JP3864570B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、マイクロ波エネルギを用いて被加熱物を誘電加熱する高周波加熱装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来の高周波加熱装置のマイクロ波空間は、マイクロ波空間内に収納された被加熱物の
加熱の均一化を図る手段として、電波攪拌方式、被加熱物回転方式、複数給電方式あるいはマイクロ波空間壁面の凹凸形状などが実用化されている。
【0003】
電波攪拌方式は、マイクロ波空間内に設けた金属性の板状羽根を回転駆動させる構成からなる。この方式は、マイクロ波空間を形成する金属境界面や被加熱物の表面で反射を繰り返しながら伝搬しているマイクロ波が金属性の板状羽根によっても反射する。この金属性の板状羽根からのマイクロ波の反射は、板状羽根が無い場合と比べて、マイクロ波空間内でのマイクロ波の伝搬経路を増加させるものであり、被加熱物全体にマイクロ波を乱反射させて被加熱物の加熱の均一化を促進させるものである。
【0004】
被加熱物回転方式は、被加熱物を載置する載置皿を回転駆動させる構成からなる。この方式では、マイクロ波空間構造とその内部に収納した被加熱物の種類や形状等により決定されたマイクロ波空間内に生じるマイクロ波の伝搬分布に対して、被加熱物の方を移動させ被加熱物全体にマイクロ波を伝搬させ被加熱物の加熱の均一化を促進させるものである。
【0005】
複数給電方式は、マイクロ波空間を形成する金属境界面の複数の個所からマイクロ波空間内にマイクロ波を給電する構成からなる。この方式は、単一の給電と比べて最も大きな特徴は、位相の異なった複数のマイクロ波がマイクロ波空間内に給電されることである。マイクロ波空間内に位相の異なるマイクロ波を伝搬させることにより、上記電波攪拌方式と同様にマイクロ波空間内にマイクロ波の乱反射状態を生じさせるものである。
【0006】
マイクロ波空間壁面の凹凸形状方式は、マイクロ波空間を形成する金属境界面に凹凸を設けた構成からなる。この方式は、凹凸を有する金属境界面によってマイクロ波を乱反射させるものである。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の電波攪拌方式のマイクロ波空間は、金属性板状羽根によって反射されるマイクロ波をマイクロ波空間内に均一に乱反射させることに物理的限界がある。これは、マイクロ波の伝搬速度に対して、金属性板状羽根の回転速度があまりに遅いことによるものであり、金属性板状羽根の回転速度を制御したとしても被加熱物全体に均一にマイクロ波を伝搬させることは非常に難しい。従って、被加熱物の種類や量によっては、不測の不均一な加熱分布が生じることを抑制することが難しいという問題を有していた。
【0008】
また、被加熱物回転方式は、被加熱物の種類や量によってマイクロ波空間内に生じるマイクロ波分布は自ずと決まってしまうため、一つの被加熱物に対応して生じたマイクロ波分布がその被加熱物を均一に加熱することに対して不適であってもその電磁波分布を変更することができないという問題を有していた。
【0009】
複数給電方式は、理想的な挙動としては前述したとおりであるが、一つの給電部から放射されるマイクロ波の挙動が他の給電部から放射されたマイクロ波からの影響を受ける。このため、給電部が複数個あっても、その複数の給電構成によって決定される特定のマイクロ波伝搬がマイクロ波空間内に生じるので、被加熱物の種類や量によっては、不測の不均一な加熱分布が生じることを抑制することが難しいという問題を有していた。
【0010】
さらに、マイクロ波空間壁面の凹凸形状構造は被加熱物の加熱の均一化を促進できうる乱反射をマイクロ波空間内に生じさせるには、壁面全体にいわゆるゴルフボールのディンプルのような凹凸を配するとともにそのディンプルの深さ寸法あるいは突出寸法を使用するマイクロ波の波長に対して無視できない寸法、例えば1/10波長寸法以上、にすることが必要である。この結果、マイクロ波空間の構成が複雑となり実用性に難しい構成を強
いられるという問題を有していた。
【0011】
本発明は、マイクロ波空間に生じる電磁波分布を故意に可変制御し、被加熱物の加熱の均一化を促進する高周波加熱装置を提供するものである。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明の高周波加熱装置は上記課題を解決するために、被加熱物を収納するとともに給電されたマイクロ波を実質的に閉じ込めるマイクロ波空間と、前記マイクロ波空間を形成する金属壁面に生じる高周波電流の流れを分断するように設けた開孔部と、前記開孔部に接続され終端が閉じられた溝部と、前記溝部内に設け前記開孔部におけるインピーダンスを変えるインピーダンス可変手段と、前記溝部内のマイクロ波強度を検出するマイクロ波検出手段とを備え、前記インピーダンス可変手段を低誘電損失材料からなる板状構造としその板の幅広面が溝部の深さ方向に対して垂直に設けた時に開孔部に生じるインピーダンスを極めて小さい値とし、幅広面を溝部の深さ方向に対して平行に設けた時に開孔部に生じるインピーダンスを極めて大きな値とするように作用させ、前記マイクロ波検出手段の検出信号に基づいて前記インピーダンス可変手段の板の幅広面が溝部の深さ方向に対して少なくとも平行または垂直になるように回転制御する制御部とを備えている。
【0013】
上記発明によれば、マイクロ波空間に給電されたマイクロ波によりマイクロ波空間を形成する壁面に生じる高周波電流の流れは開孔部によって流れが分断されるので、マイクロ波は開孔部に接続した溝部内へ伝搬する。溝部を伝搬するマイクロ波は溝部の終端まで伝搬し、この終端で反射して再び開孔部を経てマイクロ波空間内を伝搬する。溝部内のマイクロ波伝搬経路の途中に設けたインピーダンス可変手段は、溝部内のマイクロ波伝搬条件を変化させる。このマイクロ波伝搬条件を変化させることで開孔部に生じるインピーダンス値を零から理想的には無限大まで変えることができる。この開孔部は高周波電流の流れを分断するように設けられており、開孔部のインピーダンスを零にすると、高周波電流の流れは分断されない。一方、開孔部のインピーダンスを無限大にすると高周波電流は全く流れなくなる。開孔部のインピーダンスの変化は、マイクロ波空間に生じうるマイクロ波分布を変化させる。また、開孔部に入射するマイクロ波の入射波と反射波との位相差は、開孔部のインピーダンスが零の場合180度であり、開孔部のインピーダンスが無限大の場合0度となる。従って開孔部のインピーダンスを変えることでマイクロ波空間内にマイクロ波を多重伝搬させ、さまざまなマイクロ波分布を形成させることができ、被加熱物全体の加熱の均一化を促進させることができる。
【0014】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項1の高周波加熱装置は、被加熱物を収納するとともに給電されたマイクロ波を実質的に閉じ込めるマイクロ波空間と、前記マイクロ波空間を形成する金属壁面に生じる高周波電流の流れを分断するように設けた開孔部と、前記開孔部に接続され終端が閉じられた溝部と、前記溝部内に設け前記開孔部におけるインピーダンスを変えるインピーダンス可変手段と、前記溝部内のマイクロ波強度を検出するマイクロ波検出手段とを備え、前記インピーダンス可変手段を低誘電損失材料からなる板状構造としその板の幅広面が溝部の深さ方向に対して垂直に設けた時に開孔部に生じるインピーダンスを極めて小さい値とし、幅広面を溝部の深さ方向に対して平行に設けた時に開孔部に生じるインピーダンスを極めて大きな値とするように作用させ、前記マイクロ波検出手段の検出信号に基づいて前記インピーダンス可変手段の板の幅広面が溝部の深さ方向に対して少なくとも平行または垂直になるように回転制御部とを備えている。
【0015】
そして、マイクロ波空間に給電されたマイクロ波によりマイクロ波空間を形成する壁面に生じる高周波電流の流れは開孔部によって流れが分断されるので、マイクロ波は開孔部に接続した溝部内へ伝搬する。溝部を伝搬するマイクロ波は溝部の終端まで伝搬し、この
終端で反射して再び開孔部を経てマイクロ波空間内を伝搬する。溝部内のマイクロ波伝搬経路の途中に設けたインピーダンス可変手段は、溝部内のマイクロ波伝搬条件を変化させる。このマイクロ波伝搬条件を変化させることで開孔部に生じるインピーダンス値を零から理想的には無限大まで変えることができる。この開孔部は高周波電流の流れを分断するように設けられており、開孔部のインピーダンスを零にすると、高周波電流の流れは分断されない。
【0016】
一方、開孔部のインピーダンスを無限大にすると高周波電流は全く流れなくなる。開孔部のインピーダンスの変化は、マイクロ波空間に生じうるマイクロ波分布を変化させる。また、開孔部に入射するマイクロ波の入射波と反射波との位相差は、開孔部のインピーダンスが零の場合180度であり、開孔部のインピーダンスが無限大の場合0度となる。従って開孔部のインピーダンスを変えることでマイクロ波空間内にマイクロ波を多重伝搬させ、さまざまなマイクロ波分布を形成させることができ、被加熱物全体の加熱の均一化を促進させることができる。
【0017】
また、制御部により、インピーダンス可変手段を回転制御させている。これにより、開孔部のインピーダンスの可変値を特定化させたり周期的に変化させたりして制御性を高めることができ、被加熱物の加熱の促進を図ることができる。また、制御部は、本装置使用者からの手動制御信号入力に基づいてインピーダンス可変手段を所定の角度に支持させるように制御する。加熱進行に伴って溝部内に配設したマイクロ波検出手段の検出信号に基づいてインピーダンス可変手段の回転角度を制御し被加熱物の種類、量、形状に対して最適な状態のマイクロ波伝搬をマイクロ波空間内に形成して被加熱物を均一に加熱させることができる。
【0018】
また請求項2の高周波加熱装置は、マイクロ波検出手段は開孔部とインピーダンス可変手段との間に配設している。そして、マイクロ波検出手段は、開孔部から溝部内に伝搬するマイクロ波のエネルギを検出する。これにより、インピーダンス可変手段の回転状態を判別できるとともにマイクロ波空間へのマイクロ波エネルギの供給量の状態を検出でき、この検出信号に基づいてインピーダンス可変手段を制御して被加熱物を最適なマイクロ波分布にて均一に誘電加熱させることができる。
【0019】
また、請求項3の高周波加熱装置では、マイクロ波検出手段はインピーダンス可変手段を挟んで両側に配設している。これにより、インピーダンス可変手段の両側のマイクロ波エネルギを検出して開孔部のインピーダンス値を判定できる。
【0020】
また開孔部のインピーダンス値を可変させてマイクロ波空間へのマイクロ波エネルギ量を増加させるようにインピーダンス可変手段を制御でき、被加熱物を均一でかつ高速に誘電加熱させることができる。
【0021】
また、請求項4の高周波加熱装置では、インピーダンス可変手段は、溝部内にて回転可能に支持した板状構成とし、板面の支持角度を判定する支持角度判定手段を備えている。これにより、板状構成のインピーダンス可変手段を回転駆動させることで開孔部のインピーダンス可変を容易に制御できるとともに、支持角度判定手段により回転角度を規定させることができるので開孔部のインピーダンス値を特定化させてマイクロ波空間内のマイクロ波伝搬を特定化させ、被加熱物の種類、量あるいは形状に対応させて最適な加熱の均一化を実現させることができる。
【0022】
また、請求項5の高周波加熱装置では、支持角度判定手段は、インピーダンス可変手段を構成する板の幅広面が溝部の深さ方向に対して少なくとも平行または垂直になる状態を検出判定する機能を有している。そして、開孔部のインピーダンス値を極めて小さい値(
理想的には零)にするインピーダンス可変手段の支持角度を板の幅広面が開孔部に対して平行または垂直の時に生じさせるように規定させている。これにより、開孔部のインピーダンス値のリセット状態を規定し、再現性の良い装置を提供できる。また、幅広面を平行または垂直に変えることで開孔部のインピーダンス値を極めて小さい値と極めて大きな値(理想的には無限大)に可変できる。この操作によりマイクロ波空間のインピーダンスが変化するのでマイクロ波空間へのマイクロ波エネルギの供給量を可変させることができる。このマイクロ波エネルギ可変は通常供給量が多くなるように制御することで被加熱物を高速加熱させることができる。
【0023】
【実施例】
以下、本発明の実施例について図面を用いて説明する。
【0024】
図1は本発明の実施例1を示す高周波加熱装置の構成図、図2は図1の要部断面構成図である。
【0025】
図1および図2において、マイクロ波空間10は金属材料から構成された金属境界部である右側壁面11、左側壁面12、奥壁面13、上部壁面14、底部壁面15及び被加熱物をマイクロ波空間10内に出し入れする開閉壁面である前面開閉壁面(図示していない)とにより略直方体形状に構成され、給電されたマイクロ波をその内部に実質的に閉じ込めるように形成している。16は左側壁面12に形成した開孔部であり、左側壁面12の上下方向の略中央部に配設し略矩形の孔形状としている。17は溝部であり、開孔部16と空間的に連続して形成している。溝部17は、マイクロ波空間10の外側に設けられ、開孔部16を覆う金属材料からなる溝板18で構成されている。この溝板18により、所定の溝深さ寸法L1とともに開孔部16の開孔寸法L2とほぼ同等の間隙寸法L3を有する溝部17が形成されている。開孔部16は溝部17の一端に配置され、溝部の終端は溝板19により閉じられている。
【0026】
また、溝部17内にはインピーダンス可変手段20が設けられている。このインピーダンス可変手段20は低誘電損失材料からなる板状構造からなり、その両端に溝板18の壁面に設けた孔を貫通させる支持部21、22を設けている。支持部21、22により、インピーダンス可変手段20は溝板18の壁面にて支持されている。23はインピーダンス可変手段20を回転駆動するモータであり、その出力軸24はインピーダンス可変手段20の支持部22と連結構成させている。支持部22の先端部にはDカット22aを設けている。
【0027】
25は、モータ23の出力軸24と一体的に構成した支持角度判定手段である。支持角度判定手段25は、インピーダンス可変手段の幅広面20aと幅狭面20bとに対応する位置に突起部25a、25b(図においては2箇所に配設)をそれぞれ配した円盤状構成からなる。26はリレースイッチであり、支持角度判定手段25の回転動作に伴って突起部25a、25bによりリレースイッチ26のリレー接点が閉じられるように実装されている。
【0028】
27、28は溝部17内に存在するマイクロ波と結合してそのマイクロ波強度を検出するマイクロ波検出手段である。マイクロ波検出手段27は、溝部17において開孔部16とインピーダンス変換手段20との間に配設し、もう一方のマイクロ波検出手段28はインピーダンス可変手段20と溝部17の終端である溝板19との間に配設している。マイクロ波検出手段27、28は同様の構成からなる。その詳細はマイクロ波検出手段27を代表として説明する。マイクロ波検出手段27は、同軸ケーブルから構成しその中心導体27aは溝板18を貫通させて溝部17内に略2mmから5mm突出させた構成している。マイクロ波検出手段の検出信号は検波、平滑して直流電圧の信号に変換する。
【0029】
29はマイクロ波空間10内に給電するマイクロ波を発生させるマグネトロン、30はマグネトロン29を一端側に装着し、マグネトロンが発生するマイクロ波を伝送する導波管、31は導波管30を伝送したマイクロ波をマイクロ波空間10内に放射する給電部であり、マイクロ波空間10の右側壁面11に配設している。32はマグネトロン29を駆動させるマグネトロン駆動電源部である。
【0030】
またマイクロ波空間10内には被加熱物が載置される載置皿33が設けられ、この載置皿33を回転駆動する載置皿駆動モータ34が設けられている。
【0031】
35は制御部であり、マイクロ波検出手段27、28が検出した信号および支持角度判定手段25の回転に伴って生じるリレースイッチ26のスイッチ部開閉状態がそれぞれ入力され、この入力信号に基づいて後述の制御信号を出力する。また制御部35はマグネトロン駆動電源部32、載置皿駆動モータ34およびインピーダンス可変手段の可変駆動モータ23の動作を制御する信号を出力する。
【0032】
なお、制御部35は、装置本体に設けられた操作パネル(図示していない)上に配されたキーを押すことにより使用者が入力した情報に基づいて上述の各制御信号を出力させることもできる。
【0033】
次に以上の構成からなる本発明の高周波加熱装置の動作と作用について説明する。まずマイクロ波空間10内に生じさせるマイクロ波分布について説明する。マイクロ波空間10には載置皿33の略中央部の高周波電界が強くなるようなマイクロ波分布、例えばTE530とかTE430を発生させるように構成している。ここでTEは高周波電界がマイクロ波の伝搬方向に対して垂直方向に生じるマイクロ波分布のモードを示し、添え字の数値はそれぞれマイクロ波の伝搬方向である図1においては右側壁面11と左側壁面12との間に生じる定在波の山の数、マイクロ波の伝搬方向に垂直でかつ図1において奥壁面13と前面開閉壁面との間に生じる定在波の山の数および底壁面15と上部壁面14との間に生じる定在波の山の数(上記添え字の場合、零であるから高周波電界は一様)を示す。
【0034】
次に開孔部16について説明する。開孔部16はマイクロ波空間10内に生じさせたマイクロ波分布によって生じる金属境界部である各金属壁面を流れる高周波電流の流れを分断する方向に長大な略矩形形状にて構成している。図1の場合、給電部31に対向する左側壁面12に配設している。開孔部16のインピーダンスを零にすると高周波電流の流れは分断されないのでマイクロ波空間10内に生じさせたマイクロ波分布は何ら変化しない。一方、開孔部16のインピーダンスを無限大にすることで高周波電流が流れなくなるのでマイクロ波空間10内に生じさせたマイクロ波分布は初期の分布から変化する。また、開孔部16におけるマイクロ波の入射波と反射波との位相差は、開孔部のインピーダンスが零の場合180度であり、開孔部のインピーダンスが無限大の場合0度となる。従って開孔部のインピーダンスを変えることでマイクロ波空間内に生じるマイクロ波は多重伝搬し、さまざまなマイクロ波分布を形成させることができ、マイクロ波空間10内に載置された被加熱物の加熱分布を変化させて被加熱物をより均一に加熱させることができる。
【0035】
次にインピーダンス可変手段20を含む溝部17について説明する。この溝部17の実施例の形状としては、L1が40mm、L3が15mm、L4が80mmであり開孔部16側の溝板18は略45度のテーパ形状としている。また、インピーダンス可変手段20は、比誘電率が12.3、板厚さが6.2mmであり、溝部17の略中央に配設している。
【0036】
このような構成からなるインピーダンス可変手段20を含む溝部17内に生じるマイクロ波分布を図3に示す。図3において、実線36はインピーダンス可変手段の幅広面20
aを溝部17の深さ方向に対して垂直に設けた時のマイクロ波分布を示し、開孔部16に生じさせるインピーダンスを極めて小さい値(理想的には零)としている。また、インピーダンス可変手段の幅広面20aを溝部17の深さ方向に対して平行に設けた場合のマイクロ波分布を破線37にて示す。この場合、開孔部16に生じるインピーダンスは極めて大きな値(理想的には無限大)としている。
【0037】
次にマイクロ波検出手段27、28について説明する。マイクロ波検出手段27、28は、図3に示すようにインピーダンス可変手段20を挟んで等距離(例えば10mm)に配設している。この配設構成による検出信号の特性を溝部17内に生じるマイクロ波分布36、37に対応させて説明する。マイクロ波分布36に対しては、2つのマイクロ波検出手段が検出する検出信号は等しくなる。一方、マイクロ波分布37に対しては、インピーダンス可変手段20と溝部17の終端である薄板19との間に設けたマイクロ波検出手段28の方がもう一方のマイクロ波検出手段27に比べて検出信号が小さくなる。さらには、マイクロ波分布37に対応するマイクロ波検出手段28の検出信号がマイクロ波分布36に対応するマイクロ波検出手段28の検出信号より大きい場合、溝部17内に存在するマイクロ波のエネルギ量が多いと判断できる。このような各マイクロ波検出手段の検出信号に基づいて後述のインピーダンス可変手段20を回転駆動させる制御が実行される。
【0038】
次に本装置の使用時の動作について説明する。載置皿33の上に被加熱物を置きマイクロ波空間10を閉じた後、その被加熱物に対応する加熱条件を操作パネルから入力し加熱開始キーが押されると本装置が動作を開始する。
【0039】
制御部35の主要な制御内容を、加熱開始時、加熱期間中に区分して説明する。まず加熱開始時における制御部35の制御内容を説明する。制御部35は操作パネルより入力された加熱条件に基づいて、マグネトロン駆動電源部32およびインピーダンス可変手段20を回転駆動するモータ23を動作させる信号を出力する。
【0040】
加熱開始時においてインピーダンス可変手段の幅広面20aは溝部17の深さ方向に対して垂直方向(図2に示した状態)になった状態を初期状態と規定している。この規定に対して、インピーダンス可変手段20の状態検出は二通りの手法にて実行される。1つは、前回の加熱の終了時における制御であり、支持角度判定手段25に設けた突起部25bによってリレースイッチ26の接点が閉じられたことを判定してモータ23の駆動電力の供給を停止させる方法である。この方法においては、インピーダンス可変手段20を回転駆動するモータ23は連続的に一方向に回転させ突起部25a、25bの配設構成に伴うリレースイッチ26の開閉状態信号に基づいてインピーダンス可変手段20の幅広面20aが上述のとおりの垂直方向になった時点でモータ23の動作を停止させる。二つ目の手法は、加熱開始後のマイクロ波検出手段27、28の検出信号に基づく制御である。この方法においては、モータ23を連続駆動させ、マイクロ波検出手段27、28の検出信号が等しい状態をもって規定する。
【0041】
次に加熱期間中の制御部35の制御内容について説明する。マグネトロン29および載置皿駆動モータ34の駆動制御は入力された制御条件に基づいて実行される。インピーダンス可変手段20は、入力された制御条件あるいはマイクロ波検出手段27、28の検出信号に基づいて以下のように制御する。なお、制御部35にはマイクロ波検出手段の検出信号と比較するために予め規定した信号値を記憶させている。
【0042】
(制御実施例1)
マイクロ波検出手段の検出信号が予め規定した信号レベルよりも大きい場合は、開孔部16が金属壁面に生じた高周波電流を少なからず分断している、すなわちマイクロ波空間10内に所期のマイクロ波分布が生じていないと判断しマイクロ波空間内に載置された被
加熱物の負荷量が多いと判定する。この判定に基づいて、制御部はインピーダンス可変手段20を回転駆動するモータ23を連続的に動作させる。
【0043】
モータ23の動作により、開孔部16のインピーダンスを周期的に無限大にする。これにより、開孔部16を介してマイクロ波空間10の左側金属壁面12を流れる高周波電流はその流れが周期的に分断される。この高周波電流の分布はマイクロ波空間10内に生じるマイクロ波分布に対応しているので、高周波電流の流れを分断することでマイクロ波空間10内に生じるマイクロ波分布を周期的に可変させることができる。このマイクロ波分布の可変により、被加熱物の加熱を均一化させることができる。
【0044】
(制御実施例2)
マイクロ波検出信号の検出信号が予め規定した信号レベル以下の場合は、マイクロ波空間10内に生じているマイクロ波分布が所期のマイクロ波分布であると判定する。この場合、加熱開始時はインピーダンス可変手段20を回転駆動せず使用者から入力された加熱条件に基づいて加熱を進行させる。この加熱期間において、制御部35は所定時間周期(例えば1秒周期)にてマイクロ波検出手段27、28の検出信号を予め規定した信号レベルと比較する。この比較において、検出信号が予め規定した信号レベルより大きくなると、マイクロ波空間10内に生じているマイクロ波分布が変化したと判定してインピーダンス可変手段20の回転駆動モータ23を動作させ開孔部16のインピーダンスを可変しマイクロ波空間10内のマイクロ波分布を周期的に可変し被加熱物の加熱の均一化を促進させる。なお、時間経過に伴って溝部17内のマイクロ波強度が変化するのは被加熱物が誘電加熱されることで温度上昇し被加熱物の比誘電率が変化するためである。
【0045】
(制御実施例3)
マイクロ波検出手段の検出信号が予め規定した信号レベル以下の場合において、インピーダンス可変手段の幅広面20aを溝部17の深さ方向に平行になる状態にインピーダンス可変手段20を回転させる。そして、この状態においてマイクロ波検出手段27、28から検出した検出信号をインピーダンス可変手段の幅広面20aが溝部17の深さ方向に垂直な状態において検出された信号と比較する。インピーダンス可変手段20と溝部17の終端の溝板19との間に設けたマイクロ波検出手段28によって検出された信号において、インピーダンス可変手段の幅広面20aが水平時の得られた検出信号が垂直時に得られた検出信号よりも大きい場合、マイクロ波空間10内に供給されるマイクロ波エネルギが多くなったと判断してインピーダンス可変手段の幅広面20aを水平状態にして加熱を進行させる。
【0046】
これにより、被加熱物の加熱を均一化させるとともに高速誘電加熱を促進させることができる。
【0047】
次に、インピーダンス可変手段20の回転駆動用のモータ23をステッピングモータ構成とした場合について説明する。この場合、支持角度判定手段25は不用とできる。また、インピーダンス可変手段の幅広面20aを溝部17の深さ方向に対して規定できる角度の自由度が増すため、開孔部16のインピーダンスをきめ細やかに設定することができる。これにより、マイクロ波空間10内に生じさせるマイクロ波分布をよりきめ細やかに変化させることができ、被加熱物の加熱の均一化をさらに促進させることができる。
【0048】
なお、ステッピングモータを使用した場合の本装置の動作制御内容は、前述した制御内容に準じて実行させる。
【0049】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば以下の効果を有する。
【0050】
(1)請求項1の高周波加熱装置によれば、インピーダンス可変手段を可変制御することで開孔部に生じる高周波電流の流れを変えてマイクロ波空間内にマイクロ波を多重伝搬させ、さまざまなマイクロ波分布を形成させることができ、被加熱物全体の加熱の均一化を促進させることができる。
【0051】
また、インピーダンス可変手段を回転制御させることで開孔部のインピーダンス値を特定化させたり周期的に変化させたりして制御性を高めることができ、被加熱物の加熱の促進を図ることができる。また、マイクロ波検出手段の検出信号に基づいてインピーダンス可変手段の回転角度を制御し被加熱物の種類、量、形状に対して最適な状態のマイクロ波伝搬をマイクロ波空間内に形成して被加熱物を均一に加熱させることができる。
【0052】
(2)請求項2の高周波加熱装置によれば、開孔部とインピーダンス可変手段との間に配設したマイクロ波検出手段の検出信号により、インピーダンス可変手段の回転状態を判別できるとともにマイクロ波空間へのマイクロ波エネルギの供給量の状態を検出でき、この検出信号に基づいて被加熱物を最適なマイクロ波分布にて誘電加熱させることができる。
【0053】
(3)請求項3の高周波加熱装置によれば、マイクロ波検出手段をインピーダンス可変手段を挟んで両側に配設したことにより、インピーダンス可変手段の両側のマイクロ波エネルギを検出して開孔部のインピーダンス値を判定できる。また、マイクロ波空間へのマイクロ波エネルギ量を増加させるようにインピーダンス可変手段を制御でき、被加熱物を均一でかつ高速に誘電加熱させることができる。
【0054】
(4)請求項4の高周波加熱装置によれば、インピーダンス可変手段は溝部内にて回転可能に支持した板状構成とし、板面の支持角度を判定する支持角度判定手段を備えたことにより、板状構成のインピーダンス可変手段を回転駆動させることで開孔部のインピーダンス可変を容易に制御できるとともに、支持角度判定手段により回転角度を規定させることができるので開孔部のインピーダンス値を特定化させてマイクロ波空間内のマイクロ波伝搬を特定化させ、被加熱物の種類、量あるいは形状に対応させて最適な加熱の均一化を実現させることができる。
【0055】
(5)請求項5の高周波加熱装置によれば、支持角度判定手段がインピーダンス可変手段を構成する板の幅広面が溝部の深さ方向に対して平行または垂直になる状態を検出判定する機能を有したことにより、開孔部のインピーダンス値を極めて小さい値(理想的には零)にするインピーダンス可変手段の支持角度を板の幅広面が開孔部に対して平行または垂直の時に生じさせるように規定させることができる。これにより、開孔部のインピーダンス値のリセット状態を規定し、再現性の良い装置を提供できる。また、幅広面を平行または垂直に変えることで開孔部のインピーダンス値を極めて小さい値と極めて大きな値(理想的には無限大)に可変できる。この操作によりマイクロ波空間のインピーダンスが変化するのでマイクロ波空間へのマイクロ波エネルギの供給量を可変させることができる。このマイクロ波エネルギ可変は通常供給量が多くなるように制御することで被加熱物を高速加熱させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例を示す高周波加熱装置の構成図
【図2】 同高周波加熱装置の要部構成図
【図3】 本発明の実施例1のインピーダンス可変手段を含む溝部におけるマイクロ波分布特性図
【符号の説明】
10 マイクロ波空間
16 開孔部
17 溝部
19 溝部の終端の溝板
20 インピーダンス可変手段
20a インピーダンス可変手段の幅広面
23 モータ(ステッピングモータ)
25 支持角度判定手段
27、28 マイクロ波検出手段
35 制御部
Claims (5)
- 被加熱物を収納するとともに給電されたマイクロ波を実質的に閉じ込めるマイクロ波空間と、前記マイクロ波空間を形成する金属壁面に生じる高周波電流の流れを分断するように設けた開孔部と、前記開孔部に接続され終端が閉じられた溝部と、前記溝部内に設け前記開孔部におけるインピーダンスを変えるインピーダンス可変手段と、前記溝部内のマイクロ波強度を検出するマイクロ波検出手段とを備え、前記インピーダンス可変手段を低誘電損失材料からなる板状構造としその板の幅広面が溝部の深さ方向に対して垂直に設けた時に開孔部に生じるインピーダンスを極めて小さい値とし、幅広面を溝部の深さ方向に対して平行に設けた時に開孔部に生じるインピーダンスを極めて大きな値とするように作用させ、前記マイクロ波検出手段の検出信号に基づいて前記インピーダンス可変手段の板の幅広面が溝部の深さ方向に対して少なくとも平行または垂直になるように回転制御する制御部とを備えた高周波加熱装置。
- マイクロ波検出手段は、開孔部とインピーダンス可変手段との間に配設した請求項1記載の高周波加熱装置。
- マイクロ波検出手段は、インピーダンス可変手段を挟んで両側に配設した請求項1記載の高周波加熱装置。
- インピーダンス可変手段は、溝部内にて回転可能に支持した板状構成とし、板面の支持角度を判定する支持角度判定手段を備えた請求項1記載の高周波加熱装置。
- 支持角度判定手段は、インピーダンス可変手段を構成する板の幅広面が溝部の深さ方向に対して少なくとも平行または垂直になる状態を検出判定する機能を有する請求項4記載の高周波加熱装置。
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