=NOR33基、CR17=NN(R11)R12基、CR17(Z2 R34)2 基、OCO2 R19基、またはOCOR19基を表わす。〕
(ここで、W、Z2 、R11、R12、R13、R14、R15、R17、R18、R19、R33およびR34は前記と同じ意味を表わし、R27は水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、ベンジル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアルケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロアルキニル基、シアノC1−C6アルキル基、C2−C8アルコキシアルキル基、C2−C8アルキルチオアルキル基、カルボキシC1−C6アルキル基、(C1−C8アルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基、(C1−C6ハロアルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基、{(C1−C4アルコキシ)C1−C4アルコキシ}カルボニルC1−C6アルキル基、(C3−C8シクロアルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基、CH2 CON(R11)R12基、CH2 COON(R11)R12基、CH(C1−C4アルキル)CON(R11)R12基、CH(C1−C4アルキル)COON(R11)R12基(ここで、R11およびR12は前記と同じ意味を表す。)、{(C1−C6アルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル}オキシカルボニルC1−C6アルキル基、またはヒドロキシC1−C6アルキル基を表わす。)}
で示されるQ1 −1、Q−2、Q1 −3、Q−4またはQ−5を表わす。〕
で示されるヒドラゾン類をも提供する。
【0003】
【発明の実施の形態】
本発明において、
R1 で示されるC1−C3ハロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基等があげられ、
R2 、R3 で示されるC1−C3アルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基等があげられ、C1−C3ハロアルキル基としては、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等が挙げられ、C1−C3アルコキシC1−C3アルキル基としてはメトキシメチル基等があげられ、
X,YおよびBで示されるハロゲン原子とは塩素原子、フッ素原子、臭素原子またはヨウ素原子を意味し、
R10で示される、
C1−C6アルキル基としてはメチル基、エチル基、イソプロピル基、プロピル基、イソブチル基、ブチル基、t−ブチル基(ここで、「t」は「tertiary」を表す:以下、同じ)、アミル基、イソアミル基、t−アミル基等が挙げられ、
C1−C6ハロアルキル基としては、2−クロロエチル基、3−クロロプロピル基、2,2,2−トリフルオロエチル基等が挙げられ、
C3−C8シクロアルキル基としてはシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、
C3−C6アルケニル基としてはアリル基、1−メチル−2−プロペニル基、3−ブテニル基、2−ブテニル基、3−メチル−2−ブテニル基、2−メチル−3−ブテニル基等が挙げられ、
C3−C6ハロアルケニル基としては、2−クロロ−2−プロペニル基、3,3−ジクロロ−2−プロペニル基等が挙げられ、
C3−C6アルキニル基としてはプロパルギル基、1−メチル−2−プロピニル基、2−ブチニル基、1,1−ジメチル−2−プロピニル基等があげられ、
C3−C6ハロアルキニル基としては4−ブロモ−2−ブチニル基等が挙げられ、
シアノC1−C6アルキル基としてはシアノメチル基等が挙げられ、
C2−C8アルコキシアルキル基としてはメトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基等が挙げられ、
C2−C8アルキルチオアルキル基としてはメチルチオメチル基等が挙げられ、
カルボキシC1−C6アルキル基としては、カルボキシメチル基、1−カルボキシエチル基、2−カルボキシエチル基等が挙げられ、
(C1−C8アルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基としては、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、イソブトキシカルボニルメチル基、t−ブトキシカルボニルメチル基、アミルオキシカルボニルメチル基、イソアミルオキシカルボニルメチル基、t−アミルオキシカルボニルメチル基、1−メトキシカルボニルエチル基、1−エトキシカルボニルエチル基、1−プロポキシカルボニルエチル基、1−イソプロポキシカルボニルエチル基、1−ブトキシカルボニルエチル基、1−イソブトキシカルボニルエチル基、1−t−ブトキシカルボニルエチル基、1−アミルオキシカルボニルエチル基、1−イソアミルオキシカルボニルエチル基、1−t−アミルオキシカルボニルエチル基、等が挙げられ、
(C1−C6ハロアルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基としては、2−クロロエトキシカルボニルメチル基等が挙げられ、
{(C1−C4アルコキシ)C1−C4アルコキシ}カルボニルC1−C6アルキル基としては、メトキシメトキシカルボニルメチル基、1−メトキシメトキシカルボニルエチル基等が挙げられ、
(C3−C8シクロアルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基としては、シクロブチルオキシカルボニルメチル基、シクロペンチルオキシカルボニルメチル基、シクロヘキシルオキシカルボニルメチル基、1−シクロブチルオキシカルボニルエチル基、1−シクロペンチルオキシカルボニルエチル基、1−シクロヘキシルオキシカルボニルエチル基、等が挙げられ、
(C1−C6アルキル)カルボニルC1−C6アルキル基としては、メチルカルボニルメチル基等が挙げられ、
(C1−C6ハロアルキル)カルボニルC1−C6アルキル基としては、クロロメチルカルボニルメチル基等が挙げられ、
{(C1−C4アルコキシ)C1−C4アルキル}カルボニルC1−C6アルキル基としては、2−メトキシエチルカルボニルメチル基等が挙げられ、
(C3−C8シクロアルキル)カルボニルC1−C6アルキル基としては、シクロペンチルカルボニルメチル基等が挙げられ、
{(C1−C6アルコキシ)カルボニリルC1−C6アルキル}オキシカルボニルC1−C6アルキル基としては、(エトキシカルボニル)メトキシカルボニルメチル基等が挙げられ、
【0004】
R11とR12で表される、
C1−C6アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等があげられ、
C1−C6ハロアルキル基としてはクロロエチル基、ブロモエチル基等があげられ、
C3−C6アルケニル基としてはアリル基、1−メチル−2−プロペニル基、3−ブテニル基等があげられ、
C3−C6アルキニル基としては、プロパルギル基、1−メチル−2−プロピニル基等があげられ、
シアノC1−C6アルキル基としては、シアノメチル基、等があげられ、
C2−C8アルコキシアルキル基としてはメトキシメチル基、エトキシエチル基、等があげられ、
C2−C8アルキルチオアルキル基としてはメチルチオメチル基、メチルチオエチル基等があげられ、
カルボキシC1−C6アルキル基としてはカルボキシメチル基、1−カルボキシエチル基等があげられ、
(C1−C6アルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基としては、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、イソブトキシカルボニルメチル基、t−ブトキシカルボニルメチル基、アミルオキシカルボニルメチル基、イソアミルオキシカルボニルメチル基、t−アミルオキシカルボニルメチル基、1−メトキシカルボニルエチル基、1−エトキシカルボニルエチル基、1−プロポキシカルボニルエチル基、1−イソプロポキシカルボニルエチル基、1−ブトキシカルボニルエチル基、1−イソブトキシカルボニルエチル基、1−t−ブトキシカルボニルエチル基、1−アミルオキシカルボニルエチル基、1−イソアミルオキシカルボニルエチル基、1−t−アミルオキシカルボニルエチル基、等があげられ、
(C3−C8シクロアルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基としては、シクロペンチルオキシカルボニルメチル基等があげられ、
{(C1−C4アルコキシ)C1−C4アルコキシ}カルボニルC1−C6アルキル基としては、メトキシメトキシカルボニルメチル基、1−メトキシメトキシカルボニルエチル等があげられ、
【0005】
R13で示される、
C1−C6アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソアミル基等があげられ、
C1−C6ハロアルキル基としては2,2,2−トリフルオロエチル基等があげられ、
C3−C8シクロアルキル基としてはシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等があげられ、
C3−C6アルケニル基としてはアリル基等があげられ、
R14,R15で示される、
C1−C6アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基等があげられ、
C1−C6ハロアルキル基としてはトリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2−クロロエチル基、クロロメチル基、トリクロロメチル基等があげられ、
メチル基もしくはニトロ基で置換されてもよいフェニル基としてはフェニル基、p−メチルフェニル基、2−ニトロフェニル基、3−ニトロフェニル基、4−ニトロフェニル基等があげられ、
R16で示される、
C1−C6アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、イソプロピル基、イソブチル基、t−ブチル基、イソアミル基、t−アミル基があげられ、
C1−C6ハロアルキル基としてはクロロメチル基、ジクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、1−クロロエチル基、1,1−ジクロロエチル基、1−ブロモエチル基、1,1−ジクロロエチル基等があげられ、
C2−C6アルケニル基としてはビニル基、アリル基、1−プロペニル基、1−メチル−2−プロペニル基等があげられ、
C2−C6ハロアルケニル基としては、3,3−ジクロロ−2−プロペニル基、3,3−ジブロモ−2−プロペニル基等があげられ、
C2−C6アルキニル基としてはエチニル基、2−ブチニル基等があげられ、
C2−C6ハロアルキニル基としては3−ブロモ−2−プロピニル基等があげられ、
C2−C8アルコキシアルキル基としてはメトキシメチル基、エトキシメチル基、イソプロポキシメチル基等があげられ、
ヒドロキシC1−C6アルキル基としてはヒドロキシメチル基等があげられ、
R17,R18で示されるC1−C6アルキル基としてはメチル基等があげられ、
R19で示されるC1−C6アルキル基としてはメチル基、エチル基等が挙げられ、
R33で示される、
C1−C6アルキル基としてはメチル基、エチル基等が挙げられ、
C1−C6ハロアルキル基としては2−クロロエチル基等が挙げられ、
C3−C8シクロアルキル基としてはシクロペンチル基等が挙げられ、
C3−C6アルケニル基としてはアリル基等が挙げられ、
C3−C6ハロアルケニル基としては2−クロロ−2−プロペニル基等が挙げられ、
C3−C6アルキニル基としてはプロパルギル基等が挙げられ、
C3−C6ハロアルキニル基としては4−クロロ−2−ブチニル基等が挙げられ、
シアノC1−C6アルキル基としては2−シアノエチル基、シアノメチル基等が挙げられ、
(C1−C6アルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基としてはエトキシカルボニルメチル基等が挙げられ、
R34で示されるC1−C6アルキル基としてはメチル基、エチル基等が挙げられ、
R4 で示されるC1−C3アルキル基としてはメチル基等が挙げられ、
【0006】
R5 で示される、
C1−C6アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソアミル基等があげられ、
C1−C6ハロアルキル基としては2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、3−クロロブチル基、3−ブロモブチル基、ジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基等があげられ、
C3−C8シクロアルキルアルキル基としてはシクロペンチルメチル基等があげられ、
C3−C6アルケニル基としてはアリル基、1−メチル−2−プロペニル基、3−ブテニル基、2−ブテニル基、3−メチル−2−ブテニル基、2−メチル−3−ブテニル基等があげられ、
C3−C6ハロアルケニル基としては2−クロロ−2−プロペニル基、3,3−ジクロロ−2−プロペニル基があげられ、
C3−C6アルキニル基としてはプロパルギル基、1−メチル−2−プロピニル基、2−ブチニル基、1,1−ジメチル−2−プロピニル基等があげられ、
C3−C6ハロアルキニル基としては、3−ヨード−2−プロピニル基、3−ブロモ−2−プロピニル基等があげられ、
シアノC1−C6アルキル基としてはシアノメチル基等があげられ、
C2−C8アルコキシアルキル基としてはメトキシメチル基、エトキシメチル基、1−メトキシエチル基等があげられ、
C3−C8アルコキシアルコキシアルキル基としてはメトキシエトキシメチル基等があげられ、
カルボキシC1−C6アルキル基としては、カルボキシメチル基、1−カルボキシエチル基、2−カルボキシエチル基等があげられ、
(C1−C6アルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基としては、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、イソブトキシカルボニルメチル基、t−ブトキシカルボニルメチル基、アミルオキシカルボニルメチル基、イソアミルオキシカルボニルメチル基、t−アミルオキシカルボニルメチル基、1−メトキシカルボニルエチル基、1−エトキシカルボニルエチル基、1−プロポキシカルボニルエチル基、1−イソプロポキシカルボニルエチル基、1−ブトキシカルボニルエチル基、1−イソブトキシカルボニルエチル基、1−t−ブトキシカルボニルエチル基、1−アミルオキシカルボニルエチル基、1−イソアミルオキシカルボニルエチル基、1−t−アミルオキシカルボニルエチル基、等があげられ、
{(C1−C4アルコキシ)C1−C4アルコキシ}カルボニルC1−C6アルキル基としては、メトキシメトキシカルボニルメチル基、1−メトキシメトキシカルボニルエチル基等があげられ、
(C3−C8シクロアルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基としては、シクロブチルオキシカルボニルメチル基、シクロペンチルオキシカルボニルメチル基、シクロヘキシルオキシカルボニルメチル基、1−シクロブチルオキシカルボニルエチル基、1−シクロペンチルオキシカルボニルエチル基、1−シクロヘキシルオキシカルボニルエチル基、等があげられ、
C2−C8アルキルチオアルキル基としてはメチルチオメチル基等があげられ、
ヒドロキシC1−C6アルキル基としてはヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基等があげられ、
【0007】
R6 で示される、
C1−C6アルキル基としてはメチル基、エチル基等があげられ、
C1−C6ハロアルキル基としてはブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、1−ブロモエチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基等があげられ、
ヒドロキシC1−C6アルキル基としてはヒドロキシメチル基等があげられ、
C1−C6アルコキシC1−C6アルキル基としてはメトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基等があげられ、
C1−C6アルコキシC1−C6アルコキシC1−C6アルキル基としてはメトキシメトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、エトキシメトキシメチル基等があげられ、
(C1−C6アルキル)カルボニルオキシC1−C6アルキル基としては、アセチルオキシメチル基、エチルカルボニルオキシメチル基、イソプロピルカルボニルオキシメチル基等があげられ、
(C1−C6ハロアルキル)カルボニルオキシC1−C6アルキル基としてはトリフルオロアセチルオキシメチル基、クロロアセチルオキシメチル基、トリクロロアセチルオキシメチル基等があげられ、
(C1−C6アルコキシ)カルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、アミルオキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、イソアミルオキシカルボニル基等があげられ、
(C1−C6アルキル)カルボニル基としては、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基等があげられ、
R7 で示されるC1−C6アルキル基としてはメチル基等があげられ、
R8 で示される、
C1−C6アルキル基としてはメチル基、エチル基等があげられ、
C1−C6ハロアルキル基としてはクロロメチル基、ブロモメチル基、フルオロメチル基等があげられ、
C1−C6ヒドロキシアルキル基としてはヒドロキシメチル基等があげられ、
C2−C8アルコキシアルキル基としてはメトキシメチル基、エトキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、イソブトキシメチル基等があげられ、
C3−C10アルコキシアルコキシアルキル基としてはメトキシメトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、エトキシメトキシメチル基等があげられ、
(C1−C5アルキル)カルボニルオキシC1−C6アルキル基としてはアセチルオキシメチル基、エチルカルボニルオキシメチル基、イソプロピルカルボニルオキシメチル基等があげられ、
(C1−C6ハロアルキル)カルボニルC1−C6アルキル基としては2−クロロエチルカルボニルオキシメチル基等が挙げられ、
カルボキシC1−C6アルキル基としてはカルボキシメチル基等が挙げられ、
(C1−C8アルコキシ)カルボニル基としてメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、アミルオキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、イソアミルオキシカルボニル基、等があげられ、
(C1−C6ハロアルコキシ)カルボニル基としては2−クロロエトキシカルボニル基、2−ブロモエトキシカルボニル基、3−クロロブトキシカルボニル基、1−クロロ−2−プロポキシカルボニル基、1,3−ジクロロ−2−プロポキシカルボニル基、2,2−ジクロロエトキシカルボニル基、2,2,2−トリフルオロエトキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基、2,2,2−トリブロモエトキシカルボニル基等があげられ、
(C3−C10シクロアルコキシ)カルボニル基としては、シクロブチルオキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等があげられ、
(C3−C8アルケニルオキシ)カルボニル基としては、アリルオキシカルボニル基、3−ブテニルオキシカルボニル基、等があげられ、
(C3−C8アルキニルオキシ)カルボニル基としては、プロパルギルオキシカルボニル基、3−ブチニルオキシカルボニル基、1−メチル−2−プロピニルオキシカルボニル基等があげられ、
(C1−C6アルキル)アミノカルボニル基としては、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基等があげられ、
ジ(C1−C6アルキル)アミノカルボニル基としてはジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジイソプロピルアミノカルボニル基等があげられ、
(C1−C6アルキル)アミノカルボニルオキシC1−C6アルキル基としては、メチルアミノカルボニルオキシメチル基、エチルアミノカルボニルオキシメチル基、プロピルアミノカルボニルオキシメチル基等があげられ、
ジ(C1−C6アルキル)アミノカルボニルオキシC1−C6アルキル基としてはジメチルアミノカルボニルオキシメチル基、ジエチルアミノカルボニルオキシメチル基等があげられる。
【0008】
本発明化合物のうち、除草活性の点から好ましい置換基として、R1 についてフッ素原子で置換されたメチル基(例えばトリフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基)、フッ素原子で置換されたエチル基(例えばペンタフルオロエチル基)があげられ、中でも特にトリフルオロメチル基があげられ、R2 については、メチル基、エチル基等のC1−C3アルキル基、水素原子、中でも特にメチル基、水素原子があげられ、R3 についてはメチル基、エチル基等のC1−C3アルキル基、水素原子、中でも特にメチル基、水素原子があげられ、
QについてはQ−1、Q−2、Q−3、Q−4が挙げられる。
本発明化合物の中で除草活性の点から好ましい化合物としては上記の好ましい置換基を組み合わせた化合物が挙げられる。
QがQ−1である場合は、Xが水素原子またはフッ素原子であり、Yが塩素原子である化合物がより好ましく、その中でもBがOR10基、SR10基、N(R11)R12基、NR11(SO2 R14)基、COOR10基である化合物がより好ましい。その中でもR10がC1−C6アルキル基、C3−C6アルキニル基、(C1−C8アルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基、(C3−C8シクロアルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基、R11が水素原子、R12が(C1−C6アルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基、R14がC1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基である化合物がより好ましい。
QがQ−2である場合は、Xがフッ素原子または水素原子であり、Z1 が酸素原子であり、R4 が水素原子であり、nが1である化合物がより好ましく、その中でもR5 がC3−C6アルキニル基である化合物がより好ましい。
本発明化合物において好ましい化合物の例を以下に具体的に挙げる。尚、化学名の後の括弧内の番号は後記表1〜5に記載の化合物番号を示す。
7−フルオロ−6−(5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)−4−プロパルギル−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン(2−631)
7−フルオロ−6−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)−4−プロパルギル−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン(2−251)
6−(5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)−4−プロパルギル−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン(2−583)
6−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)−4−プロパルギル−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン(2−203)
2−(4−クロロ−2−フルオロ−5−イソプロポキシフェニル)−4−メチル−5−トリフルオロメチルピリダジン−3−オン(1−476)
2−(4−クロロ−2−フルオロ−5−メトキシフェニル)−4−メチル−5−トリフルオロメチルピリダジン−3−オン(1−474)
2−(4−クロロ−2−フルオロ−5−エトキシフェニル)−4−メチル−5−トリフルオロメチルピリダジン−3−オン(1−475)
2−(4−クロロ−2−フルオロ−5−プロパルギルオキシフェニル)−4−メチル−5−トリフルオロメチルピリダジン−3−オン(1−486)
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ酢酸メチル(1−495)
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ酢酸エチル(1−496)
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ酢酸プロピル(1−497)
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ酢酸イソプロピル(1−500)
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ酢酸ブチル(1−498)
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ酢酸ペンチル(1−499)
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ酢酸シクロペンチル(1−501)
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ}プロピオン酸エチル(1−504)
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ}プロピオン酸メチル(1−503)
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニルチオ酢酸エチル(1−577)
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニルチオ酢酸メチル(1−576)
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニルチオ}プロピオン酸エチル(1−585)
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニルチオ}プロピオン酸メチル(1−584)
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ}プロピオン酸メチル(1−1140)
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ}プロピオン酸エチル(1−1141)
2−クロロ−4−フルオロ−5−(5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニルチオ酢酸エチル(1−1214)
2−クロロ−4−フルオロ−5−(5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニルチオ酢酸メチル(1−1213)
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニルチオ}プロピオン酸エチル(1−1222)
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニルチオ}プロピオン酸メチル(1−1221)
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニルチオ}プロピオン酸イソプロピル(1−1226)
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニルアミノ}プロピオン酸エチル(1−420)
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニルアミノ}プロピオン酸エチル(1−1057)
N−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニル}メタンスルフォンアミド(1−367)
N−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニル}クロロメタンスルフォンアミド(1−369)
N−{2−クロロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニル}メタンスルフォンアミド(1−398)
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)安息香酸メチル(1−641)
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)安息香酸エチル(1−642)
2−クロロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)安息香酸エチル(1−621)
2−クロロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)安息香酸イソプロピル(1−625)
2−(4−クロロ−2−フルオロ−−5−プロパルギルオキシフェニル)−6−メチル−5−トリフルオロメチルピリダジン−3−オン(1−1441)
本発明化合物には不斉炭素に由来する光学異性体が存在する場合があるが、これらの光学異性体もすべて本発明に含まれることはもちろんである。
【0009】
本発明化合物は、例えば、(製造法1)〜(製造法17)により製造することができる。
(製造法1)
一般式 〔a〕
〔式中、R1 、R3 およびQ1 は前記と同じ意味を表わす。〕
で示されるヒドラゾン誘導体(一般式 化7のヒドラゾン類を含む)と、一般式〔b〕
〔式中、R2 およびR19は前記と同じ意味を表わし、Arは置換されてもよいフェニル基(例えば、フェニル基等)を表す。〕
で示されるホスホラン化合物とを反応させることにより本発明化合物のうちQがQ1 である化合物を製造する方法。
該反応は、通常、溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常−20℃〜150℃であり好ましくは0℃〜100℃である。反応時間の範囲は通常、瞬時〜72時間である。反応に供される試剤の量は、一般式〔a〕で示されるヒドラゾン誘導体1モルに対して一般式〔b〕で示されるホスホラン化合物は1モルの割合が理想的であるが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン(以下、THFと記す。)、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド等の酸アミド類、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、N−メチルモルホリン等の第三級アミン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロパノール等のアルコール類、水等、あるいはそれらの混合物があげられる。
反応終了後、反応溶媒を留去したのちそのままクロマトグラフィーに付するか、または反応液を有機溶媒抽出および濃縮する等の通常の後処理を行い、必要ならばクロマトグラフィー、再結晶等の操作によってさらに精製することによって、目的の本発明化合物を単離することができる。
該反応は、一般式〔c〕
〔式中、R1 、R2 、R3 、R19およびQ1 は前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物を経由している。
本製造法は、一般式〔c〕の化合物を一旦単離して、その後化合物〔c〕を分子内で環化させることにより行なうこともできる。該環化反応は、通常、溶媒中で行うことができる。反応温度の範囲は通常、0℃〜150℃であり、好ましくは50℃〜150℃である。
反応時間の範囲は通常、瞬時〜72時間である。
用いられる溶媒としては、
ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、THF、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン等のケトン類、
蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、
ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、
アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、
ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド等の酸アミド類、
ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、N−メチルモルホリン等の第三級アミン、
ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、
蟻酸、酢酸、プロピオン酸等の脂肪酸類、
メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロパノール等のアルコール類、水等、
あるいはそれらの混合物があげられる。
また、硫酸等の酸やナトリウム メチラート等の塩基等を反応の触媒として使用することもできる。
【0010】
(製造法2)
下記スキーム化9にしたがった製造法。
【化9】
〔式中、R51は水素原子以外のR5 を表し、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 およびXは前記と同じ意味を表し、R22はC1−C6アルキル基を表し、
Dは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基またはp−トルエンスルホニルオキシ基を表す。〕
各工程の反応条件は、例えば、特開平1−301679号公報に記載されているか、または、例えば以下のようである。
化合物〔I〕から化合物〔 II 〕を製造する方法
化合物〔II〕は化合物〔I〕をニトロ化剤と溶媒中で反応させることにより製造することができる。
ニトロ化剤:硝酸等
ニトロ化剤の量:化合物〔I〕1モルに対して1〜10モルの割合
溶 媒:硫酸等
温 度:−10℃〜室温
時 間:瞬時〜24時間
化合物〔 II 〕から化合物〔 III 〕を製造する方法
化合物〔III 〕は化合物〔II〕と一般式HOCH(R4 )COOR22(式中、R4 およびR22は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合物とをフッ化カリウムの存在下溶媒中で反応させることにより製造することができる。
化合物HOCH(R4 )COOR22の量:化合物〔II〕1モルに対して1〜50モルの割合
フッ化カリウムの量:化合物〔II〕1モルに対して1〜50モルの割合
溶 媒:1,4−ジオキサン等
温 度:室温〜加熱還流
時 間:瞬時〜96時間
化合物〔 III 〕から化合物〔 IV 〕を製造する方法
化合物〔IV〕は化合物〔III 〕を鉄粉等を用いて酸の存在下溶媒中還元することにより製造することができる。
鉄粉等の量:化合物〔III 〕1モルに対して3モル〜過剰量の割合
酸 :酢酸等
酸の量:1〜10モルの割合
溶 媒:水、酢酸エチル等
温 度:室温〜加熱還流
時 間:瞬時〜24時間
化合物〔 IV 〕から化合物〔V〕を製造する方法
化合物〔V〕は化合物〔IV〕と一般式R51−D(式中、R51およびDは前記と同じ意味を表わす。)で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
反応は、通常、塩基の存在下、溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常−20℃〜150℃、好ましくは0℃〜50℃であり、反応時間の範囲は通常、瞬時〜48時間である。
反応に用いられる反応剤の量は化合物〔IV〕1モルに対して化合物R51−Dは通常1〜3モルであり、塩基は通常1〜2モルである。
反応に用いられる塩基としては、たとえば、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン等の有機塩基が挙げられる。
反応に用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、THF、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド等の酸アミド類、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N,N−ジメチルアミン、N,N−ジエチルアニリン、N−メチルモルホリン等の第三級アミンあるいはそれらの混合物が挙げられる。
反応終了後、必要に応じて反応液を水にあけ、有機溶媒抽出、濃縮等の通常の後処理を行い、さらに必要に応じてカラムクロマトグラフィーもしくは再結晶等の操作を行うことにより本発明化合物〔V〕を単離することができる。
スキーム化9の化合物〔III〕は、下記スキーム化10にしたがって製造することもできる。
【化10】
〔式中、R1 、R2 、R3 、R4 、XおよびR22は前記と同じ意味を表す。〕
各工程の反応条件は例えば以下のようである。
化合物〔 VI 〕から化合物〔 VII 〕を製造する方法
化合物〔VII 〕は化合物〔VI〕と一般式BrCH(R4 )COOR22(式中、R4 およびR22は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合物とを塩基の存在下溶媒中で反応させることにより製造することができる。
化合物BrCH(R4 )COOR22の量:化合物〔VI〕1モルに対して1〜2モルの割合
塩 基:水素化ナトリウム、炭酸カリウム等
塩基の量:化合物〔VI〕1モルに対して1〜2モルの割合
溶 媒:1,4−ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド等
温 度:0℃〜100℃
時 間:瞬時〜24時間
化合物〔 VII 〕から化合物〔 III 〕を製造する方法
化合物〔III 〕は化合物〔VII 〕をニトロ化剤と溶媒中で反応させることにより製造することができる。
ニトロ化剤:硝酸等
ニトロ化剤の量:化合物〔VII 〕1モルに対して1〜10モルの割合
溶 媒:硫酸、酢酸等
温 度:−10℃〜室温
時 間:瞬時〜24時間
化合物〔 VI 〕から化合物〔 VIII 〕を製造する方法
化合物〔VIII〕は化合物〔VI〕をニトロ化剤と溶媒中で反応させることにより製造することができる。
ニトロ化剤:硝酸等
ニトロ化剤の量:化合物〔VI〕1モルに対して1〜10モルの割合
溶 媒:硝酸、酢酸等
温 度:−10℃〜室温
時 間:瞬時〜24時間
化合物〔 VIII 〕から化合物〔 III 〕を製造する方法
化合物〔III 〕は化合物〔VIII〕と化合物BrCH(R4 )COOR22とを塩基の存在下溶媒中で反応させることにより製造することができる。
化合物BrCH(R4 )COOR22量:化合物〔VIII〕1モルに対して1〜2モルの割合
塩 基:水素化ナトリウム、炭酸カリウム等
塩基の量:化合物〔VIII〕1モルに対して1〜2モルの割合
溶 媒:1,4−ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド等
温 度:0℃〜100℃
時 間:瞬時〜24時間
【0011】
(製造法3)
下記スキーム化11にしたがった製造法。
【化11】
〔式中、X、R1 、R2 、R3 、R51およびDは前記と同じ意味を表す。〕
各工程の反応条件は、例えば、特開昭62−252787号公報に記載されているか、または、例えば以下のようである。
化合物〔 IX 〕から化合物〔X〕を製造する方法
化合物〔X〕は化合物〔IX〕を鉄粉等の存在下、酸を用いて溶媒中で反応させることにより製造することができる。
鉄粉等の量:化合物〔IX〕1モルに対して3モル〜過剰量の割合
酸 :酢酸等
酸の量:化合物〔IX〕1モルに対して1〜10モルの割合
溶 媒:水、酢酸エチル等
温 度:室温〜加熱還流
時 間:瞬時〜24時間
化合物〔X〕から化合物〔 XI 〕を製造する方法
化合物〔XI〕は化合物〔X〕とチオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム等と溶媒中で反応させた後、臭素または塩素と溶媒中で反応させることにより製造することができる。
チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム等の量:化合物〔X〕1モルに対して1〜10モルの割合
臭素または塩素の量:化合物〔X〕1モルに対して1〜10モルの割合
溶 媒:塩酸水、酢酸水、硫酸水等
温 度:0〜50℃
時 間:瞬時〜150時間
化合物〔 XI 〕から化合物〔 XII 〕を製造する方法
化合物〔XII 〕は、1)化合物〔XI〕と亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム等と溶媒中で反応させた後、2)酸性溶液中で加熱することにより製造することができる。
<反応1)> 亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム等の量:化合物〔XI〕1モルに対して1〜2モルの割合
溶 媒:塩酸水または硫酸水
温 度:−10℃〜10℃
時 間:瞬時〜5時間
<反応2)> 酸性溶液:塩酸水、硫酸水等
温 度:70℃〜加熱還流
時 間:瞬時〜24時間
化合物〔 XII 〕から化合物〔 XIII 〕を製造する方法
化合物〔XIII〕は化合物〔XII 〕と化合物R51−Dとを塩基の存在下溶媒中で反応させることにより製造することができる。
化合物R51−Dの量:化合物〔XII 〕1モルに対して1〜3モルの割合
塩 基:水素化ナトリウム、炭酸カリウム等
塩基の量:化合物〔XII 〕1モルに対して1〜2モルの割合
溶 媒:1,4−ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド等
温 度:0〜100℃
時 間:瞬時〜48時間
【0012】
(製造法4)下記スキーム化12にしたがった製造法。
【化12】
〔式中、X、R1 、R2 、R3 およびR5 は前記と同じ意味を表す。〕
各工程の反応条件は、例えば、特開昭61−165384号公報に記載されているか、または、例えば以下のようである。
化合物〔 XIV 〕から化合物〔 XV 〕を製造する方法
化合物〔XV〕は化合物〔XIV 〕を鉄粉等を用いて酸の存在下溶媒中で還元することにより製造することができる。
鉄粉等の量:化合物〔XIV 〕1モルに対して3モル〜過剰量の割合
酸 :酢酸等
酸の量:化合物〔XIV 〕1モルに対して1〜10モルの割合
溶 媒:水、酢酸エチル等
温 度:室温〜加熱還流
時 間:瞬時〜24時間
化合物〔 XV 〕から化合物〔 XVI 〕を製造する方法
化合物〔XVI 〕は、1)化合物〔XV〕と亜硝酸塩とを溶媒中反応させてジアゾニウム塩にした後、2)昇温して該ジアゾニウム塩を溶媒中で還化することにより製造することができる。
<反応1)> 亜硝酸塩:亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム等
亜硝酸塩の量:化合物〔XV〕1モルに対して1〜2モルの割合
溶 媒:塩酸水、硫酸水等
温 度:−10〜10℃
時 間:瞬時〜5時間
<反応2)> 溶媒:塩酸水、硫酸水等
温 度:室温〜80℃
時 間:瞬時〜24時間
【0013】
(製造法5)
下記スキーム化13にしたがった製造法。
【化13】
〔式中、Y1 はニトロ基以外のYを表し、X、Y、R1 、R2 、R3 、Dは前記と同じ意味を表し、R101 はR10のうち水素原子以外の基を表し、R23及びR24は同一または相異なり前記の、水素原子以外のR11、水素原子以外のR12、COR13、SO2 R14、SO2 R15またはCOOR10のうちのいずれかの基を表す。また、R23−D又は(R23)2 O、R24−D又は(R24)2 O、R101 −D又は(R101 )2 Oとあるは必要に応じて化学的に可能である一方を用いて反応することができるという意味である。〕
各工程の反応条件は、例えば、特開昭63−41466 号公報や国際特許出願公開明細書WO92/11244号に記載されているか、または例えば下記のようである。
化合物〔 XVII 〕から化合物〔 XVIII 〕を製造する方法
化合物〔XVIII 〕は化合物〔XVII〕に溶媒中硝酸を加えることにより製造することができる。(Organic Synthesis Collective Vol.1, p372 参照)
反応温度の範囲は、通常0℃〜100℃、反応時間の範囲は通常瞬時〜24時間である。反応に供される試剤の量は、化合物〔XVII〕1モルに対して硝酸1モルの割合が理想的であるが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。用いられる溶媒としては、硫酸等の酸性溶媒を挙げることができる。
化合物〔 XVIII 〕から化合物〔 XIX 〕を製造する方法
化合物〔XIX 〕は化合物〔XVIII 〕を溶媒中で還元することにより製造することができる。(Organic Synthesis Collective Vol.2, p471, Vol.5, p829参照)
例えば、酢酸、鉄粉および水を含有する混合液に、化合物〔XVIII 〕をそのまま、または酢酸エチル等の溶媒に化合物〔XVIII 〕を溶解したものを加えることにより製造することができる。反応温度の範囲は通常0〜100℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜24時間である。
反応終了後の反応液は、(必要に応じて水を加えて)生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならばクロマトグラフィー、再結晶等の操作によってさらに精製することにより、目的物を単離することができる。
化合物〔 XIX 〕から化合物〔 XX 〕を製造する方法
化合物〔XX〕は、1)化合物〔XIX 〕を亜硝酸塩と溶媒中で反応させた後、2)酸性溶媒中で加熱することにより製造することができる。
<反応1)> 亜硝酸塩:亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム等
亜硝酸塩の量:化合物〔XIX 〕1モルに対して1〜2モルの割合
溶 媒:塩酸水、硫酸水等
温 度:−10〜10℃
時 間:瞬時〜5時間
<反応2)> 酸性溶媒:塩酸水、硫酸水等
温 度:70℃〜加熱還流
時 間:瞬時〜24時間
化合物〔 XX 〕から化合物〔 XXIII 〕を製造する方法
化合物〔XXIII 〕は化合物〔XX〕と一般式
R101 −Dまたは(R101 )2 O
〔式中、R101 およびDは前記と同じ意味を表わす。〕
で示される化合物とを溶媒中、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
この反応は、通常溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常−20℃〜150℃であり、好ましくは0℃〜100℃である。反応時間の範囲は、通常、瞬時〜72時間である。反応に供される試剤の量は、化合物〔XX〕1モルに対して化合物R101 −D又は(R101 )2 O、塩基はそれぞれ1モルの割合が理想的であるが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
また、用いられる塩基としては有機塩基、無機塩基、共に使用することができ、例えば、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム等があげられる。
用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、THF、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソプチロニトリル等のニトリル類、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド(以下、DMFと記す。)、アセトアミド等の酸アミド類、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、N−メチルモルホリン等の第三級アミン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物があげられる。
反応終了後の反応液は、(必要に応じて水を加えて)生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならばクロマトグラフィー、再結晶等の操作によってさらに精製することにより、目的物を単離することができる。
化合物〔 XIX 〕から化合物〔 XXI 〕を製造する方法
化合物〔XXI 〕は化合物〔XIX 〕と一般式R23−Dで示される化合物、または一般式(R23)2 Oで示される化合物とを無溶媒でまたは溶媒中、必要に応じ塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
反応温度の範囲は通常−20〜200℃、好ましくは0〜180℃であり、反応時間の範囲は瞬時〜72時間である。反応に供される試剤の量は化合物〔XIX 〕1モルに対して、化合物R23−Dまたは化合物(R23)2 Oは1モル、塩基は1モルが理想的であるが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
必要に応じて用いられる塩基としてはピリジン、トリエチルアミン等の有機塩基、無機塩基が挙げられる。
必要に応じて用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、THF、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソプチロニトリル等のニトリル類、ホルムアミド、DMF、アセトアミド等の酸アミド類、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、N−メチルモルホリン等の第三級アミン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、あるいはそれらの混合物があげられる。
反応終了後の反応液は、生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならばクロマトグラフィー、再結晶等の操作によってさらに精製することにより、目的物を単離することができる。
化合物〔 XXI 〕から化合物〔 XXII 〕を製造する方法
化合物〔XXII〕は化合物〔XXI 〕と化合物R24−Dまたは化合物(R24)2 Oとを反応させることにより製造することができる。本製造法は化合物〔XIX 〕から化合物〔XXI 〕を製造する方法に準ずる。
【0014】
(製造法6)
下記スキーム化14にしたがった製造法。
【化14】
〔式中、X、Y、R1 、R2 、R3 、R10、R11およびR12は前記と同じ意味を表す。〕
各工程の反応条件は例えば下記のようである。
化合物〔 XXIV 〕から化合物〔 XXV 〕を製造する方法
化合物〔XXV 〕は化合物〔XXIV〕とクロロスルホン酸とを無溶媒または溶媒中反応させることにより製造することができる。
クロロスルホン酸の量:化合物〔XXIV〕1モルに対して1モル〜過剰量の割合
溶 媒:硫酸
温 度:0〜70℃
時 間:瞬時〜24時間
(Org. Syn. Coll. Vol. 1, 8(1941)参照)
化合物〔 XXV 〕から化合物〔 XXVI 〕を製造する方法
化合物〔XXVI〕は化合物〔XXV 〕と一般式R10−OH(式中、R10は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合物とを塩基の存在下、無溶媒または溶媒中反応させることにより製造することができる。
化合物R10−OHの量:化合物〔XXV 〕1モルに対して1モル〜過剰量の割合
塩 基:トリエチルアミン等の有機塩基、炭酸カリウム等の無機塩基
塩基の量:1〜2モルの割合; 溶 媒:DMF、1,4−ジオキサン等
温 度:0〜100℃; 時 間:瞬時〜24時間
化合物〔 XXV 〕から化合物〔 XXVII 〕を製造する方法
化合物〔XXVII 〕は化合物〔XXV 〕と一般式R11R12NH(式中、R11およびR12は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合物とを塩基の存在下または非存在下、無溶媒または溶媒中で反応させることにより製造することができる。
化合物R11R12NHの量:化合物〔XXV 〕1モルに対して1モル〜過剰量の割合
塩 基:トリエチルアミン等の有機塩基または炭酸カリウム等の無機塩基
塩基の量:1〜2モルの割合
溶 媒:DMF、1,4−ジオキサン等
温 度:0℃〜100℃
時 間:瞬時〜24時間
【0015】
(製造法7)
下記スキーム化15にしたがった製造法。
【化15】
〔式中、X、Y、R1 、R2 、R3 、R11、R12、R17、R18およびR22は前記と同じ意味を表す。〕
各工程の反応条件は例えば下記のようである。
化合物〔 XXVIII 〕から化合物〔 XXIX 〕を製造する方法
化合物〔XXIX〕は、特開平5−294920号公報のp15〜16に記載の方法に準じて化合物〔XXVIII〕から製造することができる。
化合物〔 XXIX 〕から化合物〔 XXX 〕を製造する方法
化合物〔XXX 〕は化合物〔XXIX〕と一般式(C6 H5 )3 P=CR18COOR22または一般式(C2 H5 O)2 P(O)CHR18COOR22(式中、R18およびR22は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合物とを溶媒中、化合物(C2 H5 O)2 P(O)CHR18COOR22を用いる場合は塩基の存在下、反応させることにより製造することができる。
化合物(C6 H5 )3 P=CR18COOR22または化合物(C2 H5 O)2 P(O)CHR18COOR22の量:化合物〔XXIX〕1モルに対して1〜2モルの割合
溶 媒:THF、トルエン等
塩 基:水素化ナトリウム等
塩基の量:化合物〔XXIX〕1モルに対して1〜2モルの割合
温 度:0℃〜50℃
時 間:瞬時〜24時間
化合物〔 XXX 〕から化合物〔 XXXI 〕を製造する方法
化合物〔XXXI〕は化合物〔XXX 〕と化合物R11R12NHとを反応させることにより製造することができる。
【0016】
(製造法8)
下記スキーム化16にしたがった製造法。
【化16】
〔式中、W2 は塩素原子または臭素原子を表わし、X、Y、R1 、R2 、R3 およびR13は前記と同じ意味を表す。〕
反応条件は、例えば、米国特許明細書USP5,208,212号に記載されているか、または以下のようである。
化合物〔XXXII 〕を塩酸、臭素酸等の溶媒中で通常の方法でジアゾニウム塩にした後、アセトニトリル等の溶媒中、塩化第2銅、臭化第2銅等の銅塩の存在下、該ジアゾニウム塩と一般式CH2 =CHCO2 R13〔式中、R13は前記と同じ意味を表わす。〕で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
反応温度の範囲は通常−20〜150℃好ましくは0〜60℃であり、反応時間の範囲は瞬時〜72時間である。
反応終了後の反応液は、(必要に応じて水を加えて)生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならばクロマトグラフィー、再結晶等の操作によってさらに精製することにより、目的物を単離することができる。
【0017】
(製造法9) 下記スキーム化17に従った製造法
【化17】
(式中、W3 は、臭素原子またはヨウ素原子を表わし、X、Y1 、R1 、R2 、R3 およびR13は前記と同じ意味を表わす。
各工程の反応条件は例えば下記のようである。
化合物〔 XIX 〕から化合物〔 XXXIV 〕を製造する方法
化合物〔XXXIV 〕は、1)化合物〔XIX 〕を溶媒中でジアゾ化した後、2)ヨウ化カリウムまたは臭化銅(I)と溶媒中で反応させることにより製造することができる。
<反応1)>
ジアゾ化剤:亜硝酸ナトリウムまたは亜硝酸カリウム等
ジアゾ化剤の量:化合物〔XIX 〕1モルに対して1〜2モルの割合
溶 媒:臭化水素水、硫酸水等
温 度:−10℃〜10℃
時 間:瞬時〜5時間
<反応2)>
ヨウ化カリウムまたは臭化銅(I)の量:化合物〔XXXIV 〕1モルに対して1モル〜過剰量の割合
溶 媒:臭化水素水、硫酸水等
温 度:0℃〜80℃
時 間:瞬時〜24時間
(Org. Syn. Coll. Vol. 2, 604(1943), Vol. 1, 136(1932) 参照) 化合物〔 XXXIV 〕から化合物〔 XXXV 〕を製造する方法
化合物〔XXXV〕は化合物〔XXXIV 〕と一酸化炭素と一般式R13−OH(式中、R13は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合物とを溶媒中、遷移金属触媒および塩基の存在下、一酸化炭素雰囲気下で反応させることにより製造することができる。
触 媒:PdCl2 (PPh3 )2 等(ここでPhはフェニルを表す。)
触媒の量:化合物〔XXXIV 〕1モルに対して触媒量〜0.5モルの割合
化合物R13−OHの量:化合物〔XXXIV 〕に対して1モル〜過剰量の割合
塩 基:ジエチルアミン等の有機塩基
塩基の量:化合物〔XXXIV 〕1モルに対して1〜2モルの割合
溶 媒:DMF等
一酸化炭素の気圧:1〜150気圧
温 度:0〜100℃
時 間:瞬時〜72時間
(Bull. Chem. Soc. Jpn.48(7),2075(1975)参照)
【0018】
(製造法10) 下記スキーム化18に従った製造法
【化18】
〔式中、X、Y、R1 、R2 、R3 およびR19は前記と同じ意味を表わす。〕
化合物〔XXXVII〕は化合物〔XXXVI 〕を硫酸等の酸の存在下に加水分解するか、または塩化メチレン等の溶媒中でボロントリブロマイド等の酸で処理したのち、水で処理することにより製造することができる。
反応温度の範囲は通常−20〜150℃、好ましくは0〜100℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜72時間である。
反応に供される酸の量は化合物〔XXXVI 〕1モルに対して1モルの割合が理想的であるが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
反応終了後の反応液は、(必要に応じて水を加えて)生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならばクロマトグラフィー、再結晶等の操作によってさらに精製することにより、目的物を単離することができる。
【0019】
(製造法11) 下記スキーム化19に従った製造法
【化19】
〔式中、X、Y、R1 、R2 、R3 、Z2 およびR17は前記と同じ意味を表わし、Z3 は酸素原子又はイオウ原子を表わし、R25は水素原子又はC1−C5アルキル基を表わし、R26はC1−C6アルキル基、C3−C6アルケニル基またはC3−C6アルキニル基を表わす。〕
化合物〔XXXIX 〕は化合物〔XXXVIII 〕と一般式R26Z3 H〔式中、R26およびZ3 は前記と同じ意味を表わす。〕で示される化合物とを触媒の存在下または非存在下、通常溶媒中で反応させることにより製造することができる。
反応に供される化合物R26Z3 Hの量は、化合物〔XXXVIII 〕1モルに対して1モルの割合が理想的であるが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。
用いられる触媒としてはパラトルエンスルホン酸等が挙げられ、用いられる溶媒としてはトルエン、キシレン等、また、化合物〔XXXVIII 〕が挙げられる。
反応温度の範囲は通常0℃〜200℃、好ましくは50℃〜150℃である。反応時間の範囲は、通常瞬時〜72時間である。
反応終了後の反応液は、(必要に応じて水を加えて)生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならばクロマトグラフィー、再結晶等の操作によってさらに精製することにより、目的物を単離することができる。
【0020】
(製造法12) 下記スキーム化20に従った製造法
【化20】
(式中、R61は前述のR6 の定義からメチル基を除いた置換基を表わし、X、Y、R1 、R2 およびR3 は前記と同じ意味を表わす。)
各工程の反応条件は例えば下記のようである。
化合物〔 XXXVII 〕から化合物〔 XL 〕を製造する方法
化合物〔XL〕は化合物〔XXXVII〕と2,3−ジクロロプロペンとを塩基の存在下溶媒中で反応させることにより製造することができる。
2,3−ジクロロプロペンの量:化合物〔XXXVII〕1モルに対して1〜3モルの割合;塩 基:炭酸カリウム等の無機塩基
塩基の量:化合物〔XXXVII〕1モルに対して1〜2モルの割合
溶 媒:DMF等; 温 度:0℃〜70℃;時 間:瞬時〜24時間
化合物〔 XL 〕から化合物〔 XLI 〕を製造する方法
化合物〔XLI 〕は化合物〔XL〕を溶媒中で加熱することにより製造することができる。
溶 媒:DMF、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、p−イソプロピルベンゼン等;温 度:70℃〜200℃
時 間:瞬時〜24時間
化合物〔 XLI 〕から化合物〔 XLII 〕を製造する方法
米国特許明細書第5,308,829 号のcolumn2〜11に記載されている、ベンゾフラン環の2位のメチル基を他の置換基に変換させる方法に準じて製造することができる。
【0021】
(製造法13) 下記スキーム化21に従った製造法
【化21】
(式中、X、Y、R1 、R2 、R3 およびR7 は前記と同じ意味を表わす。)
各工程の反応条件は例えば下記のようである。
化合物〔 XXXVII 〕から化合物〔 XLIII 〕を製造する方法
化合物〔XLIII 〕は化合物〔XXXVII〕と一般式CH2 =CR7 CH2 W2 (式中、W2 およびR7 は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合物とを塩基の存在下溶媒中で反応させることにより製造することができる。
化合物CH2 =CR7 CH2 W2 の量:化合物〔XXXVII〕1モルに対して1〜5モルの割合
塩 基:炭酸カリウム等の無機塩基
塩基の量:化合物〔XXXVII〕1モルに対して1〜5モルの割合
溶 媒:DMF、1,4−ジオキサン等
温 度:0〜100℃
時 間:瞬時〜24時間
化合物〔 XLIII 〕から化合物〔 XLIV 〕を製造する方法
化合物〔XLIV〕は化合物〔XLIII 〕を溶媒中、加熱することにより製造することができる。
溶 媒:N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、p−ジイソプロピルベンゼン等
温 度:100〜200℃
時 間:瞬時〜24時間
化合物〔 XLIV 〕から化合物〔 XLV 〕を製造する方法
化合物〔XLV 〕は化合物〔XLIV〕を酸の存在下に溶媒中で加熱することにより製造することができる。
酸 :p−トルエンスルホン酸等の有機酸、硫酸等の無機酸
酸の量:化合物〔XLIV〕1モルに対して触媒量〜1モルの割合
溶 媒:トルエン、キシレン等
温 度:100〜250℃
時 間:瞬時〜24時間
【0022】
(製造法14) 下記スキーム化22に従った製造法
【化22】
(式中、R81は前述のR8 の定義からメチル基およびヒドロキシメチルを除いた置換基を表わし、X、Y、R1 、R2 、R3 およびR7 は前記と同じ意味を表わす。)
各工程の反応条件は例えば下記のようである。
化合物〔 XLIV 〕から化合物〔 XLVI 〕を製造する方法
化合物〔XLVI〕は化合物〔XLIV〕と過酸とを溶媒中反応させることにより製造することができる。
過 酸:m−クロロ過安息香酸、過酢酸
過酸の量:化合物〔XLIV〕1モルに対して1モル〜過剰量の割合
溶 媒:ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素、酢酸等の有機酸
温 度:−20℃〜室温
時 間:瞬時〜24時間
化合物〔 XLVI 〕から化合物〔 XLVII 〕を製造する方法
化合物〔XLVII 〕は化合物〔XLVI〕を塩基の存在下溶媒中で反応させることにより製造することができる。
塩 基:炭酸カリウム等
塩基の量:化合物〔XLVI〕1モルに対して1〜2モルの割合
溶 媒:メタノール、エタノール等
温 度:0〜50℃
時 間:瞬時〜5時間
化合物〔 XLVII 〕から化合物〔 XLVIII 〕を製造する方法
米国特許明細書第5,411,935 号のcolumn5〜10に記載されている、ジヒドロベンゾフラン環の2位のヒドロキシアルキル基を他の置換基に変換させる方法に準じて製造することができる。
【0023】
(製造法15) 下記スキーム化23に従った製造法
【化23】
〔式中、W1 はハロゲン原子(好ましくは塩素原子)を表わし、R32は水素原子またはC1−C5アルキル基を表わし、X、Y、Z2 、R1 、R2 、R3 、R11、R12、R33およびR34は前記と同じ意味を表わす。〕
各工程の反応条件は例えば下記のようである。
化合物〔 XXVIII 〕から化合物〔 XLIX 〕を製造する方法
化合物〔XLIX〕は化合物〔XXVIII〕と塩化チオニル等のハロゲン化剤とを溶媒中通常の方法で反応させることにより製造することができる。
化合物〔 XLIX 〕から化合物〔L〕を製造する方法
化合物〔L〕は化合物〔XLIX〕と一般式 化24
【化24】
〔式中、M+ はアルカリ金属カチオン(好ましくはリチウムカチオン、ナトリウムカチオン)を表わし、R19、R22およびR32は前記と同じ意味を表わす。〕
で示される化合物とを反応させて(以下、第1反応と記す。)一般式 化25
【化25】
〔式中、X、Y、R1 、R2 、R3 、R19、R22およびR32は前記と同じ意味を表わす。〕
で示される化合物を得た後、該化合物化25を加水分解および脱カルボキシル化する(以下、第2反応と記す。)ことにより製造することができる。
第1反応は、通常溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常−20〜50℃、好ましくは室温であり、反応時間の範囲は瞬時〜72時間である。用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、THF、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、ホルムアミド、DMF、アセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物あるいはそれらの混合物が挙げられる。
第2反応は、酢酸等の低級カルボン酸等の溶媒中、または非溶媒中、硫酸、臭化水素酸等の存在下で行われ、反応温度の範囲は通常80〜140℃、好ましくは100〜120℃であり、反応時間の範囲は瞬時〜72時間である。
化合物〔L〕から化合物〔 LI 〕を製造する方法
化合物〔LI〕は化合物〔L〕と一般式H2 N−O−R33〔式中、R33は前記と同じ意味を表わす。〕で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
本反応は、低級アルコール(例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール) または低級アルコールと水との混合液中で行われ、反応温度の範囲は0〜80℃であり、反応時間の範囲は瞬時〜72時間である。
化合物H2 N−O−R33は遊離塩基の形態または塩酸塩または硫酸塩等の酸付加塩の形態で使用することができる。
本反応は、ピリジン等の有機塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩等の塩基性触媒を添加して行うこともできる。
また、化合物〔LI〕は、一般式 化26
【化26】
〔式中、X、Y、R1 、R2 、R3 およびR32は前記と同じ意味を表わす。〕
で示される化合物と、一般式R33−D〔式中、R33およびDは前記と同じ意味を表わす。〕で示される化合物とを通常、溶媒中塩基の存在下で反応させることにより製造することがきる。用いられる塩基としてはアルカリ金属アルコラート、アルカリ金属水素化物(例えば水素化ナトリウム)が挙げられる。反応に供される試剤の量は、化26の化合物1モルに対して化合物R33−Dは1モル程度の割合、塩基は1〜2モルの割合が理想的であるが、状況に応じて変化させることができる。用いられる溶媒としては、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、THF、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、ホルムアミド、DMF、アセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロパノール等のアルコール類、あるいはそれらの混合物が挙げられる。本反応における反応温度の範囲は−10〜100℃、好ましくは0〜80℃であり、反応時間は瞬時〜72時間である。
化合物〔L〕から化合物〔 LII 〕を製造する方法
化合物〔LII 〕は化合物〔L〕と一般式H2 N−N(R11)R12〔式中、R11およびR12は前記と同じ意味を表わす。〕で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
本反応は、低級アルコール(例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール)または低級アルコールと水との混合液中で行われ、反応温度の範囲は0〜80℃であり、反応時間の範囲は瞬時〜72時間である。
化合物H2 N−N(R11)R12は遊離塩基の形態または塩酸塩または硫酸等の酸付加塩の形態で使用することができる。
本反応は、ピリジン等の有機塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩等の塩基性触媒を添加して行うこともできる。
化合物〔L〕から化合物〔 LIII 〕を製造する方法
化合物〔LIII〕は化合物〔L〕と一般式R34−Z2 H〔式中、Z2 およびR34は前記と同じ意味を表わす。〕で示される化合物とを通常、触媒量〜過剰量のp−トルエンスルホン酸、塩酸、硫酸等の酸の存在下、ベンゼン、クロロホルム等の有機溶媒中で反応させることにより製造することができる。
反応温度の範囲は−30℃〜反応混合物の沸点温度であり、反応時間の範囲は瞬時〜72時間である。
【0024】
(製造法16) 下記スキーム化27に従った製造法
【化27】
〔式中、Q1 およびR1 は前記と同じ意味を表わす。〕
化合物〔LV〕は化合物〔LIV 〕と一般式 化28
【化28】
(R22O)2 P(=O)CH2 COOR19
〔式中、R19およびR22は前記と同じ意味を表わす。〕
とを溶媒中で反応させることにより製造することができる。
反応温度の範囲は通常30℃〜120℃であり、好ましくは40℃〜80℃である。
反応時間の範囲は通常5〜72時間である。反応に供される試剤の量は化合物〔LIV 〕1モルに対して化28の化合物1モルの割合が理想的であるが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。用いられる溶媒としては、トリエチルアミン等の第三級アミンがあげられる。
反応終了後、反応溶媒を留去した後、そのままクロマトグフィーに付するか、または反応液を有機溶媒抽出および濃縮する等の通常の後処理を行い、必要ならばクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって、さらに精製することによって目的の本発明化合物を単離することができる。
【0025】
(製造法17)
下記スキーム〔d〕に従った製造法
〔式中、B3 はOR35基、SR35基、COOR35基、COR16基またはCR17=CR18COR16基を表わし、R35は(C1−C6アルキル)カルボニルC1−C6アルキル基、(C1−C6ハロアルキル)カルボニルC1−C6アルキル基、{(C1−C4アルコキシ)C1−C4アルキル}カルボニルC1−C6アルキル基または(C3−C8シクロアルキル)カルボニルC1−C6アルキル基を表わし、R16、R17およびR18は前記と同じ意味を表わし、B4 はB3 のケトンまたはアルデヒド部分がアルコールによってケタールまたはアセタールとして保護された置換基を表し、X、Y、R1 、R2 およびR3 は前記と同じ意味を表わす。〕
各工程の反応条件は例えば下記のようである。
化合物〔L XII 〕から化合物〔 LXIII 〕を製造する方法
化合物〔LXIII 〕は、一般式〔a〕で示されるヒドラゾン誘導体にかえて化合物〔LXII 〕を用いる以外は( 製造法1) と同様にして製造することができる。
化合物〔 L XIII 〕から化合物〔 LXIV 〕を製造する方法
化合物〔LXIV〕は、化合物〔LXIII 〕のケタールまたはアセタール部分を通常の方法で脱保護することにより製造することができる。
尚、化合物〔LXII 〕は、下記スキーム〔e〕に従って製造することができる
〔式中、X,Y,B3 およびB4 は、前記と同じ意味を表す。〕
即ち、化合物〔LXV〕の置換基B3 のケトンまたはアルデヒド部分をメタノール等のアルコールでケタールまたはアセタールとして保護することにより化合物〔LXVI〕とした後、後述の化35の化合物にかえて化合物〔LXVI〕を用いる以外は後述の一般式〔a〕で示されるヒドラゾン誘導体の製造法と同様にして製造する事ができる。
【0026】
次に、本発明化合物を製造する際に用いられる中間体や原料化合物の製造法について述べる。
(製造法1)により本発明化合物を製造する場合の一方の原料化合物である一般式〔b〕で示されるホスホラン化合物は市販されているものを用いるか、または、例えば実験化学講座(丸善株式会社)第4版第24巻、259〜260頁に記載された方法にしたがって製造することができる。
(製造法1)により本発明化合物を製造する場合のもう一方の原料化合物である一般式〔a〕で示されるヒドラゾン誘導体(一般式 化7のヒドラゾン類を含む)は、一般式 化29
【化29】
R1 C(=O)CV2 R3
〔式中、R1 およびR3 は前記と同じ意味を表わし、Vは沃素原子、臭素原子、または塩素原子を表わす。〕
で示されるα−ジハロ化合物と水とを塩基の存在下に反応させて、一般式 化30
【化30】
〔式中、R1 、R3 は前記と同じ意味を表わす。〕
で示されるカルボニル誘導体とした(以下、反応1と記す。)後、続いてそれと一般式 化31
【化31】
Q1 −NHNH2
〔式中、Q1 は前記と同じ意味を表わす。〕
で示されるヒドラジン誘導体とを反応させる(以下、反応2と記す。)ことによって製造することができる。一般式 化30で示されるカルボニル誘導体は、水、アルコール中で、水和体またはアセタール誘導体として反応させることもできる。
【0027】
反応1は、通常、溶媒中で行い、反応温度の範囲は通常20〜100℃、反応時間の範囲は通常瞬時から24時間であり、反応に供される試剤の量は、式 化29で表わされるα−ジハロ化合物1モルに対して水および塩基の量は各々2モルの割合が理想的であるが、必要に応じて変化させる事ができる。
用いられる塩基としては、有機塩基、無機塩基共に使用する事ができ、例えば、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等があげられる。
用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、THF、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、DMF等の酸アミド類、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、N−メチルモルホリン等の第三級アミン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロパノール等のアルコール類、水等、あるいはそれらの混合物があげられる。
【0028】
反応2は、通常溶媒中で行い反応温度の範囲は通常−20〜200℃、反応時間の範囲は、通常瞬時〜72時間である。反応に供される試剤の量は、反応1に用いたα−ジハロ化合物1モルに対して、化31のヒドラジン誘導体は1モルの割合が理想的であるが、反応の状況に応じて任意に変化させる事ができる。また、状況に応じてヒドラジン誘導体の塩酸塩や硫酸塩等の塩を用いる事もできる。用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、THF、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、ホルムアミド、DMF、アセトアミド等の酸アミド類、ピリジン、トリエチルエミン、ジイソプロピルエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、N−メチルモルホリン等の第三級アミン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、蟻酸、酢酸、プロピオン酸等の脂肪酸類、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロパノール等のアルコール類、水等、あるいはそれらの混合物があげられる。
反応終了後の反応液は、(必要に応じて水を加えて)生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならばクロマトグラフィー、再結晶等の操作によってさらに精製することにより、目的物を単離することができる。
【0029】
一般式〔a〕のヒドラゾン誘導体(一般式 化7のヒドラゾン類を含む)のうち、一般式 化32
【化32】
〔式中、Xは前記と同じ意味を表わし、Y2 はハロゲン原子を表わし、B2 は水素原子、ハロゲン原子、C1−C6アルコキシ基またはC1−C6アルキルチオ基を表わす。〕
で示される化合物は下記スキーム化33に従って製造することもできる。
【化33】
〔式中、X、Y2 、B2 およびR22は前記と同じ意味を表わす。〕
各工程の反応条件は例えば下記のようである。
化合物〔 LV I 〕から化合物〔 LV II 〕を製造する方法
化合物〔LVII〕は、化合物〔LVI 〕を塩酸または硫酸中で亜硝酸塩と反応させて、対応するジアゾニウム塩とした後、該ジアゾニウム塩と一般式 化34
【化34】
〔式中、R22は前記と同じ意味を表わす。〕
で示される化合物とを、酢酸ナトリウム、ピリジン等の塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。(Tetrahedron, Vol. 35, p2013(1979)参照)
化合物〔 LVII 〕から化合物〔 LVIII 〕を製造する方法
化合物〔LVIII 〕は化合物〔LVII〕を通常、塩基の存在下、溶媒中で加水分解することにより製造することができる。
反応温度の範囲は0℃〜150℃、好ましくは20℃〜100℃であり、反応時間の範囲は1〜24時間、好ましくは1〜10時間である。反応に供される試剤の量は、化合物〔LVII〕1モルに対して、塩基の量は1モルの割合が理想的であるが、必要に応じて変化させる事ができる。用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化バリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基があげられる。
用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、THF、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン等のケトン類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、DMF等の酸アミド類、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、N−メチルモルホリン等の第三級アミン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロパノール等のアルコール類、水等、あるいはそれらの混合物があげられる。
化合物〔 LVIII 〕から化32を製造する方法
化32は化合物〔LVIII 〕を溶媒中で加熱することにより製造することができる。
反応温度の範囲は50℃〜200℃、好ましくは50℃〜150℃であり、反応時間の範囲は瞬時〜72時間である。
用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、シクロヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、THF、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、ホルムアミド、DMF、アセトアミド等の酸アミド類、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、N−メチルモルホリン等の第三級アミン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、蟻酸、酢酸、プロピオン酸等の脂肪酸類、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロパノール等のアルコール類、水等、あるいはそれらの混合物があげられる。
本反応は、必要に応じて銅等の金属を触媒として用いる事もできる。
反応終了後の反応液は、生じた結晶を濾集するか、又は有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならばクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって更に精製することにより、目的物を単離する事ができる。
【0030】
一般式 化31で示されるヒドラジン誘導体は、一般式 化35
【化35】
Q1 −NH2 〔式中、Q1 は前記と同じ意味を表す。〕
で示されるアニリン誘導体より、例えば(Organic Synthesis collective volume 1, P.442 参照)下記ルート 化36に従って製造することができる。
【化36】
〔式中、Q1 は前記と同じ意味を表す。〕
【0031】
一般式 化36で示されるアニリン誘導体は、例えばヨーロッパ特許出願公開明細書EP−61741 −A;米国特許明細書 USP 4,670,046、USP 4,770,695 、USP 4,709,049 、USP 4,640,707 、USP 4,720,927 、USP 5,169,431 ;特開昭63−156787号公報で公知であるか、または、そこに記載された方法に準じて製造することができるか、または、例えば下記スキーム化37にしたがって製造することができる。
【化37】
〔式中、XおよびY1 は前記と同じ意味を表わし、R31はCOR16又はCOOR10を表す。〕
各工程の反応条件は例えば下記のようである。
化合物〔 LIX 〕から化合物〔 LX 〕を製造する方法
化合物〔LX〕は化合物〔LIX 〕と硝酸とを溶媒中反応させることにより製造することができる。反応温度の範囲は通常0℃〜100℃、反応時間の範囲は通常、瞬時〜24時間である。反応に供される試剤の量は、化合物〔LIX 〕1モルに対して硝酸1モルの割合が理想的であるが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。用いられる溶媒としては、通常酸性溶媒を使用することができ、例えば、塩酸と硫酸の混合物や硝酸と硫酸の混合物等があげられる。(Organic Synthesis collecive Vol.1, p372 参照)化合物〔 LX 〕から化合物〔 LXI 〕を製造する方法
化合物〔LXI 〕は化合物〔LX〕を酢酸、鉄粉および水からなる混合液中で還元することにより製造することができる。
反応温度の範囲は通常0℃〜100℃、反応時間の範囲は通常、瞬時〜24時間である。反応終了後の反応液は、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならばクロマトグラフィー、再結晶等の操作によってさらに精製することにより、目的物を単離することができる。(Organic Synthesis collecive Vol.2, p471, Vol.5, p829参照)
【0032】
本発明化合物は、優れた除草効力を有し、かつあるものは作物・雑草間に優れた選択性を示す。すなわち本発明化合物は、畑地の茎葉処理および土壌処理において、次に挙げられる問題となる種々の雑草に対して除草効力を有する。
タデ科雑草
ソバカズラ (Polygonum convolvulus)、サナエタデ (Polygonum lapathiolium) 、アメリカサナエタデ (Polygonum pensylvanicum)、ハルタデ (Polygonum persicaria) 、ナガバギシギシ (Rumex crispus)、エゾノギシギシ (Rumex obtusifolius) 、イタドリ (Polygonum cuspidatum)
スベリヒユ科雑草
スベリヒユ(Portulaca oleracea)
ナデシコ科雑草
ハコベ (Stellaria media)
アカザ科雑草
シロザ (Chenopodium album)、ホウキギ (Kochia scoparia)
ヒユ科雑草
アオゲイトウ (Amaranthus retroflexus) 、ホナガアオゲイトウ (Amaranthus hybridus)
アブラナ科雑草
ワイルドラディッシュ (Raphanus raphanistrum)、ノハラガラシ (Sinapis arvensis) 、ナズナ (Capsella bursa-pastoris)
マメ科雑草
アメリカツノクサネム(Sesbania exaltata)、エビスグサ (Cassia obtusifolia) 、フロリダベガーウィード (Desmodium tortuosum)、シロツメクサ (Trifolium repens)
アオイ科雑草
イチビ (Abutilon theophrasti) 、アメリカキンゴジカ (Sida spinosa)
スミレ科雑草
フィールドパンジー (Viola arvensis) 、ワイルドパンジー (Viola tricolor)
アカネ科雑草
ヤエムグラ (Galium aparine)
ヒルガオ科雑草
アメリカアサガオ (Ipomoea hederacea)、マルバアサガオ (Ipomoea purpurea) 、マルバアメリカアサガオ (Ipomoea hederacea var integriuscula)、マメアサガオ (Ipomoea lacunosa) 、セイヨウヒルガオ (Convolvulus arvensis)
シソ科雑草
ヒメオドリコソウ (Lamium purpureum) 、ホトケノザ (Lamium amplexicaule)
ナス科雑草
シロバナチョウセンアサガオ (Datura stramonium)、イヌホオズキ (Solanum nigrum)
ゴマノハグサ科雑草
オオイヌノフグリ (Veronica persica) 、フラサバソウ (Veronica hederaefolia)
キク科雑草
オナモミ (Xanthium pensylvanicum) 、野生ヒマワリ (Helianthus annuus)、イヌカミツレ (Matricaria perforata or inodora)、コーンマリーゴールド (Chrysanthemum segetum)、オロシャギク (Matricaria matricarioides)、ブタクサ (Ambrosia artemisiifolia)、オオブタクサ (Ambrosia trifida) 、ヒメムカシヨモギ (Erigeron canadensis)、ヨモギ (Artemisia princeps) 、セイタカアワダチソウ (Solidago altissima)
ムラサキ科雑草
ワスレナグサ (Myosotis arvensis)
ガガイモ科雑草
オオトウワタ (Asclepias syriaca)
トウダイグサ科雑草
トウダイグサ (Euphorbia helioscopia)、オオニシキソウ (Euphorbia maculata)
イネ科雑草
イヌビエ (Echinochloa crus-galli) 、エノコログサ (Setaria viridis)、アキノエノコログサ (Setaria faberi) 、メヒシバ (Digitaria sanguinalis)、オヒシバ (Eleusine indica)、スズメノカタビラ (Poa annua)、ブラックグラス (Alopecurus myosuroides) 、カラスムギ (Avena fatua)、セイバンモロコシ (Sorghum halepense)、シバムギ (Agropyron repens) 、ウマノチャヒキ (Bromus tectorum)、ギョウギシバ (Cynodon dactylon) 、オオクサキビ (Panicum dichotomiflorum)、テキサスパニカム (Panicum texanum)、シャターケーン (Sorghum vulgare)
ツユクサ科雑草
ツユクサ (Commelina communis)
トクサ科雑草
スギナ (Equisetum arvense)
カヤツリグサ科雑草
コゴメガヤツリ (Cyperus iria) 、ハマスゲ (Cyperus rotundus) 、キハマスゲ (Cyperus esculentus)
しかも、本発明化合物中のあるものは、トウロモコシ (Zea mays) 、コムギ (Triticum aestivum)、オオムギ (Hordeum vulgare)、イネ (Oryza sativa) 、ソルガム (Sorghum bicolor)、ダイズ (Glycine max)、ワタ (Gossypium spp.) 、テンサイ (Beta vulgaris)、ピーナッツ (Arachis hypogaea) 、ヒマワリ (Helianthus annuus)、ナタネ (Brassica napus) 等の主要作物、花卉・蔬菜等の園芸作物に対して問題となるような薬害を示さない。
また、本発明化合物は、ダイズ、トウモロコシ、コムギ等の不耕起栽培において、問題となる種々の雑草を効果的に除草することができる。しかも、本発明化合物中のあるものは、作物に対しては問題となるような薬害を示さない。
【0033】
また、本発明化合物は、水田の湛水処理において、次に挙げられる問題となる種々の雑草に対して除草効力を有する。
イネ科雑草
タイヌビエ(Echinochloa oryzicola)
ゴマノハグサ科雑草
アゼナ (Lindernia procumbens)
ミソハギ科雑草
キカシグサ (Rotala indica)、ヒメミソハギ (Ammannia multiflora)
ミゾハコベ科雑草
ミゾハコベ (Elatine triandra)
カヤツリグサ科雑草
タマガヤツリ (Cyperus difformis)、ホタルイ (Scirpus juncoides)、マツバイ (Eleocharis acicularis)、ミズガヤツリ (Cyperus serotinus)、クログワイ (Eleocharis kuroguwai)
ミズアオイ科雑草
コナギ (Monochoria vaginalis)
オモダカ科雑草
ウリカワ (Sagittaria pygmaea) 、オモダカ (Sagittaria trifolia)、ヘラオモダカ (Alisma canaliculatum)
ヒルムシロ科雑草
ヒルムシロ (Potamogeton distinctus)
セリ科雑草
セリ (Oenanthe javanica)
しかも、本発明化合物中のあるものは、移植水稲に対して問題となるような薬害を示さない。
さらに、本発明化合物は、樹園地、牧草地、芝生地、林業地または水路、運河あるいはその他の非農耕地に発生する広範囲の雑草を除草できる。
また、本発明化合物は、水路、運河等に発生するホテイアオイ (Eichhornia crassipes) 等の水生雑草に除草効力を有する。
本発明化合物は、国際特許出願公開明細書WO95/34659号明細書に記載される除草性化合物と同様な特性を有し、該明細書に記載される除草剤耐性遺伝子等が導入されることにより耐性の付与された作物を栽培する場面においては、耐性の付与されていない通常の作物の栽培時に使用されるより多くの薬量の本発明化合物が使用可能となり、好ましくない他の植物をより効果的に除草することができる。
【0034】
本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合は、通常固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤、濃厚エマルジョン、顆粒水和剤等に製剤する。
これらの製剤には、有効成分として本発明化合物を重量比で 0.001〜80%、好ましくは、 0.005〜70%含有する。
固体担体としては、カオリンクレー、アタパルジャイトクレー、ベントナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物質微粉末、クルミ殻粉等の有機物微粉末、尿素等の水溶性有機物微粉末、硫酸アンモニウム等の無機塩微粉末および合成含水酸化珪素の微粉末等が挙げられ、液体担体としては、メチルナフタレン、フェニルキシリルエタン、キシレン等のアルキルベンゼン等の芳香族炭化水素類、イソプロパノール、エチレングリコール、2−エトキシエタノール等のアルコール類、フタル酸ジアルキルエステル等のエステル類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、マシン油等の鉱物油、大豆油、綿実油等の植物油、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、N−メチルピロリドン、水等が挙げられる。
乳化、分散、湿展等のために用いられる界面活性剤としては、アルキル硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩等の陰イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等が挙げられる。
その他の製剤用補助剤としては、リグニンスルホン酸塩、アルギン酸塩、ポリビニルアルコール、アラビアガム、CMC(カルボキシメチルセルロース)、PAP(酸性リン酸イソプロピル)等が挙げられる。
【0035】
本発明化合物は、通常製剤化して雑草の出芽前または出芽後に土壌処理、茎葉処理または湛水処理する。土壌処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等があり、茎葉処理には、植物体の上方からの処理のほか、作物に付着しないよう雑草に限って処理する局部処理等がある。
【0036】
また、他の除草剤と混合して用いることにより、除草効力の増強が認められる場合がある。さらに、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料、土壌改良剤等と混合して用いることもできる。
本発明化合物と混合して使用することができる除草剤の例を以下に示す。
アトラジン(atrazin)、シアナジン(cyanazine)、ジメタメトリン(dimethametryn)、メトリブジン(metribuzin)、プロメトリン(prometryn)、シマジン(simazine)、シメトリン(simetryn)、
クロロトルロン(chlorotoluron)、ジウロン(diuron)、ダイムロン(dymuron)、フルオメツロン(fluometuron)、イソプロチュロン(isoproturon)、リニュロン(linuron)、メタベンズチアズロン(methabenzthiazuron)、
ブロモキシニル(bromoxynil)、アイオキシニル(ioxynil)、
エタルフルラリン(ethalfluralin)、ペンデイ メサリン(pendimethalin)、トリフルラリン(trifluralin)、
アシフルオルフェン(acifluorfen)、アシフルオルフェンNa塩(acifluorfen−sodium)、ビフェノックス(bifenox)、クロメトキシニル(chlomethoxynil)、フォメサフェン(fomesafen)、ラクトフェン(lactofen)、オキサジアゾン(oxadiazon)、オキシフルオルフェン(oxyfluorfen)、
カルフェントラゾン(carfentrazon)、フルミクロラックペンチル(flumiclorac−pentyl)、フルミオキサジン(flumioxazine)、フルチアセットメチル(fluthiacet−methyl)、サルフェントラゾン(sulfentrazone)、チジアジミン(thidiazimin)、
ジフェンゾコート(difenzoquat)、ジクワット(diquat)、パラコート(paraquat)、
2,4−D、2,4−DB、DCPA、MCPA、MCPB、クロメプロップ(clomeprop)、クロピラリド(clopyralid)、ジカンバ(dicamba)、ジチオピル(dithiopyr)、フルロキシピル(fluroxypyr)、メコプロップ(mecoprop)、ナプロアニリド(naploanilide)、フェノチオール(phenothiol)、キンクロラック(quinclorac)、トリクロピル(triclopyr)、
アセトクロール(acetochlor)、アラクロール(alachlor)、ブタクロール(butachlor)、ジエタチルエチル(diethatyl−ethyl)、メトラクロール(metolachlor)、プレチラクロール(pretilachlor)、プロパクロール(propachlor)、
ベンスルフロンメチル(bensulfuron−methyl)、クロルスルフロン(chlorsulfuron)、クロリムロンエチル(chlorimuron−ethyl)、ハロスルフロンメチル(halosulfuron−methyl)、メツルフロンメチル(metsulfuron−methyl)、ニコスルフロン(nicosulfuron)、プリミスルフロン(primisulfuron)、ピラゾスルフロンエチル(pyrazosulfuron−ethyl)、サルフォメツロンメチル(sulfometuron−methyl)、チフェンスルフロンメチオル(thifensulfuron−methyl)、トリアスルフロン(triasulfuron)、トリベニュロンメチル(tribenuron−methyl)、
アジムスルフロン(azimsulfuron)、クロランスラムメチル(cloransulam−methyl)、シクロスルファムロン(cyclosulfamuron)、フルメツラム(flumeturam)、フルピリスルフロン(flupyrsulfuron)、フラザスルフロン(flazasulfuron)、イマゾスルフロン(imazosulfuron)、メトスラム(metosulam)、プロスルフロン(prosulfuron)、リムスルフロン(rimsulfuron)、トリフルスルフロンメチル(triflusulfuron−methyl)、
イマザメタベンズメチル(imazamethabenz−methyl)、イマザピル(imazapyr)、イマザキン(imazaquin)、イマゼタピル(imazethapyr)、
イマザメス(imazameth)、イマザモックス(imazamox)、
ビスピリバックNa塩(bispyribac−sodium)、ピリミノッバクメチル(pyriminobac−methyl)、ピリチオバックNa塩(pyrithiobac−sodium)、
アロキシジムNa塩(alloxydim−sodium)、クレソジム(clethodim)、セトキシジム(sethoxydim)、トラルコキシジム(tralkoxydim)、
ジクロホップメチル(dichlofop−methyl)、フェノキサプロップエチル(fenoxaprop−ethyl)、フェノキサロップ−p−エチル(fenoxaprop−p−ethyl)、フルアジホップブチル(fluazifop−butyl)、フルアジホップ−p−ブチル(fluazifop−p−butyl)、ハロキシホップメチル(haloxyfop−methyl)、キザロホップ−p−エチル(quizalofop−p−ethyl)、シハロホップブチル(cyhalofop−butyl)、クロデイ ナホッププロパルギル(clodinafop−propargyl)、
ベンゾフェナップ(benzofenap)、クロマゾン(clomazone)、ジフルフェニカン(diflufenican)、ノルフルラゾン(norflurazon)、ピラゾレート(pyrazolate)、ピラゾキシフェン(pyrazoxyfen)、
イソキサフルトール(isoxaflutole)、サルコトリオン(sulucotrione)、
グルフォシネートアンモニウム塩(glufosinate−anmonium)、グリフォセート(glyphosate)、
ベンタゾン(bentazon)、ベンチオカーブ(benthiocarb)、ブロモブチド(bromobutide)、ブタミホス(butamifos)、ブチレート(butylate)、ジメピペレート(dimepiperate)、ジメテンアミド(dimethenamid)、DSMA,EPTC,エスプロカルブ(esprocarb)、イソキサベン(isoxaben)、メフェナセット(mefenacet)、モリネート(molinate)、MSMA,ピペロフォス(piperophos)、ピリブチカルブ(pributycarb)、プロパニル(propanil)、ピリデート(pyridate)、トリアレート(triallate)、
カフェンストロール(cafenstrol)、フルポキサム(flupoxam)、チアフルアミド(thiafluamide)、
上記化合物は、ファームケミカルズハンドブック(マイスターパブリッシングカンパニー)〔Farm Chemicals Handbook(Meister Publishing Company)]1995年版のカタログ、アグケムニューコンパウンドレビュー1995年版(アグケムインフォメーションサービス)〔AG CHEM NEW COMPOUND REVIEW,VOL.13,1995(AG CHEM INFORMATION SERVICE)または、「除草剤研究総覧(博友社)」に記載されている。
具体的な混合例を以下に示す。尚、本発明化合物は後述の表1〜5の化合物番号で示す。
1.本発明化合物 1-495、1-496 、1-499 、1-503 および1-577 からなる群から選ばれる1つの化合物とアトラジン、シアナジン、ブロモキシニルおよびベンタゾンからなる群から選ばれる1つの化合物と重量比で1:1〜100の割合で混合する。
2.本発明化合物 1-495、1-496 、1-499 、1-503 および1-577 からなる群から選ばれる1つの化合物とクレソジム、セトキシジム、ジクロホップメチル、キザロップ−p−エチル、ラクトフェン、アシフルオルフェン、アシフルオルフェンNa塩、フォメサフェン、フルミクロラックペンチルおよびジカンバからなる群から選ばれる1つの化合物とを重量比で1:0.5〜50の割合で混合する。
3.本発明化合物 1-495、1-496 、1-499 、1-503 および1-577 からなる群から選ばれる1つの化合物とニコスルフロン、プリミスルフロン、プロスルフロン、クロリムロンエチル、チフェンスルフロン、リムスルフロン、ハロスルフロン、オキサスルフロン、イソキサフルトール、イマゼタピルおよびイマザモックスからなる群から選ばれる1つの化合物とを重量比で1:0.1〜10の割合で混合する。
4.本発明化合物 1-439、1-482 、1-486 、1-496 、1-1076、1-1123および1-1441からなる群から選ばれる1つの化合物とイソプロチュロンおよびクロロトルロンからなる群から選ばれる1つの化合物とを重量比で1:1〜100の範囲で混合する。
5.本発明化合物 1-439、1-482 、1-486 、1-496 、1-1076、1-1123および1-1441からなる群から選ばれる1つの化合物とメコプロップ、フルロキシピアおよびアイオキシニルからなる群から選ばれる1つの化合物とを重量比で1:0.5〜50の割合で混合する。
6.本発明化合物 1-439、1-482 、1-486 、1-496 、1-1076、1-1123および1-1441からなる群から選ばれる1つの化合物と、ジフルフェニカン、メツルフロンメチル、フェノキサプロップエチルおよびクロディナホッププロパルギルからなる群から選ばれる1つの化合物とを重量比で1:0.1〜10の割合で混合する。
7.本発明化合物1-1141、1-1222および2-203 からなる群から選ばれる1つの化合物とグリフォゼート、グルフォシネートアンモニウム塩およびパラコートからなる群から選ばれる1つの化合物とを重量比で1:1〜100の割合で混合する。
【0037】
本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合、その処理量は、気象条件、製剤形態、処理時期、処理方法、土壌条件、対象作物、対象雑草等によっても異なるが、1ヘクタール当たり通常0.01g〜 10000g、好ましくは1g〜8000gであり、乳剤、水和剤、懸濁剤、濃厚エマルジョン、顆粒水和剤等は、通常その所定量を1ヘクタール当たり10リットル〜1000リットルの(必要ならば展着剤等の補助剤を添加した)水で希釈して処理し、粒剤、ある種の懸濁剤は通常なんら希釈することなくそのまま処理する。ここで、必要に応じて用いられる補助剤としては、前記の界面活性剤の他、ポリオキシエチレン樹脂酸(エステル)、リグニンスルホン酸塩、アビエチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸塩、クロップオイルコンセントレイト(crop oil concentrate) 、大豆油、コーン油、綿実油、ヒマワリ油等の植物油等が挙げられる。
【0038】
また、本発明化合物は、ワタの落葉剤・乾燥剤、ジャガイモ(Solanum tuberosum)の乾燥剤等の収穫補助剤の有効成分として用いることができる。その場合、本発明化合物を、除草剤の有効成分として用いる場合と同様に通常製剤化して、作物の収穫前に、単独または他の収穫補助剤と混合して茎葉処理する。
【0039】
【実施例】
以下、本発明を製造例、製剤例および試験例等により、さらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
まず、本発明化合物の製造例および中間体化合物である一般式〔a〕のヒドラゾン誘導体(一般式 化7のヒドラゾン類を含む)の製造例を示す。尚、本発明化合物は表1〜表5の化合物番号で示す。
製造例1 (本発明化合物2−631の製造)
酢酸ナトリウム8.0g(97.2mmol)と水50mlを混合した溶液に、氷冷下、1,1−ジブロモ−3,3,3−トリフルオロアセトン6.6g(24.3mmol)を加え、30分間80℃で反応させた。次に、反応液を、0℃に冷却し、これに、7−フルオロ−6−ヒドラジノ−4−プロパルギル−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン4.4g(18.7mmol)を加え、室温で2時間攪拌した。生じた結晶を濾集し、10mlの水で2回洗浄し、乾燥させることにより、7−フルオロ−6−トリフルオロアセチルメチリデンヒドラジノ−4−プロパルギル−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン〔別名 3,3,3−トリフルオロ−2−オキソ−プロパナール 1−(7−フルオロ−3−オキソ−4−プロパルギル−2−H−1,4−ベンゾオキサジン−6−イルヒドラゾン)〕6.3g(18.37 mmol)を得た。m.p.190.6 ℃(分解)
この化合物6.0g(17.5mmol)とトルエン50mlを混合した溶液に、カルボエトキシメチレントリフェニルホスホラン9.1g(26.2mmol)を加え、1時間加熱還流した。減圧下にトルエンを留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、7−フルオロ−6−〔5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル〕−4−プロパルギル−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン(本発明化合物2−631)1.3g(3.5mmol)を得た。
製造例2 (本発明化合物1−476の製造)
酢酸ナトリウム5.3g(53.5mmol)と水約100mlを混合した溶液に、氷冷下、1,1−ジブロモ−3,3,3−トリフルオロアセトン6.6g(24.3mmol)を加え、70℃で20分間反応させた。次に反応液を室温に冷却し、これに2−フルオロ−4−クロロ−5−イソプロポキシフェニルヒドラジン5.8g(21.5mmol)をジエチルエーテル約20mlに溶解した溶液を加え、室温で1時間攪拌した。エーテル層を分離、濃縮した残渣にTHF約60mlを加え、これにカルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン8.3g(23.0mmol)を加え、2時間加熱還流した。減圧下にTHFを留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−〔2−フルオロ−4−クロロ−5−イソプロポキシフェニル〕−4−メチル−5−トリフルオロメチルピリダジン−3−オン(本発明化合物1−476)を3.8g(10.5mmol)得た。
製造例3 (本発明化合物1−391の製造)
2−〔2−フルオロ−4−クロロ−5−イソプロポキシフェニル〕−4−メチル−5−トリフルオロメチルピリダジン−3−オン(本発明化合物1−476:製造例2にて製造)3.5g(9.7mmol)を氷冷下、濃硫酸約10mlに溶解し、室温まで昇温した。10分後、反応液に約100mlの水を加え、生じた結晶をろ集し、水20mlで2回およびヘキサン10mlで1回順次洗浄した。得られた結晶をイソプロパノールから再結晶して、2−〔2−フルオロ−4−クロロ−5−ヒドロキシフェニル〕−4−メチル−5−トリフルオロメチルピリダジン−3−オン(本発明化合物1−391)3.2g(9.0mmol)を得た。
製造例4 (本発明化合物1−486の製造)
本発明化合物1−391(製造例3にて製造) 3.2g(10mmol)をDMF約50mlに溶解し、これに室温で炭酸カリウム2.0g(13mmol)を加えた。さらにプロパルギルブロマイド1.3g(11mmol)を加え、30分室温で攪拌した後、水100mlを加えた。生じた結晶をろ集し、ヘキサンで洗浄後、イソプロパノールから再結晶し、本発明化合物1−486 3.4g(9mmol)を得た。
製造例5 (本発明化合物1−496の製造)
本発明化合物1−391(製造例3にて製造) 3.2g(10mmol)をDMF約50mlに溶解し、室温で水素化ナトリウム(60重量% オイルデイスパージョン 0.44g(11mmol)を加え、30分室温で放置後、氷冷下、ブロモ酢酸エチル1.8g(11mmol)を加えた。1時間室温で攪拌した後、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を10%HCl水、重そう水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物1−496 2.4g(5.5mmol)を得た。
製造例6 (本発明化合物2−251の製造)
酢酸ナトリウム5.3g(53.5mmol)と水約50mlを混合した溶液に、水冷下、1,1−ジブロモ−3,3,3−トリフルオロアセトン6.6g(24.3mmol)を加え、80℃で1時間反応させた。次に、反応液を0℃に冷却し、これに7−フルオロ−6−ヒドラジノ−4−プロパルギル−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン4.4g(18.7mmol)を加え、室温で2時間攪拌した。生じた結晶をロ集し、10mlの水で2回およびヘキサン10mlで1回順次洗浄後、包水のままトルエン50mlに溶解した。この溶液にカルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン8.8g(24.3mmol)を加え、1時間共沸脱水しながら加熱還流した。減圧下トルエンを留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物2−251 3.5g(9.01mmol)を得た。
製造例7 (本発明化合物2−328の製造)
酢酸ナトリウム5.3g(53.5mmol)と水約50mlを混合した溶液に水冷下、1,1−ジブロモ−3,3,3−トリフルオロアセトン6.6g(24.3mmol)を加え、1時間80℃で反応させた。次に反応液を0℃に冷却し、それに6−フルオロ−5−ヒドラジノ−3−(sec −ブチル)−1,3−ベンゾチアゾール−2−オン4.8g(18.7mmol)を加え、室温で2時間攪拌した。反応液にジエチルエーテル100mlを加え、攪拌した後、分液し、有機層を濃縮した。残渣をTHF50mlに溶解し、これにカルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン8.8g(24.3mmol)を加え、1時間加熱還流した。減圧下にTHFを留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物2−328 3.7g(9.6mmol)を得た。
製造例8 (本発明化合物1−347の製造)
濃硫酸50mlを氷冷し、これに本発明化合物1−341 7.0g(22.8mmol)を溶解した。これに発煙硝酸1.51g(24mmol)を5℃以下で滴下し、0〜5℃で1時間熟成させた。反応液を氷水300mlにあけ、50mlのジエチルエーテルで3回抽出後、抽出液を併せて水約100mlおよび重ソウ水100mlで順次洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、半濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物1−347 6.1g(17.4mmol)を得た。
製造例9 (本発明化合物1−353の製造)
鉄粉5.0g、酢酸75mlおよび水10mlを混合し、約80℃に昇温し、約15分熟成した。酢酸エチル40mlに本発明化合物1−347(製造例8にて製造) 6.0g(17.1mmol)を溶解し、80℃以下で滴下した。約80℃で1時間熟成後、室温まで放冷した。酢酸エチル100mlで2回抽出後、抽出液を併せて水50mlで2回および重ソウ水で1回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に酢酸エチルを留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物1−353 5.1g(15.9mmol)を得た。
【0040】
製造例10 (本発明化合物1−420の製造)
本発明化合物1−353(製造例9にて製造) 500mg(1.6mmol)と2−ブロモプロピオン酸エチル10ml(77.3mmol)を混ぜ、約160℃で約12時間加熱還流した。放冷後、反応液をそのままシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物1−420を260mg(0.6mmol)得た。
製造例11 (本発明化合物1−1622の製造)
アクリル酸エチル6ml(55.4mmol)、亜硝酸t−ブチル0.5g(4.8mmol)および塩化第2銅0.6g(4.5mmol)をアセトニトリル5ml中で混合し、氷冷した。アセトニトリル5mlに溶解した本発明化合物1−353(製造例9にて製造) 1.0g(3.1mmol)をこれに5℃以下で滴下し、一晩室温で熟成した。反応液を氷水にあけ、酢酸エチル100mlで2回抽出した。有機層を併せて希塩酸50mlで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を除去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物1−1622 0.51g(1.2mmol)を得た。
製造例12 (本発明化合物1−1221の製造)
酢酸ナトリウム5.3g(53.5mmol)と水約50mlを混合した溶液に氷冷下、1,1−ジブロモ−3,3,3−トリフルオロアセトン6.6g(24.3mmol)を加え、80℃で1時間反応させた。次に、反応液を0℃に冷却し、これに2−(2−クロロ−4−フルオロ−5−ヒドラジノフェニルチオ)プロピオン酸メチル5.2g(18.7mmol)を加え、室温で2時間攪拌した。生じた結晶をろ集し、10mlの水で2回およびヘキサン10mlで1回順次洗浄後、乾燥させた。これをTHF50mlに溶解し、カルボエトキシメチレントリフェニルホスホラン8.4g(22.4mmol)を加え、室温で3時間攪拌した。減圧下にTHFを留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物1−1221
3.8g(9.0mmol)を得た。
製造例13 (本発明化合物2−821の製造)
酢酸ナトリウム8.0g(97.2mmol)と水約50mlを混合した溶液に氷冷下、3,3−ジブロモ−1,1,1−トリフルオロブタノン6.9g(24.3mmol)を加え、30分間80℃で反応させた。次に、反応液を0℃に冷却し、これに7−フルオロ−6−ヒドラジノ−4−プロパルギル−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン4.4g(18.7mmol)を加え、室温で2時間攪拌した。生じた結晶をろ集し、10mlの水で2回洗浄し、乾燥させることにより、1,1,1−トリフルオロ−2,3−ブタンジオン 3−(7−フルオロ−3−オキソ−4−プロパルギル−2−H−1,4−ベンゾオキサジン−6−イルヒドラゾン)6.1g(17.0mmol)を得た。
この化合物6.1g(17.0mmol)とTHF50mlを混合した溶液にカルボエトキシメチレントリフェニルホスホラン7.1g(20.4mmol)を加え、1時間加熱還流した。減圧下にTHFを留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、7−フルオロ−6−〔6−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル〕4−プロパルギル−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン(本発明化合物2−821)0.61g(1.6mmol)を得た。
(参考例1)
製造例13で示した3,3−ジブロモ−1,1,1−トリフルオロ−2−ブタノンの製造例を示す。
酢酸270ml中に酢酸ナトリウム34.0gを溶解した。これに1,1,1−トリフルオロ−2−ブタノン25g(0.20 mol)を加え、15〜20℃に保ちながら、臭素66.3g(0.42 mol)を45分かけて滴下した。5時間温度を15〜20℃に保ちながら攪拌し、その後室温で68時間放置した。上澄液をとり、濃硫酸600mlで分液した。さらに濃硫酸307mlで洗浄し、常圧蒸留により3,3−ジブロモ−1,1,1−トリフルオロ−2−ブタノン28g(0.10 mol)を得た。
製造例14 (本発明化合物1−1346の製造)
酢酸ナトリウム5.3g(53.5mmol)と水約50mlを混合した溶液に氷冷下、3,3−ジブロモ−1,1,1−トリフルオロ−2−ブタノン6.9g(24.3mmol)を加え、80℃で1時間反応させた。次に、反応液を0℃に冷却し、これに2−クロロ−4−フルオロ−5−ヒドラジノフェノール3.3g(18.7mmol)を加え、室温で2時間攪拌した。生じた結晶をロ集し、10mlの水で2回およびヘキサン10mlで1回、順次洗浄し、乾燥後、THF50mlに溶解した。この溶液にカルボエトキシメチレントリフェニルホスホラン8.8g(24.3mmol)を加え、3時間室温で攪拌した。減圧下にTHFを留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物1−1346 0.51g(1.6mmol)を得た。
製造例15 (本発明化合物1−1441の製造)
本発明化合物1−1346(製造例14にて製造) 3.2g(10mmol)をDMF約50mlに溶解し、これに室温で炭酸カリウム2.0g(13mmol)を加えた。さらにプロパルギルブロマイド1.3g(11mmol)を加え、30分室温で攪拌した。反応液に水100mlを加え、生じた結晶をロ集し、ヘキサンで洗浄後、得られた結晶をイソプロパノールから再結晶し、本発明化合物1−1441 3.2g(8.5mmol)を得た。
製造例16 (本発明化合物1−499の製造)
製造例5において、ブロモ酢酸エチル1.8g(1 1mmol)にかえてクロロ酢酸ノルマルペンチル1.8g(1 1mmol)を加え、40℃で3時間攪拌した後、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を10%HCl水、重そう水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物1−499 3.8g(8.0mmol)を得た。
製造例17 (本発明化合物2−203の製造)
酢酸ナトリウム5.3g(53.5mmol)と水約50mlを混合した溶液に、氷冷下、1,1−ジブロモ−3,3,3−トリフルオロアセトン6.6g(24.3mmol)を加え、80℃で1時間反応させた。次に、反応液を0℃に冷却し、これに6−ヒドラジノ−4−プロパルギル−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン4.0g(18.7mmol)を加え、室温で2時間攪拌した。生じた結晶をロ集し、10mlの水で2回およびヘキサン10mlで1回、順次洗浄後、包水のままTHF50mlに溶解した。この溶液にカルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン8.8g(24.3mmol)を加え、3時間加熱還流した。減圧下にTHFを留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物2−203
3.3g(8.8mmol)を得た。
製造例18 (本発明化合物1−1222の製造)
酢酸ナトリウム5.3g(53.5mmol)と水約50mlを混合した溶液に、氷冷下、1,1−ジブロモ−3,3,3−トリフルオロアセトン6.6g(24.3mmol)を加え、80℃で1時間反応させた。次に、反応液を0℃に冷却し、これに2−(2−クロロ−4−フルオロ−5−ヒドラジノフェニルチオ)プロピオン酸エチル5.5g(18.7mmol)を加え、室温で2時間攪拌した。生じた結晶をロ集し、10mlの水で2回およびヘキサン10mlで1回、順次洗浄後、乾燥させた。これをTHF50mlに溶解し、カルボエトキシメチレントリフェニルホスホラン8.4g(22.4mmol)を加え、室温で3時間攪拌した。減圧下にTHFを留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物1−1222 4.3g(9.9mmol)を得た。
【0041】
製造例19 (本発明化合物1−476の製造)
酢酸ナトリウム5.3g(53.5mmol)と水約100mlを混合した溶液に、氷冷下、1,1−ジブロモ−3,3,3−トリフルオロアセトン6.6g(24.3mmol)を加え、70℃で20分間反応させた。次に反応液を室温に冷却し、これに2−フルオロ−4−クロロ−5−イソプロポキシフェニルヒドラジン5.8g(21.5mmol)をジエチルエーテル約20mlに溶解した溶液を加え、室温で1時間攪拌した。エーテル層を分離し、飽和食塩水10mlで1回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、ジエチルエーテルを留去し、3,3,3−トリフルオロ−2−オキソ−プロパナール 1−(4−クロロ−2−フルオロ−5−イソプロポキシフェニルヒドラゾン)6.5g(20.0mmol)〔 1H−NMR(250MHz、CDCl3 、TMS ,δ(ppm)) 1.39(6H, d, J=6.0Hz) 、4.38-4.52(1H, m)、7.15(1H, d, J=10.5Hz) 、7.22(1H, d, J=7.3Hz)、7.43(1H, q, J=1.7Hz)、9.18(1H, br)〕を得た。
この化合物を50mlのTHFに溶解し、これにカルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン8.3g(23.0mmol)を加え、2時間加熱還流した。減圧下にTHFを留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−〔2−フルオロ−4−クロロ−5−イソプロポキシフェニル〕−4−メチル−5−トリフルオロメチルピリダジン−3−オン(本発明化合物1−476)を3.8g(10.5mmol)得た。
製造例20 (本発明化合物1−642の製造)
酢酸ナトリウム5.3g(53.5mmol)と水約100mlを混合した水溶液に、氷冷下、1,1−ジブロモ−3,3,3−トリフルオロアセトン6.6g(24.3mmol)を加え、70℃で20分間反応させた。次に反応液を室温に冷却し、これに2−クロロ−4−フルオロ−5−ヒドラジノ安息香酸エチルのジエチルエーテル溶液〔これは次のようにして調製した:粗2−クロロ−4−フルオロ−5−ヒドラジノ安息香酸エチル塩酸塩5.8g(21.5mmol)を水30mlに溶解し、ジエチルエーテル100mlを加えた後、冷却しながら飽和炭酸水素ナトリウム溶液を加え、中和した。さらに飽和食塩水で洗浄して得た。〕を加え室温で2時間激しく攪拌した。エーテル層を分離し、飽和食塩水10mlで1回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、ジエチルエーテルを留去した。残渣をTHF50mlに溶解し、カルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン8.3g(23.0mmol)を加え、2時間加熱還流した。減圧下にTHFを留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物1−642 3.8g(10.0mmol)を得た。
(参考例2)
製造例20で示した2−クロロ−4−フルオロ−5−ヒドラジノ安息香酸エチル塩酸塩の製造例を示す。
2−クロロ−4−フルオロ安息香酸50g(0.29mol)を室温で塩酸150mlに溶解した。これに発煙硝酸28ml(0.31mol)と濃硫酸56mlを混合した混酸を35℃から45℃で滴下した。滴下後、溶液を40℃で1時間攪拌し、氷水250mlにあけた。生じた結晶をロ集し、ヘキサン/酢酸エチル混合液から再結晶し、2−クロロ−4−フルオロ−5−ニトロ安息香酸55g(0.25mol) を得た。
2−クロロ−4−フルオロ−5−ニトロ安息香酸55g(0.25mol)を酢酸エチル50mlに溶解し、これに塩化チオニル33g(0.28mol) を加え3時間加熱還流した後、室温まで放冷し、さらに氷水下でエタノール20mlおよびトリエチルアミン30gを加え、室温で2時間攪拌した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−4−フルオロ−5−ニトロ安息香酸エチル57g(0.23mol) を得た。
鉄粉60gを10%酢酸500mlと混合し、40℃に加熱した。一方、2−クロロ−4−フルオロ−5−ニトロ安息香酸エチル50g(0.20mol) を酢酸20mlと酢酸エチル20mlの混合溶液に溶解し、これを先の鉄粉−酢酸混合液に滴下した。滴下後50℃で1時間攪拌し、セライトロ過を行った。濾液に酢酸エチル100mlを加え抽出した。抽出液を重ソウ水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5−アミノ−2−クロロ4−フルオロ安息香酸エチル40g(0.18mol) を得た。
5−アミノ−2−クロロ−4−フルオロ安息香酸エチル19g (87.4mmol) を濃塩酸120mlに溶解した後、0℃に冷却した。これに、亜硝酸ナトリウム6.3g(91.7mmol)を水10mlに溶解した溶液を、10℃以下で滴下した。0℃で30分間攪拌後、溶液を−30℃に冷却し、これに塩化第2すず58g(0.31mol) を塩酸40mlに溶解した溶液を一気に加えた。その後0℃で3時間攪拌し、生じた結晶をロ集後、乾燥し、粗2−クロロ−4−フルオロ−5−ヒドラジノ安息香酸エチル塩酸塩13.6g(50.7mmol)を得た。
製造例21 (本発明化合物1−1789の製造)
本発明化合物1−391(製造例3にて製造)5.0g(15.5mmol)をDMF約50mlに溶解し、これに室温で炭酸カリウム2.8g(20.2mmol)を加えた。さらに3−ブロモ−2−メチル−1−プロペン1.5g(17.1mmol)を加え、30分室温で攪拌した。反応液に水100mlを加え、生じた結晶を濾集し、ヘキサンで洗浄後、得られた結晶をさらにイソプロパノールから再結晶し、本発明化合物1−1789 4.4g(13.2mmol)を得た。
製造例22 (本発明化合物4−451の製造)
本発明化合物1−1789(製造例21にて製造) 4.0g(12.0mmol)をN,N−ジメチルアニリン20mlに溶解し、180℃で3時間加熱した。室温まで冷却した後、酢酸エチル100mlを加え、1N塩酸溶液および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を留去すると、結晶が析出した。これをイソプロパノールから再結晶し、2−〔4−クロロ−6−フルオロ−3−ヒドロキシ−2−(2−メチル−2−プロペニル)〕−4−メチル−5−トリフルオロメチルピリダジン−3−オン3.4g(10.2mmol)を得た。(融点133.2℃)
これをキシレン30mlに溶解し、p−トルエンスルホン酸を触媒量加え、1時間加熱還流した。室温まで冷却した後、酢酸エチル100mlを加え、重ソウ水および食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマグラフィーに付し、本発明化合物4−451 3.0g(9.0mmol)を得た。
製造例23 (本発明化合物1−483の製造)
本発明化合物1−391(製造例3にて製造) 5.0g(15.5mmol)をDMF約20mlに溶解した後、室温で炭酸カリウム2.4g(17.1mmol)を加えた。この溶液を約40℃に加熱し、2,3−ジクロロプロペンを1.7g(17.1mmol)加えた。同温度で1時間反応させた後に反応液を放冷し、氷水にあけた。生じた結晶をロ集し、ヘキサンで洗浄し、得られた結晶をさらにイソプロパノールから再結晶し、本発明化合物1−483 5.2g(13.1mmol)を得た。
【0042】
製造例24 (本発明化合物3−139の製造)
本発明化合物1−483(製造例23にて製造) 3.0g(7.6mmol)をN,N−ジメチルアニリン10mlに溶解し、3時間加熱還流した。室温まで冷却した後、酢酸エチル50mlを加え、1N塩酸溶液および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を留去した。生じた結晶をイソプロパノールから再結晶し、2−〔4−クロロ−6−フルオロ−3−ヒドロキシ−2−(2−クロロ−2−プロペニル)〕−4−メチル−5−トリフルオロメチルピリダジン−3−オン2.2g(5.6mmol)〔 1H−NMR(300MHz、CDCl3 、TMS δ(ppm)) 2.41(3H, q, J=1.9Hz) 、3.56(1H, d, J=16.3Hz) 、3.72(1H, d, J=16.3Hz) 、4.91(1H, q, J=1.4Hz)、5.12(1H, d, J=1.5Hz)、5.72(1H, s) 、7.25(1H, d, J=8.7Hz)、8.00(1H, s) 〕を得た。
これを氷冷したトリフルオロメタンスルホン酸10mlに溶解し、氷冷下で攪拌した。30分後、反応液を氷水にあけ、生じた結晶をロ集し、得られた結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物3−139 1.9g(5.4mmol)を得た。
製造例25 (本発明化合物1−1744の製造)
2−クロロ−4−フルオロ−5−ヒドラジノ安息香酸エチル塩酸塩5.8 g(21.5mmol)に替えて2,4−ジクロロ−5−ヒドラジノ安息香酸エチル塩酸塩〔該化合物は前記参考例2の方法を用いて2,4−ジクロロ安息香酸から合成した。〕6.1g(21.5mmol)を用いる以外は製造例20と同様の操作を行い、本発明化合物1−1744 4.8g(12.2mmol)を得た。
製造例26 (本発明化合物1−1279の製造)
酢酸ナトリウム5.3g(53.5mmol)と水約100mlを混合した水溶液に、氷冷下、1,1−ジブロモ−3,3,3−トリフルオロアセトン6.6g(24.3mmol)を加え、70℃で20分間反応させた後、室温に冷却した。これに2−クロロ−4−フルオロ−5−ヒドラジノ安息香酸エチルのジエチルエーテル溶液〔これは次のようにして調製した:2−クロロ−4−フルオロ−5−ヒドラジノ安息香酸エチル塩酸塩5.8g(21.5mmol)を水30mlに溶解し、ジエチルエーテル100mlを加え、冷却しながら飽和炭酸水素ナトリウム溶液を加え中和した。さらに飽和食塩水で洗浄して得た。〕を加え、室温で2時間激しく攪拌した。エーテル層を分離し、飽和食塩水10mlで1回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、ジエチルエーテルを留去した。残渣に少量のヘキサンを加え、2−クロロ−4−フルオロ−5−(2−オキソ−3,3,3−トリフルオロプロピリデンヒドラジノ)安息香酸エチル4.3g(12.6mmol)を得た。これをTHF50mlに溶解し、カルボエトキシメチレントリフェニルホスホラン5.0g(14.4mmol)を加え、2時間加熱還流した。減圧下にTHFを留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物1−1279 3.6g(9.7mmol)を得た。
製造例27 (本発明化合物1−1780の製造)
酢酸ナトリウム50g(0.61mol)と1,1−ジブロモ−3,3,3−トリフルオロアセトン41g(0.14mol)とを水500mlを混合し、80℃で30分間攪拌した後、0℃まで冷却した。これに4−ブロモ−2−フルオロ−5−イソプロポキシフェニルヒドラジン塩酸塩45g(0.14mol)を10℃以下で添加し、10℃以下で3時間攪拌した。生じた結晶をロ集、乾燥し、3,3,3−トリフルオロ−2−オキソプロパナール−1−(4−ブロモ−2−フルオロ−5−イソプロポキシフェニルヒドラゾン)25g(94.3mmol)を得た。
カルボエトキシメチレントリフェニルホスホラン16g(46.0mmol)と3,3,3−トリフルオロ−2−オキソプロパナール−1−(4−ブロモ−2−フルオロ−5−イソプロポキシフェニルヒドラゾン)16g(43.1mmol)をTHF100ml中室温で4時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物1−1780 9.4g(23.8mmol)を得た。
(参考例3)
製造例27で示した4−ブロモ−2−フルオロ−5−イソプロポキシフェニルヒドラジン塩酸塩の製造例を示す。
2−ブロモ−4−フルオロフェノール93g(0.49mol)を水200mlに懸濁させた中に、クロロギ酸メチル55g(0.59mol)と水酸化ナトリウム水溶液(NaOH21.5g(0.51mol)およびH2 O60mlから調製)を10℃以下で併注滴下した。滴下終了後、同温度で2時間攪拌した後、生じた結晶をロ集し、水で洗浄後、バキュームオーブンで乾燥することにより、2−ブロモ−4−フルオロフェノキシギ酸メチル111.6g(0.45mol)を得た。
2−ブロモ−4−フルオロフェノキシギ酸メチル110g(0.44mol)を硫酸250mlに溶解させた液に5℃以下で混酸(発煙硝酸30gおよび硫酸30mlから調製)を滴下した。そのまま2時間攪拌した後、反応液を氷にあけた。析出した結晶をロ集し、水で洗浄後、乾燥することにより、2−ブロモ−4−フルオロ−5−ニトロフェノキシギ酸メチル126g(0.43mol)を得た。
2−ブロモ−4−フルオロ−5−ニトロフェノキシギ酸メチル125g(0.43mol)を水200mlに懸濁させた液に、水酸化ナトリウム19g(0.47mol)を加え、50〜60℃で4時間攪拌した。反応液を室温まで冷却し、クロロホルムで洗浄した。水層を塩酸水で酸性とした後、酢酸エチルで抽出し、抽出液を乾燥後、濃縮し、2−ブロモ−4−フルオロ−5−ニトロフェノール104g(0.43mol)を得た。
2−ブロモ−4−フルオロ−5−ニトロフェノール100g(0.42mol)をDMF400mlに溶解させた後、炭酸カリウム70g(0.50mol)を加えた。その後50℃に昇温し、ヨウ化イソプロピル94g(0.55mol)を滴下した。滴下終了後、45〜50℃で1時間攪拌した。反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水および希塩酸で順次洗浄し、乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−ブロモ−4−フルオロ−5−ニトロフェニルイソプロピルエーテル99.8g(0.36mol)を得た。
2−ブロモ−4−フルオロ−5−ニトロフェニルイソプロピルエーテル60g(0.22mol)を酢酸エチル300mlに溶解し、10%−パラジウムカーボン1.0gを加えて、水素雰囲気下で還元反応を行った。反応終了後、ロ過によりパラジウムカーボンを除き、ロ液を濃縮し、4−ブロモ−2−フルオロ−5−イソプロポキシアニリン52g(0.21mol)を得た。
塩化第2すず108g(0.57mol)を濃塩酸100mlに溶解させて−30℃に冷却した後、これにジアゾニウム溶液〔4−ブロモ−2−フルオロ−5−イソプロポキシアニリン47g(0.19mol)、亜硝酸ナトリウム13.5g(0.20mol)および塩酸120mlから調製〕を0℃以下で滴下した。滴下終了後、2時間室温で攪拌した。生じた結晶をロ集し、バキュームオーブンで乾燥し、粗4−ブロモ−2−フルオロ−5−イソプロポキシフェニルヒドラジン塩酸塩45g(0.14mol)を得た。
製造例28 (本発明化合物1−1783の製造)
カルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン19g(52.4mmol)と3,3,3−トリフルオロ−2−オキソプロパナール 1−(4−ブロモ−2−フルオロ−5−イソプロピルオキシフェニルヒドラゾン)(製造例27にて製造)19g(63.2mmol)をTHF100ml中で5時間加熱還流させた。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物1−1783 9.1g(22.2mmol)を得た。
製造例29 (本発明化合物1−1748の製造)
4−ブロモ−2−フルオロ−5−イソプロポキシフェニルヒドラジン塩酸塩45g(0.14mol)にかえて2,4−ジクロロ−5−イソプロポキシフェニルヒドラジン塩酸塩〔該化合物は、2,4−ジクロロフェノールから参考例3に示した方法に準じて合成した。〕41g(0.14mol)を用いる以外は製造例27の前半部分と同様の操作を行い、3,3,3−トリフルオロ−2−オキソプロパナール1−(2,4−ジクロロ−5−イソプロポキシフェニルヒドラゾン)31.3g(91.3mol)を得た。次にこれとカルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン40g(0.11mol)とをTHF100ml中で5時間加熱還流させた。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、本発明化合物1−1748 21g(54.8mol)を得た。
製造例30 (本発明化合物1−1029の製造)
2−(4−ブロモ−2−フルオロ−5−イソプロピルオキシフェニル)−5−トリフルオロメチルピリダジン−3−オン(本発明化合物1−1780:製造例27にて製造)9g(22.8mmol)を濃硫酸50ml中に加え、そのまま1時間攪拌した。反応液を氷にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を乾燥し、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=5:1)に付し、本発明化合物1−1029 5.9g(16.7mmol)を得た。
製造例31 (本発明化合物1−392の製造)
2−(4−ブロモ−2−フルオロ−5−イソプロピルオキシフェニル)−4−メチル-5- トリフルオロメチルピリダジン−3−オン(本発明化合物1−1783:製造例28にて製造)9g(22.0mmol)を濃硫酸50ml中に加え、そのまま1時間攪拌した。反応液を氷にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を乾燥し、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=5:1)に付し、本発明化合物1−392 4.2g(11.5mmol)を得た。
製造例32 (本発明化合物1−1274の製造)
酢酸ナトリウム7.4g(90.2mmol)と1,1−ジブロモ−3,3,3−トリフルオロアセトン8.0g(28.2mmol)を水70mlに混合し、80℃で30分間攪拌した後、冷却した。そこへ2−クロロ−5−ヒドラジノ桂皮酸エチル7.0gを10℃以下で加えて、そのまま3時間攪拌した。生じた結晶をロ集した後、乾燥し、2−クロロ−5−(3,3,3−トリフルオロ−2−オキソプロピリデンヒドラジノ)桂皮酸エチル9.6g(27.5mmol)を得た。〔 1H−NMR(250MHz、CDCl3 、TMS δ(ppm)) 1.36(3H, t, J=6.9Hz) 、4.30(2H, q, J=6.9Hz)、6.4 〜6.6(1H, m)、7.2 〜7.5(3H, m)、7.65(1H, d, J=2.5Hz)、8.0 〜8.1(1H, m)〕
次に、カルボエトキシメチレントリフェニルホスホラン1.0g(2.9mmol)と2−クロロ−5−(3,3,3−トリフルオロ−2−オキソプロピリデンヒドラジノ)桂皮酸エチル1.0g(2.9mmol)をTHF10ml中室温で1時間攪拌した。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=5:1)に付し、本発明化合物1−1274 0.43g(11.5mmol)を得た。
(参考例4)
製造例32で示した2−クロロ−5−ヒドラジノ桂皮酸エチルは、以下の方法で製造した。
塩化第2すず60gを濃塩酸60mlに溶解し、−30℃まで冷却後、これにジアゾニウム溶液(5−アミノ−2−クロロ桂皮酸エチル19gと亜硝酸ナトリウム6.3gから調製)を0℃以下で滴下した。その後、室温で1時間攪拌し、生じた結晶をロ集した。その結晶を氷水に加え、2N−NaOH水で中和した後、クロロホルムで抽出した。抽出液を乾燥後、濃縮して、2−クロロ−5−ヒドラジノ桂皮酸エチル7.0gを得た。
製造例33 (本発明化合物1−637の製造)
カルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン1.1g(2.9mmol)と2−クロロ−5−(3,3,3−トリフルオロ−2−オキソプロピリデンヒドラジノ)桂皮酸エチル(製造例32の前半部分で製造)1.0g(2.9mmol)をTHF10ml中で3時間加熱還流させた。反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=5:1)に付し、本発明化合物1−637 0.66g(1.7mmol)を得た。
製造例34 (本発明化合物1−367の製造)
本発明化合物1−353(製造例9にて製造) 0.5g(1.6mmol)をピリジン1.5mlに溶解した後、室温でこれにメタンスルホニルクロライド0.2g(1.7mmol)を滴下した。そのまま2時間攪拌後、反応液を氷水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を希塩酸で洗浄し、乾燥後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=3:1)に付し、本発明化合物1−367 0.42g(1.1mmol)を得た。
製造例35 (本発明化合物1−369の製造)
メタンスルホニルクロライド0.2g(1.7mmol)にかえてクロロメチルスルホニルクロライド0.23g(1.6mmol)を用いた以外は製造例34と同様の操作を行い、本発明化合物1−369 0.38g(0.91mmol)を得た。
製造例36 (本発明化合物1−391の製造)
5−アミノ−2−クロロ−4−フルオロフェノール(該化合物はヨーロッパ特許出願公開明細書EP−61741−Aに記載の方法で製造した)32.3gを濃塩酸150mlと混合し、50℃で30分間攪拌した。この混合液に、亜硝酸ナトリウム15gを水40mlに溶解したものを、0℃で10分かけて滴下した。0℃で1時間攪拌した後、−50℃に冷却した。これに塩化第1スズ132gを濃塩酸132gに溶解したものを−50℃ですばやく滴下し、徐々に室温に戻し、1時間攪拌した。生じた固体を濾集し、減圧下80℃で乾燥し、2−フルオロ−4−クロロ−5−ヒドロキシフェニルヒドラゾン塩酸塩の粗結晶を75g得た。
〔 1H−NMR(DMSO-d6 ,TMS,δ(ppm)) 3〜5(2H, b)、6.73(1H, d) 、7.22(1H, d) 、8.20(1H, s) 、9 〜11(2H, b) 〕
酢酸ナトリウム49.2gおよび1,1−ジブロモ−3,3,3−トリフルオロアセトン40.5gを水400mlに溶解し、80〜90℃で40分間加熱した。この溶液を0℃に冷却し、上で得られた2−フルオロ−4−クロロ−5−ヒドロキシフェニルヒドラジン塩酸塩の粗結晶75gを加えた。室温で70分間攪拌し、生じた結晶をロ集し、減圧乾燥して、3,3,3−トリフルオロ−2−オキソプロパナール 1−(4−クロロ−2−フルオロ−5−ヒドロキシフェニルヒドラゾン)35.4gを得た。〔 1H−NMR(300MHz、CDCl3 、TMS δ(ppm)) 5.49(s, 1H)、7.15(d, J=10.5, 1H) 、7.24(d, J=7.4, 1H)、7.38(q, J=1.8, 1H)、8.75(s, 1H) 〕
得られた3,3,3−トリフルオロ−2−オキソプロパナール 1−(4−クロロ−2−フルオロ−5−ヒドロキシフェニルヒドラゾン)12.9gおよびカルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン22.3gをTHF110mlに溶解し3時間加熱還流した。減圧で溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−(2−フルオロ−4−クロロ−5−ヒドロキシフェニル)−4−メチル−5−トリフルオロメチルピリダジン−3−オン(本発明化合物1−391)8.8gを得た。
【0043】
製造例37 (本発明化合物1−332の製造)
3,3,3−トリフルオロ−2−オキソ−1−プロパナール 1−(4−クロロフェニルヒドラゾン)2g、ジエチルホスホノ酢酸エチル2gおよびトリエチルアミン20mlを混合し、50℃で24時間反応させた。減圧下に溶媒を留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−(4−クロロフェニル)−5−トリフルオロメチルピリダジン−3−オン(本発明化合物1−332)1.16gを得た。
(参考例5)
製造例19で製造した3,3,3−トロフルオロ−2−オキソプロパナール
1−(4−クロロ−2−フルオロ−5−イソプロポキシフェニルヒドラゾン)は以下の方法により製造することもできる。
4,4,4−トリフルオロアセト酢酸エチル20.1gと酢酸ナトリウム25gを水150mlに溶解させた溶液に、ジアゾニウム塩酸溶液(4−クロロ−2−フルオロ−5−イソプロポキシアニリン20.3g、濃塩酸20ml、水20mlおよび亜硝酸ナトリウム7.3gから調製)を10℃以下で滴下した。滴下終了後、1時間室温で攪拌した後、生じた結晶をロ集し、水で洗浄した後、乾燥し、エステル体34gをオレンジ色結晶として得た。(収率85%)
1,4−ジオキサン30mlと水3ml中に上記反応で得られたエステル体15.9gと水酸化リチウム−水和物1.7gを加え、6時間加熱還流した。反応液を氷水にあけ、希塩酸で中和した後、酢酸エチルで抽出し、抽出液を乾燥した後、濃縮した。得られた結晶をヘキサンで洗浄し、カルボン酸体11.3gを黄色結晶として得た。(収率76.3%)
上記反応で得られたカルボン酸体7.4gをDMF42mlに溶解し、100℃に反応液を昇温し、そのまま30分間保温した。その後室温まで冷却し、水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を希塩酸水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮して、目的物5.9gをオレンジ色結晶として得た。(収率90%)〔 1H−NMR(250MHz、CDCl3 、TMS 、δ(ppm)) 1.39(6H, d, J=6.0Hz) 、4.38〜4.52(1H, m) 、7.15(1H, d, J=10.5Hz) 、7.22(1H, d, J=7.3Hz)、7.43(1H,
q, J=1.7Hz)、9.18(1H, br)〕
(参考例6)
参考例5の方法に準じて、製造例37で示した3,3,3−トリフルオロ−2−オキソ−1−プロパナール 1−(4−クロロフェニルヒドラゾン)を合成した。
即ち、1,4−ジオキサン30mlと水2mlとの混合液に出発物質であるエステル体5.0gと水酸化リチウム−水和物0.67gを加え、1.5時間加熱還流した。反応液を氷水にあけ、希塩酸で中和した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を乾燥した後、濃縮した。得られた結晶をヘキサン−ジエチルエーテル混合溶媒(ヘキサン:ジエチルエーテル=2:1)で洗浄してカルボン酸体3.3gを黄色結晶として得た。(収率73%)
方法1) 上記反応で得られたカルボン酸体3.3gをジメチルスルホキシド10mlに溶解させ、100℃に反応液を昇温し、そのまま10分間保温した。その後室温まで冷却し、反応液をそのままシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=7:1)に付し、目的物2.55gを得た。(収率91%)
方法2) トルエン40ml中に、上記反応で得られたカルボン酸体5.0g、キノリン0.5mlおよび銅粉0.1gとを加えた反応溶液を100℃に昇温し、そのまま20分間保温した。反応液を室温まで冷却し、そのままシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=8:1))に付し、目的物3.6gを得た。(収率86%)
【0044】
本発明化合物の例のいくつかを化合物番号とともに表1〜表5に示す。表中のnはノルマルをiはイソをsはセカンダリーをcはシクロをそれぞれ表す。
【表1】
【0045】
【0046】
【0047】
【0048】
【0049】
【0050】
【0051】
【0052】
【0053】
【0054】
【0055】
【0056】
【0057】
【0058】
【0059】
【0060】
【0061】
【0062】
【0063】
【0064】
【0065】
【0066】
【0067】
【0068】
【0069】
【0070】
【0071】
【0072】
【0073】
【0074】
【0075】
【0076】
【0077】
【0078】
【0079】
【0080】
【0081】
【0082】
【0083】
【0084】
【0085】
【0086】
【0087】
【0088】
【0089】
【0090】
【0091】
【0092】
【0093】
【0094】
【0095】
【0096】
【0097】
【0098】
【0099】
【0100】
【0101】
【0102】
【0103】
【0104】
【0105】
【0106】
【0107】
【0108】
【0109】
【0110】
【0111】
【0112】
【0113】
【0114】
【0115】
【0116】
【0117】
【0118】
【表2】
【0119】
【0120】
【0121】
【0122】
【0123】
【0124】
【0125】
【0126】
【0127】
【0128】
【0129】
【0130】
【0131】
【0132】
【0133】
【0134】
【0135】
【0136】
【0137】
【0138】
【0139】
【0140】
【0141】
【0142】
【0143】
【0144】
【0145】
【0146】
【0147】
【0148】
【0149】
【0150】
【0151】
【0152】
【0153】
【0154】
【0155】
【0156】
【0157】
【0158】
【0159】
【0160】
【0161】
【表3】
【0162】
【0163】
【0164】
【0165】
【0166】
【0167】
【0168】
【0169】
【0170】
【0171】
【0172】
【0173】
【0174】
【0175】
【0176】
【0177】
【0178】
【0179】
【0180】
【0181】
【0182】
【0183】
【0184】
【0185】
【0186】
【0187】
【表4】
【0188】
【0189】
【0190】
【0191】
【0192】
【0193】
【0194】
【0195】
【0196】
【0197】
【0198】
【0199】
【0200】
【0201】
【0202】
【0203】
【0204】
【0205】
【0206】
【0207】
【0208】
【0209】
【0210】
【0211】
【0212】
【0213】
【0214】
【0215】
【0216】
【0217】
【0218】
【0219】
【0220】
【0221】
【0222】
【0223】
【0224】
【0225】
【0226】
【0227】
【0228】
【0229】
【表5】
【0230】
【0231】
【0232】
【0233】
【0234】
次に、本発明化合物のうちのいくつかについて、その物性値〔融点( m.p.)または 1H−NMR(250M Hz または300M Hz, CDCl 3 ,TMS, δ(ppm))データ〕を示す。尚、本発明化合物は表1から表5の化合物番号で示す。
1−332 m.p. 97.0 ℃
1−335 m.p. 80.8 ℃
1−337 m.p. 91.5 ℃
1−338 m.p. 86.1 ℃
1−344 m.p. 94.2 ℃
1−347 m.p. 80.7 ℃
1−350 2.41(3H,q, J=1.8Hz)、4.05-4.35(2H,b) 、6.87-6.94(1H,m) 、7.03(1H,d, J=2.4Hz)、7.33(1H,d, J=8.5Hz)、7.98(1H,s)
1−353 m.p. 124.0 ℃
1−367 2.44(3H,q, J=1.9Hz)、3.04(3H,s)、6.88(1H,s)、7.37(1H,d, J=9.0Hz)、7.79(1H,d, J=7.0Hz)、8.01(1H,s)
1−369 2.44(3H,q, J=2.0Hz)、4.57(2H,s)、7.06(1H,s)、7.38(1H,d, J=9.0Hz)、7.83(1H,d, J=6.9Hz)、8.01(1H,s)
1−391 m.p. 177.6 ℃
1−392 m.p. 172.5 ℃
1−398 m.p. 133.1 ℃
1−420 1.25(3H,t, J=7.5Hz)、1.51(3H,d, J=7.0Hz)、2.42(3H,q, J=1.8Hz)、4.0-4.18(3H,m)、4.82(1H,d, J=7.9Hz)、6.59(1H,d, J=6.3Hz)、7.23(1H,d, J=9.3Hz)、7.97(1H,s)
1−429 1.40(6H,d, J=6.3Hz)、2.43(3H,q, J=2.4Hz)、4.52-4.63(1H,m) 、7.14(0.5H,d, J=2.4Hz)、7.17(0.5H,d, J=2.4Hz)、7.24(1H,d, J=3.6Hz)、7.29(1H,s)、7.46(1H,d, J=8.4Hz)
1−439 m.p. 110.6 ℃
1−449 1.29(3H,t, J=7.5Hz)、2.42(3H,q, J=2.4Hz)、4.28(2H,q, J=7.5Hz)、4.73(2H, s) 、7.20〜7.32(2H,m)、7.49(1H,d, J=10.4Hz) 、8.00(1H,s)1−456 1.70(3H,d, J=6.9Hz)、2.41(3H,q, J=2.1Hz)、3.77(3H,s)、4.81(1H,q, J=6.9Hz)、7.21-7.28(2H,m) 、7.47(1H,d, J=8.7Hz)、7.99(1H,s)
1−474 m.p. 110.6 ℃
1−475 1.46(3H,t, J=5.8Hz)、2.44(3H,q, J=1.5Hz)、4.07(2H,q, J=5.8Hz)、6.94(1H,d, J=5.0Hz)、7.29(1H,d, J=7.5Hz)、8.01(1H,s)
1−476 1.38(6H,d, J=6.3Hz)、2.43(3H,q, J= 2.0Hz) 、4.47(1H,m)、6.99(1H,d, J=5.0Hz)、7.29(1H,d, J=9.5Hz)、8.00(1H,s)
1−482 m.p. 79.8 ℃
1−483 m.p. 132.7 ℃
1−486 m.p. 140.7 ℃(分解)
1−487 m.p. 114.1 ℃
1−491 m.p. 82.9℃
1−495 m.p. 80.4℃
1−496 m.p. 102.0 ℃
1−497 m.p. 82.9℃
1−498 m.p. 75.6℃
1−499 0.88(3H,t, J=7Hz)、1.2-1.4(4H,m) 、1.55-1.70(2H,m) 、2.43(3H,q,J =2Hz)、4.19(2H,t, J=7Hz)、4.68(2H,s)、6.98(1H,d, J=7Hz)、7.33(1H,d, J=8Hz)、7.99(1H,s)
1−500 1.26(6H,d, J=6.3Hz)、2.43(3H,q, J=2Hz)、4.65(2H,s)、5.05-5.18(1H,m) 、6.98(1H,d, J=7Hz)、7.33(1H,d, J=8Hz)、7.98(1H,s)
1−501 1.5-1.9(8H,m) 、2.43(3H,q, J=2Hz)、4.65(2H,s)、5.2-5.4(1H,m) 、6.97(1H,d, J=7Hz)、7.33(1H,d, J=8Hz)、7.98(1H,s)
1−503 1.68(3H,d, J=7Hz)、2.43(3H,q, J=2Hz)、3.76(3H,s)、4.73(1H,q, J=7Hz)、6.98(1H,d, J=7Hz)、7.32(1H,d, J=8Hz)、7.99(1H,s)
1−504 1.25(3H,t, J=7.3Hz)、1.68(3H,d, J= 6.8Hz) 、2.42(3H,q, J=2.0Hz)、4.21(2H,q, J=7.3Hz)、4.70(1H,q, J=6.8Hz)、6.99(1H,d, J=6.8Hz)、7.32(1H,d, J=9.3Hz)、7.98(1H,s)
1−511 m.p. 110.7 ℃
1−518 m.p. 131.2 ℃(分解)
1−576 2.43(3H,q, J=1.8Hz)、3.67(2H,s)、3.72(3H,s)、7.32(1H,d, J=8.5Hz)、7.59(1H,d, J=7.1Hz) 、8.2(1H,s)
1−577 1.15(3H,t, J=7.5Hz)、2.36(3H,q, J=1.8Hz)、3.58(2H,s)、4.09(2H,q, J=7.5Hz)、7.28(1H,d, J= 8.6Hz) 、7.52(1H,d, J=7.1Hz)、7.93(1H,s)
【0235】
1−579 m.p. 71.6 ℃
1−581 m.p. 97.5 ℃
1−584 1.53(3H,d, J=7.2Hz)、2.43(3H,q, J=1.8Hz)、3.66(3H,s)、3.88(1H,q, J=7.2Hz)、7.38(1H,d, J=9.6Hz)、7.66(1H,d, J=7.5Hz)、7.99(1H,s)1−585 1.17(3H,t, J=6.9Hz)、1.53(3H,d, J=7.2Hz)、2.43(3H,q, J=1.8Hz)、3.89(1H,q, J=7.2Hz)、4.11(2H,q, J=6.9Hz)、7.37(1H,d, J=9.6Hz)、7.67(1H,d, J=9.0Hz)、7.99(1H,s)
1−586 0.85(3H,t, J=6.8Hz)、1.51-1.62(5H,m) 、2.43(3H,q, J=1.8Hz)、3.89(1H,q, J=7.2Hz)、4.02(2H,t, J=6.8Hz)、7.33(1H,d, J=9.5Hz)、7.66(1H,d, J=7.5Hz)、7.98(1H,s)
1−587 0.88(3H,t, J=7.2Hz)、1.30-1.40(2H,m) 、1.47-1.55(5H,m) 、2.43(3H,q, J=1.8Hz)、3.89(1H,q, J=7.1Hz)、4.02-4.08(2H,m) 、7.36(1H,d, J=9.4Hz)、7.66(1H,d, J=7.5Hz)、7.99(1H,s)
1−619 2.45(3H,q, J=1.6Hz)、7.60(1H,d, J=8.6Hz)、7.80-7.86(1H,m) 、8.04(1H,s)、8.36(1H,d, J=2.5Hz)
1−621 1.40(3H,t, J=7.1Hz)、2.43(3H,q, J=1.8Hz)、4.41(2H,q, J=7.1Hz)、7.56(1H,d, J=8.6Hz)、7.72-7.78(1H,m) 、8.02(1H,s)、8.16(1H,d, J=2.7Hz)
1−625 1.39(6H,d, J=6.2Hz)、2.43(3H,q, J=1.6Hz)、5.23-5.28(1H,m) 、7.54(1H,d, J=8.7Hz)、7.70-7.76(1H,m) 、8.02(1H,s)、8.10(1H,d, J=2.6Hz)
1−632 m.p. 76.1 ℃
1−637 m.p. 102.8 ℃
1−641 2.43(3H,q, J=2.0Hz)、3.92(3H,s)、7.39(1H,d, J=9.5Hz)、8.02(1H,s)、8.07(1H,d, J=7.7Hz)
1−642 1.39(3H,t, J=7.2Hz)、2.44(3H,q, J=1.9Hz)、4.40(2H,q, J=7.2Hz)、7.38(1H,d, J=9.5Hz)、8.00〜8.06(2H,m)
1−981 m.p. 87.1 ℃
1−987 4.0-4.4(2H,b) 、6.8-6.9(1H,m) 、7.04(1H,d, J=2.4Hz)、7.28(1H,q, J=1.2Hz)、7.35(1H,d, J=8.6Hz)、8.02(1H,d, J=2.2Hz)
1−1025 5.92(1H,s)、7.16(0.5H,d, J=2.4Hz)、7.19(0.5H,d, J=2.4Hz)、7.30(1H,q, J=1.1Hz)、7.34(1H,d, J=5.7Hz)、7.43(1H,d, J=9.0Hz)、8.04(1H,q, J=3.0Hz)
1−1028 5.65-5.9(1H,br) 、7.09(1H,d,J =7Hz)、7.27-7.30(2H,m) 、8.10(1H,q, J=2.2Hz)、m.p. 180.2 ℃
1−1029 7.09(1H,d, J=6.4Hz)、7.31(1H,q, J=1.1Hz)、7.42(1H,d, J=8.8Hz)、8.04(1H,q, J=2.2Hz)
1−1035 m.p. 61.1 ℃
1−1057 m.p. 158 ℃
1−1066 m.p. 89.1 ℃
1−1076 m.p. 113.5 ℃
1−1086 m.p. 83.9 ℃
1−1093 m.p. 83.1 ℃
1−1113 m.p. 68.6℃
1−1123 m.p. 147.4 ℃
1−1124 m.p. 117.2 ℃
1−1133 m.p. 149.2 ℃(分解)
1−1140 m.p. 99.1 ℃
1−1141 m.p. 80.2 ℃
1−1213 m.p. 85.8 ℃
1−1214 m.p. 65.1 ℃
1−1221 1.54(3H,d, J=7.2Hz)、3.66(3H,s)、3.90(1H,q, J=7.2Hz)、7.31(1H,s)、7.39(1H,d, J=9.0Hz)、7.67(1H,d, J=8.7Hz)、8.04(1H,d, J=3.6Hz)1−1222 1.16(3H,t, J=5.1Hz)、1.53(3H,d, J=7.2Hz)、3.89(1H,q, J=7.2Hz)、4.10(2H,q, J=5.1Hz)、7.30(1H,q, J=1.1Hz)、7.38(1H,d, J=9.0Hz)、7.68(1H,d, J=7.5Hz)、8.04(1H,q, J=2.2Hz)
1−1226 1.12(3H,d, J=6.0Hz)、1.21(3H,d, J=6.0Hz)、1.52(3H,d, J=3.0Hz)、3.88(1H,q, J=3.0Hz)、4.85-5.03(1H,m) 、7.30(1H,q, J=1.8HZ)、7.37(1H,d, J=9.0Hz)、7.67(1H,d, J=7.5Hz)、8.02(1H,q, J=2.1Hz)
1−1256 7.35(1H,q, J=1.1HZ)、7.62(1H,d, J=8.7Hz)、7.82-7.88(1H,m) 、8.09(1H,d, J=2.2Hz)、8.35(1H,d, J=2.6Hz)
1−1258 1.41(3H,t, J=7.1Hz)、4.42(2H,q, J=7.1Hz)、7.31(1H,s)、7.57(1H,d, J=8.7HZ)、7.74-7.79(1H,m) 、8.07(1H,q, J=2.1Hz)、8.16(1H,d, J=2.6Hz)
1−1269 m.p. 89.7 ℃
1−1274 m.p. 154.2 ℃
1−1278 m.p. 128.6 ℃
【0236】
1−1279 1.40(3H,t, J=7.1Hz)、4.40(2H,q, J=7.1Hz)、7.33(1H,q, J=1.1Hz)、7.39(1H,d, J=9.4Hz)、8.05(1H,d, J=8.3Hz)、8.07(1H,s)
1−1346 2.48(3H,s)、5.66(1H,s)、7.08(1H,d, J=7.8Hz)、7.28(1H,d, J=9.0Hz)、7.32(1H,s)
1−1431 m.p. 74.5 ℃
1−1441 m.p. 128.2 ℃
1−1442 1.73(3H,d, J=6.6Hz)、2.49(3H,q, J=1.3Hz)、2.54(1H,d, J=2.0Hz)、4.84(1H,m)、7.22(1H,d, J=6.5Hz)、7.28〜7.34(2H,m)
1−1451 1.29(3H,t, J=7.0Hz)、2.47(3H,q, J=1.4Hz)、4.27(2H,q, J=7.0Hz)、4.68(2H,s)、6.99(1H,d, J=7.1Hz)、7.32(1H,s)、7.34(1H,d, J=7.2Hz)1−1458 1.69(3H,d, J=6.8Hz)、2.48(3H,q, J=1.3Hz)、3.76(3H,s)、4.74(1H,q, J=6.8Hz)、7.01(1H,d, J=6.5Hz)、7.29〜7.34(2H,m)
1−1540 1.17(3H,t, J=7.0Hz)、1.54(3H,d, J=7.3Hz)、2.48(3H,q, J=1.4Hz)、3.89(1H,q, J=7.3Hz)、4.11(2H,q, J=7.0Hz)、7.31(1H,s)、7.37(1H,d, J=9.5Hz)、7.67(1H,d, J=7.5Hz)
1−1617 m.p. 105.7 ℃
1−1622 1.27(3H,t, J=7.0Hz)、2.42(3H,q, J=2.0Hz)、3.26(0.3H,d, J=7.6Hz)、3.32(0.7H,d, J=7.6Hz)、3.49(0.7H,d, J=7.6Hz)、3.54(0.3H,d, J=7.6Hz)、4.23(2H,q, J=7.0Hz)、4.54(0.5H,d, J=7.6Hz)、4.57(0.5H,d, J=7.6Hz)、7.34(1H,d, J=9.3Hz)、7.40(1H,d, J=7.5Hz)、8.00(1H,s)
1−1627 m.p. 182.2 ℃
1−1638 3.66(2H,s)、7.31(1H,s)、7.34(1H,d, J=9.3Hz)、7.62(1H,d, J=7.2Hz)、8.08(1H,s)
1−1639 m.p. 158.9 ℃(分解)
1−1641 1.55(3H,d, J=7.2Hz)、3.88(1H,q, J=7.2Hz)、7.32(1H,s)、7.37(1H,d, J=9.2Hz)、7.69(1H,d, J=7.1Hz)、8.03(1H,s)
1−1650 1.11(3H,t, J=7.5Hz)、2.03-2.12(2H,m) 、2.43(3H,q, J=1.8Hz)、3.75(3H,s)、4.58(1H,t, J=7.5Hz)、6.92(1H,d, J=8.2Hz)、7.32(1H,d, J=9.3Hz)、8.00(1H,s)
1−1655 1.29(3H,t, J=7.1Hz)、2.43(3H,q, J=1.8Hz)、4.26(2H,q, J=7.1Hz)、4.68(2H,s)、6.91(1H,s)、7.60(1H,s)、7.99(1H,s) m.p. 119.7℃1−1663 2.44(3H,q, J=1.8Hz)、2.58(1H,t, J=2.3Hz)、4.78(2H,d, J=2.3Hz)、7.12(1H,s)、7.59(1H,s)、8.01(1H,s) m.p. 136.2℃
1−1665 1.23(3H,t, J=6.9Hz)、1.68(3H,d, J=6.8Hz)、2.42(3H,q, J=1.8Hz)、4.1-4.3(2H,m) 、4.72(1H,q, J=6.8Hz) 、6.90(1H,s)、7.58(1H,s)、7.97(1H,s)
1−1670 m.p. 118.1 ℃
1−1673 m.p. 107.2 ℃
1−1678 m.p. 164.7 ℃
1−1679 1.73(3H,d, J=6.9Hz)、2.54(1H,d, J=2.1Hz)、4.73〜4.90(1H,m)、7.20(1H,d, J=6.3Hz)、7.30(1H,s)、7.49(1H,d, J=8.7Hz)、8.00(1H,s)
1−1680 m.p. 90.1 ℃
1−1681 m.p. 148.1 ℃
1−1682 m.p. 107.0 ℃
1−1683 1.25(3H,t, J=7.2Hz)、1.68(3H,d, J=6.8Hz)、2.42(3H,q, J=1.5Hz)、4.13〜4.26(2H,m)、4.70(1H,q, J=6.8Hz)、6.96(1H,d, J=6.3Hz)、7.48(1H,d, J=9.0Hz)、7.97(1H,s)
1−1687 m.p. 200.1 ℃
1−1689 m.p. 76.3 ℃
1−1690 m.p. 196.1 ℃
1−1691 3.06(3H,s)、7.10〜7.30(1H,b)、7.30(1H,s)、7.64(1H,s)、7.74(1H,s)、8.06(1H,q, J=2.1Hz)
1−1701 1.39(3H,t, J=7.1Hz)、4.40(2H,q, J=7.1Hz)、7.33(1H,q, J=1.1Hz)、7.69(1H,s)、7.97(1H,s)、8.06(1H,q, J=2.2Hz)
1−1718 m.p. 63.9 ℃
1−1719 m.p. 189.5 ℃
1−1720 m.p. 117.3 ℃
1−1721 m.p. 156.1 ℃
1−1722 2.47(3H,q, J=1.8Hz)、3.05(3H,s)、7.15-7.30(1H,b) 、7.66(1H,s)、7.78(1H,s)、8.03(1H,s)
1−1732 1.38(3H,t, J=7.1Hz)、2.44(3H,q, J=1.8Hz)、4.39(2H,q, J=7.1Hz)、7.68(1H,s)、7.96(1H,s)、8.02(1H,s)
1−1748 1.38(6H,d, J=6.0Hz)、2.44(3H,q, J=1.9Hz)、4.40-4.59(1H,m) 、6.95(1H,s)、7.55(1H,s)、8.00(1H,s)
1−1780 m.p. 76.4 ℃
1−1781 3.51(3H,s)、3.51(3H,s)、7.30(1H,q,J =1.2Hz)、7.59(1H,d,J =6.7Hz)、7.65(1H,d,J =9.0Hz)、8.06(1H,d,J =2.1Hz)
1−1782 3.03(3H,s)、7.09(1H,s)、7.32(1H,q,J =1.0Hz)、7.53(1H,d,J =8.7Hz)、7.77(1H,d,J =6.8Hz)、8.07(1H,q,J =2.2Hz)
1−1783 1.38(6H,d, J=6.1Hz)、2.43(3H,q, J=1.7Hz)、4.4-4.6(1H,m) 、6.95(1H,d, J=6.4Hz)、7.47(1H,d, J=8.9Hzs) 、8.00(1H,s)
1−1785 2.43(3H,q, J=1.9Hz)、3.03(3H,s)、7.03(1H,s)、7.52(1H,d, J=8.8Hz)、7.76(1H,d, J=6.9Hz)、8.02(1H,s)
1−1789 m.p. 78.3 ℃
1−1790 m.p. 63.2 ℃
1−1879 2.42(3H,q, J=1.8Hz)、5.38(2H,s)、7.28-7.47(5H,m) 、7.56(1H,,d, J =8.7Hz)、7.72-7.79(1H,m) 、8.00(1H,s)、8.18(1H,d, J=2.5Hz)
1−1881 2.20(0.75H,s) 、2.24(2.25H,s) 、2.42(3H,q, J=1.9Hz)、3.82(0.75H,s) 、3.98(2.25H,s) 、7.47-7.68(3H,m) 、8.00(1H,s)
1−1901 m.p. 99.2℃
1−1908 m.p. 77.6 ℃
1−1910 m.p. 75.3 ℃
1−1930 m.p. 139.7 ℃
1−2051 1.25(3H,t, J=7.2Hz)、2.42(3H,q, J=1.9Hz)、4.17(2H,q, J=7.2Hz)、4.71(2H,s)、4.82(2H,s)、7.10(1H,d, J=6.3Hz)、7.33(1H,d, J=9.1Hz)、7.99(1H,s)
1−2054 1.24(3H,t, J=7.1Hz)、1.51(3H,d, J=7.2Hz)、2.42(3H,q, J=1.8Hz)、4.15(2H,q, J=7.1Hz)、4.78(2H,s)、5.19(1H,q, J=7.2Hz)、7.08(1H,d, J=6.3Hz)、7.32(1H,d, J=9.1Hz)、7.98(1H,s)
2−203 2.3-2.4(1H,m) 、2.35(3H,q, J=1.9Hz)、4.5-4.7(4H,m) 、7.00(1H,d, J=6.5Hz)、7.19(1H,m)、7.39(1H,d, J=2.5Hz)、7.95(1H,s)
2−251 m.p. 168.3 ℃
2−328 0.90(3H,t, J=7.3Hz)、1.54(3H,d, J=7.0Hz)、1.70-1.90(2H,m) 、2.46(3H,m)、4.50(1H,m)、7.18(1H,d, J=5.75Hz) 、7.35(1H,d, J=8.8Hz)、8.04(1H,s)
2−583 m.p. 149.1 ℃
2−631 m.p. 168.3 ℃
2−708 0.90(3H,t, J=7.3Hz)、1.55(3H,d, J=7.0Hz)、1.75-1.95(2H,m) 、4.50(1H,m)、7.22(1H,d, J=5.8Hz)、7.30-7.40(2H,m) 、8.08(1H,q, J=2.2Hz)
2−821 m.p. 162.7 ℃
3−139 m.p. 88.2 ℃
4−434 1.67(3H,s)、2.35(3H,q, J=1.7Hz)、3.0-3.2(1H,m) 、3.4-3.7(1H,m) 、3.71(3H,s)、7.03(1H,d, J=5.0Hz)、7.97(1H,q, J=3.3Hz)
4−451 1.53(6H,s)、2.43(3H,q, J=1.9Hz)、2.96(1H,d, J=16.2Hz) 、3.08(1H,d, J=16.2Hz) 、7.07(1H,d, J=9.9Hz)、7.99(1H,s)
4−452 1.4-1.5(3H,m) 、2.43(3H,q, J=2.0Hz)、2.7-3.0(1H,m) 、3.1-3.5(1H,m) 、3.5-3.8(2H,m) 、7.07(1H,d, J=10.0Hz) 、8.00(1H,q, J=2.5Hz)
【0237】
次に製剤例を示す。なお、本発明化合物は表1〜表5の化合物番号で示す。部は重量部である。
製剤例1
本発明化合物1−1〜1−2157、2−1〜2−950 、3−1〜3−582 、4−1〜4−936 および5−1〜5−87の各々50部、リグニンスルホン酸カルシウム3部、ラウリル硫酸ナトリウム2部および合成含水酸化珪素45部をよく粉砕混合して各々の水和剤を得る。
製剤例2
本発明化合物1−1〜1−2157、2−1〜2−950 、3−1〜3−582 、4−1〜4−936 および5−1〜5−87の各々10部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル14部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部、キシレン35部およびシクロヘキサノン35部をよく混合して各々の乳剤を得る。
製剤例3
本発明化合物1−1〜1−2157、2−1〜2−950 、3−1〜3−582 、4−1〜4−936 および5−1〜5−87の各々2部、合成含水酸化珪素2部、リグニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト30部およびカオリンクレー64部をよく粉砕混合し、水を加えてよく練り合わせた後、造粒乾燥して各々の粒剤を得る。
製剤例4
本発明化合物1−1〜1−2157、2−1〜2−950 、3−1〜3−582 、4−1〜4−936 および5−1〜5−87の各々25部、ポリビニルアルコール10%水溶液50部および水25部を混合し、平均粒径が5マイクロメートル以下になるまで湿式粉砕して各々の懸濁剤を得る。
製剤例5
ポリビニルアルコール10%水溶液40部中に、本発明化合物1−1650 5部を加え、ホモジナイザーにて平均粒径が10マイクロメートル以下になるまで乳化分散し、次いで55部の水を加え、各々の濃厚エマルジョンを得る。
【0238】
次に、本発明化合物が除草剤の有効成分として有用であることを試験例で示す。なお、本発明化合物は表1〜表5の化合物番号で示す。
除草効力および薬害の評価は、調査時の供試植物(雑草および作物)の出芽または生育の状態が無処理のそれと比較して全くないしほとんど違いがないものを「0」とし、供試植物が完全枯死または出芽もしくは生育が完全に抑制されているものを「5」として、0〜5の6段階に区分し、0、1、2、3、4、5で示す。除草効力の評価「4」および「5」は優れた除草効力を意味し、評価「3」以下は不十分な除草効力を意味する。薬害の評価「0」および「1」は薬害が実用上問題とならないことを意味し、評価「2」以上は薬害が許容されないことを意味する。
【0239】
試験例1 畑地茎葉処理試験
直径10cm、深さ10cmの円筒型プラスチックポットに土壌を詰め、マルバアメリカアサガオ、イチビを播種し、温室内で19日間育成した。その後、製剤例2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を1ヘクタールあたり1000リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、噴霧器で植物体の上方から茎葉部全面に均一に処理した。処理後、19日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果を表6に示す。
【表6】
【0240】
【0241】
【0242】
試験例2 畑地茎葉処理試験
直径10cm、深さ10cmの円筒型プラスチックポットに土壌を詰め、イヌビエ、マルバアメリカアカザオ、イチビを播種し、温室内で19日間育成した。その後、製剤例2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を1ヘクタールあたり1000リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、噴霧器で植物体の上方から茎葉部全面に均一に処理した。処理後、19日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果を表7に示す。
【表7】
【0243】
【0244】
試験例3 畑地土壌表面処理試験
直径10cm、深さ10cmの円筒型プラスチックポットに土壌を詰め、マルバアメリカアサガオ、イチビを播種した。製剤例2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を1ヘクタールあたり1000リットル相当の水で希釈し、噴霧器で土壌表面全面に均一に処理した。処理後、19日温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果を表8に示す。
【表8】
【0245】
【0246】
【0247】
試験例4 水田湛水処理試験
直径9cm、深さ11cmの円筒型プラスチックポットに土壌を詰め、タイヌビエを播種した。湛水して水田状態にした後、温室内で育成した。7日後に製剤例2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を水で希釈し、1ヘクタールあたり50リットルを水面に処理した。処理後19日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果を表9に示す。
【表9】
【0248】
【0249】
【0250】
試験例5 畑地茎葉処理試験
面積25×18cm2 、深さ7cmのプラスチックポットに土壌を詰め、トウモロコシ、ダイズ、マルバアメリカアサガオ、オナモミ、ブタクサ、シロザを播種し、16日間育成した。その後、製剤例2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を1ヘクタールあたり1000リットル相当の水で希釈し、噴霧器で植物体の上方から茎葉部全面に均一に処理した。このとき雑草および作物の生育状況は草種により異なるが、1〜4葉期で、草丈は5〜20cmであった。処理18日後に除草効力および薬害を調査した。その結果を表10に示す。
なお、本試験は、全期間を通して温室内で行った。
【表10】
【0251】
試験例6 畑地茎葉処理試験
面積16×11cm2 、深さ7cmのプラスチックポットに土壌を詰め、コムギ、サナエタデ、ヤエムグラ、ハコベを播種し、29日間育成した。その後、製剤例2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を1ヘクタールあたり1000リットル相当の水で希釈し、噴霧器で植物体の上方から茎葉部全面に均一に処理した。このとき雑草および作物の生育状況は草種により異なるが、1〜4葉期で、草丈は5〜15cmであった。処理25日後に除草効力および薬害を調査した。その結果を表11に示す。
なお、本試験は、全期間を通して温室内で行った。
【表11】
【0252】
試験例7 畑地土壌表面処理試験
面積25×18cm2 、深さ7cmのプラスチックポットに土壌を詰め、トウモロコシ、ダイズ、シロザ、アオビユ、サナエタデを播種した。その後、製剤例2に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を1ヘクタールあたり1000リットル相当の水で希釈し、噴霧器で土壌表面全面に均一に処理した。処理後19日間温室で育成し、除草効力および薬害を調査した。その結果を表12に示す。
【表12】
Claims (20)
- 一般式 化1
Yはハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基またはトリフルオロメチル基を表し、
Z1 は酸素原子、硫黄原子またはNH基を表し、
Z2 は酸素原子または硫黄原子を表し、
nは0又は1を表し、
Bは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、クロロスルホニル基、−OR10基、−SR10基、−SO2 OR10基、−N(R11)R12基、−SO2 N(R11)R12基、−NR11(COR13)基、−NR11(SO2 R14)基、−N(SO2 R14)(SO2 R15)基、−N(SO2 R14)(COR13)基、−NHCOOR13基、−COOR10基、−CON(R11)R12基、−CSN(R11)R12基、−COR16基、−CR17=CR18COR16基、−CR17=CR18COOR13基、CR17=CR18CON(R11)R12基、−CH2 CHWCOOR13基、−CH2 CHWCON(R11)R12基、−CR17=NOR33基、−CR17=NN(R11)R12基、−CR17(Z2 R34)2 基、−OCO2 R19基、または−OCOR18基を表し、
(ここで、Wは水素原子、塩素原子または臭素原子を表し、
R10は水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、ベンジル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアルケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロアルキニル基、シアノC1−C6アルキル基、C2−C8アルコキシアルキル基、C2−C8アルキルチオアルキル基、カルボキシC1−C6アルキル基、(C1−C8アルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基、(C1−C6ハロアルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基、{(C1−C4アルコキシ)C1−C4アルコキシ}カルボニルC1−C6アルキル基、(C3−C8シクロアルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基、(C1−C6アルキル)カルボニルC1−C6アルキル基、(C1−C6ハロアルキル)カルボニルC1−C6アルキル基、{(C1−C4アルコキシ)C1−C4アルキル}カルボニルC1−C6アルキル基、(C3−C8シクロアルキル)カルボニルC1−C6アルキル基、−CH2 CON(R11)R12基、−CH2 COON(R11)R12基、−CH(C1−C4アルキル)CON(R11)R12基、−CH(C1−C4アルキル)COON(R11)R12基、{(C1−C6アルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル}オキシカルボニルC1−C6アルキル基、またはヒドロキシC1−C6アルキル基を表し、
R11とR12はそれぞれ独立して水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6アルキニル基、シアノC1−C6アルキル基、C2−C8アルコキシアルキル基、C2−C8アルキルチオアルキル基、カルボキシC1−C6アルキル基、(C1−C6アルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基、(C3−C8シクロアルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基または、{(C1−C4アルコキシ)C1−C4アルコキシ}カルボニルC1−C6アルキル基を表すか、あるいは、R11とR12とで、テトラメチレン、ペンタメチレンまたはエチレンオキシエチレンを表し、
R13は水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基またはC3−C6アルケニル基を表し、
R14とR15はそれぞれ独立してC1−C6アルキル基またはC1−C6ハロアルキル基を表わすか、あるいはメチル基もしくはニトロ基で置換されてもよいフェニル基を表し、
R16は水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C2−C6アルケニル基、C2−C6ハロアルケニル基、C2−C6アルキニル基、C2−C6ハロアルキニル基、C2−C8アルコキシアルキル基またはヒドロキシC1−C6アルキル基を表し、
R17およびR18はそれぞれ独立して、水素原子またはC1−C6アルキル基を表し、
R19はC1−C6アルキル基を表し、
R33は水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアルケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロアルキニル基、シアノC1−C6アルキル基、または、(C1−C6アルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基を表し、
R34はC1−C6アルキル基、あるいは、R342つが結合してエチレンまたはトリメチレンを表す。)
R4 は水素原子またはC1−C3アルキル基を表し、
R5 は水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、(C3−C8シクロアルキル)アルキル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアルケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロアルキニル基、シアノC1−C6アルキル基、C2−C8アルコキシアルキル基、C3−C8アルコキシアルコキシアルキル基、カルボキシC1−C6アルキル基、(C1−C6アルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基、{(C1−C4アルコキシ)C1−C4アルコキシ}カルボニルC1−C6アルキル基、(C3−C8シクロアルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基、−CH2 CON(R11)R12基、−CH2 COON(R11)R12基、−CH(C1−C4アルキル)CON(R11)R12基、−CH(C1−C4アルキル)COON(R11)R12基(ここで、R11およびR12は前記と同じ意味を表す。)、C2−C8アルキルチオアルキル基、またはヒドロキシC1−C6アルキル基を表し、
R6 はC1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、ホルミル基、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシC1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシC1−C6アルコキシC1−C6アルキル基、(C1−C6アルキル)カルボニルオキシC1−C6アルキル基、(C1−C6ハロアルキル)カルボニルオキシC1−C6アルキル基、(C1−C6アルコキシ)カルボニル基または(C1−C6アルキル)カルボニル基を表し、
R7 は水素原子またはC1−C6アルキル基を表し、
R8 はC1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C1−C6ヒドロキシアルキル基、C2−C8アルコキシアルキル基、C3−C10アルコキシアルコキシアルキル基、(C1−C5アルキル)カルボニルオキシC1−C6アルキル基、(C1−C6ハロアルキル)カルボニルオキシC1−C6アルキル基、カルボキシル基、カルボキシC1−C6アルキル基、(C1−C8アルコキシ)カルボニル基、(C1−C6ハロアルコキシ)カルボニル基、(C3−C10シクロアルコキシ)カルボニル基、(C3−C8アルケニルオキシ)カルボニル基、(C3−C8アルキニルオキシ)カルボニル基、アミノカルボニル基、(C1−C6アルキル)アミノカルボニル基、ジ(C1−C6アルキル)アミノカルボニル基、(C1−C6アルキル)アミノカルボニルオキシC1−C6アルキル基または、ジ(C1−C6アルキル)アミノカルボニルオキシC1−C6アルキル基を表す。}
で示されるQ−1、Q−2、Q−3、Q−4またはQ−5を表わす。〕
で示されるピリダジン−3−オン誘導体。 - R1 がトリフルオロメチル基である請求項1記載のピリダジン−3−オン誘導体。
- R2 が水素原子またはC1−C3アルキル基であり、R3 が水素原子またはC1−C3アルキル基である請求項1記載のピリダジン−3−オン誘導体。
- R1 がトリフルオロメチル基であり、R2 が水素原子またはC1−C3アルキル基であり、R3 が水素原子またはC1−C3アルキル基である請求項1記載のピリダジン−3−オン誘導体。
- QがQ−1である請求項1、2、3または4記載のピリダジン−3−オン誘導体。
- QがQ−2である請求項1、2、3または4記載のピリダジン−3−オン誘導体。
- QがQ−3である請求項1、2、3または4記載のピリダジン−3−オン誘導体。
- QがQ−4である請求項1、2、3または4記載のピリダジン−3−オン誘導体。
- QがQ−5である請求項1、2、3または4記載のピリダジン−3−オン誘導体。
- Bが−OR10基である請求項5記載のピリダジン−3−オン誘導体。
- Bが−SR10基である請求項5記載のピリダジン−3−オン誘導体。
- Bが−N(R11)R12基である請求項5記載のピリダジン−3−オン誘導体。
- Bが−NR11(SO2 R14)基である請求項5記載のピリダジン−3−オン誘導体。
- Bが−COOR10基である請求項5記載のピリダジン−3−オン誘導体。
- Xがフッ素原子であり、Yが塩素原子である請求項5記載のピリダジン−3−オン誘導体。
- Xがフッ素原子であり、Yが塩素原子であり、BがOR10基である請求項5記載のピリダジン−3−オン誘導体。
- Z1 が酸素原子であり、nが1である請求項6記載のピリダジン−3−オン誘導体。
- 下記群から選ばれるいずれかの化合物。
7−フルオロ−6−(5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)−4−プロパルギル−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン、
7−フルオロ−6−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)−4−プロパルギル−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン、
6−(5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)−4−プロパルギル−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン、
6−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)−4−プロパルギル−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン、
2−(4−クロロ−2−フルオロ−5−イソプロポキシフェニル)−4−メチル−5−トリフルオロメチルピリダジン−3−オン、
2−(4−クロロ−2−フルオロ−5−メトキシフェニル)−4−メチル−5−トリフルオロメチルピリダジン−3−オン、
2−(4−クロロ−2−フルオロ−5−エトキシフェニル)−4−メチル−5−トリフルオロメチルピリダジン−3−オン、
2−(4−クロロ−2−フルオロ−5−プロパルギルオキシフェニル)−4−メチル−5−トリフルオロメチルピリダジン−3−オン、
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ酢酸メチル、
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ酢酸エチル、
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ酢酸プロピル、
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ酢酸イソプロピル、
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ酢酸ブチル、
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ酢酸ペンチル、
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ酢酸シクロペンチル、
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ}プロピオン酸エチル、
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ}プロピオン酸メチル、
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニルチオ酢酸エチル、
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニルチオ酢酸メチル、
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル −3−ピリダジノン−2−イル)フェニルチオ}プロピオン酸エチル、
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニルチオ}プロピオン酸メチル、
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ}プロピオン酸メチル、
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェノキシ}プロピオン酸エチル、
2−クロロ−4−フルオロ−5−(5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニルチオ酢酸エチル、
2−クロロ−4−フルオロ−5−(5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニルチオ酢酸メチル、
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニルチオ}プロピオン酸エチル、
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニルチオ}プロピオン酸メチル、
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニルチオ}プロピオン酸イソプロピル、
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニルアミノ}プロピオン酸エチル、
2−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニルアミノ}プロピオン酸エチル、
N−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニル}メタンスルフォンアミド、
N−{2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニル}クロロメタンスルフォンアミド、
N−{2−クロロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)フェニル}メタンスルフォンアミド、
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)安息香酸メチル、
2−クロロ−4−フルオロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)安息香酸エチル、
2−クロロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)安息香酸エチル、
2−クロロ−5−(4−メチル−5−トリフルオロメチル−3−ピリダジノン−2−イル)安息香酸イソプロピル及び
2−(4−クロロ−2−フルオロ−5−プロパルギルオキシフェニル)−6−メチル−5−トリフルオロメチルピリダジン−3−オン。 - 請求項1〜18のいずれかに記載のピリダジン−3−オン誘導体を有効成分として含有することを特徴とする除草剤。
- 一般式 化3
Q1 は一般式 化4
R9 は請求項1記載のR6 のうちホルミル基以外を表わし、
B1 は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、OR27基、SR27基、SO2 OR27基、N(R11)R12基、SO2 N(R11)R12基、NR11(COR13)基、NR11(SO2 R14)基、N(SO2 R14)(SO2 R15)基、N(SO2 R14)(COR13)基、NHCOOR13基、COOR27基、CON(R11)R12基、CSN(R11)R12基、CR17=CR18COOR13基、CR17=CR18CON(R11)R12基、CH2 CHWCOOR13基、CH2 CHWCON(R11)R12基、CR17=NOR33基、CR17=NN(R11)R12基、CR17(Z2 R34)2 基、OCO2 R19基、またはOCOR19基を表わす。〕
(ここで、W、Z2 、R11、R12、R13、R14、R15、R17、R18、R19、R33およびR34は請求項1に記載の意味を表わし、R27は水素原子、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C3−C8シクロアルキル基、ベンジル基、C3−C6アルケニル基、C3−C6ハロアルケニル基、C3−C6アルキニル基、C3−C6ハロアルキニル基、シアノC1−C6アルキル基、C2−C8アルコキシアルキル基、C2−C8アルキルチオアルキル基、カルボキシC1−C6アルキル基、(C1−C8アルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基、(C1−C6ハロアルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基、{(C1−C4アルコキシ)C1−C4アルコキシ}カルボニルC1−C6アルキル基、(C3−C8シクロアルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル基、CH2 CON(R11)R12基、CH2 COON(R11)R12基、CH(C1−C4アルキル)CON(R11)R12基、CH(C1−C4アルキル)COON(R11)R12基(ここで、R11およびR12は前記と同じ意味を表す。)、{(C1−C6アルコキシ)カルボニルC1−C6アルキル}オキシカルボニルC1−C6アルキル基、またはヒドロキシC1−C6アルキル基を表わす。)}
で示されるQ1 −1、Q−2、Q1 −3、Q−4またはQ−5を表わす。〕
で示されるヒドラゾン類。
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