JP3928407B2 - 開環重合体および開環重合体水素化物の製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ノルボルネン系開環重合体および該重合体水素化物の新規な製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ヒドロキシル基またはカルボキシル基を含むノルボルネン系モノマーの開環重合体およびその水素化物は、耐熱性、電気特性、低吸水性などに優れた極性官能基含有ポリマーとして注目されている。また、該ポリマーは、金属やガラスなどの無機材料に対する密着性に優れ、酸化防止剤、可塑剤、紫外線吸収剤、着色剤、硬化剤、難燃剤などの有機材料との相溶性にも優れるため、広範な複合材料用途への利用が期待されている。
【０００３】
かかる極性官能基含有ポリマーを製造する方法としては、例えば、エステル基を含有するノルボルネン系モノマーを開環重合した後、場合によってはさらに水素化した後、ポリマー中に導入されたエステル基を加水分解する方法（特開平５−９７９７８、特開２００１−１３９７７６）；カルボン酸無水物基を含有するノルボルネン系モノマーを開環重合した後、場合によってはさらに水素化した後、ポリマー中に導入されたカルボン酸無水物基を加水分解または加アルコール分解する方法（特開平１１−１３０８４３）；などが知られている。
【０００４】
しかしながら、前記公知法は、いずれもヒドロキシル基またはカルボキシル基に変換可能な前駆置換基を有するノルボルネン系モノマーを重合した後、場合によってはさらに水素化した後に、該前駆置換基をヒドロキシル基またはカルボキシル基に変換する方法である。従って、製造工程数が多くなり、製造装置も複雑になるという問題を有していた。そこで、前駆置換基を有するモノマーを経由することなく、ヒドロキシル基またはカルボキシル基を含むノルボルネン系モノマーを、直接的に開環重合する方法の開発が望まれていた。
【０００５】
このような課題を解決する方策の一つとして、近年報告された官能基に対して安定性の高いルテニウム化合物を用いるノルボルネン系モノマーの開環重合法（ＷＯ９３／２０１１１号公報など）があり、例えば、ＷＯ９９／５１３４４号公報には、５−カルボキシ−２−ノルボルネンの重合例が記載されている。
【０００６】
しかし、本発明者らの知見によると、一般に入手可能な５−ヒドロキシメチル−２−ノルボルネン、５，６−ジヒドロキシメチル−２−ノルボルネン、５−カルボキシ−２−ノルボルネン、５，６−ジカルボキシ−２−ノルボルネンなどの、ノルボルネン環の５位または６位にヒドロキシルメチル基またはカルボキシル基を有するモノマーを、ルテニウム化合物（触媒）を用いて重合しようとしても、それらのモノマーの重合活性は低く、多量の触媒を使用する必要があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
このような従来技術の問題点と実情に鑑み、本発明の目的は、ヒドロキシル基またはカルボキシル基に変換可能な前駆置換基を有するモノマーを用いることなく、ヒドロキシル基またはカルボキシル基含有ノルボルネン系モノマーを開環重合させて、ノルボルネン系開環重合体およびその水素化物を効率よく、工業的有利に製造する方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、かかる目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、５−ヒドロキシメチル−２−ノルボルネン、５，６−ジヒドロキシメチル−２−ノルボルネン、５−カルボキシ−２−ノルボルネン、５，６−ジカルボキシ−２−ノルボルネンのような、ノルボルネン環の５位または６位にヒドロキシメチル基またはカルボキシル基が結合したモノマーにはエンド体およびエキソ体の立体異性体が存在するが、エンド体のみが特異的にルテニウム触媒の重合活性を阻害することを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち、本発明のノルボルネン系開環重合体の製造方法は、ルテニウム系メタセシス触媒の存在下、ルテニウム化合物の存在下、ヒドロキシル基またはカルボキシル基含有ノルボルネン系モノマーを開環重合させるに際し、（１）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に、１個の炭素原子を介してヒドロキシル基が結合し、またはカルボキシル基が直接結合し、かつエンド体とエキソ体の総量に対するエキソ体含有量が９０重量％以上であるモノマー；（２）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に、直接または２〜１０個の炭素原子を含む置換基を介してヒドロキシル基が結合したモノマー；および（３）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に、１〜１０個の炭素原子を含む置換基を介してカルボキシル基が結合したモノマー；からなる群より選択される少なくとも１種のモノマーを用いることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明のヒドロキシル基またはカルボキシル基含有ノルボルネン系開環重合体水素化物の製造方法は、上記の方法によりノルボルネン系開環重合体の製造する工程（Ａ）と、該重合体の炭素−炭素二重結合を水素化する工程（Ｂ）とを含むものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について、ノルボルネン系モノマー、ルテニウム系メタセシス触媒、ノルボルネン系開環重合体の製法、ノルボルネン系開環重合体水素化物の製法の項目に分けて詳細に説明する。
【００１２】
なお、本発明に用いられるノルボルネン系モノマーを「モノマー」と、ルテニウム系メタセシス触媒を「ルテニウム触媒」または「触媒」と略記することがある。また、ノルボルネン系開環重合体を「重合体」と、ノルボルネン系開環重合体水素化物を「水素化物」と略記することもある。
【００１３】
（ノルボルネン系モノマー）
本発明のノルボルネン系開環重合体の製造方法、および該重合体水素化物の製造方法においては、ヒドロキシル基またはカルボキシル基含有ノルボルネン系モノマーが用いられる。ここでノルボルネン系モノマーとは、分子内にノルボルネン環構造を有するモノマーをいう。該ノルボルネン環構造においては、橋頭部炭素原子のいずれか一方の位置番号を１位として、２位および３位の炭素原子が炭素−炭素二重結合により互いに結合し、その５位または６位炭素原子にヒドロキシル基またはカルボキシル含有置換基が結合している。
【００１４】
そして、本発明に用いられるモノマーは、（１）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に、１個の炭素原子を介してヒドロキシル基が結合し、またはカルボキシル基が直接結合し、かつエンド体とエキソ体の総量に対するエキソ体含有量が９０重量％以上であるモノマー；（２）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に、直接または２〜１０個の炭素原子を含む置換基を介してヒドロキシル基が結合したモノマー；および（３）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に、１〜１０個の炭素原子を含む置換基を介してカルボキシル基が結合したモノマー；からなる群より選択される。
【００１５】
前記（１）に属するモノマーは、エンド体とエキソ体の総量に対するエキソ体含有量が９０重量％以上であることが必須である。エキソ体含有量が９０重量％未満の場合、本発明の目的を達成することは困難である。前記（２）および前記（３）に属するモノマーについては、エンド体とエキソ体の総量に対するエキソ体含有量は特に限定されない。
【００１６】
前記（１）のモノマーは、（１−ａ）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に１個の炭素原子を介してヒドロキシル基が結合し、かつエンド体とエキソ体の総量に対するエキソ体含有量が９０重量％以上であるモノマー；および（１−ｂ）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子にカルボキシル基が直接結合し、かつエンド体とエキソ体の総量に対するエキソ体含有量が９０重量％以上であるモノマー；の２つのモノマー群からなる。
【００１７】
前記（１−ａ）において、ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子とヒドロキシル基の間に介在する１個の炭素原子は、メチレン基（−ＣＨ２−）のみならず、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子またはケイ素原子を含む炭素数１〜１０の炭化水素基が該メチレン基に置換していてもよい。
【００１８】
前記（１−ａ）としては、例えば、５−ヒドロキシメチル−２−ノルボルネン、５−メチル−５−ヒドロキシメチル−２−ノルボルネン、５，６−ジヒドロキシメチル−２−ノルボルネンなどが挙げられる。前記（１−ｂ）としては、例えば、５−カルボキシ−２−ノルボルネン、５，６−ジカルボキシ−２−ノルボルネン、５−メチル−５−カルボキシ−２−ノルボルネンなどが挙げられる。
【００１９】
かかる前記（１）に属するモノマーのエキソ体含有量をエキソおよびエンド体の全量に対して９０重量％以上にする方法は特に限定されない。例えば、分別結晶法や精密蒸留法によるエンド体の除去、エンド体のエキソ体への異性化反応など工業的に通常用いられる方法に従って、エキソ体含有量を９０重量％以上にすればよい。
【００２０】
前記（２）に属するモノマーであって、ヒドロキシル基がノルボルネン環に直接結合したものとしては、５−ヒドロキシ−２−ノルボルネン、５，６−ジヒドロキシ−２−ノルボルネンなどが挙げられる。
【００２１】
前記（２）に属する、２〜１０個の炭素原子を含む置換基を介してヒドロキシル基が結合したモノマーにおいて、ノルボルネン環とヒドロキシル基との間に介在する２〜１０個の炭素原子を含む置換基は、単にアルキレン基を示すのみならず、アルキレンカルボニル基、アルキレンカルボニルアルキレン基、アルキレンオキシカルボニル基、アルキレンオキシカルボニルアルキレン基、アルキレンアミノ基、アルキレンアミド基、アルキレンイミド基なども含むものである。また、かかる介在基には、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子またはケイ素原子を含む炭素数１〜１０の炭化水素基が置換していてもよい。
【００２２】
このようなヒドロキシル基含有ノルボルネン系モノマーとしては、例えば、５−ヒドロキシエチル−２−ノルボルネン、５,６−ジヒドロキシエチル−２−ノルボルネン、５−（３−ヒドロキシプロピル）−２−ノルボルネン、５−（ｐ−ヒドロキシフェニル）−２−ノルボルネン、５−（４−ヒドロキシシクロヘキシル）−２−ノルボルネン、５−ヒドロキシエトキシカルボニル−２−ノルボルネン、５−メチル−５−ヒドロキシエトキシカルボニル−２−ノルボルネン、５−ヒドロキシプロポキシカルボニル−２−ノルボルネン、５―メチル−５−ヒドロキシプロポキシカルボニル−２−ノルボルネン、５,６−ジ（ヒドロキシエトキシカルボニル）−２−ノルボルネン、Ｎ−ヒドロキシ−２−ノルボルネン−５，６−ジカルボキシイミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−２−ノルボルネン−５，６−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）−２−ノルボルネン−５，６−ジカルボキシイミドなどが挙げられる。
【００２３】
さらに、該ヒドロキシル基含有ノルボルネン誘導体にシクロペンタジエンがディールズ・アルダー付加したテトラシクロドデセン誘導体、８−ヒドロキシテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン、８−ヒドロキシメチルテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン、８，９−ジヒドロキシメチルテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン、８，８−ジヒドロキシメチルテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセンなども挙げることができる。
【００２４】
前記（３）に属するモノマーとしては、５−カルボキシメチル−２−ノルボルネン、５,６−ジカルボキシメチル−２−ノルボルネン、５−カルボキシエチル−２−ノルボルネン、５−（ｐ−カルボキシフェニル）−２−ノルボルネン、５−（４−カルボキシシクロヘキシル）−２−ノルボルネン、Ｎ−カルボキシ−２−ノルボルネン−５，６−ジカルボキシイミド、Ｎ−カルボキシメチル−２−ノルボルネン−５，６−ジカルボキシイミドなどのカルボキシル基含有ノルボルネン誘導体が挙げられる。
【００２５】
さらに、該カルボキシル基含有ノルボルネン誘導体にシクロペンタジエンがディールズ・アルダー付加したテトラシクロドデセン誘導体、８−カルボキシテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン、８−メチル−８−カルボキシテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン、８，９−ジカルボキシテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセンなども挙げることができる。
【００２６】
本発明における重合反応は、前記（１）〜（３）の群から選択されるモノマーの単独重合のみならず、２種以上の共重合を含むものである。また、前記（１）〜（３）の群から選択されるモノマーと共重合可能な他の任意のモノマーとの共重合をも含むものである。
【００２７】
そのような他の任意モノマーとしては、例えば、２−ノルボルネン、５−メチル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネン、５−エチリデン−２−ノルボルネン、５−フェニル−２−ノルボルネン、５−シクロへキシル−２−ノルボルネン、５−シクロへキセニル−２−ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、１，４−メタノ−１，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロフルオレン、テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン、８−メチルテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン、８−エチルテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン、８−エチリデンテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセンなどの置換基を有しないあるいは置換基として炭化水素基を有するノルボルネン系モノマー；
【００２８】
５−メトキシカルボニル−２−ノルボルネン、５−メチル−５−メトキシカルボニル−２−ノルボルネン、２−ノルボルネン−５，６−ジカルボン酸無水物、２−ノルボルネン−５，６−ジカルボン酸イミド、８−メトキシカルボニルテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン、８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセンなどの官能基を有するモノマー；シクロペンテン、シクロオクテンなどの単環の環状オレフィン類；シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエン、シクロオクタジエンなどのジオレフィン類；などが挙げられる。
【００２９】
（ルテニウム系メタセシス触媒）
ノルボルネン系開環重合体の製造方法においては、公知のルテニウム系メタセシス触媒が用いられる。該触媒は、中心金属としてルテニウムが存在し、開環メタセシス重合活性を示すものであれば特に限定されない。通常、ルテニウムに中性の電子供与性配位子が配位し、好ましくは更にアニオン性配位子が配位し、より好ましくは更にルテニウム−カルベン結合を有するものである。また、前記アニオン性配位子とは別に、対アニオンが存在していてもよい。
【００３０】
ここで「中性の電子供与性配位子」とは、中心金属であるルテニウムから引き離されたときに中性の電荷を持つ配位子をいう。また、「アニオン性配位子」とは、ルテニウムから引き離されたときに負の電荷を持つ配位子である。「対アニオン」とは、ルテニウム陽イオンとイオン対を形成する陰イオンをいい、こうした対を形成できる陰イオンであれば特に限定されない。
【００３１】
中性の電子供与性配位子としては、酸素、水、カルボニル類、アミン類、ピリジン類、エ−テル類、ニトリル類、エステル類、ホスフィン類、ホスフィナイト類、ホスファイト類、スチビン類、スルホキシド類、チオエーテル類、アミド類、芳香族炭化水素類、ジオレフィン類（環状であってもよい）、オレフィン類（環状であってもよい）、イソシアニド類、チオシアネ−ト類、複素環式カルベン化合物などが挙げられる。
【００３２】
これらの中でも、ビピリジンなどのピリジン類、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィンなどのホスフィン類、ｐ−シメンなどの芳香族炭化水素類、シクロペンタジエンなどの環状ジオレフィン類、１，３−ジメシチルイミダゾリン−２−イリデン、１，３−ジメシチルイミダゾリジン−２−イリデンなどの複素環式カルベン化合物が好ましい。
【００３３】
アニオン性配位子としては、Ｆ、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｉなどのハロゲン、ヒドリド、アセチルアセトナート基などのジケトナート基、シクロペンタジエニル基、アリル基、アルケニル基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールカルボキシル基、カルボキシル基、アルキルまたはアリールスルフォネート基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基などが挙げられる。これらの中でも、ハロゲン、シクロペンタジエニル基、アリル基、アルキル基、アリール基が好ましい。
【００３４】
対アニオンとしては、ＢＦ４ −、Ｂ（Ｃ６Ｈ６）４ −、ＰＦ６ −、ＳｂＦ６ −、ＣｌＯ４ −、ＩＯ４ −、ｐ−トルエンスルホン酸アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオンなどが挙げられる。これらの中でも、ＢＦ４ −、Ｂ（Ｃ６Ｈ６）４ −、ＰＦ６ −、ＳｂＦ６ −が好ましい。
【００３５】
かかるルテニウム触媒の代表例としては、下記式（１）〜（３）で表されるものが挙げられる。
【００３６】
【化１】
【００３７】
（式（１）中、Ｌ１は互いに独立に任意の中性電子供与性配位子を表わし、Ｙ１は互いに独立に任意のアニオン性配位子を示す。Ｌ１および／またはＹ１の２個、３個または４個は互いに結合して多座キレート配位子を形成してもよい。ａ、ｂは１〜４の整数で、ｘは１〜６の整数である。）
【００３８】
前記式（１）、つまりルテニウムに中性の電子供与性配位子が配位した触媒、または更にアニオン性配位子が配位した触媒としては、例えば、ビス（シクロペンタジエニル）ルテニウム、クロロ（シクロペンタジエニル）ビス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、ジクロロ（１，５−シクロオクタジエン）ルテニウム、ジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、シス−ジクロロビス（２，２’−ビピリジル）ルテニウム・二水和物、ジクロロビス〔（ｐ−シメン）クロロルテニウム〕〕、ジクロロ（２，７−ジメチルオクタ−２，６−ジエン−１，８−ジイル）ルテニウムなどが挙げられる。
【００３９】
【化２】
【００４０】
（式（２）中、Ｌ２は互いに独立に中性の電子供与性配位子を表し、Ｙ２は互いに独立にアニオン性の配位子を表す。Ｑは互いに独立して水素または炭素数１〜２０個の炭化水素基（ハロゲン原子、窒素原子、酸素原子、珪素原子、リン原子、硫黄原子を含んでいてもよい）を表す。ｃ、ｄ、ｙはそれぞれ１〜４の整数を表し、ｅは０または１を表す。）
【００４１】
前記式（２）におけるＱとしては、例えば、水素、アルケニル基、アルキニル基、アルキル基、アルキリデン基、アリール基、カルボキシル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基などが挙げられる。これらの中でも、アルキル基、アルキリデン基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基が好ましい。
【００４２】
前記式（２）、つまりルテニウム−カルベン結合を有する触媒としては、例えば、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、ビス（トリフェニルホスフィン）−３，３−ジフェニルプロペニリデンルテニウムジクロリド、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）フェニルビニリデンルテニウムジクロリド、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）ｔ−ブチルビニリデンルテニウムジクロリド、ビス（１，３−ジイソプロピルイミダゾリン−２−イリデン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、ビス（１，３−ジシクロヘキシルイミダゾリン−２−イリデン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、（１，３−ジメシチルイミダゾリン−２−イリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、（１，３−ジメシチルイミダゾリジン−２−イリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリドなどが挙げられる。
【００４３】
【化３】
【００４４】
（式（３）中、Ｌ３は互いに独立に中性電子供与性配位子を表し、Ｙ３は互いに独立にアニオン性配位子を表す。Ｘは対アニオンを表す。ｆ、ｇは１〜４の整数を表し、ｚは１または２である。）
【００４５】
前記式（３）、つまり更に対アニオンを有するで触媒としては、例えば、［（ｐ−シメン）（ＣＨ３ＣＮ）３Ｒｕ］（ＢＦ４）２、［（Ｃ６Ｈ６）（ＣＨ３ＣＮ）２（Ｃｌ）Ｒｕ］（ＢＦ４）、［（Ｃ６Ｈ６）（ＣＨ３ＣＮ）３Ｒｕ］（ＰＦ６）２、［（ＣＨ３ＣＮ）２（Ｃｌ）（２，７−ジメチルオクタ−２，６−ジエン−１，８−ジイル）Ｒｕ］（ＢＦ４）、[（ＣＨ３ＣＮ）３（２，７−ジメチルオクタ−２，６−ジエン−１，８−ジイル）Ｒｕ]（ＢＦ４）２などが挙げられる。
【００４６】
前記式（１）〜（３）で表わされる触媒の中でも、式（２）が高い重合活性を示すので、好ましく用いられる。また、式（１）〜（３）で表わされる触媒の重合活性を高める方法として、ピリジン類、ホスフィン類、中性の電子供与性化合物（例えば、１，３−ジイソプロピルイミダゾリン−２−イリデン、１，３−ジメシチルイミダゾリジン−２−イリデンなどの複素環式カルベン化合物）などをルテニウム金属に対して、重量比で１〜１００倍の割合で添加して併用することができる。
【００４７】
さらに、式（１）〜（３）で表される触媒の重合活性を高める別の方法として、例えば、Ｎ２ＣＨＣＯＯＥｔなどのジアゾ化合物、フェニルアセチレンなどのアセチレン化合物またはＥｔ２ＳｉＨ、Ｐｈ２ＭｅＳｉＨなどのシリル化合物を、ルテニウム金属に対して、重量比で１〜１００倍の割合で添加することもできる。Ｅｔはエチル基、Ｐｈはフェニル基、Ｍｅはメチル基である。
【００４８】
（ノルボルネン系開環重合体の製法）
本発明の開環メタセシス重合は、溶媒の存在下または不存在下で行うことができる。重合反応終了後、生成した重合体を単離せずに、そのまま水素化反応を行う場合は、溶媒中で重合する方が好ましい。溶媒は生成する重合体を溶解し、かつ重合反応を阻害しない溶媒であれば特に限定されない。
【００４９】
重合反応溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、トリメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジエチルシクロヘキサン、デカヒドロナフタレン、ビシクロヘプタン、トリシクロデカン、ヘキサヒドロインデンシクロヘキサン、シクロオクタンなどの脂環族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素；
【００５０】
ニトロメタン、ニトロベンゼン、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどの含窒素系炭化水素；ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエ−テル類；アセトン、エチルメチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸エチル、安息香酸メチルなどのエステル類；クロロホルム、ジクロロメタン、１,２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼンなどのハロゲン系炭化水素；などが挙げられる。
【００５１】
かかる溶媒の中でも、芳香族炭化水素、脂環族炭化水素、エーテル類、ケトン類、エステル類を使用するのが好ましい。溶媒中のノルボルネン系モノマーの濃度は、好ましくは１〜５０重量％、より好ましくは２〜４５重量％、さらに好ましくは５〜４０重量％である。モノマー濃度が１重量％未満では重合体の生産性が悪くなることがあり、５０重量％を超えると重合後の粘度が高すぎて、その後の水素化などが困難となることがある。
【００５２】
重合触媒の使用量は、触媒中の金属ルテニウムに対するモノマーのモル比で、金属ルテニウム：単量体＝１：１００〜１：２，０００，０００、好ましくは１：５００〜１：１，０００，０００、より好ましくは１：１，０００〜１：５００，０００である。触媒量が前記モル比よりも多すぎると触媒除去が困難となることがあり、少なすぎると十分な重合活性が得られないことがある。
【００５３】
重合触媒は溶媒に溶解して反応系に添加してもよいし、溶解せずにそのまま添加してもよい。触媒溶液を調製する溶媒としては、前記重合反応溶媒と同様の溶媒が挙げられる。
【００５４】
重合温度は特に制限はないが、通常、−１００℃〜２００℃、好ましくは−５０℃〜１８０℃、より好ましくは−３０℃〜１６０℃、さらに好ましくは０℃〜１４０℃である。重合時間は、通常１分〜１００時間であり、反応の進行状況に応じて適宜調節することができる。
【００５５】
かかる重合反応においては、重合体の分子量を調整するために、分子量調整剤を用いることができる。そのような分子量調整剤としては、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテンなどのα−オレフィン；スチレン、ビニルトルエンなどのスチレン類；エチルビニルエーテル、ｉ−ブチルビニルエーテル、アリルグリシジルエーテルなどのエーテル類；アリルクロライドなどのハロゲン含有ビニル化合物；酢酸アリル、アリルアルコール、グリシジルメタクリレートなど酸素含有ビニル化合物；アクリロ二トリル、アクリルアミドなどの窒素含有ビニル化合物などが挙げられる。モノマーに対して、分子量調整剤を０．１〜１００モル％使用することにより、所望の分子量を有する重合体を得ることができる。
【００５６】
（ノルボルネン系開環重合体水素化物の製法）
本発明のヒドロキシル基またはカルボキシル基含有ノルボルネン系開環重合体水素化物の製造方法は、前述の方法によりノルボルネン系開環重合体の製造する工程（Ａ）と、該重合体の炭素−炭素二重結合を水素化する工程（Ｂ）とを含むものである。
【００５７】
前記工程（Ｂ）の水素化反応は、水素化触媒の存在下に水素を導入し、ノルボルネン系開環重合体の主鎖中の炭素−炭素二重結合を飽和単結合に変換する反応である。水素化触媒は特に限定されず、オレフィン化合物の水素化に際して一般的に使用されているものを適宜採用すればよい。
【００５８】
そのような水素化触媒としては、例えば、酢酸コバルトとトリエチルアルミニウム、ニッケルアセチルアセトナートとトリイソブチルアルミニウム、チタノセンジクロリドとｎ−ブチルリチウム、ジルコノセンジクロリドとｓｅｃ−ブチルリチウム、テトラブトキシチタネートとジメチルマグネシウムのような遷移金属化合物とアルカリ金属化合物の組み合わせからなるチーグラー系触媒；
【００５９】
前記式（１）〜（３）で示されるルテニウム触媒、クロロトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム、特開平７−２９２９、特開平７−１４９８２３、特開平１１−２０９４６０、特開平１１−１５８２５６、特開平１１−１９３３２３、特開平１１−２０９４６０などに記載されるルテニウム化合物からなる貴金属錯体触媒；などの均一系触媒が挙げられる。
【００６０】
また、ニッケル、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウムなどの金属を、カーボン、シリカ、ケイソウ土、アルミナ、酸化チタンなどの担体に担持させた不均一触媒、例えば、ニッケル／シリカ、ニッケル／ケイソウ土、ニッケル／アルミナ、パラジウム／カーボン、パラジウム／シリカ、パラジウム／ケイソウ土、パラジウム／アルミナなどを用いることもできる。
【００６１】
これらの水素化触媒の中でも、ノルボルネン系開環重合体に含有される極性官能基が変性するなどの副反応が起きず、該重合体中の炭素−炭素二重結合を選択的に水素化できる点から、ロジウム、ルテニウムなどの貴金属錯体触媒およびパラジウム／カーボンなどのパラジウム担持触媒が好ましく、前記式（１）〜（３）で示されるルテニウム触媒、パラジウム担持触媒がより好ましい。
【００６２】
前記式（１）〜（３）で示されるルテニウム触媒は、前記工程（Ａ）の重合反応に用いられるので、重合反応終了後、該触媒をそのまま水素化触媒として使用することが好ましい。このように重合反応と水素化反応を連続的に行う場合、エチルビニルエーテルなどのビニル化合物やα−オレフィンなどの触媒改質剤を添加して該触媒を活性化させてから、水素化反応を開始することも好まく採用される。また、別種の水素化触媒を併用することもできる。
【００６３】
水素化反応は、通常、有機溶媒中で実施する。有機溶媒は生成する水素化物の溶解性により適宜選択することができ、前記重合溶媒と同様の有機溶媒を使用することができる。したがって、重合反応後、溶媒を入れ替えることなく、そのまま水素化触媒を添加して反応させることもできる。
【００６４】
水素化反応条件は、使用する水素化触媒の種類に応じて適宜選択すればよい。反応温度は、通常−２０〜２５０℃、好ましくは−１０〜２２０℃、より好ましくは０〜２００℃である。−２０℃未満では反応速度が遅くなり、逆に２５０℃を超えると副反応が起こりやすくなる。水素の圧力は、通常０．０１〜１０．０ＭＰａ、好ましくは０．０５〜８．０ＭＰａ、より好ましくは０．１〜５.０ＭＰａである。水素圧力が０．０１ＭＰａ未満では水素化速度が遅くなり、１０．０ＭＰａを超えると高耐圧反応装置が必要となる。
【００６５】
水素化反応の時間は、水素化率をコントロールするために適宜選択される。反応時間は、通常０．１〜５０時間の範囲であり、重合体中の主鎖の炭素−炭素二重結合のうち５０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、最も好ましくは９０％以上を水素化することができる。
【００６６】
このようにして得られるヒドロキシル基またはカルボキシル基を含むノルボルネン系モノマーの開環重合体水素化物は、耐熱性や電気特性などに優れる。従って、プラスチックレンズ、球形レンズ、非球形レンズ、複写機レンズ、ビデオカメラコンバータレンズ、光ディスク用ピックアップレンズ、車両部品用レンズなどの耐熱性光学部品材料；半導体封止用材料、半導体アンダーフィルム用材料、半導体保護膜用材料、液晶封止用材料、回路基材材料、回路保護用材料、平坦化膜材料電気絶縁膜材料などの電子部品用材料；などの用途に好適に使用することができる。
【００６７】
【実施例】
以下に、実施例と比較例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
（１）分子量は、テトラヒドロフランを溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算値として測定した。
（２）重合体中の単量体組成比は、プロトンＮＭＲスペクトルにより測定した。
（３）水素化率は、プロトンＮＭＲスペクトルにより測定した。
【００６８】
［実施例１］
攪拌機付きガラス反応器に、テトラヒドロフラン３６０部、５，６−ジヒドロキシメチル−２−ノルボルネン（５位および６位置換基ともにエキソ体＞９８重量％）４６．３部、テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン４８．０部、および１−ヘキセン０．２９部を仕込んだ。テトラヒドロフラン４０部に溶解した（１，３−ジメシチルイミダゾリジン−２−イリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド０．０５部を添加して、７０℃で重合を行った。２時間後、重合反応液を多量のイソプロパノールに注いで固形分を析出させ、濾別洗浄後、４０℃で１８時間減圧乾燥して開環メタセシス重合体を得た。
【００６９】
得られた重合体の収量は６４部（収率＝６８％）であった。分子量（ポリスチレン換算）は、数平均分子量（Ｍｎ）＝３２，１００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝５９，５００であった。重合体中の単量体組成比は５，６−ジヒドロキシメチル−２−ノルボルネン（５位および６位置換基ともにエキソ体＞９８％）／テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン＝５２／４８（モル／モル）であった。
【００７０】
［比較例１］
前記実施例１の５，６−ジヒドロキシメチル−２−ノルボルネン（５位置および６位置換基ともにエキソ体＞９８重量％）を、５，６−ジヒドロキシメチル−２−ノルボルネン（５位および６位置換基ともにエンド体＞９８重量％）に代えたこと以外は、実施例１と同様に重合した。得られた重合体の収量は１部（収率＝１％）であった。分子量（ポリスチレン換算）は、数平均分子量（Ｍｎ）＝８，１００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１９，２００であった。重合体中の単量体組成比は５，６−ジヒドロキシメチル−２−ノルボルネン（５位および６位置換基ともにエンド体＞９８％）／テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン＝２４／７６（モル／モル）であった。
【００７１】
［実施例２］
前記実施例１の５，６−ジヒドロキシメチル−２−ノルボルネン（５位および６位置換基ともにエキソ体＞９８％）４６．３部を５−ヒドロキシ−２−ノルボルネン（５位置換基のエンド体／エキソ体比＝７７／２３）３３．０部に代え、１−ヘキセンの仕込み量を０．５１部に代えたこと以外は、実施例１と同様に重合した。得られた重合体の収量は７９部（収率＝９８％）であった。分子量（ポリスチレン換算）は、数平均分子量（Ｍｎ）＝１６，３００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝３３，０００であった。重合体中の単量体組成比は５−ヒドロキシ−２−ノルボルネン／テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン＝５０／５０（モル／モル）であった。
【００７２】
［実施例３］
前記実施例１の５，６−ジヒドロキシメチル−２−ノルボルネン（５位および６位置換基ともにエキソ体＞９８％）４６．３部を５−ヒドロキシエチル−２−ノルボルネン（５位置換基のエンド体／エキソ体比＝７４／２６）４６．８部に代え、テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン４８．０部をジシクロペンタジエン３９．７部に代えたこと以外は、実施例１と同様に重合した。得られた重合体の収量は６８部（収率＝７９％）であった。分子量（ポリスチレン換算）は、数平均分子量（Ｍｎ）＝２６，２００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝７５，５００であった。重合体中の単量体組成比は５−ヒドロキシエチル−２−ノルボルネン／ジシクロペンタジエン＝５１／４９（モル／モル）であった。
【００７３】
［比較例２］
前記実施例３の５−ヒドロキシエチル−２−ノルボルネン（エンド／エキソ比＝７４／２６）４６．８部を、５−ヒドロキシメチル−２−ノルボルネン（５位置換基のエンド体／エキソ体比＝７２／２８）３７．２部に代えたこと以外は、実施例３と同様に重合した。得られた重合体の収量は６部（収率＝８％）であった。分子量（ポリスチレン換算）は、数平均分子量（Ｍｎ）＝２１，１００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝５７，３００であった。重合体中の単量体組成比は５−ヒドロキシメチル−２−ノルボルネン／ジシクロペンタジエン＝５０／５０（モル／モル）であった。
【００７４】
［実施例４］
前記実施例１の５，６−ジヒドロキシメチル−２−ノルボルネン（５位および６位置換基ともにエキソ体＞９８重量％）４６．３部を、５−ヒドロキシエトキシカルボニル−２−ノルボルネン（５位置換基のエンド体／エキソ体比＝７７／２３）６１．８部に代えたこと以外は、実施例１と同様に重合した。得られた重合体の収量は７７部（収率＝７０％）であった。分子量（ポリスチレン換算）は、数平均分子量（Ｍｎ）＝２６，５００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝６０，０００であった。重合体中の単量体組成比は５−ヒドロキシエトキシカルボニル−２−ノルボルネン／テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン＝５４／４６（モル／モル）であった。
【００７５】
上記重合体１００部をテトラヒドロフラン４００部に溶解した後、攪拌機付きオートクレーブに仕込み、次いでビス（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウム（ＩＶ）ジクロリド０．０５部及びエチルビニルエーテル０．３９部をテトラヒドロフラン２０部に溶解した水素化触媒溶液を添加し、水素圧４．５ＭＰａ、１２０℃で６時間水素化反応を行った。反応終了後、反応液を多量のイソプロパノールに注いでポリマ−を完全に析出させ、濾別洗浄後、９０℃で１８時間減圧乾燥した。得られた水素化物の分子量（ポリスチレン換算）は、数平均分子量（Ｍｎ）＝２７，８００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝６１，８００であった。ヒドロキシ基およびエステル基が完全に保存され、主鎖中の炭素−炭素二重結合の９９％以上が水素化されていることをプロトンＮＭＲにより確認した。
【００７６】
［実施例５］
攪拌機付きガラス反応器に、テトラヒドロフラン３６０部、８−カルボキシ−テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン７４．８部、テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン２５．２部、および１−ヘキセン４．４部を仕込んだ。テトラヒドロフラン４０部に溶解した（１，３−ジメシチルイミダゾリジン−２−イリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド０．０４部を添加して、７０℃で重合を行った。２時間後、重合反応液を多量のｎ−ヘキサンに注いで固形分を析出させ、濾別洗浄後、４０℃で１８時間減圧乾燥し開環メタセシス重合体を得た。該重合体の収量は９１部（収率＝９１％）であった。分子量（ポリスチレン換算）は、数平均分子量（Ｍｎ）＝３，２１０、重量平均分子量（Ｍｗ）＝４,９９０であった。重合体中の単量体組成比は８−カルボキシ−テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン／テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン＝７１／２９（モル／モル）であった。
【００７７】
上記重合体１００部をテトラヒドロフラン４００部に溶解した後、攪拌機付きオートクレーブに仕込み、次いで１０％パラジウム／カーボン５部を添加し、水素圧４．５ＭＰａ、６０℃で６時間水素化反応を行った。反応終了後、反応液を多量のｎ−ヘキサンに注いでポリマ−を完全に析出させ、濾別洗浄後、９０℃で１８時間減圧乾燥した。水素化物の分子量（ポリスチレン換算）は、数平均分子量（Ｍｎ）＝４，０７０、重量平均分子量（Ｍｗ）＝６，１６０であった。カルボキシル基が完全に保存され、主鎖中の炭素−炭素二重結合の９９％以上が水素化されていることをプロトンＮＭＲにより確認した。
【００７８】
［比較例３］
前記実施例５の８−カルボキシ−テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン７４．８部を、５−カルボキシ−２−ノルボルネン（エンド／エキソ比＝８２／１８）３８．７部に代えたこと以外は実施例５と同様にして重合した。しかし、重合体は得られなかった。
【００７９】
［実施例６］
攪拌機付きオートクレーブに、テトラヒドロフラン３６０部、８−ヒドロキシメチルテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン６１．２部、テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン４８．０部、および１−ヘキセン０．２９部を仕込んだ。テトラヒドロフラン４０部に溶解した（１，３−ジメシチルイミダゾリジン−２−イリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド０．０５部を添加して、７０℃で２時間重合を行った。
重合反応溶液の一部を採取して実施例１と同様にして分析したところ、収率は９５％で、分子量（ポリスチレン換算）は、数平均分子量（Ｍｎ）＝２９，２００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝５７，７００であった。重合体中の単量体組成比は、８−ヒドロキシメチルテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン／テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン５０／５０（モル／モル）であった。
【００８０】
続いて、オートクレーブにテトラヒドロフラン２０部に溶解したビニルエチルエーテル０．３９部を添加し、水素圧４．５ＭＰａ、１２０℃で６時間水素化反応を行った。水素化反応液を多量のイソプロパノールに注いでポリマ−を完全に析出させ、濾別洗浄後、９０℃で１８時間減圧乾燥した。分子量（ポリスチレン換算）は、数平均分子量（Ｍｎ）＝３１，２００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝６０，１００であった。ヒドロキシ基が完全に保存され、主鎖中の炭素−炭素二重結合の９９％以上が水素化されていることをプロトンＮＭＲにより確認した。
【００８１】
【発明の効果】
本発明の開環重合体および開環重合体水素化物の製造方法は、ヒドロキシル基またはカルボキシル基に変換可能な前駆置換基を有するノルボルネン系モノマーを用いることなく、ヒドロキシル基またはカルボキシル基含有ノルボルネン系開環重合体およびその水素化物を極めて効率よく、工業的有利に製造することができるという効果を奏する。
【発明の属する技術分野】
本発明は、ノルボルネン系開環重合体および該重合体水素化物の新規な製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ヒドロキシル基またはカルボキシル基を含むノルボルネン系モノマーの開環重合体およびその水素化物は、耐熱性、電気特性、低吸水性などに優れた極性官能基含有ポリマーとして注目されている。また、該ポリマーは、金属やガラスなどの無機材料に対する密着性に優れ、酸化防止剤、可塑剤、紫外線吸収剤、着色剤、硬化剤、難燃剤などの有機材料との相溶性にも優れるため、広範な複合材料用途への利用が期待されている。
【０００３】
かかる極性官能基含有ポリマーを製造する方法としては、例えば、エステル基を含有するノルボルネン系モノマーを開環重合した後、場合によってはさらに水素化した後、ポリマー中に導入されたエステル基を加水分解する方法（特開平５−９７９７８、特開２００１−１３９７７６）；カルボン酸無水物基を含有するノルボルネン系モノマーを開環重合した後、場合によってはさらに水素化した後、ポリマー中に導入されたカルボン酸無水物基を加水分解または加アルコール分解する方法（特開平１１−１３０８４３）；などが知られている。
【０００４】
しかしながら、前記公知法は、いずれもヒドロキシル基またはカルボキシル基に変換可能な前駆置換基を有するノルボルネン系モノマーを重合した後、場合によってはさらに水素化した後に、該前駆置換基をヒドロキシル基またはカルボキシル基に変換する方法である。従って、製造工程数が多くなり、製造装置も複雑になるという問題を有していた。そこで、前駆置換基を有するモノマーを経由することなく、ヒドロキシル基またはカルボキシル基を含むノルボルネン系モノマーを、直接的に開環重合する方法の開発が望まれていた。
【０００５】
このような課題を解決する方策の一つとして、近年報告された官能基に対して安定性の高いルテニウム化合物を用いるノルボルネン系モノマーの開環重合法（ＷＯ９３／２０１１１号公報など）があり、例えば、ＷＯ９９／５１３４４号公報には、５−カルボキシ−２−ノルボルネンの重合例が記載されている。
【０００６】
しかし、本発明者らの知見によると、一般に入手可能な５−ヒドロキシメチル−２−ノルボルネン、５，６−ジヒドロキシメチル−２−ノルボルネン、５−カルボキシ−２−ノルボルネン、５，６−ジカルボキシ−２−ノルボルネンなどの、ノルボルネン環の５位または６位にヒドロキシルメチル基またはカルボキシル基を有するモノマーを、ルテニウム化合物（触媒）を用いて重合しようとしても、それらのモノマーの重合活性は低く、多量の触媒を使用する必要があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
このような従来技術の問題点と実情に鑑み、本発明の目的は、ヒドロキシル基またはカルボキシル基に変換可能な前駆置換基を有するモノマーを用いることなく、ヒドロキシル基またはカルボキシル基含有ノルボルネン系モノマーを開環重合させて、ノルボルネン系開環重合体およびその水素化物を効率よく、工業的有利に製造する方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、かかる目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、５−ヒドロキシメチル−２−ノルボルネン、５，６−ジヒドロキシメチル−２−ノルボルネン、５−カルボキシ−２−ノルボルネン、５，６−ジカルボキシ−２−ノルボルネンのような、ノルボルネン環の５位または６位にヒドロキシメチル基またはカルボキシル基が結合したモノマーにはエンド体およびエキソ体の立体異性体が存在するが、エンド体のみが特異的にルテニウム触媒の重合活性を阻害することを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち、本発明のノルボルネン系開環重合体の製造方法は、ルテニウム系メタセシス触媒の存在下、ルテニウム化合物の存在下、ヒドロキシル基またはカルボキシル基含有ノルボルネン系モノマーを開環重合させるに際し、（１）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に、１個の炭素原子を介してヒドロキシル基が結合し、またはカルボキシル基が直接結合し、かつエンド体とエキソ体の総量に対するエキソ体含有量が９０重量％以上であるモノマー；（２）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に、直接または２〜１０個の炭素原子を含む置換基を介してヒドロキシル基が結合したモノマー；および（３）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に、１〜１０個の炭素原子を含む置換基を介してカルボキシル基が結合したモノマー；からなる群より選択される少なくとも１種のモノマーを用いることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明のヒドロキシル基またはカルボキシル基含有ノルボルネン系開環重合体水素化物の製造方法は、上記の方法によりノルボルネン系開環重合体の製造する工程（Ａ）と、該重合体の炭素−炭素二重結合を水素化する工程（Ｂ）とを含むものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について、ノルボルネン系モノマー、ルテニウム系メタセシス触媒、ノルボルネン系開環重合体の製法、ノルボルネン系開環重合体水素化物の製法の項目に分けて詳細に説明する。
【００１２】
なお、本発明に用いられるノルボルネン系モノマーを「モノマー」と、ルテニウム系メタセシス触媒を「ルテニウム触媒」または「触媒」と略記することがある。また、ノルボルネン系開環重合体を「重合体」と、ノルボルネン系開環重合体水素化物を「水素化物」と略記することもある。
【００１３】
（ノルボルネン系モノマー）
本発明のノルボルネン系開環重合体の製造方法、および該重合体水素化物の製造方法においては、ヒドロキシル基またはカルボキシル基含有ノルボルネン系モノマーが用いられる。ここでノルボルネン系モノマーとは、分子内にノルボルネン環構造を有するモノマーをいう。該ノルボルネン環構造においては、橋頭部炭素原子のいずれか一方の位置番号を１位として、２位および３位の炭素原子が炭素−炭素二重結合により互いに結合し、その５位または６位炭素原子にヒドロキシル基またはカルボキシル含有置換基が結合している。
【００１４】
そして、本発明に用いられるモノマーは、（１）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に、１個の炭素原子を介してヒドロキシル基が結合し、またはカルボキシル基が直接結合し、かつエンド体とエキソ体の総量に対するエキソ体含有量が９０重量％以上であるモノマー；（２）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に、直接または２〜１０個の炭素原子を含む置換基を介してヒドロキシル基が結合したモノマー；および（３）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に、１〜１０個の炭素原子を含む置換基を介してカルボキシル基が結合したモノマー；からなる群より選択される。
【００１５】
前記（１）に属するモノマーは、エンド体とエキソ体の総量に対するエキソ体含有量が９０重量％以上であることが必須である。エキソ体含有量が９０重量％未満の場合、本発明の目的を達成することは困難である。前記（２）および前記（３）に属するモノマーについては、エンド体とエキソ体の総量に対するエキソ体含有量は特に限定されない。
【００１６】
前記（１）のモノマーは、（１−ａ）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に１個の炭素原子を介してヒドロキシル基が結合し、かつエンド体とエキソ体の総量に対するエキソ体含有量が９０重量％以上であるモノマー；および（１−ｂ）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子にカルボキシル基が直接結合し、かつエンド体とエキソ体の総量に対するエキソ体含有量が９０重量％以上であるモノマー；の２つのモノマー群からなる。
【００１７】
前記（１−ａ）において、ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子とヒドロキシル基の間に介在する１個の炭素原子は、メチレン基（−ＣＨ２−）のみならず、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子またはケイ素原子を含む炭素数１〜１０の炭化水素基が該メチレン基に置換していてもよい。
【００１８】
前記（１−ａ）としては、例えば、５−ヒドロキシメチル−２−ノルボルネン、５−メチル−５−ヒドロキシメチル−２−ノルボルネン、５，６−ジヒドロキシメチル−２−ノルボルネンなどが挙げられる。前記（１−ｂ）としては、例えば、５−カルボキシ−２−ノルボルネン、５，６−ジカルボキシ−２−ノルボルネン、５−メチル−５−カルボキシ−２−ノルボルネンなどが挙げられる。
【００１９】
かかる前記（１）に属するモノマーのエキソ体含有量をエキソおよびエンド体の全量に対して９０重量％以上にする方法は特に限定されない。例えば、分別結晶法や精密蒸留法によるエンド体の除去、エンド体のエキソ体への異性化反応など工業的に通常用いられる方法に従って、エキソ体含有量を９０重量％以上にすればよい。
【００２０】
前記（２）に属するモノマーであって、ヒドロキシル基がノルボルネン環に直接結合したものとしては、５−ヒドロキシ−２−ノルボルネン、５，６−ジヒドロキシ−２−ノルボルネンなどが挙げられる。
【００２１】
前記（２）に属する、２〜１０個の炭素原子を含む置換基を介してヒドロキシル基が結合したモノマーにおいて、ノルボルネン環とヒドロキシル基との間に介在する２〜１０個の炭素原子を含む置換基は、単にアルキレン基を示すのみならず、アルキレンカルボニル基、アルキレンカルボニルアルキレン基、アルキレンオキシカルボニル基、アルキレンオキシカルボニルアルキレン基、アルキレンアミノ基、アルキレンアミド基、アルキレンイミド基なども含むものである。また、かかる介在基には、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子またはケイ素原子を含む炭素数１〜１０の炭化水素基が置換していてもよい。
【００２２】
このようなヒドロキシル基含有ノルボルネン系モノマーとしては、例えば、５−ヒドロキシエチル−２−ノルボルネン、５,６−ジヒドロキシエチル−２−ノルボルネン、５−（３−ヒドロキシプロピル）−２−ノルボルネン、５−（ｐ−ヒドロキシフェニル）−２−ノルボルネン、５−（４−ヒドロキシシクロヘキシル）−２−ノルボルネン、５−ヒドロキシエトキシカルボニル−２−ノルボルネン、５−メチル−５−ヒドロキシエトキシカルボニル−２−ノルボルネン、５−ヒドロキシプロポキシカルボニル−２−ノルボルネン、５―メチル−５−ヒドロキシプロポキシカルボニル−２−ノルボルネン、５,６−ジ（ヒドロキシエトキシカルボニル）−２−ノルボルネン、Ｎ−ヒドロキシ−２−ノルボルネン−５，６−ジカルボキシイミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−２−ノルボルネン−５，６−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）−２−ノルボルネン−５，６−ジカルボキシイミドなどが挙げられる。
【００２３】
さらに、該ヒドロキシル基含有ノルボルネン誘導体にシクロペンタジエンがディールズ・アルダー付加したテトラシクロドデセン誘導体、８−ヒドロキシテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン、８−ヒドロキシメチルテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン、８，９−ジヒドロキシメチルテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン、８，８−ジヒドロキシメチルテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセンなども挙げることができる。
【００２４】
前記（３）に属するモノマーとしては、５−カルボキシメチル−２−ノルボルネン、５,６−ジカルボキシメチル−２−ノルボルネン、５−カルボキシエチル−２−ノルボルネン、５−（ｐ−カルボキシフェニル）−２−ノルボルネン、５−（４−カルボキシシクロヘキシル）−２−ノルボルネン、Ｎ−カルボキシ−２−ノルボルネン−５，６−ジカルボキシイミド、Ｎ−カルボキシメチル−２−ノルボルネン−５，６−ジカルボキシイミドなどのカルボキシル基含有ノルボルネン誘導体が挙げられる。
【００２５】
さらに、該カルボキシル基含有ノルボルネン誘導体にシクロペンタジエンがディールズ・アルダー付加したテトラシクロドデセン誘導体、８−カルボキシテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン、８−メチル−８−カルボキシテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン、８，９−ジカルボキシテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセンなども挙げることができる。
【００２６】
本発明における重合反応は、前記（１）〜（３）の群から選択されるモノマーの単独重合のみならず、２種以上の共重合を含むものである。また、前記（１）〜（３）の群から選択されるモノマーと共重合可能な他の任意のモノマーとの共重合をも含むものである。
【００２７】
そのような他の任意モノマーとしては、例えば、２−ノルボルネン、５−メチル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネン、５−エチリデン−２−ノルボルネン、５−フェニル−２−ノルボルネン、５−シクロへキシル−２−ノルボルネン、５−シクロへキセニル−２−ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、１，４−メタノ−１，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロフルオレン、テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン、８−メチルテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン、８−エチルテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン、８−エチリデンテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセンなどの置換基を有しないあるいは置換基として炭化水素基を有するノルボルネン系モノマー；
【００２８】
５−メトキシカルボニル−２−ノルボルネン、５−メチル−５−メトキシカルボニル−２−ノルボルネン、２−ノルボルネン−５，６−ジカルボン酸無水物、２−ノルボルネン−５，６−ジカルボン酸イミド、８−メトキシカルボニルテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン、８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセンなどの官能基を有するモノマー；シクロペンテン、シクロオクテンなどの単環の環状オレフィン類；シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエン、シクロオクタジエンなどのジオレフィン類；などが挙げられる。
【００２９】
（ルテニウム系メタセシス触媒）
ノルボルネン系開環重合体の製造方法においては、公知のルテニウム系メタセシス触媒が用いられる。該触媒は、中心金属としてルテニウムが存在し、開環メタセシス重合活性を示すものであれば特に限定されない。通常、ルテニウムに中性の電子供与性配位子が配位し、好ましくは更にアニオン性配位子が配位し、より好ましくは更にルテニウム−カルベン結合を有するものである。また、前記アニオン性配位子とは別に、対アニオンが存在していてもよい。
【００３０】
ここで「中性の電子供与性配位子」とは、中心金属であるルテニウムから引き離されたときに中性の電荷を持つ配位子をいう。また、「アニオン性配位子」とは、ルテニウムから引き離されたときに負の電荷を持つ配位子である。「対アニオン」とは、ルテニウム陽イオンとイオン対を形成する陰イオンをいい、こうした対を形成できる陰イオンであれば特に限定されない。
【００３１】
中性の電子供与性配位子としては、酸素、水、カルボニル類、アミン類、ピリジン類、エ−テル類、ニトリル類、エステル類、ホスフィン類、ホスフィナイト類、ホスファイト類、スチビン類、スルホキシド類、チオエーテル類、アミド類、芳香族炭化水素類、ジオレフィン類（環状であってもよい）、オレフィン類（環状であってもよい）、イソシアニド類、チオシアネ−ト類、複素環式カルベン化合物などが挙げられる。
【００３２】
これらの中でも、ビピリジンなどのピリジン類、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィンなどのホスフィン類、ｐ−シメンなどの芳香族炭化水素類、シクロペンタジエンなどの環状ジオレフィン類、１，３−ジメシチルイミダゾリン−２−イリデン、１，３−ジメシチルイミダゾリジン−２−イリデンなどの複素環式カルベン化合物が好ましい。
【００３３】
アニオン性配位子としては、Ｆ、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｉなどのハロゲン、ヒドリド、アセチルアセトナート基などのジケトナート基、シクロペンタジエニル基、アリル基、アルケニル基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールカルボキシル基、カルボキシル基、アルキルまたはアリールスルフォネート基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基などが挙げられる。これらの中でも、ハロゲン、シクロペンタジエニル基、アリル基、アルキル基、アリール基が好ましい。
【００３４】
対アニオンとしては、ＢＦ４ −、Ｂ（Ｃ６Ｈ６）４ −、ＰＦ６ −、ＳｂＦ６ −、ＣｌＯ４ −、ＩＯ４ −、ｐ−トルエンスルホン酸アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオンなどが挙げられる。これらの中でも、ＢＦ４ −、Ｂ（Ｃ６Ｈ６）４ −、ＰＦ６ −、ＳｂＦ６ −が好ましい。
【００３５】
かかるルテニウム触媒の代表例としては、下記式（１）〜（３）で表されるものが挙げられる。
【００３６】
【化１】
（式（１）中、Ｌ１は互いに独立に任意の中性電子供与性配位子を表わし、Ｙ１は互いに独立に任意のアニオン性配位子を示す。Ｌ１および／またはＹ１の２個、３個または４個は互いに結合して多座キレート配位子を形成してもよい。ａ、ｂは１〜４の整数で、ｘは１〜６の整数である。）
【００３８】
前記式（１）、つまりルテニウムに中性の電子供与性配位子が配位した触媒、または更にアニオン性配位子が配位した触媒としては、例えば、ビス（シクロペンタジエニル）ルテニウム、クロロ（シクロペンタジエニル）ビス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、ジクロロ（１，５−シクロオクタジエン）ルテニウム、ジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、シス−ジクロロビス（２，２’−ビピリジル）ルテニウム・二水和物、ジクロロビス〔（ｐ−シメン）クロロルテニウム〕〕、ジクロロ（２，７−ジメチルオクタ−２，６−ジエン−１，８−ジイル）ルテニウムなどが挙げられる。
【００３９】
【化２】
（式（２）中、Ｌ２は互いに独立に中性の電子供与性配位子を表し、Ｙ２は互いに独立にアニオン性の配位子を表す。Ｑは互いに独立して水素または炭素数１〜２０個の炭化水素基（ハロゲン原子、窒素原子、酸素原子、珪素原子、リン原子、硫黄原子を含んでいてもよい）を表す。ｃ、ｄ、ｙはそれぞれ１〜４の整数を表し、ｅは０または１を表す。）
【００４１】
前記式（２）におけるＱとしては、例えば、水素、アルケニル基、アルキニル基、アルキル基、アルキリデン基、アリール基、カルボキシル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基などが挙げられる。これらの中でも、アルキル基、アルキリデン基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基が好ましい。
【００４２】
前記式（２）、つまりルテニウム−カルベン結合を有する触媒としては、例えば、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、ビス（トリフェニルホスフィン）−３，３−ジフェニルプロペニリデンルテニウムジクロリド、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）フェニルビニリデンルテニウムジクロリド、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）ｔ−ブチルビニリデンルテニウムジクロリド、ビス（１，３−ジイソプロピルイミダゾリン−２−イリデン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、ビス（１，３−ジシクロヘキシルイミダゾリン−２−イリデン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、（１，３−ジメシチルイミダゾリン−２−イリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、（１，３−ジメシチルイミダゾリジン−２−イリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリドなどが挙げられる。
【００４３】
【化３】
（式（３）中、Ｌ３は互いに独立に中性電子供与性配位子を表し、Ｙ３は互いに独立にアニオン性配位子を表す。Ｘは対アニオンを表す。ｆ、ｇは１〜４の整数を表し、ｚは１または２である。）
【００４５】
前記式（３）、つまり更に対アニオンを有するで触媒としては、例えば、［（ｐ−シメン）（ＣＨ３ＣＮ）３Ｒｕ］（ＢＦ４）２、［（Ｃ６Ｈ６）（ＣＨ３ＣＮ）２（Ｃｌ）Ｒｕ］（ＢＦ４）、［（Ｃ６Ｈ６）（ＣＨ３ＣＮ）３Ｒｕ］（ＰＦ６）２、［（ＣＨ３ＣＮ）２（Ｃｌ）（２，７−ジメチルオクタ−２，６−ジエン−１，８−ジイル）Ｒｕ］（ＢＦ４）、[（ＣＨ３ＣＮ）３（２，７−ジメチルオクタ−２，６−ジエン−１，８−ジイル）Ｒｕ]（ＢＦ４）２などが挙げられる。
【００４６】
前記式（１）〜（３）で表わされる触媒の中でも、式（２）が高い重合活性を示すので、好ましく用いられる。また、式（１）〜（３）で表わされる触媒の重合活性を高める方法として、ピリジン類、ホスフィン類、中性の電子供与性化合物（例えば、１，３−ジイソプロピルイミダゾリン−２−イリデン、１，３−ジメシチルイミダゾリジン−２−イリデンなどの複素環式カルベン化合物）などをルテニウム金属に対して、重量比で１〜１００倍の割合で添加して併用することができる。
【００４７】
さらに、式（１）〜（３）で表される触媒の重合活性を高める別の方法として、例えば、Ｎ２ＣＨＣＯＯＥｔなどのジアゾ化合物、フェニルアセチレンなどのアセチレン化合物またはＥｔ２ＳｉＨ、Ｐｈ２ＭｅＳｉＨなどのシリル化合物を、ルテニウム金属に対して、重量比で１〜１００倍の割合で添加することもできる。Ｅｔはエチル基、Ｐｈはフェニル基、Ｍｅはメチル基である。
【００４８】
（ノルボルネン系開環重合体の製法）
本発明の開環メタセシス重合は、溶媒の存在下または不存在下で行うことができる。重合反応終了後、生成した重合体を単離せずに、そのまま水素化反応を行う場合は、溶媒中で重合する方が好ましい。溶媒は生成する重合体を溶解し、かつ重合反応を阻害しない溶媒であれば特に限定されない。
【００４９】
重合反応溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、トリメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジエチルシクロヘキサン、デカヒドロナフタレン、ビシクロヘプタン、トリシクロデカン、ヘキサヒドロインデンシクロヘキサン、シクロオクタンなどの脂環族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素；
【００５０】
ニトロメタン、ニトロベンゼン、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどの含窒素系炭化水素；ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエ−テル類；アセトン、エチルメチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸エチル、安息香酸メチルなどのエステル類；クロロホルム、ジクロロメタン、１,２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼンなどのハロゲン系炭化水素；などが挙げられる。
【００５１】
かかる溶媒の中でも、芳香族炭化水素、脂環族炭化水素、エーテル類、ケトン類、エステル類を使用するのが好ましい。溶媒中のノルボルネン系モノマーの濃度は、好ましくは１〜５０重量％、より好ましくは２〜４５重量％、さらに好ましくは５〜４０重量％である。モノマー濃度が１重量％未満では重合体の生産性が悪くなることがあり、５０重量％を超えると重合後の粘度が高すぎて、その後の水素化などが困難となることがある。
【００５２】
重合触媒の使用量は、触媒中の金属ルテニウムに対するモノマーのモル比で、金属ルテニウム：単量体＝１：１００〜１：２，０００，０００、好ましくは１：５００〜１：１，０００，０００、より好ましくは１：１，０００〜１：５００，０００である。触媒量が前記モル比よりも多すぎると触媒除去が困難となることがあり、少なすぎると十分な重合活性が得られないことがある。
【００５３】
重合触媒は溶媒に溶解して反応系に添加してもよいし、溶解せずにそのまま添加してもよい。触媒溶液を調製する溶媒としては、前記重合反応溶媒と同様の溶媒が挙げられる。
【００５４】
重合温度は特に制限はないが、通常、−１００℃〜２００℃、好ましくは−５０℃〜１８０℃、より好ましくは−３０℃〜１６０℃、さらに好ましくは０℃〜１４０℃である。重合時間は、通常１分〜１００時間であり、反応の進行状況に応じて適宜調節することができる。
【００５５】
かかる重合反応においては、重合体の分子量を調整するために、分子量調整剤を用いることができる。そのような分子量調整剤としては、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテンなどのα−オレフィン；スチレン、ビニルトルエンなどのスチレン類；エチルビニルエーテル、ｉ−ブチルビニルエーテル、アリルグリシジルエーテルなどのエーテル類；アリルクロライドなどのハロゲン含有ビニル化合物；酢酸アリル、アリルアルコール、グリシジルメタクリレートなど酸素含有ビニル化合物；アクリロ二トリル、アクリルアミドなどの窒素含有ビニル化合物などが挙げられる。モノマーに対して、分子量調整剤を０．１〜１００モル％使用することにより、所望の分子量を有する重合体を得ることができる。
【００５６】
（ノルボルネン系開環重合体水素化物の製法）
本発明のヒドロキシル基またはカルボキシル基含有ノルボルネン系開環重合体水素化物の製造方法は、前述の方法によりノルボルネン系開環重合体の製造する工程（Ａ）と、該重合体の炭素−炭素二重結合を水素化する工程（Ｂ）とを含むものである。
【００５７】
前記工程（Ｂ）の水素化反応は、水素化触媒の存在下に水素を導入し、ノルボルネン系開環重合体の主鎖中の炭素−炭素二重結合を飽和単結合に変換する反応である。水素化触媒は特に限定されず、オレフィン化合物の水素化に際して一般的に使用されているものを適宜採用すればよい。
【００５８】
そのような水素化触媒としては、例えば、酢酸コバルトとトリエチルアルミニウム、ニッケルアセチルアセトナートとトリイソブチルアルミニウム、チタノセンジクロリドとｎ−ブチルリチウム、ジルコノセンジクロリドとｓｅｃ−ブチルリチウム、テトラブトキシチタネートとジメチルマグネシウムのような遷移金属化合物とアルカリ金属化合物の組み合わせからなるチーグラー系触媒；
【００５９】
前記式（１）〜（３）で示されるルテニウム触媒、クロロトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム、特開平７−２９２９、特開平７−１４９８２３、特開平１１−２０９４６０、特開平１１−１５８２５６、特開平１１−１９３３２３、特開平１１−２０９４６０などに記載されるルテニウム化合物からなる貴金属錯体触媒；などの均一系触媒が挙げられる。
【００６０】
また、ニッケル、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウムなどの金属を、カーボン、シリカ、ケイソウ土、アルミナ、酸化チタンなどの担体に担持させた不均一触媒、例えば、ニッケル／シリカ、ニッケル／ケイソウ土、ニッケル／アルミナ、パラジウム／カーボン、パラジウム／シリカ、パラジウム／ケイソウ土、パラジウム／アルミナなどを用いることもできる。
【００６１】
これらの水素化触媒の中でも、ノルボルネン系開環重合体に含有される極性官能基が変性するなどの副反応が起きず、該重合体中の炭素−炭素二重結合を選択的に水素化できる点から、ロジウム、ルテニウムなどの貴金属錯体触媒およびパラジウム／カーボンなどのパラジウム担持触媒が好ましく、前記式（１）〜（３）で示されるルテニウム触媒、パラジウム担持触媒がより好ましい。
【００６２】
前記式（１）〜（３）で示されるルテニウム触媒は、前記工程（Ａ）の重合反応に用いられるので、重合反応終了後、該触媒をそのまま水素化触媒として使用することが好ましい。このように重合反応と水素化反応を連続的に行う場合、エチルビニルエーテルなどのビニル化合物やα−オレフィンなどの触媒改質剤を添加して該触媒を活性化させてから、水素化反応を開始することも好まく採用される。また、別種の水素化触媒を併用することもできる。
【００６３】
水素化反応は、通常、有機溶媒中で実施する。有機溶媒は生成する水素化物の溶解性により適宜選択することができ、前記重合溶媒と同様の有機溶媒を使用することができる。したがって、重合反応後、溶媒を入れ替えることなく、そのまま水素化触媒を添加して反応させることもできる。
【００６４】
水素化反応条件は、使用する水素化触媒の種類に応じて適宜選択すればよい。反応温度は、通常−２０〜２５０℃、好ましくは−１０〜２２０℃、より好ましくは０〜２００℃である。−２０℃未満では反応速度が遅くなり、逆に２５０℃を超えると副反応が起こりやすくなる。水素の圧力は、通常０．０１〜１０．０ＭＰａ、好ましくは０．０５〜８．０ＭＰａ、より好ましくは０．１〜５.０ＭＰａである。水素圧力が０．０１ＭＰａ未満では水素化速度が遅くなり、１０．０ＭＰａを超えると高耐圧反応装置が必要となる。
【００６５】
水素化反応の時間は、水素化率をコントロールするために適宜選択される。反応時間は、通常０．１〜５０時間の範囲であり、重合体中の主鎖の炭素−炭素二重結合のうち５０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、最も好ましくは９０％以上を水素化することができる。
【００６６】
このようにして得られるヒドロキシル基またはカルボキシル基を含むノルボルネン系モノマーの開環重合体水素化物は、耐熱性や電気特性などに優れる。従って、プラスチックレンズ、球形レンズ、非球形レンズ、複写機レンズ、ビデオカメラコンバータレンズ、光ディスク用ピックアップレンズ、車両部品用レンズなどの耐熱性光学部品材料；半導体封止用材料、半導体アンダーフィルム用材料、半導体保護膜用材料、液晶封止用材料、回路基材材料、回路保護用材料、平坦化膜材料電気絶縁膜材料などの電子部品用材料；などの用途に好適に使用することができる。
【００６７】
【実施例】
以下に、実施例と比較例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
（１）分子量は、テトラヒドロフランを溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算値として測定した。
（２）重合体中の単量体組成比は、プロトンＮＭＲスペクトルにより測定した。
（３）水素化率は、プロトンＮＭＲスペクトルにより測定した。
【００６８】
［実施例１］
攪拌機付きガラス反応器に、テトラヒドロフラン３６０部、５，６−ジヒドロキシメチル−２−ノルボルネン（５位および６位置換基ともにエキソ体＞９８重量％）４６．３部、テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン４８．０部、および１−ヘキセン０．２９部を仕込んだ。テトラヒドロフラン４０部に溶解した（１，３−ジメシチルイミダゾリジン−２−イリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド０．０５部を添加して、７０℃で重合を行った。２時間後、重合反応液を多量のイソプロパノールに注いで固形分を析出させ、濾別洗浄後、４０℃で１８時間減圧乾燥して開環メタセシス重合体を得た。
【００６９】
得られた重合体の収量は６４部（収率＝６８％）であった。分子量（ポリスチレン換算）は、数平均分子量（Ｍｎ）＝３２，１００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝５９，５００であった。重合体中の単量体組成比は５，６−ジヒドロキシメチル−２−ノルボルネン（５位および６位置換基ともにエキソ体＞９８％）／テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン＝５２／４８（モル／モル）であった。
【００７０】
［比較例１］
前記実施例１の５，６−ジヒドロキシメチル−２−ノルボルネン（５位置および６位置換基ともにエキソ体＞９８重量％）を、５，６−ジヒドロキシメチル−２−ノルボルネン（５位および６位置換基ともにエンド体＞９８重量％）に代えたこと以外は、実施例１と同様に重合した。得られた重合体の収量は１部（収率＝１％）であった。分子量（ポリスチレン換算）は、数平均分子量（Ｍｎ）＝８，１００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１９，２００であった。重合体中の単量体組成比は５，６−ジヒドロキシメチル−２−ノルボルネン（５位および６位置換基ともにエンド体＞９８％）／テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン＝２４／７６（モル／モル）であった。
【００７１】
［実施例２］
前記実施例１の５，６−ジヒドロキシメチル−２−ノルボルネン（５位および６位置換基ともにエキソ体＞９８％）４６．３部を５−ヒドロキシ−２−ノルボルネン（５位置換基のエンド体／エキソ体比＝７７／２３）３３．０部に代え、１−ヘキセンの仕込み量を０．５１部に代えたこと以外は、実施例１と同様に重合した。得られた重合体の収量は７９部（収率＝９８％）であった。分子量（ポリスチレン換算）は、数平均分子量（Ｍｎ）＝１６，３００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝３３，０００であった。重合体中の単量体組成比は５−ヒドロキシ−２−ノルボルネン／テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン＝５０／５０（モル／モル）であった。
【００７２】
［実施例３］
前記実施例１の５，６−ジヒドロキシメチル−２−ノルボルネン（５位および６位置換基ともにエキソ体＞９８％）４６．３部を５−ヒドロキシエチル−２−ノルボルネン（５位置換基のエンド体／エキソ体比＝７４／２６）４６．８部に代え、テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン４８．０部をジシクロペンタジエン３９．７部に代えたこと以外は、実施例１と同様に重合した。得られた重合体の収量は６８部（収率＝７９％）であった。分子量（ポリスチレン換算）は、数平均分子量（Ｍｎ）＝２６，２００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝７５，５００であった。重合体中の単量体組成比は５−ヒドロキシエチル−２−ノルボルネン／ジシクロペンタジエン＝５１／４９（モル／モル）であった。
【００７３】
［比較例２］
前記実施例３の５−ヒドロキシエチル−２−ノルボルネン（エンド／エキソ比＝７４／２６）４６．８部を、５−ヒドロキシメチル−２−ノルボルネン（５位置換基のエンド体／エキソ体比＝７２／２８）３７．２部に代えたこと以外は、実施例３と同様に重合した。得られた重合体の収量は６部（収率＝８％）であった。分子量（ポリスチレン換算）は、数平均分子量（Ｍｎ）＝２１，１００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝５７，３００であった。重合体中の単量体組成比は５−ヒドロキシメチル−２−ノルボルネン／ジシクロペンタジエン＝５０／５０（モル／モル）であった。
【００７４】
［実施例４］
前記実施例１の５，６−ジヒドロキシメチル−２−ノルボルネン（５位および６位置換基ともにエキソ体＞９８重量％）４６．３部を、５−ヒドロキシエトキシカルボニル−２−ノルボルネン（５位置換基のエンド体／エキソ体比＝７７／２３）６１．８部に代えたこと以外は、実施例１と同様に重合した。得られた重合体の収量は７７部（収率＝７０％）であった。分子量（ポリスチレン換算）は、数平均分子量（Ｍｎ）＝２６，５００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝６０，０００であった。重合体中の単量体組成比は５−ヒドロキシエトキシカルボニル−２−ノルボルネン／テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン＝５４／４６（モル／モル）であった。
【００７５】
上記重合体１００部をテトラヒドロフラン４００部に溶解した後、攪拌機付きオートクレーブに仕込み、次いでビス（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウム（ＩＶ）ジクロリド０．０５部及びエチルビニルエーテル０．３９部をテトラヒドロフラン２０部に溶解した水素化触媒溶液を添加し、水素圧４．５ＭＰａ、１２０℃で６時間水素化反応を行った。反応終了後、反応液を多量のイソプロパノールに注いでポリマ−を完全に析出させ、濾別洗浄後、９０℃で１８時間減圧乾燥した。得られた水素化物の分子量（ポリスチレン換算）は、数平均分子量（Ｍｎ）＝２７，８００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝６１，８００であった。ヒドロキシ基およびエステル基が完全に保存され、主鎖中の炭素−炭素二重結合の９９％以上が水素化されていることをプロトンＮＭＲにより確認した。
【００７６】
［実施例５］
攪拌機付きガラス反応器に、テトラヒドロフラン３６０部、８−カルボキシ−テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン７４．８部、テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン２５．２部、および１−ヘキセン４．４部を仕込んだ。テトラヒドロフラン４０部に溶解した（１，３−ジメシチルイミダゾリジン−２−イリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド０．０４部を添加して、７０℃で重合を行った。２時間後、重合反応液を多量のｎ−ヘキサンに注いで固形分を析出させ、濾別洗浄後、４０℃で１８時間減圧乾燥し開環メタセシス重合体を得た。該重合体の収量は９１部（収率＝９１％）であった。分子量（ポリスチレン換算）は、数平均分子量（Ｍｎ）＝３，２１０、重量平均分子量（Ｍｗ）＝４,９９０であった。重合体中の単量体組成比は８−カルボキシ−テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン／テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン＝７１／２９（モル／モル）であった。
【００７７】
上記重合体１００部をテトラヒドロフラン４００部に溶解した後、攪拌機付きオートクレーブに仕込み、次いで１０％パラジウム／カーボン５部を添加し、水素圧４．５ＭＰａ、６０℃で６時間水素化反応を行った。反応終了後、反応液を多量のｎ−ヘキサンに注いでポリマ−を完全に析出させ、濾別洗浄後、９０℃で１８時間減圧乾燥した。水素化物の分子量（ポリスチレン換算）は、数平均分子量（Ｍｎ）＝４，０７０、重量平均分子量（Ｍｗ）＝６，１６０であった。カルボキシル基が完全に保存され、主鎖中の炭素−炭素二重結合の９９％以上が水素化されていることをプロトンＮＭＲにより確認した。
【００７８】
［比較例３］
前記実施例５の８−カルボキシ−テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン７４．８部を、５−カルボキシ−２−ノルボルネン（エンド／エキソ比＝８２／１８）３８．７部に代えたこと以外は実施例５と同様にして重合した。しかし、重合体は得られなかった。
【００７９】
［実施例６］
攪拌機付きオートクレーブに、テトラヒドロフラン３６０部、８−ヒドロキシメチルテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン６１．２部、テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン４８．０部、および１−ヘキセン０．２９部を仕込んだ。テトラヒドロフラン４０部に溶解した（１，３−ジメシチルイミダゾリジン−２−イリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド０．０５部を添加して、７０℃で２時間重合を行った。
重合反応溶液の一部を採取して実施例１と同様にして分析したところ、収率は９５％で、分子量（ポリスチレン換算）は、数平均分子量（Ｍｎ）＝２９，２００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝５７，７００であった。重合体中の単量体組成比は、８−ヒドロキシメチルテトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン／テトラシクロ[４．４．０．１２，５．１７，１０]−３−ドデセン５０／５０（モル／モル）であった。
【００８０】
続いて、オートクレーブにテトラヒドロフラン２０部に溶解したビニルエチルエーテル０．３９部を添加し、水素圧４．５ＭＰａ、１２０℃で６時間水素化反応を行った。水素化反応液を多量のイソプロパノールに注いでポリマ−を完全に析出させ、濾別洗浄後、９０℃で１８時間減圧乾燥した。分子量（ポリスチレン換算）は、数平均分子量（Ｍｎ）＝３１，２００、重量平均分子量（Ｍｗ）＝６０，１００であった。ヒドロキシ基が完全に保存され、主鎖中の炭素−炭素二重結合の９９％以上が水素化されていることをプロトンＮＭＲにより確認した。
【００８１】
【発明の効果】
本発明の開環重合体および開環重合体水素化物の製造方法は、ヒドロキシル基またはカルボキシル基に変換可能な前駆置換基を有するノルボルネン系モノマーを用いることなく、ヒドロキシル基またはカルボキシル基含有ノルボルネン系開環重合体およびその水素化物を極めて効率よく、工業的有利に製造することができるという効果を奏する。
Claims (4)
- 下記式（１）で表されるルテニウム系メタセシス触媒の存在下、ヒドロキシル基またはカルボキシル基含有ノルボルネン系モノマーを開環重合させるに際し、（１）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に、１個の炭素原子を介してヒドロキシル基が結合し、またはカルボキシル基が直接結合し、かつエンド体とエキソ体の総量に対するエキソ体含有量が９０重量％以上であるモノマー；（２）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に、直接または２〜１０個の炭素原子を含む置換基を介してヒドロキシル基が結合したモノマー；および（３）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に、１〜１０個の炭素原子を含む置換基を介してカルボキシル基が結合したモノマー；からなる群より選択される少なくとも１種のモノマーを用い、かつ、前記ルテニウム系メタセシス触媒中の金属ルテニウムに対する前記モノマーの比率が、モル比で、金属ルテニウム：単量体＝１：１，０００〜１：５００，０００であることを特徴とするノルボルネン系開環重合体の製造方法。
- 下記式（２）で表されるルテニウム系メタセシス触媒の存在下、ヒドロキシル基またはカルボキシル基含有ノルボルネン系モノマーを開環重合させるに際し、（１）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に、１個の炭素原子を介してヒドロキシル基が結合し、またはカルボキシル基が直接結合し、かつエンド体とエキソ体の総量に対するエキソ体含有量が９０重量％以上であるモノマー；（２）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に、直接または２〜１０個の炭素原子を含む置換基を介してヒドロキシル基が結合したモノマー；および（３）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に、１〜１０個の炭素原子を含む置換基を介してカルボキシル基が結合したモノマー；からなる群より選択される少なくとも１種のモノマーを用い、かつ、前記ルテニウム系メタセシス触媒中の金属ルテニウムに対する前記モノマーの比率が、モル比で、金属ルテニウム：単量体＝１：１，０００〜１：５００，０００であることを特徴とするノルボルネン系開環重合体の製造方法。
- 下記式（２）で表されるルテニウム系メタセシス触媒の存在下、ヒドロキシル基またはカルボキシル基含有ノルボルネン系モノマーを開環重合させるに際し、（１）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に、１個の炭素原子を介してヒドロキシル基が結合し、またはカルボキシル基が直接結合し、かつエンド体とエキソ体の総量に対するエキソ体含有量が９０重量％以上であるモノマー；（２）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に、直接または２〜１０個の炭素原子を含む置換基を介してヒドロキシル基が結合したモノマー；および（３）ノルボルネン環の５位または６位の炭素原子に 、１〜１０個の炭素原子を含む置換基を介してカルボキシル基が結合したモノマー；からなる群より選択される少なくとも１種のモノマーを用い、かつ、前記ルテニウム系メタセシス触媒中の金属ルテニウムに対する前記モノマーの比率が、モル比で、金属ルテニウム：単量体＝１：１，０００〜１：５００，０００であることを特徴とするノルボルネン系開環重合体の製造方法。
- 請求項１〜３のいずれかに記載の方法によりノルボルネン系開環重合体を製造する工程（Ａ）と、該重合体の炭素−炭素二重結合を水素化する工程（Ｂ）とを含む、ヒドロキシル基またはカルボキシル基含有ノルボルネン系開環重合体水素化物の製造方法。
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