JPH1124081A - 光学要素および積層体転写シート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光学要素として要求される諸特性、すなわち
機械的強度，耐薬品性等のいずれにも優れた光学要素お
よびその製造に好適に用いられる積層体転写シートを提
供する。 【解決手段】 透明基板１と、この透明基板１上に積層
して形成された放射線架橋を施された接着剤層２と、こ
の接着剤層２上に、仮担持体４から転写して形成された
積層体３とを含んでなり、この積層体３が、接着剤層２
上に密着して形成された透明導電層３１と、この透明導
電層３１上に積層して形成された樹脂層３２とを有する
光学要素において、樹脂層３２が、積層体３の仮担持体
４から接着剤層２上への転写の前に焼成処理を施され
た、ポリイミドを含む塗膜からなることを特徴とする光
学要素。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学要素および積
層体転写シートに関する。さらに詳しくは、液晶ディス
プレー等の各種表示装置に有効に用いられる光学要素、
およびこの光学要素の製造に好適な積層体転写シートに
関する。この光学要素および積層体転写シートにおける
ポリイミド樹脂層は、たとえば液晶配向膜を形成するた
めに有効に用いられる。

【０００２】

【従来の技術】従来から、ポリメチルメタクリレート、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト等のプラスチックからなる透明基板の上に、仮担持体
の上に剥離可能に積層された透明導電層を接着剤を介し
て転写し、透明基板と透明導電層とを含んでなる光学要
素を製造する方法が知られている。このような透明導電
層は、通常ＩＴＯ（インジウム−チン−オキサイド）膜
からなり、光透過率は通常７０％以上である。また、上
記のような透明基材の光透過率も、通常７０％以上であ
る。このような光学要素および積層体転写シートとして
は、たとえば、特開昭６０−２３１３９６号公報には、
支持体（仮担持体）上に剥離可能な状態で、ＩＴＯ層が
設けられている転写型の積層体が開示されている。この
公報には、テフロンフィルムからなる支持体の上にＩＴ
Ｏ層を蒸着し、その後３００℃のオーブン中で熱処理を
施し、ＩＴＯ層の抵抗を低下させて形成した転写型の積
層体を用い、アクリル系接着剤を介して、ＩＴＯ層をポ
リメチルメタクリレート基板の上に転写する方法が例示
されている。また、支持体（仮担持体）として芳香族ポ
リイミドも使用できることが示唆されている。また、特
開昭５９−２０４５４２号公報には、剥離処理を施した
耐熱性基板上にＩＴＯ層を蒸着した後、低温硬化性のエ
ポキシ樹脂接着剤を介して、偏光板の表面（ポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム）にＩＴＯ層を転
写する方法が開示されている。この偏光板は、２枚のＰ
ＥＴフィルムの間に偏光子を張り合わせた構造を有して
いる。また、特開昭５８−１７７３４５号公報には、シ
リコーン離型処理面を有するポリエステルフィルムの離
型処理面の上にＩＴＯ層をスパッタリングし、ＩＴＯ層
とポリビニルブチラールシートとを熱圧着して、ポリビ
ニルブチラールシート表面にＩＴＯ層を転写する方法が
開示されている。また、特開昭５９−１５１７０５号公
報には、テフロンシート等の仮担持体の上にＩＴＯ蒸着
膜の層を形成し、そのＩＴＯ層を、熱硬化性または光硬
化性の接着剤を介して、プラスチック透明基体の表面に
転写する方法が開示されている。また、特開平４−１４
２５１７号公報には、光照射により接着力が変化する接
着層を介して、支持体（仮担持体）上に形成されたＩＴ
Ｏ層を基板に密着させ、所定のパターン上に光を透過ま
たは不透過させるマスクを介して光照射し、パターン状
ＩＴＯ層を基板に転写させる方法が開示されている。仮
担持体にはポリイミドフィルムが使用できること、およ
び光照射により接着力が変化する接着剤として、アクリ
レートモノマーからなる組成物が使用できることも開示
されている。また、特開平７−８０９８０号公報には、
表面エネルギーが低いフィルムからなる基材上に、ＩＴ
Ｏ層及び接着層をこの順に積層してなる透明導電性転写
シートが開示されている。接着層には、熱接着タイプが
使用できること、および表面エネルギーが低いフィルム
の具体例として、延伸ポリプロピレンが開示されてい
る。

【０００３】上記一連の転写積層体および転写方法で
は、仮担持体上に直接ＩＴＯ層を積層しており、仮担持
体とＩＴＯ層との間には、ＩＴＯ層とともに転写される
樹脂層（剥離層ではない樹脂層）は設けられていない。
一方、ＩＴＯ等の透明導電層と、その透明導電層の上に
密着された樹脂層とからなる積層体を転写する方法が、
たとえば、次のような文献に開示されている。特開平２
−１７４０１１号公報には、仮担持体（離型性シート）
の上に、樹脂被膜を積層し、樹脂被膜の上にＩＴＯ層を
積層し、ＩＴＯ層の上に熱接着可能な接着剤層を積層
し、転写シートを形成し、転写シートをガラス基板に加
熱しつつ圧着し、接着剤層を介して、ＩＴＯ層と樹脂被
膜とからなる積層体を転写する方法が開示されている。
仮担持体としてポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエ
ステルなどの合成樹脂フィルムが使用できること、およ
び必要に応じて離型処理を施すことができることが開示
されている。樹脂被膜はＩＴＯ層の保護膜として機能
し、繊維素系樹脂、アクリル樹脂およびナイロン樹脂か
らなる群から選ぶのが好適であることが開示されてい
る。また、特開平８−２５４６９０号公報には、仮担持
体の上に形成された、水溶性離型膜と、その水溶性離型
膜の上にスパッタリングして積層されたＩＴＯ層とから
なる積層体を、熱転写型接着剤の層を介して透明基材に
転写する方法が開示されている。仮担持体としてポリエ
チレンテレフタレートフィルム等が使用できること、お
よび熱転写型接着剤としてポリエステル樹脂やアクリル
樹脂が使用できることが開示されている。また、水溶性
離型膜としてポリビニールアルコール等のポリマーが使
用できること、およびこの離型膜は、積層体の転写後は
水洗より除去されることが開示されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記後
者２つの文献に開示された積層体の樹脂層は、仮担持体
からの転写（剥離）の容易性や、ＩＴＯ層の保護のため
の機能だけが期待されているにすぎない。たとえば、液
晶ディスプレーの製造に用いられる光学要素では、透明
導電層の表面に液晶配向膜が形成されるが、樹脂層が液
晶配向膜を形成するための層として機能するには、液晶
を一定方向に配向させ、適当なプレティルト角を発生さ
せることに加え、高い機械的強度、高耐薬品性、などの
特性が要求される。たとえば、配向機能を付与するため
には、ロールに巻きつけた数ｍｍの長さの毛を有する
綿、ナイロン、レーヨン等の布で、樹脂層をラビングす
る必要がある。配向膜として利用する場合、樹脂層の厚
さは通常０．０５〜０．５μｍ程度あるので、機械的強
度が不足すると破損が生じる。また、ラビングによる樹
脂層の摩耗粉を除去するために、通常は水や有機溶剤中
で超音波洗浄を行う。したがって、耐薬品性が不足する
と、配向膜が侵蝕される。一方、透明基材の上に、ＩＴ
Ｏ層のみを転写した後、ＩＴＯ層の上にこのような樹脂
層を設ける方法は、次の観点から避けるべきである。す
なわち、このような樹脂層の形成には、８０℃以上の温
度での焼成処理が必要であり、透明基材として有用なポ
リメチルメタクリレートやポリエチレンテレフタレート
等のフィルムは、このような熱処理に耐えることができ
ず、変形等の損傷を受ける。本発明は、上述の問題に鑑
みなされたものであり、光学要素として要求される諸特
性、すなわち機械的強度，耐薬品性等のいずれにも優れ
た光学要素およびそれの製造に好適に用いられる積層体
転写シートを提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によれば、下記を要旨とする光学要素および
積層体転写シートが提供される。 ［１］透明基板と、この透明基板上に積層して形成され
た放射線架橋を施された接着剤層と、この接着剤層上
に、仮担持体から転写して形成された積層体とを含んで
なり、この積層体が、接着剤層上に密着して形成された
透明導電層と、この透明導電層上に積層して形成された
樹脂層とを有する光学要素において、樹脂層が、積層体
の仮担持体から接着剤層上への転写の前に焼成処理を施
された、ポリイミドを含む塗膜からなることを特徴とす
る光学要素。 ［２］前記接着剤が、その接着成分として、多官能（メ
タ）アクリレートモノマーを含んだアクリレート化合物
を含有する［１］記載の光学要素。 ［３］光学要素の製造に用いられる積層体転写シートで
あって、仮担持体と、この仮担持体上に剥離可能に設け
られた焼成処理を施されたポリイミドを含む塗膜からな
る樹脂層と、この樹脂層上に積層して形成された透明導
電層と、この透明導電層上に積層して形成された放射線
架橋が可能な接着剤層とを含んでなるとともに、仮担持
体が、分子内に弗素原子および珪素原子を含まず、かつ
樹脂層の焼成温度を超えるガラス転移温度（Ｔｇ）を有
する耐熱性ポリマーからなるポリマー表面を有し、また
樹脂層が、ポリイミドを含む塗料を仮担持体のポリマー
表面に塗布した後、焼成処理を施された塗膜からなる積
層体転写シート。 ［４］前記樹脂層の焼成温度が、８０〜３００℃である
［３］記載の積層体転写シート。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しつつ具体的に説明する。 Ｉ．光学要素 図１に示すように、本発明の光学要素は、透明基材１
と、この透明基板１上に積層して形成された放射線架橋
を施された接着剤層２と、この接着剤層２上に仮担持体
４から転写して形成された積層体３から大要構成されて
いる。また、この積層体３は、接着剤層２上に密着して
形成された透明導電層３１と、この透明導電層３１上に
積層して形成された樹脂層３２とを有し、かつこの樹脂
層３２が転写の前に焼成処理を施された、ポリイミドを
含む所定の塗膜からなっている。

【０００７】本発明に用いられる樹脂層は、前述のよう
な液晶配向膜を形成するための層としての要求特性（高
い機械的強度、耐薬品性）を満たすポリイミドを含む塗
膜（ポリイミド樹脂層）からなる。また、このポリイミ
ド樹脂層は、前述のように仮担持体からの転写前に焼成
処理が施されている。したがって、前述のような透明基
材の加熱による損傷を生ずるおそれがない。さらに、ポ
リイミド樹脂層の焼成処理は、仮担持体とポリイミド樹
脂層との界面（離型面）における接着力を弱めるように
作用する。ここで、「焼成処理」とは、残留溶媒の除去
や、熱硬化型の場合の硬化反応の完了のための加熱処理
のことを意味する。また、液晶配向膜を形成する場合
は、プレティルト角を発生させるための処理としての加
熱処理も含む。このような焼成処理は、ポリイミド樹脂
層と仮担持体との界面接着力を弱めるようにも作用す
る。この理由は明らかではないが、焼成処理による樹脂
層の内部凝集力の増大が、その一因であると考えられ
る。

【０００８】一方、転写用の接着剤層が放射線架橋を施
された接着剤からなることは、接着剤層と積層体との界
面接着力（密着力）を効果的に高めることができる。し
たがって、ポリイミド樹脂層の焼成処理の効果と相俟っ
て、仮担持体からの積層体の剥離、すなわち、透明基材
への積層体の転写が容易になる。また、仮担持体の離型
面（ポリイミド樹脂層の塗布面）に、殊更弗素系樹脂、
シリコーン樹脂等の離型処理層を設ける必要がないの
で、ポリイミド樹脂層の塗布の際のはじき等に起因する
塗布欠陥を効果的に防止することができる。したがっ
て、樹脂層の塗膜化が容易であり、転写後に均一かつ平
滑なポリイミド樹脂層表面の形成が可能である。また、
転写後の樹脂層表面が、剥離処理剤で汚染される不都合
もない。

【０００９】以下、本発明をその構成要素ごとに具体的
に説明する。 １．透明基材 本発明に用いられる透明基材としては、透明性が高く、
かつ可撓性を有するプラスチックフィルムが好適であ
る。このようなプラスチックの具体例としては、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等の
ポリエステル樹脂；ポリメチルメタクリレート、変性ポ
リメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリフッ化
ビニリデン、アクリル変成ポリフッ化ビニリデン等のフ
ッ素樹脂；ポリカーボネート樹脂；塩化ビニル系コポリ
マー等の塩化ビニル樹脂；ポリアリレート等を挙げるこ
とができる。これらは、単独またはこれらの混合物のい
ずれであってもよい。また、このようなプラスチックフ
ィルムを複数層含んでなる多層フィルムであってもよ
い。この透明基材の形成は、後述するポリイミド樹脂層
に焼成処理を施し、この樹脂層の上に透明導電層を積層
形成した後、この上に積層して形成することができる。
このようにして形成することができるので、透明基材と
して比較的耐熱性の低いプラスチックフィルムを用いる
ことができる。

【００１０】上記プラスチックの中で、ポリメチルメタ
クリレートは、とりわけ優れた透明性と、比較的小さな
リタデーション値とを有することから、液晶ディスプレ
ー用の光学要素の製造に好適である。透明基材の透過率
は、７０％以上が好ましく、８０％以上がさらに好まし
い。なお、本発明における「光透過率」とは、日立製作
所社製の自記分光光度計「型番：Ｕ−４０００」を使用
し、５５０ｎｍの光を用いて測定された光線透過率を意
味する。透明基材の厚さは、１０〜１，０００μｍが好
ましい。また、本発明の効果を損なわない範囲におい
て、透明基材中に紫外線吸収剤、吸湿剤、着色剤、蛍光
物質、燐光物質等の添加剤を含有させることもできる。
さらに、透明基材として、プリズムフィルムを用いるこ
ともできる。 ２．接着剤層 本発明において接着剤層は、透明導電層と透明基材とを
接着するために用いられる。この接着剤層は、たとえ
ば、架橋可能なモノマーまたはオリゴマーを含む架橋性
の液体を、透明導電層の上にコーティングし、それを架
橋させて形成することができる。モノマーまたはオリゴ
マーを含む液体は粘度が十分に低いので、均一な厚さの
接着剤層を形成することができる。架橋性の液体の粘度
（２５℃）は、１〜１００，０００センチポアズが好ま
しく、５〜８０，０００センチポアズがさらに好まし
く、中でも１０〜５０，０００センチポアズが最も好ま
しい。この粘度が１センチポアズ未満であると、十分な
厚さの層が形成できず、接着性が低下するおそれがあ
り、反対に１００，０００センチポアズを超えると、均
一な厚さの層を形成できないおそれがある。接着剤層の
厚さは、１〜１００μｍが好ましい。

【００１１】透明導電層と透明基材との接着剤層による
接着（すなわち、透明導電層−ポリイミド樹脂層からな
る積層体の仮担持体からの転写）は、透明導電層の上に
形成した架橋前の接着剤層の表面に透明基材を積層密着
し、接着剤に放射線を照射し架橋させた後、仮担持体を
剥離し、除去することにより行うことができる。接着剤
層と透明基材との積層密着は、透明基材の上から加圧す
ることにより容易に行うことができる。仮担持体の剥離
方向は特に制限はないが、ポリイミド樹脂層と仮担持体
との成す角度が、５〜１８０度となるようにして行うこ
とが好ましい。

【００１２】また、透明基材の表面に架橋前の接着剤層
を形成した後、接着剤層と焼成後の透明導電層およびポ
リイミド樹脂層からなる積層体とを密着させ、接着剤を
架橋することもできる。この場合、透明基材の表面にプ
ライマーを塗布した後、架橋性の液体を塗布することも
できる。

【００１３】接着剤層の架橋処理は、透明基材の上から
放射線を照射することにより行うことができる。放射線
は、紫外線，電子線，可視光線，遠赤外線等を用いるこ
とができる。照射量は、接着剤層が十分に架橋するよう
に適宜決定することができる。たとえば、紫外線の場
合、１〜１０Ｊ／ｃｍ² が好ましい。接着剤層を形成す
る架橋性の液体に含まれるモノマーまたはオリゴマー
は、（メタ）アクリレート化合物、エポキシ系化合物等
の化合物が使用できる。（メタ）アクリレート化合物
は、多官能アクリレート化合物からなるものが好まし
い。これにより、重合後の接着剤層の架橋密度を向上さ
せ、寸法の経時安定性を高め、接着剤層の収縮または膨
張による剥離を効果的に防止することができる。また、
架橋性の液体には所望により、添加剤を含ませることが
できる。たとえば、反応性を高めるために、重合開始剤
を含ませることができる。また、接着性を高めるため
に、シランカップリング剤等のカップリング剤を含ませ
ることができる。カップリング剤は、架橋性の化合物１
００重量部に対して、０．１〜１０重量部含ませること
が好ましい。また、接着剤層の屈折率を高めるために、
五酸化アンチモン、ジルコニア等の無機コロイド粒子を
含ませても良い。その他の添加剤として、本発明の効果
を損なわない範囲で、導電性粒子、界面活性剤、紫外線
吸収剤、酸化防止剤、防黴剤、防錆剤、吸湿剤、蛍光塗
料等の着色剤、燐光物質等の添加剤も使用することがで
きる。

【００１４】３．積層体 本発明に用いられる積層体は、前述のように透明導電層
と樹脂層とを有する。 （１）透明導電層 本発明に用いられる透明導電層は、ポリイミド樹脂層に
焼成処理を施した後、その樹脂層の上にコーティングし
て形成することが好ましい。透明導電層としては、液晶
ディスプレーの透明電極として汎用されている、ＩＴＯ
（インジウム・チン・オキサイド）膜などを使用するこ
とができる。透明導電層の厚さは、０．０１〜１，００
０μｍが好ましく、表面抵抗値は、５００Ω／□以下が
好ましく、１〜２００Ω／□がさらに好ましい。また、
光透過率は７０％以上が好ましく、８０％以上がさらに
好ましい。ＩＴＯ膜は、蒸着、スパッタリング、ペース
トの塗布等の汎用のコーティング手段により形成するこ
とができる。これにより、ポリイミド樹脂層に密着した
ＩＴＯ膜を得ることができる。また、本発明の効果を損
なわない限り、ポリイミド樹脂層の上にプライマー層を
設けた後、そのプライマー層の上に透明導電層をコーテ
ィングすることもできる。

【００１５】（２）樹脂層 本発明に用いられる樹脂層は、転写の前に焼成処理を施
された、ポリイミドを含む塗膜（ポリイミド樹脂層）か
らなっている。このポリイミド樹脂層としては、下記
［ａ］または［ｂ］の塗膜を用いることが好ましい。 ［ａ］有機溶剤と、その有機溶剤に溶解された可溶性ポ
リイミドとを含んでなる塗料から形成された塗膜、
［ｂ］熱硬化型ポリイミド樹脂を含んでなる塗料から形
成された硬化塗膜、ここで、熱硬化型ポリイミド樹脂に
は、一般に「熱重合型ポリイミド樹脂」と呼ばれるもの
も含まれる。この樹脂層の形成は、前述のポリイミドを
含んでなる塗料を、後述する仮担持体の耐熱性ポリマー
からなるポリマー表面の上に直接コーティングして形成
することができる。

【００１６】また、積層体の透明基材への転写を、より
効果的に行うには、下記［Ｉ］および／または［II］の
ようにするのが好ましい。 ［Ｉ］接着剤層が、多官能（メタ）アクリレートモノマ
ーを含有するアクリレート化合物からなる接着剤成分を
含むようにする。 ［II］ポリイミド樹脂層の焼成温度を８０〜３００℃の
範囲にする。前記［Ｉ］の場合における接着剤層は、接
着剤成分の架橋を促進するために、重合開始剤を含有す
ることが好ましい。また、前記［II］の焼成温度のさら
に好ましい範囲は１４０〜２９０℃であり、１７０〜２
８０℃が最も好ましい。

【００１７】ポリイミドの具体例としては、テトラフェ
ニルチオフェン骨格を有する可溶性ポリイミド、シクロ
ブタンテトラカルボン酸二無水物／芳香族ジアミン系ポ
リイミド、蒸着重合ポリイミド、芳香族テトラカルボン
酸二無水物／芳香族ジアミン／シリコーンジアミン系ポ
リイミド、芳香族テトラカルボン酸二無水物／脂肪族ジ
アミン系ポリイミド、弗素含有ポリイミド、長鎖芳香族
ジアミン使用全芳香族ポリイミド、有機電解質添加系ポ
リイミド、シリル化ポリイミド、ポリアミック酸を含有
する前駆体を重合（硬化）して形成したポリイミド等を
挙げることができる。

【００１８】塗料に含まれる溶剤としては、Ｎ−メチル
ピロリドン、γ−ブチロラクトン等の極性溶剤を好適に
使用することができる。塗料のコーティングには、通常
のコーティング手段、たとえば、スピンコーティング、
ダイコーティング、バーコーティング、蒸着コーティン
グ等を使用することができる。また、本発明の効果を損
なわない限り、ポリイミド樹脂層を複数の層からなるよ
うに形成しても良い。また、ポリイミド樹脂層には、本
発明の効果を損なわない範囲において、紫外線吸収剤、
吸湿剤、着色剤、蛍光物質、燐光物質等の添加剤を含有
させることもできる。

【００１９】４．仮担持体 積層体を透明基材に転写するときに用いられる仮担持体
としては、後述する積層体転写シートにおいて用いられ
るものを好適に用いることができる。

【００２０】５．製造方法 本発明の光学要素は、後述する積層体を用いて好適に製
造することができる。

【００２１】II．積層体転写シート 本発明の積層体転写シートは、前記光学要素の製造に好
適に用いられる。その理由は下記のとおりである。すな
わち、ＩＴＯ層自体は、いろいろなポリマーフィルムか
らの剥離が容易であり、離型処理層を別途設ける必要が
なく仮担持体から容易に剥離することができる。しかし
ながら、ＩＴＯ等の透明導電層と、その導電層の表面に
積層された樹脂層とからなる積層体を有する光学要素を
転写法で形成する場合、樹脂層を仮担持体の表面に剥離
可能に仮接着する必要があり、通常は樹脂層上に離型処
理層が必要である。このような方法では、離型処理層を
設ける工程が増える分だけ生産性が低下する。また、離
型処理剤による樹脂層表面の汚染の危険性も伴うことに
なる。そこで、上記問題を解消した本発明の積層体転写
シートを用い、光学要素を製造するのが好適なのであ
る。

【００２２】本発明の積層体転写シートは、図２に示す
ように、所定の仮担持体４と、ポリイミド樹脂層３２
と、透明導電層３１と、接着剤層２とを順次積層して形
成される。本発明の積層体転写シートは、ポリイミド樹
脂層が仮接着される仮担持体の離型面（仮接着面）上に
離型処理材の層を含まず、また、仮担持体のポリマーが
分子内に弗素原子および珪素原子を含まない。したがっ
て、ポリイミド樹脂層の塗布の際のはじき等の塗布欠陥
を効果的に防止することができ、ポリイミド樹脂層の塗
膜化が容易である。また、仮担持体の仮接着面が、ポリ
イミド樹脂層の焼成温度を超えるＴｇを有する耐熱性ポ
リマーからなる表面を有しているので焼成処理において
仮担持体の熱変形（熱収縮等）が生ずることがない。耐
熱性ポリマーのＴｇは樹脂層の焼成温度を超えるように
決定されるが、１４０℃以上が好ましく、１８０〜５０
０℃がさらに好ましい。

【００２３】以下、本発明を構成要素ごとに具体的に説
明する。

【００２４】１．仮担持体 本発明の積層体転写シートに用いられる仮担持体は、上
記のように、分子内に弗素原子および珪素原子を含ま
ず、かつポリイミド樹脂層の焼成温度を超えるＴｇを有
する耐熱性ポリマーからなるポリマー表面を有する。こ
のような仮担持体としては、［１］上記耐熱性ポリマー
からなるポリマー担持体、または、［２］上記耐熱性ポ
リマーからなるポリマー層を支持体の表面に有する多層
担持体、を挙げることができる。仮担持体全体の厚さ
は、１０〜３，０００μｍが好ましく、前記［２］の場
合のポリマー層の厚さは、０．１〜１００μｍが好まし
い。

【００２５】上記のような耐熱性ポリマーの具体例とし
て、ＰＩ（ポリイミド）、ＰＥＩ（ポリエーテルイミ
ド）、ＰＡＲ（ポリアリレート）およびＰＥＥＫ（ポリ
エーテルエーテルケトン）等を挙げることができる。ま
た、上記［２］における支持体の材料には、ポリイミド
樹脂層の焼成処理の際にも熱的損傷を受けないものが選
ばれる。たとえば、ガラス、セラミック、金属、または
上記のような耐熱性ポリマーを挙げることができる。ま
た、本発明の効果を損なわない限り、通常の転写法にお
いて用いられる仮担持体（たとえば、ＰＥＴ，ＰＥＮ
（ポリエーテルニトリル）等）を用いることもできる。

【００２６】２．ポリイミド樹脂層 本発明に用いられるポリイミド樹脂層としては、前述の
光学要素で用いたものを用いることができる。すなわ
ち、前述のようにポリイミドを含む塗料を仮担持体のポ
リマー表面に塗布した後、焼成処理を施した塗膜から形
成することができる。

【００２７】３．透明導電層 前述の光学要素に用いたものと同じものを用いることが
できる。

【００２８】４．接着剤層 前述の光学要素に用いたものと同じものを用いることが
できる。

【００２９】５．製造方法 本発明の積層体転写シートは、たとえば、次のようにし
て製造することができる。まず、仮担持体上に、ポリイ
ミド含有塗料をコーティングし、均一な厚さを有する焼
成前の樹脂層を形成する。次に、その樹脂層に焼成処理
を施し、ポリイミド樹脂層を形成する。続いて、この樹
脂層の上に透明導電層を形成し、仮担持体の上に形成さ
れたポリイミド樹脂層−透明導電層からなる積層体を得
る。最後に、この積層体の透明導電層の上に、放射線架
橋可能な接着剤を滴下し、剥離フィルムを加圧しながら
ラミネートし、ポリイミド樹脂層と透明基材との間に接
着剤の前駆体の層を形成する。これにより、接着剤の前
駆体層の上に積層された剥離フィルムを含んだ積層体転
写シートを得ることができる。剥離フィルムには、通常
の接着剤に用いられるものが使用できる。たとえば、シ
リコーン処理層を有するポリエチレンテレフタレートフ
ィルム、低分子量または超低分子量ポリエチレンフィル
ム等である。

【００３０】６．光学要素への応用 本発明の積層体転写シートを用いて光学要素を製造する
には、まず、剥離フィルムを除去し、接着剤の前駆体層
の上に透明基材を加圧しながらラミネートし、続いて、
透明基材の上から放射線を照射して接着剤を架橋させ、
積層体と透明基材とを、放射線架橋された接着剤の層を
介して接着する。最後に、ポリイミド樹脂層から仮担持
体を除去し、透明基材への、透明導電層−ポリイミド樹
脂層からなる積層体の転写を完了する。また、上記剥離
フィルムの代わりに透明基材を用い、積層体転写シート
と、接着剤の前駆体層の上に積層された透明基材とから
なる光学要素の前駆体を形成し、接着剤を架橋させた
後、仮担持体を除去し、積層体の転写を完了させること
もできる。このような光学要素の前駆体は、予め積層さ
れた透明基材を含んだ積層体転写シートの他の実施の形
態とみなすことができる。さらに、本発明の効果を損な
わない限り、透明導電層を、たとえば液晶表示装置のピ
クセル、電極、カラーフィルター層等の形状および寸法
に合わせて、パターン状に配置することができる。たと
えば、本発明の積層体転写シートにおいて、ポリイミド
樹脂層の上にパターン状に配置したＩＴＯ層を、透明基
材の上に、接着剤層を介して転写することができる。パ
ターン状のＩＴＯ層は、たとえば、ポリイミド樹脂層の
上に連続的な膜からなるＩＴＯ層を形成した後、エッチ
ング処理を施し、不要な部分を除去し、パターン状にす
ることができる。

【００３１】

【実施例】以下、本発明を実施例によってさらに具体的
に説明する。

【００３２】［実施例１］仮担持体としてのポリイミド
フィルム「東レ・デュポン社製（商標）カプトン：厚さ
５０μｍ」の上に、可溶性ポリイミド溶液「日本合成ゴ
ム社製（品番）ＡＬ３０４６：溶剤γ−ブチロラクト
ン」をスピンコートし、均一な厚さを有する焼成前の樹
脂層を形成した。次に、その樹脂層を１８０℃で１時間
焼成し、ポリイミド樹脂層を形成した。ポリイミド樹脂
層の厚さは約１００ｎｍであった。続いて、この樹脂層
の上に酸化インジウム／酸化スズ＝９０／１０（重量
比）の組成のスパッタリングターゲットを用い、ＩＴＯ
膜をスパッタリング法により約１００ｎｍの厚さで形成
し、仮担持体の上に形成されたポリイミド樹脂層−ＩＴ
Ｏ膜からなる積層体を得た。さらに続いて、この積層体
のＩＴＯ膜の上に、ビダントインヘキサアクリレート／
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート／イルガキュ
ア６５１（Irgacure651）＝７０／２９／１［重量比］
の組成の放射線架橋可能な接着剤を滴下し、透明基材
（ポリメチルメタクリレートフィルム）を加圧しながら
ラミネートし、ポリイミド樹脂層と透明基材との間に接
着剤の前駆体の層を形成した。なお、Irgacure 651は、
重合開始剤として添加した。さらに、上記転写シートの
透明基材の上から、紫外線を約３．５Ｊ／ｃｍ² の照射
量にて照射し、接着剤を架橋させ、積層体と透明基材と
を、放射線架橋された接着剤の層を介して接着した。最
後に、ポリイミド樹脂層から仮担持体を除去し、透明基
材への、ＩＴＯ膜−ポリイミド樹脂層からなる積層体の
転写を完了した。これらの一連の操作により、本発明の
光学要素を容易に形成することができた。すなわち、透
明基材は熱的損傷を受けておらず、また、ポリイミド樹
脂層の表面は均一かつ平滑であった。また、転写後の樹
脂層表面は、剥離処理剤で汚染されていなかった。さら
に、上記樹脂層は、ポリイミドを含有し、かつ十分な焼
成処理が施されているので、液晶配向膜を形成するため
の層としての要求特性を満たしていた。すなわち、ラビ
ング操作においては、破損が生じることなく配向機能を
付与することができ、また、ラビングによる樹脂層の摩
耗粉を除去するために、イソプロピルアルコール中で超
音波洗浄を行ったが、樹脂層の侵蝕は認められなかっ
た。

【００３３】［実施例２］仮担持体として、ポリエーテ
ルイミドの耐熱性ポリマーフィルムを用いたこと以外は
実施例１と同様にして光学要素を形成した。

【００３４】［実施例３］仮担持体として、ポリアリレ
ートの耐熱性ポリマーフィルムを用いたこと以外は実施
例１と同様にして光学要素を形成した。

【００３５】［実施例４］仮担持体として、ポリエーテ
ルエーテルケトンの耐熱性ポリマーフィルムを用いたこ
と以外は実施例１と同様にして光学要素を形成した。

【００３６】これらの実施例２〜実施例４の例において
も、実施例１と同様にして、本発明の光学要素を容易に
形成することができた。

【００３７】［比較例１］ポリイミドフィルムに代え
て、厚さ１．１ｍｍのガラス基板「コーニング社製（品
番）＃７０５９」を仮担持体として用いたこと以外は、
実施例１と同様にして光学要素の形成を試みた。しかし
ながら、本例では、積層体をガラス基板から剥離するこ
とが困難であり、透明基材へ転写することができなかっ
た。

【００３８】

【発明の効果】以上説明したように本発明によって、光
学要素として要求される諸特性、すなわち、機械的強
度，耐薬品性等のいずれにも優れた光学要素およびその
製造に好適に用いられる積層体転写シートを提供するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光学要素の一実施例を模式的に示す断
面図である。

【図２】本発明の積層体転写シートの一実施例を模式的
に示す断面図である。

【符号の説明】

１ 透明基板 ２ 接着剤層 ３ 積層体 ４ 仮担持体 ３１ 透明導電層 ３２ 樹脂層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｂ３２Ｂ 27/34 Ｂ３２Ｂ 27/34 Ｃ０９Ｊ 133/08 Ｃ０９Ｊ 133/08 Ｃ２３Ｃ 14/08 Ｃ２３Ｃ 14/08 Ｄ Ｇ０９Ｆ 9/35 ３０３ Ｇ０９Ｆ 9/35 ３０３ // Ｃ０９Ｄ 179/08 Ｃ０９Ｄ 179/08 Ｚ Ｃ０９Ｊ 4/02 Ｃ０９Ｊ 4/02

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基板と、この透明基板上に積層して
   形成された放射線架橋を施された接着剤層と、この接着
   剤層上に、仮担持体から転写して形成された積層体とを
   含んでなり、この積層体が、接着剤層上に密着して形成
   された透明導電層と、この透明導電層上に積層して形成
   された樹脂層とを有する光学要素において、 樹脂層が、積層体の仮担持体から接着剤層上への転写の
   前に焼成処理を施された、ポリイミドを含む塗膜からな
   ることを特徴とする光学要素。
2. 【請求項２】 前記接着剤が、その接着成分として、多
   官能（メタ）アクリレートモノマーを含んだアクリレー
   ト化合物を含有する請求項１記載の光学要素。
3. 【請求項３】 光学要素の製造に用いられる積層体転写
   シートであって、 仮担持体と、この仮担持体上に剥離可能に設けられた焼
   成処理を施されたポリイミドを含む塗膜からなる樹脂層
   と、この樹脂層上に積層して形成された透明導電層と、
   この透明導電層上に積層して形成された放射線架橋が可
   能な接着剤層とを含んでなるとともに、仮担持体が、分
   子内に弗素原子および珪素原子を含まず、かつ樹脂層の
   焼成温度を超えるガラス転移温度（Ｔｇ）を有する耐熱
   性ポリマーからなるポリマー表面を有し、また樹脂層
   が、ポリイミドを含む塗料を仮担持体のポリマー表面に
   塗布した後、焼成処理を施された塗膜からなることを特
   徴とする積層体転写シート。
4. 【請求項４】 前記樹脂層の焼成温度が、８０〜３００
   ℃である請求項３記載の積層体転写シート。