JP3565421B2 - 白色粉体およびその製造方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、白色粉体およびその製造方法に関し、詳細には従来のものよりも明度（白色度）が高く、カラーインキ、プラスチック・紙用カラーフィラー、カラートナー、インクジェットプリンター用カラーインク、偽造防止用インキ、トナー、一般塗料、自動車用粉体顔料・塗料、静電塗装用塗料、化粧品用顔料、工芸品・陶芸品など美術品用顔料、繊維用（担持用）顔料、化粧紙・化粧板用顔料（特に磁気シールド用）及びフィラー、触媒塗料、耐熱用塗料等多種の目的に用いられる白色粉体およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
粉体を種々の用途に使用するために、その粉体を別の物質で被覆して新たな機能を付加する技術が知られている。
例えば、従来の１成分系カラー磁性トナーやカラー磁性インクは、鉄粉等の磁性を有する基体粒子上に、着色層を設けて作成するものである。
この１成分系カラー磁性トナーやカラー磁性インクにより鮮明なカラー画像を得るには、磁性トナー、インク自身を鮮やかな色に着色する必要があるが、その基体となる磁性体粒子は一般に黒色であるため、その表面に直接着色層を設けても全体として暗色となってしまう。
【０００３】
これに対して、本発明者らは、先に基体粒子上に金属膜を形成し、その膜の反射作用により、粉体を白色化する方法（特開平３−２７１３７６号公報、特開平３−２７４２７８号公報）、金属アルコキシド溶液中に基体粒子を分散し、金属アルコキシドを加水分解することにより、基体粒子の表面に均一な０．０１〜２０μｍの厚みの金属酸化物膜を生成させる方法（特開平６−２２８６０４号公報）、表面に金属酸化物からなる薄膜と、金属からなる薄膜とを交互に複数層設けてなる機能性粉体（特開平７−９０３１０号公報）、金属酸化物膜で多層被覆してなる粉体を熱処理して、より緻密で安定した金属酸化物多層膜を有する粉体を製造すること（国際公開ＷＯ９６／２８２６９号公報）を提案している。
【０００４】
特に、上記に挙げた金属酸化物膜や金属膜を複数層設けた粉体は、各層の膜厚を調整することにより特別の機能を付与することができるものであって、例えば基体粒子の表面に、屈折率の異なる被覆膜を入射光の４分の１波長に相当する厚さずつ設けるようにすると、入射光を全て反射して白色の粉体を製造することができる。これらの様にして得られた白色粉体を白色磁性トナーやインクとしたり、更にこの白色粉体の表面に着色層を設け、鮮やかな色に着色されたカラー磁性トナーやインクを製造することができる可能性を示唆している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特開平３−２７１３７６号公報、特開平３−２７４２７８号公報に記載の金属膜を設ける方法では膜数や膜厚を多くすると金属固有の反射率まで、反射率を上げることができ、白色化することができたが、ある程度の膜数や膜厚に達すると、それ以上の白色化が期待できず、また得られた白色化も不十分であった。
また、上記特開平６−２２８６０４号公報、特開平７−９０３１０号公報、国際公開ＷＯ９６／２８２６９号公報に記載の方法では、膜数や膜厚を多くするほど反射率が上がることにより白色度が高くなり、膜の特性は顕著になる。しかし膜数や膜厚が多くなるほど、基体粒子の特性は減少する。例えば、基体粒子として、磁性粉を用いた場合は、膜数や膜厚が多くなるほど、磁性が劣ってくる。
換言すれば、上記の方法で得られる白色粉体は、基体粒子が有する特性を生かすためには膜数、膜厚を少なくする必要があるが、膜数、膜厚を少なくすると所望の白色度が得られなくなる恐れもあった。
【０００６】
従って、本発明の目的は、上記従来の技術の欠点を克服し、基体粒子の特性を維持しながらも、白色度の高いもの、詳細には、基体粒子の特性を生かすための、比較的少ない膜数、膜厚であっても、高い白色度が得られる膜を有する白色粉体およびその製造方法を提供しようとするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、鋭意研究を進めた結果、膜被覆粉体を形成する際に、結晶化微粒子と該結晶化微粒子相互間に空隙を有する結晶化微粒子の集合体からなる被覆層を、少なくとも１層形成することにより、散乱反射による白色化された粉体を得ることが可能となることを見出し、上記課題の解決に成功したものである。
【０００８】
すなわち、本発明は下記の通りである。
（１）基体粒子の表面に被覆膜を有し、該被覆膜の少なくとも１層が光の散乱反射により白色を付与することができる結晶化微粒子と該結晶化微粒子相互間に空隙を有する結晶化微粒子の集合体として構成されたものであって、前記被覆膜の表面に、該表面の空隙を塞ぐことができる超微粒子で構成された緻密な被覆膜を有することを特徴とする白色粉体。
（２）基体粒子の表面に被覆膜を有し、該被覆膜の少なくとも１層が結晶化微粒子と該結晶化微粒子相互間に空隙を有する結晶化微粒子の集合体として構成され、該結晶化微粒子表面と空隙との間で生じる光の散乱反射により白色が付与されたものであって、前記被覆膜の表面に、該表面の空隙を塞ぐことができる超微粒子で構成された緻密な被覆膜を有することを特徴とする白色粉体。
【０００９】
（３）前記結晶化微粒子が粒径の不揃いなものであることを特徴とする前記（１）または（２）記載の白色粉体。
（４）基体粒子の表面に有する被覆膜が多層膜であることを特徴とする前記（１）または（２）記載の白色粉体。
（５）結晶化微粒子の集合体として構成された前記被覆膜が高屈折率膜であることを特徴とする前記（１）または（２）記載の白色粉体。
（６）前記緻密膜がシリカ膜またはチタニア膜であることを特徴とする前記（１）または（２）記載の白色粉体。
【００１０】
（７）結晶化微粒子の集合体として構成された前記被覆膜が、該被覆膜を製膜するための反応溶液中で固相微粒子を形成させ該固相微粒子を被覆膜中に取込ませた後に焼成することによって形成されたものであることを特徴とする前記（１）または（２）記載の白色粉体。
（８）前記焼成を行う前に、前記固相微粒子を取込ませた被覆膜上を該被覆膜の表面の空隙を塞ぐ緻密な膜を構成することができる超微粒子で被覆したことを特徴とする前記（７）記載の白色粉体。
（９）結晶化微粒子の集合体として構成された前記被覆膜が、該結晶化微粒子と基体粉体とを分散させた液中で、該結晶化微粒子を該基体粉体表面へ付着させることによって形成されたものであることを特徴とする前記（１）または（２）記載の白色粉体。
【００１１】
（１０）基体粒子の表面に被覆膜を形成して白色粉体を製造する方法において、該被覆膜の少なくとも１層を、光の散乱反射により白色を付与することができる結晶化微粒子と該結晶化微粒子相互間に空隙を有する結晶化微粒子の集合体として構成するとともに、前記被覆膜の表面に、該表面の空隙を塞ぐことができる超微粒子で緻密な膜を構成することを特徴とする白色粉体の製造方法。
（１１）基体粒子の表面に被覆膜を形成して白色粉体を製造する方法において、該被覆膜の少なくとも１層を、結晶化微粒子と該結晶化微粒子相互間に空隙を有する結晶化微粒子の集合体として構成し、該結晶化微粒子表面と空隙との間で生じる光の散乱反射により白色を付与するとともに、前記被覆膜の表面に、該表面の空隙を塞ぐことができる超微粒子で緻密な膜を構成することを特徴とする白色粉体の製造方法。
【００１２】
（１２）前記結晶化微粒子を粒径の不揃いなものとすることを特徴とする前記（１０）または（１１）記載の白色粉体の製造方法。
（１３）基体粒子の表面に形成する被覆膜を多層膜とすることを特徴とする前記（１０）または（１１）記載の白色粉体の製造方法。
（１４）結晶化微粒子の集合体として構成する前記被覆膜の表面に、該表面の空隙を塞ぐことができる超微粒子で緻密な膜を構成することを特徴とする前記（１０）または（１１）記載の白色粉体の製造方法。
（１５）結晶化微粒子の集合体として構成する前記被覆膜が高屈折率膜であることを特徴とする前記（１０）または（１１）記載の白色粉体の製造方法。
【００１３】
（１６）前記緻密膜がシリカ膜またはチタニア膜であることを特徴とする前記（１０）または（１１）記載の白色粉体の製造方法。
（１７）結晶化微粒子の集合体として構成する前記被覆膜を、該被覆膜を製膜するための反応溶液中で固相微粒子を形成させ該固相微粒子を膜中に取込ませた後に焼成することによって形成することを特徴とする前記（１０）または（１１）記載の白色粉体の製造方法。
（１８）前記焼成を行う前に、前記固相微粒子を取込ませた被覆膜上を該被覆膜の表面の空隙を塞ぐ緻密な膜を構成することができる超微粒子で被覆することを特徴とする前記（１７）記載の白色粉体の製造方法。
（１９）結晶化微粒子の集合体として構成された前記被覆膜を、該結晶化微粒子と基体粉体とを分散させた液中で、該結晶化微粒子を該基体粉体表面へ付着させることによって形成することを特徴とする前記（１０）または（１１）記載の白色粉体。
【００１４】
本発明の白色粉体は、基体粒子の表面に有する被覆膜の少なくとも１層を、結晶化微粒子と該結晶化微粒子相互間に空隙を有する結晶化微粒子の集合体からなる膜（以下、単に結晶化微粒子構成膜ともいう）とすることにより、結晶化微粒子表面と空隙との屈折率差を大きくして、光の散乱反射を起こし、反射効果を高め、優れた明度（白色度）を有する機能性粉体を提供することが可能となった。
【００１５】
図１は、基体粒子１の表面に結晶化微粒子構成膜２を有する本発明の白色粉体の一例の断面図であり、図２は、図１の白色粉体が有する結晶化微粒子構成膜２の断面拡大図である。
図１および図２に示す様に、上記結晶化微粒子構成膜２は結晶化微粒子３の間に空隙を有することにより、前記結晶化微粒子３の表面と空隙との屈折率差を大きくし、光の散乱反射を起こさせ、これにより明度（白色度）の高い粉体とすることができる。上記の散乱反射が強いほど、粉体の明度（白色度）が増す。
膜２の中に含まれる結晶化微粒子３は、屈折率が高い方が好ましく、また、粒径が揃っていない方が好ましい。
【００１６】
明度の調整は、上記膜内の結晶化微粒子の量および粒子径により調整することができる。
但し、粒子径によっては、散乱と干渉が同時に起こり、その干渉によって白色以外の色相を呈することがあるので、その設計には注意を要する。
特に、得られた膜被覆粉体がオパールの様に単色スペクトル色の強い場合には、膜中の結晶化粒子径がある大きさ（光の波長の４分の１から１波長程度）で均一になって該結晶化微粒子による干渉が発生している考えられる。
【００１７】
この場合、膜内の結晶化微粒子の粒子径は、１〜５００ｎｍが好ましく、より好ましくは１〜２００ｎｍであり、さらに好ましくは１〜１００ｎｍの範囲である。粒子径が１ｎｍ未満では、膜になっても、光を透過するため下地の基体粒子の色がそのまま出ることがある。逆に５００ｎｍより大きい場合には複数の粒子の反射光により前記干渉着色が起こったり、膜が脆くなって、剥離しやすく好ましくない。
また膜内の結晶化微粒子は、他の微粒子や膜と接触していても、粒界など形状で区別できるものである。
【００１８】
一方、上記結晶化微粒子構成膜の１層の、好ましい厚さ範囲は、基体となる粒子の大きさによって異なる。基体粒子が０．１μｍ〜１μｍでは０．０５μｍ〜０．５μｍ、基体粒子が１μｍ〜１０μｍでは０．０５μｍ〜２μｍ、基体粒子が１０μｍ以上では０．０５μｍ〜３μｍであることが好ましい。
また、上記結晶化微粒子構成膜の総膜厚の好ましい厚さ範囲も、基体となる粒子の大きさによって異なる。基体粒子が０．１μｍ〜１μｍでは０．１μｍ〜３μｍ、基体粒子が１μｍ〜１０μｍでは０．１μｍ〜５μｍ、基体粒子が１０μｍ以上では０．１μｍ〜１０μｍであることが好ましい。
【００１９】
更に本発明の白色粉体は、図２に示されるように、空隙を有する結晶化微粒子３で構成された膜２の表面に、該表面の空隙を塞ぐことができる超微粒子４で構成された緻密な被覆膜（以下単に、緻密膜ともいう）を有することが好ましい。例えば、前述のような結晶化微粒子構成膜を最外層として有する白色粉体をトナーあるいは塗料等の顔料粉体として用いた場合、トナーの樹脂または塗料のビヒクルがその空隙に入り込み、結晶化微粒子３の表面と空隙との間の屈折率差を小さくして光の散乱反射を弱くし、その結果、明度（白色度）も低下させる。
前述の緻密膜は上記のような明度の低下を防止するために好適である。
【００２０】
なお、特開平４−２６９８０４号公報には、表面に無機顔料粒子の被覆層を有する着色粉体が記載されているが、この着色粉体は顔料粒子間の空隙が、表面処理剤と樹脂の混合物によって充填されたものであり、本発明の白色粉体のように、散乱反射が発生するものではなく、顔料粒子そのものの色によって所望の色に着色されるものである。またこの特開平４−２６９８０４号公報に記載の着色粉体は、基体粒子表面に顔料粒子が十分に固定されていないことがある。その場合には、基体に付着していた顔料粒子が溶媒と樹脂の混合液中で分離するため、塗料等に適用できないこともある。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の白色粉体およびその製造方法についてを詳細に説明する。
本発明の白色粉体が有する、結晶化微粒子構成膜は、光を散乱反射し、白色を発することができるものであれば、どのような物質からなるものでも構わないが、高屈折率を有する物質からなるものが好ましい。
高屈折率を有する物質としては、特に限定されないが、酸化チタン（チタニア）、酸化ジルコニウム、酸化ビスマス、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化インジウム等の酸化物を用いることができ、屈折率が高く、汎用である酸化チタン（チタニア）が最も好ましい。
【００２２】
上記のような結晶化微粒子構成膜を製膜する方法としては、製膜反応液相中での固相析出による方法等が用いられる。
具体的には、本発明者らが先に提案した特開平６−２２８６０４号公報、特開平７−９０３１０号公報、国際公開ＷＯ９６／２８２６９号公報に記載されている有機溶媒中での金属アルコキシドの加水分解による固相析出法（金属アルコキシド法）や、特開平１１−１３１１０２号公報に記載の水溶液中での金属塩からの反応による固相析出法（水系法）等が挙げられる。
この場合、製膜反応液中で、基体粒子の表面に析出物の膜が成長する速度（線成長速度）よりも、反応液中で固相微粒子が析出する速度が速くなるように、反応溶液濃度、添加触媒量、基体粒子分散量を調整する。
上記のようにして、製膜反応液中に析出した固相微粒子を、基体粒子表面に付着させ、固相微粒子で構成された被覆膜を形成する。
【００２３】
なお、この時点で膜にとりこまれた固相微粒子は非晶質であり、該固相微粒子間の空隙も未形成であり、光の散乱反射が生じず、また膜の機械的強度も非常に低いものである。そのため、この固相微粒子で構成された被覆膜を焼成する。この焼成により前記非晶質の固相微粒子は結晶化し、該結晶化微粒子間には空隙も形成され、前述の光を散乱反射する結晶化微粒子構成膜となる。
【００２４】
該結晶化微粒子構成膜を形成するためには、前述の金属アルコキシド法よりも、水系法の方が線成長速度と固相析出速度の関係を好適なものとするのに簡易であるため好ましい。
また金属アルコキシド法は原料として高価な金属アルコキシドや、反応溶媒として比較的高価で危険性のある有機溶媒を必要とする。このため、製造装置または設備等も防爆仕様にしなければならず、更に、コストパーフォマンスが悪くなる。この点からも金属アルコキシド法に比べ水系法が好ましい。
【００２５】
なお、前記焼成は前記固相微粒子で構成された被覆膜を形成した後に行ってもよいが、更に該被覆膜の上に、その被覆膜が結晶化微粒子構成膜となった場合その表面の空隙を塞ぐための緻密膜を形成することができる超微粒子で被覆した後に行うことが、得られる白色粉体の膜強度の点から望ましい。
焼成は３００〜１２００℃で行うことが好ましい。
【００２６】
また、固相析出速度を調整して液中で可視光散乱反射する超微粒子を形成する方法に加え、既存の粒子を利用することもできる。
即ち緩衝溶液中に、基体粒子とシリカあるいはチタニア等の結晶化超微粒子を該緩衝溶液中で十分に均一分散化後、表面にシリカあるいはチタニア等の膜を被覆する原料を溶解した液を滴下し、ちょうど膜のみが形成されるように固相析出速度を最適化することにより、攪拌中に基体粒子と結晶化超微粒子の両者表面に析出した固相膜同士が固着し、基体粒子が、前記結晶化超微粒子で覆われる。
【００２７】
この様にして製膜された粉体を３００〜１２００℃で焼成することにより、該結晶化超微粒子の粒子間が膜で覆われた粒子（微粒子膜を有する粒子）となり、散乱超微粒子の屈折率が高く、可視光散乱超微粒子の粒径としては散乱力が最大に成る程度の粒径であることが好ましい。特にチタニアでは、０．２〜０．３μｍの粒径であることが好ましい。
該基体粒子はその屈折率が結晶化超微粒子より小さいときには高屈折率の膜を直接基体粒子に形成するか、あるいは最外層が高屈折率膜になるように製膜した後、前記微粒子膜を形成しても良い。
また、逆に基体粒子の屈折率が結晶化超微粒子より大きい場合には、低屈折率の膜で微粒子膜を形成するが、その場合も先に基体粒子の最外層が低屈折率膜としておくことが散乱を最大限利用するのに好ましい。
【００２８】
本発明の白色粉体は、基体粒子上に前述の結晶化微粒子構成膜を一層のみでなるものでもよいが、光を透過し得る他の構成からなる膜をさらに有する多層膜被覆粉体であってもよい。
また、前述の結晶化微粒子構成膜は２層以上であってもよい。その場合、２層の結晶化微粒子構成膜の間には、低屈折率の光透過性の被覆膜が存在することが好ましい。該低屈折率の光透過性の被覆膜としては特に限定されないが、金属化合物、有機物等からなるものが挙げられる。
さらに、結晶化粒子膜を形成する場合には、結晶化微粒子の散乱効果を向上させるために、第１層目に結晶化粒子より屈折率の低い膜を基体粒子側に形成する。その膜の厚さは、結晶化粒子が光を散乱することのできる範囲である散乱体積が利用できる厚さを有することが好ましい。これにより結晶化粒子の散乱を最大限活かすことができる。
【００２９】
前記金属化合物としては、金属酸化物や金属硫化物、金属セレン化物、金属テルル化物、金属フッ化物を挙げることができる。より具体的には、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化カドミウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化珪素、酸化アンチモン、酸化ネオジウム、酸化ランタン、酸化ビスマス、酸化セリウム、酸化錫、酸化マグネシウム、酸化リチウム、酸化鉛、硫化カドミウム、硫化亜鉛、硫化アンチモン、セレン化カドミウム、テルル化カドミウム、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム、フッ化アルミニウム３ナトリウム、フッ化リチウム、フッ化マグネシウム等を好適に使用できる。
【００３０】
以下に、前記金属化合物膜の製膜方法について説明する。
製膜方法としては、ＰＶＤ法、ＣＶＤ法あるいはスプレードライ法等の気相蒸着法により、基体粒子の表面に直接、蒸着する方法が可能である。
しかしながら、本発明者らが先に提案した前記特開平６−２２８６０４号公報、特開平７−９０３１０号公報あるいは国際公開ＷＯ９６／２８２６９号公報に記載されている金属アルコキシド法や、特開平１１−１３１１０２号公報に記載の水系法が好ましい。
この場合、前述の結晶化微粒子構成膜の製膜と異なり、線成長速度は固相析出速度よりも高くして、非晶質の均一膜が形成されるように反応条件を調整する。
【００３１】
前記有機物としては、特に限定されるものではないが、好ましくは樹脂である。樹脂の具体例としては、セルロース、酢酸セルロース、ポリアミド、エポキシ樹脂、ポリエステル、メラミン樹脂、ポリウレタン、酢酸ビニル樹脂、ケイ素樹脂、アクリル酸エステル、メタアクリル酸エステル、スチレン、エチレン、プロピレン及びこれらの誘導体の重合体または共重合体などが挙げられる。
（１）有機物膜（樹脂膜）を形成する場合、
ａ．液相中、基体粒子を分散させて乳化重合させることにより、その粒子の上に樹脂膜を形成させる方法（液相中での重合法）や、ｂ．気相中での製膜法（ＣＶＤ）（ＰＶＤ）等が採られる。
【００３２】
本発明を白色粉体として、基体粒子上に多層膜を有するものを製造する場合の例を以下に示す。
例えば、後に詳述する基体粒子が高屈折率の物質からなるものであれば、その上に低屈折率の光透過性膜を設け、さらにその上に高屈折率の粒子構成膜、またさらに、その上に低屈折率の光透過性膜と、順次交互に設ける。また、基体粒子が低屈折率のものならば、その上に高屈折率の粒子構成膜、さらにその上に低屈折率の光透過性膜、またさらにその上に、高屈折率の粒子構成膜と、順次設ける。
図３に、本発明の白色粉体の一例である、基体粒子として高屈折率物質を用い４層被覆膜としたものの透過型電子顕微鏡写真を示す。また図４には、図３で示した膜構造を拡大して示したものである。
【００３３】
白色粉体に用いられる基体粒子は、特に限定されず、金属を含む無機物でも、有機物でもよく磁性体、誘電体、導電体および絶縁体等でもよい。
基体が金属の場合、鉄、ニッケル、クロム、チタン、アルミニウム等、どのような金属でもよいが、その磁性を利用するものにおいては、鉄等磁性を帯びるものが好ましい。これらの金属は合金でも良く、前記の磁性を有するものであるときには、強磁性合金を使用することが好ましい。
また、その粉体の基体が金属化合物の場合には、その代表的なものとして前記した金属の酸化物が挙げられるが、例えば、鉄、ニッケル、クロム、チタン、アルミニウム、ケイ素等の外、カルシウム、マグネシウム、バリウム等の酸化物、あるいはこれらの複合酸化物でも良い。さらに、金属酸化物以外の金属化合物としては、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物、金属フッ化物、金属炭酸塩、金属燐酸塩などを挙げることができる。
【００３４】
さらに、基体粒子として、金属以外では、半金属、非金属の化合物、特に酸化物、炭化物、窒化物であり、シリカ、ガラスビーズ等を使用することができる。その他の無機物としてはシラスバルーン（中空ケイ酸粒子）などの無機中空粒子、微小炭素中空球（クレカスフェアー）、電融アルミナバブル、アエロジル、ホワイトカーボン、シリカ微小中空球、炭酸カルシウム微小中空球、炭酸カルシウム、パーライト、タルク、ベントナイト、合成雲母、白雲母、など雲母類、カオリン等を用いることができる。
【００３５】
有機物としては、樹脂粒子が好ましい。樹脂粒子の具体例としては、セルロースパウダー、酢酸セルロースパウダー、ポリアミド、エポキシ樹脂、ポリエステル、メラミン樹脂、ポリウレタン、酢酸ビニル樹脂、ケイ素樹脂、アクリル酸エステル、メタアクリル酸エステル、スチレン、エチレン、プロピレン及びこれらの誘導体の重合または共重合により得られる球状または破砕の粒子などが挙げられる。特に好ましい樹脂粒子はアクリル酸またはメタアクリル酸エステルの重合により得られる球状のアクリル樹脂粒子である。
但し、樹脂粒子を基体とする場合、乾燥における加熱温度は樹脂の融点以下でなければならない。
【００３６】
基体の形状としては、球体、亜球状態、正多面体等の等方体、直方体、回転楕円体、菱面体、板状体、針状体（円柱、角柱）などの多面体、さらに粉砕物のような全く不定形な粉体も使用可能である。
これらの基体は、粒径については特に限定するものでないが、０．０１μｍ〜数ｍｍの範囲のものが好ましい。
【００３７】
また、基体粒子の比重としては、０．１〜１０．５の範囲のものが用いられるが、得られた粉体を液体等に分散させて使用する場合には、流動性、浮遊性の面から０．１〜５．５が好ましく、より好ましくは０．１〜２．８、更に、好ましくは０．５〜１．８の範囲である。得られた粉体を液体等に分散させて使用する場合、基体の比重が０．１未満では液体中の浮力が大きすぎ、膜を多層あるいは非常に厚くする必要があり、不経済である。一方、１０．５を超えると、浮遊させるための膜が厚くなり、同様に不経済である。
【００３８】
【実施例】
以下に本発明を実施例によって更に具体的に説明するが、勿論本発明の範囲は、これらによって限定されるものではない。
〔実施例１〕（マグネタイト粉末粒子の白色化、水系２層被覆）
（第１層シリカ膜の製膜）
（１）緩衡液の調整
１リットルの水に対し、０．４Ｍの塩化カリウム試薬と０．４Ｍのホウ酸を溶解し、緩衡溶液１とした。
１リットルの水に対し、０．４Ｍの水酸化ナトリウムを溶解し、緩衡溶液２とした。
２５０ｍｌの上記緩衡溶液１と１１５ｍｌの上記緩衡溶液２とを混合均一化し、緩衡溶液３とした。
（２）ケイ酸ナトリウム水溶液（水ガラス溶液）
ケイ酸ナトリウム試薬を純水で希釈し、ＳｉＯ_２含有量が１０ｗｔ％になるように濃度調整した。
【００３９】
（３）シリカ製膜
基体粒子として１５ｇのマグネタイト粉末（平均粒径２．３μｍ）を、あらかじめ準備しておいた３６５ｍｌの緩衡溶液３（ｐＨ：約９．０）に入れ分散液とした。この分散液を入れた容器を、水を張った超音波洗浄機（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の水槽に入れ、２８ｋＨｚ、２００Ｗの超音波浴槽中で超音波をかけながら、さらに、マグネタイト粉を緩衡溶液３中で撹拌しながら分散させた。これに、同じくあらかじめ用意しておいた２０ｍｌのケイ酸ナトリウム水溶液を４０ｍｌ／分で添加し、徐々に反応分解させ、表面にシリカ膜を析出させた。
ケイ酸ナトリウム水溶液添加終了後、さらに、２時間反応させ、未反応原料をすべて反応させた。製膜反応終了後、シリカ製膜粉を含むスラリーを十分な水でデカンテーションを繰り返し、洗浄した。
洗浄後、シリカ製膜粉をバットに入れ、沈降分離し、上液を捨てた後、乾燥機で空気中で１５０℃、８時間乾燥し、シリカ被覆マグネタイト粉Ａ_１を得た。
【００４０】
（第２層チタニア膜の製膜）
（１）緩衡液の調整
１リットルの脱イオン水に対し、０．３Ｍの酢酸、０．９Ｍの酢酸ナトリウムを溶解し、緩衡溶液４とした。
（２）硫酸チタン水溶液
濃度が０．６Ｍ／リットルとなるように硫酸チタンを水に添加し、希釈調整し、硫酸チタン水溶液とした。
【００４１】
（３）チタニア製膜
５．５ｇの上記粉体Ａ_１に対し、２５０ｍｌの緩衡溶液４（ｐＨ：約４．１）を用意し、その緩衡溶液４中に粉体Ａ_１を、上記シリカ製膜時と同様に、超音波分散しながら、超音波浴槽中で十分に分散した。その後、液の温度を５０〜５５℃に保ちながら、あらかじめ用意しておいた硫酸チタン水溶液を１．９ｍｌ／分で滴下し、液中で固相微粒子を析出させ液を薄く白濁させた。その後、粉体Ａ_１表面に該固相微粒子を固定させるため、滴下速度を１．５ｍｌ／分に下げ、未反応分を徐々に析出させた。すると、液中に析出していた固相微粒子が基体粒子表面に固定され、またさらに、基体粒子表面に固定された固相微粒子よりも粒径が小さい超微粒子により、その表面が覆われた。
【００４２】
（４）洗浄乾燥
製膜反応終了後、純水でデカンテーションを繰り返し、未反応分と過剩硫酸および反応により形成された硫酸を除き、固液分離を行い、真空乾燥機で乾燥後、乾燥粉を得た。
得られた乾燥粉を、回転式チューブ炉で、５００℃で３０分加熱処理（焼成）を行い、表面が平滑なシリカ／チタニア被覆マグネタイト粉Ａ_２を得た。
この２層膜被覆粉体Ａ_２は黄帯白色であり、その１０ｋＯｅでの磁化は４０ｅｍｕ／ｇであった。この２層膜被覆粉体Ａ_２の最大反射ピークは６３０ｎｍであった。この２層膜被覆粉体Ａ_２のＬ^＊、ａ^＊、ｂ^＊標準表色系での値を表１に示す。
【００４３】
〔実施例２〕（マグネタイト粉末粒子の白色化、水系３層被覆）
（第１層シリカ膜の製膜）
（１）シリカ製膜
基体粒子として、１５ｇの球状マグネタイト粉末（平均粒径２．３μｍ）を、あらかじめ準備しておいた３６５ｍｌの前記緩衡溶液３（ｐＨ：約９．０）に入れ分散液とした。この分散液を入れた容器を、水を張った超音波洗浄機（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の水槽に入れ、２６ｋＨｚ、６００Ｗの超音波浴槽中で超音波をかけながら、さらに、マグネタイト粉を含む緩衡溶液３中で撹拌しながら分散させた。これに、同じくあらかじめ用意しておいた２３ｍｌのケイ酸ナトリウム水溶液を４０ｍｌ／分で添加し、徐々に反応分解させ、表面にシリカ膜を析出させた。
【００４４】
ケイ酸ナトリウム水溶液添加終了後、さらに２時間反応させ、未反応原料をすべて反応させた。製膜反応終了後、シリカ製膜粉を含むスラリーを十分な水でデカンテーションを繰り返し、洗浄した。洗浄後、シリカ製膜粉をバットに入れ、沈降分離し、上液を捨てた後、乾燥機で空気中で１５０℃、８時間乾燥した後、窒素雰囲気中で３００℃で３０分熱処理（焼成）して、シリカ被覆マグネタイト粉Ｂ_１を得た。
【００４５】
（第２層チタニア膜の製膜）
実施例１と同様に、緩衡溶液４および硫酸チタン水溶液を調製、準備した。
５．５ｇの上記粉体Ｂ_１に対し、２５０ｍｌの前記緩衡溶液４（ｐＨ：約４．１）を用意し、その緩衡溶液４中に粉体Ｂ_１を、上記シリカ製膜時と同様に、超音波分散しながら、超音波浴槽中で十分に分散した。その後、液の温度を５０〜５５℃に保ちながら、あらかじめ用意しておいた硫酸チタン水溶液を１．８ｍｌ／分の一定速度で徐々に滴下した。
滴下初期時には、液中に固相微粒子が析出したが、基体粒子表面に固定され、またさらに、基体粒子表面に固定された固相微粒子よりも粒径の小さい超微粒子によりその表面が覆われた、シリカ／チタニア被覆マグネタイト粉Ｂ_２を得た。
この２層膜被覆粉体Ｂ_２は黄帯白色であり、最大反射ピークは６３０ｎｍであり、実施例１で得られた粉体Ａ_２と同様であった。
この粉体Ｂ_２の表面は僅かに凹凸があり、部分的にチタニア粒子の凸部もみられた。
【００４６】
（第３層シリカ膜の製膜、シリカ薄膜により前記チタニア膜表面を閉じ込めた場合）
実施例１と同様に、緩衡溶液１、２およびケイ酸ナトリウム水溶液（水ガラス溶液）の調製を行った。
上記粉体シリカ／チタニア被覆マグネタイト粉Ｂ_２にシリカ膜の製膜を行った。緩衝溶液量は上記第１層被覆と同様であったが、ケイ酸ナトリウム水溶液の滴下速度は同じにして滴下量を８ｍｌとして製膜を行い、未反応物がなくなるまで、２時間反応させ、前記と同様に洗浄し、洗浄後、回転式チューブ炉で、窒素雰囲気中で６００℃で３０分加熱処理（焼成）を行い、シリカ／チタニア被覆マグネタイト粉Ｂ_３を得た。
【００４７】
得られた粉体Ｂ_３は、表面が平滑なシリカ膜２層の間に、チタニア微粒子が結晶化し、光散乱が大きい白色の粉体となった。Ｂ_３の表面は、凹凸がなくなり、ほぼ平滑で、また穴や割れ、くぼみ等はなかった。Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊標準表色系での値を表１に示す。
透過電子顕微鏡での観察において、シリカ層２層の間に、チタニア微粒子の結晶化が認められ、粒子間に空隙が存在していたため、粒子と空隙の間で散乱反射が大きくなったものと考えられる。
【００４８】
〔実施例３〕（散乱粒子を表面に付着した場合、水系４層被覆）
（第１層シリカ膜の製膜）
基体粒子として、２０ｇのマグネタイト粉（平均粒径０．７μｍ）を、実施例１と同様に、あらかじめ準備しておいた５８０ｇの緩衡溶液３（ｐＨ：約９．０）に入れ分散液とし、２８ｋＨｚ、６００Ｗの超音波浴槽中で超音波をかけながら、さらに、マグネタイト粉を含む緩衡溶液３中で撹拌しながら分散させた。これに、同じくあらかじめ用意しておいた１６０ｍｌのケイ酸ナトリウム水溶液を２．６７ｍｌ／分で徐々に添加し、表面にシリカ膜を析出させた。
【００４９】
ケイ酸ナトリウム水溶液添加終了後、さらに２時間反応させ、未反応原料をすべて反応させた。
製膜反応終了後、シリカ製膜粉を含むスラリーを十分な水でデカンテーションを繰り返し、洗浄した。
洗浄後、シリカ製膜粉をバットに入れ、沈降分離し、上液を捨てた後、乾燥機で空気中で１５０℃、８時間乾燥し、シリカ被覆マグネタイト粉Ｃ_１を得た。
【００５０】
（第２層チタニア膜の製膜）
１５ｇの上記粉体Ｃ_１に対し、４００ｍｌの純水を用意し、その純水中にＣ_１を、上記シリカ製膜時と同様に、超音波分散しながら、超音波浴槽中で十分に分散した。その後、液の温度を５０〜５５℃に保ちながら、あらかじめ用意しておいた、４０５ｍｌの硫酸チタニル水溶液（ＴｉＯ_２、１５ｗ％）を１．２５ｍｌ／分の一定速度で徐々に滴下し、液を僅かに白濁させながら滴下を終了させた。
滴下終了後、さらに３時間反応を行い、未反応分を徐々に析出させ、その粒子を膜の中に取り込んだ。
製膜反応終了後、十分な純水でデカンテーションを繰り返し、未反応分と過剰硫酸および反応により形成された硫酸を除き、固液分離を行い、真空乾燥機で乾燥後、乾燥粉を得た。
得られた乾燥粉を、回転式チューブ炉で、５００℃で３０分加熱処理（焼成）を行い、シリカ／チタニア被覆マグネタイト粉Ｃ_２を得た。
この２層膜被覆粉体Ｃ_２は帯黄緑白色であり、最大反射ピークは５８０ｎｍで３２％であった。この２層膜被覆粉体Ｃ_２のＬ^＊、ａ^＊、ｂ^＊標準表色系での値を表１に示す。
【００５１】
（第３層シリカ膜の製膜）
１５ｇのシリカ／チタニア被覆マグネタイト粉Ｃ_２に対し、１層目と同様に、あらかじめ準備しておいた５８０ｇの緩衡溶液３（ｐＨ：約９．０）に入れ、２８ｋＨｚ、６００Ｗの超音波浴槽中で超音波をかけながら、さらに、マグネタイト粉を含む緩衡溶液３中で撹拌しながら分散させた。これに、同じくあらかじめ用意しておいた２２０ｍｌのケイ酸ナトリウム水溶液を２．６７ｍｌ／分で徐々に添加し、表面にシリカ膜を析出させた。
ケイ酸ナトリウム水溶液添加終了後、さらに２時間反応させ、未反応原料をすべて反応させた。
製膜反応終了後、シリカ製膜粉を含むスラリーを十分な水でデカンテーションを繰り返し、洗浄した。
洗浄後、シリカ製膜粉をバットに入れ、沈降分離し、上液を捨てた後、乾燥機で空気中で１５０℃、８時間乾燥し、シリカ被覆マグネタイト粉Ｃ_３を得た。
【００５２】
（第４層チタニア膜の製膜）
１２ｇの上記粉体Ｃ_３に対し、４００ｍｌの純水を用意し、その純水中に粉体Ｃ_３を、上記シリカ製膜時と同様に、超音波分散しながら、超音波浴槽中で十分に分散した。その後、液の温度を５０〜５５℃に保ちながら、あらかじめ用意しておいた、４０５ｍｌの硫酸チタニル水溶液（ＴｉＯ_２、１５ｗ％）を１．２５ｍｌ／分の一定速度で徐々に滴下し、固相微粒子を析出させ液を僅かに白濁させながら滴下を終了させた。 滴下終了後、さらに３時間反応を行い、未反応分を徐々に固相微粒子として析出させ、その微粒子を膜の中に取り込んだ。
製膜反応終了後、十分な純水でデカンテーションを繰り返し、未反応分と過剰硫酸および反応により形成された硫酸を除き、固液分離を行い、真空乾燥機で乾燥後、乾燥粉を得た。
【００５３】
得られた乾燥粉を、回転式チューブ炉で、５００℃で３０分加熱処理（焼成）を行い、シリカ／チタニア被覆マグネタイト粉Ｃ_４を得た。
この４層膜被覆粉体Ｃ_４は黄帯白色であり、最大反射ピークは６２０ｎｍで５３％であった。この４層膜被覆粉体Ｃ_４のＬ^＊、ａ^＊、ｂ^＊標準表色系での値を表１に示す。また、この４層膜被覆粉体Ｃ_４とその膜構成の透過型顕微鏡写真を図３および図４に示す。
【００５４】
〔実施例４〕（金属鉄粉の白色化、金属アルコキシドの加水分解による３層被覆）
（第１層シリカ膜の製膜）
２０ｇのＢＡＳＦ製カーボニル鉄粉（平均粒径１．８μｍ，１０ｋＯｅでの磁化は２０３ｅｍｕ／ｇ）を、あらかじめ１５８．６ｇのエタノールに３．５ｇのシリコンエトキシドを溶解した溶液中で分散した後、攪拌しながら、あらかじめ用意しておいた８．０ｇのアンモニア水（２９％）および８．０ｇの脱イオン水の混合溶液を添加した。添加後、５時間、常温で反応させた。反応後、十分なエタノールで希釈洗浄し、濾過し、真空乾燥機で１１０℃、３時間乾燥した。乾燥後、回転式チューブ炉を用いて、窒素雰囲気中で８００℃で３０分熱処理（焼成）を施し、冷却し、シリカコート鉄粉Ｄ_１を得た。
【００５５】
（第２層チタニア膜の製膜）
セパラブルフラスコ中で、２０ｇの上記シリカコート粉体Ｄ_１を、あらかじめ１９８．３ｇのエタノールに４．６ｇのチタンイソプロポキシドを加えた液中に分散した後、攪拌しながら、あらかじめ用意しておいた６．０ｇの純水を４７．９ｇのエタノールに混合した溶液を１時間かけて、滴下した。滴下後、５時間、常温で反応させた。反応後、十分なエタノールで希釈洗浄し、濾過し、真空乾燥機で１１０℃、３時間乾燥し，シリカ／チタニアコート鉄粉Ｄ_２を得た。
乾燥後のチタニア層を透過電子顕微鏡を用いて層内の粒子状態を観察したところ、１〜１０ｎｍの酸化チタン固相微粒子がみられたが、膜の内部には粒子間の空隙はなく均一に充填されていた。
この酸化チタン膜の平均膜厚は１５５ｎｍであり、６００ｎｍに分光反射曲線のピーク波長を有し、帯黄緑白色であり、ピーク波長での反射率は４５％であった。
【００５６】
（第３層シリカ膜の製膜）
２０ｇのシリカ／チタニアコート鉄粉Ｄ_２を、あらかじめ１５８．６ｇのエタノールに０．５ｇのシリコンエトキシドを溶解した溶液中で分散した後、攪拌しながら、あらかじめ用意しておいた３．０ｇのアンモニア水（２９％）および脱３．０ｇのイオン水の混合溶液を添加した。添加後、１時間、常温で反応させた。反応後、十分なエタノールで希釈洗浄し、濾過し、真空乾燥機で１１０℃、３時間乾燥した。乾燥後、更に窒素雰囲気中で６５０℃で３０分熱処理（焼成）を施し、冷却し、シリカ／チタニアコート鉄粉Ｄ_３を得た。
熱処理後のチタニア層を透過電子顕微鏡を用いて層内の粒子状態を観察したところ、１０〜１５０ｎｍの酸化チタン結晶化微粒子がみられ、それぞれの粒子間には１０〜５０ｎｍ程度の空隙が認められた。
しかし、シリカ層は緻密であり、粒子はなく、また平滑であった。さらに、チタニアとの界面には、空隙が存在していた。
【００５７】
この粉体Ｄ_３の最大反射ピーク波長は５５０ｎｍで、反射率５５％の緑味を帯びた白色となった。
この実施例４から、熱処理（焼成）の有無によりチタニア粒子の結晶粒子化と、粒子化に伴う粒子間およびシリカ膜との間の空隙が見られ、これらの粒子化にともなう散乱反射効果により、白色化が達成されたと考えられる。
また、この実施例４の白色粉体は最終被覆層に緻密な膜を形成することが特徴の一つである。これまでの最終層のように高屈折率膜という限定でなく、干渉、散乱に影響のない緻密な膜で空隙を被覆する。従来技術では、得られた粉体をトナーや塗料等の顔料として用いる際に、空隙に樹脂やビヒクルが入り込み、干渉あるいは散乱粒子との屈折率の差が小さくなり、フレネル反射率が低下することがあった。しかし、最終層を干渉、散乱に影響のない緻密な膜として、粒子構成膜の空隙を被覆することにより、上記散乱反射の低下を防ぐことができる。
【００５８】
〔実施例５〕（金属鉄粉の白色化、金属アルコキシドの加水分解による５層被覆）
（第１層シリカ膜の製膜）
２０ｇのＢＡＳＦ製カーボニル鉄粉（平均粒径１．８μｍ，１０ｋＯｅでの磁化は２０３ｅｍｕ／ｇ）を、あらかじめ１５８．６ｇのエタノールに４．４ｇのシリコンエトキシドを溶解した溶液中で分散した後、攪拌しながら、あらかじめ用意しておいた８．０ｇのアンモニア水（２９％）および８．０ｇの脱イオン水の混合溶液を添加した。添加後、５時間、常温で反応させた。反応後、十分なエタノールで希釈洗浄し、濾過し、真空乾燥機で１１０℃、３時間乾燥した。乾燥後、さらに回転式チューブ炉を用いて、窒素雰囲気中で６００℃で３０分熱処理（焼成）を施し、冷却し、シリカコート鉄粉Ｅ_１を得た。
【００５９】
（第２層チタニア膜の製膜）
セパラブルフラスコ中で、２０ｇの上記シリカコート粉体Ｅ_１を、あらかじめ１９８．３ｇのエタノールに８．１ｇのチタンイソプロポキシドを加えた液中に分散した後、攪拌しながら、あらかじめ用意しておいた６．３ｇの純水を４７．９ｇのエタノールに混合した溶液を１時間かけて、滴下した。滴下後、３時間、常温で反応させた。反応後、十分なエタノールで希釈洗浄し、濾過し、真空乾燥機で１００℃、８時間乾燥し，シリカ／チタニアコート鉄粉Ｅ_２を得た。
この酸化チタン膜の平均膜厚は１７０ｎｍであり、６６７ｎｍに分光反射曲線のピーク波長を有し、黄緑味を帯びた白色であり、ピーク波長での反射率は４８％であった。
【００６０】
（第３層シリカ膜の製膜）
２０ｇのシリカ／チタニアコート鉄粉Ｅ_２を、あらかじめ１５８．６ｇのエタノールに３．７ｇのシリコンエトキシドを溶解した溶液中で分散した後、攪拌しながら、あらかじめ用意しておいた８．０ｇのアンモニア水（２９％）および８．０ｇの脱イオン水の混合溶液を添加した。添加後、５時間、常温で反応させた。反応後、十分なエタノールで希釈洗浄し、濾過し、真空乾燥機で１１０℃、３時間乾燥した。乾燥後、さらに回転式チューブ炉を用いて、窒素雰囲気中で６００℃で３０分熱処理（焼成）を施し、冷却し、シリカ／チタニアコート鉄粉Ｅ_３を得た。
【００６１】
（第４層チタニア膜の製膜）
セパラブルフラスコ中で、２０ｇの上記シリカコート粉体Ｅ_３を、あらかじめ１９８．３ｇのエタノールに８．８ｇのチタンイソプロポキシドを加えた液中に分散した後、攪拌しながら、あらかじめ用意しておいた６．０ｇの純水を４７．９ｇのエタノールに混合した溶液を１時間かけて、滴下した。滴下後、４時間、常温で反応させた。反応後、十分なエタノールで希釈洗浄し、濾過し、真空乾燥機で１００℃、８時間乾燥し，シリカ／チタニアコート鉄粉Ｅ_４を得た。
【００６２】
（第５層シリカ膜の製膜）
２０ｇのシリカ／チタニアコート鉄粉Ｅ_４を、あらかじめ１５８．６ｇのエタノールに２．５ｇのシリコンエトキシドを溶解した溶液中で分散した後、攪拌しながら、あらかじめ用意しておいた３．０ｇのアンモニア水（２９％）および３．０ｇの脱イオン水の混合溶液を添加した。添加後、５時間、常温で反応させた。反応後、十分なエタノールで希釈洗浄し、濾過し、真空乾燥機で１１０℃、３時間乾燥した。乾燥後、さらに回転式チューブ炉を用いて、窒素雰囲気中で６００℃で３０分熱処理（熱処理）を施し、冷却し、シリカ／チタニアコート鉄粉Ｅ_５を得た。
この酸化チタン膜の平均膜厚は１５２ｎｍであった。また、この鉄粉Ｅ_５は５８０ｎｍに分光反射曲線のピーク波長を有し、帯黄緑白色であり、ピーク波長での最大反射率は８８％であった。
上記の結果より、チタニア粒子の結晶粒子化による空隙を有するチタニア被覆層は１層（第２層）よりも２層（第２層および第４層）に有することにより、高度の白色化が達成された。
【００６３】
〔実施例６〕（マグネタイト粉末粒子の白色化、水系２層被覆、既存チタニア粒子の使用）
（第１層シリカ膜の製膜）
（１）シリカ製膜
基体粒子として１０ｇのマグネタイト粉末（平均粒径０．７μｍ）を、あらかじめ用意しておいた前記緩衡溶液３の５４０ｍｌに投入し、よく分散した。この懸濁液を入れた容器を、６００Ｗ、２８ｋＨｚの超音波洗浄槽（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の水槽に入れ、５５０ｒｐｍにて撹拌する。撹拌開始と同時に超音波を照射する。
次に、１０重量％ケイ酸ナトリウム水溶液の所定量９０ｇを、１．３４ｍｌ／分の滴下速度で、先の撹拌している懸濁液中に滴下する。滴下終了後、さらに１時間攪拌を続け、原料マグネタイト表面にシリカ製膜を行う。
所定時間経過後、シリカ製膜粉体を含むスラリーを十分なイオン交換水にてデカンテーションを繰り返し、洗浄した。洗浄操作後、シリカ製膜粉体を含むスラリーを１１０℃にて８時間乾燥し、シリカ被覆マグネタイト粉Ｆ_１を得た。
【００６４】
（第２層チタニア膜の製膜）
（１）硫酸チタン水溶液の調製
ＴｉＯ_２濃度が２．０４Ｍの硫酸チタニル原液を、ＴｉＯ_２濃度が０．１４Ｍとなるようにイオン交換水にて希釈し、硫酸チタン水溶液を調製した。
【００６５】
（２）チタニア製膜
上記粉体Ｆ_１とチタニア粒子（石原産業（株）製ＣＲ−５０、平均粒径２５０ｎｍ）を、重量比で１：１の割合で良く混合させた原料粉４ｇを、イオン交換水４００ｍｌ中に懸濁させる。この懸濁液の入った容器を、５０℃に保温した恒温水槽に浸け、６００ｒｐｍにて攪拌する。
懸濁液の液温が５０℃になったところで、上記硫酸チタン水溶液の所定量１４９ｇ（１４４ｍｌ）を０．５ｍｌ／分の滴下速度で滴下する。滴下終了後、さらに９０分攪拌を続け、粉体Ｆ_１上にチタニア製膜を行う。
所定時間経過後、チタニア製膜粉を含むスラリーを十分なイオン交換水にてデカンテーションを繰り返し、洗浄した。洗浄操作終了後、チタニア製膜粉を含むスラリーを１１０℃にて８時間乾燥させ、チタニア被膜マグネタイト粉Ｆ_２を得た。
【００６６】
得られた粉体Ｆ_２は粉体Ｆ_１上にチタニア製膜されると同時に、原料粉に添加したチタニア粒子がその表面上に緻密に付着しており、光の散乱作用が十分に発生するために白灰色を呈している。またその最大反射率は４２０ｎｍで３３％を示し、Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊標準表色系では、表１に示すように、Ｌ^＊＝８８．２、ａ^＊＝−０．４、ｂ^＊＝−４．５であった。
また得られたチタニア被膜マグネタイト粉Ｆ_２の表面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、基体粒子の表面上にチタニア粒子が緻密に付着しており、さらにチタニア粒子間隙には、硫酸チタン水溶液から析出したより細かいチタニア粒子が付着していた。
【００６７】
〔実施例７〕（マグネタイト粉末粒子の白色化、水系２層被覆、既存チタニア粒子を含有するシリカ層被膜）
（第１層シリカ膜の製膜）
（１）シリカ製膜
基体粒子として粒状マグネタイト粉末（平均粒径１．０μｍ）１５ｇを、あらかじめ用意しておいた前記緩衡溶液３の８００ｍｌに投入し、よく分散した。この懸濁液を入れた容器を、２００Ｗ、２８ｋＨｚの超音波洗浄槽（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の水槽に入れ、撹拌する。撹拌開始と同時に超音波を照射する。次に、１０重量％ケイ酸ナトリウム水溶液５０ｍｌを、４０ｍｌ／分の滴下速度で滴下し、徐々に反応分解させ、表面にシリカ膜を析出させた。ケイ酸ナトリウム水溶液を滴下終了後、さらに２時間反応させ、未反応原料をすべて反応させた。
製膜反応終了後、シリカ製膜粉体を含むスラリーを十分なイオン交換水にてデカンテーションを繰り返し、洗浄した。
洗浄操作後、シリカ製膜粉体をバットに入れ、沈降分離し、上液を捨てた後、乾燥機で１３０℃、８時間乾燥後、空気中で５００℃で、３０分熱処理し、シリカ被覆マグネタイト粉Ｇ_１を得た。
【００６８】
（第２層結晶化微粒子構成膜（散乱性膜）の製膜）
上記シリカコートマグネタイト粉体Ｇ_１１４ｇと酸化チタン結晶超微粒子（石原産業（株）製ＣＲ−５０）１３ｇを、前記緩衡溶液３の８００ｍｌに投入し、よく分散した。この懸濁液を入れた容器を、２００Ｗ、２８ｋＨｚの超音波洗浄槽（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の水槽に入れ、撹拌する。撹拌開始と同時に超音波を照射する。
次に、１０重量％ケイ酸ナトリウム水溶液６０ｍｌを、４０ｍｌ／分の滴下速度で滴下し、徐々に反応分解させ、表面にシリカ膜を析出させた。ケイ酸ナトリウム水溶液を滴下終了後、さらに２時間反応させ、未反応原料をすべて反応させた。
【００６９】
製膜反応終了後、シリカ製膜粉体を含むスラリーを十分なイオン交換水にてデカンテーションを繰り返し、洗浄した。
洗浄操作後、シリカ製膜粉体をバットに入れ、沈降分離し、上液を捨てた後、乾燥機で１３０℃、８時間乾燥後、空気中で５００℃で、３０分熱処理し、シリカ被覆マグネタイト粉Ｇ_２を得た。
得られた粉体の磁性は、１ｋＯｅで２０ｅｍｕ／ｇであり、Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊標準表色系では、Ｌ^＊＝６６であった。
【００７０】
〔実施例８〕（マグネタイト粉末粒子の白色化、水系３層被覆、既存チタニア粒子を含有するシリカ２層被膜）
（第１層シリカ膜の製膜）
（１）シリカ製膜
基体粒子として粒状マグネタイト粉末（平均粒径１．０μｍ）１５ｇを、あらかじめ用意しておいた前記緩衡溶液３の８００ｍｌに投入し、よく分散した。この懸濁液を入れた容器を、２００Ｗ、２８ｋＨｚの超音波洗浄槽（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の水槽に入れ、撹拌する。撹拌開始と同時に超音波を照射する。次に、１０重量％ケイ酸ナトリウム水溶液５０ｍｌを、４０ｍｌ／分の滴下速度で滴下し、徐々に反応分解させ、表面にシリカ膜を析出させた。ケイ酸ナトリウム水溶液を滴下終了後、さらに２時間反応させ、未反応原料をすべて反応させた。
製膜反応終了後、シリカ製膜粉体を含むスラリーを十分なイオン交換水にてデカンテーションを繰り返し、洗浄した。
洗浄操作後、シリカ製膜粉体をバットに入れ、沈降分離し、上液を捨てた後、乾燥機で１３０℃、８時間乾燥後、空気中で５００℃で、３０分熱処理し、シリカ被覆マグネタイト粉Ｈ_１を得た。
【００７１】
（第２層結晶化微粒子構成膜（散乱性膜）の製膜）
上記シリカコートマグネタイト粉体Ｈ_１１４ｇと酸化チタン結晶超微粒子（石原産業（株）製ＣＲ−５０）７ｇを、前記緩衡溶液３の８００ｍｌに投入し、よく分散した。この懸濁液を入れた容器を、２００Ｗ、２８ｋＨｚの超音波洗浄槽（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の水槽に入れ、撹拌する。撹拌開始と同時に超音波を照射する。
次に、１０重量％ケイ酸ナトリウム水溶液３０ｍｌを、４０ｍｌ／分の滴下速度で滴下し、徐々に反応分解させ、表面にシリカ膜を析出させた。ケイ酸ナトリウム水溶液を滴下終了後、さらに２時間反応させ、未反応原料をすべて反応させた。
【００７２】
製膜反応終了後、シリカ製膜粉体を含むスラリーを十分なイオン交換水にてデカンテーションを繰り返し、洗浄した。
洗浄操作後、シリカ製膜粉体をバットに入れ、沈降分離し、上液を捨てた後、乾燥機で１３０℃、８時間乾燥後、空気中で５００℃で、３０分熱処理し、シリカ被覆マグネタイト粉Ｈ_２を得た。
得られた粉体の磁性は、１ｋＯｅで３０ｅｍｕ／ｇであり、Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊標準表色系では、Ｌ^＊＝５６であった。
【００７３】
（第３層結晶化微粒子構成膜（散乱性膜）の製膜）
上記粉体Ｈ_２と酸化チタン結晶超微粒子（ＣＲ−５０）７ｇを、前記緩衡溶液３の８００ｍｌに投入し、よく分散した。この懸濁液を入れた容器を、２００Ｗ、２８ｋＨｚの超音波洗浄槽（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の水槽に入れ、撹拌する。撹拌開始と同時に超音波を照射する。
次に、１０重量％ケイ酸のケイ酸ナトリウム水溶液３０ｍｌを、４０ｍｌ／分の滴下速度で滴下し、徐々に反応分解させ、表面にシリカ膜を析出させた。ケイ酸ナトリウム水溶液を滴下終了後、さらに２時間反応させ、未反応原料をすべて反応させた。
【００７４】
製膜反応終了後、シリカ製膜粉体を含むスラリーを十分なイオン交換水にてデカンテーションを繰り返し、洗浄した。
洗浄操作後、シリカ製膜粉体をバットに入れ、沈降分離し、上液を捨てた後、乾燥機で１３０℃、８時間乾燥後、空気中で５００℃で、３０分熱処理し、シリカ被覆マグネタイト粉Ｈ_３を得た。
得られた粉体の磁性は、１ｋＯｅで２０ｅｍｕ／ｇであり、Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊標準表色系では、Ｌ^＊＝７７であった。
【００７５】
〔比較例１〕（結晶化微粒子構成膜によらない、マグネタイト粉末粒子の水系２層被覆）
（第１層シリカ膜の製膜）
（１）シリカ製膜
基体粒子として１０ｇのマグネタイト粉末（平均粒径０．７μｍ）を、予め用意しておいた前記緩衡溶液３の５４０ｍｌに投入し、よく分散した。この懸濁液を入れた容器を、６００Ｗ、２８ｋＨｚの超音波洗浄槽（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の水槽に入れ、５５０ｒｐｍにて撹拌する。撹拌開始と同時に超音波を照射する。
次に、１０重量％ケイ酸ナトリウム水溶液の所定量９０ｇを、１．３４ｍｌ／分の滴下速度で、先の撹拌している懸濁液中に滴下する。滴下終了後、さらに１時間攪拌を続け、原料マグネタイト表面にシリカ製膜を行う。
所定時間経過後、シリカ製膜粉体を含むスラリーを十分なイオン交換水にてデカンテーションを繰り返し、洗浄した。洗浄操作後、シリカ製膜粉体を含むスラリーを１１０℃にて８時間乾燥し、シリカ被覆マグネタイトＩ_１を得た。
【００７６】
（１）チタニア製膜
上記粉体Ｉ_１４ｇを、イオン交換水４００ｍｌ中に懸濁させる。この懸濁液の入った容器を、５０℃に保温した恒温水槽に浸け、６００ｒｐｍにて攪拌する。攪拌開始と同時に超音波を照射する。
懸濁液の液温が５０℃になったところで、前記実施例６の硫酸チタン水溶液の所定量１４９ｇ（１４４ｍｌ）を０．５ｍｌ／分の滴下速度で滴下する。滴下終了後、さらに９０分攪拌を続け、粉体Ｉ_１上にチタニア製膜を行う。
所定時間経過後、チタニア製膜粉を含むスラリーを十分なイオン交換水にてデカンテーションを繰り返し、洗浄した。洗浄操作終了後、チタニア製膜粉を含むスラリーを１１０℃にて８時間乾燥させ、チタニア被膜マグネタイト粉Ｉ_２を得た。
【００７７】
得られた粉体Ｉ_２は、その表面にチタニア粒子が付着していないため暗い青色を呈しており、その最大反射率は４００ｎｍで１５％であった。また、Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊標準表色系では、表１に示すように、Ｌ^＊＝４０．８、ａ^＊＝−１．２、ｂ^＊＝−６．１であった。
【００７８】
【表１】

【００７９】
上記実施例１〜８で得られた粉体はいずれも標準表色系によるＬ^＊値が高く、白色度が大きいものであった。特に実施例６の粉体は、結晶化微粒子構成膜の微粒子として既存微粒子を用いたため、該微粒子の粒径は比較的大きく、散乱反射が大きいものとなる。よって実施例６の粉体は、２層被膜であるにもかかわらず標準表色系によるＬ^＊値は８８．２と大きいものであった。
【００８０】
〔実施例９〕（板状磁性体を用いた白色粉体）
（第１層シリカ膜の製膜）
平均粒径２．８μｍの板状Ｂａ系フェライト粉３０ｇを、あらかじめ用意しておいた、前記緩衝溶液３の８００ｍｌに投入し良く分散した。この緩衝液を入れた容器を、２００Ｗ、２８ｋＨｚの超音波洗浄槽（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の水槽に入れ、撹拌する。撹拌と同時に超音波を照射する。次に、５ｗｔ％ケイ酸ナトリウム水溶液４３０ｍｌを８０ｍｌ／分の滴下速度で滴下し、徐々に反応分解させ、表面にシリカ膜を析出させた。ケイ酸ナトリウム水溶液を滴下終了後、さらに２時間反応させ、未反応原料をすべて反応させた。
製膜反応終了後、シリカ製膜粉体を含むスラリーを十分なイオン交換水にてデカンテーションを繰り返し、洗浄した。洗浄操作後、シリカ製膜粉体をバットに入れ、沈降分離し、上液を捨てた後、乾燥機で１３０℃、８時間乾燥後、窒素ガス中で、３０分間熱処理し、シリカ被覆板状Ｂａ系フェライト粉Ｊ_１を得た。
【００８１】
（第２層結晶化微粒子構成膜（散乱微粒子膜）の製膜）
上記シリカ被覆板状Ｂａ系フェライト粉Ｊ_１を２０ｇと、酸化チタン微粒子（ＣＲ−５０）１４ｇを、前記緩衝溶液３の８００ｍｌに投入し良く分散した。この緩衝液を入れた容器を、２００Ｗ、２８ｋＨｚの超音波洗浄槽（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の水槽に入れ、撹拌する。撹拌と同時に超音波を照射する。次に、５ｗｔ％ケイ酸ナトリウム水溶液４９０ｍｌを８０ｍｌ／分の滴下速度で滴下し、徐々に反応分解させ、表面にシリカ膜を析出させた。ケイ酸ナトリウム水溶液を滴下終了後、さらに２時間反応させ、未反応原料をすべて反応させた。
製膜反応終了後、シリカ製膜粉体を含むスラリーを十分なイオン交換水にてデカンテーションを繰り返し、洗浄した。洗浄操作後、シリカ製膜粉体をバットに入れ、沈降分離し、上液を捨てた後、乾燥機で１３０℃、８時間乾燥後、窒素ガス中で、３０分間熱処理し、シリカ／チタニア被覆板状Ｂａ系フェライト粉Ｊ_２を得た。
得られた粉体Ｊ_２の磁性は１ｋＯｅで磁化２０ｅｍｕ／ｇであり、Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊標準表色系では、表２に示すように、Ｌ^＊＝６７であった。
【００８２】
〔実施例１０〕（板状磁性体を用いた白色粉体）
（第１層シリカ膜の製膜）
平均粒径２．８μｍの板状Ｂａ系フェライト粉３０ｇを、あらかじめ用意しておいた、前記緩衝溶液３の８００ｍｌに投入し良く分散した。この緩衝液を入れた容器を、２００Ｗ、２８ｋＨｚの超音波洗浄槽（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の水槽に入れ、撹拌する。撹拌と同時に超音波を照射する。次に、５ｗｔ％ケイ酸ナトリウム水溶液を８０ｍｌ／分の滴下速度で滴下し、徐々に反応分解させ、表面にシリカ膜を析出させた。ケイ酸ナトリウム水溶液を滴下終了後、さらに２時間反応させ、未反応原料をすべて反応させた。
製膜反応終了後、シリカ製膜粉体を含むスラリーを十分なイオン交換水にてデカンテーションを繰り返し、洗浄した。洗浄操作後、シリカ製膜粉体をバットに入れ、沈降分離し、上液を捨てた後、乾燥機で１３０℃、８時間乾燥後、窒素ガス中で、３０分間熱処理し、シリカ被覆板状Ｂａ系フェライト粉Ｋ_１を得た。
【００８３】
（第２層結晶化微粒子構成膜（散乱微粒子膜）の製膜）
上記シリカ被覆板状Ｂａ系フェライト粉Ｋ_１を２０ｇと、酸化チタン微粒子（ＣＲ−５０）１４ｇを、前記緩衝溶液４の１４４４ｍｌと純水１９００ｍｌの混合溶液に投入し良く分散した。この緩衝液を入れた容器を、２００Ｗ、２８ｋＨｚの超音波洗浄槽（（株）井内盛栄堂製、ＵＳ−６型）の水槽に入れ、撹拌する。撹拌と同時に超音波を照射する。次に、５ｗｔ％硫酸チタニル水溶液４６０ｍｌを４ｍｌ／分の滴下速度で滴下し、徐々に反応分解させ、表面にチタニア膜を析出させた。硫酸チタニル水溶液を滴下終了後、さらに２時間反応させ、未反応原料をすべて反応させた。
製膜反応終了後、チタニア製膜粉体を含むスラリーを十分なイオン交換水にてデカンテーションを繰り返し、洗浄した。洗浄操作後、チタニア製膜粉体をバットに入れ、沈降分離し、上液を捨てた後、乾燥機で１３０℃、８時間乾燥後、窒素ガス中で、３０分間熱処理し、シリカ／チタニア被覆板状Ｂａ系フェライト粉Ｋ_２を得た。
得られた粉体Ｋ_２の磁性は１ｋＯｅで磁化１８ｅｍｕ／ｇであり、Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊標準表色系では、表２に示すように、Ｌ^＊＝７７であった。
【００８４】
〔実施例１１〕（乾式被膜磁性体を用いた水系３層被覆）
平均粒径１．８μｍの鉄粉１ｋｇと平均粒径０．２ミクロンの酸化チタン粒子１．５ｋｇをホソカワミクロン製メカノフュージョン装置を用いて５分間、３回乾式混合粉砕し、膜が形成されたのを確認し、明度が向上した酸化チタン被覆鉄粉をＬ_１を得た。
予め用意した緩衝溶液３の２１２ｍｌに対し、同じく予め用意した純水２１２ｍｌを混合し、Ｌ_１１５ｇを添加し十分に混合した後、ＳｉＯ_２の混合率１０ｗｔ％の水ガラス溶液１３４ｍｌを撹拌しながら徐々に３時間かけて滴下撹拌した後、１時間反応を継続させた。反応後デカンテーションにより固液分離し、粉体を真空乾燥機で８時間乾燥後、回転式チューブ炉を用い、窒素雰囲気で５００℃で３０分熱処理し、シリカ／チタニア膜被覆鉄粉Ｌ_２を得た。
さらにシリカ／チタニア膜被覆鉄粉Ｌ_２４ｇを、４４６ｍｌの緩衝液４に十分分散させた後、硫酸チタニルのＴｉＯ_２１５ｗｔ％水溶液３５ｍｌを４時間かけて滴下し、滴下後、１時間反応させ、未反応原料を無くした。反応後デカンテーションにより固液分離し、粉体を真空乾燥機で８時間乾燥後、回転式チューブ炉を用い、窒素雰囲気で５００℃で３０分熱処理し、シリカ／チタニア膜被覆鉄粉Ｌ_３を得た。
この粉体Ｌ_３のＬ^＊、ａ^＊、ｂ^＊標準表色系では、表２に示すように、Ｌ^＊＝８１であった。またこの粉体の磁場１ｋＯｅの磁化は３２．１ｅｍｕ／ｇで、１０ｋＯｅの磁化は９５ｅｍｕ／ｇであった。
【００８５】
〔実施例１２〕（板状導電体を用いた白色粉体、金属アルコキシド加水分解による３層被覆）
（第１層被覆着色）
平均粒径１２ミクロン被覆板状アルミニウム粉（Ｌ^＊＝８０）１５ｇをエタノール１６０ｇに十分分散した後チタンイソプロポキシド７．０ｇを添加し、十分に混合した後、さらに予め用意しておいた水１２．０ｇ、エタノール１６０ｇの混合溶液を滴下し５時間反応させた。反応後デカンテーションにより固液分離し、粉体を真空乾燥後で８時間乾燥後、回転式チューブ炉を用い、窒素雰囲気で５００℃で３０分熱処理し、チタニア膜被覆板状アルミニウム粉Ｍ_１を得た。
この粉体のＬ^＊、ａ^＊、ｂ^＊標準表色系では、表２に示すように、Ｌ^＊＝は９０であった。
【００８６】
（第２層被覆）
チタニア被覆板状アルミニウム粉Ｍ_１１５ｇをエタノール１６０ｇに十分に分散した後、シリコンエトキシド１１．７ｇを添加し混合し、さらに、水１１．７ｇ、アンモニア水１５．５ｇを添加して、常温で撹拌しながら、３時間反応させた。反応後デカンテーションにより固液分離し、粉体を真空乾燥機で８時間乾燥後、回転式チューブ炉を用い、窒素雰囲気で５００℃で３０分熱処理し、シリカ／チタニア被覆板状アルミニウム粉Ｍ_２を得た。
【００８７】
（第３層着色膜被覆）
シリカ／チタニア被覆板状アルミニウム粉Ｍ_２１５ｇをエタノール１６０ｇに十分分散した後チタンイソプロポキシド９．２ｇを添加し、十分に混合した後、さらに予め用意しておいた水１５．６ｇ、エタノール６０ｇの混合溶液を滴下し５時間反応させた。反応後デカンテーションにより固液分離し、粉体を真空乾燥後で８時間乾燥後、回転式チューブ炉を用い、窒素雰囲気で５００℃で３０分熱処理し、シリカ／チタニア被覆板状アルミニウム粉Ｍ_３を得た。
この粉体Ｍ_３のＬ^＊、ａ^＊、ｂ^＊標準表色系では、表２に示すように、Ｌ^＊＝１０１であった。
【００８８】
【表２】

【００８９】
上記実施例９〜１２で得られた粉体はいずれも標準表色系によるＬ^＊値が高く、白色度が大きいものであった。
【００９０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の白色粉体およびその製造方法は、基体粒子の表面に被覆膜を有し、該被覆膜の少なくとも１層を結晶化微粒子と該結晶化微粒子相互間に空隙を有する結晶化微粒子の集合体とからなる層を形成することにより、結晶化粒子表面と空隙との屈折率差を大きくして、光の散乱反射を起こし、反射効果を高め、優れた明度（白色度）を有する機能性粉体を提供することが可能となった。
また結晶化超微粒子構成膜を製膜する際に、固相析出速度を調整して液中で可視光散乱反射する超微粒子を形成する方法に加え、既存の粒子を該膜に取り込ませて製膜することにより、該膜に含まれる結晶化超微粒子は比較的大きな粒径のものとなりやすいため、散乱反射の度合いも大きくなり、より明度の高い白色粉体とすることができる。
【００９１】
これらの優れた機能を有すると共に、基体として磁性体、導電体または誘電体を活用すると、電場、磁場などの外部要因により反応することにより移動力、回転、運動、発熱などの付加的な作用を発する機能をもち、例えば、基体として磁性体を適用すると、カラー磁性トナーやカラー磁性インキの顔料としても適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の白色粉体の一例の断面図である。
【図２】図１の白色粉体が有する結晶化微粒子構成膜２の断面拡大図である。
【図３】本発明の白色粉体の一例の透過型電子顕微鏡写真である。
【図４】図３の白色粉体が有する結晶化微粒子構成膜２の透過型電子顕微鏡写真である。
【符号の説明】
１ 基体粒子
２ 結晶化微粒子構成膜
３ 結晶化微粒子
４ 超微粒子

Claims (19)

1. 基体粒子の表面に被覆膜を有し、該被覆膜の少なくとも１層が光の散乱反射により白色を付与することができる結晶化微粒子と該結晶化微粒子相互間に空隙を有する結晶化微粒子の集合体として構成されたものであって、前記被覆膜の表面に、該表面の空隙を塞ぐことができる超微粒子で構成された緻密な被覆膜を有することを特徴とする白色粉体。
2. 基体粒子の表面に被覆膜を有し、該被覆膜の少なくとも１層が結晶化微粒子と該結晶化微粒子相互間に空隙を有する結晶化微粒子の集合体として構成され、該結晶化微粒子表面と空隙との間で生じる光の散乱反射により白色が付与されたものであって、前記被覆膜の表面に、該表面の空隙を塞ぐことができる超微粒子で構成された緻密な被覆膜を有することを特徴とする白色粉体。
3. 前記結晶化微粒子が粒径の不揃いなものであることを特徴とする請求項１または２記載の白色粉体。
4. 基体粒子の表面に有する被覆膜が多層膜であることを特徴とする請求項１または２記載の白色粉体。
5. 結晶化微粒子の集合体として構成された前記被覆膜が高屈折率膜であることを特徴とする請求項１または２記載の白色粉体。
6. 前記緻密膜がシリカ膜またはチタニア膜であることを特徴とする請求項１または２記載の白色粉体。
7. 結晶化微粒子の集合体として構成された前記被覆膜が、該被覆膜を製膜するための反応溶液中で固相微粒子を形成させ該固相微粒子を被覆膜中に取込ませた後に焼成することによって形成されたものであることを特徴とする請求項１または２記載の白色粉体。
8. 前記焼成を行う前に、前記固相微粒子を取込ませた被覆膜上を該被覆膜の表面の空隙を塞ぐ緻密な膜を構成することができる超微粒子で被覆したことを特徴とする請求項７記載の白色粉体。
9. 結晶化微粒子の集合体として構成された前記被覆膜が、該結晶化微粒子と基体粉体とを分散させた液中で、該結晶化微粒子を該基体粉体表面へ付着させること
   によって形成されたものであることを特徴とする請求項１または２記載の白色粉体。
10. 基体粒子の表面に被覆膜を形成して白色粉体を製造する方法において、該被覆膜の少なくとも１層を、光の散乱反射により白色を付与することができる結晶化微粒子と該結晶化微粒子相互間に空隙を有する結晶化微粒子の集合体として構成するとともに、前記被覆膜の表面に、該表面の空隙を塞ぐことができる超微粒子で緻密な膜を構成することを特徴とする白色粉体の製造方法。
11. 基体粒子の表面に被覆膜を形成して白色粉体を製造する方法において、該被覆膜の少なくとも１層を、結晶化微粒子と該結晶化微粒子相互間に空隙を有する結晶化微粒子の集合体として構成し、該結晶化微粒子表面と空隙との間で生じる光の散乱反射により白色を付与するとともに、前記被覆膜の表面に、該表面の空隙を塞ぐことができる超微粒子で緻密な膜を構成することを特徴とする白色粉体の製造方法。
12. 前記結晶化微粒子を粒径の不揃いなものとすることを特徴とする請求項１０または１１記載の白色粉体の製造方法。
13. 基体粒子の表面に形成する被覆膜を多層膜とすることを特徴とする請求項１０または１１記載の白色粉体の製造方法。
14. 結晶化微粒子の集合体として構成する前記被覆膜の表面に、該表面の空隙を塞ぐことができる超微粒子で緻密な膜を構成することを特徴とする請求項１０または１１記載の白色粉体の製造方法。
15. 結晶化微粒子の集合体として構成する前記被覆膜を高屈折率膜とすることを特徴とする請求項１０または１１記載の白色粉体の製造方法。
16. 前記緻密膜をシリカ膜またはチタニア膜とすることを特徴とする請求項１０または１１記載の白色粉体の製造方法。
17. 結晶化微粒子の集合体として構成する前記被覆膜を、該被覆膜を製膜するための反応溶液中で固相微粒子を形成させ該固相微粒子を膜中に取込ませた後に焼成することによって形成することを特徴とする請求項１０または１１記載の白色粉体の製造方法。
18. 前記焼成を行う前に、前記固相微粒子を取込ませた被覆膜上を該被覆膜の表面の空隙を塞ぐ緻密な膜を構成することができる超微粒子で被覆することを特徴とする請求項１７記載の白色粉体の製造方法。
19. 結晶化微粒子の集合体として構成された前記被覆膜を、該結晶化微粒子と基体粉体とを分散させた液中で、該結晶化微粒子を該基体粉体表面へ付着させることによって形成することを特徴とする請求項１０または１１記載の白色粉体。

Images