JP3917254B2 - 流体加熱装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ランプヒータを加熱源とする流体加熱装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体ウエハを洗浄するいわゆるRCA洗浄工程においては、例えば、アンモニア過水による洗浄によって有機物およびパーティクルが除去され、また、塩酸過水による洗浄によって金属イオンが除去される。
【0003】
上記洗浄処理においては、洗浄液である上記アンモニア過水、塩酸過水等を例えば80℃前後程度まで加熱する必要があり、そのため、上記洗浄液を流通させながら加熱する流体加熱装置が実用されている。
【0004】
この流体加熱装置は、ランプヒータを収容した光透過性材料からなる内管と、該内管の外周面を包囲する態様で設けた外管とによって被加熱流体の流通空間を画成し、前記流通空間を流通する被加熱流体を前記ランプヒータの輻射熱によって加熱するように構成されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
上記ランプヒータを収容する内管は、光透過性、耐熱性等を有する必要があるため、一般に石英ガラスで形成される。
【0006】
しかし、上記石英ガラスは、KOH溶液,NaOH溶液で代表される強アルカリ薬液や、フッ酸、リン酸等によって溶解され易く、そのため、この石英ガラスで内管を形成した加熱装置は、上記強アルカリ薬液やフッ酸、リン酸等の薬液の加熱に適用することができなかった。
【0007】
本発明の目的は、かかる状況に鑑み、ランプヒータを収容する内管が薬液によって侵されるのを防止することができる流体加熱装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、ランプヒータを収容した光透過性材料からなる内管と、該内管の外周面を包囲する態様で設けた外管とによって被加熱流体の流通空間を画成し、前記流通空間を流通する被加熱流体を前記ランプヒータの輻射熱によって加熱する流体加熱装置において、前記内管の外周面および端部端面と、前記内管の端部に設置した蓋体の外面とを光透過性、耐熱性および耐薬品性を有する被膜で覆い、この被膜によって内管が薬液によって侵されるのを防止するようにしている。
【0009】
前記被膜は、例えば、前記内管の外周面に被せた熱収縮性チューブを熱収縮させて形成される。そして、上記熱収縮性チューブとしては、例えば、フッ素樹脂製のチューブが使用される。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の具体的な構成を、図面を参照しながら詳細に説明する。
図1は、本発明に関わる流体加熱装置の基本的な構成を概念的に示すものであり、この流体加熱装置は、内管1と、該内管1の外周面を包囲する態様で設けた外管2と、上記内管1に収容したランプヒータたるハロゲンランプ3とを備えている。
【0011】
上記内管1は、光透過性および耐熱性等を有する材料、例えば、石英ガラスで形成してあり、また、外管2は耐熱性および耐薬品性を有する材料、例えば、フッ素樹脂で形成してある。
【0012】
内管1は、外管2の両側壁を貫通する態様で設けてあり、その左右の貫通部を耐圧性、耐熱性および耐薬品性を有したOリング4もしくはリップシール材によってシールしてある。
【0013】
内管1の外周面および外管2の内周面は、被加熱流体の流通空間5を画成している。そして、外管2の一端部および他端部には、この流通空間5の入口6および出口7をそれぞれ設けてある。
【0014】
内管1の外周面は、光透過性、耐熱性および耐薬品性を有した被膜8で覆ってある。この被膜8は、例えば、内管1の外周面に塗布した液状のフッ素樹脂を乾燥固化することによって形成することができる。
【0015】
この被膜8を、別の手法で形成することも可能である。すなわち、図2に示すように、内管1の外周面に例えばフッ素樹脂からなる熱収縮性チューブ9を被せる。そして、チューブ9を熱風等で加熱すれば、該チューブ9が収縮して内管1の外周面に接着され、その結果、上記光透過性、耐熱性および耐薬品性を有した被膜8が内管1の外周面に形成される。
【0016】
上記熱収縮性チューブ9を用いる被膜形成方法によれば、ピンホールが無くかつ厚さの均一な被膜8を低コストで容易に形成することができる。
【0017】
上記ハロゲンランプ3は、図1および同図のA−A断面図である図3に示すように、隣接する一対の透明石英ガラス管10と、これらのガラス管10内にそれぞれ配したフィラメント11、各ガラス管10の一端部相互を連結するセラミックべース12と、各ガラス管10の他端部相互を連結するセラミックべース13とを備えている。
【0018】
セラミックべース12においては、上記各フィラメント11の一端にそれぞれ接続された一対のリード線14が導出され、また、セラミックべース13においては、上記各フィラメント11の他端相互が接続されている。つまり、このハロゲンランプ3は、一端側にリード線14を設けたいわゆるシングルエンド構造を有する。
【0019】
ハロゲンランプ3の各石英ガラス管10内には、窒素、アルゴン、クリプトン等の不活性ガスと微量のハロゲンガスが封入されている。したがって、上記各リード線14間に所定の電圧を印加すれば、いわゆるハロゲンサイクル作用によって長期間、安定に各フィラメント11が発光および発熱する。なお、このハロゲンランプ3には、例えば、3KWのものが使用される。
【0020】
図1に示すように、前記流通空間5の入口6と出口7間には、ポンプ15、被加熱流体たる薬液を収容した処理槽16およびフィルタ17が介在されており、したがって、上記ポンプ15の運転に伴って処理槽16内の薬液が前記入口6を介して前記流通空間5に流入する。
【0021】
薬液は、その後、流通空間5を流通するが、その際、内管1および被膜8を透過した前記ハロゲンランプ3の輻射熱によって加熱される。そして、加熱処理された薬液は、上記流通空間5の出口7から流出した後、フィルタ17を通って処理槽16に戻される。
【0022】
処理槽16内の薬液の温度は、温度センサ18によって検出されてコントローラ19に加えられる。そこで、コントローラ19は、上記温度センサ18の出力に基づき、処理槽16内の薬液の温度が所定の目標温度に維持されるようにハロゲンランプ3への供給電力を制御する。
【0023】
なお、上記処理槽16では、上記温度管理された薬液による所定の処理(例えば、洗浄処理)が実行される。
【0024】
ところで、上記内管1の外周面に形成した被膜8は、上記薬液がこの内管1に接触するのを防止するので、上記薬液がKOH溶液,NaOH溶液で代表される強アルカリ薬液や、フッ酸、リン酸等の薬液であっても、上記石英ガラスからなる内管1が該薬液によって溶解される虞はない。
【0025】
したがって、上記実施形態に係る流体加熱装置は、上記強アルカリ薬液や、フッ酸、リン酸等の薬液の加熱にも適用することができる。
【0026】
なお、半導体製造プロセスで使用される上記薬液としては、前記RCA洗浄に用いられるアンモニア過水および塩酸過水、窒化膜除去液であるリン酸、レジスト剥離液である硫酸過水等がある。また、他の分野で使用される薬液としては、メッキ処理液等がある。
【0027】
図1における内管1の右端部は、外管2の側壁を貫通しているが、図4に示す実施形態においては、外管2の側壁の内面に凹部2aを形成して、この凹部2aに内管1の右端部を嵌合させている。
【0028】
この場合、上記凹部2a内に侵入してきた薬液が内管1の右端部端面等接触する虞れがあるので、該内管1の右端部に該内管1と同材質の蓋体1aを嵌合溶接して、この蓋体1aの外面および内管1の右端部端面にも前記被膜8を形成する。
【0029】
【発明の効果】
本発明においては、被加熱流体が内管に接触するのを防止するべく、内管の外周面および端部端面と、前記内管の端部に設置した蓋体の外面とを光透過性、耐熱性および耐薬品性を有する皮膜で覆ってあるので、内管が被加熱流体に侵されて溶解するという不都合が発生せず、その結果、例えば内管の材料として石英ガラスが用いられている場合でも、KOH溶液、NaOH溶液で代表される強アルカリ薬液や、フッ酸、リン酸等の薬液の加熱が可能になる。つまり、加熱可能な被加熱流体の範囲が大幅に拡大される。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の基本的な構成を概念的に示す縦断面図。
【図2】 熱収縮性チューブによる被膜の形成手法を示す概念図。
【図3】 図1のA−A断面図。
【図4】 本発明の具体的な実施形態を示す縦断面図。
【符号の説明】
1 内管、
2 外管、
3 ハロゲンランプ、
4 Oリング、
5 流通空間、
6 入口、
7 出口、
8 被膜、
9 熱収縮性チューブ、
15 ポンプ、
16 処理槽、
18 温度センサ。

Claims (3)

  1. ランプヒータを収容した光透過性材料からなる内管と、該内管の外周面を包囲する態様で設けた外管とによって被加熱流体の流通空間を画成し、前記流通空間を流通する被加熱流体を前記ランプヒータの輻射熱によって加熱する流体加熱装置において、
    前記内管の外周面および端部端面と、前記内管の端部に設置した蓋体の外面とを光透過性、耐熱性および耐薬品性を有する被膜で覆ったことを特徴とする流体加熱装置。
  2. 前記被膜は、前記内管の外周面に被せた熱収縮性チューブを熱収縮させて形成される請求項1に記載の流体加熱装置。
  3. 前記熱収縮性チューブは、フッ素樹脂からなることを特徴とする請求項2に記載の流体加熱装置。
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