JP3739424B2 - プラスチックス基板付き積層シート、基板処理方法、および、液晶セルまたは表示装置の製造法 - Google Patents
プラスチックス基板付き積層シート、基板処理方法、および、液晶セルまたは表示装置の製造法 Download PDFInfo
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、透明電極を有するプラスチックス基板を粘着性層を介してガラス板上に貼着した状態で、そのプラスチックス基板に対するレジスト形成処理、エッチング処理、洗浄処理、配向膜の形成、ラビング処理、シール形成、圧着、乾燥・熱処理などの液晶セル組立工程のための各種処理を行い、さらには処理後に粘着性層の粘着力を喪失または著減させる方法に関するものである。また、そのような方法で各種処理を行う目的に適したプラスチックス基板付き積層シートに関するものである。さらには、液晶セルまたは表示装置の製造法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示パネル用電極基板（つまり液晶セルの基板）としては、従来はガラスが用いられていたが、重量が大であること、薄型にできないこと、破損しやすいこと、量産化しにくいことなどの問題点があるため、最近ではプラスチックス基板が普及してきている。本出願人の一人においても、次に列挙するような特許出願を行っている。
【０００３】
特開昭６３−７１８２９号公報には、光等方性基材シート層の少なくとも片面にアンカーコート層を介して耐透気性樹脂層を設け、さらに該耐透気性樹脂層上に架橋性樹脂硬化物層を設けた構成の液晶表示パネル用電極基板が示されている。
【０００４】
特開昭６４−５００２１号公報には、耐透気性樹脂層／架橋性樹脂硬化物層からなる積層フィルムの２枚を、耐透気性樹脂層同士が対向する状態で接着剤層を介して積層一体化した液晶表示パネル用電極基板が示されている。
【０００５】
特開昭６４−５００２２号公報には、耐熱性合成樹脂フィルムの表面に耐透気性樹脂の溶液または分散液を流延したのち乾燥して耐透気性合成樹脂フィルム層を形成させ、さらにその上から架橋性樹脂組成物の溶液または分散液を流延したのち硬化させて架橋性樹脂硬化物層を形成させ、ついで耐熱性合成樹脂フィルムから耐透気性合成樹脂フィルム層と架橋性樹脂硬化物層との積層体を剥離すると共に、該積層体の耐透気性合成樹脂フィルム層の側の面に架橋性樹脂組成物の溶液または分散液を流延したのち硬化させて架橋性樹脂硬化物層を形成させることにより、架橋性樹脂硬化物層／耐透気性樹脂層／架橋性樹脂硬化物層の構成を有する液晶表示パネル用電極基板を得ることが示されている。
【０００６】
特開平４−１５９５１８号公報には、光等方性基材シート層(1) の少なくとも片面に流延法による耐透気性樹脂層が設けられ、さらに該耐透気性樹脂層上に流延法による架橋性樹脂硬化物層が設けられた単位積層シートの２枚またはそれ以上を、架橋性樹脂硬化物層が両最外層となるように接着剤層を介して貼着した構成を有する液晶表示パネル用電極基板が示されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
液晶表示パネルはここ数年で驚くほど進展しており、しかも年々大型化の趨勢にある。
液晶表示パネル用の電極基板としては、全体では依然としてガラス基板が主流となっているが、しだいにプラスチックス基板に置き換えられつつあり、特に最近普及しはじめている電子手帳、ペン入力タイプコンピュータ、携帯電話などの携帯用機器の場合には、破損防止および軽量化の観点からプラスチックス基板が有利であると見られている。
【０００８】
プラスチックス基板を用いた場合は、基板の大型化に対応して厚手のプラスチックス基板にすることが要求される。というのは、薄手のプラスチックス基板は手で触れたときの変形がすぐには戻らないため手で触れた個所に液晶リングを生じたり、液晶セルのカールなどを生ずるという問題点があるからである。厚手のプラスチックス基板にすることは、上記の問題点を解決すると共に、ガラス基板を用いた従来の液晶表示パネルの製造装置や製造工程をそのまま利用できる可能性がある。
【０００９】
ところで、実際の液晶表示パネルの製造工程においては、パターン露光工程ではプラスチックス基板を精度良く平坦に保持する必要があり、ラビング処理においてはプラスチックス基板の表面を擦るために基板を強固に保持する必要がある。しかるに、プラスチックス基板は厚手であってもガラス基板に比べて剛性が不足するので、このような方法をそのままプラスチックス基板に適用すると、精度不良を生じたり、円滑な処理を行いえないという事態に直面する。
【００１０】
そこで本発明者らは、プラスチックス基板をガラス板上に貼着した状態でその基板に対する液晶セル組立工程のための各種処理を行うことを考えたが、処理終了後にガラス板からプラスチックス基板を取り外す操作が容易ではなかった。
【００１１】
本発明は、このような背景下において、透明電極を有するプラスチックス基板をガラス板上に貼着した状態でその基板に対する液晶セル組立工程のための各種処理を行う方法を採用することにより、ガラス基板を用いた従来の液晶表示パネルの製造装置や製造工程をそのまま利用することができる上、処理後のプラスチックス基板の取り外しが極めて容易であるプラスチックス基板の処理方法を提供すること、またそのような方法で処理を行う目的に適したプラスチックス基板付き積層シートを提供すること、さらには、液晶セルまたは表示装置の製造法を提供することを目的とするものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明のプラスチックス基板付き積層シートは、透明電極(e) を有するプラスチックス基板(1) の透明電極(e) 非設置側の面に、活性エネルギー線の照射操作、加熱操作または冷却操作から選ばれた後操作により粘着力が喪失または著減する性質を有する粘着性層(2) を介して、剥離性シート(3) を積層した構造を有するものである。
【００１３】
本発明の基板処理方法は、上記のプラスチックス基板付き積層シートから剥離性シート(3) を剥離除去し、残余の層を粘着性層(2) 側がガラス板(4) 側となるようにして該ガラス板(4) に貼着した状態で、プラスチックス基板(1) に対し各種処理を行うことを特徴とするものである。
【００１４】
処理終了後は、活性エネルギー線の照射操作、加熱操作または冷却操作から選ばれる後操作を行い、粘着性層(2) の粘着力を喪失または著減させる。
【００１５】
本発明の液晶セルの製造法は、液晶セルの製造法であって、
一方の面に透明電極 (e) が設けられかつ他方の面に後操作により粘着力が喪失または著減する性質を有する粘着性層(2) が設けられたプラスチックス基板(1) を、前記粘着性層(2) 側がガラス板(4) 側となるようにして該ガラス板(4) に貼着する工程と、
前記プラスチックス基板(1) の前記粘着性層(2) 側とは反対側である一方の面側に対して、レジスト形成処理、エッチング処理、洗浄処理、配向膜の形成、ラビング処理、並びにシール形成、圧着および乾燥・熱処理からなる群より選ばれる処理を行う工程と、
活性エネルギー線の照射操作、加熱操作または冷却操作から選ばれる前記粘着性層(2) の粘着力を喪失または著減させる後操作を行い、前記ガラス板(4) から前記プラスチックス基板(1) を剥離する工程
とを具備することを特徴とするものである。
【００１６】
本発明の表示装置の製造法は、表示装置の製造法であって、
一方の面に透明電極(e) が設けられかつ他方の面に後操作により粘着力が喪失または著減する性質を有する粘着性層(2) が設けられたプラスチックス基板(1) を、前記粘着性層(2) を介してガラス板(4) に貼着する工程と、
前記プラスチックス基板(1) の一方の面側に対して各種処理を行う工程と、
活性エネルギー線の照射操作、加熱操作または冷却操作から選ばれる前記粘着性層(2) の粘着力を喪失または著減させる後操作を行い、前記ガラス板(4) から前記プラスチックス基板(1) を剥離する工程
とを具備することを特徴とするものである。
【００１７】
以下本発明を詳細に説明する。
【００１８】
〈プラスチックス基板付き積層シート〉
プラスチックス基板(1) としては、少なくとも１層の耐透気性層(1a)と少なくとも１層の架橋性樹脂硬化物層(1b)とを有するもの、たとえば、耐透気性層(1a)／架橋性樹脂硬化物層(1b)、耐透気性層(1a)／架橋性樹脂硬化物層(1b)／耐透気性層(1a)、架橋性樹脂硬化物層(1b)／耐透気性層(1a)／光等方性基材シート層／耐透気性層(1a)／架橋性樹脂硬化物層(1b)、架橋性樹脂硬化物層(1b)／耐透気性層(1a)／架橋性樹脂硬化物層(1b)、架橋性樹脂硬化物層(1b)／耐透気性層(1a)／耐透気性層(1a)／架橋性樹脂硬化物層(1b)などの層構成を有するものが好適に用いられるが、これらに限らず単層または複層の種々のプラスチックス基板を用いることができる。プラスチックス基板(1) にはＩＴＯなどの透明電極(e) を形成させておく。またプラスチックス基板(1) は、偏光板一体型基板や位相板一体型基板であってもよい。
【００１９】
上記において耐透気性層(1a)としては、ビニルアルコール系樹脂（殊にエチレン−ビニルアルコール共重合体）、アクリロニトリル系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂、ポリアミド系樹脂などの樹脂層や、ＳｉＯ2 、ＳｉＯｘ（１＜ｘ＜２）、Ａl2Ｏ3 、Ｆe2Ｏ3 、ＭｇＣＯ3 、ＣｅＯ2 、ＺｎＯ、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＩＴＯ、ＢａＴｉＯ3 、ＬｉＮｂＯ3 、ＫＴａＯ3 、ＰｂＯ、アルミン酸カルシウム、ガラスなど、あるいはこれらの混合物などの透明無機層があげられる。透明無機層の形成は、真空蒸着法、スパッタリング法等の真空薄膜形成法、金属アルコキシド、水ガラス等を原料とするコーティング法などによりなされる。
【００２０】
架橋性樹脂硬化物層(1b)としては、加熱硬化型樹脂や活性エネルギー線硬化型樹脂（紫外線硬化型樹脂や電子線硬化型樹脂）を用いて形成した硬化物層があげられる。
【００２１】
このうち加熱硬化型樹脂としては、フェノキシエーテル型架橋性樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、アクリルエポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂などの加熱硬化型樹脂があげられ、特にフェノキシエーテル型架橋性樹脂が重要である。この場合、イソシアネート基、カルボキシル基、メルカプト基など活性水素と反応しうる架橋剤を配合することが望ましい。
【００２２】
活性エネルギー線硬化型樹脂のうち紫外線硬化型樹脂としては、光重合性を有するプレポリマーまたは／およびモノマーに、必要に応じ他の単官能または多官能性モノマー、各種ポリマー、光重合開始剤（アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインエーテル、ベンジルケタール類、チオキサントン類等）、増感剤（アミン類、ジエチルアミノエチルメタクリレート等）などを配合した樹脂組成物が用いられる。ここで光重合性プレポリマーとしては、ポリエステルアクリレート、ポリエステルウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリオールアクリレートなどが例示され、光重合性モノマーとしては、単官能アクリレート、２官能アクリレート、３官能以上のアクリレートなどが例示される。光重合性を有するプレポリマーまたはモノマーとしては、上記のほか、ホスファゼン系樹脂も用いられる。電子線硬化型樹脂としても同様の組成のものが用いられるが、光重合開始剤や増感剤は添加するには及ばない。
【００２３】
光等方性基材シート層としては、たとえば、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィン、セルロース系高分子などの層があげられる。
【００２４】
プラスチックス基板(1) の厚みは、１０μm 程度の極めて薄いものから２０００μm あるいはそれ以上というように極めて厚いものまで任意に設定することができるが、特に厚手のシートである場合に、ガラス基板を用いた従来の液晶表示パネルの製造装置や製造工程をそのまま利用できるという利点がある。
【００２５】
粘着性層(2) としては、活性エネルギー線（紫外線や電子線）照射や加熱操作、あるいは場合によっては冷却操作から選ばれる後操作により、粘着力が喪失または著減する性質を有する層が用いられる。後操作前の粘着力は過大である必要はなく、たとえば１００〜５００g/inch程度で充分である。
【００２６】
活性エネルギー線照射や加熱操作は、三次元架橋を進めることにより粘着性層(2) の凝集力を高めて粘着力を弱めるための手段である。冷却操作は、ポリマーをガラス転移点以下にもたらして粘着性層(2) の粘着力を弱めるための手段である。
【００２７】
剥離性シート(3) としては、プラスチックスフィルム（場合により紙）にシリコーン系剥離剤などの剥離剤を塗布・定着させたもの、それ自身が剥離性を有するシート、剥離剤を内添して成形したプラスチックスシート、オルガノポリシロキサンとポリオレフィン系樹脂とをグラフト共重合させたプラスチックスシートなどが用いられる。
【００２８】
本発明のプラスチックス基板付き積層シートは、上記のプラスチックス基板(1) の透明電極(e) 非設置側の面に、上記の粘着性層(2) を介して剥離性シート(3) を積層した構造を有する。
【００２９】
この場合、プラスチックス基板(1) 側に粘着性層(2) を形成してから剥離性シート(3) を積層することも可能であるが、剥離性シート(3) 側に粘着性層(2) を形成してからプラスチックス基板(1) を積層する方がより一般的である。得られたプラスチックス基板付き積層シートから剥離性シート(3) を剥離すると、粘着性層(2) はプラスチックス基板(1) 側に転写する。
【００３０】
〈基板処理方法〉
基板の処理に際しては、上記のプラスチックス基板付き積層シートから剥離性シート(3) を剥離除去し、残余の層を粘着性層(2) 側がガラス板(4) 側となるようにして該ガラス板(4) に貼着した状態で、プラスチックス基板(1) に対し各種処理を行う。各種処理とは、レジスト形成処理、エッチング処理、洗浄処理、配向膜の形成、ラビング処理、並びにシール形成、圧着および乾燥・熱処理などのセル組立工程のための処理である。
【００３１】
処理終了後は、活性エネルギー線（紫外線や電子線）の照射操作、加熱操作または冷却操作から選ばれる後操作により、粘着性層(2) の粘着力を喪失または著減させる。
【００３２】
後操作終了後はガラス板(4) からプラスチックス基板(1) を剥離するが、その剥離時には、後操作後の粘着性層(2) が、
（イ）ガラス板(4) 側に付着するか、
（ロ）プラスチックス基板(1) 側に付着するか、
（ハ）プラスチックス基板(1) およびガラス板(4) のいずれにも付着しないか、のいずれかになるようにする。
【００３３】
上記（イ）または（ロ）にあっても、最終的にはプラスチックス基板(1) またはガラス板(4) から、機械的手段、洗浄操作、吸引手段などにより、後操作後の粘着性層(2) を除去する。ただし上記（ロ）においては、後操作後の粘着性層(2) をそのまま残し、耐スクラッチ層、耐熱性層、ガスバリヤー層などの役割を果たさせることもできる。
【００３４】
〈液晶セルの製造法〉
液晶セルの製造は、
一方の面に透明電極 (e) が設けられかつ他方の面に後操作により粘着力が喪失または著減する性質を有する粘着性層(2) が設けられたプラスチックス基板(1) を、前記粘着性層(2) 側がガラス板(4) 側となるようにして該ガラス板(4) に貼着する工程と、
前記プラスチックス基板(1) の前記粘着性層(2) 側とは反対側である一方の面側に対して、レジスト形成処理、エッチング処理、洗浄処理、配向膜の形成、ラビング処理、並びにシール形成、圧着および乾燥・熱処理からなる群より選ばれる処理を行う工程と、
活性エネルギー線の照射操作、加熱操作または冷却操作から選ばれる前記粘着性層(2) の粘着力を喪失または著減させる後操作を行い、前記ガラス板(4) から前記プラスチックス基板(1) を剥離する工程
とを実施することによりなされる。
【００３５】
〈表示装置の製造法〉
表示装置の製造は、
一方の面に透明電極(e) が設けられかつ他方の面に後操作により粘着力が喪失または著減する性質を有する粘着性層(2) が設けられたプラスチックス基板(1) を、前記粘着性層(2) を介してガラス板(4) に貼着する工程と、
前記プラスチックス基板(1) の一方の面側に対して各種処理を行う工程と、
活性エネルギー線の照射操作、加熱操作または冷却操作から選ばれる前記粘着性層(2) の粘着力を喪失または著減させる後操作を行い、前記ガラス板(4) から前記プラスチックス基板(1) を剥離する工程
とを実施することによりなされる。
【００３６】
〈用途〉
上に述べた本発明のプラスチックス基板付き積層シートおよび基板処理方法は、小型または中型はもとより、大型のＴＮ、ＳＴＮ液晶用の液晶セルの作製にも対処しうる。そのほか、各種の記録装置（光カード、光ディスク等）、表示装置（高分子液晶表示基板等）などにも適用できる。
【００３７】
【作用】
本発明のプラスチックス基板付き積層シートは、典型的には、透明電極(e) ／プラスチックス基板(1) ／粘着性層(2) ／剥離性シート(3) の層構成を有する。このプラスチックス基板付き積層シート取り扱いは次の手順に従って行われる。なお、液晶セル作製のためのシール形成、圧着、乾燥・熱処理などの処理は、ガラス板(4) からのプラスチックス基板(1) の分離の前に行うことが多いが、その分離の後に行うこともできる。
・プラスチックス基板付き積層シート
(e)/(1)/(2)/(3)
・剥離性シート(3) の剥離除去
(e)/(1)/(2)
・残余の層のガラス板(4) への貼着
(e)/(1)/(2)/(4)
・プラスチックス基板(1) に対する各種処理の実行
(e)/(1)/(2)/(4)
・後操作による粘着性層(2) の粘着力の喪失または著減
(e)/(1)/(2)/(4)
・ガラス板(4) からのプラスチックス基板(1) の分離
(e)/(1)/(2) + (4) 、
(e)/(1) + (2)/(4) 、または、
(e)/(1) + (2) + (4)
【００３８】
プラスチックス基板(1) に対するラビング処理等の処理の実行は、プラスチックス基板(1) が粘着性層(2) を介してガラス板(4) に貼着されているためプラスチックス基板(1) が撓みを生ずることがないので、ガラス基板を用いた従来の液晶表示パネルの製造装置や製造工程をそのまま利用できる。
【００３９】
そして処理終了後は、活性エネルギー線の照射操作、加熱操作または冷却操作から選ばれた後操作により粘着性層(2) の粘着力を喪失または著減させることができるので、処理後のプラスチックス基板(1) をガラス板(4) から容易に剥離することができる。
【００４０】
【実施例】
次に実施例をあげて本発明をさらに説明する。
【００４１】
実施例１
図１は、本発明のプラスチックス基板付き積層シートおよび基板処理方法の一例を示した説明図である。
【００４２】
架橋性樹脂硬化物層(1b)／耐透気性層(1a)／架橋性樹脂硬化物層(1b)の層構成を有する厚み１０８μm の長尺のプラスチックス基板(1) を準備すると共に、その片面にＩＴＯ層からなる厚み２０００オングストロームの透明電極(e) をスパッタリング法により形成させた。透明電極(e) の密着性は極めて良好であった。なお、耐透気性層(1a)としては厚み８μm の架橋化されたエチレン−ビニルアルコール共重合体層を用い、架橋性樹脂硬化物層(1b), (1b)としては、厚み各５０μm のポリイソシアネート化合物配合エポキシアクリレート系紫外線硬化型樹脂硬化物層を用いた。
【００４３】
シリコーン化合物による離型性加工を行った厚み３８μm の長尺のポリエステルフィルムからなる剥離性シート(3) の離型面に、紫外線照射により粘着力が著減する性質を有するアクリル系樹脂溶液（帝国化学産業株式会社製の「ＴＵＲ−１０４０」、固形分７０重量％、溶剤はトルエン）をコーティングした後、８０℃で５分間乾燥して、厚み２０μm の粘着性層(2) を形成させた。
【００４４】
このようにして作製した粘着性層(2) 付き剥離性シート(3) を繰り出しながら、その粘着性層(2) 側の面に、上記で準備した透明電極(e) 付きプラスチックス基板(1) を繰り出しながらその透明電極(e) 非設置側を重ね合わせ、ロール間を通して軽く圧着し、ついで３００mm×３００mmの寸法に裁断した。これにより、(e)/(1)/(2)/(3) の層構成を有するプラスチックス基板付き積層シートが得られた。
【００４５】
この積層シートから剥離性シート(3) を剥離除去すると共に、残余の層を厚み 1.7mmのガラス板(4) へ貼着して(e)/(1)/(2)/(4) の層構成とした。このときのプラスチックス基板層(1) とガラス板(4) との間の接着力は３００g/inchであった。
【００４６】
ガラス基板の液晶セル作製用の処理設備をそのまま使用して、プラスチックス基板(1) の透明電極(e) 側に対するフォトレジスト膜の形成、所定パターンの露光・現像、透明電極(e) のエッチング、残存フォトレジストの除去、配向膜の形成、ラビング処理などの一連の処理を、従来のガラス基板に対する常法に従って実行した。
【００４７】
処理終了後、ガラス板(4) 側から、後操作の一例としての紫外線照射を行ったところ、粘着性層(2) の粘着力が著減したので、ガラス板(4) から処理後のプラスチックス基板(1) を剥離した。剥離強度は２０g/inchであり、後処理後の粘着性層(2) はガラス板(4) 側に付着した。
【００４８】
実施例２
シリコーン化合物による離型性加工を行った厚み３８μm のポリエステルフィルムからなる剥離性シート(3) の離型面に、紫外線照射により粘着力が著減する性質を有するアクリル系樹脂溶液（帝国化学産業株式会社製の「ＴＵＲ−１２１２」、固形分６０重量％、溶剤はトルエン）をコーティングした後、８０℃で５分間乾燥して、厚み２５μm の粘着性層(2) を形成させた。
【００４９】
このようにして作製した粘着性層(2) 付き剥離性シート(3) を用いたほかは、実施例１を繰り返してプラスチックス基板付き積層シートを得た。
【００５０】
この積層シートから剥離性シート(3) を剥離除去すると共に、残余の層を厚み 1.2mmのガラス板(4) へ貼着して(e)/(1)/(2)/(4) の層構成とした。このときのプラスチックス基板層(1) とガラス板(4) との間の接着力は３５０g/inchであった。
【００５１】
ガラス基板の液晶セル作製用の処理設備をそのまま使用して、プラスチックス基板(1) の透明電極(e) 側に対するフォトレジスト膜の形成、所定パターンの露光・現像、透明電極(e) のエッチング、残存フォトレジストの除去、配向膜の形成、ラビング処理などの一連の処理を、従来のガラス基板に対する常法に従って実行した。
【００５２】
処理終了後、ガラス板(4) 側から、後操作の一例としての紫外線照射を行ったところ、粘着性層(2) の粘着力が著減したので、ガラス板(4) から処理後のプラスチックス基板(1) を剥離した。剥離強度は１０g/inchであり、後処理の粘着性層(2) はガラス板(4) 側に付着した。
【００５３】
実施例３
加熱により粘着力を喪失するアクリル系樹脂溶液を用いて、厚み３８μm のポリエステルフィルムからなる剥離性シート(3) の離型面に厚み２５μm の粘着性層(2) を形成させた。
【００５４】
以下、実施例１と同様にして(e)/(1)/(2)/(3) の層構成を有するプラスチックス基板付き積層シートを得た後、剥離性シート(3) を剥離除去し、ガラス板(4) へ貼着して(e)/(1)/(2)/(4) の層構成とした。このときのプラスチックス基板層(1) とガラス板(4) との間の接着力は３８０g/inchであった。
【００５５】
ガラス基板の液晶セル作製用の処理設備をそのまま使用して、プラスチックス基板(1) の透明電極(e) 側に対するフォトレジスト膜の形成、所定パターンの露光・現像、透明電極(e) のエッチング、残存フォトレジストの除去、配向膜の形成、ラビング処理などの一連の処理を、従来のガラス基板に対する常法に従って実行した。
【００５６】
処理終了後、後操作の一例としての加熱操作を行ったところ、粘着性層(2) の粘着力が喪失したので、ガラス板(4) から処理後のプラスチックス基板(1) を剥離した。剥離強度はほぼゼロであった。
【００５７】
【発明の効果】
本発明によれば、プラスチックス基板をガラス板上に貼着した状態でその基板に対するラビング処理などの処理を行う方法を採用しているので、ガラス基板を用いた従来の液晶表示パネルの製造装置や製造工程をそのまま利用できる。そして、処理後のプラスチックス基板の取り外しも極めて容易である。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明のプラスチックス基板付き積層シートおよび基板処理方法の一例を示した説明図である。
【符号の説明】
(1) …プラスチックス基板、
(1a)…耐透気性層、(1b)…架橋性樹脂硬化物層、
(2) …粘着性層、
(3) …剥離性シート、
(4) …ガラス板、
(e) …透明電極
【産業上の利用分野】
本発明は、透明電極を有するプラスチックス基板を粘着性層を介してガラス板上に貼着した状態で、そのプラスチックス基板に対するレジスト形成処理、エッチング処理、洗浄処理、配向膜の形成、ラビング処理、シール形成、圧着、乾燥・熱処理などの液晶セル組立工程のための各種処理を行い、さらには処理後に粘着性層の粘着力を喪失または著減させる方法に関するものである。また、そのような方法で各種処理を行う目的に適したプラスチックス基板付き積層シートに関するものである。さらには、液晶セルまたは表示装置の製造法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示パネル用電極基板（つまり液晶セルの基板）としては、従来はガラスが用いられていたが、重量が大であること、薄型にできないこと、破損しやすいこと、量産化しにくいことなどの問題点があるため、最近ではプラスチックス基板が普及してきている。本出願人の一人においても、次に列挙するような特許出願を行っている。
【０００３】
特開昭６３−７１８２９号公報には、光等方性基材シート層の少なくとも片面にアンカーコート層を介して耐透気性樹脂層を設け、さらに該耐透気性樹脂層上に架橋性樹脂硬化物層を設けた構成の液晶表示パネル用電極基板が示されている。
【０００４】
特開昭６４−５００２１号公報には、耐透気性樹脂層／架橋性樹脂硬化物層からなる積層フィルムの２枚を、耐透気性樹脂層同士が対向する状態で接着剤層を介して積層一体化した液晶表示パネル用電極基板が示されている。
【０００５】
特開昭６４−５００２２号公報には、耐熱性合成樹脂フィルムの表面に耐透気性樹脂の溶液または分散液を流延したのち乾燥して耐透気性合成樹脂フィルム層を形成させ、さらにその上から架橋性樹脂組成物の溶液または分散液を流延したのち硬化させて架橋性樹脂硬化物層を形成させ、ついで耐熱性合成樹脂フィルムから耐透気性合成樹脂フィルム層と架橋性樹脂硬化物層との積層体を剥離すると共に、該積層体の耐透気性合成樹脂フィルム層の側の面に架橋性樹脂組成物の溶液または分散液を流延したのち硬化させて架橋性樹脂硬化物層を形成させることにより、架橋性樹脂硬化物層／耐透気性樹脂層／架橋性樹脂硬化物層の構成を有する液晶表示パネル用電極基板を得ることが示されている。
【０００６】
特開平４−１５９５１８号公報には、光等方性基材シート層(1) の少なくとも片面に流延法による耐透気性樹脂層が設けられ、さらに該耐透気性樹脂層上に流延法による架橋性樹脂硬化物層が設けられた単位積層シートの２枚またはそれ以上を、架橋性樹脂硬化物層が両最外層となるように接着剤層を介して貼着した構成を有する液晶表示パネル用電極基板が示されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
液晶表示パネルはここ数年で驚くほど進展しており、しかも年々大型化の趨勢にある。
液晶表示パネル用の電極基板としては、全体では依然としてガラス基板が主流となっているが、しだいにプラスチックス基板に置き換えられつつあり、特に最近普及しはじめている電子手帳、ペン入力タイプコンピュータ、携帯電話などの携帯用機器の場合には、破損防止および軽量化の観点からプラスチックス基板が有利であると見られている。
【０００８】
プラスチックス基板を用いた場合は、基板の大型化に対応して厚手のプラスチックス基板にすることが要求される。というのは、薄手のプラスチックス基板は手で触れたときの変形がすぐには戻らないため手で触れた個所に液晶リングを生じたり、液晶セルのカールなどを生ずるという問題点があるからである。厚手のプラスチックス基板にすることは、上記の問題点を解決すると共に、ガラス基板を用いた従来の液晶表示パネルの製造装置や製造工程をそのまま利用できる可能性がある。
【０００９】
ところで、実際の液晶表示パネルの製造工程においては、パターン露光工程ではプラスチックス基板を精度良く平坦に保持する必要があり、ラビング処理においてはプラスチックス基板の表面を擦るために基板を強固に保持する必要がある。しかるに、プラスチックス基板は厚手であってもガラス基板に比べて剛性が不足するので、このような方法をそのままプラスチックス基板に適用すると、精度不良を生じたり、円滑な処理を行いえないという事態に直面する。
【００１０】
そこで本発明者らは、プラスチックス基板をガラス板上に貼着した状態でその基板に対する液晶セル組立工程のための各種処理を行うことを考えたが、処理終了後にガラス板からプラスチックス基板を取り外す操作が容易ではなかった。
【００１１】
本発明は、このような背景下において、透明電極を有するプラスチックス基板をガラス板上に貼着した状態でその基板に対する液晶セル組立工程のための各種処理を行う方法を採用することにより、ガラス基板を用いた従来の液晶表示パネルの製造装置や製造工程をそのまま利用することができる上、処理後のプラスチックス基板の取り外しが極めて容易であるプラスチックス基板の処理方法を提供すること、またそのような方法で処理を行う目的に適したプラスチックス基板付き積層シートを提供すること、さらには、液晶セルまたは表示装置の製造法を提供することを目的とするものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明のプラスチックス基板付き積層シートは、透明電極(e) を有するプラスチックス基板(1) の透明電極(e) 非設置側の面に、活性エネルギー線の照射操作、加熱操作または冷却操作から選ばれた後操作により粘着力が喪失または著減する性質を有する粘着性層(2) を介して、剥離性シート(3) を積層した構造を有するものである。
【００１３】
本発明の基板処理方法は、上記のプラスチックス基板付き積層シートから剥離性シート(3) を剥離除去し、残余の層を粘着性層(2) 側がガラス板(4) 側となるようにして該ガラス板(4) に貼着した状態で、プラスチックス基板(1) に対し各種処理を行うことを特徴とするものである。
【００１４】
処理終了後は、活性エネルギー線の照射操作、加熱操作または冷却操作から選ばれる後操作を行い、粘着性層(2) の粘着力を喪失または著減させる。
【００１５】
本発明の液晶セルの製造法は、液晶セルの製造法であって、
一方の面に透明電極 (e) が設けられかつ他方の面に後操作により粘着力が喪失または著減する性質を有する粘着性層(2) が設けられたプラスチックス基板(1) を、前記粘着性層(2) 側がガラス板(4) 側となるようにして該ガラス板(4) に貼着する工程と、
前記プラスチックス基板(1) の前記粘着性層(2) 側とは反対側である一方の面側に対して、レジスト形成処理、エッチング処理、洗浄処理、配向膜の形成、ラビング処理、並びにシール形成、圧着および乾燥・熱処理からなる群より選ばれる処理を行う工程と、
活性エネルギー線の照射操作、加熱操作または冷却操作から選ばれる前記粘着性層(2) の粘着力を喪失または著減させる後操作を行い、前記ガラス板(4) から前記プラスチックス基板(1) を剥離する工程
とを具備することを特徴とするものである。
【００１６】
本発明の表示装置の製造法は、表示装置の製造法であって、
一方の面に透明電極(e) が設けられかつ他方の面に後操作により粘着力が喪失または著減する性質を有する粘着性層(2) が設けられたプラスチックス基板(1) を、前記粘着性層(2) を介してガラス板(4) に貼着する工程と、
前記プラスチックス基板(1) の一方の面側に対して各種処理を行う工程と、
活性エネルギー線の照射操作、加熱操作または冷却操作から選ばれる前記粘着性層(2) の粘着力を喪失または著減させる後操作を行い、前記ガラス板(4) から前記プラスチックス基板(1) を剥離する工程
とを具備することを特徴とするものである。
【００１７】
以下本発明を詳細に説明する。
【００１８】
〈プラスチックス基板付き積層シート〉
プラスチックス基板(1) としては、少なくとも１層の耐透気性層(1a)と少なくとも１層の架橋性樹脂硬化物層(1b)とを有するもの、たとえば、耐透気性層(1a)／架橋性樹脂硬化物層(1b)、耐透気性層(1a)／架橋性樹脂硬化物層(1b)／耐透気性層(1a)、架橋性樹脂硬化物層(1b)／耐透気性層(1a)／光等方性基材シート層／耐透気性層(1a)／架橋性樹脂硬化物層(1b)、架橋性樹脂硬化物層(1b)／耐透気性層(1a)／架橋性樹脂硬化物層(1b)、架橋性樹脂硬化物層(1b)／耐透気性層(1a)／耐透気性層(1a)／架橋性樹脂硬化物層(1b)などの層構成を有するものが好適に用いられるが、これらに限らず単層または複層の種々のプラスチックス基板を用いることができる。プラスチックス基板(1) にはＩＴＯなどの透明電極(e) を形成させておく。またプラスチックス基板(1) は、偏光板一体型基板や位相板一体型基板であってもよい。
【００１９】
上記において耐透気性層(1a)としては、ビニルアルコール系樹脂（殊にエチレン−ビニルアルコール共重合体）、アクリロニトリル系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂、ポリアミド系樹脂などの樹脂層や、ＳｉＯ2 、ＳｉＯｘ（１＜ｘ＜２）、Ａl2Ｏ3 、Ｆe2Ｏ3 、ＭｇＣＯ3 、ＣｅＯ2 、ＺｎＯ、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＩＴＯ、ＢａＴｉＯ3 、ＬｉＮｂＯ3 、ＫＴａＯ3 、ＰｂＯ、アルミン酸カルシウム、ガラスなど、あるいはこれらの混合物などの透明無機層があげられる。透明無機層の形成は、真空蒸着法、スパッタリング法等の真空薄膜形成法、金属アルコキシド、水ガラス等を原料とするコーティング法などによりなされる。
【００２０】
架橋性樹脂硬化物層(1b)としては、加熱硬化型樹脂や活性エネルギー線硬化型樹脂（紫外線硬化型樹脂や電子線硬化型樹脂）を用いて形成した硬化物層があげられる。
【００２１】
このうち加熱硬化型樹脂としては、フェノキシエーテル型架橋性樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、アクリルエポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂などの加熱硬化型樹脂があげられ、特にフェノキシエーテル型架橋性樹脂が重要である。この場合、イソシアネート基、カルボキシル基、メルカプト基など活性水素と反応しうる架橋剤を配合することが望ましい。
【００２２】
活性エネルギー線硬化型樹脂のうち紫外線硬化型樹脂としては、光重合性を有するプレポリマーまたは／およびモノマーに、必要に応じ他の単官能または多官能性モノマー、各種ポリマー、光重合開始剤（アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインエーテル、ベンジルケタール類、チオキサントン類等）、増感剤（アミン類、ジエチルアミノエチルメタクリレート等）などを配合した樹脂組成物が用いられる。ここで光重合性プレポリマーとしては、ポリエステルアクリレート、ポリエステルウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリオールアクリレートなどが例示され、光重合性モノマーとしては、単官能アクリレート、２官能アクリレート、３官能以上のアクリレートなどが例示される。光重合性を有するプレポリマーまたはモノマーとしては、上記のほか、ホスファゼン系樹脂も用いられる。電子線硬化型樹脂としても同様の組成のものが用いられるが、光重合開始剤や増感剤は添加するには及ばない。
【００２３】
光等方性基材シート層としては、たとえば、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィン、セルロース系高分子などの層があげられる。
【００２４】
プラスチックス基板(1) の厚みは、１０μm 程度の極めて薄いものから２０００μm あるいはそれ以上というように極めて厚いものまで任意に設定することができるが、特に厚手のシートである場合に、ガラス基板を用いた従来の液晶表示パネルの製造装置や製造工程をそのまま利用できるという利点がある。
【００２５】
粘着性層(2) としては、活性エネルギー線（紫外線や電子線）照射や加熱操作、あるいは場合によっては冷却操作から選ばれる後操作により、粘着力が喪失または著減する性質を有する層が用いられる。後操作前の粘着力は過大である必要はなく、たとえば１００〜５００g/inch程度で充分である。
【００２６】
活性エネルギー線照射や加熱操作は、三次元架橋を進めることにより粘着性層(2) の凝集力を高めて粘着力を弱めるための手段である。冷却操作は、ポリマーをガラス転移点以下にもたらして粘着性層(2) の粘着力を弱めるための手段である。
【００２７】
剥離性シート(3) としては、プラスチックスフィルム（場合により紙）にシリコーン系剥離剤などの剥離剤を塗布・定着させたもの、それ自身が剥離性を有するシート、剥離剤を内添して成形したプラスチックスシート、オルガノポリシロキサンとポリオレフィン系樹脂とをグラフト共重合させたプラスチックスシートなどが用いられる。
【００２８】
本発明のプラスチックス基板付き積層シートは、上記のプラスチックス基板(1) の透明電極(e) 非設置側の面に、上記の粘着性層(2) を介して剥離性シート(3) を積層した構造を有する。
【００２９】
この場合、プラスチックス基板(1) 側に粘着性層(2) を形成してから剥離性シート(3) を積層することも可能であるが、剥離性シート(3) 側に粘着性層(2) を形成してからプラスチックス基板(1) を積層する方がより一般的である。得られたプラスチックス基板付き積層シートから剥離性シート(3) を剥離すると、粘着性層(2) はプラスチックス基板(1) 側に転写する。
【００３０】
〈基板処理方法〉
基板の処理に際しては、上記のプラスチックス基板付き積層シートから剥離性シート(3) を剥離除去し、残余の層を粘着性層(2) 側がガラス板(4) 側となるようにして該ガラス板(4) に貼着した状態で、プラスチックス基板(1) に対し各種処理を行う。各種処理とは、レジスト形成処理、エッチング処理、洗浄処理、配向膜の形成、ラビング処理、並びにシール形成、圧着および乾燥・熱処理などのセル組立工程のための処理である。
【００３１】
処理終了後は、活性エネルギー線（紫外線や電子線）の照射操作、加熱操作または冷却操作から選ばれる後操作により、粘着性層(2) の粘着力を喪失または著減させる。
【００３２】
後操作終了後はガラス板(4) からプラスチックス基板(1) を剥離するが、その剥離時には、後操作後の粘着性層(2) が、
（イ）ガラス板(4) 側に付着するか、
（ロ）プラスチックス基板(1) 側に付着するか、
（ハ）プラスチックス基板(1) およびガラス板(4) のいずれにも付着しないか、のいずれかになるようにする。
【００３３】
上記（イ）または（ロ）にあっても、最終的にはプラスチックス基板(1) またはガラス板(4) から、機械的手段、洗浄操作、吸引手段などにより、後操作後の粘着性層(2) を除去する。ただし上記（ロ）においては、後操作後の粘着性層(2) をそのまま残し、耐スクラッチ層、耐熱性層、ガスバリヤー層などの役割を果たさせることもできる。
【００３４】
〈液晶セルの製造法〉
液晶セルの製造は、
一方の面に透明電極 (e) が設けられかつ他方の面に後操作により粘着力が喪失または著減する性質を有する粘着性層(2) が設けられたプラスチックス基板(1) を、前記粘着性層(2) 側がガラス板(4) 側となるようにして該ガラス板(4) に貼着する工程と、
前記プラスチックス基板(1) の前記粘着性層(2) 側とは反対側である一方の面側に対して、レジスト形成処理、エッチング処理、洗浄処理、配向膜の形成、ラビング処理、並びにシール形成、圧着および乾燥・熱処理からなる群より選ばれる処理を行う工程と、
活性エネルギー線の照射操作、加熱操作または冷却操作から選ばれる前記粘着性層(2) の粘着力を喪失または著減させる後操作を行い、前記ガラス板(4) から前記プラスチックス基板(1) を剥離する工程
とを実施することによりなされる。
【００３５】
〈表示装置の製造法〉
表示装置の製造は、
一方の面に透明電極(e) が設けられかつ他方の面に後操作により粘着力が喪失または著減する性質を有する粘着性層(2) が設けられたプラスチックス基板(1) を、前記粘着性層(2) を介してガラス板(4) に貼着する工程と、
前記プラスチックス基板(1) の一方の面側に対して各種処理を行う工程と、
活性エネルギー線の照射操作、加熱操作または冷却操作から選ばれる前記粘着性層(2) の粘着力を喪失または著減させる後操作を行い、前記ガラス板(4) から前記プラスチックス基板(1) を剥離する工程
とを実施することによりなされる。
【００３６】
〈用途〉
上に述べた本発明のプラスチックス基板付き積層シートおよび基板処理方法は、小型または中型はもとより、大型のＴＮ、ＳＴＮ液晶用の液晶セルの作製にも対処しうる。そのほか、各種の記録装置（光カード、光ディスク等）、表示装置（高分子液晶表示基板等）などにも適用できる。
【００３７】
【作用】
本発明のプラスチックス基板付き積層シートは、典型的には、透明電極(e) ／プラスチックス基板(1) ／粘着性層(2) ／剥離性シート(3) の層構成を有する。このプラスチックス基板付き積層シート取り扱いは次の手順に従って行われる。なお、液晶セル作製のためのシール形成、圧着、乾燥・熱処理などの処理は、ガラス板(4) からのプラスチックス基板(1) の分離の前に行うことが多いが、その分離の後に行うこともできる。
・プラスチックス基板付き積層シート
(e)/(1)/(2)/(3)
・剥離性シート(3) の剥離除去
(e)/(1)/(2)
・残余の層のガラス板(4) への貼着
(e)/(1)/(2)/(4)
・プラスチックス基板(1) に対する各種処理の実行
(e)/(1)/(2)/(4)
・後操作による粘着性層(2) の粘着力の喪失または著減
(e)/(1)/(2)/(4)
・ガラス板(4) からのプラスチックス基板(1) の分離
(e)/(1)/(2) + (4) 、
(e)/(1) + (2)/(4) 、または、
(e)/(1) + (2) + (4)
【００３８】
プラスチックス基板(1) に対するラビング処理等の処理の実行は、プラスチックス基板(1) が粘着性層(2) を介してガラス板(4) に貼着されているためプラスチックス基板(1) が撓みを生ずることがないので、ガラス基板を用いた従来の液晶表示パネルの製造装置や製造工程をそのまま利用できる。
【００３９】
そして処理終了後は、活性エネルギー線の照射操作、加熱操作または冷却操作から選ばれた後操作により粘着性層(2) の粘着力を喪失または著減させることができるので、処理後のプラスチックス基板(1) をガラス板(4) から容易に剥離することができる。
【００４０】
【実施例】
次に実施例をあげて本発明をさらに説明する。
【００４１】
実施例１
図１は、本発明のプラスチックス基板付き積層シートおよび基板処理方法の一例を示した説明図である。
【００４２】
架橋性樹脂硬化物層(1b)／耐透気性層(1a)／架橋性樹脂硬化物層(1b)の層構成を有する厚み１０８μm の長尺のプラスチックス基板(1) を準備すると共に、その片面にＩＴＯ層からなる厚み２０００オングストロームの透明電極(e) をスパッタリング法により形成させた。透明電極(e) の密着性は極めて良好であった。なお、耐透気性層(1a)としては厚み８μm の架橋化されたエチレン−ビニルアルコール共重合体層を用い、架橋性樹脂硬化物層(1b), (1b)としては、厚み各５０μm のポリイソシアネート化合物配合エポキシアクリレート系紫外線硬化型樹脂硬化物層を用いた。
【００４３】
シリコーン化合物による離型性加工を行った厚み３８μm の長尺のポリエステルフィルムからなる剥離性シート(3) の離型面に、紫外線照射により粘着力が著減する性質を有するアクリル系樹脂溶液（帝国化学産業株式会社製の「ＴＵＲ−１０４０」、固形分７０重量％、溶剤はトルエン）をコーティングした後、８０℃で５分間乾燥して、厚み２０μm の粘着性層(2) を形成させた。
【００４４】
このようにして作製した粘着性層(2) 付き剥離性シート(3) を繰り出しながら、その粘着性層(2) 側の面に、上記で準備した透明電極(e) 付きプラスチックス基板(1) を繰り出しながらその透明電極(e) 非設置側を重ね合わせ、ロール間を通して軽く圧着し、ついで３００mm×３００mmの寸法に裁断した。これにより、(e)/(1)/(2)/(3) の層構成を有するプラスチックス基板付き積層シートが得られた。
【００４５】
この積層シートから剥離性シート(3) を剥離除去すると共に、残余の層を厚み 1.7mmのガラス板(4) へ貼着して(e)/(1)/(2)/(4) の層構成とした。このときのプラスチックス基板層(1) とガラス板(4) との間の接着力は３００g/inchであった。
【００４６】
ガラス基板の液晶セル作製用の処理設備をそのまま使用して、プラスチックス基板(1) の透明電極(e) 側に対するフォトレジスト膜の形成、所定パターンの露光・現像、透明電極(e) のエッチング、残存フォトレジストの除去、配向膜の形成、ラビング処理などの一連の処理を、従来のガラス基板に対する常法に従って実行した。
【００４７】
処理終了後、ガラス板(4) 側から、後操作の一例としての紫外線照射を行ったところ、粘着性層(2) の粘着力が著減したので、ガラス板(4) から処理後のプラスチックス基板(1) を剥離した。剥離強度は２０g/inchであり、後処理後の粘着性層(2) はガラス板(4) 側に付着した。
【００４８】
実施例２
シリコーン化合物による離型性加工を行った厚み３８μm のポリエステルフィルムからなる剥離性シート(3) の離型面に、紫外線照射により粘着力が著減する性質を有するアクリル系樹脂溶液（帝国化学産業株式会社製の「ＴＵＲ−１２１２」、固形分６０重量％、溶剤はトルエン）をコーティングした後、８０℃で５分間乾燥して、厚み２５μm の粘着性層(2) を形成させた。
【００４９】
このようにして作製した粘着性層(2) 付き剥離性シート(3) を用いたほかは、実施例１を繰り返してプラスチックス基板付き積層シートを得た。
【００５０】
この積層シートから剥離性シート(3) を剥離除去すると共に、残余の層を厚み 1.2mmのガラス板(4) へ貼着して(e)/(1)/(2)/(4) の層構成とした。このときのプラスチックス基板層(1) とガラス板(4) との間の接着力は３５０g/inchであった。
【００５１】
ガラス基板の液晶セル作製用の処理設備をそのまま使用して、プラスチックス基板(1) の透明電極(e) 側に対するフォトレジスト膜の形成、所定パターンの露光・現像、透明電極(e) のエッチング、残存フォトレジストの除去、配向膜の形成、ラビング処理などの一連の処理を、従来のガラス基板に対する常法に従って実行した。
【００５２】
処理終了後、ガラス板(4) 側から、後操作の一例としての紫外線照射を行ったところ、粘着性層(2) の粘着力が著減したので、ガラス板(4) から処理後のプラスチックス基板(1) を剥離した。剥離強度は１０g/inchであり、後処理の粘着性層(2) はガラス板(4) 側に付着した。
【００５３】
実施例３
加熱により粘着力を喪失するアクリル系樹脂溶液を用いて、厚み３８μm のポリエステルフィルムからなる剥離性シート(3) の離型面に厚み２５μm の粘着性層(2) を形成させた。
【００５４】
以下、実施例１と同様にして(e)/(1)/(2)/(3) の層構成を有するプラスチックス基板付き積層シートを得た後、剥離性シート(3) を剥離除去し、ガラス板(4) へ貼着して(e)/(1)/(2)/(4) の層構成とした。このときのプラスチックス基板層(1) とガラス板(4) との間の接着力は３８０g/inchであった。
【００５５】
ガラス基板の液晶セル作製用の処理設備をそのまま使用して、プラスチックス基板(1) の透明電極(e) 側に対するフォトレジスト膜の形成、所定パターンの露光・現像、透明電極(e) のエッチング、残存フォトレジストの除去、配向膜の形成、ラビング処理などの一連の処理を、従来のガラス基板に対する常法に従って実行した。
【００５６】
処理終了後、後操作の一例としての加熱操作を行ったところ、粘着性層(2) の粘着力が喪失したので、ガラス板(4) から処理後のプラスチックス基板(1) を剥離した。剥離強度はほぼゼロであった。
【００５７】
【発明の効果】
本発明によれば、プラスチックス基板をガラス板上に貼着した状態でその基板に対するラビング処理などの処理を行う方法を採用しているので、ガラス基板を用いた従来の液晶表示パネルの製造装置や製造工程をそのまま利用できる。そして、処理後のプラスチックス基板の取り外しも極めて容易である。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明のプラスチックス基板付き積層シートおよび基板処理方法の一例を示した説明図である。
【符号の説明】
(1) …プラスチックス基板、
(1a)…耐透気性層、(1b)…架橋性樹脂硬化物層、
(2) …粘着性層、
(3) …剥離性シート、
(4) …ガラス板、
(e) …透明電極
Claims (8)
- 透明電極(e) を有するプラスチックス基板(1) の透明電極(e) 非設置側の面に、活性エネルギー線の照射操作、加熱操作または冷却操作から選ばれた後操作により粘着力が喪失または著減する性質を有する粘着性層(2) を介して、剥離性シート(3) を積層した構造を有するプラスチックス基板付き積層シート。
- プラスチックス基板(1) が、液晶セル作製用のプラスチックス基板である請求項１記載のプラスチックス基板付き積層シート。
- プラスチックス基板(1) が、少なくとも１層の耐透気性層(1a)と少なくとも１層の架橋性樹脂硬化物層(1b)とを有する基板である請求項１記載のプラスチックス基板付き積層シート。
- 請求項１のプラスチックス基板付き積層シートから剥離性シート(3) を剥離除去し、残余の層を粘着性層(2) 側がガラス板(4) 側となるようにして該ガラス板(4) に貼着した状態で、プラスチックス基板(1) に対する各種処理を行うことを特徴とする基板処理方法。
- 前記処理終了後、活性エネルギー線の照射操作、加熱操作または冷却操作から選ばれる後操作を行い、粘着性層(2) の粘着力を喪失または著減させることを特徴とする請求項４記載の基板処理方法。
- 前記各種処理は、レジスト形成処理、エッチング処理、洗浄処理、配向膜の形成、ラビング処理、並びにシール形成、圧着および乾燥・熱処理からなる群より選ばれる処理を含むことを特徴とする請求項４記載の基板処理方法。
- 液晶セルの製造法であって、
一方の面に透明電極 (e) が設けられかつ他方の面に後操作により粘着力が喪失または著減する性質を有する粘着性層(2) が設けられたプラスチックス基板(1) を、前記粘着性層(2) 側がガラス板(4) 側となるようにして該ガラス板(4) に貼着する工程と、
前記プラスチックス基板(1) の前記粘着性層(2) 側とは反対側である一方の面側に対して、レジスト形成処理、エッチング処理、洗浄処理、配向膜の形成、ラビング処理、並びにシール形成、圧着および乾燥・熱処理からなる群より選ばれる処理を行う工程と、
活性エネルギー線の照射操作、加熱操作または冷却操作から選ばれる前記粘着性層(2) の粘着力を喪失または著減させる後操作を行い、前記ガラス板(4) から前記プラスチックス基板(1) を剥離する工程
とを具備することを特徴とする液晶セルの製造法。 - 表示装置の製造法であって、
一方の面に透明電極(e) が設けられかつ他方の面に後操作により粘着力が喪失または著減する性質を有する粘着性層(2) が設けられたプラスチックス基板(1) を、前記粘着性層(2) を介してガラス板(4) に貼着する工程と、
前記プラスチックス基板(1) の一方の面側に対して各種処理を行う工程と、
活性エネルギー線の照射操作、加熱操作または冷却操作から選ばれる前記粘着性層(2) の粘着力を喪失または著減させる後操作を行い、前記ガラス板(4) から前記プラスチックス基板(1) を剥離する工程
とを具備することを特徴とする表示装置の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14234094A JP3739424B2 (ja) | 1994-05-31 | 1994-05-31 | プラスチックス基板付き積層シート、基板処理方法、および、液晶セルまたは表示装置の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14234094A JP3739424B2 (ja) | 1994-05-31 | 1994-05-31 | プラスチックス基板付き積層シート、基板処理方法、および、液晶セルまたは表示装置の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07325297A JPH07325297A (ja) | 1995-12-12 |
| JP3739424B2 true JP3739424B2 (ja) | 2006-01-25 |
Family
ID=15313088
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14234094A Expired - Lifetime JP3739424B2 (ja) | 1994-05-31 | 1994-05-31 | プラスチックス基板付き積層シート、基板処理方法、および、液晶セルまたは表示装置の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3739424B2 (ja) |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4502441B2 (ja) * | 2000-02-16 | 2010-07-14 | 共同印刷株式会社 | 接着剤による透明導電膜の支持方法および層構成 |
| JP4869468B2 (ja) * | 2000-04-06 | 2012-02-08 | ニッタ株式会社 | 液晶表示装置用のフィルム基板アセンブリ |
| JP4685256B2 (ja) * | 2001-03-06 | 2011-05-18 | シチズンホールディングス株式会社 | プラスチック液晶パネルの製造方法 |
| JP4750979B2 (ja) * | 2001-09-06 | 2011-08-17 | パイオニア株式会社 | 表示パネル及び基板保持装置 |
| JP2006241430A (ja) * | 2005-02-03 | 2006-09-14 | Sekisui Chem Co Ltd | ラビングクロス固定用両面粘着テープ及びラビングクロスの剥離方法 |
| KR101230310B1 (ko) | 2006-02-02 | 2013-02-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | 접착 부재 및 이를 사용하는 표시 장치의 제조 방법 |
| KR100831562B1 (ko) * | 2006-03-23 | 2008-05-21 | 주식회사 엘지화학 | 유연성 기판 반송용 점착제 조성물 |
| EP2052406A2 (en) * | 2006-08-10 | 2009-04-29 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Active matrix displays and other electronic devices having plastic substrates |
| JP2008203619A (ja) * | 2007-02-21 | 2008-09-04 | Citizen Holdings Co Ltd | 液晶表示パネルの製造方法 |
| JP4685853B2 (ja) * | 2007-12-10 | 2011-05-18 | シチズンホールディングス株式会社 | プラスチック液晶パネルの製造方法 |
| US7743492B2 (en) | 2008-02-08 | 2010-06-29 | Carestream Health, Inc. | Method for forming cast flexible substrate and resultant substrate and electronic device |
| US9627420B2 (en) | 2008-02-08 | 2017-04-18 | Carestream Health, Inc. | Method for forming an electronic device on a flexible substrate supported by a detachable carrier |
| US20090200543A1 (en) | 2008-02-08 | 2009-08-13 | Roger Stanley Kerr | Method of forming an electronic device on a substrate supported by a carrier and resultant device |
| CN101903974B (zh) * | 2008-02-28 | 2012-07-25 | 夏普株式会社 | 薄膜层叠器件的制造方法和显示装置的制造方法 |
| JP2008265349A (ja) * | 2008-06-09 | 2008-11-06 | Nitto Denko Corp | 光反応性組成物シートの製造方法および製造装置 |
| JP5608694B2 (ja) * | 2012-03-02 | 2014-10-15 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
| JP2014211638A (ja) * | 2014-05-22 | 2014-11-13 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
| KR20160130004A (ko) | 2015-04-30 | 2016-11-10 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
| JP2018142721A (ja) * | 2018-04-27 | 2018-09-13 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
-
1994
- 1994-05-31 JP JP14234094A patent/JP3739424B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07325297A (ja) | 1995-12-12 |
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| Date | Code | Title | Description |
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| A02 | Decision of refusal |
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| A521 | Written amendment |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20051102 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091111 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091111 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101111 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111111 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111111 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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