JP3708423B2 - エポキシ樹脂用フェノール系硬化剤及びそれを用いたエポキシ樹脂組成物 - Google Patents

エポキシ樹脂用フェノール系硬化剤及びそれを用いたエポキシ樹脂組成物 Download PDF

Info

Publication number
JP3708423B2
JP3708423B2 JP2000320792A JP2000320792A JP3708423B2 JP 3708423 B2 JP3708423 B2 JP 3708423B2 JP 2000320792 A JP2000320792 A JP 2000320792A JP 2000320792 A JP2000320792 A JP 2000320792A JP 3708423 B2 JP3708423 B2 JP 3708423B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
curing agent
phenolic curing
resin composition
silane coupling
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2000320792A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002128867A (ja
Inventor
克之 土田
正志 熊谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Mining Holdings Inc
Original Assignee
Nikko Materials Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikko Materials Co Ltd filed Critical Nikko Materials Co Ltd
Priority to JP2000320792A priority Critical patent/JP3708423B2/ja
Priority to TW90117504A priority patent/TW572926B/zh
Priority to KR10-2001-0048238A priority patent/KR100456348B1/ko
Priority to CNB011252227A priority patent/CN1175037C/zh
Publication of JP2002128867A publication Critical patent/JP2002128867A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3708423B2 publication Critical patent/JP3708423B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Die Bonding (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、金属や無機材料との密着性に優れるエポキシ樹脂用フェノール系硬化剤及びそれを用いたエポキシ樹脂組成物に関するものであり、それらは電子材料、塗料、プライマー、接着剤等の分野に使用できる。このうち、特に電子材料に使用されている封止材、積層板、マウンティング材に適している。
【0002】
【従来の技術】
近年電子材料分野では、材料の軽薄短小化の流れとともに、環境汚染を防止するために材料のハロゲンフリー化やアンチモンフリー化、鉛フリー半田化等の流れがある。そのため電子材料に用いられる封止材、積層材、マウンティング材等には、それらの流れに沿ってさらなる特性向上が必要とされているのが現状である。
【0003】
例えば、半導体用封止樹脂には従来ノボラックエポキシ樹脂をフェノールノボラック樹脂で硬化させるエポキシ樹脂組成物が用いられてきた。しかしながら、半導体は高集積化に対応するため、パッケージの小型化及び薄型化がより厳しく要求されている。一方で環境問題への配慮から鉛フリー半田へ移行する流れにも対応する必要があり、さらにリードフレームのPPF(プリプレーティッドフレーム)の開発等にも対応しなければならない。これらの理由により、封止樹脂の各種特性に対する要求は年々厳しいものとなってきており、従来のエポキシ樹脂組成物では機械的強度等に由来する、信頼性の確保が困難になってきている。具体的な要求特性としては半導体チップやリードフレームとのより高い密着性が挙げられ、特に、吸湿させた後に半田に浸漬してもクラックや界面はくり等が封止樹脂に生じないことが要求されている。
【0004】
また、プリント配線板の絶縁材料は、ガラス基材エポキシ積層板が最も多く使用されている。積層板エポキシ樹脂としては、ジシアンジアミドを硬化剤とする樹脂が一般的に用いられてきたが、鉛フリー半田等を用いた場合の耐熱性の要求から、フェノールノボラック樹脂を硬化剤に用いる方法が注目されるようになってきた。しかしながら、フェノールノボラック樹脂を硬化剤として使用すると銅箔との接着性、特に多層板における内層銅箔との接着性が、ジシアンジアミド系に比べて大幅に劣るという欠点がある。
【0005】
このような金属や無機物と樹脂との接着性を改善させる手段としては、シランカップリング剤による表面処理を行うか、又は、シランカップリング剤を樹脂へ添加する方法がとられるのが一般的である。エポキシ系やアミノ系の市販のシランカップリング剤は、そのような接着性向上に効果があり長年使用されていたが、上述したような近年の環境問題や軽薄短小化に対応するには、要求特性を満足出来ない場合が増えてきている現状にある。そこで、本発明者らは、イミダゾール基やジメチルアミノ基を有するシランカップリング剤を開発した(例えば、特開平05−186479、特開平09−012683、特開平09−295988)。このシランカップリング剤は、市販のものに比べて、金属や無機物と樹脂との密着性を大幅に向上できることが確認された。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のイミダゾール基やジメチルアミノ基を有するシランカップリング剤は、粘性が高いことと加水分解の速度が速いことにより、インテグラルブレンドの際に取り扱いにくいという欠点があった。また、ケトン系等の溶剤への溶解性が乏しいものもあり、ワニスに用いた場合にそのポットライフが短いという欠点もあり、使用方法に制限があった。
【0007】
そこで、本発明は、第一に金属や無機材料との密着性に優れたエポキシ樹脂組成物を製造するためのエポキシ樹脂用硬化剤、及び、そのようなエポキシ樹脂組成物や硬化物を提供することを目的とする。さらに、取り扱いが容易で、ケトン系溶剤への溶解性が高く、ワニスを含む様々な用途に好適に用いられるエポキシ樹脂用硬化剤、及び、そのような硬化剤を用いたエポキシ樹脂組成物や硬化物を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の目的を達成するため、鋭意検討した結果、一般的なフェノール系硬化剤と3級以上のアミノ基を有するシランカップリング剤とを混合することにより、その混合物又は反応物を硬化剤として用いると、金属や無機材料とエポキシ樹脂との密着性が大きく改善されることを見いだした。さらに、この硬化剤は、3級以上のアミノ基を有するシランカップリング剤を使用しているにもかかわらず、取り扱いも容易であり、また一般的に使用されているどの溶剤へも問題なく溶解することが分かった。
【0009】
すなわち、本発明によれば、エポキシ樹脂用フェノール系硬化剤であって、
フェノール系硬化剤を溶融し、その中にイミダゾール基又はジメチルアミノ基又はそれらの塩である3級以上のアミノ基を有するシランカップリング剤を攪拌混合して得られた変性フェノール系硬化剤であることを特徴とするエポキシ樹脂用フェノール系硬化剤が提供される。
【0010】
金属や無機材料と本発明の硬化剤を用いた樹脂との接着力が向上する機構は、硬化剤に含まれるフェノール系硬化剤の水酸基と3級以上のアミノ基を有するシランカップリング剤のアルコキシシリル基とが反応し、硬化剤と硬化促進剤の機能が一分子中に複合化されることによって、エポキシ樹脂の硬化反応がスムーズに進行するためと推定される。
【0011】
本発明で用いるフェノール系硬化剤は、1分子中に2個以上のフェノール性水酸基を有するものであればどのようなものでもよいが、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ポリビニルフェノール、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールAノボラック樹脂、ビスフェノールFノボラック樹脂、アラルキルフェノール樹脂等が挙げられる。これらのうち特に好ましいものはフェノール樹脂系硬化剤である。
【0012】
3級以上のアミノ基を有するシランカップリング剤は、硬化促進剤として効果のあるイミダゾール基又はジメチルアミノ基またはそれらの塩を有するシランカップリング剤が好適であり、例えば特開平05−186479、特開平09−295988、特開平05−039295、特開平06−279458、特開平09−296135、特開平09−295989、特開平09−295992、特開平10−273492、特開平11−092482、特開平12−226757、特開平11−108246等に記載されているもの、さらには、それらのイミダゾール基またはジメチルアミノ基を有するシランカップリング剤に酢酸等の有機酸塩を添加して塩にしたタイプが挙げられる。
【0013】
上記のシランカップリング剤のうち、以下のものは特に好ましい。第一には、特開平05−186479に開示されている3種のイミダゾールシラン化合物及びそれらの混合物である。これらのイミダゾールシラン化合物は、同文献に開示されているようにイミダゾール化合物と3‐グリシドキシプロピルシラン化合物を80〜200℃で反応させることによって、3種の混合物として得られる(以下、この混合物を単にイミダゾールシランと称する)。第二には、特開平09−296135に開示されている表面処理剤の有効成分である、ジメチルアミノ基を有する有機ケイ素化合物である(以下、この化合物を単にジメチルアミノシランと称する)。このジメチルアミノシランは、同文献に開示されているように、ジメチルアミンとエポキシシランを20〜80℃に加熱した後、未反応のジメチルアミンを除去することにより得られる。
【0014】
本発明のエポキシ樹脂用フェノール系硬化剤は単に混合物としても用いられるが、上記のようなフェノール系硬化剤を溶融し、その中に上記3級以上のアミノ基を有するシランカップリング剤を撹拌混合して得られた変性フェノール系硬化剤であっても効果的である。
【0015】
また、本発明によれば、(a)エポキシ樹脂、及び、(b)本発明のエポキシ樹脂用フェノール系硬化剤を含むエポキシ樹脂組成物が提供される。
【0016】
本発明のエポキシ樹脂組成物に用いるエポキシ樹脂は、エポキシ樹脂であればどのようなものでもよいが、封止材や積層板用途で汎用に使われているものが好ましい。例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂、トリフェニルメタン骨格を有するエポキシ樹脂、およびこれらのエポキシ樹脂構造中の水素原子の一部をハロゲン化したエポキシ樹脂等が挙げられる。また、本発明のエポキシ樹脂組成物に含まれる、これらのエポキシ樹脂とエポキシ樹脂用フェノール系硬化剤の混合比(水酸基/エポキシ基)は、0.2〜1.2の範囲となる量が好ましい。
【0017】
本発明のエポキシ樹脂組成物は、さらに、無機充填材を含んでいてもよい。無機質充填剤は、封止材に一般に使用されているものであればどのようなものでもよいが、不純物濃度が低く、平均粒径30μm以下のシリカ粉末が好ましい。無機質充填剤の配合割合は、全体の樹脂組成物に対して25〜90重量%含有するように配合するのが好ましい。
【0018】
本発明のエポキシ樹脂組成物は、必要に応じて、天然ワックス、合成ワックス類、直鎖脂肪酸の金属塩、酸アミド、エステル類、パラフィン等の離型剤、三酸化アンチモン等の難燃剤、カーボンブラック等の着色剤、シランカップリング剤、種々の硬化促進剤、ゴム系やシリコーン系の低応力付与剤等を適宜添加配合することが出来る。
【0019】
本発明のエポキシ樹脂組成物は、積層板用ワニスに好適に用いられる。また、本発明のエポキシ樹脂組成物は、これを基材に含浸させプリプレグとして、さらにこのプリプレグを積層形成してなる積層板として用いることもできる。またさらに、本発明のエポキシ樹脂組成物は、金属粉末と混練して半導体チップマウンティング材料としても好適に用いられ、このように様々な用途に用いることができる。
【0020】
本発明のエポキシ樹脂組成物は、加熱することにより、エポキシ樹脂硬化物として提供することもできる。この硬化物は、半導体チップがこれによって封止されてなる半導体封止装置に、好適に用いられる。
【0021】
本発明の別の態様によれば、エポキシ樹脂用フェノール系硬化剤の製造方法であって、
フェノール系硬化剤を溶融し、
その中に3級以上のアミノ基を有するシランカップリング剤を撹拌混合し、変性フェノール系硬化剤を得ることを特徴とするエポキシ樹脂用フェノール系硬化剤の製造方法が提供される。
【0022】
本発明のエポキシ樹脂用フェノール系硬化剤の製造方法において、フェノール系硬化剤と3級以上のアミノ基を有するシランカップリング剤の重量比は、フェノール系硬化剤1に対して、3級以上のアミノ基を有するシランカップリング剤0.001〜1が好ましい。この混合比は、さらに好ましくは、0.01〜0.5である。3級以上のアミノ基を有するシランカップリング剤が多すぎるとゲル化してしまい、また少なすぎると接着向上の効果が得られない。
【0023】
フェノール系硬化剤とシランカップリング剤の混合方法は、フェノール系硬化剤が固体の場合には、あらかじめ溶融させ、十分撹拌しながら3級以上のアミノ基を有するシランカップリング剤を徐々に添加していくのが好ましい。この際、フェノール樹脂の水酸基とシラン剤のアルコキシシリル基が反応してアルコールが生じる。
【0024】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を実施例を用いて具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されない。まず、本発明のエポキシ樹脂用フェノール系硬化剤の製造に先立って、イミダゾールシラン及びジメチルアミノシランを製造し、それぞれ合成例1及び合成例2として以下に記載した。なお、実施例で記載した配合割合の単位は、重量部とする。
【0025】
(合成例1)
特開平05−186479の実施例に従って、次のようにイミダゾールシランを製造した。イミダゾール3.4g(0.05mol)を95℃で溶解し、アルゴン雰囲気下で撹拌しながら、3‐グリシドキシプロピルメトキシシラン11.8g(0.05mol)を30分間かけて滴下した。滴下終了後、さらに95度の温度で1時間反応させた。得られたイミダゾールシランは、3種類の成分の混合物であった。
【0026】
(合成例2)
特開平09−296135の実施例に従って、次のようにジメチルアミノシランを製造した。ジメチルアミン13.5g(0.3mol)と3‐グリシドキシプロピルトリメトキシシラン17.3g(0.07mol)を窒素雰囲気にしたオートクレーブ中に入れ、150℃で1時間加熱し、反応させた。反応後、反応混合物中の過剰のジメチルアミンをエバポレーターにより除去し、ジメチルアミノシラン19.9gを得た。
【0027】
(実施例1)
合成例1のイミダゾールシランを用いて、本発明のエポキシ樹脂用フェノール系硬化剤を、次のように製造した。フェノールノボラック樹脂35g(水酸基当量:104)を100℃に加熱し、溶融した。その中に上記合成例1のイミダゾールシラン1gを徐々に添加し、添加後5分間撹拌し、冷却した。冷却後、粉砕し、エポキシ樹脂用フェノール系硬化剤であるイミダゾールシラン変性フェノールノボラック樹脂(硬化剤1)を得た。
【0028】
(実施例2)
実施例1のイミダゾールシラン1gに替えて、上記合成例2のジメチルアミノシラン1gにした以外は、実施例1と同様の操作を行い、エポキシ樹脂用フェノール系硬化剤であるジメチルアミノシラン変性フェノールノボラック樹脂(硬化剤2)を得た。
【0029】
(実施例3)〜(実施例14)
実施例3〜14では、上記実施例1の硬化剤1又は実施例2の硬化剤2を用いて、以下のようにエポキシ樹脂組成物を製造した。オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量:210)をはじめとする材料を、後述する表1に示した割合で常温で混合した。表1に示すように、溶融シリカ粉末(平均粒子径14μm)、2‐エチル−4‐メチルイミダゾール、3‐グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等を適宜添加剤として加えた。この混合物を、さらに90〜100℃で混練冷却した後、粉砕しエポキシ樹脂組成物を得た。
【0030】
上述のようにして得られたエポキシ樹脂組成物を用いて、銅合金板(C‐7025、サイズ:50mm×25mm)2枚を図1に示すように接着し、樹脂組成物を硬化させた。このときの硬化条件は、175℃で8時間とした。図1の構造のものを試験片とし、これを引張試験機により矢印の方向に引っ張り、せん断強度を測定した。このときの引張速度は1mm/minとした。その結果を後述する表2に示す。
【0031】
(比較例1)〜(比較例3)
比較例1〜3では、本発明のエポキシ樹脂用フェノール系硬化剤の替わりに、フェノールノボラック樹脂を硬化剤として用いた。すなわち、表1に示した材料と混合割合を用いた以外は、実施例3〜14と同様にして、エポキシ樹脂組成物を製造した。また、得られたエポキシ樹脂組成物を用いて、上記実施例3〜14と同様のせん断強度測定を行った。測定結果は、後述する表2に示す。
【0032】
【表1】
Figure 0003708423
【0033】
【表2】
Figure 0003708423
【0034】
本発明の硬化剤を用いた実施例3〜14は、いずれも十分なせん断接着強度を示した。これらのうち、実施例3、6、9及び12は、添加剤として溶融シリカ粉末を含んでいない場合であって、80Kg/cm2以上の高いせん断接着強度を示した。これに対し、本発明の硬化剤を用いず、溶融シリカ粉末を含まない比較例1では、強度は60Kg/cm2と不十分であった。一方、実施例4、5、7、8、10、11、13及び14は、溶融シリカ粉末を含んでおり、32Kg/cm2以上のせん断接着強度を示した。これに対し、本発明の硬化剤を用いず、溶融シリカ粉末を同様に含む比較例2及び3では、25Kg/cm2と低い強度を示すか、凝集物の生成によって接着できない結果となった。
【0035】
(実施例15)及び(実施例16)
実施例15及び16では、実施例1の硬化剤1を用いてワニスを製造し、それを用いてプリプレグ及び銅張積層板を得た。まず、ブロム化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(Br含有率:21.5%、エポキシ当量:480)、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量:210)、実施例1の硬化剤1であるイミダゾールシラン変性ノボラック樹脂、及び、その他後述する表3に示した材料を表3の割合で混合した。この混合物に、アセトンを加え、ワニスを調製した。
【0036】
次に、仕様7628タイプのガラス織布基材(積層板用無アルカリ平織ガラスクロス)に各ワニスを樹脂含量がおよそ50%になるように含浸させ、乾燥させ、プリプレグを得た。このプリプレグを8枚重ねることにより、また、銅箔(厚み:35μm)を使用し片側に重ね、これを175℃、40kg/cm2の加熱加圧条件で90分間プレスすることによって銅張積層板を得た。この銅張積層板の接着性評価として、ピール強度を回路幅1cmで測定した。その結果を後述する表4に示す。
【0037】
(比較例4)及び(比較例5)
比較例4及び5では、本発明の硬化剤の替わりにフェノールノボラック樹脂(水酸基等量:104)を用い、その他表3に示した材料を表3の混合比で用いた。それ以外は、実施例15及び16と同様にして、銅張積層板を得、そのピール強度を測定した。測定結果は、後述する表4に示す。
【0038】
(比較例6)
本比較例では、本発明の硬化剤を用いず、表3に示した材料を表3の混合比で用いた。ワニスを調製する際に上記実施例ではアセトンのみを用いたが、本比較例ではワニスを調製するためにアセトンの他にジメチルフォルムアミドとメチルセルソルブを使用する必要があった。それ以外は、実施例15及び16と同様にして、銅張積層板を製造し、そのピール強度を測定した。測定結果は、後述する表4に示す。
【0039】
【表3】
Figure 0003708423
【0040】
【表4】
Figure 0003708423
【0041】
表4に示したように、本発明の硬化剤を用いた実施例15及び16では、アセトンのみを溶剤として用いたにもかかわらず、十分なピール強度を示した。これに対して、本発明の硬化剤を用いず、溶剤としてアセトンのみを用いた比較例4及び5では、低い強度を示すか、ワニスに凝集物が生成した。また、実施例15及び16は、ジシアンジアミド系硬化剤(比較例6)と同程度の十分なピール強度を示していることが分かった。
【0042】
【発明の効果】
本発明のエポキシ樹脂用フェノール系硬化剤を用いると、エポキシ樹脂組成物を硬化させたときに、エポキシ樹脂と、金属や無機材料との密着性を向上させることができる。また、本発明のエポキシ樹脂用フェノール系硬化剤は、ケトン系溶媒にも溶解性が高く、ワニスやプリプレグ等様々な用途に用いることができる。このような理由により、本発明の硬化剤及びそれを用いたエポキシ樹脂組成物は、電子材料分野に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例で製造した樹脂を用いて接着した銅合金板のせん断強度の測定方法を説明するための図である。

Claims (10)

  1. エポキシ樹脂用フェノール系硬化剤であって、
    フェノール系硬化剤を溶融し、その中にイミダゾール基又はジメチルアミノ基又はそれらの塩である3級以上のアミノ基を有するシランカップリング剤を攪拌混合して得られた変性フェノール系硬化剤であることを特徴とするエポキシ樹脂用フェノール系硬化剤。
  2. (a)エポキシ樹脂、及び、(b)請求項1に記載のエポキシ樹脂用フェノール系硬化剤を含むエポキシ樹脂組成物。
  3. さらに、無機質充填材を含む請求項記載のエポキシ樹脂組成物。
  4. 請求項2又は3に記載のエポキシ樹脂組成物を用いた積層板用ワニス。
  5. 請求項2又は3に記載のエポキシ樹脂組成物を基材に含浸したプリプレグ。
  6. 請求項に記載のプリプレグを積層形成してなる積層板。
  7. 請求項2又は3に記載のエポキシ樹脂組成物を金属粉末と混練してなる半導体チップマウンティング材料。
  8. 請求項2又は3に記載のエポキシ樹脂組成物を加熱して得られたエポキシ樹脂硬化物。
  9. 請求項に記載のエポキシ樹脂硬化物によって半導体チップが封止されている半導体封止装置。
  10. エポキシ樹脂用フェノール系硬化剤の製造方法であって、フェノール系硬化剤を溶融し、イミダゾール基又はジメチルアミノ基又はそれらの塩である3級以上のアミノ基を有するシランカップリング剤を攪拌混合し、変性フェノール系硬化剤を得ることを特徴とするエポキシ樹脂用フェノール系硬化剤の製造方法。
JP2000320792A 2000-10-20 2000-10-20 エポキシ樹脂用フェノール系硬化剤及びそれを用いたエポキシ樹脂組成物 Expired - Lifetime JP3708423B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000320792A JP3708423B2 (ja) 2000-10-20 2000-10-20 エポキシ樹脂用フェノール系硬化剤及びそれを用いたエポキシ樹脂組成物
TW90117504A TW572926B (en) 2000-10-20 2001-07-18 Phenolic curing agent for epoxy resin and epoxy resin composition using the same
KR10-2001-0048238A KR100456348B1 (ko) 2000-10-20 2001-08-10 에폭시수지용 페놀계 경화제 및 그것을 사용한에폭시수지조성물
CNB011252227A CN1175037C (zh) 2000-10-20 2001-08-31 用于环氧树脂的酚类固化剂以及使用该固化剂的环氧树脂组合物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000320792A JP3708423B2 (ja) 2000-10-20 2000-10-20 エポキシ樹脂用フェノール系硬化剤及びそれを用いたエポキシ樹脂組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002128867A JP2002128867A (ja) 2002-05-09
JP3708423B2 true JP3708423B2 (ja) 2005-10-19

Family

ID=18799019

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000320792A Expired - Lifetime JP3708423B2 (ja) 2000-10-20 2000-10-20 エポキシ樹脂用フェノール系硬化剤及びそれを用いたエポキシ樹脂組成物

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP3708423B2 (ja)
KR (1) KR100456348B1 (ja)
CN (1) CN1175037C (ja)
TW (1) TW572926B (ja)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004143383A (ja) * 2002-10-28 2004-05-20 Nikko Materials Co Ltd 固形シランカップリング剤組成物、その製造方法およびそれを含有する樹脂組成物
SG119379A1 (en) 2004-08-06 2006-02-28 Nippon Catalytic Chem Ind Resin composition method of its composition and cured formulation
WO2009001850A1 (ja) * 2007-06-25 2008-12-31 Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. 樹脂組成物及びその樹脂組成物を用いて得られる樹脂付銅箔
US20110217512A1 (en) * 2008-09-01 2011-09-08 Sekisui Chemical Co., Ltd. Laminated body and method for producing laminated body
WO2010140674A1 (ja) * 2009-06-05 2010-12-09 日本化薬株式会社 エポキシ樹脂組成物、プリプレグおよびそれらの硬化物
TWI490266B (zh) * 2009-12-02 2015-07-01 Mitsui Mining & Smelting Co A resin composition for forming a bonding layer of a multilayer flexible printed circuit board, a resin varnish, a resin copper foil having a resin copper foil, a multilayer flexible printed circuit board, and a multilayer flexible printed circuit board
JP5885330B2 (ja) * 2011-07-26 2016-03-15 日本化薬株式会社 エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、プリプレグおよびそれらの硬化物
JP5885331B2 (ja) * 2011-07-27 2016-03-15 日本化薬株式会社 エポキシ樹脂混合物、エポキシ樹脂組成物、プリプレグおよびそれらの硬化物
CN107629194B (zh) * 2017-10-16 2020-05-19 六安捷通达新材料有限公司 一种环氧粉末涂料用耐热性酚类固化剂及其制备方法
CN107987254B (zh) * 2017-11-03 2019-11-26 福建师范大学 一种结构可调硅基噻唑环氧树脂固化剂及其制备方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5212661A (en) * 1989-10-16 1993-05-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Apparatus for performing floating point arithmetic operation and rounding the result thereof

Also Published As

Publication number Publication date
KR20020031031A (ko) 2002-04-26
CN1175037C (zh) 2004-11-10
CN1350026A (zh) 2002-05-22
JP2002128867A (ja) 2002-05-09
KR100456348B1 (ko) 2004-11-09
TW572926B (en) 2004-01-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5738274B2 (ja) 耐熱用接着剤
KR101538820B1 (ko) 경화성 조성물, 이방성 도전 재료 및 접속 구조체
JP4962156B2 (ja) 導電性接着剤
CN107207935A (zh) 导热性导电性粘接剂组合物
EP2799509A1 (en) Insulating adhesive composition for metal-based copper clad laminate (mccl), coated metal plate using same, and method for manufacturing same
JP5549183B2 (ja) エポキシ樹脂組成物の製造法、並びにプリプレグの製造法、積層板及び配線板の製造法
WO2015059950A1 (ja) ポリイミド樹脂組成物、及びそれを用いた熱伝導性接着フィルム
JP3708423B2 (ja) エポキシ樹脂用フェノール系硬化剤及びそれを用いたエポキシ樹脂組成物
WO2007075014A1 (en) Epoxy resin composition
JPWO2014051149A1 (ja) 導電性接着剤
JP3885664B2 (ja) プリプレグ、積層板およびプリント配線板
KR100560262B1 (ko) 염기성 실란 커플링제 유기카르본산염 조성물, 그 제조방법, 및 그것을 포함한 에폭시수지 조성물
JP2005002000A (ja) 新規イミダゾールシラン化合物、その製造方法およびその利用
JP4883842B2 (ja) エポキシ樹脂組成物用添加剤およびそのエポキシ樹脂組成物
JP2007277384A (ja) 導電性接着剤
JPH11209713A (ja) 異方導電性接着剤
JP2010229368A (ja) エポキシ樹脂組成物並びにプリプレグ、積層板及び配線板
JP4560928B2 (ja) インターポーザ用エポキシ樹脂組成物、プリプレグ及びそれを用いた銅張積層板
JP2008277803A (ja) ダイボンディング用樹脂ペースト組成物、それを用いた半導体装置の製造方法及び半導体装置
JP2009246026A (ja) ペースト状接着剤及びこの接着剤を用いた電子部品内蔵基板の製造方法
JP4467120B2 (ja) 導電性樹脂組成物
JP2018021156A (ja) 樹脂組成物、並びにこれを用いた硬化成形物、接着シート、並びに基板
JP5251949B2 (ja) 基板およびプリント回路板
JP2005314449A (ja) 樹脂用添加剤
JP2004352785A (ja) 異方導電性接着剤

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050323

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050405

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050601

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050801

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050803

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 3708423

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080812

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090812

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090812

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100812

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100812

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110812

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110812

Year of fee payment: 6

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110812

Year of fee payment: 6

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110812

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120812

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120812

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130812

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130812

Year of fee payment: 8

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250