JP3546885B2 - Method for manufacturing color filter for liquid crystal display - Google Patents

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Description

本発明は、カラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a color filter used in a color liquid crystal display device.

液晶表示ディバイスをカラー化する一手段として、平行に配置された一対の透明電極を有するセル内にカラーフィルタ層(着色層)を設けたディスプレイが知られている。カラーフィルタの一般的構造としては、例えば、図4および図5に示すタイプのものが知られている。   As one means for colorizing a liquid crystal display device, a display in which a color filter layer (colored layer) is provided in a cell having a pair of transparent electrodes arranged in parallel is known. As a general structure of a color filter, for example, a structure shown in FIGS. 4 and 5 is known.

図4に示すカラーフィルタは、透明なガラス基板やフィルム等から構成された支持体100上に着色層200が形成されている。この着色層200は、レッド(R)、グリーン(G)およびブルー(B)の3色の画素200a,200b,200cを駆動画素面積に合わせて所定のタイプ(モザイク型,トライアングル型,ストライプ型等)でパターン化されている。そして、各画素200a,200b,200cの間には、ブラックマトリクス層300が形成されている。前記着色層200上には、透明の樹脂等からなる保護層400が形成され、さらに、この保護層400上には、ITO等からなる透明導電層500が形成されている。このようなカラーフィルタは、一般的には、TFT素子を有する基板と組み合わされてカラー表示用液晶ディスプレイを構成する。   In the color filter shown in FIG. 4, a colored layer 200 is formed on a support 100 made of a transparent glass substrate, a film, or the like. The colored layer 200 is formed by combining pixels 200a, 200b, and 200c of three colors of red (R), green (G), and blue (B) according to a driving pixel area in a predetermined type (mosaic type, triangle type, stripe type, and the like). ). A black matrix layer 300 is formed between the pixels 200a, 200b, and 200c. A protective layer 400 made of a transparent resin or the like is formed on the coloring layer 200, and a transparent conductive layer 500 made of ITO or the like is formed on the protective layer 400. Such a color filter is generally combined with a substrate having a TFT element to constitute a liquid crystal display for color display.

図5は、STN方式あるいは、MIM素子を有する駆動方式の液晶ディスプレイ装置に使用されるカラーフィルタの構造を示す。このカラーフィルタは、支持体100,着色層200,ブラックマトリクス層300および保護層400の構成においては、前記カラーフィルタと同様な構成を有する。透明導電層(ITO層)500は、着色層200を構成する各画素200a,200b,200cに対応してパターン化されている。   FIG. 5 shows the structure of a color filter used in a liquid crystal display device of the STN type or a driving type having an MIM element. This color filter has the same configuration as the color filter in the configuration of the support 100, the coloring layer 200, the black matrix layer 300, and the protective layer 400. The transparent conductive layer (ITO layer) 500 is patterned corresponding to each of the pixels 200a, 200b, and 200c constituting the colored layer 200.

以上例示したカラーフィルタは、着色層200上に透明導電層500が形成されていることから上ITO方式あるいはIOC(ITO on Color Filter)方式と呼ばれる。   The color filter exemplified above is called an upper ITO method or an IOC (ITO on Color Filter) method because the transparent conductive layer 500 is formed on the coloring layer 200.

このようなIOC方式を採用したカラーフィルタ、特に図5に示すタイプのカラーフィルタにおいては、対角10インチを越すような大型のものを低コストで製造することはなかなか難しい。それは、最上層に形成するITO層のパターン化に問題があるからである。   In a color filter adopting such an IOC method, in particular, a color filter of the type shown in FIG. 5, it is difficult to manufacture a large filter having a diagonal size exceeding 10 inches at low cost. This is because there is a problem in the patterning of the ITO layer formed on the uppermost layer.

ITO層は、一般的に、塩酸と硝酸と純水との混合液を用いて液温約40〜60℃でエッチングされた後、水酸化カリウムあるいは有機系アルカリ液等の剥離液を用いて液温約40〜60℃でレジストの剥離が行われ、パターニングされる。このため、着色層200上に形成された保護層400は十分な耐酸性ならびに耐アルカリ性が要求される。さらに、前記保護層400を構成する材料には、透明度が全波長領域に対して95%以上であること、ならびに耐熱性が230℃以上であることが要求される。保護層400に高い耐熱性が要求される理由は、ディスプレイが大型になるにしたがってITO層500の比抵抗を下げる必要があり、そのためにはITO層の成膜温度を約230℃以上の高温にする必要があるからである。このように、保護層400を形成する材料としては、耐酸性,耐アルカリ性,透明性および耐熱性等の点で高い特性が要求され、したがってこれらの条件を備えた有機系材料の選択には限界があるという問題を有している。   The ITO layer is generally etched at a solution temperature of about 40 to 60 ° C. using a mixed solution of hydrochloric acid, nitric acid, and pure water, and then is removed using a stripping solution such as potassium hydroxide or an organic alkaline solution. At a temperature of about 40 to 60 ° C., the resist is stripped and patterned. Therefore, the protective layer 400 formed on the coloring layer 200 is required to have sufficient acid resistance and alkali resistance. Further, the material constituting the protective layer 400 is required to have a transparency of 95% or more with respect to the entire wavelength region and a heat resistance of 230 ° C. or more. The reason why high heat resistance is required for the protective layer 400 is that it is necessary to lower the specific resistance of the ITO layer 500 as the size of the display increases, and for that purpose, the film formation temperature of the ITO layer is set to a high temperature of about 230 ° C. or higher. It is necessary to do it. As described above, the material for forming the protective layer 400 is required to have high characteristics in terms of acid resistance, alkali resistance, transparency, heat resistance, and the like. Therefore, there is a limit in selecting an organic material satisfying these conditions. There is a problem that there is.

また、IOC方式のカラーフィルタにおいては、有機系高分子からなる保護層400上に無機系のITO層500を形成することから、両者の線形熱膨張係数の相違からITO層に電気的な断線状態を発生させる可能性が高く、この点から歩留まりが低下する問題がある。   In the IOC type color filter, since the inorganic ITO layer 500 is formed on the protective layer 400 made of an organic polymer, the ITO layer is electrically disconnected due to the difference in linear thermal expansion coefficient between the two. Is highly likely to occur, and there is a problem that the yield is reduced from this point.

上記のようなIOC方式のカラーフィルタが有する問題点を解決するために、支持体の表面にITO層を形成し、さらにITO層の上に着色層を形成した下ITO方式あるいはCOI(Color Filter on ITO)方式のカラーフィルタが開発されている。このCOI方式のカラーフィルタによれば、前記IOC方式のカラーフィルタの製造におけるITO層のパターニングで生ずる問題を考慮する必要がないため、保護層の材料の選択範囲が拡大すること、さらに、保護層とITO層との線形熱膨脹係数の違いによるITO層の電気的断線の発生を抑制することができるというメリットを有している。   In order to solve the above-mentioned problems of the IOC color filter, an ITO layer is formed on the surface of the support, and a colored layer is formed on the ITO layer. The lower ITO method or COI (Color Filter on) is used. (ITO) color filters have been developed. According to the COI type color filter, it is not necessary to consider a problem caused by patterning of the ITO layer in the production of the IOC type color filter, so that the selection range of the material of the protective layer is expanded. This has the advantage that electrical disconnection of the ITO layer due to the difference in linear thermal expansion coefficient between the ITO layer and the ITO layer can be suppressed.

しかし、このCOI方式のカラーフィルタにおいては、着色層が絶縁膜として作用するという問題を生ずる。すなわち、カラーフィルタを構成する着色層の電気的キャパシタンスが液晶層の有するキャパシタンスに対して無視できない大きさとなるため、電極間に印加した電圧が液晶層と着色層とで分割された状態となる。そのため、液晶層に十分な実効電圧がかからずコントラストの低下を招いたり、素子の閾値電圧の上昇やその立ち上がりの急峻さを損なうという問題がある。   However, in this COI type color filter, there is a problem that the colored layer acts as an insulating film. That is, since the electrical capacitance of the coloring layer constituting the color filter is not negligible with respect to the capacitance of the liquid crystal layer, the voltage applied between the electrodes is divided between the liquid crystal layer and the coloring layer. Therefore, there is a problem that a sufficient effective voltage is not applied to the liquid crystal layer to cause a decrease in contrast, a rise in a threshold voltage of the element, or a loss of steepness of the rise.

次に、カラーフィルタの着色層を形成するための成膜装置の背景について説明する。   Next, the background of a film forming apparatus for forming a color layer of a color filter will be described.

液晶ディスプレイのカラーフィルタの製造工程、半導体装置のフォトレジスト層の形成工程等においては、均一な薄い塗着層の成膜が行われるが、それに用いられる成膜方法の代表的なものとして、スピンコート法がある。このスピンコート法は、回転する被塗着部材の内側に塗着液を滴下し、その遠心力によって、表面全域に塗着液を展開すると共に、余剰な塗着液を除去して均一な塗着層を形成するものである。しかしながら、この方法では、塗着液が受ける遠心力を利用するため、円板状の被塗着部材には適しているが、角形の被塗着部材では、隅部に対する膜厚制御が不可能であるので、被塗着部材全体を利用できないという問題がある。しかも、インラインで行うには不向きである。   In a process of manufacturing a color filter of a liquid crystal display, a process of forming a photoresist layer of a semiconductor device, and the like, a uniform thin coating layer is formed. There is a coating method. In this spin coating method, a coating liquid is dropped on the inside of a rotating member to be coated, and the centrifugal force spreads the coating liquid over the entire surface and removes excess coating liquid to form a uniform coating. It forms a deposition layer. However, in this method, the centrifugal force applied to the coating liquid is used, so that the method is suitable for a disc-shaped member to be coated. Therefore, there is a problem that the entire member to be coated cannot be used. Moreover, it is not suitable for performing in-line.

そこで、シート状の被塗着部材に対して多用されている転写成膜法の適用が考えられる。この転写成膜法の代表的なものがロールコータ法であり、これをカラーフィルタの製造工程に応用した場合には、図52に示すように、レジスト貯留槽201に貯留されたレジスト202をファンテン・ローラ203によって掻き上げた後、伝達ローラ204を介してコーティングローラ205に伝達する。そして、ガラス基板206を、その被塗着面がコーティングローラ205のローラ面に所定の圧力をもって圧接する状態で搬送し、その圧力によりレジストを転写して、ガラス基板206にレジスト膜202aをコーティングする。従って、四角形のガラス基板206全面に成膜でき、また連続式も可能である。   Therefore, application of a transfer film forming method often used for a sheet-shaped member to be coated is considered. A typical example of the transfer film forming method is a roll coater method. When this method is applied to a color filter manufacturing process, as shown in FIG. 52, a resist 202 stored in a resist storage tank 201 is cooled by a fan. After being picked up by the ten roller 203, the light is transmitted to the coating roller 205 via the transmission roller 204. Then, the glass substrate 206 is conveyed in a state where the surface to be coated is pressed against the roller surface of the coating roller 205 with a predetermined pressure, the resist is transferred by the pressure, and the glass substrate 206 is coated with the resist film 202a. . Therefore, a film can be formed on the entire surface of the square glass substrate 206, and a continuous type is also possible.

しかしながら、ロールコータ法においては、レジスト膜202aの厚さが、ガラス基板206に対する圧力、ガラス基板206の搬送速度、コーティングローラ205の回転速度などの多くの因子に依存し、しかもそれらの因子の制御が難しいという問題を有する。すなわち、ガラス基板206にはコーティングローラ205のローラ面205aに向けて圧力が加えられ、レジストはこの圧力によってガラス基板206に付着した後、ロール面205aとガラス基板206との離間動作によって剪断される。その剪断位置が膜厚さに反映されるものであり、この位置は、ロール面205a側へのレジストの付着力、レジスト自身の表面張力、及びガラス基板206側へのレジストの付着力のバランスにより規定される。これらの影響因子のうち、特に、ロール面205a側へのレジストの付着力は、ガラス基板206に加えられる圧力、ロール面205aの表面状態によって局部的に、経時的に変化しやすい性質のものである。従って、膜厚さが変動しやすく、カラーフィルタや半導体装置等の製造に十分対応できないものであった。   However, in the roll coater method, the thickness of the resist film 202a depends on many factors such as the pressure on the glass substrate 206, the transport speed of the glass substrate 206, the rotation speed of the coating roller 205, and control of those factors. Is difficult. That is, a pressure is applied to the glass substrate 206 toward the roller surface 205a of the coating roller 205, and the resist adheres to the glass substrate 206 by this pressure and is then sheared by the separating operation between the roll surface 205a and the glass substrate 206. . The shear position is reflected in the film thickness. This position is determined by the balance between the adhesive force of the resist on the roll surface 205a side, the surface tension of the resist itself, and the adhesive force of the resist on the glass substrate 206 side. Stipulated. Among these influencing factors, in particular, the adhesive force of the resist on the roll surface 205a side has a property of being locally and easily changed with time depending on the pressure applied to the glass substrate 206 and the surface condition of the roll surface 205a. is there. Therefore, the film thickness tends to fluctuate, and it cannot be sufficiently used for manufacturing color filters, semiconductor devices, and the like.

本発明の目的は、着色層およびブラックマトリクス層によって形成される凹凸によって生ずる配向不良が抑制できるカラーフィルタの製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a color filter that can suppress poor alignment caused by unevenness formed by a colored layer and a black matrix layer.

(カラーフィルタ)
本発明の液晶ディスプレイ用カラーフィルタは、
光学的に透明な支持体と、
この支持体上に形成された透明導電層と、
この透明導電層上に形成された、レッド、グリーンおよびブルーの画素が所定のパターンで配置された着色層と、を含み、
この着色層は、各画素を構成する着色材料として顔料が用いられ、
前記着色層は、電圧5V,周波数1kHz〜100kHzの交流電圧を印加する測定条件下での比誘電率が2.0以上であり、かつ、前記着色層を構成する、レッド、グリーンおよびブルーの各画素は前記測定条件における比誘電率がそれぞれ平均値の±25%の範囲内に存在することを特徴とする。
(Color filter)
The color filter for a liquid crystal display of the present invention,
An optically transparent support,
A transparent conductive layer formed on the support,
Formed on this transparent conductive layer, a colored layer in which red, green and blue pixels are arranged in a predetermined pattern,
In this coloring layer, a pigment is used as a coloring material constituting each pixel,
The colored layer has a relative dielectric constant of 2.0 or more under a measurement condition of applying an AC voltage having a voltage of 5 V and a frequency of 1 kHz to 100 kHz, and each of red, green, and blue constituting the colored layer. The pixel is characterized in that the relative permittivity under the above-described measurement conditions is within a range of ± 25% of the average value.

着色層:
本発明者らによると、COI方式のカラーフィルタを用いた液晶ディスプレイ装置において、カラーフィルタのホワイトバランスが良好であるにもかかわらず、このフィルタを用いたディスプレイの色調整が適正でない現象の発生が認められた。その原因を検討したところ、COI方式のカラーフィルタを用いたディスプレイにおいて良好な色特性を得るためには、カラーフィルタのホワイトバランスを合わせるだけでなく、レッド(R)、グリーン(G)およびブルー(B)の各画素におけるキャパシタンスを合わせることが必要であることが判明した。さらに、本発明者らによると、着色剤として顔料を用いる場合には、その顔料の種類によって着色層の比誘電率が大きく異なることが判明した。そのため、本発明では、RGBの各画素のキャパシタンスを合せるために、顔料の比誘電率を所定範囲で選択し、顔料が含有される着色層の比誘電率が等しくなるようにした点に特徴を有している。
Coloring layer:
According to the present inventors, in a liquid crystal display device using a COI type color filter, a phenomenon in which color adjustment of a display using this filter is not appropriate even though the white balance of the color filter is good is caused. Admitted. After examining the cause, in order to obtain good color characteristics in a display using a color filter of the COI system, it is necessary to not only adjust the white balance of the color filter, but also to obtain red (R), green (G), and blue ( It turned out that it is necessary to match the capacitance in each pixel of B). Furthermore, according to the present inventors, it has been found that when a pigment is used as a coloring agent, the relative permittivity of the coloring layer greatly differs depending on the type of the pigment. Therefore, in the present invention, in order to match the capacitance of each pixel of RGB, the relative permittivity of the pigment is selected within a predetermined range, and the relative permittivity of the coloring layer containing the pigment is made equal. Have.

比誘電率の適正な範囲については、後にデータに基づいて詳細に説明するが、電圧5V,周波数1kHz〜100kHzの交流を印加したときに、着色層の誘電率は2.0以上であり、かつ着色層を構成するRGBの各カラーの画素における前記比誘電率が平均値の±25%の範囲内に存在することが必要である。さらに、RGBの各カラーの画素の比誘電率は、できるだけ近似していることが好ましく、各画素の比誘電率がそれぞれ平均値の±20%の範囲内に存在することが好ましい。このように各画素の比誘電率を近似させることにより、各画素の膜厚を平均化することができる。着色層において各画素間に生ずる段差は、その上部に形成される配向層の配向不良やセルギャップの不良等を生ずるからである。また、着色層の比誘電率を特定の周波数において規定するならば、電圧5V,周波数1kHzにおけるRGBの各画素の比誘電率は3.5±0.5の範囲内に存在し、かつ電圧5V,周波数100kHzにおけるRGBの各画素の比誘電率は3.0±0.5の範囲内に存在することが好ましい。   The appropriate range of the relative permittivity will be described in detail later based on data. However, when an AC voltage of 5 V and a frequency of 1 kHz to 100 kHz is applied, the permittivity of the colored layer is 2.0 or more, and It is necessary that the relative permittivity of each color pixel of RGB constituting the colored layer be within a range of ± 25% of the average value. Further, it is preferable that the relative permittivity of each color pixel of RGB is as close as possible, and it is preferable that the relative permittivity of each pixel exists within a range of ± 20% of the average value. By approximating the relative dielectric constant of each pixel in this manner, the film thickness of each pixel can be averaged. This is because a step formed between the pixels in the colored layer causes a defective alignment of the alignment layer formed thereon and a defective cell gap. If the relative permittivity of the colored layer is specified at a specific frequency, the relative permittivity of each pixel of RGB at a voltage of 5 V and a frequency of 1 kHz is within a range of 3.5 ± 0.5 and a voltage of 5 V , The relative dielectric constant of each pixel of RGB at a frequency of 100 kHz preferably exists in a range of 3.0 ± 0.5.

さらに、本発明の液晶ディスプレイ用カラーフィルタにおいて重要なことは、前記着色層の膜厚が0.4〜1.0μm、好ましくは0.6〜0.9μmと、きわめて薄いことである。   Furthermore, what is important in the color filter for a liquid crystal display of the present invention is that the thickness of the colored layer is as thin as 0.4 to 1.0 μm, preferably 0.6 to 0.9 μm.

このように着色層の膜厚を1μm以下の極めて薄いものとすることにより、絶縁膜として機能する着色層による容量分割を低減し、液晶層に十分な実効電圧を印加することができる。その結果、例えばTFT,MIM駆動の液晶装置においては、コントラスト50:1以上を実現し、STN型液晶装置においてはコントラスト20:1以上を実現し得る、キャパシタンスの大きい薄膜カラーフィルタを実現することができる。   By making the thickness of the coloring layer extremely thin, 1 μm or less, the capacity division by the coloring layer functioning as an insulating film can be reduced, and a sufficient effective voltage can be applied to the liquid crystal layer. As a result, it is possible to realize a thin-film color filter having a large capacitance capable of realizing a contrast of 50: 1 or more in a TFT or MIM-driven liquid crystal device, and realizing a contrast of 20: 1 or more in an STN type liquid crystal device. it can.

また、RGBの各画素の膜厚差は、前述したようにできるだけ小さい方が好ましく、例えば0.25μm程度以内であることが好ましい。   Further, as described above, it is preferable that the difference in the film thickness of each pixel of RGB is as small as possible, for example, it is preferable that the difference be within 0.25 μm.

本発明の液晶ディスプレイ用カラーフィルタにおいては、その着色層は、顔料が40〜50重量%の割合で含まれていることが好ましい。本発明の液晶ディスプレイ用カラーフィルタは、前述したように、0.4〜1.0μmの極めて薄い膜から構成されている。このような薄い着色層でも十分な色特性をだすためには、着色層における顔料の割合を通常に比べてかなり高くする必要がある。すなわち、従来の顔料を用いた着色層においては、通常、顔料濃度が20〜30重量%程度であり、着色層の膜厚は約1.7〜2μmであったが、本発明のカラーフィルタにおいては着色層の膜厚を1.0μmより薄くすると共に、顔料濃度を従来の約2倍に相当する40〜50重量%と高くしている。   In the color filter for a liquid crystal display of the present invention, the colored layer preferably contains a pigment in a proportion of 40 to 50% by weight. As described above, the color filter for a liquid crystal display of the present invention is formed of an extremely thin film of 0.4 to 1.0 μm. In order to provide sufficient color characteristics even with such a thin colored layer, the proportion of the pigment in the colored layer needs to be considerably higher than usual. That is, in a coloring layer using a conventional pigment, the pigment concentration is usually about 20 to 30% by weight, and the thickness of the coloring layer is about 1.7 to 2 μm. Has a thickness of less than 1.0 .mu.m and a pigment concentration as high as 40 to 50% by weight, which is about twice the conventional value.

本願発明において着色剤として顔料を用いる理由は、耐光性、特に紫外線に対する耐性ならびに耐熱性を高くするためである。着色剤として染料を用いる場合には、染料が顔料に比較して化学的に活性なため、紫外線などによって劣化し、十分な耐光性ならびに耐熱性を有していない。   The reason why a pigment is used as a colorant in the present invention is to increase light resistance, particularly resistance to ultraviolet light and heat resistance. When a dye is used as a colorant, the dye is chemically active compared to the pigment, and thus is deteriorated by ultraviolet rays or the like, and does not have sufficient light resistance and heat resistance.

顔料:
次に、本発明において用いられる顔料について説明する。本発明においては、着色層のRGB画素の比誘電率を揃える点に特徴を有しているが、このことはそう容易でない。画素の比誘電率は、それに含まれるポリマー,コポリマー,架橋剤,架橋開始剤等の成分よりも顔料自体の比誘電率に大きく依存することがわかっている。しかし、実際にはRGBの顔料の化学的構造や電気的特性がことなるために完全に一致した比誘電率の顔料を選択することは難しい。それは、このようなカラーフィルタに用いられる顔料の種類は現時点ではあまり多くないからである。また、顔料の種類が限定される他の要因としては、顔料の有する消偏作用の問題が存在するためである。消偏作用とは、顔料の分子が染料に比較して大きいために、その顔料分子に入射した光が楕円偏光作用によって偏光してしまい、2枚の偏光板にカラーフィルタを挟み込んだ構造の場合、入射光が着色層内で数%〜数十%のレベルで消失してしまう現象をいう。このような消偏作用の現象は、顔料の種類によって異なるが、実際に消偏作用の小さい顔料の種類は極めて少ない。
Pigment:
Next, the pigment used in the present invention will be described. The present invention is characterized in that the relative permittivity of the RGB pixels of the colored layer is made uniform, but this is not so easy. It has been found that the relative permittivity of a pixel depends more on the relative permittivity of the pigment itself than on the components such as the polymer, copolymer, crosslinking agent, and crosslinking initiator contained therein. However, in practice, it is difficult to select a pigment having a relative dielectric constant that is completely identical because the chemical structure and electrical properties of the RGB pigments are different. This is because there are not so many types of pigments used in such color filters at present. Another factor that limits the type of pigment is that there is a problem of the depolarizing effect of the pigment. The depolarizing effect means that the pigment molecules are larger than the dye, so that the light incident on the pigment molecules is polarized by the elliptically polarizing effect and a color filter is sandwiched between two polarizing plates. A phenomenon in which incident light disappears at a level of several% to several tens% in the colored layer. Although the phenomenon of such depolarizing action differs depending on the type of pigment, there are very few types of pigments that actually have small depolarizing action.

本発明においては、比誘電率および消偏作用の観点より、多くの顔料を検討した結果、以下にのべるような幾つかの顔料を選択することに成功した。   In the present invention, as a result of examining many pigments from the viewpoint of the relative dielectric constant and the depolarizing effect, the following several pigments were successfully selected.

顔料の選定に当たって最も問題となったのは、グリーンの顔料であった。すなわち、グリーンの顔料はブルー或いはレッドに比べてその比誘電率が大きく、その選択が大きな問題であった。   The most problematic in selecting a pigment was the green pigment. That is, the green pigment has a higher dielectric constant than blue or red, and its selection is a major problem.

まずグリーンの顔料について説明する。   First, the green pigment will be described.

グリーンの画素を構成する顔料としては、銅フタロシアニンに臭素原子が1〜13個導入されている部分臭素化フタロシアニングリーンが好ましい。また、前記部分臭素化フタロシアニングリーンとしては、特に、臭素原子の他に塩素原子が導入されている臭素化塩素化フタロシアニングリーンが好ましい。このような臭素化塩素化フタロシアニングリーンとしては、下記式(I)で示される臭素化塩素化フタロシアニングリーン6Y(C.I. Pigment Green 36)が好ましい。   As a pigment constituting a green pixel, a partially brominated phthalocyanine green in which 1 to 13 bromine atoms are introduced into copper phthalocyanine is preferable. The partially brominated phthalocyanine green is particularly preferably a brominated chlorinated phthalocyanine green into which a chlorine atom has been introduced in addition to a bromine atom. As such a brominated chlorinated phthalocyanine green, brominated chlorinated phthalocyanine green 6Y (C.I. Pigment Green 36) represented by the following formula (I) is preferable.

Figure 0003546885
Figure 0003546885

グリーン顔料としては、前記部分臭素化フタロシアニングリーンと共に、下記式(II)に示す、銅フタロシアニンに15個の塩素原子を導入したフタロシアニングリーン(C.I. Pigment Green 7, C.I. 74260) が用いられることが好ましい。   As the green pigment, it is preferable to use phthalocyanine green (C.I. Pigment Green 7, C.I. 74260) in which 15 chlorine atoms are introduced into copper phthalocyanine, represented by the following formula (II), together with the partially brominated phthalocyanine green.

Figure 0003546885
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この顔料は、透明度のよいグリーンが得られる特徴を有している。しかし、この塩素化フタロシアニングリーンは、レッド,ブルーの顔料の比誘電率よりも大きい誘電率を有することが判明している。一般的には、レッドの顔料としてはアンソラキノン系の顔料が、ブルーの顔料としてはフタロシアニンブルー系の顔料が用いられる。そして、レッドにはイエロー系の顔料が、ブルーにはバイオレット系の顔料が僅かに添加される場合が多いが、これらの添加量はわずかであり、これらの顔料が顔料全体の比誘電率に与える影響は小さい。このようなレッドあるいはブルーの顔料を用いた場合には、例えばAC5V,1kHzの条件下で、比誘電率は約3〜4であるのに対し、前記塩素化フタロシアニングリーンの場合は約2倍の6〜8の値であることが実験的に確認されている。したがって、前記フタロシアニングリーンをグリーン顔料として用いる場合には、レッド或いはブルーの着色層の膜厚に対して約2倍の膜厚に形成しないと、画素ごとのキャパシタンスを均一化できないことになる。   This pigment has a characteristic that a green having good transparency is obtained. However, it has been found that this chlorinated phthalocyanine green has a dielectric constant larger than the relative dielectric constant of the red and blue pigments. Generally, anthoraquinone pigments are used as red pigments, and phthalocyanine blue pigments are used as blue pigments. In addition, yellow pigments are often added to red, and violet pigments are often slightly added to blue, but the amount of these additives is small, and these pigments give the relative permittivity of the entire pigment. The effect is small. When such a red or blue pigment is used, the relative dielectric constant is, for example, about 3 to 4 under the conditions of AC 5 V and 1 kHz, while the chlorinated phthalocyanine green is about twice as large. It has been experimentally confirmed that the value is 6 to 8. Therefore, when the phthalocyanine green is used as a green pigment, the capacitance of each pixel cannot be uniform unless the thickness of the red or blue colored layer is about twice as large.

これに対し、グリーン顔料として例えば前記臭素化塩素化フタロシアニングリーン6Y(C.I. Pigment Green 36 )を用いると、その比誘電率は1kHz付近の周波領域において約3.0〜4.0の範囲にあることが判明した。したがって、この部分臭素化フタロシアニングリーンを用いることにより、着色層を構成するレッド、グリーンおよびブルーの画素の比誘電率を均一化させることが可能となった。   On the other hand, when the above-mentioned brominated chlorinated phthalocyanine green 6Y (CI Pigment Green 36) is used as the green pigment, its relative dielectric constant is in a range of about 3.0 to 4.0 in a frequency region around 1 kHz. There was found. Therefore, by using this partially brominated phthalocyanine green, it has become possible to make the relative dielectric constants of the red, green and blue pixels constituting the colored layer uniform.

ただし、この部分臭素化フタロシアニングリーン6Yは、比誘電率が低いものの透過率が少し劣ることから、この部分臭素化フタロシアニングリーン6Yと透明度の高い塩素化フタロシアニングリーン(C.I. Pigment Green 7) と混合して用いることが好ましい。両者を混合することによって、画素の透明度を犠牲にすること無く比誘電率を本発明の特定の範囲まで下げることが可能となった。両者は、塩素化フタロシアニングリーンと部分臭素化フタロシアニングリーン6Yとを1:1〜1:2の比率で用いることが好ましい。   However, since the partially brominated phthalocyanine green 6Y has a low specific permittivity but a slightly lower transmittance, it is mixed with the partially brominated phthalocyanine green 6Y and a highly transparent chlorinated phthalocyanine green (CI Pigment Green 7). Preferably, it is used. By mixing both, the relative permittivity can be reduced to a specific range of the present invention without sacrificing the transparency of the pixel. Both preferably use chlorinated phthalocyanine green and partially brominated phthalocyanine green 6Y in a ratio of 1: 1 to 1: 2.

また、グリーン顔料としては、前記部分臭素化フタロシアニングリーンのかわりに比誘電率の低いイエロー顔料を、塩素化フタロシアニングリーン(Pigment Green 7, C.I.74260) に混合して用いることもできる。この場合、イエロー顔料はその比誘電率が例えば5V,1kHzの条件下で2.0〜3.0の範囲内にあるものを使用する。イエロー顔料と塩素化フタロシアニングリーンとの混合割合は、グリーン画素の比誘電率を3.0〜4.0に調整するために、膜厚を0.8〜1.0μmと設定した場合に、CIE色度図において0.31≦x、y≧40の範囲内で混合比を調整するのが好ましい。イエロー顔料は一般的に消偏作用が大きいため、添加量を大きくすることは好ましくない。そこで、イエロー顔料としては、消偏作用の小さいジスアゾイエローHR(Pigment Yellow 83 C.I.21108) を用いることが望ましい。   In addition, as the green pigment, a yellow pigment having a low dielectric constant may be mixed with chlorinated phthalocyanine green (Pigment Green 7, C.I.74260) instead of the partially brominated phthalocyanine green. In this case, a yellow pigment whose relative dielectric constant is in the range of 2.0 to 3.0 under the conditions of, for example, 5 V and 1 kHz is used. The mixing ratio of the yellow pigment and the chlorinated phthalocyanine green is such that when the film thickness is set to 0.8 to 1.0 μm to adjust the relative dielectric constant of the green pixel to 3.0 to 4.0, the CIE It is preferable to adjust the mixture ratio within the range of 0.31 ≦ x and y ≧ 40 in the chromaticity diagram. Since the yellow pigment generally has a large depolarizing effect, it is not preferable to increase the amount of the yellow pigment. Therefore, it is desirable to use Disazo Yellow HR (Pigment Yellow 83 C.I.21108) having a small depolarizing effect as the yellow pigment.

次に、レッドおよびブルーの顔料の具体例について説明する。   Next, specific examples of the red and blue pigments will be described.

レッドおよびブルーの顔料としても、消偏作用の小さいものを用いる必要がある。このような顔料はあまり種類がないが、レッドの顔料としては、例えばPV Red HF 2B(Pigment Red 208, C.I. 12514)、ジスアゾイエローHR(Pigment Yellow 83, C.I.21108)等があげられ、これらを混合して用いることが好ましい。ブルーの顔料としては、例えばフタロシアニンブルーR(Pigment Blue 15:1, 15:2, C.I. 74160, C.I.74250) 或いはフタロシアニンブルーG(Pigment Blue 15:3, 15:4, C.I. 74160)、ジオキサンバイオレット(Pigment Violet 23 C.I. 51319) 等があげられ、これらを混合して用いることが好ましい。また、ブルーの顔料としては、特に、フタロシアニンブルーRおよびフタロシアニンブルーGの少なくとも一方と、ジオキサンバイオレットとを混合して用いることが好ましい。   It is necessary to use red and blue pigments having a small depolarizing effect. Although there are not many kinds of such pigments, examples of red pigments include PV Red HF 2B (Pigment Red 208, CI 12514) and Disazo Yellow HR (Pigment Yellow 83, CI21108). It is preferable to use them. Examples of the blue pigment include phthalocyanine blue R (Pigment Blue 15: 1, 15: 2, CI 74160, CI74250) or phthalocyanine blue G (Pigment Blue 15: 3, 15: 4, CI 74160), dioxane violet (Pigment Violet 23 CI 51319) and the like, and it is preferable to use them in combination. Further, as the blue pigment, it is particularly preferable to use a mixture of at least one of phthalocyanine blue R and phthalocyanine blue G and dioxane violet.

以上例示した顔料は、比誘電率ならびに消偏作用の点で本発明の顔料として好適に用いることができるものである。   The pigments exemplified above can be suitably used as the pigment of the present invention in terms of relative dielectric constant and depolarizing effect.

ブラックマリトクス層:
次に、レッド、グリーンおよびブルーの各画素の相互間に形成されるブラックマトリクス層について説明する。
Black maritox layer:
Next, a black matrix layer formed between the red, green, and blue pixels will be described.

COI方式のカラーフィルタにおいては、透明導電層と液晶層との間にブラックマトリクス層が介在し、このブラックマトリクス層は前記着色層と同様に絶縁層として機能し、液晶ディスプレイのコントラストを決める要因の一つとなる。そのため、前記着色層と同様に、実効電圧の降下を抑制するために、その比誘電率、比抵抗および膜厚などを規定することが重要である。   In a COI type color filter, a black matrix layer is interposed between a transparent conductive layer and a liquid crystal layer, and this black matrix layer functions as an insulating layer like the colored layer, and is a factor that determines the contrast of a liquid crystal display. Become one. Therefore, it is important to define the relative permittivity, the specific resistance, the film thickness, and the like in order to suppress the drop in the effective voltage, as in the case of the colored layer.

まず、比抵抗について検討する。ブラックマトリクス層は、このブラックマトリクス層における電圧降下を小さくして液晶層への電圧の書き込み特性を改善するためにある程度導電性が必要であり、そのため比抵抗の上限値が規定される必要がある。一方、ブラックマトリクス層の比抵抗が小さすぎると、2つの問題点、すなわち第1に、透明導電層がパターン化されているカラーフィルタにおいては、隣接する透明電極の相互間で短絡不良を生ずることがあり、第2に、液晶層を挟んで対向する電極相互間で短絡不良を引き起こすことがある。特に、ブラックマトリクス層の膜厚が着色層の膜厚に比較して厚い場合には、ブラックマトリクス層とこれに対向する素子基板側の配線電極間のギャップが狭くなり短絡不良を起こし易くなる。このような観点から、ブラックマトリクス層の比抵抗には、下限値を設定する必要がある。発明者らの研究によると、その最適範囲は、電圧5V,周波数100Hz〜100kHzの交流において、1.0×102 (Ω・m)〜1.2×106 (Ω・m)である。 First, consider the specific resistance. The black matrix layer needs to have a certain degree of conductivity in order to reduce the voltage drop in the black matrix layer and improve the writing characteristics of the voltage to the liquid crystal layer, and therefore the upper limit of the specific resistance needs to be defined. . On the other hand, if the specific resistance of the black matrix layer is too small, there are two problems, namely, first, in a color filter in which a transparent conductive layer is patterned, a short circuit failure occurs between adjacent transparent electrodes. Second, a short circuit may be caused between electrodes facing each other with the liquid crystal layer interposed therebetween. In particular, when the thickness of the black matrix layer is thicker than the thickness of the coloring layer, the gap between the black matrix layer and the wiring electrode on the element substrate facing the black matrix layer is narrowed, and short-circuit failure easily occurs. From such a viewpoint, it is necessary to set a lower limit value for the specific resistance of the black matrix layer. According to the research by the inventors, the optimum range is 1.0 × 10 2 (Ω · m) to 1.2 × 10 6 (Ω · m) at an alternating current of 5 V and a frequency of 100 Hz to 100 kHz.

上記範囲の比抵抗を得るためには、ブラックマトリクス層に、レッド、グリーンおよびブルー等からなる黒色顔料の他にカーボンを添加してその導電性を制御する必要がある。そのためには、カーボンの添加量は、顔料レジスト中の全固形分に対して10〜20重量%であることが好ましい。   In order to obtain a specific resistance in the above range, it is necessary to add carbon to the black matrix layer in addition to black pigments such as red, green and blue to control the conductivity. For this purpose, the amount of carbon added is preferably 10 to 20% by weight based on the total solid content in the pigment resist.

従来のブラックマトリクス層においても黒色の顔料としてカーボンが添加されることは行われていたが、これはもっぱらブラックマトリクス層の遮光度の改善を図るために添加されるものである。通常、このような目的で添加されるカーボンの量はブラックマトリクス層の材料の30重量%程度である。実際に、それ以上のカーボンを添加すると、現像時にパターンの膜残りが生じたり、ブラックマトリクス層の支持体への密着不良が生じたりする問題が発生する。このように、現在一般的に使用されているブラックマトリクス用のレジストにおいては、遮光度を少しでもあげるためにパターニングに支障を来たさない最大限の量のカーボンを添加することが行われている。しかし、従来のカーボンの添加については、本発明における電気特性の改善、特にブラックマトリクス層の導電性に関する配慮が行われていない。   Although carbon has been added as a black pigment in the conventional black matrix layer, it is added solely to improve the light blocking degree of the black matrix layer. Usually, the amount of carbon added for such a purpose is about 30% by weight of the material of the black matrix layer. Actually, if more carbon is added, there arises a problem that a film residue of the pattern occurs during the development and a poor adhesion of the black matrix layer to the support occurs. As described above, in a black matrix resist that is generally used at present, the maximum amount of carbon that does not hinder patterning is added in order to increase the degree of light shielding even slightly. I have. However, with respect to the conventional addition of carbon, no consideration has been given to the improvement of the electrical characteristics in the present invention, particularly to the conductivity of the black matrix layer.

ブラックマトリクス層の導電性は、カーボンの添加量に大きく依存するが、さらにその焼成温度にも影響されることが確認されている。その結果、ブラックマトリクス材料の焼成温度は、180〜250℃が適切である。   It has been confirmed that the conductivity of the black matrix layer largely depends on the amount of carbon added, but is also affected by the firing temperature. As a result, the firing temperature of the black matrix material is preferably from 180 to 250C.

比誘電率に関しては、前記着色層の場合と同様の理由により、すなわちブラックマトリクス層による容量分割を抑制するために、その比誘電率は3.0以上であることが好ましい。また、ブラックマトリクス層の膜厚は、前記着色層を構成するレッド、グリーンおよびブルーの各画素の膜厚との差が0.5μm以内であることが好ましい。   Regarding the relative dielectric constant, it is preferable that the relative dielectric constant is 3.0 or more for the same reason as in the case of the colored layer, that is, in order to suppress the capacitance division by the black matrix layer. Further, it is preferable that the difference between the thickness of the black matrix layer and the thickness of each of the red, green and blue pixels constituting the colored layer is within 0.5 μm.

このように着色層とブラックマトリクス層との比誘電率の範囲を特定することにより、実効電圧の低下を抑制し、書き込み特性が良好で十分なコントラストを得ることができる液晶ディスプレイを提供することができる。   By specifying the range of the relative dielectric constant between the coloring layer and the black matrix layer in this manner, it is possible to provide a liquid crystal display capable of suppressing a decrease in effective voltage and having good writing characteristics and sufficient contrast. it can.

次に、ブラックマトリクス層の形状に特徴を有するカラーフィルタについて説明する。   Next, a color filter having a characteristic in the shape of the black matrix layer will be described.

透明導電層の上に着色層を形成するCOI方式のカラーフィルタにおいては、着色層の上に透明導電層を設けるIOC方式の場合と異なり、液晶層と透明導電層との間にできるだけ絶縁層を介在させないために、保護層或いは平坦化層と呼ばれる樹脂層が形成されない。そのため、着色層が配向層と直接接した状態で設けられるか、もしくは配向膜の成膜性をよくするために数百オングストロームの薄い膜を配向層と着色層との間に設ける構成をとっている。その結果、COI方式のカラーフィルタにおいては、液晶層に対して着色層およびブラックマトリクス層の凹凸がそのままの形で存在することとなる。このような凹凸があることにより、凹凸の段差部分にラビングの基材が達しないために良好な配向処理がなされないこと、前記凹凸の段差部分にラビングによって生ずる異物や汚れが堆積し、これが配向状態を劣化させること、前記凹凸の段差によって配向の状態が均一にならないこと、などの問題を発生することがある。   In a COI color filter in which a colored layer is formed on a transparent conductive layer, unlike an IOC method in which a transparent conductive layer is provided on a colored layer, an insulating layer is provided between the liquid crystal layer and the transparent conductive layer as much as possible. A resin layer called a protective layer or a flattening layer is not formed because it is not interposed. Therefore, the coloring layer is provided in direct contact with the alignment layer, or a thin film of several hundred angstroms is provided between the alignment layer and the coloring layer to improve the film formability of the alignment film. I have. As a result, in the color filter of the COI system, the irregularities of the coloring layer and the black matrix layer are present as they are with respect to the liquid crystal layer. Due to the presence of such irregularities, good alignment treatment is not performed because the rubbing base material does not reach the step portions of the irregularities, and foreign matters and dirt generated by rubbing are deposited on the step portions of the irregularities, and this is oriented. Problems such as deterioration of the state and non-uniform orientation due to the unevenness may occur.

特に、本発明のように顔料濃度が高いレジストを用いて露光を行う場合には、図15Aに示すように被露光層のフォトマスクに近い側(被露光層の上部)の光反応が先行し、この部分の露光は十分達成されるが、被露光層のフォトマスクより遠い側(被露光層の下部)の部分は光が到達しにくくなるため、被露光層の厚さ方向においてレジストの硬化反応が不均一となる。その結果、現象時に被露光層の下側が上側より過剰に除去される、いわゆる逆テーパー現象が生ずる。この現象は、ブラックマトリクス層を形成するために用いられる黒色のレジストを使用する場合に特に顕著である。このような逆テーパー現象が生ずると、上述したような配向不良がより顕著となる。例えば、図15Bに示すように、矢印Xで示す方向にラビング処理を行ったとすると、各画素200a,200b,200cにおいては、斜線で示す領域Aに配向不良が生ずる。   In particular, when exposure is performed using a resist having a high pigment concentration as in the present invention, as shown in FIG. 15A, the photoreaction on the side closer to the photomask of the layer to be exposed (upper part of the layer to be exposed) precedes. Although exposure of this portion is sufficiently achieved, light hardly reaches the portion of the layer to be exposed farther from the photomask (the lower portion of the layer to be exposed), so that the resist is hardened in the thickness direction of the layer to be exposed. The reaction becomes heterogeneous. As a result, a so-called reverse taper phenomenon occurs in which the lower side of the exposed layer is excessively removed from the upper side during the phenomenon. This phenomenon is particularly remarkable when a black resist used to form a black matrix layer is used. When such an inverse taper phenomenon occurs, the above-described defective orientation becomes more remarkable. For example, as shown in FIG. 15B, when the rubbing process is performed in the direction indicated by the arrow X, in each of the pixels 200a, 200b, and 200c, an alignment failure occurs in the region A indicated by the oblique lines.

配向不良が発生した箇所では、液晶に対する印加電圧を変化させた場合、配向不良箇所に配列された液晶分子は液晶分子が規則的に配列された部分とは異なる挙動を示すため、表示品質が低下するという問題を生ずる。すなわち、ノーマリーホワイトモードの電圧印加時およびノーマリーブラックモードの電圧被印加時には、配向不良箇所のみにおいて光がパネルを通過することになり、コントラストの低下を引き起こす。また、長期的には、ラビングにより配向された部分の液晶分子が次第に配向不良箇所の液晶分子にひきずられる場合があり、その結果コントラストの低下が次第に大きくなり、パネルの長期信頼性が低下する可能性もある。   When the voltage applied to the liquid crystal is changed at the location where misalignment occurs, the liquid crystal molecules arranged in the misalignment location behave differently from the part where the liquid crystal molecules are regularly arranged, and the display quality deteriorates. Problem arises. That is, when a voltage is applied in the normally white mode and when a voltage is applied in the normally black mode, light passes through the panel only at the position where the alignment is poor, and the contrast is reduced. In the long term, the liquid crystal molecules in the portion aligned by the rubbing may be gradually shifted by the liquid crystal molecules in the poorly aligned portion, resulting in a gradual decrease in contrast and a decrease in long-term reliability of the panel. There is also.

このような問題点を解決するために、本発明の液晶ディスプレイ用カラーフィルタにおいては、着色層およびブラックマトリクス層によって形成される凹凸によって生ずる配向不良を抑制するために、着色層より上方に突出した部分のブラックマトリクス層(突出層)を構成する側面を内側に傾斜させてテーパー状に構成している。前記側面を構成するテーパー面は、支持体に対して30〜89度、好ましくは45〜70度の角度を成して形成されることが好ましい。ブラックマトリクス層の突出層にテーパーを形成する方法としては、例えば、被露光層とフォトマスクとの間に200μm〜数mmの露光ギャップを設定して露光を行う方法があげられる。   In order to solve such problems, in the color filter for a liquid crystal display of the present invention, in order to suppress an alignment defect caused by unevenness formed by the colored layer and the black matrix layer, the color filter is projected above the colored layer. The side surface constituting the black matrix layer (projection layer) of the portion is inclined inward to form a tapered shape. It is preferable that the tapered surface forming the side surface is formed at an angle of 30 to 89 degrees, preferably 45 to 70 degrees with respect to the support. As a method of forming a taper on the protruding layer of the black matrix layer, for example, a method of performing exposure by setting an exposure gap of 200 μm to several mm between a layer to be exposed and a photomask is exemplified.

このように、ブラックマトリクス層の突出層にテーパー面を形成することにより、配向処理における段差部分の配向不良を大幅に抑制することができる。   As described above, by forming the tapered surface on the protruding layer of the black matrix layer, poor alignment at the step portion in the alignment process can be significantly suppressed.

(成膜装置)
次に、本発明の張力展開成膜装置について説明する。
(Deposition equipment)
Next, a tension developing film forming apparatus of the present invention will be described.

この張力展開成膜装置は、被塗着部材を水平方向に搬送する搬送手段と、
前記被塗着部材の搬送経路の下方位置に配置され、前記搬送経路の幅方向に向けて塗着液を定量供給する塗着液供給手段と、
この塗着液供給手段と前記被塗着部材の塗着面との間を、そこに塗着液の液溜まり層が形成可能な離間距離に調整、保持する離間距離調整保持手段と、
を含み、
前記塗着液供給手段は、
ローラ面が塗着液中を通過する状態で回転して塗着液を掻き上げる塗着液供給ローラと、
この塗着液供給ローラの塗着液掻き上げ側に近接配置され、それらの離間距離に対応する量の塗着液を前記塗着液供給ローラのローラ面から除去して、上方に向けて供給される塗着液量を規定する供給液量規定手段と、
前記塗着液供給ローラの塗着液掻き上げ側と反対側に配置され、この塗着液供給ローラ表面の塗着液を除去する塗着液除去手段と、
前記離間距離調整保持手段によって前記液溜まり層を形成した状態を保持しながら前記被塗着部材を搬送して、前記被塗着面に塗着層を展開させることを特徴とする。
The tension-developing film-forming apparatus includes a transport unit that transports the member to be coated in a horizontal direction,
An application liquid supply unit that is disposed at a position below the conveyance path of the member to be applied and supplies a constant amount of the application liquid in the width direction of the conveyance path,
A distance between the coating liquid supply unit and the coating surface of the member to be coated is adjusted to a separation distance at which a liquid pool layer of the coating liquid can be formed, and a separation distance adjustment holding unit for holding the coating liquid.
Including
The coating liquid supply means,
A coating liquid supply roller that rotates while the roller surface passes through the coating liquid and scrapes up the coating liquid,
The coating liquid supply roller is disposed close to the coating liquid scraping side of the coating liquid supply roller, and an amount of the coating liquid corresponding to the distance between them is removed from the roller surface of the coating liquid supply roller and supplied upward. Supply liquid amount defining means for defining the coating liquid amount to be applied,
A coating liquid removing unit that is disposed on the opposite side of the coating liquid supply roller from the coating liquid scraping side, and removes the coating liquid on the surface of the coating liquid supply roller.
The coating member is conveyed while the state where the liquid pool layer is formed by the separation distance adjusting and holding means, and the coating layer is developed on the coating surface.

この装置は、特願平3−192092号(特開平5−31423号,公開日1993年2月9日)に開示された張力展開成膜装置を改良したものである。この装置の基本的構成を説明する。   This apparatus is an improvement of the tension-developing film-forming apparatus disclosed in Japanese Patent Application No. 3-192092 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-31423, published on Feb. 9, 1993). The basic configuration of this device will be described.

かかる張力展開成膜装置としては、例えば、図16及び図17に示すものを利用できる。まず、被塗着面2aを下方に向けて被塗着部材2を搬送する搬送手段6と、被塗着部材2の搬送経路1bの下方位置に配置され、この搬送経路1bの幅方向に向けて塗着液3を定量供給する塗着液供給手段4と、この塗着液供給手段4と被塗着面2aとの間に液溜まり層3aを形成可能に、それらの離間距離d1 を調整、保持する離間距離調整保持手段とを設けておく。さらに、塗着液供給手段4の上方位置に被塗着面2aの先端側2bが位置したときに、その先端側2b全域に塗着液3を接触させて予備塗着層5aを形成する予備塗着層形成手段として、例えば、被塗着面2aの先端側2bと塗着液供給手段4との間に所定の離間距離d1 を保持して、そこに塗着液の液溜まり層を形成し、その状態で、被塗着部材2を一時停止させて、その表面張力によって液溜まり層を被塗着面2aの先端側2bと塗着液供給手段4との間で拡張させるように、搬送手段6に一時停止動作を行わせる。これにより、予備塗着層5aが形成された後に、搬送手段6は、液溜まり層3aを形成したまま、被塗着部材2を搬送して、予備塗着層5aから塗着層5bを展開する。 As the tension developing film forming apparatus, for example, the apparatus shown in FIGS. 16 and 17 can be used. First, a transport unit 6 for transporting the coating member 2 with the coating surface 2a facing downward, and a transport unit 6 disposed at a position below the transport path 1b of the coating member 2 and directed in the width direction of the transport path 1b. Te quantitative supplying the coating liquid supply unit 4 to the coating liquid 3, as can form a liquid reservoir layer 3a between the coating deposition liquid supply means 4 and the the coating surface 2a, and their separation distance d 1 A separation distance adjustment holding means for adjusting and holding is provided. Further, when the tip side 2b of the coating surface 2a is located above the coating liquid supply means 4, the coating liquid 3 is brought into contact with the entire tip side 2b to form the preliminary coating layer 5a. as the coating layer forming means, for example, a predetermined holding the separation distance d 1, the liquid reservoir layer there the coating solution between the tip side 2b and the coating liquid supply unit 4 of the the coating surface 2a The coating member 2 is temporarily stopped in this state, and the liquid pool layer is expanded between the tip side 2b of the coating surface 2a and the coating liquid supply means 4 by the surface tension. Then, the transport unit 6 is caused to perform a temporary stop operation. Thus, after the preliminary coating layer 5a is formed, the transporting unit 6 transports the member 2 to be coated while the liquid pool layer 3a is being formed, and develops the coating layer 5b from the preliminary coating layer 5a. I do.

前記塗着液供給手段としては、ローラ面が塗着液中を通過する状態で回転して塗着液を掻き上げする塗着液供給ローラと、その塗着液の掻き上げ側に近接配置され、それらの離間距離に対応する量の塗着液を塗着液供給ローラのローラ面から除去して、上方に向けて供給される塗着液量を規定する供給液量規定手段とを備えているものを採用することができる。また、供給液量規定手段としては、例えば、塗着液供給ローラの塗着液の掻き上げ側に近接配置され、その回転方向と同方向に回転するドクターローラと、このドクターローラに近接配置され、そのローラ面から塗着液を掻き取りするドクタースキージとを備えているものを採用することができる。この場合には、離間距離に加えて、ドクターローラの回転速度によっても塗着液供給量を調整できる。ここで、ドクターローラ及びドクタースキージの配置数には制限のないものであり、ドクターローラに伝達ローラなども加えた複数のローラとドクタースキージの組合せをも含む。   As the coating liquid supply means, a coating liquid supply roller that rotates while the roller surface passes through the coating liquid to scrape up the coating liquid, and is disposed close to the coating liquid scraping side. Supply liquid amount defining means for removing the amount of the coating liquid corresponding to the separation distance from the roller surface of the coating liquid supply roller and defining the amount of the coating liquid supplied upward. Can be adopted. Further, as the supply liquid amount defining means, for example, a doctor roller that is disposed close to the coating liquid supply roller on the side where the coating liquid is scraped up and that rotates in the same direction as the rotation direction thereof, is disposed close to the doctor roller. And a doctor squeegee for scraping off the coating liquid from the roller surface. In this case, the supply amount of the coating liquid can be adjusted not only by the separation distance but also by the rotation speed of the doctor roller. Here, the number of doctor rollers and doctor squeegees is not limited, and includes a combination of a plurality of doctor squeegees including a doctor roller and a transmission roller.

また、前記塗着液供給ローラの塗着液掻き上げ側と反対側には、この塗着液供給ローラのローラ面の塗着液を除去するための塗着液除去手段が設けられている。この塗着液除去手段は、ローラ面から塗着液を掻き取りするスキージあるいは回転可能なローラ等によって構成される。   Further, a coating liquid removing means for removing the coating liquid on the roller surface of the coating liquid supply roller is provided on the side opposite to the coating liquid scraping side of the coating liquid supply roller. The coating liquid removing means is constituted by a squeegee or a rotatable roller for scraping the coating liquid from the roller surface.

本発明の張力展開成膜装置が、特願平3−192092号にかかる張力展開成膜装置とことなる点は、前記塗着液除去手段を設けた点にある。この塗着液除去手段を設けることにより、塗着液供給ローラのローラ面に形成されるレジスト層をより正確に制御することができ、特に1μm以下の薄い塗膜を形成するのに好適に用いることができる。   The tension developing film forming apparatus of the present invention is different from the tension developing film forming apparatus according to Japanese Patent Application No. 3-192092 in that the coating liquid removing means is provided. By providing this coating liquid removing means, the resist layer formed on the roller surface of the coating liquid supply roller can be more accurately controlled, and is particularly preferably used for forming a thin coating film of 1 μm or less. be able to.

特願平3−192092号に開示された張力展開成膜装置においては、図34に示すように、塗着部51においてガラス基板21にレジストを転写した場合としない場合とでは、その後に形成されるガラス基板21上の塗膜の膜厚が異なるという問題が生ずる。より詳細に説明すると、進行してきたガラス基板21が液供給ローラ52上のレジストと接触してから液供給ローラ52が一周する間に形成されるガラス基板上の塗膜と、それ以後つまり液供給ローラ52が一周した後に形成されたガラス基板上の塗膜とが膜厚の点で異なるという問題が生ずる。これは、液貯溜槽91に進行していく直前の液供給ローラ52のローラ面52a2 の状態が、ガラス基板21にレジストを転写した場合とガラス基板21にレジストを転写していない場合とでは異なり、この状態の違いが後に形成されるレジスト膜に影響を与えるためである。このような膜厚差は、薄い塗膜を形成する場合には、より顕著に現れる。このような膜厚差を生じる原因としては、液供給ローラ52のローラ面52a1 に転写したレジストがガラス基板21に転写されないと(図34で鎖線で示す状態)、ローラ面52a2 上に液貯溜槽91内のレジストより粘度の大きいレジスト膜が残留するためと考えられる。   In the tension-developing film-forming apparatus disclosed in Japanese Patent Application No. 3-192092, as shown in FIG. 34, when the resist is transferred to the glass substrate 21 in the coating portion 51 and when the resist is not transferred, the film is formed later. The thickness of the coating film on the glass substrate 21 varies. More specifically, the coating film formed on the glass substrate during the rotation of the liquid supply roller 52 after the advanced glass substrate 21 comes into contact with the resist on the liquid supply roller 52, A problem arises in that the film thickness differs from that of the coating film formed on the glass substrate after the roller 52 makes one rotation. This is because the state of the roller surface 52a2 of the liquid supply roller 52 immediately before proceeding to the liquid storage tank 91 differs between the case where the resist is transferred to the glass substrate 21 and the case where the resist is not transferred to the glass substrate 21. This is because this difference in state affects a resist film to be formed later. Such a film thickness difference appears more remarkably when a thin coating film is formed. The reason for such a difference in film thickness is that if the resist transferred to the roller surface 52a1 of the liquid supply roller 52 is not transferred to the glass substrate 21 (the state shown by a dashed line in FIG. 34), a liquid storage tank is provided on the roller surface 52a2. It is considered that a resist film having a viscosity higher than that of the resist in 91 remains.

本発明の張力展開成膜装置によれば、塗着液が掻き上げられるローラ面52a1 と反対側のローラ面52a2 に面して塗着液除去手段を設けることにより、液貯溜槽91に進行する液供給ローラ52の表面を常に均一な状態に保持することができ、前述したような塗膜むらの発生を防止することができる。   According to the tension-developing film-forming apparatus of the present invention, the coating liquid advances to the liquid storage tank 91 by providing the coating liquid removing means facing the roller surface 52a2 opposite to the roller surface 52a1 from which the coating liquid is scraped up. The surface of the liquid supply roller 52 can always be kept in a uniform state, and the occurrence of the above-mentioned unevenness of the coating film can be prevented.

(第1の実施の形態)
図1は、本発明のカラーフィルタの断面を模式的に示す説明図である。
(First Embodiment)
FIG. 1 is an explanatory diagram schematically showing a cross section of the color filter of the present invention.

このカラーフィルタ1000は、透明な支持体100と、この支持体100上に形成された透明導電層500と、この透明導電層500上に形成された着色層200と、ブラックマトリクス層300と、前記着色層200およびブラックマトリクス層300の周囲を覆う保護層400とから構成されている。   The color filter 1000 includes a transparent support 100, a transparent conductive layer 500 formed on the support 100, a colored layer 200 formed on the transparent conductive layer 500, a black matrix layer 300, It comprises a colored layer 200 and a protective layer 400 covering the periphery of the black matrix layer 300.

前記支持体100は、透明なガラス基板(例えばコーニング社製7059ガラス)から構成される。   The support 100 is composed of a transparent glass substrate (for example, Corning 7059 glass).

前記着色層200は、所定のパターン、例えばいわゆるモザイク型,トライアングル型,ストライプ型等のパターンで、レッド(R)の画素200A、グリーン(G)の画素200Bおよびブルー(B)の画素200Cから構成されている。これらの各画素200A,200B,200Cは、膜厚が0.4〜1.0μm、好ましくは0.6〜0.9μmである。この膜厚が0.4μmより小さいと、十分な色特性が得られず、一方膜厚が1.0μmより大きいと、着色層の有する抵抗によって、十分な実効電圧を得られない。   The coloring layer 200 has a predetermined pattern, for example, a so-called mosaic type, triangle type, stripe type, or the like, and includes a red (R) pixel 200A, a green (G) pixel 200B, and a blue (B) pixel 200C. Have been. Each of these pixels 200A, 200B, 200C has a thickness of 0.4 to 1.0 μm, preferably 0.6 to 0.9 μm. If the film thickness is smaller than 0.4 μm, sufficient color characteristics cannot be obtained, while if the film thickness is larger than 1.0 μm, a sufficient effective voltage cannot be obtained due to the resistance of the colored layer.

また、着色層200は、電圧5V,周波数1kHz〜100kHzの交流を印加したときの比誘電率が2.0以上、好ましくは3.0〜5.0である。さらに、各画素200A,200B,200Cの前記条件のもとにおける比誘電率は、三者の平均値の±25%の範囲内、好ましくは±20%の範囲内にあることを要する。この理由については、後に詳述するが、比誘電率が各画素によって大きく相違することにより、各画素のキャパシタンスの差が大きくなり、良好な色調整を行うことができない。また、前記着色層200の比誘電率が2.0未満であると、層の電気的なキャパシタンスが大きくなるため、素子形成基板側の画素電極とカラーフィルタ側の画素電極間にかけられた電界が容量分割されて液晶層にかかる実効電圧が小さくなってしまう。このためコントラスト比が低下して画質を悪くするという問題が生ずる。   The colored layer 200 has a relative dielectric constant of 2.0 or more, preferably 3.0 to 5.0, when a voltage of 5 V and an alternating current of a frequency of 1 kHz to 100 kHz is applied. Furthermore, the relative permittivity of each of the pixels 200A, 200B, and 200C under the above-described conditions needs to be within a range of ± 25%, preferably ± 20% of the average of the three. The reason for this will be described later in detail, but since the relative permittivity greatly differs for each pixel, the difference in capacitance between the pixels increases, and good color adjustment cannot be performed. Further, when the relative permittivity of the colored layer 200 is less than 2.0, the electric capacitance of the layer becomes large, so that the electric field applied between the pixel electrode on the element forming substrate side and the pixel electrode on the color filter side becomes small. The effective voltage applied to the liquid crystal layer due to the capacitance division is reduced. For this reason, there is a problem that the contrast ratio is lowered and the image quality is deteriorated.

前記ブラックマトリクス層300は、着色剤として、レッド、グリーンおよびブルーの3色の顔料とカーボンとを含んでいる。そして、このブラックマトリクス層300は、電圧5V,周波数100Hz〜100kHzの交流を印加した場合において、その比抵抗が1.0×102 Ω・m〜1.2×106 Ω・mであり、かつ前記条件の交流を印加した際の比誘電率が3.0以上である。ブラックマトリクス層300の比抵抗が1.0×102 Ω・m未満であると、ブラックマトリクス層の導電性が大きくなり過ぎ、隣接する透明電極相互間で短絡が生じたり、あるいは図示しない液晶層を挾んで対向する他方の電極との間で短絡不良を引き起こす場合がある。また、比抵抗が1.2×106 Ω・mを越えると、ブラックマトリクス層での電圧ドロップ量が大きくなって書き込み特性が低下するという問題を生ずる。特に、ブラックマトリクス層の膜厚が着色層200の膜厚に比較して厚い場合には、ブラックマトリクス層と対向する素子基板側の配線電極間とのギャップが狭くなり、短絡不良を起こし易くなる。 The black matrix layer 300 contains three color pigments of red, green and blue and carbon as colorants. The black matrix layer 300 has a specific resistance of 1.0 × 10 2 Ω · m to 1.2 × 10 6 Ω · m when a voltage of 5 V and an alternating current of a frequency of 100 Hz to 100 kHz are applied. Further, the relative dielectric constant when the alternating current under the above conditions is applied is 3.0 or more. When the specific resistance of the black matrix layer 300 is less than 1.0 × 10 2 Ω · m, the conductivity of the black matrix layer becomes too large, and a short circuit occurs between adjacent transparent electrodes, or a liquid crystal layer (not shown) In some cases, short-circuit failure may occur between the electrode and the other electrode that faces the electrode. On the other hand, if the specific resistance exceeds 1.2 × 10 6 Ω · m, there arises a problem that the amount of voltage drop in the black matrix layer increases and the writing characteristics deteriorate. In particular, when the thickness of the black matrix layer is thicker than the thickness of the coloring layer 200, the gap between the black matrix layer and the wiring electrode on the element substrate side opposed to the electrode becomes narrow, and short-circuit failure easily occurs. .

また、前述した比抵抗範囲とするためには、ブラックマトリクス層300を構成するカーボンは、このブラックマトリクス層300に対して10〜20重量%、好ましくは10〜15重量%の割合で含有される。   Further, in order to achieve the above-described specific resistance range, the carbon constituting the black matrix layer 300 is contained in a ratio of 10 to 20% by weight, preferably 10 to 15% by weight, based on the black matrix layer 300. .

また、ブラックマトリクス層300の膜厚は、0.5〜1.5μmの範囲が好ましく、特に前記着色層200を構成する各画素200A,200B,200Cとの膜厚差が0.5μm以内であることが好ましい。   Further, the thickness of the black matrix layer 300 is preferably in the range of 0.5 to 1.5 μm, and in particular, the difference in thickness between each of the pixels 200A, 200B, 200C constituting the colored layer 200 is within 0.5 μm. Is preferred.

前記保護層400は、一般に透明の樹脂、例えばアクリル樹脂から構成され、その膜厚は700〜1000オングストローム程度とされる。   The protective layer 400 is generally made of a transparent resin, for example, an acrylic resin, and has a thickness of about 700 to 1000 Å.

次に、図1に示すカラーフィルタ1000の製造方法について説明する。   Next, a method for manufacturing the color filter 1000 shown in FIG. 1 will be described.

ガラス製支持体100の表面に酸化インジウム(ITO)層をスパッタリング法により約500〜3000オングストロームの膜厚で形成する。次いで、このITO層を一般的なフォトリソグラフィによりパターニングし、透明導電層500を形成する。   An indium oxide (ITO) layer is formed on the surface of the glass support 100 by a sputtering method to a thickness of about 500 to 3000 angstroms. Next, the ITO layer is patterned by general photolithography to form a transparent conductive layer 500.

次いで、顔料を分散したフォトレジストを用い、通常使用されるフォトリソグラフィおよび現像技術により着色層200を形成する。着色層200を構成するレッド、グリーンおよびブルーの各画素はどの順番で形成しても構わないが、例えばレッド、グリーン、ブルーの順番で層を形成する場合を例にとって説明する。   Next, using the photoresist in which the pigment is dispersed, the coloring layer 200 is formed by a commonly used photolithography and development technique. The red, green, and blue pixels constituting the colored layer 200 may be formed in any order. For example, a case in which the layers are formed in the order of red, green, and blue will be described.

まず、レッドの顔料を含むレジストをスピンコート法,ロールコート法、あるいは本発明の張力展開成膜装置で支持体100および透明導電層500上に塗布する。このとき用いられるレッドの顔料としては、前述したものを用いることができ、具体的には例えば、ジスアゾ系顔料(例えばチバガイギー社製「クロモフタルレッドDRN」)、アゾレーキ系顔料(例えば大日精化社製「レーキレッドC」)およびピラゾリン系顔料等が用いられる。レジストをコートした後に、プリベイクを60〜70℃にて10〜20分間行い、その後フォトマスクを介して露光を行う。この際の露光量は約100〜200mJである。次いで、アルカリ系の現像液を用いてシャワーもしくはディップによって現像を行う。現像後、クリーンオーブンもしくはホットプレート等において約150〜200℃で30〜60分間程度、レジスト層の焼成を行う。   First, a resist containing a red pigment is applied on the support 100 and the transparent conductive layer 500 by a spin coating method, a roll coating method, or a tension developing film forming apparatus of the present invention. As the red pigment used at this time, the above-mentioned pigments can be used. Specifically, for example, disazo pigments (for example, “Chromophthal Red DRN” manufactured by Ciba Geigy) and azo lake pigments (for example, Dainichi Seika Co., Ltd.) "Rake Red C") and pyrazoline pigments. After coating the resist, prebaking is performed at 60 to 70 ° C. for 10 to 20 minutes, and then exposure is performed through a photomask. The exposure amount at this time is about 100 to 200 mJ. Next, development is performed by showering or dipping using an alkaline developing solution. After the development, the resist layer is baked in a clean oven or a hot plate at about 150 to 200 ° C. for about 30 to 60 minutes.

グリーンの画素200Bの形成においては、グリーンの顔料としては、前述したものを用いることができ、具体的には臭素原子を導入したフタロシアニングリーン(Pigment Green 36, C.I. 74265) 等が好適に用いられる。塗布工程、プリベイク工程および現像工程等は前記レッドの場合と同様である。なお、露光工程は、約250〜500mJの露光量で行われる。   In the formation of the green pixel 200B, the above-mentioned ones can be used as the green pigment, and specifically, phthalocyanine green (Pigment Green 36, C.I. 74265) into which a bromine atom is introduced is preferably used. The coating step, prebaking step, developing step, and the like are the same as in the case of red. The exposure step is performed with an exposure amount of about 250 to 500 mJ.

ブルーの画素200Cの形成においては、ブルーの顔料として銅フタロシアニン系顔料、スレン系顔料(例えばチバガイギー社製「クロモフタルブルーA3R」)等が用いられる。露光は、約70〜150mJの露光量で行われる。それ以外の製造工程は前記レッドおよびグリーンの場合と同様である。   In forming the blue pixel 200C, a copper phthalocyanine-based pigment, a sulene-based pigment (for example, “Chromophthal Blue A3R” manufactured by Ciba Geigy) or the like is used as a blue pigment. The exposure is performed with an exposure of about 70 to 150 mJ. Other manufacturing steps are the same as those for the red and green.

以上のべたレッド、グリーンおよびブルーの各顔料レジストは、その固形分濃度がレジスト液全体に対して約15〜20重量%、好ましくは11〜12重量%であり、その固形分のうちの顔料の占める割合が40〜50重量%であることが好ましい。   Each of the solid red, green and blue pigment resists has a solid content of about 15 to 20% by weight, preferably 11 to 12% by weight, based on the entire resist solution. It is preferable that the proportion occupied is 40 to 50% by weight.

次に、ブラックマトリクス層300の形成について説明する。ブラックマトリクス層を形成するレジストとしては、レッド、グリーンおよびブルーの各顔料をレジスト液の固形分に対して30〜60重量%、およびカーボンブラックを10〜20重量%の範囲で含んでいる。なお、このブラックマトリクス層300は、前記着色層200を形成する前に形成してもよい。   Next, formation of the black matrix layer 300 will be described. The resist for forming the black matrix layer contains red, green and blue pigments in the range of 30 to 60% by weight and carbon black in the range of 10 to 20% by weight based on the solid content of the resist solution. Note that the black matrix layer 300 may be formed before forming the colored layer 200.

次いで、例えば熱硬化型のアクリル樹脂をスピンコート法等を用いて塗布した後、180℃で約30分間焼成して保護膜400を形成する。次いで、保護膜400上に、一般に市販されているポリアミクサン型のPIを主成分とした熱硬化型樹脂を用いて、これをフレキソ印刷法を用いて塗布し、その後約190℃で1〜2時間焼成して図示しない配向膜を形成する。   Next, for example, a thermosetting acrylic resin is applied by a spin coating method or the like, and then baked at 180 ° C. for about 30 minutes to form the protective film 400. Next, on the protective film 400, using a commercially available thermosetting resin mainly composed of a polyamic acid type PI, this is applied by flexographic printing, and then at about 190 ° C. for 1 to 2 hours. By firing, an alignment film (not shown) is formed.

次に、図1に示すカラーフィルタについて行った電気光学特性の測定結果について述べる。   Next, measurement results of electro-optical characteristics performed on the color filter shown in FIG. 1 will be described.

実験例1:
まず、カラーフィルタ1000の着色層200を構成する各画素200A,200B,200Cについて、それぞれ透過率と駆動電圧との関係を調べた。その結果を図6に示す。透過率−駆動電圧曲線は、図1に示すカラーフィルタを用いた液晶パネルを作成し、LCメータを用いて電圧を変化させたときの透過率の変化を測定したものである。サンプルに用いた顔料、比誘電率、顔料の含有率および着色層の膜厚については表1に示す。
Experimental example 1:
First, the relationship between the transmittance and the driving voltage of each of the pixels 200A, 200B, and 200C constituting the coloring layer 200 of the color filter 1000 was examined. FIG. 6 shows the result. The transmittance-drive voltage curve is obtained by preparing a liquid crystal panel using the color filter shown in FIG. 1 and measuring a change in transmittance when the voltage is changed using an LC meter. Table 1 shows the pigment used for the sample, the relative dielectric constant, the content of the pigment, and the thickness of the colored layer.

表1において、比誘電率は電圧5V,周波数10kHzのときの値を示したものである。また、顔料の含有率はレジスト液の固形分に対する割合(重量%)で示してある。   In Table 1, the relative permittivity is a value at a voltage of 5 V and a frequency of 10 kHz. The content of the pigment is shown as a ratio (% by weight) to the solid content of the resist solution.

図6より明らかなように、本発明のカラーフィルタを用いた液晶装置においては、レッド、グリーンおよびブルーの各透過率−駆動電圧曲線がほぼ一致しており、各画素がほぼ同じ電気光学特性を有していることが分かる。したがって、所定の駆動電圧で同じ透過率が得られるため、良好な色特性を得ることができる。ここで、十分な色特性とは、CIE色度図においてC光源を用いた場合に、レッドについては、x≧0.60、y≦0.35、グリーンについては0.33≧x≧0.29、y≧0.58、ブルーについてはx≦0.15、y≦0.14を満たす範囲を言う。   As is clear from FIG. 6, in the liquid crystal device using the color filter of the present invention, the transmittance-driving voltage curves of red, green, and blue almost match, and each pixel has almost the same electro-optical characteristics. It turns out that it has. Therefore, since the same transmittance can be obtained at a predetermined driving voltage, good color characteristics can be obtained. Here, the sufficient color characteristics are defined as x ≧ 0.60 and y ≦ 0.35 for red and 0.33 ≧ x ≧ 0 for green when the C light source is used in the CIE chromaticity diagram. 29, y ≧ 0.58, blue means a range satisfying x ≦ 0.15 and y ≦ 0.14.

Figure 0003546885
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このように、本発明のカラーフィルタが良好な電気光学特性を有する理由は、着色層を構成する各カラーの画素の比誘電率を均一化したことにある。   As described above, the reason why the color filter of the present invention has good electro-optical characteristics is that the relative dielectric constant of each color pixel constituting the colored layer is made uniform.

比較実験例1:
次に、比誘電率が各カラーの平均値の±25%を越える着色層を有する場合に、上記実験例1と同様の測定を行い、透過率−駆動電圧の関係を求めた。その結果を図7に示す。図7から、この比較実験例の場合には、透過率−駆動電圧曲線に大きなばらつきが見られ、良好な電気光学特性が得られないことが分かる。この理由は、他の曲線に比べて最もずれの大きい曲線dについて見ると、着色層を構成するグリーンの画素の比誘電率が他のレッドおよびブルーの画素の比誘電率よりもかなり大きい(この場合は比誘電率の平均より約27%大きい)ことによる。このように透過率−駆動電圧曲線がレッド、グリーンおよびブルーの各色についてばらついている場合には、特定の駆動電圧に対して各色の画素における透過率がことなるため、良好な色特性を得ることができない。
Comparative Experimental Example 1:
Next, when there was a colored layer having a relative dielectric constant exceeding ± 25% of the average value of each color, the same measurement as in Experimental Example 1 was performed to determine the relationship between transmittance and drive voltage. FIG. 7 shows the result. From FIG. 7, it can be seen that in the case of this comparative example, a large variation is seen in the transmittance-drive voltage curve, and good electro-optical characteristics cannot be obtained. The reason is that the relative permittivity of the green pixel constituting the colored layer is considerably larger than the relative permittivity of the other red and blue pixels when looking at the curve d having the largest deviation from the other curves. In this case, the relative permittivity is about 27% larger than the average). When the transmittance-driving voltage curve varies for each color of red, green, and blue as described above, the transmittance of each color pixel for a specific driving voltage is different, so that good color characteristics can be obtained. Can not.

実験例2:
次に、顔料の種類によって比誘電率−周波数曲線がどのように異なるかを知るための測定を行った。顔料の種類は表1に示したものである。
Experimental Example 2:
Next, measurement was performed to see how the relative permittivity-frequency curve differs depending on the type of pigment. The pigment types are shown in Table 1.

まず測定方法について説明する。測定に用いたサンプルを図8に示す。図8に示すサンプルは、ガラス基板100上にITO層500を膜厚約1000オングストロームで成膜し、このITO層500上に顔料分散型レジストを塗布し、その後60〜70℃で10〜20分間熱処理を行ってレジスト膜を硬化させ、膜厚約1.0μmの着色層200を形成した。さらに、この着色層200の上に有機溶剤と銀粉末とが混合された導電ペーストをコートし、これを熱硬化させ導電層600を形成させた。このようにして形成されたサンプルについてLCRメータを用いてキャパシタンスを測定した。これらの測定値およびサンプルの膜厚を測定して比誘電率を算出する。   First, the measurement method will be described. FIG. 8 shows a sample used for the measurement. In the sample shown in FIG. 8, an ITO layer 500 is formed with a thickness of about 1000 Å on a glass substrate 100, a pigment-dispersed resist is applied on the ITO layer 500, and then at 60 to 70 ° C. for 10 to 20 minutes. Heat treatment was performed to cure the resist film, and a colored layer 200 having a thickness of about 1.0 μm was formed. Further, a conductive paste in which an organic solvent and silver powder were mixed was coated on the colored layer 200, and this was thermally cured to form a conductive layer 600. The capacitance of the sample thus formed was measured using an LCR meter. The relative permittivity is calculated by measuring these measured values and the thickness of the sample.

キャパシタンスの測定にあたっては、電圧を5Vに設定し周波数を100Hz〜100kHzまで変化させた。その結果を図9に示す。図9から、各顔料とも周波数10kHz程度までは減少し、それ以降はほぼ横ばいの状態となる。そして、特に重要なことは、フタロシアニングリーンにおいて臭素を導入したもの(サンプルc,e)が、臭素を導入しないもの(サンプルd)に比べて比誘電率の値が小さくなることが判明した。   In measuring the capacitance, the voltage was set to 5 V and the frequency was changed from 100 Hz to 100 kHz. The result is shown in FIG. From FIG. 9, it can be seen that the frequency of each pigment decreases to about 10 kHz, and thereafter becomes almost flat. It is especially important that the phthalocyanine green into which bromine is introduced (samples c and e) has a lower relative dielectric constant than the one into which bromine is not introduced (sample d).

したがって、本実験例においては、臭素原子が導入されたフタロシアニングリーンを用いることにより比誘電率を約3.0〜6.0の範囲に設定することができ、RGB3色の比誘電率をこの範囲で均一化させることができることが確認された。   Therefore, in this experimental example, the relative dielectric constant can be set in a range of about 3.0 to 6.0 by using phthalocyanine green into which a bromine atom has been introduced, and the relative dielectric constant of the three colors RGB can be set in this range. It was confirmed that it could be made uniform.

また、図6および図9から、電圧5V,周波数10kHzにおける比誘電率が、レッド、グリーンおよびブルーの各画素において3.5±0.5の範囲内に存在し、かつ電圧5V,周波数100kHzにおける比誘電率が各画素において3.0±0.5の範囲内に存在するような顔料を用いることが好ましいことがわかる。   6 and 9 that the relative permittivity at a voltage of 5 V and a frequency of 10 kHz is within a range of 3.5 ± 0.5 in each of the red, green and blue pixels, and that the relative permittivity at a voltage of 5 V and a frequency of 100 kHz is obtained. It can be seen that it is preferable to use a pigment having a relative dielectric constant within the range of 3.0 ± 0.5 in each pixel.

次に、ブラックマトリクス層について、比誘電率−周波数特性を求めた。その結果を図10に示す。測定方法は、前記着色層の場合(図8,9参照)と同様であるので、詳細な説明を省略する。   Next, relative permittivity-frequency characteristics of the black matrix layer were determined. The result is shown in FIG. The measurement method is the same as that for the colored layer (see FIGS. 8 and 9), and thus detailed description is omitted.

この実験例では、4種のサンプルA〜Dを用いている。これらのサンプルA〜Dは、いずれもアクリル系樹脂を用いた黒色レジスト(富士ハント株式会社製「黒CK3001」)を選択した。サンプルA,BおよびCは、カーボンの含有量が12重量%、サンプルDは、カーボンの含有量が20重量%のものである。また、これらのサンプルA〜Dは、図11に示すように、電圧5V,周波数100Hz〜100kHzの交流を印加したときに、比抵抗が本発明の範囲内(1.0×102 〜1.2×106 Ω・m)に存在するものである。図10より、ブラックマトリクス層は、その比誘電率が3.0以上であればよいことが判る。なお、カーボンの含有量が30重量%の黒色レジストを用いた試験では、対向電極間での短絡現象が見られ、実用に適しないことが判明した。なお、ここでいう短絡現象は、液晶パネルを駆動したときに光学的に点状の欠陥が生ずることで確認することができる。 In this experimental example, four types of samples A to D are used. In each of these samples A to D, a black resist (“Black CK3001” manufactured by Fuji Hunt Co., Ltd.) using an acrylic resin was selected. Samples A, B and C have a carbon content of 12% by weight, and sample D has a carbon content of 20% by weight. As shown in FIG. 11, these samples A to D have a specific resistance within the range of the present invention (1.0 × 10 2 to 1 .2) when a voltage of 5 V and an alternating current of a frequency of 100 Hz to 100 kHz are applied. 2 × 10 6 Ω · m). FIG. 10 shows that the black matrix layer only needs to have a relative dielectric constant of 3.0 or more. In a test using a black resist having a carbon content of 30% by weight, a short-circuit phenomenon between the counter electrodes was observed, and it was found that this was not suitable for practical use. Note that the short circuit phenomenon can be confirmed by optically generating a point-like defect when the liquid crystal panel is driven.

図2および図3は、図1に示すカラーフィルタの変形例を示し、これらのカラーフィルタはブラックマトリクス層の構成が前記カラーフィルタ1000と異なっている。図2に示すカラーフィルタ2000においては、ブラックマトリクス層300は、ブルーおよびレッドの着色層を積層した構成であり、図3に示すカラーフィルタ3000においては、ブラックマトリクス層300は、グリーン,レッドおよびブルーの3者の着色層が積層された構造となっている。   FIGS. 2 and 3 show modifications of the color filters shown in FIG. 1. These color filters differ from the color filter 1000 in the configuration of the black matrix layer. In the color filter 2000 shown in FIG. 2, the black matrix layer 300 has a configuration in which blue and red coloring layers are stacked. In the color filter 3000 shown in FIG. 3, the black matrix layer 300 is formed of green, red, and blue. The three colored layers are laminated.

その他の構成においては、図1に示すカラーフィルタと同様であるので詳細な説明を省略する。   Other configurations are the same as those of the color filter shown in FIG.

(第2の実施の形態)
図12は、本実施の形態のカラーフィルタの断面を模式的に示す図である。
(Second embodiment)
FIG. 12 is a diagram schematically illustrating a cross section of the color filter according to the present embodiment.

このカラーフィルタ4000は、支持体100、透明導電層500、着色層200およびブラックマトリクス層300を有し、これらの基本的構成、特に、着色層200の基本的構成は第1の実施の形態と同様である。すなわち、着色層200の膜厚は、0.4〜1.0μm、好ましくは0.6〜0.9μmであり、その比誘電率は電圧5V,周波数1kHz〜100kHzの交流を印加したときに、2.0以上、好ましくは3.0〜5.0である。さらに、各画素200A,200B,200Cの比誘電率は、3者の比誘電率の平均値の±25%の範囲内、好ましくは±20%の範囲内にある。   This color filter 4000 has a support 100, a transparent conductive layer 500, a coloring layer 200, and a black matrix layer 300. The basic configuration of these components, particularly, the basic configuration of the coloring layer 200 is the same as that of the first embodiment. The same is true. That is, the film thickness of the colored layer 200 is 0.4 to 1.0 μm, preferably 0.6 to 0.9 μm, and its relative dielectric constant is 5 V when applied with an alternating current of 1 kHz to 100 kHz. 2.0 or more, preferably 3.0 to 5.0. Further, the relative dielectric constant of each of the pixels 200A, 200B, and 200C is within a range of ± 25%, preferably ± 20% of the average of the relative dielectric constants of the three.

この実施の形態において特徴的なことは、ブラックマトリクス層300の突出部分、すなわちブラックマトリクス層300を構成する上部層であって、着色層200より突出した部分の層(突出層)300Aが内側に傾斜したテーパー状の側面から構成されている点にある。前記テーパー状の側面は、支持体100に対し30〜89度の角度、好ましくは45〜70度の角度を成して構成されている。側面の傾斜角が89度を越えると突出層300Aの段差部分の角度が急しゅんになって配向不良が生じやすい。また、側面の傾斜角が30度より小さいと、テーパ角度が30度より小さい場合は、線幅の端部において膜厚が薄くなるため、その部分が十分の遮光性を有さなくなる。また、膜厚が薄くなるとパターンの幅のコントロールが製造上難しくなり、設計上の寸法の再現性が悪くなってしまうという問題が生じる。   The feature of this embodiment is that the protruding portion of the black matrix layer 300, that is, the upper layer constituting the black matrix layer 300, and the layer (protruding layer) 300A of the portion protruding from the coloring layer 200 is located inside. The point is that it is constituted by an inclined tapered side surface. The tapered side surface is formed at an angle of 30 to 89 degrees with respect to the support 100, preferably at an angle of 45 to 70 degrees. If the inclination angle of the side surface exceeds 89 degrees, the angle of the step portion of the protruding layer 300A becomes steep and poor alignment is likely to occur. Further, when the inclination angle of the side surface is smaller than 30 degrees, and when the taper angle is smaller than 30 degrees, the film thickness becomes small at the end of the line width, so that the portion does not have a sufficient light shielding property. In addition, when the film thickness is small, it becomes difficult to control the width of the pattern in manufacturing, and there is a problem that the reproducibility of the design dimension is deteriorated.

次にブラックマトリクス層300の突出層300Aにテーパーを付加する方法について説明する。これに関する方法としては幾つか考えられるが、代表的な方法としてフォトマスクと露光される面との間にギャップを設ける方法があげられる。具体的には、通常、被露光層とフォトマスクとは0〜30μmの間隔で配置されるが、その間隔を200μm〜数mm程度まで広げて露光を行う。この方法で露光すると、光の回折効果により露光パターンはフォトマスクの設計値よりも大きくなり、拡大された部分の層は現像によって図12に示すようなテーパー状に形成される。テーパーを形成する他の例としては、例えば、露光されるレジスト層と透明導電層との密着性を表面改質剤や界面活性剤によって高めておくことにより、ある程度の傾斜が確保できる。   Next, a method of adding a taper to the protruding layer 300A of the black matrix layer 300 will be described. There are several methods for this, and a typical method is to provide a gap between the photomask and the surface to be exposed. More specifically, the layer to be exposed and the photomask are usually arranged at an interval of 0 to 30 μm, and the exposure is performed by widening the interval to about 200 μm to several mm. When exposure is performed by this method, the exposure pattern becomes larger than the design value of the photomask due to the light diffraction effect, and the layer in the enlarged portion is formed into a tapered shape as shown in FIG. 12 by development. As another example of forming the taper, for example, a certain degree of inclination can be secured by increasing the adhesion between the exposed resist layer and the transparent conductive layer using a surface modifier or a surfactant.

前記突出層300Aの側面の傾斜角は、ラビングの条件や擦り方向等によって最適値が選択される。   The optimum inclination angle of the side surface of the protruding layer 300A is selected according to the rubbing conditions, the rubbing direction, and the like.

図13および図14は、本実施の形態の変形例を示すものである。図13に示すカラーフィルタ5000においては、着色層200が形成された後にブラックマトリクス層300が形成された構造のものを示し、図14は、ブラック顔料を用いずに、レッドとブルーの着色層を積層することによりブラックマトリクス層を構成する構造のカラーフィルタ6000を示している。このタイプのブラックマトリクス層300は、着色層200の上面ラインより上に形成されたブルーの着色層(300A)にテーパー状の側面が形成されている。   FIG. 13 and FIG. 14 show a modification of the present embodiment. A color filter 5000 shown in FIG. 13 has a structure in which a black matrix layer 300 is formed after a colored layer 200 is formed. FIG. 14 shows a structure in which red and blue colored layers are formed without using a black pigment. A color filter 6000 having a structure in which a black matrix layer is formed by lamination is shown. In this type of black matrix layer 300, a blue colored layer (300A) formed above the upper surface line of the colored layer 200 has tapered side surfaces.

(第3の実施の形態)
次に、本発明の第3の実施の形態に係る張力展開成膜装置について、図16及び図17を参照して、説明する。
(Third embodiment)
Next, a tension-developing film-forming apparatus according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

図16は、本例の張力展開成膜装置の主要部を示す斜視図であり、図17A〜図17Dはその成膜動作を示す工程断面図である。   FIG. 16 is a perspective view showing a main part of the tension developing film forming apparatus of the present example, and FIGS. 17A to 17D are process cross-sectional views showing the film forming operation.

これらの図において、本例の成膜装置1は、四角形のカラーフィルタ用ガラス基板(支持体)の表面に着色レジスト層を形成するための装置であって、このガラス基板からは複数枚の四角形のカラーフィルタが切り出される。この成膜装置1は、被塗着部材2(ガラス基板)をその被塗着面2aを下方に向けて搬送する搬送手段6と、被塗着部材2の搬送経路1bの下方位置に配置され、搬送経路1bの幅方向全体に向けて塗着液(着色レジスト)3を定量供給する塗着液供給手段4とを有する。ここで、図16には、搬送手段6として、搬送経路1bの側方位置で横方向に移動する搬送ロボットのアーム(図示せず)に連結された吸着チャックのみを図示してある。また、塗着液供給手段4は、下方位置で定量ポンプ(図示せず)に接続され、上面側にスリット4aを備える角形ノズル体であり、そのスリット4aの形成面はノズル体の側面先端より低く、凹部たる塗着液供給部4bを形成している。従って、スリット4aから放出される塗着液3は、塗着液供給部4bに一時滞留した後、塗着液3の表面張力によって盛り上がるようになって供給され、幅方向での供給量が定量化されている。また、被塗着部材2の搬送経路1bの両側には、塗着液供給手段4の先端面4cと、被塗着面2aとの間に一定の離間距離を調整、保持するための離間距離調整保持手段として、断面がL字状のレール体7が並列配置されており、その段差部の上面7a(案内面)に被塗着面2aの両端が支持された状態で、被塗着部材2は搬送される。すなわち、上面7aによって、被塗着部材2の搬送基準面1aが形成されている。ここで、上面7aと塗着液供給手段4の先端面4cとの離間距離d1 は、後述するとおり、塗着液供給手段4の上方位置を被塗着部材2が通過するとき、この先端面4cと被塗着面2aとの間に塗着液の液溜まり層が形成可能な距離である。 In these figures, the film forming apparatus 1 of the present example is an apparatus for forming a colored resist layer on the surface of a square color filter glass substrate (support), and a plurality of square resists are formed from this glass substrate. Color filters are cut out. The film forming apparatus 1 is disposed at a position below a transfer path 1b of the member to be coated 2 with a conveying means 6 for conveying the member to be coated 2 (glass substrate) with its surface to be coated 2a facing downward. And a coating liquid supply means 4 for supplying a constant amount of the coating liquid (colored resist) 3 toward the entire width of the transport path 1b. Here, FIG. 16 shows only the suction chuck connected to the arm (not shown) of the transfer robot that moves laterally at the side of the transfer path 1b as the transfer means 6. The coating liquid supply means 4 is connected to a metering pump (not shown) at a lower position, and is a square nozzle body having a slit 4a on the upper surface side. The coating liquid supply section 4b, which is low and concave, is formed. Accordingly, the coating liquid 3 released from the slit 4a temporarily stays in the coating liquid supply unit 4b, and is then supplied by being raised by the surface tension of the coating liquid 3, and the supply amount in the width direction is determined. Has been Also, on both sides of the transport path 1b of the coating member 2, a separation distance for adjusting and holding a constant separation distance between the tip end surface 4c of the coating liquid supply means 4 and the coating surface 2a. As the adjusting and holding means, rail members 7 each having an L-shaped cross section are arranged in parallel, and the member to be coated is held in a state in which both ends of the surface to be coated 2a are supported on the upper surface 7a (guide surface) of the step. 2 is conveyed. That is, the transport reference surface 1a of the member to be coated 2 is formed by the upper surface 7a. Here, the separation distance d 1 between the upper surface 7a and the tip end surface 4c of the coating liquid supply means 4 is, as described later, when the coating target member 2 passes above the coating liquid supply means 4, This is the distance at which a liquid pool layer of the coating liquid can be formed between the surface 4c and the surface to be coated 2a.

次に、成膜装置1の成膜動作を説明する。   Next, a film forming operation of the film forming apparatus 1 will be described.

まず、搬送手段6によって、図17Aに示すように、被塗着部材2がレール体7によって高さ位置及び幅方向の位置を規定された状態で搬送されてきて、図17Bに示すように、被塗着面2aの先端側2bが塗着液供給手段4の上方位置に到達して、被塗着面2aの先端側2bが塗着液3に接触したとき、搬送手段6は搬送動作を一時停止する。このため、被塗着面2aの先端側2bと塗着液供給手段4の先端面4cとの間を、塗着液3が、その表面張力によって幅方向に広がり、先端側2b全域に塗着液3が行き渡る。その結果、先端側2b全域には、塗着液3の予備塗着層が形成される(予備塗着工程)。   First, as shown in FIG. 17A, the applying member 2 is conveyed by the conveying means 6 in a state where the height position and the width direction position are defined by the rail body 7, and as shown in FIG. 17B, When the tip side 2b of the coating surface 2a reaches a position above the coating liquid supply means 4 and the tip side 2b of the coating surface 2a comes into contact with the coating liquid 3, the transfer means 6 performs the transfer operation. Pause. For this reason, the coating liquid 3 spreads in the width direction between the tip side 2b of the coating surface 2a and the tip end face 4c of the coating liquid supply means 4 due to the surface tension, and is applied to the entire tip side 2b. Liquid 3 spreads. As a result, a preliminary coating layer of the coating liquid 3 is formed on the entire front end side 2b (preliminary coating step).

この状態から、再び、搬送手段6が横移動を開始して、図17Cに示すように、被塗着部材2を搬送する。ここで、被塗着面2aと塗着液供給手段4の先端面4cとの離間距離d1 は、予め、レール体7の配置位置によって、被塗着面2aと先端面4cの間に塗着液3の液溜まり層3aが形成された状態を維持するように設定されている。また、搬送手段6の移動速度、及び塗着液供給手段4の塗着液供給速度は、塗着液3が途切れないような条件に設定されている。従って、被塗着面2aにおいて、被塗着部材2の搬送に伴って、予備塗着層5aから塗着層5bが拡張されていく結果(塗着液展開工程)、図17Dに示すように、被塗着部材2が塗着液供給手段4の上方位置を通過し終えたときには、均一な膜厚さd2 を有する塗着層5bが形成される。なお、この間に塗着液供給手段4から供給される塗着液3の供給量は、塗着層5bとして塗着液3が消費される量に相当するように設定されている。但し、塗着液3の供給量が多過ぎた場合であっても、過剰の塗着液は塗着液供給手段4の側面を伝って垂れていくだけであるので、被塗着面2aに付着せず、塗着層5bの厚さd2 にばらつきが発生することがない。 From this state, the transporting unit 6 starts to traverse again, and transports the coating target member 2 as shown in FIG. 17C. Here, the distance d 1 between the coating surface 2a and the tip surface 4c of the coating liquid supply means 4 is determined in advance by the arrangement position of the rail body 7 between the coating surface 2a and the tip surface 4c. It is set so that the state where the liquid pool layer 3a of the liquid 3 is formed is maintained. Further, the moving speed of the transport means 6 and the coating liquid supply speed of the coating liquid supply means 4 are set to conditions such that the coating liquid 3 is not interrupted. Therefore, as a result of the spreading of the coating layer 5b from the pre-coating layer 5a along with the transport of the coating member 2 on the coating surface 2a (coating liquid spreading step), as shown in FIG. when the object to be coated adhesive member 2 has finished passing through the upper position of the coating liquid supply means 4, the coating layer 5b having a uniform film thickness d 2 is formed. The supply amount of the coating liquid 3 supplied from the coating liquid supply means 4 during this time is set so as to correspond to the amount of the coating liquid 3 consumed as the coating layer 5b. However, even if the supply amount of the coating liquid 3 is too large, the excess coating liquid only drips along the side surface of the coating liquid supply means 4, so that it is attached to the coating surface 2a. without dressing, variation in the thickness d 2 of the coating layer 5b is not generated.

このように、本例においては、ロールコータ法のように塗着液を被塗着部材に圧力で付着させるのではなく、被塗着部材2と塗着液供給手段4との間に形成された液溜まり層3aを利用して、塗着層5bを形成するものであり、無圧状態、すなわち、被塗着面2aを液溜まり層3aで濡らしながら、この濡れ面を塗着液の表面張力によって拡張しながら成膜していく。しかも、初期から単なる濡れ性だけで成膜すると、濡れが完全に定常状態になるまでに時間的な遅れがあって、成膜開始時に塗着面2aの先端側2bが完全に濡れ状態とならず、成膜むらが発生する。そこで、予備塗着層5aを予め形成しておき、これを起点として、塗着層5bを拡張していく。従って、塗布というより、むしろ塗着層5bを、その表面張力を利用して展開、拡張していくものであるため、塗着層5bの厚さd2 は、ロールコータ法のような被塗着部材に加えられる圧力による影響がない。しかも、ロールコータ法のコーティングローラのローラ面に相当する塗着液供給手段4の先端面4cの表面状態等の影響も受けない。すなわち、被塗着面2aは、この先端面4cとの間に所定の厚さの液溜まり層3aを介しているため、被塗着部材2の移動によって発生する塗着液の剪断面は、先端面4cの表面状態の変化が影響を及ぼさない位置、換言すれば、先端面4c側への塗着液の付着力が影響を及ぼさない位置に形成される。このため、塗着層5bの厚さは、被塗着部材2の移動速度により規定される剪断力、被塗着面2aへの塗着液の付着力、及び塗着液の表面張力のバランスにより決定され、塗着液供給手段4側への付着力は関与しない。しかも、塗着液が受けた圧力履歴は緩やかであるため、塗着液の残留応力も無視できるレベルであると共に、塗着液内に微細な気泡が巻き込まれることもない。このように、成膜に対し、影響を及ぼす因子、特に、制御しにくい因子が少ないので、安定した成膜を行うことができる。 As described above, in this embodiment, the coating liquid is formed between the coating member 2 and the coating liquid supply means 4 instead of applying the coating liquid to the coating member by pressure as in the roll coater method. The coating layer 5b is formed by using the accumulated liquid layer 3a, and the wet surface is coated with the surface of the coating liquid in a non-pressure state, that is, while the coated surface 2a is wetted by the liquid pool layer 3a. The film is formed while expanding by tension. In addition, if a film is formed only by wettability from the beginning, there is a time delay until the wetting completely reaches a steady state, and the leading end 2b of the coating surface 2a is completely wet at the start of film formation. And uneven film formation occurs. Therefore, the preliminary coating layer 5a is formed in advance, and the coating layer 5b is expanded starting from this. Thus, rather than applying, rather the the coating layer 5b, expanded by utilizing the surface tension, since they are going to expand, the thickness d 2 of the coating layer 5b may be coated, such as a roll coater method There is no influence by the pressure applied to the attachment member. In addition, there is no influence from the surface condition of the tip surface 4c of the coating liquid supply means 4 corresponding to the roller surface of the coating roller in the roll coater method. That is, since the coating surface 2a has the liquid reservoir layer 3a of a predetermined thickness interposed between the coating surface 2a and the tip surface 4c, the shearing surface of the coating liquid generated by the movement of the coating member 2 is: It is formed at a position where the change in the surface state of the tip surface 4c does not affect, in other words, at a position where the adhesion of the coating liquid to the tip surface 4c does not affect. For this reason, the thickness of the coating layer 5b is determined by the balance between the shearing force defined by the moving speed of the member 2 to be coated, the adhesion of the coating liquid to the coating surface 2a, and the surface tension of the coating liquid. And the adhesion to the coating liquid supply means 4 side is not involved. Moreover, since the pressure history of the coating liquid has been moderate, the residual stress of the coating liquid is at a negligible level, and no fine bubbles are trapped in the coating liquid. As described above, since there are few factors that affect the film formation, particularly, factors that are difficult to control, stable film formation can be performed.

(第4の実施の形態)
次に、本発明の第4の実施の形態に係る張力展開成膜装置を、添付図面に基づいて、具体的に説明する。
(Fourth embodiment)
Next, a tension spreading film forming apparatus according to a fourth embodiment of the present invention will be specifically described with reference to the accompanying drawings.

(全体構成)
まず、本例の装置の概略構成を、図18乃至図21を参照して、説明する。
(overall structure)
First, a schematic configuration of the apparatus of this example will be described with reference to FIGS.

図18は成膜装置の概略構成図、図19はその正面図、図20はその平面図、図21はその搬送経路の上流側からの側面図を示す。   18 is a schematic configuration diagram of a film forming apparatus, FIG. 19 is a front view thereof, FIG. 20 is a plan view thereof, and FIG. 21 is a side view from the upstream side of the transport path.

これらの図において、本例の成膜装置11は四角形のカラーフィルタ用ガラス基板(被塗着部材)21に着色レジスト(塗着液)を塗着するための装置であり、エアーダンパー機構を備える脚部11aに支持された大理石製の石定盤11bの上には、ガラス基板21の搬送経路11cの上流側から下流側に向って、ワーク供給ステージ31、上流側ワークガイド部41、塗着部51、下流側ワークガイド部61、及びワーク排出部71が配列されており、それらの上方には上流側から下流側までの各部位に、予め設定されたプログラムとおりにガラス基板21を搬送する搬送機構81(搬送手段)が配置されている。ここで、ワーク供給ステージ31に供給されたガラス基板21は、その被塗着面21aが上流側ワークガイド部41のガイドローラ42のローラ面上に位置規定された状態で、まず、塗着部51に搬送される。この塗着部51において、液供給ローラ52(塗着液供給ローラ)の上方位置で、上流側ワークガイド部41のガイドローラ42、さらには下流側ワークガイド部61のガイドローラ62によって面規定された状態で搬送されながら、塗着液に接触して着色レジストの塗着層が形成された後、下流側ワークガイド部61のガイドローラ62のローラ面上を搬送され、ワーク排出部71にまで搬送される。   In these figures, a film forming apparatus 11 of the present example is an apparatus for applying a colored resist (coating liquid) to a square color filter glass substrate (coating member) 21 and includes an air damper mechanism. On the marble stone surface plate 11b supported by the legs 11a, the work supply stage 31, the upstream work guide portion 41, and the coating are applied from the upstream side to the downstream side of the transport path 11c of the glass substrate 21. A section 51, a downstream work guide section 61, and a work discharge section 71 are arranged, and the glass substrate 21 is transported above each of them from an upstream side to a downstream side according to a preset program. A transport mechanism 81 (transport means) is provided. Here, the glass substrate 21 supplied to the work supply stage 31 is firstly coated with the coating surface 21 a on the roller surface of the guide roller 42 of the upstream side work guide portion 41 while the coating surface 21 a is defined. It is conveyed to 51. In the coating section 51, the surface is defined by a guide roller 42 of an upstream work guide section 41 and a guide roller 62 of a downstream work guide section 61 at a position above a liquid supply roller 52 (coating liquid supply roller). After the coating layer of the colored resist is formed in contact with the coating liquid while being conveyed in the state of being conveyed, it is conveyed on the roller surface of the guide roller 62 of the downstream side work guide section 61 to the work discharge section 71. Conveyed.

かかる成膜装置11において、各部には、それぞれ各種のセンサが取付けされており、それらのうちの主なものを図18に示す。   In the film forming apparatus 11, various sensors are attached to each part, and a main one of them is shown in FIG.

まず、ワーク供給ステージ31には、そこにガラス基板21が供給されたことを検出する給材検出センサ31aと、供給されたガラス基板21の位置を検出する給材位置検出センサ31bとが配置され、上流側ワークガイド部41には、そこに搬送されてきたガラス基板21の高さ位置を検出する高さ位置検出センサ41aと、そこで搬送されるガラス基板21の減速状態を検出する速度センサ41bと、ガラス基板21の先端側が液供給ローラ52の上方位置で停止すべき位置まで搬送されたことを検出する位置検出センサ41cとが配置され、塗着部51には、液供給ローラ52の液切れ状態を検出する液切れセンサ51aと、そこに供給される液貯留槽内の着色レジスト液面を検出する液面センサ51bとが配置され、下流側ワークガイド部61には、そこに搬送されてきたガラス基板21の位置を検出する位置検出センサ61aが配置され、ワーク排出ステージ71には、そこにガラス基板21が搬送されてきたことを検出する位置検出センサ71aと、液切りローラが所定の位置にまで上昇したことを検出する高さ位置検出センサ71bとが配置されている。   First, the work supply stage 31 is provided with a material supply detection sensor 31a for detecting that the glass substrate 21 is supplied thereto, and a material supply position detection sensor 31b for detecting the position of the supplied glass substrate 21. The upstream work guide portion 41 has a height position detection sensor 41a for detecting a height position of the glass substrate 21 conveyed there, and a speed sensor 41b for detecting a deceleration state of the glass substrate 21 conveyed there. And a position detection sensor 41 c that detects that the front end side of the glass substrate 21 has been transported to a position to be stopped at a position above the liquid supply roller 52. A liquid shortage sensor 51a for detecting a liquid shortage state and a liquid level sensor 51b for detecting a color resist liquid level in a liquid storage tank supplied thereto are arranged, and a downstream work gas is detected. A position detecting sensor 61a for detecting the position of the glass substrate 21 conveyed there is disposed in the loading section 61, and a position for detecting that the glass substrate 21 is conveyed there is provided on the work discharge stage 71. A detection sensor 71a and a height position detection sensor 71b that detects that the liquid drain roller has risen to a predetermined position are arranged.

(搬送機構)
本装置の搬送機構を、図19〜図21に加えて、図22及び図23も参照して、説明する。
(Transport mechanism)
The transport mechanism of this apparatus will be described with reference to FIGS. 22 and 23 in addition to FIGS.

図22は搬送機構の上流側からの側面図であり、図23はその水平方向移動手段の正面図である。   FIG. 22 is a side view from the upstream side of the transport mechanism, and FIG. 23 is a front view of the horizontal moving means.

これらの図において、搬送経路11cの両側には、その上流側から下流側に向って2列のガイドレール82a,82bが敷設され、さらに、ガイドレール82aの外側では、支持ユニット82c,82dの間にスクリュー軸82eが橋架されている。このスクリュー軸82eの基端側は、支持ユニット82dを介して減速装置82fに接続されており、さらに、減速装置82fは搬送部駆動モータ82gの出力軸82hに接続されている。ここで、スクリュー軸82e上には、そのねじ部と噛み合って、横搬送駆動を伝達する精密ボールねじを内蔵のスライダ83aを有し、これらによって水平方向移動機構が構成されている。このスライダ83aはガイドレール82a上に跨がるスライダ83bに連結されている。さらに、このスライダ83bと、ガイドレール82b上に跨がるスライダ83cとは、搬送経路11cの上方を横切るように配置された垂直方向移動機構(位置規定手段)の支持板84aによって連結されている。これにより、搬送部駆動モータ82gの出力軸82hの回転駆動により、スクリュー軸82eが回転すると、スライダ83aが水平移動し、これに伴って、スライダ83b,83cも水平移動するようになっている。なお、スクリュー軸82eの先端側において、支持ユニット82cにはスクリュー軸82eの先端周囲を囲むようにラバーシート82iが貼着されている一方、スクリュー軸82eの元端側においても、支持ユニット82dにはスクリュー軸82eの元端周囲を囲むラバーシート82jが取付けされており、スライダ83aが支持ユニット82c,82dに接触するときのショックを緩和している。   In these figures, two rows of guide rails 82a and 82b are laid on both sides of the transport path 11c from the upstream side to the downstream side, and further, outside the guide rail 82a, between the support units 82c and 82d. The screw shaft 82e is bridged. The proximal end of the screw shaft 82e is connected to a speed reducer 82f via a support unit 82d, and the speed reducer 82f is connected to an output shaft 82h of a transport unit drive motor 82g. Here, on the screw shaft 82e, there is provided a slider 83a with a built-in precision ball screw that meshes with the screw portion and transmits the lateral conveyance drive, and these constitute a horizontal movement mechanism. The slider 83a is connected to a slider 83b extending over the guide rail 82a. Further, the slider 83b and the slider 83c straddling on the guide rail 82b are connected by a support plate 84a of a vertical movement mechanism (position defining means) arranged so as to cross over the transport path 11c. . Thus, when the screw shaft 82e is rotated by the rotation drive of the output shaft 82h of the transport unit drive motor 82g, the slider 83a moves horizontally, and accordingly, the sliders 83b and 83c also move horizontally. In addition, on the distal end side of the screw shaft 82e, a rubber sheet 82i is attached to the support unit 82c so as to surround the periphery of the distal end of the screw shaft 82e. A rubber sheet 82j surrounding the original end of the screw shaft 82e is attached, and the shock when the slider 83a comes into contact with the support units 82c and 82d is reduced.

一方、支持板84aの上面側には、3本のエアシリンダ機構84b(垂直方向移動手段)が、それらの出力軸84cの先端側を下方に向けて固定されており、その出力軸84cの先端側には、全方位に対し曲折自在なユニバーサルジョイント85を介して、ガラス基板21より大きなサイズの多孔質焼結体のチャック板86が連結されている。このチャック板86は、その下面が吸着面86a(真空チャック面)となっており、外部から接続された配管を介してチャック板86内部が吸引されることにより吸着面86aでガラス基板21の背面全体を真空チャックする。また、ユニバーサルジョイント85は、出力軸84cの先端側に連結された軸部85aの球形先端部85bと、この球形先端部85bに対応した孔を有する受け座部85cとからなる球形ダンパーである。このため、例えば、ガラス基板21の厚さにばらつきがあって、その上面が傾斜面になっている場合であっても、ユニバーサルジョイント85が曲折することによって、その傾斜面に追従し、チャック板86の吸着面86aがガラス基板21の上面に確実に密着して、これを保持する。また、吸着面86aがガラス基板21を保持した状態で、ガラス基板21を上流側ワークガイド部41のガイドローラ42のローラ面に位置規定するときも、ガラス基板21の被塗着面21aをガイドローラ42のローラ面に隙間なく当接させることができるようになっている。さらに、吸着面86aはガラス基板21の背面全域に吸着して、これを保持しているので、ガラス基板21をローラに位置規定したときに、ガラス基板21の中央側が反ることもない。加えて、チャック板86とガラス基板21とに温度差があっても、全域に接しているため、ガラス基板21の被塗着面21aに温度むらが発生しないので、ガラス基板21全面が同一状態にある。従って、ガラス基板21の被塗着面21aの温度むらに起因する成膜ばらつきが発生しない。なお、支持板84aの前後左右側面のそれぞれには、チャック板86に対するガイド87が先端を下方に向けて固定されており、その途中位置にはガイドローラ87aが設けられ、先端側にもガイドローラ87bが設けられている。さらに、支持板84aの前面には、フォトセンサー機構88が取付けされており、チャック板86との相対位置を検知可能になっている。   On the other hand, on the upper surface side of the support plate 84a, three air cylinder mechanisms 84b (vertical direction moving means) are fixed with their output shafts 84c with their distal ends facing downward. A chuck plate 86 of a porous sintered body having a size larger than that of the glass substrate 21 is connected to the side via a universal joint 85 that can be bent in all directions. The lower surface of the chuck plate 86 is a suction surface 86a (vacuum chuck surface), and the inside of the chuck plate 86 is sucked through a pipe connected from the outside, so that the back surface of the glass substrate 21 is suctioned by the suction surface 86a. Vacuum chuck the whole. The universal joint 85 is a spherical damper including a spherical tip 85b of a shaft 85a connected to the tip of the output shaft 84c, and a receiving seat 85c having a hole corresponding to the spherical tip 85b. Therefore, for example, even when the thickness of the glass substrate 21 varies and the upper surface is inclined, the universal joint 85 follows the inclined surface by bending and the chuck plate The suction surface 86a of the substrate 86 is securely brought into close contact with the upper surface of the glass substrate 21 and is held. Also, when the glass substrate 21 is positioned on the roller surface of the guide roller 42 of the upstream work guide portion 41 in a state where the suction surface 86a holds the glass substrate 21, the coating surface 21a of the glass substrate 21 is guided. The roller 42 can be brought into contact with the roller surface without any gap. Further, since the suction surface 86a is sucked and held on the entire back surface of the glass substrate 21, the center of the glass substrate 21 does not warp when the glass substrate 21 is positioned on the roller. In addition, even if there is a temperature difference between the chuck plate 86 and the glass substrate 21, the entire surface of the glass substrate 21 is kept in the same state because there is no temperature unevenness on the coating surface 21 a of the glass substrate 21 because the entire surface is in contact with the chuck plate 86 It is in. Therefore, there is no variation in film formation due to uneven temperature of the application surface 21a of the glass substrate 21. A guide 87 for the chuck plate 86 is fixed to each of the front, rear, left and right side surfaces of the support plate 84a with the tip directed downward. A guide roller 87a is provided at an intermediate position, and the guide roller 87a is 87b are provided. Further, a photo sensor mechanism 88 is mounted on the front surface of the support plate 84a so that a relative position with respect to the chuck plate 86 can be detected.

(ワーク供給ステージ)
図24にワーク供給ステージ31の平面図を示す。
(Work supply stage)
FIG. 24 shows a plan view of the work supply stage 31. FIG.

ワーク供給ステージ31は成膜装置11の最上流側に配置されており、その支持板31cの上面側には、フレーム32a〜dが設けられている。これらのフレーム32a〜dのうちフレーム32a,32dには、底面側にスプリングを備える取付け孔33a,33b,33cが形成されており、これらの取付け孔33a,33b,33cに、ガラス基板21に対する基準ピン34a,34b,34cが取付けされている。ここで、ガラス基板21は、その2辺が基準ピン34a,34b,34cの内側に位置決めされる状態に、フレーム32a,32b,32dの上に載置され、一点鎖線で示す領域31dがガラス基板21の載置領域になる。   The work supply stage 31 is arranged on the most upstream side of the film forming apparatus 11, and frames 32a to 32d are provided on the upper surface side of the support plate 31c. Of the frames 32a to 32d, the frames 32a, 32d are provided with mounting holes 33a, 33b, 33c each having a spring on the bottom surface side, and these mounting holes 33a, 33b, 33c are provided with a reference to the glass substrate 21. Pins 34a, 34b, 34c are attached. Here, the glass substrate 21 is placed on the frames 32a, 32b, 32d such that two sides thereof are positioned inside the reference pins 34a, 34b, 34c, and an area 31d indicated by a dashed line is the glass substrate. 21 mounting areas.

従って、チャック板86は、ガラス基板21を吸着チャックするときには、基準ピン34a,34b,34cを押し下げるようにして、ガラス基板21に当接する。しかも、支持板31c自身は、石定盤11bの側にばねを介して固定されている。このため、チャック板86がガラス基板21に吸着チャックするときに、ガラス基板21には過大な力が加わることがない。なお、このガラス基板21に比して長さが長い長方形をしたガラス基板の場合には、ガラス基板はフレーム32a〜dに支持されるようになっているので、幅が同等のガラス基板であれば、この部位の調整を必要としない。   Therefore, the chuck plate 86 abuts on the glass substrate 21 so as to push down the reference pins 34a, 34b, 34c when the glass substrate 21 is chucked by suction. Moreover, the support plate 31c itself is fixed to the stone surface plate 11b via a spring. Therefore, when the chuck plate 86 chucks the glass substrate 21 by suction, an excessive force is not applied to the glass substrate 21. In addition, in the case of a rectangular glass substrate having a longer length than the glass substrate 21, the glass substrate is supported by the frames 32a to 32d. No adjustment of this part is required.

(上流側ワークガイド部)
本装置の上流側ワークガイド部を、図19〜図21に加えて、図25〜図27も参照して、説明する。
(Upstream work guide)
The upstream work guide section of the present apparatus will be described with reference to FIGS. 25 to 27 in addition to FIGS. 19 to 21.

図25に上流側ワークガイド部の正面図、図26にその平面断面図、図27にその断面図を示す。   FIG. 25 is a front view of the upstream work guide portion, FIG. 26 is a plan sectional view thereof, and FIG. 27 is a sectional view thereof.

これらの図において、上流側ワークガイド部41には、搬送経路11cの両側にそれぞれ10本のガイドローラ42が2列に配置されている。ここで、これらのガイドローラ42のローラ面42aがガラス基板21の搬送基準面13となるように、2列に配置されたガイドローラ42の配置幅は、ガラス基板21の両端側を支持可能に、すなわち、図27に示すように、ガラス基板21の端縁がローラ面42aの中央に位置するようになっている。このため、ガラス基板21の両端のみが非塗着領域であり、ガラス基板21の略全面を有効に使用できるようになっている。また、ガラス基板21は、ローラ面42aに直接位置規定された状態にあり、被塗着面21aを基準に搬送されるので、例えば、ガラス基板21の背面側(支持面側)等、他の部位を基準にしていないので、ガラス基板21にうねり、厚さむら等があっても、被塗着面21aを常にローラ面42aに追従させることができる。   In these drawings, in the upstream work guide portion 41, ten guide rollers 42 are respectively arranged in two rows on both sides of the transport path 11c. Here, the arrangement width of the guide rollers 42 arranged in two rows is such that both end sides of the glass substrate 21 can be supported such that the roller surfaces 42 a of the guide rollers 42 become the transport reference surface 13 of the glass substrate 21. That is, as shown in FIG. 27, the edge of the glass substrate 21 is located at the center of the roller surface 42a. Therefore, only the both ends of the glass substrate 21 are uncoated areas, and substantially the entire surface of the glass substrate 21 can be used effectively. Further, since the glass substrate 21 is in a state where the position is directly defined on the roller surface 42a and is conveyed with the coating surface 21a as a reference, for example, another glass substrate 21 such as the back side (support surface side) or the like can be used. Since the parts are not used as a reference, the coated surface 21a can always follow the roller surface 42a even if the glass substrate 21 has undulation or uneven thickness.

ここで、両側のガイドローラ42の取付け位置としては、一方列のガイドローラが他方列のガイドローラの間にずれた互い違い配置として、搬送中のガラス基板21の姿勢が変動することを抑制してもよい。これらガイドローラ42は、いずれも回転中心からずれた位置に軸中心が位置する偏芯軸42b(ローラ位置調整機構)を備えており、この偏芯軸42bを上部ガイドローラ支持台43の取付け孔43aに挿入すると共に、偏芯軸42bの取り付け姿勢を変えて止めねじ43bによって固定することによって、ローラ面42aの高さ位置が、ガイドローラ42毎に設定可能になっている。   Here, as the mounting position of the guide rollers 42 on both sides, the guide rollers in one row are staggered between the guide rollers in the other row, so that the attitude of the glass substrate 21 being conveyed is prevented from changing. Is also good. Each of these guide rollers 42 has an eccentric shaft 42b (roller position adjusting mechanism) whose axis is located at a position deviated from the rotation center, and this eccentric shaft 42b is attached to the mounting hole of the upper guide roller support 43. The height position of the roller surface 42a can be set for each guide roller 42 by inserting the eccentric shaft 42b and fixing the eccentric shaft 42b with the set screw 43b while inserting the eccentric shaft 42b.

さらに、上部ガイドローラ支持台43は、ガイドローラ42が固定された支持ブロック43cと、その台座たるスライドブロック43dとを備えており、このスライドブロック43dの下面側には、その長手方向に約2°の勾配をもつ傾斜面43eが形成されている。一方、上部ガイドローラ支持台43の下方には、下部ガイドローラ支持台44が配置されており、この下部ガイドローラ支持台44は、上面側に傾斜面43cに対応して約2°の勾配をもつ傾斜面44aを備えるスライドブロック44bと、これを支持する台座ブロック44cとを有する。このスライドブロック44bの傾斜面44aには、その中央領域に溝44dが形成されており、上部ガイドローラ支持台43において、支持ブロック43cとスライドブロック43dとを下方からボルト43fによって固定したとき、ボルト頭が突出した状態であっても、スライドブロック43dの傾斜面43eとスライドブロック44bの傾斜面44a同士を密接させることができるようになっている。このため、これらの傾斜面43e,44aを利用して、上部ガイドローラ支持台43を下部ガイドローラ支持台44に対してスライドさせることにより、上部ガイドローラ支持台43に固定されている全てのガイドローラ42のローラ面42aの高さ位置を一括して調整することができる。   Further, the upper guide roller support base 43 includes a support block 43c to which the guide roller 42 is fixed, and a slide block 43d serving as a base of the support block 43c. An inclined surface 43e having a gradient of ° is formed. On the other hand, a lower guide roller support 44 is disposed below the upper guide roller support 43, and the lower guide roller support 44 has a slope of about 2 ° on the upper surface side corresponding to the inclined surface 43c. And a pedestal block 44c that supports the slide block 44b. A groove 44d is formed in the center area of the inclined surface 44a of the slide block 44b. When the support block 43c and the slide block 43d are fixed to the upper guide roller support base 43 from below by bolts 43f, Even when the head protrudes, the inclined surface 43e of the slide block 43d and the inclined surface 44a of the slide block 44b can be brought into close contact with each other. Therefore, by sliding the upper guide roller support 43 with respect to the lower guide roller support 44 using these inclined surfaces 43e and 44a, all the guides fixed to the upper guide roller support 43 are moved. The height position of the roller surface 42a of the roller 42 can be adjusted collectively.

本例の成膜装置11においては、上部ガイドローラ支持台43と下部ガイドローラ支持台44とをスライドさせるために、上部ガイドローラ支持台43の両端面側には、ねじ機構を利用した送り出し機構45(支持台調整固定手段)が一対配置されている。この送り出し機構45は、下部ガイドローラ支持台44にボルト45aにより固定された固定用ブロック45bと、この固定用ブロック45bの上側に形成されたねじ孔と細目ねじ機構を形成する送り出し軸45cとで構成されている。この送り出し軸45cの先端部45dは球面形状を呈し、スライドブロック43bには、その先端部45dの形状に対応する受け座43cが固定されている。従って、送り出し機構45を用いて、容易に上部ガイドローラ支持台43の位置を調整して、ガイドローラ42のローラ面42aの位置、すなわち、ガラス基板21の搬送基準面13を設定可能になっている。なお、スライドブロック43dの側面には、スライドブロック43dに形成されたねじ孔を介して、スライドブロック44bに当接することにより、上部ガイドローラ支持台43と下部ガイドローラ支持台44とを固定する固定ねじ機構46が2か所に設けられている。なお、上部ガイドローラ支持台43の固定位置の調整は、一方の固定用ブロック45bに取付けされた小型ダイヤルゲージ47を利用して行われる。   In the film forming apparatus 11 of the present example, in order to slide the upper guide roller support 43 and the lower guide roller support 44, a delivery mechanism using a screw mechanism is provided on both end surfaces of the upper guide roller support 43. 45 (support base adjusting and fixing means) are arranged in a pair. The feeding mechanism 45 includes a fixing block 45b fixed to the lower guide roller support base 44 by bolts 45a, and a screw shaft formed on the upper side of the fixing block 45b and a feeding shaft 45c forming a fine screw mechanism. It is configured. The tip 45d of the delivery shaft 45c has a spherical shape, and a receiving seat 43c corresponding to the shape of the tip 45d is fixed to the slide block 43b. Therefore, it is possible to easily adjust the position of the upper guide roller support base 43 by using the feeding mechanism 45 and set the position of the roller surface 42a of the guide roller 42, that is, the transfer reference surface 13 of the glass substrate 21. I have. Note that the side surface of the slide block 43d is fixed to the upper guide roller support base 43 and the lower guide roller support base 44 by being in contact with the slide block 44b through a screw hole formed in the slide block 43d. The screw mechanism 46 is provided at two places. The adjustment of the fixed position of the upper guide roller support 43 is performed using a small dial gauge 47 attached to one fixing block 45b.

(塗着部)
図28に塗着部51の構成図を示す。
(Coating part)
FIG. 28 shows a configuration diagram of the coating section 51.

この図において、ガラス基板21の搬送経路の上流側から下流側に向かって、いずれもステンレス製のドクタースキージ53、ドクターローラ54、液供給ローラ52および液供給ローラ52の装着液除去手段としてのスキージ520が配列されている。ここで、液供給ローラ52は、図28に向かって時計回りに回転しており、下方の一点鎖線で示す位置に液貯留槽91が配置された状態で、液供給ローラ52のローラ面52aが着色レジストに浸漬したまま回転することにより、着色レジストを上方に向けて掻き上げするようになっている。   In this figure, a doctor squeegee 53, a doctor roller 54, a liquid supply roller 52, and a squeegee as a mounting liquid removing means for the liquid supply roller 52 are formed from the upstream side to the downstream side of the transport path of the glass substrate 21. 520 are arranged. Here, the liquid supply roller 52 is rotating clockwise toward FIG. 28, and the roller surface 52a of the liquid supply roller 52 is positioned in a state where the liquid storage tank 91 is disposed at a position indicated by a dashed line below. By rotating while being immersed in the colored resist, the colored resist is scraped upward.

また、液供給ローラ52の側方位置では、ドクターローラ54が同方向に回転しており、そのローラ面54aは液供給ローラ52のローラ面52aと所定の離間距離d12を隔てている。このため、液供給ローラ52によって掻き上げされた着色レジストのうちの一部が、ローラ面52a側から取り除かれて、ローラ面54a側に移動し、離間距離d12に対応する量の着色レジストのみが上方に向けて略定量供給されるようになっている。 Further, the lateral position of the liquid supply roller 52, the doctor roller 54 is rotating in the same direction, the roller surface 54a is at a roller surface 52a and predetermined separation distance d 12 of the liquid supply roller 52. Therefore, some of the raised been colored resist off by the liquid supply roller 52, is removed from the roller surface 52a side, move to the roller surface 54a side, only colored resist the amount corresponding to the distance d 12 Is supplied in a substantially constant upward direction.

さらに、ドクターローラ54の側方位置には、ドクタースキージ53が近接配置されており、ローラ面54aの側に移動してきた着色レジストは、そこから掻き取りされて、液貯留槽91内部に落下するようになっている。ここで、ドクタースキージ53の先端部53aは、ドクターローラ54のローラ面54aと所定の離間距離d13を隔てているため、掻き取りされる着色レジストはローラ面54aに付着していた量の一部であるが、ローラ面54aに付着したまま上方へ供給される着色レジスト量は、離間距離d13によって規定され、略定量化されているので、全体として液供給ローラ52の上方に供給される着色レジスト量は略定量化されている。ここで、ドクタースキージ53の先端部53aとローラ面54aとを接触状態に配置して、ローラ面54aから全量の着色レジストを掻き取りする方法もあるが、接触状態で相対移動させると、移動動作及び磨耗等により接触状態が変化して、着色レジストの供給量が変化してしまうので、この配置構造を採用している。なお、ドクタースキージ53の背面側に示されているのが、上流側ワークガイド部41の最終端側のガイドローラ42であり、液供給ローラ52の下流側に示されているのが、下流側ワークガイド部61のガイドローラ62であり、上流側ワークガイド部41から搬送されてくるガラス基板21は、その被塗着面21aがガイドローラ42のローラ面42aに位置規定された状態で、塗着部51を通過して、ガイドローラ62の側へ移動していく。ここで、いずれのガイドローラ42,62も塗着部51に接近配置されているので、ガラス基板21の搬送姿勢が変わることを抑制している。また、ガイドローラ42及びガイドローラ62のローラ面の高さ位置は、これらのローラ面によって形成されるガラス基板21の搬送基準面13が、液供給ローラ52のローラ面52aと所定の間隔d11、すなわち、後述するように、着色レジストの液溜まり層をガラス基板21と液供給ローラ52のローラ面52aとの間に形成可能な間隔d11をもつように設定されている。 Further, a doctor squeegee 53 is disposed in the vicinity of the doctor roller 54, and the colored resist that has moved toward the roller surface 54a is scraped off from the resist and falls into the liquid storage tank 91. It has become. Here, the tip portion 53a of the doctor squeegee 53, since separating the roller surface 54a and predetermined separation distance d 13 of the doctor roller 54, the colored resists scraping amount adhering to the roller surface 54a one is a part, colored resist amount supplied upwardly remain attached to the roller surface 54a is defined by a distance d 13, since they are substantially quantified, is supplied above the liquid feed roller 52 as a whole The amount of the colored resist is substantially quantified. Here, there is a method in which the distal end portion 53a of the doctor squeegee 53 and the roller surface 54a are arranged in contact with each other, and the entire amount of the colored resist is scraped off from the roller surface 54a. In addition, the contact state changes due to wear and the like, and the supply amount of the colored resist changes, so this arrangement is adopted. The rear side of the doctor squeegee 53 is the guide roller 42 at the final end of the upstream work guide section 41, and the downstream side of the liquid supply roller 52 is the downstream side. The glass substrate 21, which is a guide roller 62 of the work guide portion 61 and is conveyed from the upstream work guide portion 41, is coated with the coating surface 21 a positioned on the roller surface 42 a of the guide roller 42. After passing through the attachment portion 51, it moves toward the guide roller 62. Here, since both of the guide rollers 42 and 62 are arranged close to the coating section 51, the change of the conveyance posture of the glass substrate 21 is suppressed. Further, the height position of the roller surfaces of the guide roller 42 and the guide roller 62 is such that the transfer reference surface 13 of the glass substrate 21 formed by these roller surfaces is separated from the roller surface 52a of the liquid supply roller 52 by a predetermined distance d 11. , i.e., as described later, the liquid reservoir layer of colored resist is set to have a distance d 11 that can be formed between the roller surface 52a of the glass substrate 21 and the liquid supply roller 52.

次に、ドクタースキージ53の構造を、図28に加えて図29A,29Bも参照して、説明する。   Next, the structure of the doctor squeegee 53 will be described with reference to FIGS. 29A and 29B in addition to FIG.

図29Aはドクタースキージ53の平面図であり、図29Bはドクターローラ54に対するドクタースキージ53の配置位置を示す平面図である。   FIG. 29A is a plan view of the doctor squeegee 53, and FIG. 29B is a plan view showing an arrangement position of the doctor squeegee 53 with respect to the doctor roller 54.

これらの図において、ドクタースキージ53は、ドクターローラ54の幅と略同幅の先端部53aと、この先端部53aが連結され、途中位置より幅が狭まっている支持片53bと、この支持片53bがねじ止めされて固定され、その狭い側の幅と略同幅の支持片53cとで構成され、この支持片53cがドクタースキージ53の石定盤11b側への固定部になっている。このように、ドクタースキージ53の基端側の幅が狭くなっており、この幅が狭い基端側の両側に上流側ワークガイド41の終端側のガイドローラ42を配置して、ガイドローラ42から下流側ワークガイド61に向けて、ガラス基板21の姿勢を変動させることなく、これを受渡し可能な構造にしている。ここで、先端部53aは先端縁に向けて薄くなるように上面が傾斜面になっており、また、支持片53cは、その先端側が先端縁に向けて薄くなるように下面が傾斜面になっている。これらの先端縁のうち先端部53aの先端縁が、支持片53cの先端縁からせりだすように固定されている。   In these figures, the doctor squeegee 53 includes a tip 53a having substantially the same width as the width of the doctor roller 54, a support piece 53b to which the tip 53a is connected, and a width narrower than an intermediate position, and a support piece 53b. Is fixed by screwing, and is constituted by a support piece 53c having substantially the same width as the narrow side thereof. The support piece 53c is a fixing portion of the doctor squeegee 53 to the stone surface plate 11b side. As described above, the width of the base end side of the doctor squeegee 53 is narrow, and the guide roller 42 on the end side of the upstream work guide 41 is arranged on both sides of the narrow base end side. The glass substrate 21 can be transferred to the downstream work guide 61 without changing the attitude of the glass substrate 21. Here, the upper surface of the distal end portion 53a is inclined so as to become thinner toward the distal end edge, and the lower surface of the support piece 53c is inclined so that the distal end side becomes thinner toward the distal end edge. ing. Of these leading edges, the leading edge of the leading portion 53a is fixed so as to protrude from the leading edge of the support piece 53c.

かかる構成のドクタースキージ53は、図28に示すように、支持片53cがねじ止めされた固定片55を介して、石定盤11aの側から立ち上げされた支持材11c,11dに固定されている。この固定片55には、丸穴55aと位置調整用の長穴55bとが形成されており、この丸穴55aに取付けされた固定軸55cと、長穴55bに取付けされた固定軸55dとによって支持材11dに固定されており、固定軸55dを回転中心として、長穴55bに対する固定軸55cの固定位置を調整することによって、ドクタースキージ53の取付け姿勢を変えて、その先端部53aとドクターローラ54のローラ面54aとの離間距離d13を調節することが可能になっている。 As shown in FIG. 28, the doctor squeegee 53 having such a configuration is fixed to support members 11c and 11d raised from the side of the stone platen 11a via a fixing piece 55 to which the support piece 53c is screwed. I have. The fixing piece 55 is formed with a round hole 55a and a long hole 55b for position adjustment, and a fixed shaft 55c attached to the round hole 55a and a fixed shaft 55d attached to the long hole 55b. The mounting position of the doctor squeegee 53 is changed by adjusting the fixed position of the fixed shaft 55c with respect to the long hole 55b with the fixed shaft 55d as the center of rotation and fixed to the support member 11d. it becomes possible to adjust the distance d 13 between the roller surface 54a of 54.

なお、ドクタースキージの構造としては、図30A,30Bに示す構造のものを採用してもよい。   The structure of the doctor squeegee may be the structure shown in FIGS. 30A and 30B.

図30Aは別のドクタースキージの構造を示す平面図、図30Bはこのドクタースキージを配置した場合の側面図である。   FIG. 30A is a plan view showing the structure of another doctor squeegee, and FIG. 30B is a side view when this doctor squeegee is arranged.

これらの図に示すように、ドクタースキージ56は、その先端側が平板部片56aになっており、この平板部片56aの先端面がドクターローラ54のローラ面に対し所定の離間距離d13をもって対向するようになっている。これにより、掻き取りした着色レジストを、確実に落下させることができる。このドクタースキージ56の位置調整機構は、ドクタースキージ56の基端側56bに設けられた長穴56cと、この長穴56cに取付けされた締結ボルト57と、ドクタースキージ56の後端にヘッド58aが当接するマイクロメータ58と、このマイクロメータ58を支持する支持部片59a及びドクタースキージ56を支持する支持部片59bの間に配置されたスプリング59cとによって構成されている。かかる構成のドクタースキージを採用すると、ドクタースキージ56とドクターローラ54との離間距離の設定にマイクロメータ58を利用しているので、調整が容易である。さらに、ドクタースキージ56とドクターローラ54とを、相対的に反復横移動させるとドクターローラ54のローラ面上の着色レジストに縞などの厚さむらの発生を防止することもできる。この機構は、後述するドクターローラ54と液供給ローラ52との関係に対しても応用できる。 As shown in these figures, the doctor squeegee 56 is adapted that the tip side of the flat plate piece 56a, the distal end surface of the flat plate piece 56a is at a predetermined distance d 13 to the roller surface of the doctor roller 54 facing It is supposed to. As a result, the scraped colored resist can be reliably dropped. The position adjusting mechanism of the doctor squeegee 56 includes a long hole 56c provided at a base end 56b of the doctor squeegee 56, a fastening bolt 57 attached to the long hole 56c, and a head 58a at the rear end of the doctor squeegee 56. It is constituted by a micrometer 58 in contact with it, and a spring 59c disposed between a support piece 59a supporting the micrometer 58 and a support piece 59b supporting the doctor squeegee 56. When a doctor squeegee having such a configuration is employed, the adjustment is easy because the micrometer 58 is used to set the separation distance between the doctor squeegee 56 and the doctor roller 54. Further, when the doctor squeegee 56 and the doctor roller 54 are relatively and laterally moved repeatedly, it is possible to prevent the colored resist on the roller surface of the doctor roller 54 from having uneven thickness such as stripes. This mechanism can be applied to the relationship between the doctor roller 54 and the liquid supply roller 52 described later.

次に、ドクターローラ54の構造を、図31及び図32を参照して、説明する。   Next, the structure of the doctor roller 54 will be described with reference to FIGS.

図31はドクターローラ54、液供給ローラ52及びそれらの駆動系の平面図、図32はそれらの上流側からの側面図である。   FIG. 31 is a plan view of the doctor roller 54, the liquid supply roller 52, and a drive system thereof, and FIG. 32 is a side view of them from the upstream side.

これらの図において、ドクターローラ54は、ガラス基板21と略同幅の平滑面を有するローラ面54aを有し、その両軸端はガラス基板21の搬送経路11cの両側に配置されたフレーム11e,11f上に固定された軸受54b,54cに支持され、一方の軸端の先端側に固着されたプーリ54dは、回転タイミングベルト54eを介してドクターローラ駆動系14に接続されている。このドクターローラ駆動系14は、駆動モータ14aの出力軸14bに固着されたプーリ14cに回転タイミングベルト54eが接続された構成を有している。なお、ドクターローラ54の固定位置の調整は、ドクターローラ54の軸端にヘッドが当接するマイクロメータ54fを利用して行われる。   In these figures, the doctor roller 54 has a roller surface 54 a having a smooth surface having substantially the same width as the glass substrate 21, and both shaft ends thereof are provided with frames 11 e, which are arranged on both sides of the transport path 11 c of the glass substrate 21. A pulley 54d supported by bearings 54b and 54c fixed on 11f and fixed to the tip end of one shaft end is connected to the doctor roller drive system 14 via a rotation timing belt 54e. The doctor roller drive system 14 has a configuration in which a rotation timing belt 54e is connected to a pulley 14c fixed to an output shaft 14b of a drive motor 14a. The adjustment of the fixed position of the doctor roller 54 is performed using a micrometer 54f in which the head comes into contact with the shaft end of the doctor roller 54.

次に、液供給ローラ52の構造も、図31及び図32を参照して、説明する。   Next, the structure of the liquid supply roller 52 will be described with reference to FIGS.

これらの図において、液供給ローラ52のローラ面52aは、ガラス基板21と略同幅のローラ面52aを有し、その表面は平滑面になっている。その両軸端は、軸受54b,54cより外側位置でフレーム11e,11f上に固定された軸受52b,52cに支持され、一方の軸端に先端側が連結器52dを介して液供給ローラ駆動系15に接続されている。この液供給ローラ駆動系15は、駆動モータ15aの出力軸15bが連結器52dに連結された構成を有している。ここで、液供給ローラ52の幅は、ガラス基板21の幅に比して狭いため、塗着領域の外縁領域(マージナルゾーン)に過剰な塗着液が付着しないので、塗着面全体を利用でき、材料効率がよい。   In these drawings, the roller surface 52a of the liquid supply roller 52 has a roller surface 52a having substantially the same width as the glass substrate 21, and the surface thereof is a smooth surface. The two shaft ends are supported by bearings 52b and 52c fixed on the frames 11e and 11f at positions outside the bearings 54b and 54c, and one shaft end has a tip end connected to the liquid supply roller drive system 15 via a coupler 52d. It is connected to the. The liquid supply roller drive system 15 has a configuration in which an output shaft 15b of a drive motor 15a is connected to a connector 52d. Here, since the width of the liquid supply roller 52 is narrower than the width of the glass substrate 21, excessive coating liquid does not adhere to the outer edge area (marginal zone) of the coating area. Yes, material efficiency is good.

次に、液供給ローラ52の表面の着色レジストを除去するためのスキージ520について説明する。   Next, the squeegee 520 for removing the colored resist on the surface of the liquid supply roller 52 will be described.

スキージ520は、図28に示すように、塗着部51の下流側に配置され、その先端520aが液供給ローラ52のローラ面52aに接触する状態で設けられている。スキージ520の構成およびその支持手段は、前記ドクタースキージ53の場合と基本的には同じであるため、その詳細な説明を省略する。すなわち、スキージ520は、図29Aに示すドクタースキージ53と同様のものを用いることができ、また、スキージ520の支持構造としては、図28に示す構造と同様のものを用いることができる。   As shown in FIG. 28, the squeegee 520 is disposed on the downstream side of the coating unit 51, and is provided with its tip 520 a in contact with the roller surface 52 a of the liquid supply roller 52. The configuration of the squeegee 520 and the support means thereof are basically the same as those of the doctor squeegee 53, and thus a detailed description thereof will be omitted. That is, the squeegee 520 can be the same as the doctor squeegee 53 shown in FIG. 29A, and the squeegee 520 can be supported by the same structure as that shown in FIG.

このように、塗着部51の下流側において、液供給ローラ52のローラ面52aにスキージ520を接触させて設けることにより、液供給ローラ52の表面52aに付着したレジストを液貯留槽91の上流側で除去することができる。その結果、液貯留槽91内の着色レジストに浸漬される直前のローラ面52aの状態を常に均一にすることができる。なお、スキージ520による塗着液の除去操作によっても、供給ローラ52のローラ面52a上の着色レジストを完全に除去することは不可能であるが、ここで重要なことは液貯留槽91内に浸漬される液供給ローラ52の表面状態を均一にしておくことである。このように液供給ローラ52の表面を均一にしておくことにより、液貯留槽91内を通過して新たな塗膜を形成する際に、前回のサイクルによって形成された塗膜の影響をほとんど受けないために、ドクターローラ54によって正確に制御された膜厚の塗層をガラス基板21の搬送経路に向けて供給することができる。   As described above, by providing the squeegee 520 in contact with the roller surface 52a of the liquid supply roller 52 on the downstream side of the coating unit 51, the resist adhering to the surface 52a of the liquid supply roller 52 can be removed upstream of the liquid storage tank 91. Can be removed on the side. As a result, the state of the roller surface 52a immediately before being immersed in the colored resist in the liquid storage tank 91 can always be made uniform. It is impossible to completely remove the colored resist on the roller surface 52 a of the supply roller 52 by the operation of removing the coating liquid by the squeegee 520. The purpose is to keep the surface state of the liquid supply roller 52 to be immersed uniform. By making the surface of the liquid supply roller 52 uniform as described above, when a new coating film is formed by passing through the liquid storage tank 91, the coating film formed by the previous cycle is almost unaffected. As a result, the coating layer having a film thickness accurately controlled by the doctor roller 54 can be supplied toward the transport path of the glass substrate 21.

このスキージ520を構成する材質としては、例えばステンレスおよびポリスチレンを好適に用いることができる。ステンレスとしては、例えばSUS304を好ましく用いることができる。前記液供給ローラ52は、通常ステンレスによって形成されているため、スキージ520をステンレスで形成した場合には、両者の接触性が良好であって、液供給ローラ52の表面の着色レジストを確実に除去することができる。しかし、例えば50時間以上の長時間に亘ってステンレス製スキージを使用していると、液供給ローラの表面を傷付けることがある。この傷は微小なものであるが、ガラス基板上に形成された塗膜を観察すると、ガラス基板の搬送方向に平行な筋状の膜厚むらが現れることが判った。この塗膜の膜厚差は数百オングストローム程度であるが、色によっては透過光で確認できるものである。   As a material constituting the squeegee 520, for example, stainless steel and polystyrene can be suitably used. As stainless steel, for example, SUS304 can be preferably used. Since the liquid supply roller 52 is usually formed of stainless steel, when the squeegee 520 is formed of stainless steel, the contact between them is good and the colored resist on the surface of the liquid supply roller 52 is reliably removed. can do. However, if a stainless steel squeegee is used for a long time of, for example, 50 hours or more, the surface of the liquid supply roller may be damaged. Although the scratches are minute, observation of the coating film formed on the glass substrate revealed that streaky film thickness unevenness parallel to the transport direction of the glass substrate appeared. The difference in thickness of this coating film is about several hundred angstroms, but depending on the color, it can be confirmed by transmitted light.

このような問題を解消するためには、スキージ520の材質としてステンレスより硬度の小さいポリスチレンを用いることが好ましい。ポリスチレンは、ステンレスよりも柔らかいために液供給ローラ52に対する接触性がより良好であり、長時間の使用にも耐え得るものであった。しかし、ポリスチレンを用いたスキージにおいては、衝撃等によってその一部が欠けやすく、例えば液供給ローラに巻き込まれたガラスの微小片によって刃先が欠けてしまうことがある。このような、ステンレス製スキージ或いはポリスチレンスキージの有する問題を低減するためには、頻繁に部品交換することが望ましい。   In order to solve such a problem, it is preferable to use polystyrene having a lower hardness than stainless steel as a material of the squeegee 520. Since polystyrene is softer than stainless steel, it has better contact with the liquid supply roller 52 and can withstand long-time use. However, in a squeegee using polystyrene, a part of the squeegee is easily chipped due to an impact or the like, and for example, the blade tip may be chipped by a small piece of glass caught in the liquid supply roller. In order to reduce such problems of the stainless steel squeegee or the polystyrene squeegee, it is desirable to frequently replace parts.

なお、スキージ520を用いた場合には、以下にのべるような不都合が生ずる。すなわち、図35に示すように、スキージ520によって掻きとられた着色レジストR1は液供給ローラ52のローラ面52aとスキージ520とによって形成される空間に滞留し、液供給ローラ52の端部から下の液貯留槽91に落下する。このとき、滞留した着色レジストR1は、液供給ローラ52の中央部と端部とではその滞留量がことなる。そのため、厳密にいえば、液供給ローラ52の表面に残留したレジストの膜厚が部分的にことなり、これが次サイクルの塗着工程におけるレジストの転写量の違いとなって現れる。その結果、ガラス基板におけるレジスト塗布部分の両端部が中央部より膜厚が大きくなってしまうという問題を生ずる。この膜厚差は大変微小なものであるが、極めて薄い塗膜を作る際には膜厚の均一性を損なうことがある。   When the squeegee 520 is used, the following inconveniences occur. That is, as shown in FIG. 35, the colored resist R1 scraped off by the squeegee 520 stays in the space formed by the roller surface 52a of the liquid supply roller 52 and the squeegee 520, and extends downward from the end of the liquid supply roller 52. Falls into the liquid storage tank 91. At this time, the amount of the retained colored resist R1 differs between the central portion and the end portion of the liquid supply roller 52. Therefore, strictly speaking, the thickness of the resist remaining on the surface of the liquid supply roller 52 partially varies, and this appears as a difference in the amount of transfer of the resist in the coating process in the next cycle. As a result, there arises a problem that both ends of the resist-coated portion of the glass substrate become thicker than the central portion. Although this difference in film thickness is very small, the uniformity of film thickness may be impaired when an extremely thin coating film is formed.

次に、上述したスキージ520の問題点を解消した塗着液除去手段の他の構成例について説明する。   Next, another configuration example of the coating liquid removing unit that solves the problem of the squeegee 520 described above will be described.

図36は塗着液除去手段の他の構成例である除去ローラ530の配置状態を示し、図37は前記除去ローラ530の要部を部分的に示す平面図である。   FIG. 36 shows an arrangement state of a removing roller 530 as another configuration example of the coating liquid removing means, and FIG. 37 is a plan view partially showing a main part of the removing roller 530.

除去ローラ530は、図38にも示すように、例えばステンレスSUS304から形成されるシャフト532と、このシャフト532の外側に巻き付けられた被覆層534とから構成されている。被覆層534を構成する材料としては、液供給ローラ52との長時間の接触にも耐え得る十分な耐摩耗性並びに着色レジストの溶媒に対する耐性のあることが必要である。着色レジストの溶媒としては、MNP、IPA、エチルアルコール、メチルアルコール、γ−ブチロラクトン、ECA、シクロヘキサノン、キシレン、酢酸ブチルなどの有機系溶剤、或いは水、酢酸、水酸化カリウム、アミノシランなどの水系溶剤が知られている。これらの有機溶剤や、酸,アルカリにも十分な耐性があるものを選択するために様々な材質について試験を行った結果、被覆層534を構成する材料としては、シリコンゴム、ニトリルゴムおよびフッ素ゴムが良好であることが判った。   As shown in FIG. 38, the removing roller 530 includes a shaft 532 formed of, for example, stainless steel SUS304, and a coating layer 534 wound around the outside of the shaft 532. The material forming the coating layer 534 needs to have sufficient abrasion resistance to withstand long-term contact with the liquid supply roller 52 and resistance to the solvent of the colored resist. Examples of the solvent for the colored resist include organic solvents such as MNP, IPA, ethyl alcohol, methyl alcohol, γ-butyrolactone, ECA, cyclohexanone, xylene, and butyl acetate, or aqueous solvents such as water, acetic acid, potassium hydroxide, and aminosilane. Are known. As a result of conducting tests on various materials in order to select those having sufficient resistance to these organic solvents, acids and alkalis, silicone rubber, nitrile rubber and fluorine rubber were used as materials for forming the coating layer 534. Was found to be good.

また、除去ローラ530の両端には、図37に示すように、液供給ローラ52の端部に接する状態で液溜め調整部540(一方のみ図示する)が設けられている。この液溜め調整部540は、図39A,図39Bにも示すように、シャフト532を挿通する挿入穴544を有する装着部542と、この装着部542の側方に延設され除去ローラ530の端面に当接可能な液受部546とを有している。液受部546には、液供給ローラ52と除去ローラ530との間に溜まった着色レジストR2を受ける溝部548が設けられている。この溝部548には、上面においては供給ローラ52側に向けて幅が広く形成された着色レジストの受部548aが形成されている。この受部548aには所定量の着色レジストが溜まるように設計されている。また、前記装着部542には、液溜め調整部540を固定するためのネジの連結部550が設けられている。   Also, at both ends of the removing roller 530, as shown in FIG. 37, a liquid reservoir adjusting unit 540 (only one is shown) is provided in contact with the end of the liquid supply roller 52. As shown in FIGS. 39A and 39B, the liquid reservoir adjusting portion 540 includes a mounting portion 542 having an insertion hole 544 through which the shaft 532 is inserted, and an end surface of the removing roller 530 extended to the side of the mounting portion 542. And a liquid receiving portion 546 that can be brought into contact therewith. The liquid receiving portion 546 is provided with a groove 548 for receiving the colored resist R2 accumulated between the liquid supply roller 52 and the removing roller 530. On the upper surface of the groove 548, a receiving portion 548a of the colored resist is formed which is wider toward the supply roller 52 side. The receiving portion 548a is designed so that a predetermined amount of the colored resist is accumulated. The mounting portion 542 is provided with a screw connection portion 550 for fixing the liquid reservoir adjustment portion 540.

このような液溜め調整部540を設けることにより、図37に示すように、液供給ローラ52のローラ面52aと、除去ローラ530とによって形成される空間内に滞留する着色レジスト量を液供給ローラ52の幅方向に沿って均一にすることができるため、液供給ローラ52のローラ面52aを均一な状態にすることができる。   By providing such a liquid reservoir adjusting unit 540, as shown in FIG. 37, the amount of the colored resist remaining in the space formed by the roller surface 52a of the liquid supply roller 52 and the removal roller 530 can be reduced by the liquid supply roller. Since the liquid supply roller 52 can be made uniform along the width direction thereof, the roller surface 52a of the liquid supply roller 52 can be made uniform.

液溜め調整部540の材質としては、成形が容易であること、液供給ローラ52との摩擦によってこれを損傷しないこと、耐溶剤性があること、およびごみの発生が少ないことなどの条件を考慮すると、超高分子量ポリエチレン或いはテフロン樹脂などが好ましく用いられる。   The material of the liquid reservoir adjusting section 540 is considered in consideration of conditions such as easy molding, not to be damaged by friction with the liquid supply roller 52, solvent resistance, and low generation of dust. Then, ultrahigh molecular weight polyethylene or Teflon resin is preferably used.

前記除去ローラ530は、図40に示すように、前記液供給ローラ52およびドクターローラ54と同様にその両軸端は軸受け530b,530cによって支持され、図示しないモータによって回転駆動されうる。そして、除去ローラ530は液供給ローラ52に対して所定の押圧力で接するように配置されている。除去ローラ530を液供給ローラ52に圧接することにより、両者の接触面積が増大し、液供給ローラ52のローラ面52a上の着色レジストをむらなく掻き取ることができる。   As shown in FIG. 40, both ends of the removal roller 530 are supported by bearings 530b and 530c, similarly to the liquid supply roller 52 and the doctor roller 54, and can be rotated by a motor (not shown). The removal roller 530 is arranged so as to contact the liquid supply roller 52 with a predetermined pressing force. By pressing the removal roller 530 against the liquid supply roller 52, the contact area between the two increases, and the colored resist on the roller surface 52a of the liquid supply roller 52 can be scraped off evenly.

この場合、除去ローラ530は、液供給ローラ52に対してどの部分においても均一の力で押し付けられることが重要である。   In this case, it is important that the removing roller 530 is pressed against the liquid supply roller 52 with a uniform force at any part.

また、図36に示すように、ドクターローラ54および除去ローラ530には、それぞれクリーニングロール560および550を設けることが好ましい。このようなクリーニングロール560,550を設けることにより、ドクターローラ54並びに除去ローラ530上のレジストを均一に掻き取る事ができ、液供給ローラ52のローラ面52a1上の塗膜の均一性をさらに高めることができる。   Further, as shown in FIG. 36, it is preferable to provide cleaning rollers 560 and 550 on the doctor roller 54 and the removing roller 530, respectively. By providing such cleaning rolls 560 and 550, the resist on the doctor roller 54 and the removal roller 530 can be scraped uniformly, and the uniformity of the coating film on the roller surface 52a1 of the liquid supply roller 52 can be further improved. be able to.

さらに、液供給ローラ52側の塗着液除去手段としては、ガラス板などの平板部材を用いることもできる。このような平板部材およびその支持構造は、図30Aおよび図30Bに示すドクタースキージ56およびその位置調整機構を採用することができる。ガラス製の平板部材は、例えばレジストの溶媒がゴムを腐蝕するような有機溶剤である場合に好適である。また、平板部材はガラス基板21と同じ材質のものを用いるとよい。   Further, as the coating liquid removing means on the liquid supply roller 52 side, a flat plate member such as a glass plate can be used. Such a flat plate member and its supporting structure can employ the doctor squeegee 56 and its position adjusting mechanism shown in FIGS. 30A and 30B. The glass plate member is suitable, for example, when the solvent of the resist is an organic solvent that corrodes rubber. Further, the flat plate member is preferably made of the same material as the glass substrate 21.

(下流側ワークガイド部)
下流側ワークガイド部61は、図19及び図20に示すように、塗着部51の下流側に配置されており、搬送経路11cの両側にそれぞれ配列されたガイドローラ62と、これらのガイドローラ62のローラ面が所定の高さに設定可能な高さ位置調整機構、すなわち、ガイドローラ62の偏芯軸を利用したガイドローラ62個々に対する高さ調整機構、及びこれらのガイドローラ支持台63を利用したガイドローラ62に対する一括高さ調整機構とを有している。ここで、ガイドローラ62及び支持台63等、下流ワークガイド61の主要部は、図25〜図27に示した上流側ワークガイド部41と同様の構成になっているので、その説明を省略する。
(Downstream work guide)
As shown in FIGS. 19 and 20, the downstream work guide portion 61 is disposed downstream of the coating portion 51, and includes guide rollers 62 arranged on both sides of the transport path 11c. A height position adjusting mechanism in which the roller surface of the guide roller 62 can be set to a predetermined height, that is, a height adjusting mechanism for each guide roller 62 using an eccentric shaft of the guide roller 62, and a guide roller support 63 for these guide rollers. And a collective height adjustment mechanism for the used guide roller 62. Here, the main parts of the downstream work guide 61, such as the guide roller 62 and the support 63, have the same configuration as the upstream work guide part 41 shown in FIGS. .

(ワーク排出部)
図19及び図20に示すように、本例の成膜装置11においては、ワーク排出部71は、ガラス基板21の搬送経路の最下流側に配置されており、ここから、成膜処理されたガラス基板21が排出機構によって、成膜装置11から次の工程へ排出される。ここで、成膜装置11から排出される直前に、ガラス基板21の先端側または後端側に当接して、そこに付着した過剰な着色レジストを除去する液切り機構72が配置されている。この液切り機構の構成を図41及び図42に示す。なお、排出機構については、公知の機構を利用できるので、その図示及び説明は省略する。
(Work discharge section)
As shown in FIGS. 19 and 20, in the film forming apparatus 11 of the present example, the work discharge unit 71 is disposed at the most downstream side of the transport path of the glass substrate 21, and the film forming process is performed from here. The glass substrate 21 is discharged from the film forming apparatus 11 to the next step by the discharging mechanism. Here, immediately before the glass substrate 21 is discharged from the film forming apparatus 11, there is provided a liquid draining mechanism 72 which comes into contact with the front end side or the rear end side of the glass substrate 21 and removes excess colored resist adhering thereto. FIGS. 41 and 42 show the configuration of this liquid draining mechanism. Since a known mechanism can be used for the discharging mechanism, its illustration and description are omitted.

図41は液切り機構の正面図、図42はその側面図である。   FIG. 41 is a front view of the liquid draining mechanism, and FIG. 42 is a side view thereof.

これらの図において、液切り機構72は、石定盤11b側に固定されたシリンダ機構72a(液切り部材移動手段)と、その先端側に固定されている支持板72bと、この支持板72bの両端から上方に向けて立ち上げされたローラ受け板72c,72dと、これらのローラ受け板72c,72dによって軸端が支持されている液切りローラ73(液切り部材)とを有している。ここで、一方のローラ受け板72dの途中位置と、支持板72bの途中位置から立ち上げされた支持片72eとには、それぞれ軸受74a,74bが取り付けされており、これらの軸受74a,74bによって伝達軸74cが支持されている。この伝達軸74cの軸端には、段差プーリ74dが固着されており、図42に示すように、この段差プーリ74dの一方の段差面と、液切りローラ73の軸端に固着されたプーリ73bとの間には回転タイミングベルト73cが張設されている一方、段差プーリ74dの他方の段差面と、液切りローラ駆動モータ75の出力軸75aに固着されたプーリ75bとの間にも回転タイミングベルト75cが張設されており、液切りローラ73のローラ面73aは回転しながらガラス基板21の後端側、及び必要に応じて先端側に接触可能になっている。さらに、この液切りローラ73のローラ面73aに対しては、図43に示すドクタースキージ76が配置され、液切りローラ73のローラ面73aに付着した着色レジストを除去可能になっている。なお、このドクタースキージ76も、図29A及び図29Bに示したドクタースキージ53と同様に、液切りローラ73のローラ面に対応した幅を有する先端部76aと、その幅より狭い幅の基端側たる固定部76bとを有し、この固定部76bを介して、液切りローラ73と先端部76aとの間が所定の離間距離に調整されて、固定される。なお、ドクタースキージ76に代えて、またはドクタースキージ76に加えて、吸着パッドなどのクリーニングパッドを設けてもよい。   In these figures, the liquid draining mechanism 72 includes a cylinder mechanism 72a (liquid draining member moving means) fixed to the stone surface plate 11b side, a support plate 72b fixed to the distal end side, and a support plate 72b. It has roller receiving plates 72c and 72d raised upward from both ends, and a liquid draining roller 73 (liquid draining member) whose shaft end is supported by these roller receiving plates 72c and 72d. Here, bearings 74a and 74b are attached to the intermediate position of one roller receiving plate 72d and the support piece 72e raised from the intermediate position of the support plate 72b, respectively. The transmission shaft 74c is supported. A step pulley 74d is fixed to the shaft end of the transmission shaft 74c. As shown in FIG. 42, one step surface of the step pulley 74d and a pulley 73b fixed to the shaft end of the liquid drain roller 73. And a rotation timing belt 73c is stretched between the rotation timing belt 73c and the rotation timing belt 73c, and the rotation timing belt 73c is also rotated between the other stepped surface of the stepped pulley 74d and the pulley 75b fixed to the output shaft 75a of the liquid discharge roller drive motor 75. A belt 75c is stretched, and the roller surface 73a of the liquid removing roller 73 can contact the rear end side of the glass substrate 21 and, if necessary, the front end side while rotating. Further, a doctor squeegee 76 shown in FIG. 43 is arranged on the roller surface 73a of the liquid removing roller 73, so that the colored resist adhering to the roller surface 73a of the liquid removing roller 73 can be removed. The doctor squeegee 76 also has a distal end portion 76a having a width corresponding to the roller surface of the liquid draining roller 73 and a base end side having a width smaller than the width, similarly to the doctor squeegee 53 shown in FIGS. 29A and 29B. It has a barrel 76b, and the liquid removal roller 73 and the tip 76a are adjusted to a predetermined distance and fixed via the barrel 76b. Note that a cleaning pad such as a suction pad may be provided instead of or in addition to the doctor squeegee 76.

かかる構成の液切り機構72は、その上方位置にガラス基板21の後端部、必要に応じて先端部が位置したときに、そこに接触し、後端部または先端部の過剰な着色レジストを除去するが、その他の面には、接触しないようになっている。   When the rear end portion of the glass substrate 21 and the front end portion as required are located above the liquid draining mechanism 72 having such a configuration, the liquid draining mechanism 72 comes into contact with the rear end portion and removes the excessive colored resist at the rear end portion or the front end portion. Removed, but not touching other surfaces.

すなわち、液切り処理を行う場合には、ガラス基板21はシリンダ機構72aによって搬送基準面13にまで上昇してくるが、この液切り処理が不必要なときには、その搬送経路13から下方位置に退避するようになっている。   That is, when the liquid draining process is performed, the glass substrate 21 is raised to the transport reference plane 13 by the cylinder mechanism 72a, but when the liquid draining process is unnecessary, the glass substrate 21 is retracted from the transport path 13 to a lower position. It is supposed to.

(液貯留槽及び配管系)
着色レジストが貯留される液貯留槽及び配管系を、図44〜図46を参照して、説明する。
(Liquid storage tank and piping system)
The liquid storage tank and the piping system in which the colored resist is stored will be described with reference to FIGS.

図44は液貯留槽の正面断面図、図45はその側面断面図、図46は配管系の概略図である。   FIG. 44 is a front sectional view of the liquid storage tank, FIG. 45 is a side sectional view thereof, and FIG. 46 is a schematic diagram of a piping system.

これらの図において、液貯留槽91は、下面が昇降機構92に接続された槽受け台93の上に載置されて使用される直方体容器であり、その内部は、液供給ローラ52のローラ面52aが浸漬して、着色レジストが供給される液供給部91a(第1の貯留部)と、ドクターローラ54及びドクタースキージ53の下方位置で落下してくる着色レジストを回収する液回収部91b(第2の貯留部)とに区画されている。ここで、昇降機構92は、石定盤11b側に固定されたシリンダ機構92aと案内軸92b,92cを備える。また、液供給部91aには供給口91cが形成されている一方、液回収部91bには液排出口91dが形成されている。さらに、液供給部91aの内部には、供給口91cに接続された管状のノズル91eが配置されており、その側面に形成された噴出孔から液供給部91aの各部位で着色レジストが補給され、液供給部91aの内部の着色レジストの成分の均質化を図ると共に、着色レジストの波立ちを抑えながらの補給を実現している。そして、液排出口91dに接続された配管経路94aは、不必要な溶媒成分を蒸発を避けるために冷却槽95内に設置されている液貯蔵タンク96に接続されており、この液貯蔵タンク96からは、ベローズポンプ97(圧送手段)などの高圧送液手段を介して供給口91cに到る配管経路94bが配置されている。さらに、この配管経路94bにおけるベローズポンプ97と供給口91cとの間には、着色レジスト内の夾雑物、例えば、先に使用したときに生成した着色レジストの固形物等を除去するためのフィルタ98が介挿されており、このフィルタ98によって着色レジストを再生して再使用することが可能になっている。   In these figures, a liquid storage tank 91 is a rectangular parallelepiped container used by being placed on a tank receiving base 93 whose lower surface is connected to an elevating mechanism 92, and the inside thereof is a roller surface of the liquid supply roller 52. A liquid supply unit 91a (first storage unit) into which the colored resist is supplied by immersion of the colored resist 52a, and a liquid recovery unit 91b (a first liquid storage unit) that collects the colored resist falling below the doctor roller 54 and the doctor squeegee 53 ( (Second storage unit). Here, the elevating mechanism 92 includes a cylinder mechanism 92a fixed to the stone surface plate 11b side and guide shafts 92b and 92c. In addition, a supply port 91c is formed in the liquid supply section 91a, and a liquid discharge port 91d is formed in the liquid recovery section 91b. Further, a tubular nozzle 91e connected to the supply port 91c is disposed inside the liquid supply unit 91a, and the colored resist is supplied at each part of the liquid supply unit 91a from the ejection hole formed on the side surface thereof. In addition, the components of the colored resist in the liquid supply unit 91a are homogenized, and the colored resist is replenished while suppressing ripples. A pipe route 94a connected to the liquid discharge port 91d is connected to a liquid storage tank 96 provided in a cooling tank 95 to avoid evaporation of unnecessary solvent components. From above, a piping path 94b reaching the supply port 91c via high-pressure liquid sending means such as a bellows pump 97 (pressure sending means) is arranged. Further, a filter 98 for removing impurities in the colored resist, for example, solid matters of the colored resist generated at the time of previous use, is provided between the bellows pump 97 and the supply port 91c in the piping path 94b. The colored resist is regenerated by the filter 98 and can be reused.

なお、ここで使用した着色レジストの場合には、保管温度が約5℃が保管温度であり、保管状態からすぐに使用できるように、冷却槽95の設定温度も5℃になっている。このため、使用中の溶剤成分の揮発も防止され、安定な成膜を実現できる。   In addition, in the case of the colored resist used here, the storage temperature is about 5 ° C., and the set temperature of the cooling bath 95 is also 5 ° C. so that it can be used immediately from the storage state. Therefore, volatilization of the solvent component during use is also prevented, and stable film formation can be realized.

(成膜動作)
かかる構成の成膜装置11の成膜動作を、図47〜図49に示すフローチャート、及び図50A〜図50Eに示す工程断面図を参照して、説明する。
(Deposition operation)
The film forming operation of the film forming apparatus 11 having such a configuration will be described with reference to the flowcharts shown in FIGS. 47 to 49 and the process sectional views shown in FIGS. 50A to 50E.

この成膜装置11においては、ガラス基板21の搬送動作をステップ毎に手動及び自動のいずれでも処理できるようになっているが、自動処理の場合について説明する。なお、液貯留槽91は、その昇降機構92によって、すでに上方位置にセットされており、液貯留部91a内部の着色レジストには液供給ローラ52のローラ面52aが浸漬している状態にある。   In the film forming apparatus 11, the transfer operation of the glass substrate 21 can be processed manually or automatically for each step. The case of automatic processing will be described. The liquid storage tank 91 has already been set at an upper position by the lifting mechanism 92, and the roller surface 52a of the liquid supply roller 52 is immersed in the colored resist inside the liquid storage unit 91a.

まず、ステップST1において、処理モードを自動処理に設定すると、ローラポンプ97,液供給ローラ52,ドクターローラ54,液切りローラ73の各駆動モータが回転動作を開始する(ステップST2〜ステップST5)。これにより、図50Aに示すように、液供給ローラ52のローラ面52aによって、着色レジストが掻き上げされた後、ドクターローラ54によって掻き落とされ、それらの離間距離d12に対応する量の着色レジストのみが上方に供給される。なお、ドクターローラ54の側に付着した着色レジストは、次にドクタースキージ53によって掻き落としされて、その離間距離d13に対応した量の着色レジストのみが上方に供給される結果、液供給ローラ52のローラ面52a周囲には、一定厚さの着色レジスト層が形成された状態にある。 First, in step ST1, when the processing mode is set to automatic processing, the drive motors of the roller pump 97, the liquid supply roller 52, the doctor roller 54, and the liquid removal roller 73 start rotating (steps ST2 to ST5). Thus, as shown in FIG. 50A, the roller surface 52a of the liquid supply roller 52, after the colored resist is scraped, is scraped off by the doctor roller 54, the colored resist an amount corresponding to their distance d 12 Only is supplied upwards. Incidentally, colored resist adhering to the side of the doctor roller 54 is then scraped off by the doctor squeegee 53, only colored resist the amount corresponding to the distance d 13 is supplied upwardly result, the liquid supply roller 52 Is in a state in which a colored resist layer having a constant thickness is formed around the roller surface 52a.

また、液貯留槽91の上流側でスキージ520によって液供給ローラ52のローラ面52aに付着した着色レジストが掻き落とされるため、液貯留槽91に浸漬する前のローラ面52a2の状態を常に均一にすることができ、この作用によって掻き上げ側のローラ面52a1の表面に形成される着色レジスト層の均一性が向上する。   Further, since the colored resist adhered to the roller surface 52a of the liquid supply roller 52 is scraped off by the squeegee 520 on the upstream side of the liquid storage tank 91, the state of the roller surface 52a2 before being immersed in the liquid storage tank 91 is always uniform. By this action, the uniformity of the colored resist layer formed on the surface of the roller surface 52a1 on the scraping side is improved.

次に、ステップST6において、ワーク排出部71にガラス基板21がないことを確認した後、搬送部駆動モータ82fが動作を開始して、各スライダ83a,83b,83を横移動させて、チャック板86を、ワーク供給ステージ31の直上位置にまで移動させた後、エアシリンダ機構84bが作動して、チャック板86が下降する(ステップST7及びステップST8)。ここで、吸着センサが、チャック板86とガラス基板21と相対位置を検出し(ステップST9)、チャック板86の吸着面86aがガラス基板21に面接触状態になったことを確認できたとき、チャック板86の内側を真空吸引して、その吸着面86aでガラス基板21を真空チャックして保持した後に、チャック板86は上方へ移動する(ステップST10及びステップST11)。   Next, in step ST6, after confirming that there is no glass substrate 21 in the work discharge section 71, the transport section drive motor 82f starts operating, and the sliders 83a, 83b, 83 are moved laterally, and the chuck plate is moved. After the 86 is moved to a position immediately above the work supply stage 31, the air cylinder mechanism 84b operates to lower the chuck plate 86 (steps ST7 and ST8). Here, the suction sensor detects the relative position between the chuck plate 86 and the glass substrate 21 (step ST9), and when it is confirmed that the suction surface 86a of the chuck plate 86 is in surface contact with the glass substrate 21, After the inside of the chuck plate 86 is vacuum-sucked and the glass substrate 21 is vacuum-chucked and held on the suction surface 86a, the chuck plate 86 moves upward (steps ST10 and ST11).

次に、ステップST12において、チャック板86を上流側ワークガイド部41まで横搬送して、その位置で、ソフトタイマーに基づいて振動が治まるまで停止した後に、チャック板86を下降させる(ステップST13及びステップST14)。ここで、ガラス基板21は、その両端が、ガイドローラ42のローラ面42a(搬送基準面13)に弾接状態として、位置規定される。この状態でも、ステップST15において、振動が治まるまで停止した後、チャック板68は、ガラス基板21をガイドローラ42のローラ面42aに位置規定した状態のまま、それを塗着部51に向けて低速度で横搬送する(ステップST16)。ここで、ステップST17において、位置決めセンサがガラス基板21に所定位置まで搬送されてきたことを確認できた時点から、ガラス基板21を、その先端部が液供給ローラ52の直上に位置するまでの距離を移動させた後、ガラス基板21を所定時間停止させる(ステップST19)。   Next, in step ST12, the chuck plate 86 is laterally conveyed to the upstream work guide portion 41 and stopped at that position until the vibration stops based on the soft timer, and then the chuck plate 86 is lowered (step ST13 and step ST12). Step ST14). Here, the position of the glass substrate 21 is defined such that both ends of the glass substrate 21 are in elastic contact with the roller surface 42 a (the transport reference surface 13) of the guide roller 42. Even in this state, in step ST15, after stopping until the vibration subsides, the chuck plate 68 lowers the glass substrate 21 toward the coating portion 51 while keeping the position of the glass substrate 21 on the roller surface 42a of the guide roller 42. The paper is conveyed horizontally at a speed (step ST16). Here, in step ST17, the distance from when the positioning sensor has been confirmed to have been conveyed to the glass substrate 21 to the predetermined position, is determined by moving the glass substrate 21 from the point in time at which the leading end thereof is located directly above the liquid supply roller 52. Is moved, the glass substrate 21 is stopped for a predetermined time (step ST19).

ここに、図50Bに示すように、液供給ローラ52のローラ面52a周囲には、着色レジスト層が形成されており、その表面側にガラス基板21が接触するように、ガラス基板21の搬送基準面13はローラ面52aから所定の離間距離d11を隔てている。従って、ガラス基板21が、液供給ローラ52の上方位置を停止することなく通過していくと、その被塗着面21aの先端側21bが完全に着色レジストに濡れた状態になるまでの遅れ時間に起因して、ガラス基板21の幅方向に着色レジストが濡れない領域が発生してしまう。そこで、ステップST19において、所定時間停止させると、図50Cに示すように、着色レジストは、その表面張力によってガラス基板21と液供給ローラ52との隙間全体に行き渡って、ガラス基板21の先端部21b全域が着色レジストによって濡れた状態とし、この先端側21b全域に予備塗着層を形成することができる(予備塗着層形成工程)。 Here, as shown in FIG. 50B, a colored resist layer is formed around the roller surface 52a of the liquid supply roller 52, and the transfer reference of the glass substrate 21 is set so that the glass substrate 21 contacts the surface side. surface 13 is at a predetermined distance d 11 from the roller surface 52a. Accordingly, when the glass substrate 21 passes through the position above the liquid supply roller 52 without stopping, the delay time until the tip side 21b of the coated surface 21a becomes completely wet with the colored resist. As a result, a region where the colored resist is not wetted occurs in the width direction of the glass substrate 21. Therefore, when the colored resist is stopped for a predetermined time in step ST19, as shown in FIG. 50C, the colored resist spreads over the entire gap between the glass substrate 21 and the liquid supply roller 52 due to its surface tension, and the leading end 21b of the glass substrate 21 is removed. The entire area is wetted by the colored resist, and the preliminary coating layer can be formed on the entire area of the front end 21b (preliminary coating layer forming step).

次に、ステップST20において、ガラス基板21を、さらに下流側ワークガイド部61に向けて移動させ、液供給ローラ52上を通過させる。   Next, in step ST <b> 20, the glass substrate 21 is further moved toward the downstream-side work guide portion 61 and passes over the liquid supply roller 52.

ここで、図50Dに示すように、搬送基準面13とローラ面52aとの離間距離d11は、搬送中のガラス基板21とローラ面52aとの間に、着色レジストの液溜まり層22aが形成された状態を保持可能に設定されており、また、ガラス基板21の搬送速度及び液供給ローラ52による液供給量は、着色レジストが途切れない速度に設定されている。従って、着色レジストは、ローラコータ法等の転写成膜法と異なり、液溜まり層22aは無圧状態に近く、着色レジスト層は、その表面張力によって先端側21bの予備塗着層22bから展開されて、塗着層22cがガラス基板21の終端側へ拡張される。すなわち、図50Eに示す通過後のガラス基板21の成膜された層は、塗布膜、転写膜というより拡張展開膜として成膜される。ここで、液溜まり層22aは十分厚く、その剪断面の形成位置は、ローラ面52a側への付着力がほとんど及ばない位置に形成される。すなわち、剪断面の位置は、ローラ面52a側への着色レジストの付着力の影響を受けず、剪断力、ガラス基板21側への付着力、着色レジストの表面張力のバランスによって規定され、ローラ面52aの表面状態の変化は、拡張展開膜の膜厚さに影響を及ぼさないので、安定した成膜を実現できる。 Here, as shown in FIG. 50D, the distance d 11 between the conveyance reference surface 13 and the roller surface 52a is between the glass substrate 21 and the roller surface 52a in the conveyance, the colored resist liquid reservoir layer 22a formed In addition, the transfer speed of the glass substrate 21 and the amount of liquid supplied by the liquid supply roller 52 are set so that the colored resist is not interrupted. Therefore, unlike a transfer film forming method such as a roller coater method, the colored resist layer is close to a non-pressure state in the liquid pool layer 22a, and the colored resist layer is developed from the pre-coating layer 22b on the tip side 21b by its surface tension. Then, the coating layer 22 c is expanded toward the terminal end of the glass substrate 21. That is, the formed layer of the glass substrate 21 after passing shown in FIG. 50E is formed as an extended development film rather than a coating film or a transfer film. Here, the liquid pool layer 22a is sufficiently thick, and its shear surface is formed at a position where the adhesive force to the roller surface 52a side hardly reaches. That is, the position of the shear surface is not affected by the adhesion of the colored resist to the roller surface 52a, but is determined by the balance of the shearing force, the adhesion to the glass substrate 21, and the surface tension of the colored resist. The change in the surface state of 52a does not affect the film thickness of the expanded developed film, so that stable film formation can be realized.

次に、ステップST21において、下流側ワークガイド部61の終端側で、位置検知センサがガラス基板21が搬送されてきたことを確認したとき、液切りローラ73がそのシリンダ機構72aによって上昇し、センサスイッチが作動する位置まで上昇して(ステップST21a及びステップST21b)、ガラス基板21の後端側21c及び先端側21bに接触する。これにより、後端側21c及び先端側21bに付着していた過剰な着色レジストが除去された後に、液切りローラ73は下降していく(ステップST21c)。なお、通常の条件においては、先端側21bに過剰な着色レジストが付着することがないので、上記の動作のうち先端側21bへの液切りローラ73の接触動作は省略される。   Next, in step ST21, when the position detection sensor confirms that the glass substrate 21 has been conveyed at the end side of the downstream side work guide portion 61, the liquid removal roller 73 is raised by its cylinder mechanism 72a, and the sensor It rises to the position where the switch operates (step ST21a and step ST21b), and contacts the rear end 21c and the front end 21b of the glass substrate 21. Thus, after the excess colored resist adhering to the rear end side 21c and the front end side 21b is removed, the liquid removal roller 73 descends (step ST21c). Under normal conditions, since the excessive colored resist does not adhere to the distal end 21b, the contact operation of the liquid removal roller 73 to the distal end 21b among the above operations is omitted.

次に、ステップST22において、ガラス基板21は移動し、下流側ガイドローラ62のローラ面62aに支持された状態で、停止する(ステップST23)。続いて、ステップST24において、チャック板86は、ガラス基板21を保持した状態のまま、上昇し、振動が停止した後(ステップST25)、ワーク排出部71の直上まで移動し(ステップST26)、ワーク排出部71の直上で、振動が停止するまで待機する(ステップST27)。その後に、ステップST28において、チャック板86は下降し、ここでも、振動が停止するまで待った後(ステップST29)、ステップST30において、チャック板86の真空状態を解除して、排出機構に受け渡す。   Next, in step ST22, the glass substrate 21 moves and stops while being supported by the roller surface 62a of the downstream side guide roller 62 (step ST23). Subsequently, in step ST24, the chuck plate 86 ascends while holding the glass substrate 21 and stops vibrating (step ST25), and then moves right above the work discharge unit 71 (step ST26). It stands by just above the discharge unit 71 until the vibration stops (step ST27). Thereafter, in step ST28, the chuck plate 86 descends, and again waits until the vibration stops (step ST29). Then, in step ST30, the vacuum state of the chuck plate 86 is released and transferred to the discharge mechanism.

次に、ステップST28において、振動が停止するまで、その状態で停止した後、チャック板86は上昇していき、成膜動作が終了する。なお、以上のように成膜された着色レジストの塗着層に対しては、必要に応じて、ガラス基板21の被着面21b側を上方に向けて放置するレベリング工程が行われた後、プリベーク、膜厚さ測定、露光、現像処理等、通常の工程が行われる。但し、この成膜装置によれば、液供給ローラ52のローラ面52aは平滑面であるため、厚さばらつきは約0.1μmにおさまるので、この値が許容できれば、レベリング工程は省略される。すなわち、ロールコータ法のコーティングローラの場合には、反転による塗着する塗着液量を確保するため、V字状などの凹凸を彫刻などにより形成するので、レベリング工程は必須であるが、本例において、レベリング工程は、要求される凹凸精度に応じて行われる性質のものである。   Next, in step ST28, after stopping in that state until the vibration stops, the chuck plate 86 rises, and the film forming operation ends. The coating layer of the colored resist formed as described above is subjected, if necessary, to a leveling step in which the surface 21b of the glass substrate 21 is left facing upward. Normal steps such as pre-bake, film thickness measurement, exposure, and development are performed. However, according to this film forming apparatus, since the roller surface 52a of the liquid supply roller 52 is a smooth surface, the thickness variation is reduced to about 0.1 μm, and if this value is acceptable, the leveling step is omitted. That is, in the case of the coating roller of the roll coater method, V-shaped or other irregularities are formed by engraving or the like in order to secure the amount of coating liquid to be applied by reversing, so the leveling step is indispensable. In the example, the leveling step is of a nature performed according to the required unevenness accuracy.

(第4の実施の形態の効果)
このように、成膜装置11においては、ガラス基板21の被塗着面21aを下方に向けて搬送し、この姿勢のまま成膜する。従って、上方から落下してくるゴミ、ゲバ等が付着することがないので、信頼性の高い膜を形成することもできる。また、成膜中、ガラス基板21とローラ面52aとの間を一定の離間距離d11を保ち、液溜まり層を形成したまま、成膜するため、着色レジストに、しごき等過剰な圧力を加えないので、材料変質や応力の残留、さらに微小な気泡の巻き込み等の問題が発生することもない。ここで、搬送動作中のガラス基板21に対し、一定圧力を加えておくことは極めて困難であり、転写成膜法の膜厚さばらつきの原因になっているものであるが、本例の成膜装置11を利用した張力展開成膜方法では、かかる圧力印加を必要としないので、安定した成膜を行うことができる。
(Effect of Fourth Embodiment)
As described above, in the film forming apparatus 11, the coating surface 21a of the glass substrate 21 is transported downward, and the film is formed in this posture. Therefore, dust, burrs and the like falling from above do not adhere, and a highly reliable film can be formed. Further, during the film formation, maintaining a distance d 11 constant between the glass substrate 21 and the roller surface 52a, while forming a liquid reservoir layer, for forming, on the colored resist, added excess pressure, etc. ironing Therefore, there is no problem such as deterioration of material, residual stress, and entrapment of minute bubbles. Here, it is extremely difficult to apply a constant pressure to the glass substrate 21 during the transfer operation, which causes a variation in the film thickness of the transfer film forming method. In the tension developing film forming method using the film apparatus 11, such a pressure application is not required, so that a stable film forming can be performed.

しかも、塗着層が形成される被塗着面に対しては、塗着液以外には接触しない非接触型の成膜方法であるため、成膜対象となり得る被塗着部材としては、ガラス基板21のように被塗着面が平坦なものに限らず、凹凸を有するものであってもよい。すなわち、すでに被塗着面にカラーフィルタを構成する着色レジスト層が所定のパターンで形成されたガラス基板表面に対して、さらに着色レジスト層を形成する場合、配線層等がすでに形成されている半導体基板表面に対し、さらにフォトレジスト層を形成する場合等において、反転法では被塗着部材が塗着液側に加えられる圧力は、凹凸によって変動することが避けられないが、本例の張力展開成膜法では、もとより圧力を利用した成膜法ではなく、塗着液に濡らした状態で塗着層を拡張するため、被塗着面の凹凸に関係なく均一に成膜されるので、段差被覆性が良好である。しかも、被塗着面側を傷つけることもない。またスピンコータ法のように、塗着液が遠心力によって一方向に向けて展開されていく方法と異なり、方向性を有していないので、凸部の背後に筋状の模様が発生することもない。   In addition, since the coating surface is a non-contact type film forming method that does not come into contact with anything other than the coating liquid on the surface to be coated, the member to be coated is glass. The substrate 21 is not limited to a substrate having a flat surface to be coated as in the case of the substrate 21, but may have irregularities. That is, if a colored resist layer is further formed on a glass substrate surface on which a colored resist layer constituting a color filter is formed in a predetermined pattern on a surface to be coated, a semiconductor layer on which a wiring layer and the like are already formed In the case where a photoresist layer is further formed on the substrate surface, in the inversion method, the pressure applied to the member to be coated on the coating liquid side inevitably fluctuates due to unevenness. In the film forming method, the coating layer is expanded in a state of being wetted with the coating liquid instead of the pressure forming method, so that the film is uniformly formed regardless of the unevenness of the surface to be coated. Good coverage. In addition, the surface to be coated is not damaged. Unlike a spin coater method in which the coating liquid is unfolded in one direction by centrifugal force, it has no directionality, so that a streak pattern may occur behind the convex part. Absent.

例えば、図51AにはMIM型パネル表示基板301の断面を、図51Bには半導体装置302の断面を示すように、本例の成膜方法によれば、段差や凹凸の有無に係わらず、均一な厚さのオーバーコート層(表面保護層等)を形成でき、段差被覆性がよい。一方、スピンコート法の場合には、矢印で示す成膜方向性を有するので、それぞれに破線で示すように凸部の背後に極めて薄い層が形成されてしまう。また、図51Cにガラス基板21を先端側21bからみた断面を示すように、ガイドローラとの重なり代を除いて、塗着層の厚さが一定になっている。従って、本例によれば材料の両端側まで利用することができる。一方、ロールコータ法などの反転成膜法によれば、破線で示すように、塗着面の両側に塗着層が厚いマージナルゾーン21dが幅広く形成され、この領域は使用できない。   For example, FIG. 51A shows a cross section of the MIM type panel display substrate 301, and FIG. 51B shows a cross section of the semiconductor device 302. An overcoat layer (surface protective layer or the like) having a large thickness can be formed, and the step coverage is good. On the other hand, in the case of the spin coating method, since the film has a film forming direction indicated by an arrow, an extremely thin layer is formed behind the projection as shown by a broken line in each case. Further, as shown in FIG. 51C, a cross section of the glass substrate 21 as viewed from the front end side 21b, the thickness of the coating layer is constant except for the overlap with the guide roller. Therefore, according to this example, it is possible to use the material up to both ends. On the other hand, according to the reverse film forming method such as the roll coater method, the marginal zone 21d having a thick coating layer is formed widely on both sides of the coating surface as shown by the broken line, and this region cannot be used.

次に上述した成膜装置11を用いて実際に顔料分散型レジストをコーティングした例について説明する。   Next, an example in which a pigment-dispersed resist is actually coated using the above-described film forming apparatus 11 will be described.

ガラス基板21の進行速度を13.3mm、ドクターローラ54の回転速度を5mm/秒、液供給ローラ52とドクターローラ54との間隔を150±10μmに設定した。なお、液供給ローラ52の回転速度は目標とする膜厚に合わせて可変とされている。ガラス基板21としては、厚さ1.1mm、縦300mm、横300mmのサイズのもので、コーニング社製7059、日本電気ガラス(株)製OA2、NHテクノグラス(株)製NA45を用いた。顔料分散型レジストとしては、フジハント(株)製のカラーモザイクシリーズ、日本合成ゴム(株)製のJCRシリーズおよびその他数社のサンプルを用いた。その結果、全てのレジストについてコーティングが可能であり、その膜厚はプリベイク後で約1.0μmであった。また、塗膜の膜厚分布は10%以下に抑えることができた。さらに、従来のロールコーター法で発生していたような縦方向の筋状の膜厚むらや横方向の膜厚むら、或いは色むらが確認されなかった。また、塗膜の全体を見ると、コートを開始する側においてはガラス基板の端面から約20mmの領域では膜厚がやや薄くなる傾向があるが、それ以降は高い膜厚精度でレジスト層がコーティングがされていることを確認した。   The traveling speed of the glass substrate 21 was set to 13.3 mm, the rotation speed of the doctor roller 54 was set to 5 mm / sec, and the distance between the liquid supply roller 52 and the doctor roller 54 was set to 150 ± 10 μm. The rotation speed of the liquid supply roller 52 is variable according to the target film thickness. The glass substrate 21 has a thickness of 1.1 mm, a length of 300 mm, and a width of 300 mm, and 7059 manufactured by Corning Incorporated, OA2 manufactured by NEC Corporation, and NA45 manufactured by NH Techno Glass Co., Ltd. were used. As the pigment-dispersed resist, a color mosaic series manufactured by Fuji Hunt Co., Ltd., a JCR series manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd., and samples from several other companies were used. As a result, all the resists could be coated, and the film thickness was about 1.0 μm after prebaking. Further, the thickness distribution of the coating film could be suppressed to 10% or less. Furthermore, no vertical stripe-like film thickness unevenness, horizontal film thickness unevenness, or color unevenness as occurred in the conventional roll coater method was observed. Looking at the entire coating film, on the side where the coating is started, the film thickness tends to be slightly smaller in a region about 20 mm from the end face of the glass substrate, but thereafter, the resist layer is coated with high film thickness accuracy. Confirmed that it is.

(第4の実施の形態の変形例)
上記第4の実施の形態において、被塗着部材の搬送方向は、液供給ローラの回転方向と同方向、すなわち、塗着液は被塗着部材の搬送方向に向けて供給されるものであったが、逆に、被塗着部材の搬送方向に向かって塗着液を供給するように、被塗着部材の搬送方向と、液供給ローラの回転方向とが逆方向のものであってもよい。この場合には、成膜装置11において、搬送機構81のシーケンスを変えて、被着部材を、一旦下流側ワークガイド部61に搬送した後に、下流側から上流側に向けて、被塗着部材を搬送して、被塗着部材と液供給ローラの相対的な移動方法を変えてもよいが、図53に示すように、塗着部801において、ドクターローラ802及びドクタースキージ803を液供給ローラ804に対し、被塗着部材の搬送方向の下流側に配列し、液供給ローラ804の回転方向を矢印Bで示す方向としてもよい。この場合、液供給ローラ804のレジストを除去するための塗着液除去手段805は液供給ローラ804より上流側に設けられる。なお、この成膜装置800の他の部分の構成は、第4の実施の形態の成膜装置と同様であるため、その図示及び説明は省略する。
(Modification of Fourth Embodiment)
In the fourth embodiment, the transport direction of the member to be coated is the same as the rotation direction of the liquid supply roller, that is, the coating liquid is supplied in the transport direction of the member to be coated. However, conversely, even if the transport direction of the coating member and the rotation direction of the liquid supply roller are opposite, so that the coating liquid is supplied in the transport direction of the coating member. Good. In this case, in the film forming apparatus 11, the sequence of the transport mechanism 81 is changed so that the adhered member is once transported to the downstream work guide portion 61, and then the coated member is moved from the downstream side to the upstream side. 53, the relative movement method between the member to be coated and the liquid supply roller may be changed. However, as shown in FIG. 53, the doctor roller 802 and the doctor squeegee 803 The liquid supply roller 804 may be arranged in a direction indicated by an arrow B in such a manner that the liquid supply roller 804 is arranged downstream of the coating member 804 in the transport direction of the member to be coated. In this case, the coating liquid removing unit 805 for removing the resist from the liquid supply roller 804 is provided upstream of the liquid supply roller 804. Note that the configuration of the other parts of the film forming apparatus 800 is the same as that of the film forming apparatus of the fourth embodiment, so that the illustration and description thereof are omitted.

本発明の第1の実施の形態にかかるCOI方式のカラーフィルタを模式的に示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically illustrating a COI color filter according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施の形態のカラーフィルタの他の構成例を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating another configuration example of the color filter according to the first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施の形態のカラーフィルタのさらに他の例を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating still another example of the color filter according to the first embodiment of the present invention. IOC方式のカラーフィルタの構成を模式的に示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically illustrating a configuration of an IOC color filter. IOC方式のカラーフィルタの他の構成例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other example of a structure of the color filter of an IOC system. 第1の実施の形態にかかるカラーフィルタの透過率−駆動電圧曲線を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a transmittance-drive voltage curve of the color filter according to the first embodiment. 比較用のカラーフィルタにおける透過率−駆動電圧曲線を示す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating a transmittance-drive voltage curve in a color filter for comparison. 比誘電率と周波数との関係を求めるためのサンプルの構成を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a sample for obtaining a relationship between a relative dielectric constant and a frequency. 各種の顔料を用いて構成されたカラーフィルタの比誘電率と周波数との関係を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a relationship between the relative permittivity and the frequency of a color filter configured using various pigments. 各種の顔料を用いた場合のブラックマトリクス層における比誘電率と周波数との関係を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a relationship between relative dielectric constant and frequency in a black matrix layer when various pigments are used. 図10に示す顔料について行った比抵抗と周波数との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the specific resistance and frequency performed about the pigment shown in FIG. 本発明の第2の実施の形態にかかるカラーフィルタを模式的に示す断面図である。It is a sectional view showing typically a color filter concerning a 2nd embodiment of the present invention. 本発明の第2の実施の形態の変形例を示す断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view illustrating a modification of the second embodiment of the present invention. 本発明の第2の実施の形態のさらに他の変形例をしめす断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view illustrating still another modification of the second embodiment of the present invention. 図15Aは、逆テーパ状の着色層およびブラックマトリクス層を示す図、図15Bは、図15Aに示したカラーフィルタをラビング処理したときの配向不良領域を示す説明図である。FIG. 15A is a diagram illustrating a reverse tapered colored layer and a black matrix layer, and FIG. 15B is an explanatory diagram illustrating a misalignment region when the color filter illustrated in FIG. 15A is rubbed. 本発明の第3の実施の形態に係る張力展開成膜装置の主要部を示す斜視図である。It is a perspective view showing the principal part of the tension development film-forming device concerning a 3rd embodiment of the present invention. 図17A〜図17Dは、図16に示す成膜装置を用いた成膜動作を示す工程断面図である。17A to 17D are process cross-sectional views showing a film forming operation using the film forming apparatus shown in FIG. 本発明の第4の実施の形態に係る張力展開成膜装置の主要部を示す概略構成図である。It is a schematic structure figure showing the principal part of the tension deployment film-forming device concerning a 4th embodiment of the present invention. 本発明の第4の実施の形態に係る張力展開成膜装置の正面図である。It is a front view of the tension deployment film-forming device concerning a 4th embodiment of the present invention. 本発明の第4の実施の形態に係る張力展開成膜装置の平面図である。It is a top view of the tension deployment film-forming device concerning a 4th embodiment of the present invention. 本発明の第4の実施の形態に係る張力展開成膜装置の側面図である。It is a side view of the tension deployment film-forming device concerning a 4th embodiment of the present invention. 図18に示す張力展開成膜装置の搬送機構の構成を示す側面図である。FIG. 19 is a side view illustrating a configuration of a transport mechanism of the tension developing film forming apparatus illustrated in FIG. 18. 図22に示す搬送機構の水平方向移動機構の構成を示す正面図である。23 is a front view illustrating a configuration of a horizontal moving mechanism of the transport mechanism illustrated in FIG. 22. FIG. 図18に示す張力展開成膜装置のワーク供給ステージの平面図である。FIG. 19 is a plan view of a work supply stage of the tension developing film forming apparatus shown in FIG. 18. 図18に示す張力展開成膜装置の上流側ワークガイド部の正面図である。FIG. 19 is a front view of an upstream work guide section of the tension developing film forming apparatus shown in FIG. 18. 図18に示す張力展開成膜装置の上流側ワークガイド部の平面断面図である。FIG. 19 is a plan cross-sectional view of an upstream work guide section of the tension developing film forming apparatus shown in FIG. 18. 図18に示す張力展開成膜装置の上流側ワークガイド部の断面図である。FIG. 19 is a cross-sectional view of an upstream work guide section of the tension developing film forming apparatus shown in FIG. 18. 図18に示す張力展開成膜装置の塗着部の概略構成図である。FIG. 19 is a schematic configuration diagram of a coating section of the tension-developing film-forming apparatus shown in FIG. 18. 図29Aは、図18に示す塗着部のドクタースキージの平面図、図29Bは図18に示す塗着部におけるドクタースキージとドクターローラとの位置関係を示す平面図である。FIG. 29A is a plan view of the doctor squeegee in the coating section shown in FIG. 18, and FIG. 29B is a plan view showing the positional relationship between the doctor squeegee and the doctor roller in the coating section shown in FIG. 図30Aは図29Aに示すドクタースキージと別のドクタースキージの平面図、図30Bはこのドクタースキージの配置構造を示す側面図である。FIG. 30A is a plan view of a doctor squeegee shown in FIG. 29A and another doctor squeegee, and FIG. 30B is a side view showing an arrangement structure of the doctor squeegee. 図18に示す塗着部におけるドクターローラ、液供給ローラ、及びそれらの駆動系の平面図である。FIG. 19 is a plan view of a doctor roller, a liquid supply roller, and a drive system thereof in the coating unit illustrated in FIG. 18. 図18に示す塗着部におけるドクターローラ、及び液供給ローラの側面図である。FIG. 19 is a side view of a doctor roller and a liquid supply roller in a coating section illustrated in FIG. 18. 図18に示す塗着部の作用を示す図である。FIG. 19 is a view illustrating the operation of the application unit illustrated in FIG. 18. 比較用の塗着部の作用を示す図である。It is a figure which shows the effect | action of the coating part for a comparison. 図28に示す液供給ローラとスキージとの関係を示す図である。FIG. 29 is a diagram illustrating a relationship between a liquid supply roller and a squeegee illustrated in FIG. 28. 塗着液除去手段の他の構成例を示す概略図である。It is the schematic which shows the other example of a structure of an application liquid removal means. 図36に示す塗着部の液供給ローラと除去ローラとの関係を示す図である。FIG. 37 is a diagram illustrating a relationship between a liquid supply roller and a removal roller of the application unit illustrated in FIG. 36. 除去ローラの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of a removal roller. 図39Aは、液止め調整部を端部側から見た正面図、図39Bは、図39Aに示す液止め調整部の平面図である。FIG. 39A is a front view of the liquid stop adjusting portion as viewed from the end, and FIG. 39B is a plan view of the liquid stop adjusting portion shown in FIG. 39A. ドクターローラ、液供給ローラ、除去ローラおよびそれらの駆動系を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing a doctor roller, a liquid supply roller, a removal roller, and a drive system thereof. 図18に示す張力展開成膜装置の液切り機構の正面図である。FIG. 19 is a front view of a liquid draining mechanism of the tension developing film forming apparatus shown in FIG. 18. 図41に示す液切り機構の側面図である。FIG. 42 is a side view of the liquid draining mechanism shown in FIG. 41. 図41に示す液切り機構に配置されたドクタースキージの平面図である。FIG. 42 is a plan view of a doctor squeegee arranged in the liquid draining mechanism shown in FIG. 41. 図18に示す張力展開成膜装置に用いた液貯留槽の正面断面図である。FIG. 19 is a front sectional view of a liquid storage tank used in the tension developing film forming apparatus shown in FIG. 18. 図44の液貯留槽の側面断面図である。FIG. 45 is a side sectional view of the liquid storage tank in FIG. 44. 図18に示す張力展開成膜装置に配置した配管系の概略構成図である。FIG. 19 is a schematic configuration diagram of a piping system arranged in the tension developing film forming apparatus shown in FIG. 18. 図18に示す張力展開成膜装置の成膜動作のフローチャートの一部を示すフローチャート図である。FIG. 19 is a flowchart illustrating a part of a flowchart of a film forming operation of the tension developing film forming apparatus illustrated in FIG. 18. 図18に示す張力展開成膜装置の成膜動作のフローチャートの一部を示すフローチャート図である。FIG. 19 is a flowchart illustrating a part of a flowchart of a film forming operation of the tension developing film forming apparatus illustrated in FIG. 18. 図18に示す張力展開成膜装置の成膜動作のフローチャートの一部を示すフローチャート図である。FIG. 19 is a flowchart illustrating a part of a flowchart of a film forming operation of the tension developing film forming apparatus illustrated in FIG. 18. 図50A〜50Eは、図18に示す張力展開成膜装置の成膜動作を示す工程断面図である。50A to 50E are process cross-sectional views showing a film forming operation of the tension developing film forming apparatus shown in FIG. 図51Aは図18に示す張力展開成膜装置を利用して成膜したパネル表示基板の断面図、図51Bは図18に示す張力展開成膜装置を利用して成膜した半導体装置の断面図、図51Cは図18に示す張力展開成膜装置を利用して成膜したガラス基板の断面である。FIG. 51A is a cross-sectional view of a panel display substrate formed by using the tension developing film forming apparatus shown in FIG. 18, and FIG. 51B is a cross-sectional view of a semiconductor device formed by using the tension developing film forming apparatus shown in FIG. FIG. 51C is a cross section of a glass substrate formed using the tension developing film forming apparatus shown in FIG. 従来のロールコータ装置の概略構成図である。It is a schematic structure figure of the conventional roll coater device. 本発明の第4実施の形態の変形例に係る張力展開成膜装置の塗着部の概略構成図である。It is a schematic structure figure of a coating part of a tension deployment film-forming device concerning a modification of a 4th embodiment of the present invention.

符号の説明Explanation of reference numerals

2 被塗着部材、 3 塗着液、 4 塗着液供給手段、 5a 予備塗着層、 5b 塗着層、 6 搬送手段、 11c 搬送経路、 21 ガラス基板、 31 ワーク供給ステージ、 41 上流側ワークガイド部、 42、62 ガイドローラ、 43 上部ガイドローラ支持台、 44 下部ガイドローラ支持台、 51 塗着層、 52 液供給ローラ、 53、56、76 ドクタースキージ、 54 ドクターローラ、 58 マイクロメータ、 61 下流側ワークガイド部、 63 支持台、 72 液切り機構、 72a シリンダ機構、 72b 支持板、 73 液切りローラ、 82a、82b ガイドレール、82g 搬送部駆動モータ、 83a、83b スライダ、 84a 支持板、 84b エアシリンダ、 86 チャック板、 91 液貯留槽、 92 昇降機構、 96 液貯留タンク、 97 ベローズポンプ、 98 フィルタ、 100 支持体、 200 着色層、 200A,200B,200C 画素、 300 ブラックマトリクス層、 300A 突出層、 400 保護層、 500 透明導電層、 520 スキージ、 530 除去ローラ、 532 シャフト、 542 装着部、 546 液受部、 550、560 クリーニングロール 2 coating member, 3 coating liquid, 4 coating liquid supply means, 5a preliminary coating layer, 5b coating layer, 6 transport means, 11c transport path, 21 glass substrate, 31 work supply stage, 41 upstream work Guide part, 42, 62 guide roller, 43 upper guide roller support, 44 lower guide roller support, 51 coating layer, 52 liquid supply roller, 53, 56, 76 doctor squeegee, 54 doctor roller, 58 micrometer, 61 Downstream work guide section, 63 support base, 72 liquid drain mechanism, 72a cylinder mechanism, 72b support plate, 73 liquid drain roller, 82a, 82b guide rail, 82g transport unit drive motor, 83a, 83b slider, 84a support plate, 84b Air cylinder, 86 chuck plate, 91 liquid Reservoir, 92 lifting mechanism, 96 liquid storage tank, 97 bellows pump, 98 filter, 100 support, 200 colored layer, 200A, 200B, 200C pixel, 300 black matrix layer, 300A projecting layer, 400 protective layer, 500 transparent conductive Layer, 520 squeegee, 530 removal roller, 532 shaft, 542 mounting part, 546 liquid receiving part, 550, 560 cleaning roll

Claims (1)

支持体上に、所定のパターンを有する透明導電層を形成する工程、
この透明導電層上に、レッド、グリーンおよびブルーの画素を所定のパターンで配列した着色層を形成する工程、
前記画素の相互間に配置されるように所定のパターンでブラックマトリクス層を形成する工程、を含み、
前記着色層および前記ブラックマトリクス層は顔料を含むレジスト層を露光することによってパターン化され、この露光工程において被露光層(レジスト層)とフォトマスクとが200μm〜数mmのギャップを介して配置されることを特徴とする液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法。
Forming a transparent conductive layer having a predetermined pattern on the support,
Forming a colored layer on the transparent conductive layer, in which red, green, and blue pixels are arranged in a predetermined pattern;
Forming a black matrix layer in a predetermined pattern so as to be arranged between the pixels,
The colored layer and the black matrix layer are patterned by exposing a resist layer containing a pigment. In this exposure step, a layer to be exposed (resist layer) and a photomask are arranged with a gap of 200 μm to several mm. A method for producing a color filter for a liquid crystal display.
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