JP3761646B2 - 縦型ウエハ処理治具 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ICやLSI等の製造に用いられる半導体ウエハ(以下、単にウエハということがある)の熱処理に利用されるものであって、電気炉内でウエハの熱処理を行う際に使用される縦型ウエハ処理治具に関する。
【0002】
【関連技術】
従来、シリコンウエハ等の半導体ウエハの各種熱処理工程(例えば、CVD、熱拡散、熱酸化工程等)に用いられる熱処理装置としては、図5に示すようなバッチ式の熱処理装置Aが一般的に使用されている。
【0003】
この熱処理装置Aは、同心円筒状に配置された加熱源H(カンタル線ヒーターや加熱ランプ等)と、その内側に配置された炉心管2(一般には石英ガラス又はSiC製のものが使われる)と、半導体ウエハWを複数載置する縦型ウエハ処理治具3(石英ガラス又はSiC製で、通常「縦型ボート」と称する)と、その縦型ウエハ処理治具3を保持する保持台4と、その下部にあって熱処理時に炉心管2の下部開口部を塞ぐキャップ5と、該縦型ウエハ処理治具3、保持台4、キャップ5を炉心管2の内部に向かって上下させる昇降手段6とからなっている。
【0004】
また、該熱処理装置Aには、半導体ウエハの熱処理時及びその前後に炉心管2内部の雰囲気を所定の状態(反応ガスが満たされた減圧、又は加圧、常圧)に保つために、雰囲気ガスの導入手段7及び排出手段8が設けられている。
【0005】
半導体ウエハWの熱処理を行なうには、先ず該熱処理装置Aの下方の炉心管2の外に取り出されている縦型ウエハ処理治具3に半導体ウエハWを装填し、ついでその縦型ウエハ処理治具3、保持台4及びキャップ5を一緒に昇降手段6により上昇させて炉心管2内に半導体ウエハWを挿入する。
【0006】
そして、雰囲気ガスの排出手段8より内部の雰囲気ガスを排気した後に徐々に導入手段7から半導体ウエハWの表面処理用の雰囲気ガスを導入しつつ、炉心管2の外部の加熱源Hから熱を加えながら半導体ウエハWの熱処理を行う。
【0007】
半導体ウエハWの熱処理中は、炉心管2内は500〜1100℃の所定の温度と所定の温度分布に保たれ、半導体ウエハWの表面に所定の熱処理(CVD、熱拡散、アニール等)が行われる。
【0008】
この時の温度分布は、炉心管2内の全てのウエハWを均一に歩留まり良く熱処理するために重要なことは言うまでもない。熱処理後は、昇降手段6により縦型ウエハ処理治具3、保持台4及びキャップ5は下方に移動せしめられ、炉心管2内は開放状態になる。
【0009】
従来、この種の縦型ウエハ処理治具Aは、円柱又は角柱状の無垢棒からなる支柱9に所定の間隔で溝を刻切して形成し、この支柱9を上下の円板(天板、底板ともいわれる)10,11や枠にて固定した構造のものが使用されていた。この従来の縦型ウエハ処理治具3には次のような問題があった。
【0010】
(1)ウエハを支柱9の外周部に刻切して形成した溝で保持するためにウエハWにたわみ方向の力が加わり、保持部(溝)付近にスリップ等の結晶欠陥が発生した。
【0011】
(2)ウエハを保持する溝を有する無垢棒からなる支柱9の昇温時の熱吸収や、吸収した熱の2次輻射等により、支柱9近くのウエハWの温度分布が不均一になり、スリップ等の結晶欠陥や熱処理(膜蒸着、拡散、アニール等)の不均一をもたらした。
【0012】
(3)ウエハWを保持する支柱9の溝付近では処理雰囲気ガスが溝内に滞留してしまうためガスの流れが不均質になり、熱処理の速度が支柱9の溝の周囲と縦型ウエハ処理治具Aの中央部で異なる。
【0013】
そこで、例えば(1)の問題については、▲1▼円弧状の又はリング状の支持材でウエハを支えたり(特開平6−260438号公報)、▲2▼支持面をウエハを三等分するように分散して支えたり(特開平6−224146号公報)、▲3▼アーク状の支持部材を使ったり(特開平6−168903号公報)する等の提案がなされ、その一部は実用化されている。
【0014】
ただし、これらの提案された対策も完全とはいえず、提案▲2▼では隣接する支柱間に位置するウエハ部分に作用するたわみ力は基本的にはあまり緩和されず、特に口径の大きなウエハでは結晶欠陥を完全に無くすことは出来なかった。
【0015】
また、提案▲1▼や▲3▼の場合は、リングの面でウエハを保持することが可能であるが、リングの精度が不十分であるとかえって局所的な(予想しない位置に)たわみ力が作用して結晶欠陥が発生した。また、リングが広範囲にウエハに接触するために、温度の不均一を生じ、上記(2)の問題を助長することになった。
【0016】
また、提案▲1▼や▲3▼は構造が複雑で製造が難しいだけでなく、取り扱い(ウエハ装填、移動、洗浄等)の時に破損などの問題を発生しやすい構造であった。
【0017】
また、ガス等の流体の流れや熱の不均一を解消するなどの対策は、ウエハ下部から微少部材での点での保持がほとんどで、上記(1)の問題を逆に助長するなど対策として充分ではなかった。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、従来技術における前記(1)、(2)、(3)の問題を解消し、熱処理されたウエハに発生する結晶欠陥を抑制し、雰囲気ガス等の流体や温度の均質性を高めることにより、実用性を向上させ、かつ形状をシンプルにすることにより、製造、取り扱いの容易化を図った縦型ウエハ処理治具を提供することを目的とするものである。
【0019】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の縦型ウエハ処理装置は、天板と底板の間に複数本の支柱を設置し、該支柱の外周面にウエハを載置係止するための複数の溝を穿設し、該溝に複数枚のウエハを保持して熱処理するために用いられる縦型ウエハ処理治具であって、該支柱が内部を中空部とした筒状体であり、該筒状体支柱の側壁の外周面から内部の中空部まで貫通するように該溝を穿設し、前記筒状体支柱に前記天板及び前記底板に貫通した上部開口部及び下部開口部を開穿することによって気体及び/又は液体が前記天板の上面側から前記底板の下面側に流通可能とし、前記溝の下面が、前記筒状体支柱の側壁の肉厚を越えない幅でウエハを接触状態で保持する、ウエハの略円周方向に向いた横長水平保持部と、該横長水平保持部に連続して該溝の奥部方向に下方に傾斜する傾斜部と、を有し、前記溝の上下面の開口幅が隣接する溝同士の設置間隔よりも大であることを特徴とする。
【0020】
上記構成とすることにより、筒状体支柱の内部も含めてガス等の流体の流れが極めて良好となり、前記した従来技術における諸問題が解決される。
【0021】
前記筒状体支柱の上端部及び下端部を、気体、液体等の流体が流通可能に開口した構造とすることにより、ガス等の流体の流れがさらに良くなるとともに洗浄の際の洗浄液の抜きや乾燥作業が容易になり、ハンドリング性が向上し、さらに支柱内部への堆積物が抑制される。
【0022】
前記溝の下面が、前記筒状体支柱の側壁の肉厚を越えない幅でウエハを保持する横長水平保持部と、該横長水平保持部に連続して該溝の先端方向に下方に傾斜する傾斜部とを有する構造とすることが必須である。
【0023】
これにより、ウエハを接触状態で保持する横長水平保持部がガス等の流体の流れと関係のない筒状体支柱の側壁の肉厚内に押さえられ、ガス等の流体は流れ易くなり、ウエハからの熱吸収が抑制される。
【0024】
また、ウエハを接触状態で保持する横長水平保持部がウエハの略円周方向に向いた横長であるため、隣接する接触保持部間に位置するウエハ部分にたわみ力が発生しにくいという利点がある。
【0025】
さらに、前記溝の下面に該横長水平保持部に連続して傾斜部を設けることにより、当該傾斜面の上方に位置するウエハ部分の下面には該ウエハ部分に接近する溝の下面部分が存在せず、ウエハへの二次輻射などの熱的な影響が緩和され、かつガス等の流体の流れがさらによくなる有利さがある。
【0026】
前記傾斜部の傾斜角度としては5〜20度が好適である。この角度範囲外では上記した傾斜部に起因する有利性が減殺される場合がある。
【0027】
前記溝の上下面の開口幅を、隣接する溝同士の設置間隔よりも大とすることにより、溝内へのガス等の流体の進入がより良好になる。
【0028】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を添付図面中、図1〜図4に基づいて説明する。図1は本発明の縦型ウェハ処理治具の一つの実施の形態を示す斜視説明図、図2は筒状体支柱の要部の断面説明図、図3は図1の拡大横断面図及び図4は本発明の他の実施の形態を示す拡大横断面図である。
【0029】
図1において、12は本発明に係る縦型ウエハ処理治具である。該縦型ウエハ処理治具12は、天板14と底板16との間に複数本(図1及び図3の例では4本、図4の例では3本)の支柱18が設計された間隔で組み込まれており、それらの支柱18には数十枚にも及ぶウエハWを載置係止するための複数の溝20が穿設されている。
【0030】
ウエハWは、複数本の支柱18の同一高さの溝20によって略水平に載置係止されて保持され、高温において熱処理される。
【0031】
しかして、該支柱18は内部を中空とした中空部22と、円筒状側壁24とからなる筒状体によって形成されている。該溝20は該筒状体支柱18の側壁24の外周面から内部の中空部22まで貫通するように穿設されている。
【0032】
図2に最もよく示されるように、該筒状体支柱18の上端部及び下端部には気体(ガス)や液体等の流体が流通可能なように天板14及び底板16に貫通して上部開口部26及び下部開口部27が開穿されている。
【0033】
図2〜図4に示されるように、該溝20の下面は、前記筒状体支柱18の側壁24の肉厚を越えない幅でウエハWを保持する横長水平保持部28と、該横長水平保持部28に連続して該溝20の奥部方向に下方に傾斜する傾斜部30とを有している。
【0034】
該傾斜部30の傾斜角度αについては特別の限定はないが、5〜20度の範囲が好適である。傾斜角度αがこの範囲を越えると傾斜部30を設置したことによる利点が減少する場合がある。
【0035】
該溝20の上下面の開口幅bは、隣接する溝20同士の設置間隔aよりも大となるように設定するのが好ましい。これにより、溝20内へのガス等の流体の進入が一層良好となる。
【0036】
上述した構成の縦型ウエハ処理治具12を用いてウエハの熱処理を行なえば、処理雰囲気などのガスは筒状体支柱18の内部中空部22内をも流れることができ、従来の無垢棒の支柱に比べてガス等の流れは極めて良好となり、ガスの流れが均質になるとともに熱処理温度の均一化を図ることができ、ウエハの均一な熱処理が可能となる。
【0037】
また、本発明の縦型ウエハ処理治具12にウエハWを保持する場合、ウエハWは該溝20の下面に形成された横長水平保持部28のみに接触した状態で保持されることとなる。
【0038】
この横長水平保持部28は処理雰囲気ガス等のガスの流れとは関係のない筒状体支柱18の側壁24の肉厚内に押さえられているので、ガス等の流体は流れ易くなり、支柱18によるウエハWからの熱吸収は抑制される。
【0039】
さらに、該横長水平保持部28はウエハWの略円周方向に向いた横長形状とされているため、隣接する保持部28間に位置するウエハ部分にたわみ力が発生しにくいという利点がある。
【0040】
前述したごとく、該横長水平保持部28に連続して傾斜部30が設けられているので、当該傾斜部30の上方に位置するウエハW部分の下面には該ウエハ部分に近接する溝の下面部分が存在せず、ウエハWへの二次輻射などの熱的な影響が緩和され、その上、この傾斜部30の存在によりガス等の流体の流れはさらに良好となる。
【0041】
該溝20の上下面の開口幅bを隣接する溝20,20同士の設置間隔aよりも大とすることにより、該溝20内へのガス等の流体の進入がよく行なわれる。また、縦型ウエハ処理治具12を洗浄する際の洗浄液の抜きや乾燥作業を良好に行なうことができ、ハンドリングが容易となる。
【0042】
該筒状体支柱18の上端部及び下端部に上部開口部26及び下部開口部27を設け、ガス等の流体が該筒状体支柱18の上下部開口部26,27を介して流通可能とされているので、ガス等の流体の流れがよくなり、また縦型ウエハ処理装置12を洗浄する際の洗浄液の抜きや乾燥作業を容易に行なうことができ、ハンドリングが容易となり、さらに支柱18の内部への堆積物の堆積を抑制することができる利点がある。
【0043】
【発明の効果】
本発明によれば、ウエハとウエハ保持部の接触部分の面積を小さくすることが出来るとともに、隣接するウエハ保持部間に位置するウエハ部分に作用するたわみ力を抑制でき、熱処理温度の不均一やウエハの自重による結晶欠陥を防止できるという効果が達成される。
【0044】
さらに、本発明によれば、ガス等の流体の流れが均質になり、上記効果と合わせて極めて歩留まりの高いウエハの処理が可能となり、また、丈夫で形状のシンプルな筒状体を支柱にしているので、洗浄などの液抜きや乾燥作業も容易となり、メンテナンスなどのハンドリングも容易で、かつその製造も容易であるという効果が達成される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の縦型ウェハ処理治具の一つの実施の形態を示す斜視説明図である。
【図2】筒状体支柱の要部の断面説明図である。
【図3】図1の拡大横断面図である。
【図4】本発明の他の実施の形態を示す拡大横断面図である。
【図5】従来の半導体ウエハの熱処理装置を示す断面図である。
【符号の説明】
2 炉心管
3、12 縦型ウエハ処理治具
4 保持台
5 キャップ
6 昇降手段
7 導入手段
8 排出手段
9 支柱
14 天板
16 底板
18 円筒状支柱
20 溝
22 中空部
24 円筒状側壁
26 上部開口部
27 下部開口部
28 横長水平保持部
30 傾斜部
A 熱処理装置
H 加熱源
W ウエハ
a 設置間隔
b 開口幅
Claims (2)
- 天板と底板の間に複数本の支柱を設置し、該支柱の外周面にウエハを載置係止するための複数の溝を穿設し、該溝に複数枚のウエハを保持して熱処理するために用いられる縦型ウエハ処理治具であって、該支柱が内部を中空部とした筒状体であり、該筒状体支柱の側壁の外周面から内部の中空部まで貫通するように該溝を穿設し、前記筒状体支柱に前記天板及び前記底板に貫通した上部開口部及び下部開口部を開穿することによって気体及び/又は液体が前記天板の上面側から前記底板の下面側に流通可能とし、前記溝の下面が、前記筒状体支柱の側壁の肉厚を越えない幅でウエハを接触状態で保持する、ウエハの略円周方向に向いた横長水平保持部と、該横長水平保持部に連続して該溝の奥部方向に下方に傾斜する傾斜部と、を有し、前記溝の上下面の開口幅が隣接する溝同士の設置間隔よりも大であることを特徴とする縦型ウエハ処理治具。
- 前記傾斜部の傾斜角度が5〜20度であることを特徴とする請求項1記載の縦型ウエハ処理治具。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31991596A JP3761646B2 (ja) | 1996-11-29 | 1996-11-29 | 縦型ウエハ処理治具 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31991596A JP3761646B2 (ja) | 1996-11-29 | 1996-11-29 | 縦型ウエハ処理治具 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10163121A JPH10163121A (ja) | 1998-06-19 |
JP3761646B2 true JP3761646B2 (ja) | 2006-03-29 |
Family
ID=18115660
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31991596A Expired - Fee Related JP3761646B2 (ja) | 1996-11-29 | 1996-11-29 | 縦型ウエハ処理治具 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3761646B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006128316A (ja) * | 2004-10-27 | 2006-05-18 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 熱処理用縦型ボートおよび熱処理方法 |
JP2007273673A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Covalent Materials Corp | 縦型ウエハボート |
-
1996
- 1996-11-29 JP JP31991596A patent/JP3761646B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10163121A (ja) | 1998-06-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041020 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050712 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050908 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20050908 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051028 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051111 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060105 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060111 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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