JP3885174B2 - 単一材料再循環プラスチックの安定化方法およびそのための安定剤混合物 - Google Patents
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Description
本発明は、主として商業的または工業的廃棄物から得られるような単一材料再循環プラスチック（single-material recycled plastics）の安定化方法、およびこの目的に使用され得る安定剤混合物に関するものである。
廃棄物の再循環（再生利用）は生態学的理由のために重要性が増している問題である。紙、布、ガラスまたは金属の再生利用は、区分けした収集またはごみの分類により既に大規模に行われている。プラスチック廃棄物および使用済みプラスチックの再循環はまた増大する目標である。一般に熱可塑性樹脂は再融解により処理されている。
しかしながら、家庭、商業または工業において生じたプラスチック廃棄物または収集もしくは返却義務、例えば、自動車産業、電子産業、農業または包装産業等の産業の特定の領域から得られるプラスチック材料もしくは使用済みプラスチックは主としてポリオレフィン、スチレンポリマー、ポリ塩化ビニルまたはポリエチレンテレフタレートをベースとする熱可塑性樹脂を含有する。
貴重な原料でもある上記使用済みプラスチックは混合物または単一材料のいずれかとして得られることができる。単一材料プラスチック廃棄物はプラスチック部品の製造において直接生じ得るか、または特別な収集、必要ならば分別および精製の後に入手され得る。
これまでプラスチック再循環物は、厳密性が比較的要求されない、例えば充填剤としての目的や厚い壁部、例えば騒音防止ダムが使用される目的のためにだけ主として使用されてきた。しかしながら、要求される用途に再循環物を使用する意図は今ではますます増加しており、特に単一材料再循環物はこれらの中に包含されると考えられている。
再循環された高密度ポリエチレンの安定化に対して、P. T. RotteveelおよびJ. D. M. WisseはPolymer Degr. and Stability, Issue 9, p. 133(1984)において、ホスフィット、ヒンダードフェノール、ベンゾトリアゾール、ヒンダードアミンおよびホスホニットの類からの種々の安定剤を研究した。
これらの著者はまた、再循環物は再安定化されなければならないことを示した。プラスチックはほとんど最初に熱酸化やある場合には光酸化崩壊に対する安定剤で処理されているけれども、上記安定剤はプラスチックの使用中、廃棄物の貯蔵中および再循環物の処理中に、ある場合には移行、抽出または崩壊により失われる。再循環されたプラスチックは新しいプラスチックと、それまでの使用の結果として、または貯蔵および処理により、構造的に、そしてまた化学的にに異なり、例えば酸化崩壊の衝撃部位は既に形成されているかもしれない。そのため、再循環されたプラスチックは一般に比較的大量の安定剤またはそれらの特定の状況を考慮して別の安定剤を必要とする。適当な安定剤を見出す難しさは、延長された期間に及んで発生し得るそれまでの損傷のタイプに特に起因する。
ＵＳ４，４４３，５７２、ＪＰ−Ａ−５７／２０２，３４６、ＪＰ−Ａ−０１／０２０，２４９およびＦＲ−Ａ−２５２８０５６から、フェノール、ペンタエリトリトールジホスフィットおよび選択された無機化合物を含有する混合物をある種の未使用プラスチックに使用することは公知である。
単一材料の再循環されたプラスチックは製造廃棄物、例えばフィルムエッジトリム、プラスチック製品のスプルー部、予備または後製造部品または不合格部品として、または分別して配置した、もしくは分類した使用済み材料の場合において、例えばバッテリーケース（電槽）またはバンパー等の自動車部品、または包装材料、例えばポリスチレンフォームとして得られることができる。
単一材料の再循環されたプラスチックはそれ自体公知の安定剤の混合物により、簡単かつ経済的な方法で熱酸化崩壊から安定化され得、そしてこれによりさまざまな方法で実用的な（通常の）製品だけでなく、高品質の製品に変換され得ることが今見出された。
単一材料プラスチックは１種のものポリマーまたはコポリマー（例えばＡＢＳ）を９８％以上含有する材料を意味するものと理解される。
本発明は、ａ）少なくとも１種の立体障害性フェノール、ｂ）少なくとも１種の有機ホスフィット（phosphite）またはホスホネート（phosphonate）およびｃ）金属酸化物、水素化物およびカーボネートからなる系からの少なくとも１種の有機化合物の混合物０．０１ないし１５重量％を添加することからなる、商業的および工業的廃棄物から得られ得る単一材料の再循環された熱可塑性樹脂の安定化方法に関する。
ａ：ｂの重量比は好ましくは２０：１ないし１：２０、特に好ましくは１０：１ないし１：１０、とりわけ４：１ないし１：４である。（ａ＋ｂ）：ｃの重量比は好ましくは１０：１ないし１：２０、特に好ましくは５：１ないし１：１０、とりわけ３：１ないし１：３である。
安定化されるべきプラスチックは例えばフィルム廃棄物、自動車のバッテリーケース（電槽）、ボトルクレートまたはポリスチレンフォーム等である。
本発明は特に、ポリオレフィンまたはポリスチレンのいずれかからの単一材料再循環プラスチックの安定化に関する。
特に、本発明は、その中のポリエチレン、ポリプロピレンおよびポリプロピレンコポリマーが特に好ましいポリオレフィンを含有する単一材料再循環プラスチックの安定化に関する。
ポリオレフィンは、特に、ポリエチレン（ＰＥ）およびポリプロピレン（ＰＰ）、特に低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、超低密度ポリエチレン（ＵＬＤＰＥ）および中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、そしてさらにコポリマー、例えばエチレン−プロピレン（ＥＰＭ）およびエチレン−プロピレン−ジエン（ＥＰＤＭ）コポリマーを包含する。
ポリスチレン（ＰＳ）はまた、スチレンを含有するコポリマー、例えばアクリロニトリル−ブタジエン−スチレンポリマー（ＡＢＳ）を意味するものと理解される。
単一材料再循環物（single-material recyclate）はまた、その他のプラスチックの残渣または別の非熱可塑性樹脂または外来物質、例えば除去するのがしばしば困難である紙、顔料および接着剤を少量で含有していてもよい。これらの外来物質はまた、使用中または処理中に別の物質、例えば燃料残渣、塗料成分、微量の金属、開始剤残渣または微量の水と接触することにより生じ得る。
ａ、ｂおよびｃの混合物０．０５ないし５重量％が好ましく使用される。ａ、ｂおよびｃの混合物０．１ないし２重量％が特に好ましく使用される。０．１ないし１重量％がとりわけ好ましく使用される。
成分ａとして使用される立体障害性フェノールはプラスチック、特にポリオレフィンの熱酸化による老化に対する公知安定剤である。これらの化合物は好ましくは次式Ｉ：
（式中、Ｒ′は水素原子、メチル基または第三ブチル基を表し、そして
Ｒ″は置換もしくは未置換のアルキル基または置換もしくは未置換のチオエーテル基を表す）で表される基を少なくとも１個有する。
そのような立体障害性フェノールの例は以下のとおりである：
２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−ｉ−ブチルフェノール、２，６−ジクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ第三ブチルハイドロキノン、２，５−ジ第三アミルハイドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，２′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチレンビス〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール〕、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス〔６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、２，２′−メチレンビス〔６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、４，４′−メチレンビス（２，６−ジ第三ブチルフェノール）、４，４′−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス〔３，３−ビス（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート〕、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス〔２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル〕テレフタレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、ジオクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネートおよびモノエチル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネートのカルシウム塩。
成分ａは特に好ましくは次式：
（式中、Ｒ′はメチル基または第三ブチル基を表し、そして
Ｒ″は置換もしくは未置換のアルキル基または置換もしくは未置換のチオエーテル基を表す）で表される基を少なくとも１個有する化合物である。
そのような立体障害物フェノール（ヒンダードフェノール）の例はβ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸およびβ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と一価または多価アルコール、例えばメタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサルアミドおよび上記酸のアミド、例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミンおよびＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジンとのエステルである。
また特に好ましい化合物は以下のものである：
｛２−（１，１−ジメチルエチル）−６−〔〔３−（１，１−ジメチルエチル）−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル〕−メチル〕−４−メチルフェニル２−プロペノエート｝；
｛ベンゼンプロパン酸３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ−１，６−ヘキサンジイルエステル｝；
｛ベンゼンプロパン酸３−（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ−５−メチル−１，２−エタンジイルビス（オキシ−２，１−エタンジイル）エステル｝；
｛２−メチル−４，６−ビス〔（オクチルチオ）メチル−フェノール｝；
｛２，２′−エチリデン−ビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）｝；
｛ベンゼンプロパン酸３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシチオジ−２，１−エタンジイルエステル｝；
｛４，４′，４″〔（２，４，６−トリメチル−１，３，５−ベンゼントリイル）トリス（メチレン）〕トリス〔２，６−ビス（１，１−ジメチルエステル）フェノール｝；
｛１，３，５−トリス〔〔３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル〕メチル〕−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン｝。
成分ａは最も好ましくは、β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸または２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノールのペンタエリトリトールエステルまたはオクタデシルエーテルである。
成分ｂとして使用される有機ホスフィットまたはホスホニット（phosphonite）もまた同様にプラスチックの安定剤として公知である。それらは特にポリオレフィンのための加工安定剤として使用される。
それらは主に芳香族ホスフィットまたはホスホニット、例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリチルホスフィット、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジステアリルペンタエリトリチルジホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリチルジホスフィット、トリステアリルソルビチルトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホニット、３，９−ビス（２，４−ジ第三ブチル−４−メチルフェノキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ〔５．５〕ウンデカン、３，９−トリス（２，４，６−トリス第三ブチルフェノキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ〔５．５〕ウンデカンおよび２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）フルオロホスフィットである。
好ましい化合物は、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット；
である。
成分ｂは特に好ましくはトリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィットである。
成分ｃは金属酸化物、水酸化物およびカーボネートからなる系からの無機化合物である。
これらは特に第II主族または第II、IVもしくはVII亜族からの元素の金属酸化物、水酸化物またはカーボネートである。カルシウム、マグネシウム、亜鉛、チタンおよびマンガンが金属として好ましく、その酸化物、例えばＣａＯ、ＭｇＯ、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＭｎＯ2が特に好ましく、そして酸化カルシウム、マグネシウムおよび亜鉛がとりわけ好ましい。酸化カルシウムが最も好ましい。
成分ａ、ｂおよびｃに対する種々の化合物の混合物を使用することも可能である。例えば、成分ｃは酸化カルシウムと炭酸カルシウムの混合物であってよい。
金属水酸化物の記載され得る例は水酸化マグネシウムであり、金属カーボネートの記載され得る例は炭酸カルシウムである。異なる陰イオンとの塩、例えばヒドロタルサイトとして知られている炭酸水素マグネシウムアルミニウムを使用することも可能である。
本発明はさらに、ａ）少なくとも１種の立体障害性フェノール、ｂ）少なくとも１種の有機ホスフィットまたはホスホネートおよびｃ）金属酸化物、水酸化物およびカーボネートからなる系からの少なくとも１種の無機化合物からなる、商業的および工業的廃棄物から得られ得る単一材料の再循環された熱可塑性樹脂の安定化のための安定剤混合物およびそれらの使用方法に関する。
特に好ましい安定剤混合物は１００部（重量基準）あたり以下の組成からなる：
（Ａ）成分ａ）としてβ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のペンタエリトリチルエステル５−５０部、成分ｂ）としてトリス−（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット５−５０部および成分ｃ）として酸化カルシウム５−９０部；
（Ｂ）成分ａ）としてβ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のオクタデシルエステル５−５０部、成分ｂ）としてトリス−（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット５−５０部および成分ｃ）として酸化カルシウム５−９０部；
（Ｃ）成分ａ）として２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）５−５０部、成分ｂ）としてトリス−（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット５−５０部および成分ｃ）として酸化カルシウム５−９０部；
（Ｄ）成分ａ）としてβ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のオクタデシルエステル１０−３０部、成分ｂ）としてトリス−（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット１０−３０部および成分ｃ）として酸化カルシウム３０−７０部；または
（Ｅ）成分ａ）としてβ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のオクタデシルエステル５−３０部、成分ｂ）としてトリス−（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット５−３０部、成分ｃ）として酸化カルシウム５−４０部、ならびにステアリン酸カルシウム１０−５０部。
さらに本発明は、ａ）少なくとも１種の立体障害性フェノール、ｂ）少なくとも１種の有機ホスフィットまたはホスホネートおよびｃ）金属酸化物、水酸化物およびカーボネートからなる系からの少なくとも１種の無機化合物を含有する、商業的および工業的廃棄物から得られ得る単一材料の再循環された熱可塑性樹脂に関する。
好ましい単一材料の再循環された熱可塑性樹脂、好ましい安定剤混合物およびそれらの使用方法は、個々の成分および混合比において、これまで非常に詳細に記載した好ましいものがそのまま当てはまる。
再循環物への上記組合せの添加により、熱可塑性樹脂の加工の際の崩壊が低下し、および／または再循環物から製造された材料の有効寿命が延長される。
ａ、ｂおよびｃの混合物の安定化作用、特に長期の安定性はいわゆるチオ相乗剤（thiosynergist）の添加により相乗的に高められ得る。これらは脂肪族チオエーテル、特にチオジプロピオン酸のエステルである。例えば、チオジプロピオン酸またはジステアリルジスルフィドのラウリル、ステアリル、ミリスチルおよびトリデシルエステルである。これらのチオ相乗剤は再循環物に基づいて０．１ないし１重量％の量で使用されるのが好ましい。
ラクテート、例えば乳酸カルシウムまたはステアロイル−２−乳酸カルシウム、およびラクトン、例えば
からなる群からのその他の適当な安定剤が同様に添加され得る。
再循環物から製造される製品にもし高い光安定性もまた要求されるならば、１またはそれ以上の光安定剤の添加が得策である。適当な光安定剤は特にベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、オキサニリドおよび立体障害性アミンからなる系からのものである。そのような化合物の例を以下に挙げる：
２．１ ２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、例えば、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−〔２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル〕−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−〔２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル〕−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールおよび２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレンビス〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール〕；２−〔３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換体；次式：〔Ｒ−ＣＨ2ＣＨ2−ＣＯＯ（ＣＨ2）3−〕2−（式中、Ｒは３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル基を表す）で表される化合物。
２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば
４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクチルオキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２’，４’−トリヒドロキシ−および２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
２．３．置換されたおよび非置換安息香酸のエステル、例えば
４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
２．４．アクリレート、例えば
エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメートおよびＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
２．５ ニッケル化合物、例えば
２，２’−チオビス−〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール〕のニッケル錯体、例えば１：１または１：２錯体であって、所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステル、例えば４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例えば２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシ−ピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他の配位子を伴うもの。
２．６ 立体障害性アミン、例えば
ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピヘリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン。
２．７．オキサミド、例えば
４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エトキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ第三ブトキサニリドとの混合物、オルト−およびパラ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
２．８ ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば
２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン。
光安定剤はプラスチック混合物を基準として０．０１ないし２重量％、特に０．０５ないし０．５重量％の量で添加される。使用される光安定剤は好ましくはベンゾトリアゾールと立体障害性アミンとの組合せである。
所望するならば、その他の慣用のプラスチック添加剤、例えば充填剤、例としてのこ屑（おが屑）またはマイカ（雲母）、強化剤、例としてガラス繊維、ガラスビーズまたは鉱物繊維（無機繊維）、顔料、可塑剤、滑剤、例として金属ステアレートまたはラウレート、難燃剤、帯電防止剤または発泡剤が再循環プラスチック混合物に添加され得る。
これらの添加剤は再循環物の意図される用途に依存する。好ましい態様において、使用される滑剤はステアリン酸カルシウムである。
このようにして安定化された再循環物は非常に広範囲の用途、例えばチューブ、形材、シート、ケーブル絶縁材、スポーツ用品、園芸用品、フィルム、自動車用バッテリーケース、建築部材、車両および機械の部品およびあらゆるタイプの容器、例えばボトル等に使用され得る。再循環物はまた、単一材料の新たなプラスチックと混合され得、また、単一材料の新たなプラスチックと一緒に、例えば共押出法において使用され得る。
以下の実施例は新規方法および安定剤混合物をより詳細に説明する。下記において部および重量部は特記しない限り重量％である。
実施例１−３：
顆粒の形態にある使用済みプラスチック材料（使用済み電槽由来のＰＰ）を安定剤（表１）とスクリューミキサーにて均質化し、そして次に二軸スクリュー配合機（温度２６０℃）において１回ずつ５度押出する。メルトフローインデックス（ＭＦＩ，２３０℃，２．１６ｋｇ）をＤＩＮ５３７３５Ｍ（ＩＳＯ１１３３／１２）に準拠して押出前および１、３および５回目の押出の後に測定する。
本発明に従って安定化された試料は繰り返された押出後のメルトフローインデックスがわずかに増加したにすぎない。崩壊反応およびポリマーの分解（鎖切断）がメルトフローインデックスの増加を引き起こす。
第１押出工程からの顆粒は続いてプレスにて２２０℃でシート（厚さ２ｍｍ）に変換される。これらのシートは１８５℃で３００分までファン付きオーブンにて人工老化に暴露し、そして白色標準を基準として色差がＡＳＴＭ Ｄ１９２５−７０に準拠して測定される（ハンター座標系において次式：
ΔＥ＝（ΔＬ2＋Δａ2Δｂ2）1/2
に従って計算され、黄色度指数が次式：
ＹＩ＝１００（０．７２ａ＋１．７９ｂ）／Ｌ
に従って計算される）（表２）。
色差の値は本発明に従って安定化された再循環物が人工老化の後にわずかな増加のみを示す。色差の値における増加は試料の変色および分解の増加を意味する。
その他の試験シートはＤＩＮ５３３８１−ＰＶＣ／Ｃに準拠して導電率試験に供される（表３）。
表３の数値は本発明に従って安定化された再循環物が１００および２００分後に低い導電率であることを示している。なお、１４０および１９８μＳの導電率は安定化されていない試料に対して測定されている。ポリマーの分解は導電率の増加を引き起こす。
第１押出工程からの顆粒は射出成形機（Arburg 100）にて２２０℃でシート（厚さ２ｍｍ）にさらに変換される。これらのシートは１３５℃でファン付きオーブンにてそれらが脆くなるまで人工老化に暴露される（表４）。
実施例４−１２：
二軸配向ＰＰ（ＢＯＰＰ）の製造廃棄物を安定剤（表５）とミキサーにて均質化し、そして次に二軸スクリュー配合機（温度２３０℃）において１回ずつ５度押出する。メルトフローインデックス（ＭＦＩ，２３０℃，２．１６ｋｇ）をＤＩＮ５３７３５Ｍ（ＩＳＯ１１３３／１２）に準拠して押出前および１、３および５回目の押出の後に測定する。
本発明に従って安定化された試料は繰り返された押出後のメルトフローインデックスがわずかに増加したにすぎない。崩壊反応およびポリマーの分解（鎖切断）がメルトフローインデックスの増加を引き起こす。
第１押出工程からの顆粒は射出成形機（Arburg 100）にて２３０℃でシート（厚さ２ｍｍ）にさらに変換される。これらのシートは１３５℃でファン付きオーブンにてそれらが脆くなるまで人工老化に暴露される（表６）。
その他の試験試料をファン付きオーブンにて１３５℃で老化させる。試験試料は衝撃引張強さをＤＩＮ５３４４８に準拠して測定するために５００時間、１０００時間そして１５００時間後に取り出される（表７）。
実施例１３−１４：
使用済みＰＰ／ＥＰＤＭ材料（バンパー由来）を安定剤（表８）とミキサーにて均質化し、そして次に二軸スクリュー配合機（温度２６０℃）において１回ずつ５度押出する。メルトフローインデックス（ＭＦＩ，２３０℃，２．１６ｋｇ）をＤＩＮ５３７３５Ｍ（ＩＳＯ１１３３／１２）に準拠して押出前および１、３および５回目の押出の後に測定する。
本発明に従って安定化された試料は繰り返された押出後のメルトフローインデックスがわずかに増加したにすぎない。崩壊反応およびポリマーの分解がメルトフローインデックスの増加を引き起こす。
実施例１５−１８：
使用済みＰＰ−ＥＰＤＭ材料（バンパー由来）３６．６ｇを２００℃に保持されたブラベンダーＷ５０混合チャンバーにて３０分間混合する（４０ｒｐｍ）。添加剤（表９）がプラスチックと一緒に正しく最初に混合チャンバー中に導入される。３０分後、混合を停止し、そしてポリマー材料を混合チャンバーから取りだし、そして
２０ｋＮで１分間３０℃にて予備プレスする。
厚さ２ｍｍのシートがこのプレスにより２００℃／５０ｋＮで製造される。
微粉砕後、メルトフローインデックスをこれらのシートに対して測定する。
本発明に従って安定化された試料は対照例に比べＭＦＩ値のより小さい増加を示す（表９）。
表９：ブラベンダー試験（２００℃，４０ｒｐｍ，３０分），使用済みＰＰ／ＥＰＤＭ材料（バンパー由来）
１ｍｍプレスシート
実施例１９および２０：
ＥＰＳ（フォームポリスチレン）再循環物（顆粒）４５ｇを２２０℃に保持されたブラベンダーＷ５０混合チャンバーにて２０分間混合する（４０ｒｐｍ）。添加剤（表１０）がプラスチックと一緒に正しく最初に混合チャンバー中に導入される。２０分後、混合を停止し、そしてポリマー材料を混合チャンバーから取りだし、そして２０ｋＮで１分間３０℃にて予備プレスする。
厚さ２ｍｍのシートがこのプレスにより２００℃／５０ｋＮで製造される。
微粉砕後、メルトボリュームインデックスをこれらのシートに対して測定する。
本発明に従って安定化された試料は対照例に比べＭＶＩ値のより小さい増加を示す（表１０）。
以下の安定剤が上記実施例において使用された：
ＡＯ−１ β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のペンタエリトリチルエステル
ＡＯ−２ ベンゼンプロパン酸３−（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ−５−メチル−１，２−エタンジイルビス（オキシ−２，１−エタンジイル）エステル
Ｐ−１トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット
Ｍ−１ 酸化カルシウム
Ｍ−２ 水酸化カルシウム
Ｆ−１ ステアリン酸カルシウム
廃棄物の再循環（再生利用）は生態学的理由のために重要性が増している問題である。紙、布、ガラスまたは金属の再生利用は、区分けした収集またはごみの分類により既に大規模に行われている。プラスチック廃棄物および使用済みプラスチックの再循環はまた増大する目標である。一般に熱可塑性樹脂は再融解により処理されている。
しかしながら、家庭、商業または工業において生じたプラスチック廃棄物または収集もしくは返却義務、例えば、自動車産業、電子産業、農業または包装産業等の産業の特定の領域から得られるプラスチック材料もしくは使用済みプラスチックは主としてポリオレフィン、スチレンポリマー、ポリ塩化ビニルまたはポリエチレンテレフタレートをベースとする熱可塑性樹脂を含有する。
貴重な原料でもある上記使用済みプラスチックは混合物または単一材料のいずれかとして得られることができる。単一材料プラスチック廃棄物はプラスチック部品の製造において直接生じ得るか、または特別な収集、必要ならば分別および精製の後に入手され得る。
これまでプラスチック再循環物は、厳密性が比較的要求されない、例えば充填剤としての目的や厚い壁部、例えば騒音防止ダムが使用される目的のためにだけ主として使用されてきた。しかしながら、要求される用途に再循環物を使用する意図は今ではますます増加しており、特に単一材料再循環物はこれらの中に包含されると考えられている。
再循環された高密度ポリエチレンの安定化に対して、P. T. RotteveelおよびJ. D. M. WisseはPolymer Degr. and Stability, Issue 9, p. 133(1984)において、ホスフィット、ヒンダードフェノール、ベンゾトリアゾール、ヒンダードアミンおよびホスホニットの類からの種々の安定剤を研究した。
これらの著者はまた、再循環物は再安定化されなければならないことを示した。プラスチックはほとんど最初に熱酸化やある場合には光酸化崩壊に対する安定剤で処理されているけれども、上記安定剤はプラスチックの使用中、廃棄物の貯蔵中および再循環物の処理中に、ある場合には移行、抽出または崩壊により失われる。再循環されたプラスチックは新しいプラスチックと、それまでの使用の結果として、または貯蔵および処理により、構造的に、そしてまた化学的にに異なり、例えば酸化崩壊の衝撃部位は既に形成されているかもしれない。そのため、再循環されたプラスチックは一般に比較的大量の安定剤またはそれらの特定の状況を考慮して別の安定剤を必要とする。適当な安定剤を見出す難しさは、延長された期間に及んで発生し得るそれまでの損傷のタイプに特に起因する。
ＵＳ４，４４３，５７２、ＪＰ−Ａ−５７／２０２，３４６、ＪＰ−Ａ−０１／０２０，２４９およびＦＲ−Ａ−２５２８０５６から、フェノール、ペンタエリトリトールジホスフィットおよび選択された無機化合物を含有する混合物をある種の未使用プラスチックに使用することは公知である。
単一材料の再循環されたプラスチックは製造廃棄物、例えばフィルムエッジトリム、プラスチック製品のスプルー部、予備または後製造部品または不合格部品として、または分別して配置した、もしくは分類した使用済み材料の場合において、例えばバッテリーケース（電槽）またはバンパー等の自動車部品、または包装材料、例えばポリスチレンフォームとして得られることができる。
単一材料の再循環されたプラスチックはそれ自体公知の安定剤の混合物により、簡単かつ経済的な方法で熱酸化崩壊から安定化され得、そしてこれによりさまざまな方法で実用的な（通常の）製品だけでなく、高品質の製品に変換され得ることが今見出された。
単一材料プラスチックは１種のものポリマーまたはコポリマー（例えばＡＢＳ）を９８％以上含有する材料を意味するものと理解される。
本発明は、ａ）少なくとも１種の立体障害性フェノール、ｂ）少なくとも１種の有機ホスフィット（phosphite）またはホスホネート（phosphonate）およびｃ）金属酸化物、水素化物およびカーボネートからなる系からの少なくとも１種の有機化合物の混合物０．０１ないし１５重量％を添加することからなる、商業的および工業的廃棄物から得られ得る単一材料の再循環された熱可塑性樹脂の安定化方法に関する。
ａ：ｂの重量比は好ましくは２０：１ないし１：２０、特に好ましくは１０：１ないし１：１０、とりわけ４：１ないし１：４である。（ａ＋ｂ）：ｃの重量比は好ましくは１０：１ないし１：２０、特に好ましくは５：１ないし１：１０、とりわけ３：１ないし１：３である。
安定化されるべきプラスチックは例えばフィルム廃棄物、自動車のバッテリーケース（電槽）、ボトルクレートまたはポリスチレンフォーム等である。
本発明は特に、ポリオレフィンまたはポリスチレンのいずれかからの単一材料再循環プラスチックの安定化に関する。
特に、本発明は、その中のポリエチレン、ポリプロピレンおよびポリプロピレンコポリマーが特に好ましいポリオレフィンを含有する単一材料再循環プラスチックの安定化に関する。
ポリオレフィンは、特に、ポリエチレン（ＰＥ）およびポリプロピレン（ＰＰ）、特に低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、超低密度ポリエチレン（ＵＬＤＰＥ）および中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、そしてさらにコポリマー、例えばエチレン−プロピレン（ＥＰＭ）およびエチレン−プロピレン−ジエン（ＥＰＤＭ）コポリマーを包含する。
ポリスチレン（ＰＳ）はまた、スチレンを含有するコポリマー、例えばアクリロニトリル−ブタジエン−スチレンポリマー（ＡＢＳ）を意味するものと理解される。
単一材料再循環物（single-material recyclate）はまた、その他のプラスチックの残渣または別の非熱可塑性樹脂または外来物質、例えば除去するのがしばしば困難である紙、顔料および接着剤を少量で含有していてもよい。これらの外来物質はまた、使用中または処理中に別の物質、例えば燃料残渣、塗料成分、微量の金属、開始剤残渣または微量の水と接触することにより生じ得る。
ａ、ｂおよびｃの混合物０．０５ないし５重量％が好ましく使用される。ａ、ｂおよびｃの混合物０．１ないし２重量％が特に好ましく使用される。０．１ないし１重量％がとりわけ好ましく使用される。
成分ａとして使用される立体障害性フェノールはプラスチック、特にポリオレフィンの熱酸化による老化に対する公知安定剤である。これらの化合物は好ましくは次式Ｉ：
Ｒ″は置換もしくは未置換のアルキル基または置換もしくは未置換のチオエーテル基を表す）で表される基を少なくとも１個有する。
そのような立体障害性フェノールの例は以下のとおりである：
２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−ｉ−ブチルフェノール、２，６−ジクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ第三ブチルハイドロキノン、２，５−ジ第三アミルハイドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，２′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチレンビス〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール〕、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス〔６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、２，２′−メチレンビス〔６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、４，４′−メチレンビス（２，６−ジ第三ブチルフェノール）、４，４′−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス〔３，３−ビス（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート〕、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス〔２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル〕テレフタレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、ジオクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネートおよびモノエチル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネートのカルシウム塩。
成分ａは特に好ましくは次式：
Ｒ″は置換もしくは未置換のアルキル基または置換もしくは未置換のチオエーテル基を表す）で表される基を少なくとも１個有する化合物である。
そのような立体障害物フェノール（ヒンダードフェノール）の例はβ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸およびβ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と一価または多価アルコール、例えばメタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサルアミドおよび上記酸のアミド、例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミンおよびＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジンとのエステルである。
また特に好ましい化合物は以下のものである：
成分ａは最も好ましくは、β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸または２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノールのペンタエリトリトールエステルまたはオクタデシルエーテルである。
成分ｂとして使用される有機ホスフィットまたはホスホニット（phosphonite）もまた同様にプラスチックの安定剤として公知である。それらは特にポリオレフィンのための加工安定剤として使用される。
それらは主に芳香族ホスフィットまたはホスホニット、例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリチルホスフィット、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジステアリルペンタエリトリチルジホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリチルジホスフィット、トリステアリルソルビチルトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホニット、３，９−ビス（２，４−ジ第三ブチル−４−メチルフェノキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ〔５．５〕ウンデカン、３，９−トリス（２，４，６−トリス第三ブチルフェノキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ〔５．５〕ウンデカンおよび２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）フルオロホスフィットである。
好ましい化合物は、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット；
成分ｂは特に好ましくはトリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィットである。
成分ｃは金属酸化物、水酸化物およびカーボネートからなる系からの無機化合物である。
これらは特に第II主族または第II、IVもしくはVII亜族からの元素の金属酸化物、水酸化物またはカーボネートである。カルシウム、マグネシウム、亜鉛、チタンおよびマンガンが金属として好ましく、その酸化物、例えばＣａＯ、ＭｇＯ、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＭｎＯ2が特に好ましく、そして酸化カルシウム、マグネシウムおよび亜鉛がとりわけ好ましい。酸化カルシウムが最も好ましい。
成分ａ、ｂおよびｃに対する種々の化合物の混合物を使用することも可能である。例えば、成分ｃは酸化カルシウムと炭酸カルシウムの混合物であってよい。
金属水酸化物の記載され得る例は水酸化マグネシウムであり、金属カーボネートの記載され得る例は炭酸カルシウムである。異なる陰イオンとの塩、例えばヒドロタルサイトとして知られている炭酸水素マグネシウムアルミニウムを使用することも可能である。
本発明はさらに、ａ）少なくとも１種の立体障害性フェノール、ｂ）少なくとも１種の有機ホスフィットまたはホスホネートおよびｃ）金属酸化物、水酸化物およびカーボネートからなる系からの少なくとも１種の無機化合物からなる、商業的および工業的廃棄物から得られ得る単一材料の再循環された熱可塑性樹脂の安定化のための安定剤混合物およびそれらの使用方法に関する。
特に好ましい安定剤混合物は１００部（重量基準）あたり以下の組成からなる：
（Ａ）成分ａ）としてβ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のペンタエリトリチルエステル５−５０部、成分ｂ）としてトリス−（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット５−５０部および成分ｃ）として酸化カルシウム５−９０部；
（Ｂ）成分ａ）としてβ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のオクタデシルエステル５−５０部、成分ｂ）としてトリス−（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット５−５０部および成分ｃ）として酸化カルシウム５−９０部；
（Ｃ）成分ａ）として２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）５−５０部、成分ｂ）としてトリス−（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット５−５０部および成分ｃ）として酸化カルシウム５−９０部；
（Ｄ）成分ａ）としてβ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のオクタデシルエステル１０−３０部、成分ｂ）としてトリス−（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット１０−３０部および成分ｃ）として酸化カルシウム３０−７０部；または
（Ｅ）成分ａ）としてβ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のオクタデシルエステル５−３０部、成分ｂ）としてトリス−（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット５−３０部、成分ｃ）として酸化カルシウム５−４０部、ならびにステアリン酸カルシウム１０−５０部。
さらに本発明は、ａ）少なくとも１種の立体障害性フェノール、ｂ）少なくとも１種の有機ホスフィットまたはホスホネートおよびｃ）金属酸化物、水酸化物およびカーボネートからなる系からの少なくとも１種の無機化合物を含有する、商業的および工業的廃棄物から得られ得る単一材料の再循環された熱可塑性樹脂に関する。
好ましい単一材料の再循環された熱可塑性樹脂、好ましい安定剤混合物およびそれらの使用方法は、個々の成分および混合比において、これまで非常に詳細に記載した好ましいものがそのまま当てはまる。
再循環物への上記組合せの添加により、熱可塑性樹脂の加工の際の崩壊が低下し、および／または再循環物から製造された材料の有効寿命が延長される。
ａ、ｂおよびｃの混合物の安定化作用、特に長期の安定性はいわゆるチオ相乗剤（thiosynergist）の添加により相乗的に高められ得る。これらは脂肪族チオエーテル、特にチオジプロピオン酸のエステルである。例えば、チオジプロピオン酸またはジステアリルジスルフィドのラウリル、ステアリル、ミリスチルおよびトリデシルエステルである。これらのチオ相乗剤は再循環物に基づいて０．１ないし１重量％の量で使用されるのが好ましい。
ラクテート、例えば乳酸カルシウムまたはステアロイル−２−乳酸カルシウム、およびラクトン、例えば
再循環物から製造される製品にもし高い光安定性もまた要求されるならば、１またはそれ以上の光安定剤の添加が得策である。適当な光安定剤は特にベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、オキサニリドおよび立体障害性アミンからなる系からのものである。そのような化合物の例を以下に挙げる：
２．１ ２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、例えば、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−〔２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル〕−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−〔２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル〕−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールおよび２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレンビス〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール〕；２−〔３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換体；次式：〔Ｒ−ＣＨ2ＣＨ2−ＣＯＯ（ＣＨ2）3−〕2−（式中、Ｒは３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル基を表す）で表される化合物。
２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば
４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクチルオキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２’，４’−トリヒドロキシ−および２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
２．３．置換されたおよび非置換安息香酸のエステル、例えば
４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
２．４．アクリレート、例えば
エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメートおよびＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
２．５ ニッケル化合物、例えば
２，２’−チオビス−〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール〕のニッケル錯体、例えば１：１または１：２錯体であって、所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステル、例えば４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例えば２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシ−ピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他の配位子を伴うもの。
２．６ 立体障害性アミン、例えば
ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピヘリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン。
２．７．オキサミド、例えば
４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エトキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ第三ブトキサニリドとの混合物、オルト−およびパラ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
２．８ ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば
２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン。
光安定剤はプラスチック混合物を基準として０．０１ないし２重量％、特に０．０５ないし０．５重量％の量で添加される。使用される光安定剤は好ましくはベンゾトリアゾールと立体障害性アミンとの組合せである。
所望するならば、その他の慣用のプラスチック添加剤、例えば充填剤、例としてのこ屑（おが屑）またはマイカ（雲母）、強化剤、例としてガラス繊維、ガラスビーズまたは鉱物繊維（無機繊維）、顔料、可塑剤、滑剤、例として金属ステアレートまたはラウレート、難燃剤、帯電防止剤または発泡剤が再循環プラスチック混合物に添加され得る。
これらの添加剤は再循環物の意図される用途に依存する。好ましい態様において、使用される滑剤はステアリン酸カルシウムである。
このようにして安定化された再循環物は非常に広範囲の用途、例えばチューブ、形材、シート、ケーブル絶縁材、スポーツ用品、園芸用品、フィルム、自動車用バッテリーケース、建築部材、車両および機械の部品およびあらゆるタイプの容器、例えばボトル等に使用され得る。再循環物はまた、単一材料の新たなプラスチックと混合され得、また、単一材料の新たなプラスチックと一緒に、例えば共押出法において使用され得る。
以下の実施例は新規方法および安定剤混合物をより詳細に説明する。下記において部および重量部は特記しない限り重量％である。
実施例１−３：
顆粒の形態にある使用済みプラスチック材料（使用済み電槽由来のＰＰ）を安定剤（表１）とスクリューミキサーにて均質化し、そして次に二軸スクリュー配合機（温度２６０℃）において１回ずつ５度押出する。メルトフローインデックス（ＭＦＩ，２３０℃，２．１６ｋｇ）をＤＩＮ５３７３５Ｍ（ＩＳＯ１１３３／１２）に準拠して押出前および１、３および５回目の押出の後に測定する。
第１押出工程からの顆粒は続いてプレスにて２２０℃でシート（厚さ２ｍｍ）に変換される。これらのシートは１８５℃で３００分までファン付きオーブンにて人工老化に暴露し、そして白色標準を基準として色差がＡＳＴＭ Ｄ１９２５−７０に準拠して測定される（ハンター座標系において次式：
ΔＥ＝（ΔＬ2＋Δａ2Δｂ2）1/2
に従って計算され、黄色度指数が次式：
ＹＩ＝１００（０．７２ａ＋１．７９ｂ）／Ｌ
に従って計算される）（表２）。
その他の試験シートはＤＩＮ５３３８１−ＰＶＣ／Ｃに準拠して導電率試験に供される（表３）。
第１押出工程からの顆粒は射出成形機（Arburg 100）にて２２０℃でシート（厚さ２ｍｍ）にさらに変換される。これらのシートは１３５℃でファン付きオーブンにてそれらが脆くなるまで人工老化に暴露される（表４）。
二軸配向ＰＰ（ＢＯＰＰ）の製造廃棄物を安定剤（表５）とミキサーにて均質化し、そして次に二軸スクリュー配合機（温度２３０℃）において１回ずつ５度押出する。メルトフローインデックス（ＭＦＩ，２３０℃，２．１６ｋｇ）をＤＩＮ５３７３５Ｍ（ＩＳＯ１１３３／１２）に準拠して押出前および１、３および５回目の押出の後に測定する。
第１押出工程からの顆粒は射出成形機（Arburg 100）にて２３０℃でシート（厚さ２ｍｍ）にさらに変換される。これらのシートは１３５℃でファン付きオーブンにてそれらが脆くなるまで人工老化に暴露される（表６）。
使用済みＰＰ／ＥＰＤＭ材料（バンパー由来）を安定剤（表８）とミキサーにて均質化し、そして次に二軸スクリュー配合機（温度２６０℃）において１回ずつ５度押出する。メルトフローインデックス（ＭＦＩ，２３０℃，２．１６ｋｇ）をＤＩＮ５３７３５Ｍ（ＩＳＯ１１３３／１２）に準拠して押出前および１、３および５回目の押出の後に測定する。
実施例１５−１８：
使用済みＰＰ−ＥＰＤＭ材料（バンパー由来）３６．６ｇを２００℃に保持されたブラベンダーＷ５０混合チャンバーにて３０分間混合する（４０ｒｐｍ）。添加剤（表９）がプラスチックと一緒に正しく最初に混合チャンバー中に導入される。３０分後、混合を停止し、そしてポリマー材料を混合チャンバーから取りだし、そして
２０ｋＮで１分間３０℃にて予備プレスする。
厚さ２ｍｍのシートがこのプレスにより２００℃／５０ｋＮで製造される。
微粉砕後、メルトフローインデックスをこれらのシートに対して測定する。
本発明に従って安定化された試料は対照例に比べＭＦＩ値のより小さい増加を示す（表９）。
表９：ブラベンダー試験（２００℃，４０ｒｐｍ，３０分），使用済みＰＰ／ＥＰＤＭ材料（バンパー由来）
実施例１９および２０：
ＥＰＳ（フォームポリスチレン）再循環物（顆粒）４５ｇを２２０℃に保持されたブラベンダーＷ５０混合チャンバーにて２０分間混合する（４０ｒｐｍ）。添加剤（表１０）がプラスチックと一緒に正しく最初に混合チャンバー中に導入される。２０分後、混合を停止し、そしてポリマー材料を混合チャンバーから取りだし、そして２０ｋＮで１分間３０℃にて予備プレスする。
厚さ２ｍｍのシートがこのプレスにより２００℃／５０ｋＮで製造される。
微粉砕後、メルトボリュームインデックスをこれらのシートに対して測定する。
本発明に従って安定化された試料は対照例に比べＭＶＩ値のより小さい増加を示す（表１０）。
ＡＯ−１ β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のペンタエリトリチルエステル
ＡＯ−２ ベンゼンプロパン酸３−（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ−５−メチル−１，２−エタンジイルビス（オキシ−２，１−エタンジイル）エステル
Ｐ−１トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット
Ｍ−１ 酸化カルシウム
Ｍ−２ 水酸化カルシウム
Ｆ−１ ステアリン酸カルシウム
Claims (3)
- 商業的および工業的廃棄物から得られ得る単一材料の再循環されたポリオレフィンの安定化方法であって、
ａ）次式：
（式中、Ｒ′は水素原子、メチル基または第三ブチル基を表し、そして
Ｒ″は置換もしくは未置換のアルキル基または置換もしくは未置換のチオエーテル基を表す）で表される基を少なくとも１個有する少なくとも１種の立体障害性フェノール、
ｂ）トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット、および
ｃ）カルシウム、マグネシウムまたは亜鉛の酸化物からなる系からの少なくとも１種の無機化合物
の混合物０．０１ないし１５重量％を上記ポリオレフィンに添加することからなる上記方法。 - １００部（重量基準）あたり、
（Ａ）成分ａ）としてβ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のペンタエリトリチルエステル５−５０部、成分ｂ）としてトリス−（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット５−５０部および成分ｃ）として酸化カルシウム５−９０部；
（Ｂ）成分ａ）としてβ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のオクタデシルエステル５−５０部、成分ｂ）としてトリス−（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット５−５０部および成分ｃ）として酸化カルシウム５−９０部；
（Ｃ）成分ａ）として２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）５−５０部、成分ｂ）としてトリス−（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット５−５０部および成分ｃ）として酸化カルシウム５−９０部；
（Ｄ）成分ａ）としてβ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のオクタデシルエステル１０−３０部、成分ｂ）としてトリス−（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット１０−３０部および成分ｃ）として酸化カルシウム３０−７０部；または
（Ｅ）成分ａ）としてβ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のオクタデシルエステル５−３０部、成分ｂ）としてトリス−（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット５−３０部、成分ｃ）として酸化カルシウム５−４０部、ならびにステアリン酸カルシウム１０−５０部
を含有する単一材料の再循環されたポリオレフィンのための安定剤混合物。 - ａ）次式：
（式中、Ｒ′は水素原子、メチル基または第三ブチル基を表し、そして
Ｒ″は置換もしくは未置換のアルキル基または置換もしくは未置換のチオエーテル基を表す）で表される基を少なくとも１個有する少なくとも１種の立体障害性フェノール、
ｂ）トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット、および
ｃ）カルシウム、マグネシウムまたは亜鉛の酸化物からなる系からの少なくとも１種の無機化合物
を含有する、商業的および工業的廃棄物から得られ得る単一材料の再循環されたポリオレフィン。
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