JP3663171B2

JP3663171B2 - FED panel and manufacturing method thereof

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Publication number: JP3663171B2
Application number: JP2001397410A
Authority: JP
Inventors: 正中李; 貞慧廖; 華▲き▼ 鄭; 文俊王
Original assignee: Industrial Technology Research Institute ITRI
Current assignee: Industrial Technology Research Institute ITRI
Priority date: 2001-12-27
Filing date: 2001-12-27
Publication date: 2005-06-22
Anticipated expiration: 2021-12-27
Also published as: JP2003197133A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は一種のフィールドエミッティングディスプレイ（ＦＥＤ）パネルとその製造方法に関し、且つ、特に、フィールドエミッティングディスプレイパネルにおいて、比較的幅の広い伝導層上の比較的幅の細いナノチューブエミッタ層により形成された複数のカソードを具えたＦＥＤパネル及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、フラットディスプレイパネル装置は発展し且つ広く電子アプリケーションにおいて使用され、例えば、パソコンにおいて応用されている。非常に普及したフラットパネルディスプレイ装置は、解析度を増進したアクティブマトリクス液晶ディスプレイである。しかし、液晶ディスプレイ装置には多くの先天的な制限があり、そのため多くの応用に不適合である。例えば、液晶ディスプレイは多くの製造上の制限を有し、一つの緩慢な堆積工程、アモルファスシリコンを形成したり、高い製造の複雑度と低生産率の製造プロセスによるガラスパネルコーティングを必要とする。且つ、液晶ディスプレイ装置はバックライトを必要とし、このバックライトは大量の電力を消費し且つ発生する光線の大部分は浪費される。強光の状態や広視角で液晶ディスプレイの画像を観るのは困難であり、ゆえに液晶ディスプレイの多くの応用領域での使用が制限されていた。
【０００３】
その他のフラットパネルディスプレイ装置はすでに最近数年で発展しており、液晶ディスプレイパネルの代わりに応用されている。このような装置の一つは、フィールドエミッティングディスプレイ装置であり、それはＬＣＤの制限を克服し、且つ幾つかのＬＣＤ装置に勝る長所を有している。例えば、伝統的なＴＦＴ液晶ディスプレイパネルに較べ、フィールドエミッティングディスプレイ装置は比較的高いコントラスト率（ｃｏｎｔｒａｓｔｒａｔｉｏ）、比較的大きな視角、比較的高い最大輝度、比較的低いパワー消耗及び更に広い温度操作範囲を有する。
【０００４】
ＦＥＤとＬＣＤの間の一つの最も極端な差異は、ＬＣＤ、ＦＥＤの応用するカラーの蛍光粉が発生する事故の光線ソースである。ＦＥＤは複雑で、電力を消費するバックライト、フィルタを必要とせず、且つこのため、全てのＦＥＤの発生する光線は、いずれも使用者が見ることができる。さらに、ＦＥＤは大量の数のＴＦＴを必要とせず、このためアクティブマトリクスＬＣＤの高コストと生産率の問題の主要なソースをなくすことができる。
【０００５】
一つのＦＥＤ中にあって、電子はカソードより発射され且つ透明カバー板背後に塗布された蛍光粉に衝突し、画像を発生する。このカソード発光（ｃａｔｈｏｄｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ）の工程はすでに最も有効な光線発生の方法の一つとして知られている。伝統的なＣＲＴ装置に対して、ＦＥＤ中の各一つの画素或いは発射単位はその自己の電子ソースを有し、言い換えると、即ち、典型的な発射微尖端（ｅｍｉｔｔｉｎｇｍｉｃｒｏｔｉｐ）アレイである。電圧差がカソードとゲート電極の間に存在すると、それがカソードより電子を獲得し且つ電子を加速し蛍光粉層に向けて電流を発射し、及びディスプレイの輝度は強烈に発射材料のワーク関数（ｗｏｒｋｆｕｎｃｔｉｏｎ）に依頼する。ＦＥＤの必要な機能を達成するため、エミッタソース材料の清潔と均一性は非常に重要である。
【０００６】
電子をＦＥＤ中にあって行進させられるようにするため、大部分のＦＥＤは減圧され低圧とされ、例えば１０^-7ｔｏｒｒとされ、発射される電子に対数平均フリーパス（ｌｏｇｍｅａｎｆｒｅｅｐａｔｈ）を提供するだけでなく、微尖端が汚染され退化しないようにしている。フォーカスグリッド（ｆｏｃｕｓｇｒｉｄ）コリメート（ｃｏｌｌｉｍａｔｅ）を使用して微尖端より抜き取る電子が、十分にディスプレイの解析度を増進させる。
【０００７】
フィールドエミッティングカソードの発展初期には、モリブデン微尖端エミッタが利用され、このような装置内にあって、シリコンウエハーは先に酸化されて厚酸化シリコン層を発生し、その後、金属性のゲート層が該酸化層の上面に堆積される。この金属性のゲート層はその後ゲート開口を形成し、その後、この開口下方の酸化シリコンがエッチングされ、該ゲートの下部が切除され並びに一つのウエルが形成される。犠牲材料層（ｓａｃｒｉｆｉｃｉａｌｍａｔｅｒｉａｌｌａｙｅｒ）例えばニッケルが堆積されてニッケル堆積が該エミッタウエル中に進入するのが帽子される。モリブデンがその後常態落下８ｎｏｒｍａｌｉｎｃｉｄｅｎｃｅ）の方式で堆積され、チップ円錐体が凹溝中で成長させられて上面の開口が閉じられる。ニッケルの犠牲層が除去され、エミッタ円錐体が残る。
【０００８】
別の設計においては、シリコン微尖端エミッタは先にシリコン上で熱酸化作用をリードし、その後、該酸化物をデザインし且つ選択的にエッチングしてシリコンチップを形成する。さらなる酸化作用或いはエッチングが、シリコンを保護し且つチップポイントを鋭く尖らせて犠牲層を提供する。その他の交換可能な設計中にあって、微尖端は要求された材料の基板に建立され、例えばガラスが、理想的な大面積フラットパネルディスプレイ基板とされる。この微尖端は伝導材料、例えば金属或いはドープ半伝導材料で形成される。このようなＦＥＤ装置の代替設計中にあって、カソードと微尖端の間に、一層のすでに導電性をすでに制御された層（ｉｎｔｅｒｌａｙｅｒ）が堆積される。この中間層の適当な抵抗率により、該装置が安定状態中で操作可能とされる。このようなＦＥＤ装置の製造工程中、アモルファスシリコン薄膜を堆積することが必要で、その導電性の範囲は本マイクロアモルファスシリコンとｎ⁺ ドープアモルファスシリコンの間にある。ｎ⁺ ドープアモルファスシリコンの導電性は、薄膜に含まれるりん原子の数を調整することにより制御できる。
【０００９】
一般に、ＦＥＤ装置の製造工程中、この装置は非常に低圧の凹溝中に含まれ、このため電子発射が妨害を受けない。例えば一般に、１０^-7ｔｏｒｒの低圧が必要である。ＦＥＤ装置の二塊の比較的大型のガラスパネルに対する崩壊（ｃｌｌａｐｓｅ）の形成を防止するため、スペーサを使用して支持し且つ二つのパネルの間に適当な空間を提供する必要がある。例えば、伝統的なＦＥＤ装置中、ガラスボール或いはガラス十字架がすでにこのゆおなＦＥＤ装置を維持する空間として使用されている。細長いスペーサもすでにこのような用途に使用されている。
【００１０】
図１は伝統的なフィールドエミッティングディスプレイ装置１０の断面図である。該ＦＥＤ装置１０は、典型的なアモルファスシリコン底膜抵抗層１２がガラス基板１４の上に形成されている。誘電材料の絶縁層１６と金属性ゲート層１８がその後に堆積され且つ一つに結合されて金属性の微尖端２０及び被抵抗層１２に被覆されたカソード構造２２を提供し、且つこれにより、抵抗性であるが少し伝導力を有するアモルファスシリコン層１２が、誘電材料、例えば二酸化シリコンで形成された高度絶縁層１６の下に形成される。このアモルファスシリコン層１２の抵抗率を制御することは重要であり、これにより過度の抵抗性を防止するが、しかし、現在に至るまで、その演じる役割は、抵抗を制限して微尖端と金属層１８の短絡を防止し、余分な電流流動の形成を防止することにある。
【００１１】
完全なＦＥＤ構造３０は、構造３０上に架設されたアノード２８を含み、これは図２に示されるようである。注意すべきは、カソード２２と抵抗層１２は単層カソード２２と表示されていることである。微尖端２０が形成され、この微尖端２０の尖端より電子が発射される。ゲート電極１８は正の電荷（ｐｏｓｉｔｉｖｅｃｈａｒｇｅ）を提供され、アノード２８が比較的高い正の電荷を提供される。間欠性の伝導力を有するＩＴＯ層３４も応用され得て、さらにりん層が電子２６に遭遇した時の輝度を増進する。そのうち一部分の拡大図面が図３に示されている。このＦＥＤ装置の総厚さは僅かに２ｍｍで、真空で同時に比較的低いガラス板１４と比較的高いガラス板３６を引張り、並びに側壁によりパネル３８を密封する（図２参照）。
【００１２】
微尖端の形成する伝統的なＦＥＤ装置は、図１から図３に示され、それは液晶ディスプレイ装置品質より良好なフラットパネルディスプレイ装置を提供する。しかし、微尖端ＦＥＤ装置の不利なところは、その複雑な製造ステップにあり、このようなステップはこの装置を製造するのに使用が必要なステップである。例えば、装置内の各種各様な異なる層の形成、さらに明確に述べれば、微尖端の形成にはホトリソグラフィー方法の薄膜堆積技術の応用が必要である。このため、多くのマスクステップを進行して、それによりＦＥＤ内の各種の異なる構造を画定且つ製造しなければならない。製造工程中に含まれるＣＶＤ堆積工程とホトリソグラフィー工程は大幅にＦＥＤ装置の製造コストを増加する。
【００１３】
１９９９年８月１９日に出願された米国パテント出願第０９／３７７，３１５号と本発明は同じ譲受人（ａｓｓｉｇｎｅｅ）である。その明細書中にＦＥＤ装置と、このようなナノチューブエミッタを電子発射ソースとして使用する三極構造装置方法が記載されている。この三極構造ＦＥＤ装置にあって、この装置は、第１電気絶縁板、及び金属を含む材料でこの第１電気絶縁板の上に形成されたカソードと、このカソードの上に形成された高電気抵抗材料の薄膜と、炭素、ダイヤモンド炭素を材料としてこの抵抗層の上に形成された一層のナノチューブエミッタを具え、そのうち、カソード、抵抗層及びナノチューブエミッタが発射層を形成し、絶縁リブ材支持区がこれらの相互に近隣の発射層を絶縁し、誘電材料層が垂直にこれらの発射層を被覆し、ゲート電極がこれらの誘電材料層の上方にあり、且つ第２電気絶縁板の上にアノードが形成されてこのゲート電極を被覆している。該ＦＥＤ装置は十分に厚膜印刷技術により有益に製造され、それは微尖端を応用したＦＥＤより実質上低い製造コストで製造され且つ比較的高い製造機能を有する。しかし、三つの分離された電極はこの装置に必要とされ、言い換えると、カソード、ゲート電極、アノードは分離したステップで形成されなければならない。
【００１４】
別に１９９９年９月１５日に出願された米国パテント出願第０９／３９６，５３６号は本発明と同じ譲受人であり且つ同様に審査中であるが、その明細書中にＦＥＤ装置と、このようなナノチューブエミッタを電子発射ソースとして使用する二極構造装置方法が記載されている。この二極構造ＦＥＤ装置にあって、この装置は、第１ガラス板表面に複数のエミッタが積み重ねられ、各一つのエミッタ積層が該ガラス板の横切断面方向に平行で、且つ一層の導電材料、例えば銀ゴム、及び上面の一層のナノチューブエミッタを具えている。この第１ガラス板は複数の絶縁材料層を具え、一つの絶縁材料により形成され、それが複数のエミッタ積層の間に介在し電気の隔離を提供する。第２ガラス板内部表面に一層の導電材料、例えばＩＴＯが塗布され、第１ガラスの上方にある距離を置いて放置される。多様性の蛍光粉塗布条（ｓｔｒｉｐ）がその後、ＩＴＯ層の上に形成され、複数のエミッタ積層の発射する電子に励起され、各一つの塗布条が赤、緑或いは青の光線を発射する。このＦＥＤパネルは大量の側板が一つに組み合わされ、側板が第１と第２ガラス板の周囲を一つに結合させ、内部に真空の凹溝を形成する。該ＦＥＤ装置はこの応用中に記載され、それは二つの電極で製造され、いいかえると、第１電極がガラス板の底部に塗布され、且つ第２電極がガラス板の上部に塗布され、二つの板の間にゲート電極を使用する必要がない。このような組合せ上、電子はナノチューブエミッタより発射され並びにゲート電極が応用された場合のように強烈にガラス板上の蛍光粉塗布層を襲撃することがない。
【００１５】
上述の説明の三極と二極構造ＦＥＤは他の各種の製造と機能上の問題を有している。例えば、三極構造ＦＥＤ中、その製造工程は比較的複雑で且つこのため高い信頼度の製品を製造するのが難しい。絶縁誘電層の厚さ及び電極間の空間は高精密度下で形成されて信頼度を達成する必要がある。二極構造ＦＥＤ中にあって、蛍光粉塗布されたカソードとナノチューブエミッタ間の距離は１００ｕｍ以下でなくてはならない。ナノチューブエミッタ形態ＦＥＤ内で５ｖｏｌｔｓ／ｕｍの操作フィールドを発生するためには、この制限を遵守されねばならず、これにより、駆動電圧は理解できる範囲下にあって、５００ボルトより小さい。この上板（アノード）と下板（カソード）の間で許容される小距離がその他の工程上の困難を形成し、例えば二つの板の間で高真空を達成し、特に大型寸法の表示スクリーンを製造する時はそうである。及びただ二つの電極が使用される時の電子放射が、強度と画像品質の低下をもたらす。
【００１６】
現在ナノチューブを電子発射ソースとするＦＥＤ装置の設計中にあって、厚膜印刷方法により該ナノチューブが伝導層の上に塗布される。二極構造或いは三極構造のＦＥＤ装置はいずれも厚膜印刷方法により該ナノチューブ発射層を形成する。これは図４と図７に示されるとおりである。
【００１７】
図４は伝統的な二極構造のＦＥＤ４０が示され、それは、上部ガラス基板４２と底部ガラス基板４４で構成されている。上部ガラス基板４２には、電気伝導層或いは電極４６が形成され、蛍光粉塗布層４８が形成されている。底部ガラス金４４には、まず伝導層或いは銀ペースト電極層５０が堆積され、この電極層５０の上部に、炭素ナノチューブ層５２が厚膜印刷され、この炭素ナノチューブ層５２が露出し且つ上向きに指向し、これは図４に示されるようである。しかし、ナノチューブ層５２が高温下で必要な硬化工程に導入された後、該炭素ナノチューブ層５２が流動し且つ伝導層５０の側辺を被覆し、図５に示されるようになる。最後の構造は図５に示されるようであり、この炭素ナノチューブ５４の分布は制御できず、且つ、この炭素ナノチューブ層５２の辺縁の電場分布はその上部の電場分布と非常に異なる。結果的に、この層５２の辺縁上のナノチューブは比較的高い電子発射密度を有し、即ち、この層５２の辺縁より電子が発射されやすい。このためＦＥＤ装置上の画像中に不均一と粗劣なコントラストが発生することになった。
【００１８】
三極構造ＦＥＤ６０中にあって、すでに類似の欠点が分かっており、例えば図６、７に示されるようである。この三極構造ＦＥＤ６０中にあって、第１ゲート電極６２が誘電層６４と伝導層６６により形成され、図４、５に示されるものに類似し、このナノチューブ層５２の硬化工程期間に、この層が溢れて該伝導層５０の辺縁を被覆し、この比較的高密度のナノチューブが該ナノチューブ層５２の辺縁に形成され、類似の不均一な電場の影響を形成する。三極構造ＦＥＤ６０の事例にあって、さらに多くの電子が第１ゲート極６２上で失われる。実際に蛍光塗布層４８に到達する電子百分率はこれにより減少し、ＦＥＤディスプレイの強度とコントラストが減少する。このため、二極或いは三極ＦＥＤ装置に新たな構造を提供し、伝導ペースト状層の側壁にナノチューブを形成しないようにし、ディスプレイパネルの飽和度、明晰度及びコントラストを増進する必要がある。
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の主要な目的は、伝統的なＦＥＤパネルの欠点を有さない二極或いは三極構造のＦＥＤパネルを提供することにある。
【００２０】
本発明の別の目的は、ＦＥＤパネルを提供することにあり、そのうち、カソードの形成は、ナノチューブ層を利用して広い伝導層の上部にあって達成されるものとする。
【００２１】
本発明のさらに一つの目的は、一種のＦＥＤパネルを提供することにあり、そのうち、ナノチューブエミッタは比較的大きな幅の伝導層上部の比較的小さい幅のナノチューブエミッタ層により形成され、これにより伝導層の側壁に硬化工程の後にナノチューブによる被覆が発生しないものとする。
【００２２】
本発明のもう一つの目的は、一種のＦＥＤパネルを提供することにあり、そのうち、ナノチューブエミッタの形成は、第１の幅を有する伝導層の上部にあって一層の、第２の幅を有するナノチューブ層により達成され、この第２の幅が第１の幅の３／４より小さいものとする。
【００２３】
本発明のもう一つの目的は、一種のＦＥＤパネルを提供することにあり、そのうち、ナノチューブエミッタが第１の幅を有する伝導材料上に堆積された第２の幅を有する一層のナノチューブ材料により形成され、この第２の幅が第１の幅の１／４から３／４の間とされたものとする。
【００２４】
本発明のさらに一つの目的は、一種の方法を提供することにあり、該方法において、伝導層上部のナノチューブ層を利用してナノチューブエミッタを形成し、ＦＥＤパネルを製造し、そのうち、ナノチューブ層の幅を伝導層の幅の３／４より小さくする。
【００２５】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、
第１電気絶縁板と、
複数のエミッタ積層であって、上述の第１電気絶縁板の上に形成され、各一つのエミッタ積層が該第１電気絶縁板の横向き方向に平行に放置され、且つ第１電気伝導材料層とその上部の一つのナノチューブエミッタ層とを具え、該ナノチューブエミッタ層の塗布硬化後の幅が上述の第１電気伝導材料層の幅の約１／４から３／４の間であり、且つ該ナノチューブエミッタ層が厚膜印刷技術により形成された、上記複数のエミッタ積層と、
第２電気絶縁板であって、第１電気絶縁板の上面に置かれ且つ上述の第１絶縁板において間隔を開けて設けられ、該第２電気絶縁板が上述の第１電気絶縁板に対向する内部表面を具えた、上記第２電気絶縁板と、
第２電気伝導材料層であって、上述の第２電気絶縁板の上述の内部表面に設けられた、上記第２電気伝導材料層と、
複数条の多様性の蛍光粉条であって、上述の第２電気伝導材料層に塗布され、複数のエミッタ積層より発射される電子群により活性化されてそれぞれ、赤、緑、青光を発射する、上記複数条の多様性の蛍光粉条と、
複数の側面面板であって、上述の第１電気絶縁板と第２電気絶縁板の周囲を一つに結合し、その内部に真空の内腔を形成する、複数の側面面板と、
を少なくとも具えたことを特徴とする、ＦＥＤパネルとしている。
請求項２の発明は、前記ＦＥＤパネルにおいて、第２電気絶縁板がブラックアレイ層を複数条の多様性の蛍光粉条相互の間に具えたことを特徴とする、請求項１に記載のＦＥＤパネルとしている。
請求項３の発明は、前記ＦＥＤパネルにおいて、第１電気絶縁板と第２電気絶縁板が透明なセラミック材料で形成されたことを特徴とする、請求項１に記載のＦＥＤパネルとしている。
請求項４の発明は、前記ＦＥＤパネルにおいて、第１電気伝導材料層がＦＥＤパネルのカソードとされたことを特徴とする、請求項１に記載のＦＥＤパネルとしている。
請求項５の発明は、前記ＦＥＤパネルにおいて、第１電気伝導材料層が銀ペーストとされたことを特徴とする、請求項１に記載のＦＥＤパネルとしている。
請求項６の発明は、前記ＦＥＤパネルにおいて、第２電気伝導材料層がＦＥＤパネルの第１アノードとされたことを特徴とする、請求項１に記載のＦＥＤパネルとしている。
請求項７の発明は、前記ＦＥＤパネルにおいて、第２電気伝導材料層がＩＴＯで形成されたことを特徴とする、請求項１に記載のＦＥＤパネルとしている。
請求項８の発明は、前記ＦＥＤパネルにおいて、ナノチューブエミッタ層が複数のナノメータ寸法中空管と接着剤の混合物で形成されたことを特徴とする、請求項１に記載のＦＥＤパネルとしている。
請求項９の発明は、前記ＦＥＤパネルにおいて、ナノチューブエミッタ層が複数のナノメータ寸法の炭素、ダイアモンド或いは類ダイアモンド炭素の中空管と接着剤の混合物で形成されたことを特徴とする、請求項１に記載のＦＥＤパネルとしている。
請求項１０の発明は、前記ＦＥＤパネルにおいて、各一つの多様性の蛍光粉条がそれぞれ、赤、緑或いは青光を発生し、複数のエミッタ積層より来る電子が近隣の蛍光条を活性することにより光を発射することを特徴とする、請求項１に記載のＦＥＤパネルとしている。
請求項１１の発明は、前記ＦＥＤパネルにおいて、第１電気伝導材料が複数の絶縁材料層の上部に形成されて、第１ゲート電極の機能を有することを特徴とする、請求項１に記載のＦＥＤパネルとしている。
請求項１２の発明は、ＦＥＤパネル製造方法において、少なくとも以下のステップ、即ち、
第１電気絶縁板を提供するステップ、
厚膜印刷方法により複数のエミッタ積層を第１板の横断面方向に平行に形成し、各一つのエミッタ積層は第１電気伝導材料層とその上部の一つのナノチューブエミッタ層とを具え、該ナノチューブエミッタ層の塗布硬化後の幅が上述の第１電気伝導材料層の幅の約１／４から３／４の間であるものとするステップ、
第２電気絶縁板を提供するステップ、
第１電気絶縁板と第２電気絶縁板を組み合わせて一つにする時、第２電気伝導材料層を第２電気絶縁板の内部表面に第１電気絶縁板に向けて形成するステップ、
電子で活性化された後に赤、緑、青光を発生する多様性の蛍光塗布条を第２電気伝導材料層にあって形成するステップ、
複数の側面面板で第１電気絶縁板と第２電気絶縁板を一つに接合し、そのなかに真空の内腔を形成するステップ、
以上のステップを含むことを特徴とする、ＦＥＤパネル製造方法としている。
請求項１３の発明は、前記ＦＥＤパネル製造方法において、第１電気伝導材料層を銀ペーストに印刷するステップを含むことを特徴とする、請求項１２に記載のＦＥＤパネル製造方法としている。
請求項１４の発明は、前記ＦＥＤパネル製造方法において、接着剤と、炭素繊維、ダイアモンド繊維或いは類ダイアモンド炭素繊維より選択したナノメータ寸法の中空繊維の混和物により、ナノチューブエミッタ層を印刷するステップを含む、請求項１２に記載のＦＥＤパネル製造方法としている。
請求項１５の発明は、前記ＦＥＤパネル製造方法において、負の電荷を第１電気伝導材料層の下方の複数のエミッタ積層に連接し、正の電荷を第２電気伝導材料層に連接するステップを含むことを特徴とする、請求項１２に記載のＦＥＤパネル製造方法としている。
請求項１６の発明は、前記ＦＥＤパネル製造方法において、ブラックアレイ層を第２電気絶縁板上にあって多様性蛍光粉塗布条相互の間に塗布するステップを含むことを特徴とする、請求項１２に記載のＦＥＤパネル製造方法としている。
請求項１７の発明は、前記ＦＥＤパネル製造方法において、多様性の蛍光粉塗布条を厚膜印刷技術を形成することを特徴とする、請求項１２に記載のＦＥＤパネル製造方法としている。
請求項１８の発明は、前記ＦＥＤパネル製造方法において、第１電気伝導材料を複数の絶縁材料層の上部に印刷して第１ゲート電極となすステップを含むことを特徴とする、請求項１２に記載のＦＥＤパネル製造方法としている。
【００２６】
【発明の実施の形態】
本発明によると、一種のＦＥＤパネルを提供し、それは、第１の幅の伝導層の上部の第２の幅のナノチューブエミッタ層で形成したナノチューブエミッタを具えている。このナノチューブエミッタ層の第２の幅は第１の幅の３／４より小さい。このナノチューブエミッタ層の第２の幅は第１の幅の１／４から３／４とされる。
【００２７】
本発明の好ましいＦＥＤパネルの実施例は、第１電気絶縁板と、該第１電気絶縁板の上に形成された複数のエミッタ積層を具え、各一つのエミッタ積層は該第１電気絶縁板の横断面に平行に放置され、且つ一層の第１電気伝導材料を具え、該電気伝導材料は第１の幅と、上面に第２の幅を具えた一層のナノチューブエミッタを具え、第２の幅が第１の幅の３／４より小さい。複数のエミッタ積層の間の絶縁物質で形成されたリブ領域が相互の絶縁縁を提供する。第２電気絶縁板がこの第１電気絶縁板の上に放置され且つ該第１電気絶縁板の上にあって隔離され、その一つの内部表面が第１電気絶縁板に向けられ、一層の第２電気伝導材料が第２電気絶縁板の該内部表面にあり、複数のエミッタ積層の発射する電子に活性化されて、多様性の蛍光粉条が該第２電気伝導材料の上にあって、それぞれ、赤、緑、青光を発射し、且つ複数の側板が第１電気絶縁板と第２電気絶縁板の四周を一つに組合せ、内部に真空の内腔を形成する。
【００２８】
ＦＥＤパネル中にあって、ナノチューブエミッタ層の第２幅は第１電気伝導材料の幅の１／４から３／４の間とされる。この第２電気絶縁板はさらにブラックアレイ層を該多様性蛍光条の間に具えうる。第１と第２電気絶縁板は本質的に透明なセラミック材料で形成される。第１電気絶縁板層はＦＥＤパネルのカソードとされ、第１電気伝導材料も銀ペーストとされうる。第２電気伝導材料層はＦＥＤパネルの第１アノードとされ、それはＩＴＯで形成されうる。ナノチューブ層はナノメータ寸法の中空管と接着剤材料の混合物で形成され、該ナノチューブエミッタ層はナノメータ寸法の炭素、ダイアモンド或いはダイアモンド炭素の中空管と重合物ベース接着剤の混合物で形成される。各多様性の蛍光粉条は赤、緑或いは青光を発生し、複数のエミッタ積層から来る電子が隣接する蛍光条を活性化することにより光を発生する。ＦＥＤパネルはさらに第２層の第２電気伝導材料を具え得て、それはこれらの絶縁材料層の上部に形成され、第１ゲート電極の機能を有するものとされる。
【００２９】
本発明はさらにＦＥＤパネルの製造方法を提供する。その操作ステップは、まず、第１電気絶縁板を提供し、厚膜印刷方法により、複数のエミッタ積層を第１板の横断面方向に平行に形成し、各一つのエミッタ積層は第１幅を有する一層の第１電気伝導材料と、第２の幅を有する上部の一層のナノチューブエミッタ層を含み、第１電気絶縁板と第２電気絶縁板を組み合わせて一つにする時、第２電気伝導材料を第２電気絶縁板の内部表面に第１電気絶縁板に向けて形成し、電子で活性化された後に赤、緑、青光を発生する多様性の蛍光塗布条を電気伝導材料の上に形成し、側板で第１電気絶縁板と第２電気絶縁板を一つに接合し、そのなかに真空の内腔を形成する。
【００３０】
ＦＥＤパネルの製造方法中にあって、第２の幅は第１の幅の１／４から３／４の間とされうる。本方法は銀ペースト中に第１電気伝導材料層を印刷するステップを含むか、或いは接着剤と、炭素繊維、ダイアモンド繊維、及びダイアモンド繊維に類するナノメータ寸法の中空繊維より選択したものの混合物で、該ナノチューブエミッタ層に印刷するステップを含む。本方法はさらに、負の電荷を第１電気伝導材料に複数のエミッタ積層の下において連接し且つ正の電荷を第２電気伝導材料に連接するステップを含むか、或いは、多様性蛍光粉塗布条間の第２電気絶縁板上に、ブラックアレイ層を塗布するステップを含む。該多様性蛍光粉塗布は厚膜印刷技術により形成される。この方法はさらに複数の、第１ゲート電極機能を有する絶縁材料層の上部に、一層の第１電気伝導材料層を堆積させるステップを含む。
【００３１】
【実施例】
本発明は一種の二極或いは三極構造のＦＥＤパネルを提供し、この構造中のナノチューブエミッタ層は電子発射ソースとして使用される。ナノチューブ発射ソース中にあって、幅を減少した発射層が伝導層の上部に堆積されて、ナノチューブエミッタ層に硬化工程が導入された後、ナノチューブが該伝導層の外周側壁を充満することがない。このため、完全に任意の側壁ナノチューブによる電子の発射を除去できる。このナノチューブエミッタ層の幅は、下面の伝導層の幅の３／４より小さく、このナノチューブエミッタ層の幅は、該伝導層の幅の１／４から３／４の間であり、これにより硬化工程後の溢れを防止できる。
【００３２】
本発明はさらにＦＥＤパネルの製造方法を提供する。それはナノチューブを電子発射ソースとして応用し、そのうちナノチューブエミッタ層は幅が下方の伝導層の幅の３／４より小さい幅を有する。該ナノチューブエミッタ層が下方の伝導層の幅より小さいことにより、ナノチューブエミッタ層の伝導層側壁への任意の可能な溢れが防止される。結果として、伝導層外周表面のナノチューブより発射される電子放射が除去される。
【００３３】
現在、図８を参照されたい。これは本発明の二極構造ＦＥＤ構造を示す。ＦＥＤ装置７０にあって、電極層７４と蛍光粉塗布層７６が上面の上部ガラス面板７２に堆積され、それが底部ガラス基板７８に対応する位置に放置される。底部ガラス基板７８の上部に所定の幅の伝導層材料が堆積され、例えば銀ペースト伝導層８０とされる。この伝導層８０の幅より小さいナノチューブ層８２は厚膜印刷技術により上部に堆積される。了解されるように、これらのナノチューブ８４はは上部表面と該ナノチューブ層８２の外周側壁表面にあって突出する。このナノチューブ層８２の幅は銀ペースト伝導層８０の幅の３／４より小さい。該ナノチューブ層８２の幅はさらに銀ペースト伝導層８０の幅の約１／４から３／４の範囲にある。ここで使用する「約」の表明する数値の範囲は平均値の±百分の十の範囲内を示す。
【００３４】
ナノチューブ層に硬化工程を導入し、即ち摂氏温度約４００度から５００度の間で、約３０分から６０分間処理すると、図９に示されるようになり、ナノチューブ層８２は重力により流動して比較的低い高さに至るが、銀ペースト伝導層８０上部表面にも残る。結果として、負の電荷をこの銀ろう伝導層８０に印加する時、電子８８がこのナノチューブ８４より蛍光粉塗布層７６に向けて発射され、ＦＥＤ装置７０上の画像を改善する。図５に示される伝統的な装置と比較すると、伝導層５０の側壁より発射される電子が本発明において完全に除去されていることが分かる。
【００３５】
同様に、本発明の三極構造ＦＥＤ装置９０において、図１０と図１１に示されるように、アノード９２の第３電極を含み、それは絶縁層領域９６に堆積された第１ゲート電極９４により形成される。硬化工程後、このナノチューブ８４は銀ペースト伝導層８０の側壁に溢れず、これは図１１に示されるようである。結果として、ナノチューブ層８２の発射する大量の電子群は、この蛍光粉塗布層７６に到達し、該ＦＥＤ装置９０が大幅に改善された画像を現出する。
【００３６】
【発明の効果】
本発明の新規の構造は二極或いは三極構造ＣＮＴ−ＦＥＤ（カーボンナノチューブフィールド発射装置）において、大幅に改善した厚膜印刷電子発射ソースを提供する。厚膜堆積工程及び硬化工程導入後、本発明と図４、５に示される伝統的な製造方法を比較すると、本発明は大幅に改善された装置であることが分かる。本発明の構造の特性は、厚さが有意義に縮小され、即ちナノチューブエミッタ層の幅がナノチューブエミッタ中の銀ペースト層より小さく、且つナノチューブエミッタ層の厚さが約１ミクロンから約１０ミクロンの間とされる。
【００３７】
本発明は厚膜印刷を利用し電子発射ソースを形成することにより多くのメリットを表現する。それは、（１）ナノチューブと伝導層の間の整合の難度を除去する。（２）電子群の有効に蛍光粉塗布層に向けて噴射される比率を増進する。（３）ナノチューブ層より発射される電子の散乱を減少する。（４）誘電絶縁層の電荷累積を減少する。（５）ＦＥＤ設備に発生する画像均一度とコントラストを増加する。
【００３８】
本発明の新規なＦＥＤパネル、及び幅の比較的小さいナノチューブエミッタ層を利用し、このようなパネルを製造する方法は、すでに詳細に上述の説明及び貼付の図８、９、１０、１１中に示されている。
【００３９】
以上は本発明の好ましい実施例の説明であって本発明の実施範囲を限定するものではなく、本発明に基づきなしうる細部の修飾或いは改変は、いずれも本発明の請求範囲に属するものとする。
【図面の簡単な説明】
【図１】微尖端を応用して電子を発射する伝統的なＦＥＤの拡大断面図である。
【図２】図１のＦＥＤがさらに封閉処理室が形成されたアノードと側壁面板を具えた拡大断面図である。
【図３】図２の伝統的なＦＥＤ装置の部分拡大断面図であり、微尖端の構造を説明する。
【図４】ナノチューブ層が伝導層の上に堆積された伝統的な二極ＦＥＤ装置の拡大断面図である。
【図５】図４の伝統的な二極構造で、ナノチューブ層に硬化工程が施された後の拡大断面図である。
【図６】ナノチューブ層が伝導層の上に堆積された伝統的な三極ＦＥＤ装置の拡大断面図である。
【図７】図６の伝統的な三極構造で、ナノチューブエミッタ層に硬化工程が施された後の拡大断面図である。
【図８】本発明のナノチューブ層の幅を減少した二極構造ＦＥＤ装置の拡大断面図である。
【図９】図８の本発明の二極構造ＦＥＤ装置にあって、ナノチューブ層に硬化工程が施された後の拡大断面図である。
【図１０】本発明のナノチューブ層の幅を減少した三極構造ＦＥＤ装置の拡大断面図である。
【図１１】図１０の本発明の三極構造ＦＥＤ装置にあって、ナノチューブ層に硬化工程が施された後の拡大断面図である。
【符号の説明】
１０伝統的なＦＥＤ装置１２アモルファスシリコン底膜抵抗層
１４ガラス基板１６誘電材料の絶縁層
１８金属性ゲート層２０微尖端
２２カソード創造３０完全なＦＥＤ構造
２８アノード３６ガラス板
３２リン含有粒子３４ＩＴＯ層
２６電子３８側壁面板
４０伝統的な二極構造のＦＥＤ４２上部ガラス基板
４４底部ガラス基板４８蛍光粉塗布層
５４ナノチューブ６０三極構造ＦＥＤ
６２第１ゲート電極６４絶縁材料層
６６伝導層７０ＦＥＤ装置
７４電極層７６蛍光粉塗布層
７２上部ガラス面板７８底部ガラス基板
８０銀ペースト伝導層８２ナノチューブ層
８４ナノチューブ８８電子
９０三極構造ＦＥＤ装置９２アノード
９４第１ゲート電極９６絶縁材料層[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a kind of field emitting display (FED) panel and a manufacturing method thereof, and more particularly, in a field emitting display panel, formed by a relatively narrow nanotube emitter layer on a relatively wide conductive layer. The present invention also relates to an FED panel having a plurality of cathodes and a method for manufacturing the same.
[0002]
[Prior art]
In recent years, flat display panel devices have been developed and widely used in electronic applications, for example, in personal computers. A very widespread flat panel display device is an active matrix liquid crystal display with improved analysis. However, liquid crystal display devices have many inherent limitations and are therefore not suitable for many applications. For example, liquid crystal displays have many manufacturing limitations and require a slow deposition process, forming amorphous silicon, or glass panel coating with a high manufacturing complexity and low production rate manufacturing process. In addition, the liquid crystal display device requires a backlight, which consumes a large amount of power and that most of the generated light is wasted. It is difficult to view images on a liquid crystal display in a strong light state or a wide viewing angle, and thus the use of the liquid crystal display in many application areas has been limited.
[0003]
Other flat panel display devices have already been developed in recent years and are applied in place of liquid crystal display panels. One such device is a field emitting display device, which overcomes the limitations of LCDs and has advantages over some LCD devices. For example, compared to traditional TFT liquid crystal display panels, field emitting display devices have a relatively high contrast ratio, a relatively large viewing angle, a relatively high maximum brightness, a relatively low power consumption and a wider temperature operating range. Have
[0004]
One of the most extreme differences between the FED and the LCD is the accidental light source in which the color fluorescent powder applied by the LCD and FED is generated. FEDs are complex and do not require power consuming backlights or filters, and therefore, all FED generated light is visible to the user. Furthermore, the FED does not require a large number of TFTs, thus eliminating the main source of high cost and production rate problems of active matrix LCDs.
[0005]
In one FED, electrons are emitted from the cathode and collide with the fluorescent powder applied behind the transparent cover plate to generate an image. This cathodoluminescent process is already known as one of the most effective methods of light generation. For traditional CRT devices, each single pixel or firing unit in the FED has its own electron source, in other words, a typical emitting microtip array. When a voltage difference exists between the cathode and the gate electrode, it gains electrons from the cathode and accelerates the electrons to fire current toward the phosphor layer, and the brightness of the display is intensely the work function of the launch material ( (work function). In order to achieve the necessary function of the FED, the cleanness and uniformity of the emitter source material is very important.
[0006]
Most FEDs are depressurized to a low pressure to allow electrons to be marched in the FED, for example 10 ^-7 In addition to providing a log mean free path to the emitted electrons, the torso is not contaminated and degenerated. Electrons extracted from the fine tip using a focusgrid collimate sufficiently enhance the resolution of the display.
[0007]
In the early days of field-emitting cathodes, molybdenum fine-tip emitters were used, and in such devices, the silicon wafer was first oxidized to produce a thick silicon oxide layer, followed by a metallic gate layer. Is deposited on top of the oxide layer. The metallic gate layer then forms a gate opening, after which the silicon oxide below the opening is etched, the lower part of the gate is cut off and a well is formed. A sacrificial material layer, such as nickel, is deposited to cap the nickel deposition from entering the emitter well. Molybdenum is then deposited in the manner of a normal drop (normal incidence), and a tip cone is grown in the groove to close the top opening. The sacrificial layer of nickel is removed, leaving the emitter cone.
[0008]
In another design, the silicon microtip emitter first leads to thermal oxidation on the silicon, and then the oxide is designed and selectively etched to form a silicon chip. Further oxidation or etching protects the silicon and sharpens the tip point to provide a sacrificial layer. In other interchangeable designs, the microtips are erected on the required material substrate, for example, glass is an ideal large area flat panel display substrate. The fine tip is formed of a conductive material, such as a metal or a doped semiconductive material. In an alternative design of such an FED device, a layer of an already controlled conductivity (interlayer) is deposited between the cathode and the fine tip. The appropriate resistivity of this intermediate layer allows the device to operate in a stable state. During the manufacturing process of such an FED device, it is necessary to deposit an amorphous silicon thin film. ⁺ Between the doped amorphous silicon. n ⁺ The conductivity of the doped amorphous silicon can be controlled by adjusting the number of phosphorus atoms contained in the thin film.
[0009]
In general, during the manufacturing process of an FED device, the device is contained in a very low pressure groove, so that the electron emission is not disturbed. For example, generally 10 ^-7 A low pressure of torr is required. In order to prevent the formation of a collapse on the two bulky glass panels of the FED device, it is necessary to support them with spacers and provide a suitable space between the two panels. For example, in a traditional FED device, a glass ball or a glass cross is already used as a space for maintaining the Yuo FED device. Elongated spacers are already used for such applications.
[0010]
FIG. 1 is a cross-sectional view of a traditional field emitting display device 10. In the FED device 10, a typical amorphous silicon bottom film resistance layer 12 is formed on a glass substrate 14. An insulating layer 16 of dielectric material and a metallic gate layer 18 are then deposited and bonded together to provide a cathode structure 22 coated with metallic fine tip 20 and resistive layer 12, and thereby A resistive but slightly conductive amorphous silicon layer 12 is formed under a highly insulating layer 16 made of a dielectric material, such as silicon dioxide. It is important to control the resistivity of this amorphous silicon layer 12, thereby preventing excessive resistance, but until now, its role is to limit the resistance to the fine tip and metal layer. 18 short circuit is prevented, and formation of excessive current flow is prevented.
[0011]
The complete FED structure 30 includes an anode 28 laid over the structure 30 as shown in FIG. It should be noted that the cathode 22 and the resistive layer 12 are labeled as a single layer cathode 22. A fine tip 20 is formed, and electrons are emitted from the tip of the fine tip 20. The gate electrode 18 is provided with a positive charge and the anode 28 is provided with a relatively high positive charge. An ITO layer 34 with intermittent conductivity can also be applied to further enhance the brightness when the phosphor layer encounters electrons 26. A part of the enlarged drawing is shown in FIG. The total thickness of this FED device is only 2 mm, and a relatively low glass plate 14 and a relatively high glass plate 36 are simultaneously pulled in a vacuum, and the panel 38 is sealed by side walls (see FIG. 2).
[0012]
The traditional FED device formed by the fine tip is shown in FIGS. 1 to 3, which provides a flat panel display device that is better than the quality of the liquid crystal display device. However, the disadvantage of fine tip FED devices is their complex manufacturing steps, which are the steps that need to be used to manufacture this device. For example, the formation of various different layers in the apparatus, and more specifically, the formation of fine tips requires application of thin film deposition techniques of photolithography methods. For this reason, many mask steps must be advanced, thereby defining and manufacturing a variety of different structures within the FED. The CVD deposition process and the photolithography process included in the manufacturing process greatly increase the manufacturing cost of the FED device.
[0013]
The present invention is the same assignee as US patent application Ser. No. 09 / 377,315, filed Aug. 19, 1999. The specification describes a FED device and a triode structure device method using such a nanotube emitter as an electron emission source. In this three-pole structure FED device, the device includes a first electric insulating plate, a cathode formed on the first electric insulating plate with a material containing metal, and a high electrode formed on the cathode. It comprises a thin film of electrical resistance material and a single layer nanotube emitter formed on this resistive layer using carbon and diamond carbon, of which the cathode, resistive layer, and nanotube emitter form a launch layer, supporting the insulating rib material A section insulates these adjacent launch layers, a dielectric material layer vertically covers these launch layers, a gate electrode is above these dielectric material layers, and over the second electrical insulating plate. An anode is formed to cover this gate electrode. The FED device is sufficiently beneficially manufactured by thick film printing technology, which is manufactured at a substantially lower manufacturing cost than a FED applying fine tips and has a relatively high manufacturing capability. However, three separate electrodes are required for this device, in other words, the cathode, gate electrode, and anode must be formed in separate steps.
[0014]
Separately, US patent application Ser. No. 09 / 396,536, filed on Sep. 15, 1999, is the same assignee as the present invention and is also under examination, but in its specification the FED device and A bipolar structure apparatus method using a simple nanotube emitter as an electron emission source is described. In this bipolar FED device, a plurality of emitters are stacked on the surface of a first glass plate, each emitter stack is parallel to the direction of the transverse plane of the glass plate, and a single layer of conductive material For example, silver rubber, and a single-wall nanotube emitter on the top surface. The first glass plate comprises a plurality of insulating material layers and is formed of a single insulating material, which is interposed between a plurality of emitter stacks and provides electrical isolation. A single layer of conductive material, for example, ITO is applied to the inner surface of the second glass plate and left at a distance above the first glass. A variety of fluorescent powder strips are then formed on the ITO layer and excited by the firing electrons of the multiple emitter stacks, each one firing a red, green or blue light beam. In this FED panel, a large number of side plates are combined into one, and the side plates join the periphery of the first and second glass plates together to form a vacuum groove inside. The FED device is described in this application, which is manufactured with two electrodes, in other words, a first electrode is applied to the bottom of the glass plate and a second electrode is applied to the top of the glass plate, between the two plates. There is no need to use a gate electrode. In such a combination, electrons are emitted from the nanotube emitter and do not attack the fluorescent powder coating layer on the glass plate as strongly as when the gate electrode is applied.
[0015]
The tripolar and bipolar FEDs described above have various other manufacturing and functional issues. For example, in a triode FED, the manufacturing process is relatively complex and thus it is difficult to manufacture a highly reliable product. The thickness of the insulating dielectric layer and the space between the electrodes must be formed with high precision to achieve reliability. In a bipolar FED, the distance between the cathode coated with fluorescent powder and the nanotube emitter must be 100 um or less. In order to generate an operating field of 5 volts / um in a nanotube emitter configuration FED, this limitation must be observed, so that the drive voltage is below an understandable range and less than 500 volts. The small distance allowed between the upper plate (anode) and the lower plate (cathode) creates other process difficulties, for example, achieving a high vacuum between the two plates, producing particularly large display screens. That's when you do. And the electron emission when only two electrodes are used leads to a decrease in intensity and image quality.
[0016]
Currently, in the design of an FED device using a nanotube as an electron emission source, the nanotube is coated on the conductive layer by a thick film printing method. Both the bipolar and tripolar FED devices form the nanotube firing layer by a thick film printing method. This is as shown in FIG. 4 and FIG.
[0017]
FIG. 4 shows a traditional bipolar FED 40, which consists of a top glass substrate 42 and a bottom glass substrate 44. On the upper glass substrate 42, an electrically conductive layer or electrode 46 is formed, and a fluorescent powder coating layer 48 is formed. First, a conductive layer or silver paste electrode layer 50 is deposited on the bottom glass gold 44, and a carbon nanotube layer 52 is thickly printed on the electrode layer 50. The carbon nanotube layer 52 is exposed and oriented upward. This is as shown in FIG. However, after the nanotube layer 52 is introduced into the necessary curing process at high temperature, the carbon nanotube layer 52 flows and covers the sides of the conductive layer 50, as shown in FIG. The final structure is as shown in FIG. 5, the distribution of the carbon nanotubes 54 cannot be controlled, and the electric field distribution at the edge of the carbon nanotube layer 52 is very different from the electric field distribution on the top thereof. As a result, the nanotubes on the edge of this layer 52 have a relatively high electron emission density, ie, electrons are more likely to be emitted than the edge of this layer 52. For this reason, non-uniformity and poor contrast occur in the image on the FED apparatus.
[0018]
Similar disadvantages are already known in the triode FED 60, for example as shown in FIGS. In this triode FED 60, a first gate electrode 62 is formed by a dielectric layer 64 and a conductive layer 66, similar to that shown in FIGS. The layers overflow and cover the edges of the conductive layer 50, and this relatively dense nanotube is formed at the edges of the nanotube layer 52, creating a similar non-uniform electric field effect. In the case of the triode FED 60, more electrons are lost on the first gate electrode 62. The percentage of electrons that actually reach the fluorescent coating layer 48 is thereby reduced, reducing the intensity and contrast of the FED display. For this reason, it is necessary to provide a new structure for a two-pole or three-pole FED device so as not to form nanotubes on the side walls of the conductive paste-like layer, and to enhance the saturation, brightness and contrast of the display panel.
[0019]
[Problems to be solved by the invention]
The main object of the present invention is to provide a bipolar or tripolar FED panel that does not have the disadvantages of traditional FED panels.
[0020]
Another object of the present invention is to provide an FED panel, in which the formation of the cathode is accomplished on top of a wide conducting layer utilizing a nanotube layer.
[0021]
Another object of the present invention is to provide a kind of FED panel, in which the nanotube emitter is formed by a relatively small width nanotube emitter layer on top of a relatively large width conductive layer, whereby the conductive layer It is assumed that the side walls of the glass are not covered with nanotubes after the curing step.
[0022]
Another object of the present invention is to provide a kind of FED panel, in which the formation of the nanotube emitter has a second width on top of a conductive layer having a first width. It is achieved by the nanotube layer and this second width is less than 3/4 of the first width.
[0023]
Another object of the present invention is to provide a kind of FED panel, in which a nanotube emitter is formed by a single layer of nanotube material having a second width deposited on a conductive material having a first width. It is assumed that the second width is between 1/4 and 3/4 of the first width.
[0024]
Another object of the present invention is to provide a kind of method, in which a nanotube emitter is formed using a nanotube layer above a conductive layer, and an FED panel is manufactured. The width is made smaller than 3/4 of the width of the conductive layer.
[0025]
[Means for Solving the Problems]
The invention of claim 1
A first electrical insulating plate;
A plurality of emitter stacks formed on the first electrical insulating plate described above, each one of the emitter stacks being allowed to stand parallel to the lateral direction of the first electrical insulating plate; and A first electrically conductive material layer and one nanotube emitter layer on the first electrically conductive material layer, the width of the nanotube emitter layer after coating and curing being about 1/4 to 3/4 of the width of the first electrically conductive material layer. Between A plurality of the emitter stacks, wherein the nanotube emitter layer is formed by a thick film printing technique;
A second electrical insulating plate, which is placed on the upper surface of the first electrical insulating plate and spaced from the first insulating plate, and the second electrical insulating plate faces the first electrical insulating plate. The second electrical insulating plate, comprising an inner surface that
A second electrically conductive material layer, the second electrically conductive material layer provided on the inner surface of the second electrically insulating plate,
A plurality of various fluorescent powders, which are applied to the above-mentioned second electrically conductive material layer and activated by a group of electrons emitted from a plurality of emitter stacks to emit red, green and blue light, respectively. A plurality of the above-mentioned various fluorescent powder strips;
A plurality of side surface plates, wherein the side surfaces of the first electric insulating plate and the second electric insulating plate are combined together to form a vacuum lumen therein;
The FED panel is characterized by comprising at least.
The invention according to claim 2 is the FED panel according to claim 1, wherein the second electric insulating plate includes a black array layer between a plurality of various fluorescent powders. It is said.
A third aspect of the present invention is the FED panel according to the first aspect, wherein the first electric insulating plate and the second electric insulating plate are made of a transparent ceramic material.
A fourth aspect of the present invention is the FED panel according to the first aspect, wherein the first electrically conductive material layer is a cathode of the FED panel in the FED panel.
The invention according to claim 5 is the FED panel according to claim 1, wherein the first electrically conductive material layer is a silver paste in the FED panel.
The invention according to claim 6 is the FED panel according to claim 1, wherein the second electrically conductive material layer is the first anode of the FED panel in the FED panel.
The invention according to claim 7 is the FED panel according to claim 1, wherein the second electrically conductive material layer is made of ITO in the FED panel.
The invention of claim 8 is the FED panel according to claim 1, wherein the nanotube emitter layer is formed of a mixture of a plurality of nanometer-sized hollow tubes and an adhesive.
The invention of claim 9 is characterized in that, in the FED panel, the nanotube emitter layer is formed of a mixture of a plurality of nanometer-sized carbon, diamond or similar diamond carbon hollow tubes and an adhesive. It is set as the FED panel of description.
According to the invention of claim 10, in the FED panel, each one of the various fluorescent powders generates red, green or blue light, and electrons coming from a plurality of emitter stacks activate neighboring fluorescent light. The FED panel according to claim 1, wherein the FED panel emits light.
According to an eleventh aspect of the present invention, in the FED panel, the first electrically conductive material is formed on top of a plurality of insulating material layers to function as a first gate electrode. FED panel.
The invention of claim 12 is the FED panel manufacturing method, at least the following steps:
Providing a first electrical insulating plate;
A plurality of emitter stacks are formed in parallel to the cross-sectional direction of the first plate by a thick film printing method, and each emitter stack is A first electrically conductive material layer and one nanotube emitter layer on the first electrically conductive material layer, the width of the nanotube emitter layer after coating and curing being about 1/4 to 3/4 of the width of the first electrically conductive material layer. Between The steps to be taken,
Providing a second electrical insulating plate;
Forming a second electrically conductive material layer on the inner surface of the second electrical insulation plate toward the first electrical insulation plate when combining the first electrical insulation plate and the second electrical insulation plate into one;
Forming a variety of fluorescent coatings on the second electrically conductive material layer that generate red, green and blue light after being activated by electrons;
Joining the first electrical insulating plate and the second electrical insulating plate together with a plurality of side surface plates, and forming a vacuum lumen therein,
The FED panel manufacturing method is characterized by including the above steps.
A thirteenth aspect of the present invention is the FED panel manufacturing method according to the twelfth aspect, further comprising the step of printing the first electrically conductive material layer on a silver paste in the FED panel manufacturing method.
The invention of claim 14 includes the step of printing the nanotube emitter layer in the FED panel manufacturing method by using a mixture of an adhesive and a nanometer-sized hollow fiber selected from carbon fiber, diamond fiber, or similar diamond carbon fiber. The FED panel manufacturing method according to claim 12.
According to a fifteenth aspect of the present invention, in the FED panel manufacturing method, the step of connecting negative charges to the plurality of emitter stacks below the first electrically conductive material layer and connecting positive charges to the second electrically conductive material layer comprises the steps of: It is set as the manufacturing method of the FED panel of Claim 12 characterized by including.
According to a sixteenth aspect of the present invention, in the FED panel manufacturing method, the method includes a step of applying a black array layer on the second electrical insulating plate between the various fluorescent powder coating strips. The FED panel manufacturing method described in No. 12 is used.
The invention of claim 17 is the FED panel manufacturing method according to claim 12, characterized in that, in the FED panel manufacturing method, a variety of fluorescent powder coated strips are formed by a thick film printing technique.
The invention of claim 18 includes the step of printing the first electrically conductive material on top of the plurality of insulating material layers to form the first gate electrode in the FED panel manufacturing method. The described FED panel manufacturing method.
[0026]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
In accordance with the present invention, a type of FED panel is provided, which comprises a nanotube emitter formed of a second width nanotube emitter layer on top of a first width conductive layer. The second width of the nanotube emitter layer is less than 3/4 of the first width. The second width of the nanotube emitter layer is ¼ to ¾ of the first width.
[0027]
A preferred embodiment of the FED panel of the present invention comprises a first electrical insulating plate and a plurality of emitter stacks formed on the first electrical insulating plate, each emitter stack of the first electrical insulating plate. A first electrically conductive material that is left parallel to the cross section and comprises a first width and a nanotube emitter having a first width and a second width on the top surface; Is less than 3/4 of the first width. Rib regions formed of insulating material between the plurality of emitter stacks provide mutual insulating edges. A second electrical insulation plate is left on and isolated from the first electrical insulation plate, one internal surface of which is directed to the first electrical insulation plate, Two electrically conductive materials are present on the inner surface of the second electrically insulating plate, activated by electrons emitted from a plurality of emitter stacks, and a variety of fluorescent powders are on the second electrically conductive material, , Red, green, and blue light are emitted, and the plurality of side plates combine the four rounds of the first and second electrical insulating plates into one to form a vacuum lumen therein.
[0028]
In the FED panel, the second width of the nanotube emitter layer is between 1/4 and 3/4 of the width of the first electrically conductive material. The second electrical insulating plate may further include a black array layer between the various fluorescent stripes. The first and second electrical insulation plates are formed of an essentially transparent ceramic material. The first electrically insulating plate layer may be a cathode of an FED panel, and the first electrically conductive material may be a silver paste. The second electrically conductive material layer is the first anode of the FED panel, which can be formed of ITO. The nanotube layer is formed of a mixture of nanometer sized hollow tubes and an adhesive material, and the nanotube emitter layer is formed of a nanometer sized carbon, diamond or diamond carbon hollow tube and a mixture of a polymer-based adhesive. Each variety of fluorescent powders emits red, green or blue light, and electrons from a plurality of emitter stacks generate light by activating the adjacent fluorescent stripes. The FED panel may further comprise a second layer of second electrically conductive material, which is formed on top of these insulating material layers and has the function of a first gate electrode.
[0029]
The present invention further provides a method for manufacturing an FED panel. In the operation step, first, a first electrical insulating plate is provided, and a plurality of emitter stacks are formed in parallel to the cross-sectional direction of the first plate by a thick film printing method, and each emitter stack has a first width. A first electrical conducting material having an upper one layer emitter emitter layer having a second width, wherein the first electrical insulation plate and the second electrical insulation plate are combined into a second electrical conduction The material is formed on the inner surface of the second electric insulating plate toward the first electric insulating plate, and a variety of fluorescent coating strips that generate red, green, and blue light after being activated by electrons are formed on the electric conductive material. The first electric insulating plate and the second electric insulating plate are joined together by the side plate, and a vacuum lumen is formed therein.
[0030]
In the FED panel manufacturing method, the second width may be between 1/4 and 3/4 of the first width. The method includes printing a first electrically conductive material layer in a silver paste, or a mixture of an adhesive and carbon fibers, diamond fibers, and nanometer sized hollow fibers similar to diamond fibers, Printing on the nanotube emitter layer. The method further includes the step of connecting a negative charge to the first electrically conductive material under the plurality of emitter stacks and connecting a positive charge to the second electrically conductive material, or A step of applying a black array layer on the second electrically insulating plate therebetween. The diverse fluorescent powder coating is formed by a thick film printing technique. The method further includes depositing a first electrically conductive material layer on top of the plurality of insulating material layers having a first gate electrode function.
[0031]
【Example】
The present invention provides a kind of bipolar or tripolar FED panel, in which the nanotube emitter layer is used as an electron emission source. In a nanotube firing source, after a reduced-width launch layer is deposited on top of the conducting layer and a curing step is introduced into the nanotube emitter layer, the nanotubes do not fill the outer sidewall of the conducting layer . For this reason, it is possible to completely eliminate the emission of electrons by arbitrary sidewall nanotubes. The width of the nanotube emitter layer is smaller than 3/4 of the width of the conductive layer on the lower surface, and the width of the nanotube emitter layer is between 1/4 and 3/4 of the width of the conductive layer, thereby hardening. Overflow after the process can be prevented.
[0032]
The present invention further provides a method for manufacturing an FED panel. It applies nanotubes as an electron emission source, of which the nanotube emitter layer has a width that is less than 3/4 of the width of the underlying conductive layer. By making the nanotube emitter layer smaller than the width of the underlying conductive layer, any possible overflow of the nanotube emitter layer to the conductive layer sidewalls is prevented. As a result, the electron emission emitted from the nanotubes on the outer peripheral surface of the conductive layer is removed.
[0033]
Refer now to FIG. This shows the bipolar FED structure of the present invention. In the FED device 70, the electrode layer 74 and the fluorescent powder coating layer 76 are deposited on the upper glass face plate 72 on the upper surface, and it is left at a position corresponding to the bottom glass substrate 78. A conductive layer material having a predetermined width is deposited on the upper portion of the bottom glass substrate 78 to form, for example, a silver paste conductive layer 80. A nanotube layer 82 smaller than the width of the conductive layer 80 is deposited on top by a thick film printing technique. As will be appreciated, these nanotubes 84 project on the upper surface and the outer peripheral sidewall surface of the nanotube layer 82. The width of the nanotube layer 82 is smaller than 3/4 of the width of the silver paste conductive layer 80. The width of the nanotube layer 82 is further in the range of about 1/4 to 3/4 of the width of the silver paste conductive layer 80. As used herein, the range of numerical values expressed by “about” indicates a range of ± 10% of the average value.
[0034]
When a hardening process is introduced into the nanotube layer, that is, when it is processed at a temperature of about 400 to 500 degrees Celsius for about 30 to 60 minutes, as shown in FIG. Although it reaches a low height, it remains on the upper surface of the silver paste conductive layer 80. As a result, when a negative charge is applied to the silver brazing conductive layer 80, electrons 88 are emitted from the nanotube 84 toward the fluorescent powder coating layer 76, improving the image on the FED device 70. Compared to the traditional device shown in FIG. 5, it can be seen that the electrons emitted from the sidewall of the conductive layer 50 are completely removed in the present invention.
[0035]
Similarly, in the triode FED device 90 of the present invention, as shown in FIGS. 10 and 11, it includes a third electrode of an anode 92, which is formed by a first gate electrode 94 deposited in an insulating layer region 96. Is done. After the curing process, the nanotubes 84 do not overflow the side walls of the silver paste conductive layer 80, as shown in FIG. As a result, a large amount of electrons emitted from the nanotube layer 82 reaches the fluorescent powder coating layer 76, and the FED device 90 reveals a greatly improved image.
[0036]
【The invention's effect】
The novel structure of the present invention provides a greatly improved thick film printed electron launch source in a bipolar or tripolar CNT-FED (carbon nanotube field launcher). After the thick film deposition process and the curing process are introduced, comparing the present invention with the traditional manufacturing method shown in FIGS. The characteristics of the structure of the present invention are that the thickness is significantly reduced, i.e. the width of the nanotube emitter layer is smaller than the silver paste layer in the nanotube emitter and the thickness of the nanotube emitter layer is between about 1 micron and about 10 microns. It is said.
[0037]
The present invention expresses a number of advantages by using thick film printing to form an electron firing source. It removes (1) the difficulty of matching between the nanotube and the conductive layer. (2) The ratio of electrons that are effectively sprayed toward the fluorescent powder coating layer is increased. (3) Reduce scattering of electrons emitted from the nanotube layer. (4) Reduce the charge accumulation of the dielectric insulating layer. (5) Increase image uniformity and contrast generated in FED equipment.
[0038]
The novel FED panel of the present invention and the method of manufacturing such a panel utilizing a relatively narrow nanotube emitter layer are already described in detail above and in the attached FIGS. 8, 9, 10 and 11. It is shown.
[0039]
The above is a description of the preferred embodiments of the present invention, and is not intended to limit the scope of the present invention. Any modification or alteration in detail that can be made based on the present invention shall fall within the scope of the claims of the present invention. .
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an enlarged cross-sectional view of a traditional FED that emits electrons by applying fine tips.
2 is an enlarged cross-sectional view of the FED of FIG. 1 further including an anode in which a sealing chamber is formed and a side wall plate.
3 is a partially enlarged cross-sectional view of the traditional FED device of FIG. 2, illustrating the structure of the fine tip.
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of a traditional bipolar FED device with a nanotube layer deposited on a conductive layer.
FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of the traditional bipolar structure of FIG. 4 after the nanotube layer has been subjected to a curing process.
FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view of a traditional triode FED device with a nanotube layer deposited on a conductive layer.
7 is an enlarged cross-sectional view of the traditional tripolar structure of FIG. 6 after the nanotube emitter layer has undergone a curing process.
FIG. 8 is an enlarged cross-sectional view of a bipolar FED device with a reduced nanotube layer width according to the present invention.
9 is an enlarged cross-sectional view of the bipolar structure FED device of the present invention shown in FIG. 8 after the nanotube layer has been subjected to a curing step.
FIG. 10 is an enlarged cross-sectional view of a triode FED device having a reduced nanotube layer width according to the present invention.
11 is an enlarged cross-sectional view of the triode FED device of the present invention shown in FIG. 10 after the nanotube layer has been subjected to a curing step.
[Explanation of symbols]
10 Traditional FED device 12 Amorphous silicon bottom film resistive layer
14 Glass substrate 16 Insulating layer of dielectric material
18 Metallic gate layer 20 Fine tip
22 Cathode creation 30 Complete FED structure
28 Anode 36 Glass plate
32 Phosphorus-containing particles 34 ITO layer
26 electronic 38 side wall face plate
40 FED with traditional bipolar structure 42 Upper glass substrate
44 Bottom glass substrate 48 Fluorescent powder coating layer
54 Nanotube 60 Triode FED
62 First gate electrode 64 Insulating material layer
66 Conductive layer 70 FED device
74 Electrode layer 76 Fluorescent powder coating layer
72 Top glass face plate 78 Bottom glass substrate
80 Silver paste conductive layer 82 Nanotube layer
84 Nanotube 88 Electron
90 Triode FED device 92 Anode
94 First gate electrode 96 Insulating material layer

Claims

第１電気絶縁板と、
複数のエミッタ積層であって、上述の第１電気絶縁板の上に形成され、各一つのエミッタ積層が該第１電気絶縁板の横向き方向に平行に放置され、且つ第１電気伝導材料層とその上部の一つのナノチューブエミッタ層とを具え、該ナノチューブエミッタ層の塗布硬化後の幅が上述の第１電気伝導材料層の幅の約１／４から３／４の間であり、且つ該ナノチューブエミッタ層が厚膜印刷技術により形成された、上記複数のエミッタ積層と、
第２電気絶縁板であって、第１電気絶縁板の上面に置かれ且つ上述の第１絶縁板において間隔を開けて設けられ、該第２電気絶縁板が上述の第１電気絶縁板に対向する内部表面を具えた、上記第２電気絶縁板と、
第２電気伝導材料層であって、上述の第２電気絶縁板の上述の内部表面に設けられた、上記第２電気伝導材料層と、
複数条の多様性の蛍光粉条であって、上述の第２電気伝導材料層に塗布され、複数のエミッタ積層より発射される電子群により活性化されてそれぞれ、赤、緑、青光を発射する、上記複数条の多様性の蛍光粉条と、
複数の側面面板であって、上述の第１電気絶縁板と第２電気絶縁板の周囲を一つに結合し、その内部に真空の内腔を形成する、複数の側面面板と、
を少なくとも具えたことを特徴とする、ＦＥＤパネル。A first electrical insulating plate;
A plurality of emitter stacks formed on the first electrical insulating plate described above, each one of the emitter stacks being left in parallel in the lateral direction of the first electrical insulating plate, and the first electrically conductive material layer; One nanotube emitter layer on top of the nanotube emitter layer, the width of the nanotube emitter layer after coating and curing being between about 1/4 to 3/4 of the width of the first electrically conductive material layer, and the nanotube emitter layer. A plurality of emitter stacks, wherein the emitter layer is formed by thick film printing technology;
A second electrical insulating plate, which is placed on the upper surface of the first electrical insulating plate and spaced from the first insulating plate, and the second electrical insulating plate faces the first electrical insulating plate. The second electrical insulating plate, comprising an inner surface that
A second electrically conductive material layer, the second electrically conductive material layer provided on the inner surface of the second electrically insulating plate,
A plurality of various fluorescent powders, which are applied to the above-mentioned second electrically conductive material layer and activated by a group of electrons emitted from a plurality of emitter stacks to emit red, green and blue light, respectively. A plurality of the above-mentioned various fluorescent powder strips;
A plurality of side surface plates, wherein the side surfaces of the first electric insulating plate and the second electric insulating plate are combined together to form a vacuum lumen therein;
An FED panel characterized by comprising at least.

前記ＦＥＤパネルにおいて、第２電気絶縁板がブラックアレイ層を複数条の多様性の蛍光粉条相互の間に具えたことを特徴とする、請求項１に記載のＦＥＤパネル。 2. The FED panel according to claim 1, wherein the second electrical insulating plate includes a black array layer between a plurality of diverse fluorescent powders.

前記ＦＥＤパネルにおいて、第１電気絶縁板と第２電気絶縁板が透明なセラミック材料で形成されたことを特徴とする、請求項１に記載のＦＥＤパネル。 2. The FED panel according to claim 1, wherein the first electrical insulating plate and the second electrical insulating plate are made of a transparent ceramic material.

前記ＦＥＤパネルにおいて、第１電気伝導材料層がＦＥＤパネルのカソードとされたことを特徴とする、請求項１に記載のＦＥＤパネル。 The FED panel according to claim 1, wherein the first electrically conductive material layer is a cathode of the FED panel.

前記ＦＥＤパネルにおいて、第１電気伝導材料層が銀ペーストとされたことを特徴とする、請求項１に記載のＦＥＤパネル。 The FED panel according to claim 1, wherein the first electrically conductive material layer is a silver paste in the FED panel.

前記ＦＥＤパネルにおいて、第２電気伝導材料層がＦＥＤパネルの第１アノードとされたことを特徴とする、請求項１に記載のＦＥＤパネル。 The FED panel according to claim 1, wherein the second electrically conductive material layer is the first anode of the FED panel.

前記ＦＥＤパネルにおいて、第２電気伝導材料層がＩＴＯで形成されたことを特徴とする、請求項１に記載のＦＥＤパネル。 The FED panel according to claim 1, wherein the second electrically conductive material layer is formed of ITO.

前記ＦＥＤパネルにおいて、ナノチューブエミッタ層が複数のナノメータ寸法中空管と接着剤の混合物で形成されたことを特徴とする、請求項１に記載のＦＥＤパネル。 The FED panel according to claim 1, wherein the nanotube emitter layer is formed of a mixture of a plurality of nanometer-sized hollow tubes and an adhesive.

前記ＦＥＤパネルにおいて、ナノチューブエミッタ層が複数のナノメータ寸法の炭素、ダイアモンド或いは類ダイアモンド炭素の中空管と接着剤の混合物で形成されたことを特徴とする、請求項１に記載のＦＥＤパネル。 The FED panel according to claim 1, wherein the nanotube emitter layer is formed of a mixture of a plurality of nanometer-sized carbon, diamond, or similar diamond hollow tubes and an adhesive.

前記ＦＥＤパネルにおいて、各一つの多様性の蛍光粉条がそれぞれ、赤、緑或いは青光を発生し、複数のエミッタ積層より来る電子が近隣の蛍光条を活性することにより光を発射することを特徴とする、請求項１に記載のＦＥＤパネル。 In the FED panel, each of a variety of fluorescent powders emits red, green or blue light, and electrons coming from a plurality of emitter stacks emit light by activating neighboring fluorescent stripes. The FED panel according to claim 1.

前記ＦＥＤパネルにおいて、第１電気伝導材料が複数の絶縁材料層の上部に形成されて、第１ゲート電極の機能を有することを特徴とする、請求項１に記載のＦＥＤパネル。 2. The FED panel according to claim 1, wherein the first electrically conductive material is formed on a plurality of insulating material layers and has a function of a first gate electrode. 3.

ＦＥＤパネル製造方法において、少なくとも以下のステップ、即ち、
第１電気絶縁板を提供するステップ、
厚膜印刷方法により複数のエミッタ積層を第１板の横断面方向に平行に形成し、各一つのエミッタ積層は第１電気伝導材料層とその上部の一つのナノチューブエミッタ層とを具え、該ナノチューブエミッタ層の塗布硬化後の幅が上述の第１電気伝導材料層の幅の約１／４から３／４の間であるものとするステップ、
第２電気絶縁板を提供するステップ、
第１電気絶縁板と第２電気絶縁板を組み合わせて一つにする時、第２電気伝導材料層を第２電気絶縁板の内部表面に第１電気絶縁板に向けて形成するステップ、
電子で活性化された後に赤、緑、青光を発生する多様性の蛍光塗布条を第２電気伝導材料層にあって形成するステップ、
複数の側面面板で第１電気絶縁板と第２電気絶縁板を一つに接合し、そのなかに真空の内腔を形成するステップ、
以上のステップを含むことを特徴とする、ＦＥＤパネル製造方法。In the FED panel manufacturing method, at least the following steps are performed:
Providing a first electrical insulating plate;
A plurality of emitter stacks are formed in parallel to the cross-sectional direction of the first plate by a thick film printing method, and each emitter stack includes a first electrically conductive material layer and a nanotube emitter layer on the first conductive layer. The width of the emitter layer after application and curing is between about 1/4 and 3/4 of the width of the first electrically conductive material layer described above ;
Providing a second electrical insulating plate;
Forming a second electrically conductive material layer on the inner surface of the second electrical insulation plate toward the first electrical insulation plate when combining the first electrical insulation plate and the second electrical insulation plate into one;
Forming a variety of fluorescent coatings on the second electrically conductive material layer that generate red, green and blue light after being activated by electrons;
Joining the first electrical insulating plate and the second electrical insulating plate together with a plurality of side surface plates, and forming a vacuum lumen therein,
A method of manufacturing an FED panel, comprising the above steps.

前記ＦＥＤパネル製造方法において、第１電気伝導材料層を銀ペーストに印刷するステップを含むことを特徴とする、請求項１２に記載のＦＥＤパネル製造方法。 The method of manufacturing an FED panel according to claim 12, further comprising a step of printing the first electrically conductive material layer on a silver paste.

前記ＦＥＤパネル製造方法において、接着剤と、炭素繊維、ダイアモンド繊維或いは類ダイアモンド炭素繊維より選択したナノメータ寸法の中空繊維の混和物により、ナノチューブエミッタ層を印刷するステップを含む、請求項１２に記載のＦＥＤパネル製造方法。 13. The method of claim 12, comprising printing a nanotube emitter layer with an admixture of an adhesive and a nanometer sized hollow fiber selected from carbon fiber, diamond fiber, or similar diamond carbon fiber. FED panel manufacturing method.

前記ＦＥＤパネル製造方法において、負の電荷を第１電気伝導材料層の下方の複数のエミッタ積層に連接し、正の電荷を第２電気伝導材料層に連接するステップを含むことを特徴とする、請求項１２に記載のＦＥＤパネル製造方法。 The FED panel manufacturing method includes a step of connecting negative charges to a plurality of emitter stacks below the first electrically conductive material layer, and connecting positive charges to the second electrically conductive material layer. The method for manufacturing an FED panel according to claim 12.

前記ＦＥＤパネル製造方法において、ブラックアレイ層を第２電気絶縁板上にあって多様性蛍光粉塗布条相互の間に塗布するステップを含むことを特徴とする、請求項１２に記載のＦＥＤパネル製造方法。 13. The FED panel manufacturing method according to claim 12, further comprising the step of applying a black array layer on the second electrical insulating plate between the various fluorescent powder coating strips in the FED panel manufacturing method. Method.

前記ＦＥＤパネル製造方法において、多様性の蛍光粉塗布条を厚膜印刷技術を形成することを特徴とする、請求項１２に記載のＦＥＤパネル製造方法。 13. The FED panel manufacturing method according to claim 12, wherein in the FED panel manufacturing method, a thick film printing technique is formed on a variety of fluorescent powder coated strips.

前記ＦＥＤパネル製造方法において、第１電気伝導材料を複数の絶縁材料層の上部に印刷して第１ゲート電極となすステップを含むことを特徴とする、請求項１２に記載のＦＥＤパネル製造方法。 13. The method of manufacturing an FED panel according to claim 12, further comprising a step of printing a first electrically conductive material on the plurality of insulating material layers to form a first gate electrode.