JP3683360B2 - 偏光制御素子および固体レーザー - Google Patents

偏光制御素子および固体レーザー

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、直線偏光した単一縦モードのレーザービームを得るための偏光制御素子に関するものである。
【0002】
また本発明は、偏光制御素子を共振器内に備えて、直線偏光した単一縦モードのレーザービームを発生させる固体レーザーに関するものである。
【0003】
【従来の技術】
例えば特開昭62−189783号に示されるように、ネオジウムなどの希土類が添加された固体レーザー結晶を半導体レーザー等によってポンピングする固体レーザーが公知となっている。またこの種の固体レーザーにおいては、より短波長のレーザービームを得るために、その共振器内に非線形光学材料の結晶を配置して、固体レーザービームを第2高調波等に波長変換することも広く行なわれている。
【0004】
ところで、上述のような固体レーザーに対しては、その他の種類のレーザー装置と同様、直線偏光のレーザービームや、直線偏光でかつ単一縦モードのレーザービームを発生させたいという要求がある。しかし、固体レーザー媒質としてYAGのように光学的に等方な結晶を使用する場合は、そのままでは直線偏光したレーザービームを得ることはできない。そこでそのような場合、従来は、直線偏光したレーザービームを得るために共振器内に偏光制御用ブリュスター板を配置したり、また直線偏光でかつ単一縦モードのレーザービームを得るために共振器内にブリュスター板とエタロンを配置する等の手法が採用されていた。
【0005】
ところが上記のブリュスター板は、光学研磨面の面精度の不完全性、光学研磨面のブリュスター角からの僅かなずれ、さらにはその表面および内部における散乱のために、大きな共振器挿入ロスを招くことが認められている。またエタロンもブリュスター板ほどではないが、その表面および内部における散乱のために共振器挿入ロスを招く。このようにして大きな共振器挿入ロスが生じると、固体レーザーの発振効率が低下してしまう。
【0006】
また、特に共振器内にブリュスター板とエタロンとが配置される場合は、これら2つの光学素子の部品コスト、調整コストが高くつき、ひいては固体レーザーのコストアップにつながる。
【0007】
このような問題を解決できる偏光制御素子として、特開平6−130328号に示されるものが知られている。この偏光制御素子は、複屈折性を有する結晶がいわゆるアングル・カット、すなわちその光学軸に対して光入、出射端面が0°あるいは90°以外の所定の傾斜角をなすようにカットされ、かつ、ファブリー・ペロー型のエタロンとして機能するように該結晶の厚さおよび端面反射率が調整されてなるものである。
【0008】
この偏光制御素子に光が入射すると、その常光線と異常光線とが分離される。そこでこの偏光制御素子をレーザー共振器内に配しておくと、共振器ミラーの位置に応じて、これら2つの光線のうちの一方のみが選択されて発振する。それにより、共振器から出射するレーザービームは直線偏光したものとなる。またその際、エタロンとしても機能するこの素子により発振波長が選択されて、レーザービームが単一縦モード化される。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
この複屈折性結晶からなる偏光制御素子は、先に述べたブリュスター板と比較すると共振器挿入ロスが小さいので、この偏光制御素子を備えた固体レーザーは発振効率が高いものとなり得る。
【0010】
しかしその半面この偏光制御素子を備えた固体レーザーにおいては、共振器ミラーの位置を調整して、直線偏光で単一縦モード、単一横モード発振させたとき、その温度(共振器温度や、ポンピング源としての半導体レーザー等の温度)が変化すると、ある温度領域で、本来の偏光方向と直交する方向に偏光した高次横モードが発振することがある。
【0011】
この高次横モードが発振すると、直線偏光特性が劣化し、また特にレーザービームを光波長変換素子によって波長変換する場合は、波長変換波の出力が低下してしまう。
【0012】
そこで本発明は、レーザービームを直線偏光させ、かつ単一縦モード、単一横モード化するために使用されたとき、温度変化によって高次横モードが発振することを防止できる偏光制御素子を提供することを目的とするものである。
【0013】
また本発明は、直線偏光でかつ単一縦モードのレーザービームを発生させることができ、また共振器挿入ロスが極力抑えられて発振効率が高く、その上、広い温度範囲において直線偏光特性、出力安定性の高い固体レーザーを提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】
本発明による偏光制御素子は、前述したように複屈折性を有する結晶がアングル・カットされ、かつファブリー・ペロー型のエタロンとして機能するようにその厚さおよび端面反射率が調整されてなり、レーザー共振器内に配置されてレーザーの偏光を直線偏光に制御するとともにその縦モードを単一化する偏光制御素子において、
複屈折性を有する結晶の厚さが、エタロンのFSR( Free Spectral Range )がレーザー媒質の利得幅とほぼ同等となり、かつ、偏光の向きが相直交する2つのレーザー発振モードのそれぞれに対する選択波長が上記FSRの25%以上の差を有して相異なるように設定されていることを特徴とするものである。
【0015】
また本発明による固体レーザーは、上記構成の偏光制御素子が共振器内に配置されていることを特徴とするものである。
【0016】
【発明の効果】
上記の複屈折性結晶からなる偏光制御素子を固体レーザーの共振器内に配したとき、レーザービームの偏光状態および縦モードが制御される仕組みは、先に述べた通りである。
【0017】
そして、上記結晶の厚さが、偏光の向きが相直交する2つのレーザー発振モードのそれぞれに対する選択波長が相異なるように設定されていると、つまり例えば、常光に対してはレーザーの利得ピークに合致するように結晶厚さが設定されていると、その場合は異常光に対するエタロン・ロスが大きくなる。これにより異常光の発振が抑制されるので、温度変化によって高次横モードが発振することがなくなり、広い温度範囲において直線偏光特性、出力安定性の高いレーザーが得られるようになる。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。図1は、本発明の1つの実施形態によるレーザーダイオードポンピング固体レーザーを示すものである。このレーザーダイオードポンピング固体レーザーは、ポンピング光としてのレーザービーム10を発する半導体レーザー11と、発散光である上記レーザービーム10を集束させる集光レンズ12と、ネオジウム(Nd)がドーピングされた固体レーザー媒質であるYAG結晶(以下、Nd:YAG結晶と称する)13と、このNd:YAG結晶13の前方側(図中右方側)に配された共振器ミラー14と、この共振器ミラー14とNd:YAG結晶13との間に配された偏光制御素子15と、この偏光制御素子15とNd:YAG結晶13との間に配された光波長変換素子20とからなる。
【0019】
以上の各要素は、図示しない共通の筐体にマウントされて一体化されている。また後述のようにNd:YAG結晶13と共振器ミラー14とで固体レーザーの共振器が構成されるが、この共振器部分と半導体レーザー11は、図示しないペルチェ素子と温調回路とにより所定温度に保たれる。
【0020】
半導体レーザー11としては、波長809 nmのレーザービーム10を発する出力400 mWのものが用いられている。またNd:YAG結晶13はNd濃度が1atm %で、厚さが1mmのものである。このNd:YAG結晶13は入射したレーザービーム10によってネオジウム・イオンが励起されて、波長946 nmの光を発する。共振器ミラー14は、ミラー面14aの曲率半径が20mmのものである。光波長変換素子20は一例として、周期ドメイン反転構造を有するLiNbO3 のバルク結晶(結晶長3mm)からなる。
【0021】
一方偏光制御素子15は複屈折性を有する方解石の結晶からなり、図2に詳しく示す通りその両端面15a、15bが光学軸に対して46.7°の角度をなす状態にして、厚さ0.8 mmにカットされている。
【0022】
ここでNd:YAG結晶13の両端面13aおよび13bと、共振器ミラー14のミラー面14aおよび光出射端面14bと、偏光制御素子15の両端面15aおよび15bの、以上挙げた波長、Nd:YAG結晶13の別の発振線1064nm、1300nm、並びに後述の第2高調波波長473 nmに対する反射率あるいは透過率は、適宜のコーティングを施すことにより下表の通りに調整されている。なおこの表中、Rは反射率を、Tは透過率を示しており、それらの数値の単位は%である。
【0023】
Figure 0003683360
また、光波長変換素子20の両端面20a、20bの反射率は、以下の通りである。
Figure 0003683360
上記の構成においては、偏光制御素子15の両端面15a、15b間に波長946 nmの定在波が生じ、この波長946 nmの光のみがNd:YAG結晶端面13aとミラー面14aとの間で強く共振してレーザービーム16が得られる。このようにして単一縦モード化されたレーザービーム16は、光波長変換素子20により波長が1/2、すなわち473 nmの第2高調波21に変換される。波長946 nmのレーザービーム16は共振器ミラー14のミラー面14aをほとんど透過せず、その一方波長473 nmの第2高調波21の一部がこのミラー面14aを透過して、光出射端面14bから出射する。
【0024】
このように本実施形態では、偏光制御素子15の両端面15aおよび15bに適宜のコーティングを施して該素子15をファブリー・ペロー型のエタロンとしても機能させているが、このようなコーティングによらず、偏光制御素子15を構成する結晶自身のフレネル反射を利用して同様の機能を得ることも可能である。なお本実施形態では、Nd:YAG結晶端面13aとミラー面14aとの間の距離、すなわち共振器長は10mmである。
【0025】
また、光学的に等方なNd:YAG結晶13から出射した波長946 nmのレーザービーム16は、図2に示すように、複屈折性を有する偏光制御素子15において常光線16Aと異常光線16Bとに分離される。そこで共振器ミラー14を、これら常光線16Aと異常光線16Bの分離方向に適当に位置調整することにより、常光線16Aと異常光線16Bの一方のみを発振させることができる。このようにしてレーザービーム16は、直線偏光したものとなる。
【0026】
上記レーザービーム16を波長変換して得られた第2高調波21も直線偏光で、かつ単一縦モードであることが確認され、その出力は6mWである。この第2高調波出力は、偏光制御素子15に代えて従来のようにブリュスター板とエタロンとを配置した場合の出力に比べて、約2倍と高いものである。
【0027】
なお上記の構成において、周期ドメイン反転構造を有するLiNbO3 結晶からなる光波長変換素子20の非線形光学定数d33を利用する場合は、基本波としての波長946 nmのレーザービーム16の直線偏光方向をLiNbO3 結晶のz軸方向と一致させる必要がある。そこで、図1に示すように光波長変換素子20および偏光制御素子15が配置される場合は、常光線のみが発振するように共振器ミラー14を位置調節すればよい。
【0028】
ここで一般的に、複屈折性を有する結晶の光学軸と入射光のなす角度をθ、常光線と異常光線とのなす角度をρ、結晶の常光線、異常光線に対する屈折率をそれぞれno 、ne とすると、
【0029】
【数1】
Figure 0003683360
【0030】
であり、したがって結晶の厚さがtのときの常光線と異常光線の分離幅dは、
【0031】
【数2】
Figure 0003683360
【0032】
となる。この分離幅dは大きい方が好ましい。
【0033】
偏光制御素子15を構成する方解石は、他の複屈折性結晶と比較して屈折率そのものが低い上に、複屈折性(屈折率no とne との差)も大きい。そのため、上記分離幅dが大きく取れるので、本発明の偏光制御素子を構成する上で極めて好適な材料であると言える。
【0034】
一般に、複屈折性を有する結晶の屈折率楕円体は下記の式で与えられる。なおこの式においてneoは、z軸とx(y)軸との中間的な方向についての屈折率である。
【0035】
【数3】
Figure 0003683360
【0036】
偏光制御性を得るために本例では、方解石をその劈開面を利用して、図2に示すようにθ=46.7°でアングル・カットして偏光制御素子15とする。方解石の波長946 nmに対する屈折率はno =1.6448、ne =1.4806であるから、この場合の屈折率neoは(数3)式よりneo=1.5514となる。
【0037】
一方、エタロンの厚さtと選択波長の関係は、屈折率no を感じる方向(以下これをno 方向という)の偏光と、屈折率neoを感じる方向(以下これをneo方向という)の偏光に関してそれぞれ、
o 方向偏光: 2no t=mo λo ……(4)
eo方向偏光: 2neot=meoλeo ……(5)
ただしmo とmeoは整数、λo とλeoは選択波長
となる。
【0038】
946 nm発振のYAGレーザーにおいて、第2エタロンモードが発振しないようにするには、エタロンのFSR(Free Spectral Range )を基本的にYAGの利得幅0.8 nmと同等の0.8 nmとする必要がある。偏光制御素子15をこのようにFSR=0.8 nmのエタロンとし、それを方解石から作成する場合、エタロン厚さ(偏光制御素子15の厚さ)は350 μm付近の値となる。
【0039】
このとき、上記(4)、(5)式から定まるエタロン選択波長λo 、λeoが図3のように互いに一致するエタロン厚さは、約5μm周期で344 μm、349 μm、354 μmとなる。
【0040】
これに対して、5μm周期の半周期の2.5 μmずれた346.5 μm、351.5 μm、356.5 μmのエタロン厚さであれば、図4に示すようにエタロン選択波長λo 、λeoがFSR=0.8 nmの1/2の0.4 nmだけ互いにずれる状態となる。この状態を得るために本実施形態においては、偏光制御素子15の厚さを一例として351.5 μmに設定してあるが、それに限らず356.5 μmあるいは346.5 μmとしてもよい。
【0041】
ここで、従来装置のようにエタロン選択波長λo 、λeoが互いに一致する場合(図3の状態)には、ある温調温度下で光波長変換素子20の周期ドメイン反転構造と位相整合する偏光方向(no 方向)と直交する偏光方向(neo方向)の高次横モードが発振し、前者の偏光方向を有する発振光つまり常光線16Aのパワーが低下する。このため、温調温度に対する第2高調波出力特性は、図5に概略を示すように不安定な状態となる。
【0042】
それに対して本発明の場合、すなわちエタロン選択波長λo 、λeoが相異なる場合(図4の状態)は、no 方向の偏光についての選択波長λo がYAGの利得ピークに合致するようにエタロンを選択して単一縦モード化を図ると、λeo方向の偏光に対するエタロン選択波長ではYAGの利得が外れて、この偏光の発振が抑圧され、常にno 方向の偏光つまり常光線16Aのみが発振するようになる。そこでこの場合は図6に概略を示すように、温調温度が変化しても第2高調波の出力は安定する。
【0043】
上述したように、946 nm発振のYAGレーザーにおいて、第2エタロンモードが発振しないようにするには、エタロンのFSRを、基本的にYAGの利得幅0.8 nmと同等の0.8 nmとする必要がある。このときneo方向とno 方向のエタロン選択波長の差は、最大でFSR0.8 nmの50%つまり0.4 nmまでとることができる(図4の場合に相当)。ただし、neo方向とno 方向のエタロン選択波長の差が少なくとも0.2 nm(FSR0.8 nmの25%)とれれば、neo方向に対するYAGの利得が半分以下となり、neo方向の発振を十分に抑圧することができる。
【0044】
なお本発明の偏光制御素子を形成する材料としては、以上挙げた方解石の他、LiNbO3 、ルチル、水晶、YVO4 等も使用可能であり、特に波長変換も可能な非線形光学効果を示す材料としてはKTiOPO4 (KTP)、KNbO3 、LiNbO3 さらにはLiTaO3 等が使用可能である。
【0045】
また以上、レーザー結晶としてNd:YAG結晶を用いた946 nm発振の波長変換レーザーについて述べたが、Nd:YAG結晶を用いた別の発振線、例えば1064nm、1300nmの発振線についても、同様にして単一縦モード化および偏光制御を行ない、その上で温度変化に対する出力安定化を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一つの実施形態である固体レーザーを示す側面図
【図2】図1の固体レーザーに用いられた偏光制御素子を詳しく示す側面図
【図3】従来装置における固体レーザーの利得とエタロン選択波長との関係を示すグラフ
【図4】図1の装置における固体レーザーの利得とエタロン選択波長との関係を示すグラフ
【図5】従来装置におけるレーザー出力と温度との概略関係を示すグラフ
【図6】図1の装置におけるレーザー出力と温度との概略関係を示すグラフ
【符号の説明】
10 レーザービーム(ポンピング光)
11 半導体レーザー
12 集光レンズ
13 Nd:YAG結晶
14 共振器ミラー
15 偏光制御素子
16 固体レーザービーム
16A 常光線
16B 異常光線
20 光波長変換素子
21 第2高調波

Claims (3)

  1. 複屈折性を有する結晶が、その光学軸に対して光入、出射端面が0°あるいは90°以外の所定の傾斜角をなすようにカットされ、かつファブリー・ペロー型のエタロンとして機能するようにその厚さおよび端面反射率が調整されてなり、レーザー共振器内に配置されてレーザーの偏光を直線偏光に制御するとともにその縦モードを単一化する偏光制御素子において、
    前記結晶の厚さが、エタロンのFSR( Free Spectral Range )がレーザー媒質の利得幅とほぼ同等となり、かつ、偏光の向きが相直交する2つのレーザー発振モードのそれぞれに対する選択波長が前記FSRの25%以上の差を有して相異なるように設定されていることを特徴とする偏光制御素子。
  2. 前記結晶が方解石の結晶であることを特徴とする請求項記載の偏光制御素子。
  3. 請求項1または2記載の偏光制御素子が共振器内に配置されていることを特徴とする固体レーザー。
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IL120754A0 (en) 1997-05-01 1998-01-04 Yeda Res & Dev Optical resonators with discontinuous phase elements
US6181728B1 (en) * 1998-07-02 2001-01-30 General Scanning, Inc. Controlling laser polarization
AU7309400A (en) * 1999-09-15 2001-04-17 Yeda Research And Development Co. Ltd. Optical resonators with orthogonally polarized modes
US7777959B2 (en) * 2004-05-27 2010-08-17 Angstrom, Inc. Micromirror array lens with fixed focal length
JP2006294880A (ja) * 2005-04-12 2006-10-26 Shimadzu Corp 固体レーザ装置
US20070116068A1 (en) * 2005-11-21 2007-05-24 Mao Hong W System and components for generating single-longitudinal-mode nanosecond laser beam having a wavelength in the range from 760nm to 790nm
US7782913B2 (en) * 2007-07-20 2010-08-24 Corning Incorporated Intensity modulation in wavelength converting optical package
JP2008147687A (ja) * 2008-01-09 2008-06-26 Nidek Co Ltd 眼科用レーザ装置
CN107005018B (zh) * 2014-10-02 2019-09-20 瑞士苏黎世联邦理工学院 脉冲激光器
JP7228793B2 (ja) * 2019-06-07 2023-02-27 パナソニックIpマネジメント株式会社 波長変換デバイス

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH613310A5 (ja) * 1977-04-01 1979-09-14 Inst Angewandte Physik
US5062694A (en) * 1991-04-08 1991-11-05 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Birefringent filter design
GB2254710B (en) * 1991-04-12 1994-01-26 Northern Telecom Europ Ltd Fabry-perot optical filters
US5493426A (en) * 1991-11-14 1996-02-20 University Of Colorado Foundation, Inc. Lateral electrode smectic liquid crystal devices
JP2824884B2 (ja) * 1992-10-16 1998-11-18 富士写真フイルム株式会社 偏光制御素子および固体レーザー装置
US5588013A (en) * 1994-11-30 1996-12-24 The Whitaker Corporation Polarization controlled tuneable ring laser

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