JP3583846B2 - 光変調器の駆動方法及び装置並びに光通信システム - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は一般的に電界吸収型光変調器の駆動に関し、更に詳しくは、電界吸収型光変調器の駆動方法及び装置並びに該装置が適用される光通信システムに関する。
【0002】
近年、急激な情報量の増加に伴い、光通信システムの大容量化が望まれている。そのために、伝送速度、即ち変調速度が増大している。レーザダイオードの直接強度変調では、比較的大きなチャーピング(緩和振動等に起因する動的波長変動)が伝送距離及び変調速度を制限する。
【0003】
チャーピングを有する信号光が波長分散(色分散)を有する光ファイバを通過すると、通常は波形の歪みが生じる。この問題を避けるために、一般にチャーピングを生じさせにくい外部光変調器の使用に対する期待が高まっている。
【0004】
【従来の技術】
実用的な外部光変調器として、マッハツェンダ型光変調器(MZ変調器)が開発された。光源からの一定強度のキャリア光がMZ変調器に供給され、光の干渉を用いたスイッチング動作によって、強度変調された信号光が得られる。例えば、LiNbO3 結晶を用いたMZ変調器(清野他、電子情報通信学会技術報告書LQE89−35)や、化合物半導体結晶を用いたMZ変調器(井上、第8回光シンポジウム講演予稿集pp.25−29)が報告されている。
【0005】
しばしば指摘されるMZ変調器の欠点は、比較的大きい駆動電圧が要求されること、動作点を一定に保つための自動バイアス制御(Automatic Bias Control)が必要であり装置が大規模になりがちであること等である。
【0006】
これらの欠点に鑑みて、低電力駆動が可能で小型化に適した外部光変調器として、電界吸収型光変調器(EA変調器)が提案されている。EA変調器は、印加電圧に応じてキャリア光を吸収することにより、強度変調された信号光を生成する。例えば、化合物半導体結晶を用いたEA変調器(山田他、電子情報通信学会技術報告書LQE95−17)が報告されている。
【0007】
実用的なEA変調器は、半導体積層技術により半導体チップとして提供される。このEA変調器はキャリア光源としてのレーザダイオードとの一体化が容易であり、これにより、光源及び変調器間の結合損失の低減による高出力化、一体化による小型化が可能になる。例えば、DFB−LD(分布帰還型レーザダイオード)とEA変調器をモノリシックに一体化した半導体チップ(森戸他、電子情報通信学会技術報告書LQE95−17, pp.1−6)が報告されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、光変調器によっては、誘起される位相変調成分によって波長チャープが発生することが明らかになった(F. Koyama, and K. Iga : J. Lightwave Technol., LT−6, (1988) pp.87−93)。生じる波長チャープ量は光変調器のチャープパラメータによって統一的に表される。
【0009】
チャープパラメータの正負に応じて、伝送後の光パルスは広がったり圧縮されたりする。1.3μm帯に零分散波長を有するシリカファイバにより1.55μm帯の信号光を伝送する場合、正のチャープパラメータはパルス広がりを与え、負のチャープパラメータはパルス圧縮を与える。
【0010】
送信波形にあらかじめ適度なチャーピングを生じさせておくこと(プリチャープ)が、伝送距離を飛躍的に増大させることが報告されている(K. Morito, R. Sahara, K. Sato, Y. Kotani, and H. Soda “MQW Modulator Integrated DFB Lasers for Multigigabit Transmisson Systems” Proc. 21st Eur. Conf. on Opt. Comm. (ECOC ’95−Brussels) Th. B. 2.1, pp887−891)。このように、光変調器のチャープパラメータを任意に設定可能にすることにより、その光変調器が適用されるシステムの性能が飛躍的に向上する。
【0011】
よって、本発明の目的は、適用されるシステムに適合するようにチャープパラメータを任意に設定可能な光変調器の駆動方法及び装置を提供することにある。本発明の他の目的は、その駆動方法又は装置が適用される光通信システムを提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明のある側面によると、EA変調器の駆動装置が提供される。EA変調器は、光源からのキャリア光を受け印加電圧に応じてキャリア光を吸収することにより強度変調された信号光を出力する。EA変調器は、印加電圧の絶対値が大きくなるにしたがって出力光パワーが小さくなる特性カーブを有する。
【0013】
バイアス回路は、与えられたチャープパラメータを光変調器が有するように決定されるバイアス電圧を発生する。
駆動回路は、入力信号を受け入力信号に対応する変調信号を発生してこれをバイアス電圧に重畳して印加電圧として光変調器に供給する。
【0014】
制御手段は、バイアス電圧の絶対値が大きくなるに従って変調信号の振幅が大きくなるように該変調信号の振幅を制御するとともに、デューティ並びにキャリア光のパワーを含むパラメータ群から選択される少なくとも1つのパラメータをバイアス電圧に基づいて調整する。
【0015】
本発明の他の側面によると、この駆動装置の動作に準ずる駆動方法が提供される。
本発明の更に他の側面によると、光送信機を有する第1の端局と、光受信機を有する第2の端局と、第1及び第2の端局を結ぶ光ファイバ伝送路とを備えた光通信システムが提供される。
【0016】
光送信機は、キャリア光を出力する光源と、キャリア光を受け印加電圧に応じてキャリア光を吸収することにより強度変調された信号光を出力するEA変調器と、前述の本発明による駆動装置とを備えている。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下本発明の望ましい実施形態を添付図面に沿って詳細に説明する。
図1は本発明が適用される光送信機の基本構成を示すブロック図である。光源2はあらかじめ定められた波長を有するキャリア光を出力する。光源2としてはレーザダイオードを用いることができ、この場合キャリア光のパワーはレーザダイオードに供給されるバイアス電流により調整可能である。
【0018】
EA変調器4は、光源2からのキャリア光を受けて、強度変調された信号光を出力する。EA変調器4は、印加電圧に応じてキャリア光を吸収することにより信号光を生成する。
【0019】
バイアス回路6はバイアス電圧を発生する。バイアス電圧は、EA変調器4が与えられたチャープパラメータを有するように適切に決定される。与えられたチャープパラメータに対応するバイアス電圧の決定については後述する。
【0020】
駆動回路8は、供給された入力信号に対応する変調信号を発生してこれをバイアス電圧に重畳する。変調信号及びバイアス電圧は印加電圧として光変調器4に供給される。
【0021】
制御手段10は、前述の与えられたチャープパラメータにより決定されるバイアス電圧に応じて最適値が変化し得るパラメータをバイアス電圧に基づいて調整する。このパラメータは、例えば、変調信号の振幅及びデューティ並びにキャリア光のパワーを含むパラメータ群から選択される。
【0022】
EA変調器4が印加電圧の絶対値が大きくなるに従って出力光パワーが小さくなるような特性カーブを有している場合には、バイアス電圧の絶対値が大きくなるに従ってキャリア光のパワーが大きくなるように該パワーが制御される。これにより、EA変調器4の出力光パワーの変動を小さくし乃至は出力光パワーを一定に保つことができる。
【0023】
また、EA変調器4が例えば前述のような特定の特性カーブを有している場合には、バイアス電圧の絶対値が大きくなるに従って変調信号の振幅が大きくなるように該振幅が制御される。これにより、信号光の消光比の変動を小さくし乃至は消光比を一定に保つことができる。
【0024】
図2は本発明に適用可能な変調器集積化レーザダイオード(MI−LD)の構成を示す図である。MI−LDは、例えばGaInAsの多重量子井戸(MQW)層を含む直接結合導波路構造を有する半導体チップとして提供される。
【0025】
図示の例では、MI−LD12は、キャリア光を発生する発光層(活性層)を有する分布帰還(DFB)タイプのレーザダイオード(LD)16と、吸収層18を有するEA変調器20とを一体に有している。活性層14及び吸収層18はモノリシックに直結されている。
【0026】
符号22はLD16及びEA変調器20に共通な電極を表しており、この電極22は例えば接地される。LD16はバイアス電流を受けるための電極24を有しており、EA変調器20は印加電圧のための電極26を有している。
【0027】
このMI−LD12は、モノリシックに直結される活性層14及び吸収層18を有しているので、活性層14で発生したキャリア光は効率よく吸収層18に導入される。従って、高出力な光送信機の提供が可能になる。また、図1の光源2及びEA変調器4を一つの微細な半導体チップとして提供することができるので、光送信機を小型にすることができる。
【0028】
図3は図2のMI−LDの静特性の一例を示す図である。縦軸はEA変調器20から出力される光のパワー(mW)、横軸はLD16のバイアス電流を示している。電極22を接地して、電極26の電位をそれぞれ0V,−1V,−2V及び−3Vに設定したときの静特性が示されている。
【0029】
この特性から、例えば、ハイレベルが0Vでローレベルが−3Vのパルス波形によりEA変調器12を駆動することによって、消光比が約12dBの光パルス波形が得られることがわかる。
【0030】
図4は図2のMI−LDにおける減衰率(dB)と印加電圧(V)の関係を示すグラフである。縦軸の減衰率はdB表示であるので、縦軸はMI−LDの出力光パワーの常用対数に対応していることに留意されたい。
【0031】
図2に例示されたMI−LDにおいては、EA変調器20が逆バイアスで駆動されるので、電極26には負の印加電圧が与えられる。図4には、LD16のバイアス電流が100mAであるときの特性が示されており、印加電圧の絶対値が大きくなるに従って減衰が大きくなることが明らかである。
【0032】
図5は図2のMI−LDの動作特性を示す図である。符号28はMI−LDの出力光パワー(mW)と印加電圧(V)との関係を表す特性カーブを示している。縦軸の出力光パワーの目盛がリニアであることから、特性カーブ28の形状は図4のカーブの形状と異なる点に留意されたい。
【0033】
特性カーブ28は、印加電圧の絶対値が大きくなるに従って小さくなる傾斜を有している。
今、変調信号のデューティDが符号30で示されるように100%である場合、特性カーブ28が上述のような形状を有していることに起因して、信号光の出力波形におけるクロスポイントはハイレベル(H)とローレベル(L)の中点より下がる。
【0034】
ここで、変調信号のデューティが100%であるというのは、デジタル信号における立ち上がり線と立ち下がり線のクロスポイントがハイレベル(H)とローレベル(L)の中点に一致することを意味する。また、デューティが100%よりも小さいというのは、クロスポイントがローレベルに近いことを意味し、デューティが100%よりも大きいというのは、クロスポイントがハイレベルに近いことを意味する。
【0035】
信号光波形におけるクロスポイントが中点になるようにシステムが設計されている場合、電気波形から光波形への上述のようなデューティの変化は、受信感度を劣化させる。
【0036】
符号34で示されるように、信号光の出力波形における立ち上がり線と立ち下がり線のクロスポイントがハイレベルとローレベルの中点に一致するようにするためには、符号36で示されるように、変調信号のデューティをあらかじめ100%よりも大きくしておくことが要求されるのである。具体的には、図1の駆動回路8に供給される入力信号(入力データ)のデューティは通常100%に設定されているので、駆動回路8がバイアス電圧に重畳する変調信号のデューティを適切な信号光の出力波形が得られるように調整すべきなのである。
【0037】
図6の(A)及び(B)並びに図7の(A)及び(B)は、デューティの変化の実際の例を示している。10Gb/sのNRZ変調が行われており、各データの横軸の1目盛は20psに対応している。
【0038】
図6の(A)に符号30′で示される波形記録は図5の符号30で示される変調信号に対応しており、デューティは100%である。図6の(B)に符号32′で示される波形記録は図5の符号32で示される信号光の出力波形に対応しており、クロスポイントは下がっている。即ち、クロスポイントはローレベルに近くなっている。
【0039】
図7の(A)に符号36′で示される波形記録は図5の符号36で示される変調信号の波形に対応しており、デューティは100%よりも大きい。図7の(B)に符号34′で示される波形記録は図5の符号34で示される信号光の出力波形に対応しており、クロスポイントは中点にある。
【0040】
信号光の出力波形のクロスポイントが中点になるようにするための変調信号のデューティの目標値は、一般的には、図5の特性カーブ28のどの領域を用いているか、つまり図1のバイアス回路6がどれだけのバイアス電圧を発生しているかによって変化する。そのため、信号光の出力波形におけるクロスポイントがハイレベルとローレベルの中点に対応するように変調信号のデューティを制御することが、受信感度を高める上で望ましいのである。この変調信号のデューティの制御は、例えばバイアス電圧に基づいて行われる。具体的な制御の態様は後述する。
【0041】
図2のMI−LDのチャープパラメータが測定された。図8はキャリア光のためのバイアス電流を70mAとし、印加電圧(V)の種々の値に対応するチャープパラメータ(無単位)の測定値を示したものである。
【0042】
チャープパラメータは、光変調器における吸収スペクトル、屈折率分散の変化率及び動作波長から決定される量であり、光変調器において生じる波長チャープ量Δλは、このチャープパラメータαを用いて次式で与えられる。
【0043】
【数1】
【0044】
ここで、λはキャリア光の波長、cは光速、Pは光出力である。このように、光変調器の波長チャープを低減するためには、できる限りチャープパラメータαを零に近づけてやればよいことになる。更に、チャープパラメータαを負にすることにより、ブルーシフトのチャーピングを有する信号光(光パルス)を得ることができる。
【0045】
光変調器から出力される光パルスにブルーシフトのチャーピングを与えておくことにより、異常分散を有する光ファイバによりこの光パルスを伝送したときに、波長分散によるパルス広がりを小さくすることができる。即ちパルス圧縮が可能である。具体的には次の通りである。
【0046】
一般に、単一モードファイバにおいては、零分散波長よりも短波長側では波長が長くなるのに従って群速度が増大し(正常分散領域)、零分散波長よりも長波長側では波長が長くなるのに従って群速度が減少する(異常分散領域)。
【0047】
例えば、零分散波長が1.3μm帯にあるシリカファイバにより1.55μm帯の光パルスを伝送する場合には、異常分散によるレッドシフトが生じて波形が拡がるので、光変調器がブルーシフトの信号光を出力するように、チャープパラメータαが設定される。これがプリチャープである。
【0048】
図9の(A)はレッドシフト(α>0)に対応しており、光パルスの立ち上がり及び立ち下がりにそれぞれ短波長側及び長波長側へのシフトが生じている。
図9の(B)はブルーシフト(α<0)に対応しており、光パルスの立ち上がり及び立ち下がりでそれぞれ長波長側及び短波長側へのシフトが生じている。
【0049】
尚、図9の(A)及び図9の(B)において、それぞれ光パルスは時間軸(t)上を左から右に向かって進むものとする。Pはパワー又は電界振幅、λは波長を表している。
【0050】
図10は図2のMI−LDを有する光送信機の実施形態を示すブロック図である。図1の制御手段10は、A/Dコンバータ及びD/Aコンバータを含む信号入出力用のI/Oポート38と、あらかじめ定められたプログラムに従ってバイアス電流の目標値等の演算を行うCPU(中央演算ユニット)40と、プログラム及びデータテーブルのためのデータが記憶されているROM(リードオンリーメモリ)42と、演算結果を一時的に記憶するためのRAM(ランダムアクセスメモリ)44と、これらを相互に接続するデータバス46とを備えている。
【0051】
MI−LD12には温度コントローラ48が付随的に設けられている。MI−LD12の温度データは、温度コントローラ48からI/Oポート38を介してCPU40に取り込まれる。温度の目標値は、CPU40からI/Oポート38を介して温度コントローラ48に供給される。
【0052】
バイアス電流回路50は、キャリア光を出力するLD16にバイアス電流ILDを供給する。バイアス電流の目標値は、CPU40からI/Oポート38を介してバイアス電流回路50に供給される。
【0053】
EA変調器20のためにバイアス電圧回路6が発生するバイアス電圧VB の値は、I/Oポート38を介してCPU40に取り込まれる。これは、バイアス電圧に基づいて変調信号VMOD の振幅等を制御するためである。
【0054】
EA変調器20が与えられたチャープパラメータを有するように設定されるバイアス電圧の目標値は、CPU40からI/Oポート38を介してバイアス電圧回路6に供給される。
【0055】
変調信号VMOD をバイアス電圧VB に重畳する駆動回路8には、振幅可変回路54が付随的に設けられている。振幅可変回路54には、振幅の目標値がCPU40からI/Oポート38を介して供給されており、振幅可変回路54は駆動回路8が出力する変調信号の振幅が目標値に一致するようにこれを制御する。
【0056】
デューティ可変回路56は、駆動回路8が出力する変調信号VMOD のデューティを制御する。デューティの目標値は、CPU40からI/Oポート38を介してデューティ可変回路56に供給される。
【0057】
MI−LD12から出力された信号光は、ビームスプリッタ58によりトータル出力の大部分に相当する第1の分岐光と残りの第2の分岐光とに分岐される。第1の分岐光は図示しない光伝送路に送出され、第2の分岐光はフォトディテクタ60に供給される。フォトディテクタ60は供給された一部の信号光を電気信号に変換し、この電気信号はI/Oポート38を介してCPU40に取り込まれる。
【0058】
この光送信機は、チャープパラメータの設定データや後述する受信側における伝送特性のモニタリングデータ等を入力するためのポート62を有している。入力データはI/Oポート38を介してCPU40に取り込まれる。
【0059】
図11の(A)及び(B)は図10の光送信機の動作を説明するための図である。
図11の(A)は、負のチャープパラメータの領域で動作させるために比較的絶対値が大きいバイアス電圧VB−が設定されている場合に対応している。図示された例では、バイアス電圧VB−は信号光の出力波形におけるクロスポイントに対応しているが、信号光波形におけるハイレベルに対応するチャープパラメータが概ね支配的であることから、バイアス電圧の目標値を信号光波形のハイレベルに対応させてもよい。
【0060】
図11の(A)及び(B)に示される特性カーブは図5の特性カーブに対応しているものとする。
出力信号光の消光比を改善するためには、バイアス電圧の絶対値が大きくなるに従って変調信号の振幅が大きくなるようにすることが望ましい。図11の(A)では、変調信号の振幅V1に対して出力信号光の消光比は1:3になっている。
【0061】
また、信号光の出力波形におけるクロスポイントがハイレベルとローレベルの中点になるように、変調信号のデューティはD1(>100%)に設定されている。
【0062】
変調信号の振幅及びデューティの最適値は、特性カーブが与えられるとバイアス電圧に対して一義的に決定されるので、バイアス電圧の各値に対応する最適な変調信号の振幅及びデューティの値が図10のROM42に記憶されており、CPU40はこの記憶テーブルに基づき変調信号の振幅及びデューティの目標値を算出するのである。
【0063】
図11の(B)に示されるように、正のチャープパラメータの領域で動作させるために比較的絶対値が小さいバイアス電圧VB+が設定されると、消光比が一定に保たれるようにするために、変調信号の振幅がV2(<V1)に変更される。また、信号光の出力波形におけるクロスポイントがハイレベルとローレベルの中間になるように、変調信号のデューティがD2(>D1)に変更される。
【0064】
ここで注意すべき点は、キャリア光のパワーが一定である場合、EA変調器のバイアス電圧の絶対値が大きくなるのに従って信号光の出力パワーが減少している点である。そこで、この実施形態では、バイアス電圧の絶対値が大きくなるに従ってキャリア光のパワーが大きくなるように、バイアス電流回路50がLD16に供給するバイアス電流の目標値が設定される。
【0065】
EA変調器のバイアス電圧の変更に伴う信号光の出力パワーの変動を抑えるために、フィードフォワード制御が採用可能である。特性カーブが与えられると、バイアス電圧の各値に対するLDバイアス電流の最適値がわかるので、これをROM42に記憶させておき、バイアス電圧回路6から取り込まれるバイアス電圧の値に基づいてCPU40がLDバイアス電流の最適値を算出する。
【0066】
図10の実施形態では、出力信号光の一部を受けるフォトディテクタ60が設けられているので、LDバイアス電流のフィードバック制御も可能である。即ち、フォトディテクタ60の出力信号レベルが一定になるように、CPU40が逐次LDバイアス電流の目標値を算出し、そのバイアス電流をバイアス電流回路50がLD16に供給するのである。
【0067】
さて、ブルーシフトのプリチャーピングを得るというメリットのために、EA変調器に供給されるバイアス電圧の絶対値を大きくすると、出力信号光の消光比が劣化し且つ光出力パワーが低下するというデメリットが生じる。従って、このようなトレードオフの関係を考慮して、光伝送路における損失や波長分散に合わせてEA変調器の駆動条件を決定するのが望ましい。制御対象となる駆動パラメータとしては、前述のEA変調器のバイアス電圧、変調信号のデューティ及び振幅並びにLDバイアス電流の他に、EA変調器単独の温度又はMI−LDの温度がある。
【0068】
本発明は、与えられたチャープパラメータに対応して決定されるEA変調器のバイアス電圧に基づいて1つの駆動パラメータが制御されることのみによって限定されるが、複数の駆動パラメータを連動させて制御することが望ましい。
【0069】
例えば、EA変調器のバイアス電圧の絶対値が大きくなると消光比が劣化するので、これを補償するために変調信号の振幅が大きくされるが、振幅の拡大には限度がある。このような場合に消光比を改善するために、駆動パラメータ群から光変調器の温度が選択されるのである。具体的には次の通りである。
【0070】
図10の光送信機において、MI−LD12の温度を増加させると、LD16とEA変調器20との間の波長デチューニング量、即ちLD16から出力されるキャリア光の波長とEA変調器20におけるバンドギャップを与える波長との差が減少することにより、消光比が改善される。この減少は出力光パワーと印加電圧を関係付ける特性カーブの形状が変化することにより理解することができる。
【0071】
従って、温度が制御対象となる場合には、特性カーブの変化により他の制御対象となる駆動パラメータの最適値が異なるものとなるので、ROM42は温度の各値毎にあらかじめ設定されたデータテーブルを有していることが望ましい。
【0072】
このように本発明のある実施形態においては、図1の制御手段10は、EA変調器4のバイアス電圧が大きくなるに従ってEA変調器の温度が上昇するように該温度を制御する手段を含む。
【0073】
また、この種のデータテーブルを作成する場合には、LD16の温度が上昇するとキャリア光のパワーが減少することを考慮すべきである。
図10の光送信機においては、光源2及びEA変調器4(図1参照)としてM1−LD12を用いているので、光源及び変調器間の結合効率を高めることができ、高出力で且つ小型な光送信機の提供が可能である。また、光源及び変調器の温度制御を1つの温度コントローラ48により行うことができる。
【0074】
本発明の他の実施形態においては、図10のバイアス電圧回路6は、正の第1のチャープパラメータを与える第1のバイアス電圧と負の第2のチャープパラメータを与える第2のバイアス電圧とを選択的に発生する手段を含む。
【0075】
例えば図8において、点A及びBによりそれぞれ示される+1及び−1のチャープパラメータを切り換えるために、第1及び第2のバイアス電圧としてそれぞれ−0.4V及び−1.7Vが与えられる。
【0076】
この場合、制御手段10は、1つ又は複数の駆動パラメータを第1及び第2のバイアス電圧にそれぞれ対応する2つの値の間で切り換える手段を含んでいれば足りるので、CPU40における演算が簡単になる。
【0077】
このように正負で絶対値の等しいチャープパラメータの切り換えは、MZ変調器による場合と同様に有用な光送信機の提供を可能にする。MZ変調器においては、正弦波に近似される動作特性カーブ上で動作点を半周期変えるだけで、簡単にチャープパラメータの正負の切り換えが可能である。
【0078】
図12は本発明の光通信システムの実施形態を示すブロック図である。このシステムは、光送信機64を有する第1の端局66と、光受信機68を有する第2の端局70と、端局66及び70を結ぶ光ファイバ伝送路72とを備えている。
【0079】
光送信機64は図1の基本構成望ましくは図10の実施形態を有している。光送信機64は、入力信号に基づいて信号光を生成し、これを光ファイバ伝送路72の第1端に入力する。
【0080】
光ファイバ伝送路72により伝送されその第2端から出力された信号光は、光受信機68に供給され、光受信機68は光送信機64の入力信号に対応する出力信号を復調する。
【0081】
第2の端局70は、更に、受けた信号光に関する伝送特性をモニタリングするモニタリング回路73と、そのモニタリングデータを光ファイバ伝送路72に逆方向に結合する手段74とを有している。
【0082】
このモニタリングデータは第1の端局66へ伝送される。第1の端局66は、伝送されたモニタリングデータを取り出す手段76と、このデータに基づいて光送信機64におけるチャープパラメータを設定するチャープパラメータ設定回路78とを有している。
【0083】
モニタリング回路73において測定される伝送特性としては、符号誤り率(BER)、電気信号の信号対雑音比(Q値)、信号中のバリティビットのチェック、等符号誤り率曲線、アイマスクパターン等が挙げられる。
【0084】
光ファイバ伝送路72が1.3μm帯に零分散波長を有するシリカファイバからなる場合には、前述したように、1.55μm帯の信号光に対してチャープパラメータ設定回路78は負のチャープパラメータを設定する。即ち、チャープパラメータは光ファイバ伝送路72の波長分散に応じて与えられる。
【0085】
図12のシステムにおいては、光送信機64が本発明の駆動装置を含んでいるので、光ファイバ伝送路72における損失や波長分散の違い(経時変化も含む)に応じて最適な伝送特性を得ることができる。即ち、システムの設計や変更に際して柔軟に対応可能な汎用性の高い光変調器若しくはその駆動回路又は光送信機の提供が可能になる。
【0086】
尚、運用回線(光ファイバ伝送路72)と敷設環境のほぼ等しい図示しない予備回線が存在する場合には、サービスダウンを避けるため、まず予備回線において各駆動パラメータの最適化を行った後、それらを参照して運用回線に適用することもできる。モニタリングデータの伝送は、電気回線又は無線回線により行ってもよい。
【0087】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によると、適用されるシステムに適合するようにチャープパラメータを任意に設定可能な光変調器の駆動方法及び装置の提供が可能になるという効果が生じる。
【0088】
また、本発明の方法又は装置が適用される光通信システムの提供が可能になるという効果が生じる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明が適用される光送信機の基本構成を示すブロック図である。
【図2】MI−LD(変調器集積化レーザダイオード)の構成を示す図である。
【図3】出力光パワーとLDバイアス電流の関係を示すグラフである。
【図4】EA変調器の減衰率と印加電圧の関係を示すグラフである。
【図5】MI−LDの動作特性を示す図である。
【図6】変調信号波形のクロスポイントが中点にある場合を示す図である。
【図7】信号光波形のクロスポイントが中点にある場合を示す図である。
【図8】チャープパラメータと印加電圧の関係を示すグラフである。
【図9】レッドシフト及びブルーシフトの説明図である。
【図10】本発明が適用される光送信機の実施形態を示すブロック図である。
【図11】図10の光送信機の動作説明図である。
【図12】本発明の光通信システムの実施形態を示すブロック図である。
【符号の説明】
2 光源
4 EA変調器
6 バイアス(電圧)回路
8 駆動回路
10 制御手段
Claims (14)
- 光源からのキャリア光を受け、印加電圧に応じて上記キャリア光を吸収することにより、強度変調された信号光を出力する電界吸収型光変調器の駆動装置であって、
与えられたチャープパラメータを上記光変調器が有するように決定されるバイアス電圧を発生するバイアス回路と、
入力信号を受け該入力信号に対応する変調信号を発生してこれを上記バイアス電圧に重畳して上記印加電圧として上記光変調器に供給する駆動回路と、
上記変調信号の振幅及びデューティ並びに上記キャリア光のパワーを含むパラメータ群から選択される少なくとも1つのパラメータを上記バイアス電圧に基づいて調整する制御手段とを備え、
上記光変調器は上記印加電圧の絶対値が大きくなるに従って上記光変調器の出力光パワーが小さくなる特性カーブを有し、上記制御手段は上記バイアス電圧の絶対値が大きくなるに従って上記変調信号の振幅が大きくなるように該振幅を制御する手段を含む装置。 - 上記制御手段は、上記バイアス電圧の絶対値が大きくなるに従って上記キャリア光のパワーが大きくなるように該パワーを制御する手段を含む請求項1に記載の装置。
- 上記特性カーブは上記印加電圧の絶対値が大きくなるに従って小さくなる傾斜を有し、
上記制御手段は、上記信号光の波形におけるクロスポイントがハイレベルとローレベルの中間に位置するように上記変調信号のデューティを制御する手段を含む請求項1に記載の装置。 - 上記パラメータ群は上記光変調器の温度を更に含み、
上記制御手段は、上記バイアス電圧が変化するのに従って上記光変調器の温度を変化させる手段を含む請求項1に記載の装置。 - 上記バイアス電圧の絶対値が大きくなるに従って上記光変調器の温度が上昇させられる請求項4に記載の装置。
- 上記バイアス回路は、第1のチャープパラメータを与える第1のバイアス電圧と第2のチャープパラメータを与える第2のバイアス電圧とを選択的に発生する手段を含み、
上記制御手段は、上記パラメータ群から選択される少なくとも1つのパラメータを上記第1及び第2のバイアス電圧にそれぞれ対応する2つの値の間で切り換える手段を含む請求項1に記載の装置。 - 上記光源は供給されるバイアス電流に応じたパワーの上記キャリア光を発生する活性層を有するレーザダイオードからなり、
上記光変調器は上記キャリア光を吸収する吸収層を有し、
該レーザダイオード及び該光変調器は、上記活性層及び上記吸収層が直結するようにモノリシックに一体であり、
上記キャリア光のパワーは上記バイアス電流により調整される請求項1に記載の装置。 - 上記光変調器の出力光パワーを検出する手段を更に備え、
上記制御手段は該検出された出力光パワーが一定になるように上記キャリア光のパワーを制御する手段を含む請求項1に記載の装置。 - 光送信機を有する第1の端局と、
光受信機を有する第2の端局と、
該第1及び第2の端局を結ぶ光ファイバ伝送路とを備え、
上記光送信機は、
キャリア光を出力する光源と、
該キャリア光を受け印加電圧に応じて該キャリア光を吸収することにより強度変調された信号光を出力する電界吸収型光変調器と、
与えられたチャープパラメータを上記光変調器が有するように決定されるバイアス電圧を発生するバイアス回路と、
入力信号を受け該入力信号に対応する変調信号を発生してこれを上記バイアス電圧に重畳して上記印加電圧として上記光変調器に供給する駆動回路と、
上記変調信号の振幅及びデューティ並びに上記キャリア光のパワーを含むパラメータ群から選択される少なくとも1つのパラメータを上記バイアス電圧に基づいて調整する制御手段とを備え、
上記光変調器は上記印加電圧の絶対値が大きくなるに従って上記光変調器の出力光パワーが小さくなる特性カーブを有し、上記制御手段は上記バイアス電圧の絶対値が大きくなるに従って上記変調信号の振幅が大きくなるように該振幅を制御する手段を含む光通信システム。 - 上記チャープパラメータは上記光ファイバ伝送路の波長分散に応じて与えられる請求項9に記載のシステム。
- 上記信号光の波長は1.55μm帯にあり、
上記光ファイバ伝送路は1.3μm帯に零分散波長を有するシリカファイバからなり、
上記チャープパラメータは負の値として与えられる請求項10に記載のシステム。 - 上記第2の端局は上記信号光に関する伝送特性をモニタリングする手段を更に有し、
該モニタリングされた伝送特性に基づいて上記チャープパラメータが与えられる請求項9に記載のシステム。 - 光源からのキャリア光を受け、印加電圧に応じて上記キャリア光を吸収することにより、強度変調された信号光を出力する電界吸収型光変調器の駆動方法であって、
(a)与えられたチャープパラメータを上記光変調器が有するように決定されるバイアス電圧を発生するステップと、
(b)上記バイアス電圧の絶対値が大きくなるに従って上記光変調器の出力光パワーが小さくなる特性カーブを有し、入力信号に対応する変調信号を発生してこれを上記バイアス電圧に重畳して上記印加電圧として上記光変調器に供給するステップと、
(c)上記変調信号の振幅及びデューティ並びに上記キャリア光のパワーを含むパラメータ群から選択される少なくとも1つのパラメータを上記バイアス電圧に基づいて調整するとともに、上記バイアス電圧の絶対値が大きくなるに従って上記変調信号の振幅が大きくなるように該振幅を制御するステップとを備えた方法。 - 上記制御手段は、上記バイアス電圧の絶対値が大きくなるに従って上記変調信号の振幅が大きくなるように該振幅を制御し、消光比を一定にする手段を含む請求項1に記載の装置。
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