JP3538171B2 - 光ディスク装置 - Google Patents
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
- G11B7/135—Means for guiding the beam from the source to the record carrier or from the record carrier to the detector
- G11B7/1365—Separate or integrated refractive elements, e.g. wave plates
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-
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- G11B7/1372—Lenses
- G11B2007/13727—Compound lenses, i.e. two or more lenses co-operating to perform a function, e.g. compound objective lens including a solid immersion lens, positive and negative lenses either bonded together or with adjustable spacing
-
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- G11B7/08—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers
- G11B7/09—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B7/0948—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following specially adapted for detection and avoidance or compensation of imperfections on the carrier, e.g. dust, scratches, dropouts
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、光ディスクへの
情報の記録または光ディスクから情報を再生するための
光ヘッドおよびその光ヘッドを有する光ディスク装置に
係り、光ディスクの表面樹脂層の厚みに起因して生じる
球面収差の影響を除去する方法に関する。
情報の記録または光ディスクから情報を再生するための
光ヘッドおよびその光ヘッドを有する光ディスク装置に
係り、光ディスクの表面樹脂層の厚みに起因して生じる
球面収差の影響を除去する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ヘッドおよび光ディスク装置におい
て、光の利用効率を向上するために、光ディスクの表面
樹脂層（光透過層）の厚みの誤差に起因して発生する球
面収差の影響を低減する方法および装置が提案されてい
る。
て、光の利用効率を向上するために、光ディスクの表面
樹脂層（光透過層）の厚みの誤差に起因して発生する球
面収差の影響を低減する方法および装置が提案されてい
る。
【０００３】例えば、特開平１１−２５９９０６号公報
には、基板３と光透過層４との間に設けられた記録層
に、光透過層４の側から光を照射する光学ヘッド１にお
いて、コリメータレンズ１３とコリメータレンズ用アク
チュエータ１４を設け、光透過層４の厚み誤差に起因す
る球面収差をうち消すように光源１０と対物レンズ１６
との間に設けられたコリメータレンズ１３を移動させる
例が示されている。
には、基板３と光透過層４との間に設けられた記録層
に、光透過層４の側から光を照射する光学ヘッド１にお
いて、コリメータレンズ１３とコリメータレンズ用アク
チュエータ１４を設け、光透過層４の厚み誤差に起因す
る球面収差をうち消すように光源１０と対物レンズ１６
との間に設けられたコリメータレンズ１３を移動させる
例が示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】特開平１１−２５９９
０６号では、光透過層４の厚み誤差に起因して発生する
球面収差を補正するためにコリメータレンズ１３を移動
させた場合、対物レンズ１６上での光量が変化すること
について考慮されていない。これは、特に再生時におい
て、光強度を設定する場合に問題となる。
０６号では、光透過層４の厚み誤差に起因して発生する
球面収差を補正するためにコリメータレンズ１３を移動
させた場合、対物レンズ１６上での光量が変化すること
について考慮されていない。これは、特に再生時におい
て、光強度を設定する場合に問題となる。
【０００５】すなわち、光透過層の厚みの誤差に起因し
て発生する球面収差を補正するために、コリメータレン
ズを光軸方向に移動させた場合、対物レンズに入射する
光量が変化するために、対物レンズから出射する光量が
変化して安定な再生が困難になることが知られている。
て発生する球面収差を補正するために、コリメータレン
ズを光軸方向に移動させた場合、対物レンズに入射する
光量が変化するために、対物レンズから出射する光量が
変化して安定な再生が困難になることが知られている。
【０００６】この発明の目的は、安定な信号の再生が可
能な光ヘッドおよび光ディスク装置を提供することにあ
る。
能な光ヘッドおよび光ディスク装置を提供することにあ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明は、所定の波長
の光ビームを放射する発光装置と、前記発光装置からの
光ビームを光ディスクの情報記録層の所定の位置に集光
する集光装置と、前記発光装置と前記集光装置との間に
定義されている光軸に沿って設けられ、前記光軸に沿っ
て配置された第１および第２のレンズを含み、前記第１
のレンズおよび前記第２のレンズのいずれか一方は凸レ
ンズで、他の一方は凹レンズであり、前記発光装置から
前記集光装置に案内される上記光ビームの波面を変化さ
せる波面変換装置と、上記記録層と前記集光装置との間
に位置される光透過層の厚み誤差を検出する手段と、上
記厚み誤差に起因して発生する波面収差を抑制するよう
に、前記波面変換装置を制御する制御手段と、前記波面
変換装置と前記集光装置との間に設けられて、前記波面
変換装置から前記集光装置に向けられる上記光ビームの
一部を所定の方向に反射するビーム分離装置と、前記ビ
ーム分離装置により前記波面変換装置から前記集光装置
に向かう光ビームから分離された光ビームを受光し、そ
の受光した光ビームの光強度に対応する電気信号を出力
する光検出器と、前記光検出器から出力された電気信号
の大きさに基づいて前記発光装置が放射する上記光ビー
ムの光強度を制御する出力制御装置と、を有し、前記波
面変換装置を制御する制御手段は、前記光検出器から出
力される電気信号に基づいて前記波面変換装置の上記第
１のレンズもしくは上記第２のレンズのいずれか一方
を、光ディスクの光透過層の厚み誤差に起因して、前記
波面を抑制するように、上記光軸に沿って移動させるこ
とを特徴とする情報記録層と情報記録層を保護する光透
過層とを有する光ディスクに光透過層の側から光ビーム
を照射して情報を記録し、または情報を再生する光ディ
スク装置である。
の光ビームを放射する発光装置と、前記発光装置からの
光ビームを光ディスクの情報記録層の所定の位置に集光
する集光装置と、前記発光装置と前記集光装置との間に
定義されている光軸に沿って設けられ、前記光軸に沿っ
て配置された第１および第２のレンズを含み、前記第１
のレンズおよび前記第２のレンズのいずれか一方は凸レ
ンズで、他の一方は凹レンズであり、前記発光装置から
前記集光装置に案内される上記光ビームの波面を変化さ
せる波面変換装置と、上記記録層と前記集光装置との間
に位置される光透過層の厚み誤差を検出する手段と、上
記厚み誤差に起因して発生する波面収差を抑制するよう
に、前記波面変換装置を制御する制御手段と、前記波面
変換装置と前記集光装置との間に設けられて、前記波面
変換装置から前記集光装置に向けられる上記光ビームの
一部を所定の方向に反射するビーム分離装置と、前記ビ
ーム分離装置により前記波面変換装置から前記集光装置
に向かう光ビームから分離された光ビームを受光し、そ
の受光した光ビームの光強度に対応する電気信号を出力
する光検出器と、前記光検出器から出力された電気信号
の大きさに基づいて前記発光装置が放射する上記光ビー
ムの光強度を制御する出力制御装置と、を有し、前記波
面変換装置を制御する制御手段は、前記光検出器から出
力される電気信号に基づいて前記波面変換装置の上記第
１のレンズもしくは上記第２のレンズのいずれか一方
を、光ディスクの光透過層の厚み誤差に起因して、前記
波面を抑制するように、上記光軸に沿って移動させるこ
とを特徴とする情報記録層と情報記録層を保護する光透
過層とを有する光ディスクに光透過層の側から光ビーム
を照射して情報を記録し、または情報を再生する光ディ
スク装置である。
【０００８】
【０００９】また、この発明は、所定の波長の光ビーム
を放射する発光装置と、前記発光装置からの光ビームを
光ディスクの情報記録層の所定の位置に集光する集光装
置と、前記発光装置と前記集光装置との間に定義されて
いる光軸に沿って設けられ、前記光軸に沿って配置され
た第１および第２のレンズを含み、前記第１のレンズお
よび前記第２のレンズのいずれか一方は凸レンズで、他
の一方は凹レンズであり、前記発光装置から前記集光装
置に案内される上記光ビームの波面を変化させる波面変
換装置と、上記記録層と前記集光装置との間に位置され
る光透過層の厚み誤差を検出する手段と、上記厚み誤差
に起因して発生する波面収差を抑制するように、前記波
面変換装置を制御する制御手段と、前記波面変換装置と
前記集光装置との間に設けられて、前記波面変換装置か
ら前記集光装置に向けられる上記光ビームの一部を所定
の方向に反射するビーム分離装置と、前記ビーム分離装
置により前記波面変換装置から前記集光装置に向かう光
ビームから分離された光ビームを受光し、その受光した
光ビームの光強度に対応する電気信号を出力する光検出
器と、前記光検出器から出力された電気信号の大きさに
基づいて前記発光装置が放射する上記光ビームの光強度
を制御する出力制御装置と、を有し、前記発光装置は、
自身が放射する光ビームの光強度をモニタ可能とするバ
ックモニタ機構を含み、そのバックモニタ機構が出力す
るバックモニタ信号と前記光検出器が出力する前記ビー
ム分離装置で分離された光の光強度を示すモニタ信号と
に基づいて、前記波面変換装置を制御する制御手段の駆
動により前記波面変換装置の前記第１のレンズまたは前
記第２のレンズの大まかな位置を設定可能であることを
特徴とする情報記録層と情報記録層を保護する光透過層
とを有する光ディスクに光透過層の側から光ビームを照
射して情報を記録し、または情報を再生する光ディスク
装置である。
を放射する発光装置と、前記発光装置からの光ビームを
光ディスクの情報記録層の所定の位置に集光する集光装
置と、前記発光装置と前記集光装置との間に定義されて
いる光軸に沿って設けられ、前記光軸に沿って配置され
た第１および第２のレンズを含み、前記第１のレンズお
よび前記第２のレンズのいずれか一方は凸レンズで、他
の一方は凹レンズであり、前記発光装置から前記集光装
置に案内される上記光ビームの波面を変化させる波面変
換装置と、上記記録層と前記集光装置との間に位置され
る光透過層の厚み誤差を検出する手段と、上記厚み誤差
に起因して発生する波面収差を抑制するように、前記波
面変換装置を制御する制御手段と、前記波面変換装置と
前記集光装置との間に設けられて、前記波面変換装置か
ら前記集光装置に向けられる上記光ビームの一部を所定
の方向に反射するビーム分離装置と、前記ビーム分離装
置により前記波面変換装置から前記集光装置に向かう光
ビームから分離された光ビームを受光し、その受光した
光ビームの光強度に対応する電気信号を出力する光検出
器と、前記光検出器から出力された電気信号の大きさに
基づいて前記発光装置が放射する上記光ビームの光強度
を制御する出力制御装置と、を有し、前記発光装置は、
自身が放射する光ビームの光強度をモニタ可能とするバ
ックモニタ機構を含み、そのバックモニタ機構が出力す
るバックモニタ信号と前記光検出器が出力する前記ビー
ム分離装置で分離された光の光強度を示すモニタ信号と
に基づいて、前記波面変換装置を制御する制御手段の駆
動により前記波面変換装置の前記第１のレンズまたは前
記第２のレンズの大まかな位置を設定可能であることを
特徴とする情報記録層と情報記録層を保護する光透過層
とを有する光ディスクに光透過層の側から光ビームを照
射して情報を記録し、または情報を再生する光ディスク
装置である。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
の実施の形態を詳細に説明する。
の実施の形態を詳細に説明する。
【００１１】図１に示すように、情報記録媒体すなわち
光ディスク１に情報を記録し、また光ディスク１から情
報を再生する光ディスク装置１０１は、光ディスク１を
所定の速度で回転するスピンドルモータ１０２と、光デ
ィスク１に所定のスポット径の光ビームを照射し、また
光ディスクで反射された反射光ビームを受光して所定の
電気信号を得る光ヘッド装置１１１を有している。
光ディスク１に情報を記録し、また光ディスク１から情
報を再生する光ディスク装置１０１は、光ディスク１を
所定の速度で回転するスピンドルモータ１０２と、光デ
ィスク１に所定のスポット径の光ビームを照射し、また
光ディスクで反射された反射光ビームを受光して所定の
電気信号を得る光ヘッド装置１１１を有している。
【００１２】光ディスク１は、所定の厚さの基板１ａの
一方の面に設けられた相変化型の記録層１ｂと記録層１
ｂを覆う透明保護層（光透過層）１ｃからなる。なお、
基板１ａの厚さは概ね１．１ｍｍで、透明保護層１ｃの
厚さはおよそ０．１ｍｍである。また、記録層１ｂの厚
さは、数十μｍである。なお、記録層１ｂには、図示し
ないが、反射膜あるいは保護層もしくはその両者が設け
られることもある。
一方の面に設けられた相変化型の記録層１ｂと記録層１
ｂを覆う透明保護層（光透過層）１ｃからなる。なお、
基板１ａの厚さは概ね１．１ｍｍで、透明保護層１ｃの
厚さはおよそ０．１ｍｍである。また、記録層１ｂの厚
さは、数十μｍである。なお、記録層１ｂには、図示し
ないが、反射膜あるいは保護層もしくはその両者が設け
られることもある。
【００１３】光ヘッド装置１１１は、光ディスク１に向
けて所定の波長の光ビーム（レーザビーム）を出射する
レーザ装置１１２、レーザ装置１１２を出射されたレー
ザビーム１１を光ディスク１の記録層１ｂに集光する対
物レンズ１１３、および光ディスク１の記録層１ｂで反
射された反射レーザビーム１２を受光して、その光強度
に対応した電気信号を出力する第１の光検出器１１４を
有している。
けて所定の波長の光ビーム（レーザビーム）を出射する
レーザ装置１１２、レーザ装置１１２を出射されたレー
ザビーム１１を光ディスク１の記録層１ｂに集光する対
物レンズ１１３、および光ディスク１の記録層１ｂで反
射された反射レーザビーム１２を受光して、その光強度
に対応した電気信号を出力する第１の光検出器１１４を
有している。
【００１４】レーザ装置１１２と対物レンズ１１３との
間には、レーザ装置１１２の側から順に、レーザ装置１
１２から放射されたレーザビーム１１をコリメートする
コリメートレンズ１１５、コリメートレンズ１１５によ
りコリメートされたレーザビーム１１と光ディスク１の
記録層１ｂで反射された反射レーザビーム１２とを分離
する第１のビームスプリッタ１１６、（第１のビームス
プリッタ１１６を通過された）コリメートレンズ１１５
でコリメートされたレーザビーム１１の球面収差を補正
するためのリレーレンズ１１７、リレーレンズ１１７を
通過して光ディスク１の記録層１ｂに向かわせられるレ
ーザビーム１１と光ディスク１の記録層１ｂで反射され
た反射レーザビーム１２とを分離する第２のビームスプ
リッタ１１８、レーザ装置１１２から光ディスク１の記
録層１ｂに向けられるレーザビーム１１と光ディスク１
の記録層１ｂで反射された反射レーザビーム１２との間
のアイソレーションを整合するλ／４波長板１１９が、
設けられている。なお、図１に示した光ヘッド装置１１
１においては、一般に、光ディスク１の記録面と平行な
方向の厚さを低減するために、第２のビームスプリッタ
１１８を通過されて対物レンズ１１３に入射されるレー
ザビーム１１は、図示しない折り返しミラー（立ち上げ
ミラー）により９０°折り曲げられる。
間には、レーザ装置１１２の側から順に、レーザ装置１
１２から放射されたレーザビーム１１をコリメートする
コリメートレンズ１１５、コリメートレンズ１１５によ
りコリメートされたレーザビーム１１と光ディスク１の
記録層１ｂで反射された反射レーザビーム１２とを分離
する第１のビームスプリッタ１１６、（第１のビームス
プリッタ１１６を通過された）コリメートレンズ１１５
でコリメートされたレーザビーム１１の球面収差を補正
するためのリレーレンズ１１７、リレーレンズ１１７を
通過して光ディスク１の記録層１ｂに向かわせられるレ
ーザビーム１１と光ディスク１の記録層１ｂで反射され
た反射レーザビーム１２とを分離する第２のビームスプ
リッタ１１８、レーザ装置１１２から光ディスク１の記
録層１ｂに向けられるレーザビーム１１と光ディスク１
の記録層１ｂで反射された反射レーザビーム１２との間
のアイソレーションを整合するλ／４波長板１１９が、
設けられている。なお、図１に示した光ヘッド装置１１
１においては、一般に、光ディスク１の記録面と平行な
方向の厚さを低減するために、第２のビームスプリッタ
１１８を通過されて対物レンズ１１３に入射されるレー
ザビーム１１は、図示しない折り返しミラー（立ち上げ
ミラー）により９０°折り曲げられる。
【００１５】レーザ装置１１２は、例えば半導体レーザ
ダイオードであって、例えば４００ｎｍの波長のレーザ
ビーム１１を放射する。
ダイオードであって、例えば４００ｎｍの波長のレーザ
ビーム１１を放射する。
【００１６】レーザ装置１１２は、主制御装置１３１に
接続されたレーザドライバ１３２により、記録用、再生
用および消去用のそれぞれの光強度による発光が指示さ
れることで、対応する光強度のレーザビーム１１を出射
する。なお、レーザドライバ１３２は、記録時には、例
えばメモり１３３に保持された記録すべきデータに従っ
て発光強度が強度変調されたレーザビームが出力され
る。また、再生時には、記録用のレーザビームの光強度
に比較して、数分の１〜十数分の１程度のレーザビーム
が出力される。一方、消去時には、再生用のレーザビー
ムの光強度と記録用のレーザビームの光強度の間の所定
の光強度を有するレーザビームが出力される。
接続されたレーザドライバ１３２により、記録用、再生
用および消去用のそれぞれの光強度による発光が指示さ
れることで、対応する光強度のレーザビーム１１を出射
する。なお、レーザドライバ１３２は、記録時には、例
えばメモり１３３に保持された記録すべきデータに従っ
て発光強度が強度変調されたレーザビームが出力され
る。また、再生時には、記録用のレーザビームの光強度
に比較して、数分の１〜十数分の１程度のレーザビーム
が出力される。一方、消去時には、再生用のレーザビー
ムの光強度と記録用のレーザビームの光強度の間の所定
の光強度を有するレーザビームが出力される。
【００１７】対物レンズ１１３は、２つのレンズ１１３
ａおよび１１３ｂからなり、ＮＡで示される開口数は、
０．８〜０．９５に設定されている。なお、例えばこの
発明の実施の形態では、ＮＡは、０．８５程度である。
ａおよび１１３ｂからなり、ＮＡで示される開口数は、
０．８〜０．９５に設定されている。なお、例えばこの
発明の実施の形態では、ＮＡは、０．８５程度である。
【００１８】対物レンズ１１３を保持する図示しないレ
ンズホルダの所定の位置には、対物レンズ１１３と光デ
ィスク１の記録層１ｂとの間の距離が対物レンズ１１３
の焦点距離に一致するように、対物レンズ１１３を、レ
ーザ装置１１２と対物レンズ１１３との間に定義される
光軸Ｏに沿って移動させるための推力を発生するための
フォーカスコイル１２０と、フォーカスコイル１２０に
より提供される推力と対抗される磁界を発生する図示し
ない磁界発生装置が設けられている。
ンズホルダの所定の位置には、対物レンズ１１３と光デ
ィスク１の記録層１ｂとの間の距離が対物レンズ１１３
の焦点距離に一致するように、対物レンズ１１３を、レ
ーザ装置１１２と対物レンズ１１３との間に定義される
光軸Ｏに沿って移動させるための推力を発生するための
フォーカスコイル１２０と、フォーカスコイル１２０に
より提供される推力と対抗される磁界を発生する図示し
ない磁界発生装置が設けられている。
【００１９】図示しないレンズホルダの所定位置には、
対物レンズ１１３を通過したレーザビーム１１の中心と
光ディスク１の記録層１ｂの半径方向の所定の位置、例
えば記録層１ｂに予め形成されている図示しないピット
列または図示しない案内溝の中心とを一致させるための
推力を発生させるトラックコイル１２１と、トラックコ
イル１２１からの推力と対抗される磁界を発生する図示
しない磁界発生装置が設けられている。
対物レンズ１１３を通過したレーザビーム１１の中心と
光ディスク１の記録層１ｂの半径方向の所定の位置、例
えば記録層１ｂに予め形成されている図示しないピット
列または図示しない案内溝の中心とを一致させるための
推力を発生させるトラックコイル１２１と、トラックコ
イル１２１からの推力と対抗される磁界を発生する図示
しない磁界発生装置が設けられている。
【００２０】第１のビームスプリッタ１１６により光デ
ィスク１に向けられるレーザビーム１２から分離された
反射レーザビーム１２は、第１の光検出器１１４との間
に設けられた第１の結像レンズ１２２により所定の集束
性（結像特性）が与えられ、第１の光検出器１１４の図
示しない検出領域に結像される。なお、第１のビームス
プリッタ１１６は、周知のＰＢＳ（偏向ビームスプリッ
タ）であって、レーザ装置１１２を出射され、λ／４板
１１９を通過したのち、光ディスク１の記録面１ｂで反
射されて、再びλ／４板１１９を透過されて戻された反
射レーザビーム１３を、光検出器１１４に入射させる。
ィスク１に向けられるレーザビーム１２から分離された
反射レーザビーム１２は、第１の光検出器１１４との間
に設けられた第１の結像レンズ１２２により所定の集束
性（結像特性）が与えられ、第１の光検出器１１４の図
示しない検出領域に結像される。なお、第１のビームス
プリッタ１１６は、周知のＰＢＳ（偏向ビームスプリッ
タ）であって、レーザ装置１１２を出射され、λ／４板
１１９を通過したのち、光ディスク１の記録面１ｂで反
射されて、再びλ／４板１１９を透過されて戻された反
射レーザビーム１３を、光検出器１１４に入射させる。
【００２１】第１の光検出器１１４は、図示しない所定
の形状および面積の複数の検出領域を有し、フォーカス
コイル１２０およびトラックコイル１２１に供給される
べき制御電流の大きさを設定する際に要求される対物レ
ンズ１１３の位置を特定するために利用可能な反射レー
ザビームの結像パターン、および光ディスク１に記録さ
れている情報の再生信号（ＲＦ信号）の生成に利用可能
な結像パターンを受光して、それぞれに対応する所定の
大きさの電気信号（光強度に応じた電流）を、出力す
る。なお、光検出器１１４の図示しない各検出領域から
の出力は、一体に形成されている図示しない電流−電圧
変換増幅器（Ｉ／Ｖアンプ）により、電圧信号に変換さ
れる。
の形状および面積の複数の検出領域を有し、フォーカス
コイル１２０およびトラックコイル１２１に供給される
べき制御電流の大きさを設定する際に要求される対物レ
ンズ１１３の位置を特定するために利用可能な反射レー
ザビームの結像パターン、および光ディスク１に記録さ
れている情報の再生信号（ＲＦ信号）の生成に利用可能
な結像パターンを受光して、それぞれに対応する所定の
大きさの電気信号（光強度に応じた電流）を、出力す
る。なお、光検出器１１４の図示しない各検出領域から
の出力は、一体に形成されている図示しない電流−電圧
変換増幅器（Ｉ／Ｖアンプ）により、電圧信号に変換さ
れる。
【００２２】リレーレンズ１１７は、光軸Ｏに沿って配
置された第１および第２のレンズ１１７ａ、１１７ｂを
含む。２つのレンズのうちの一方のレンズ、この実施の
形態ではレンズ１１７ａ、がレーザビーム１１の進行方
向（光軸Ｏ）に沿って移動可能に形成されている。第１
のレンズ１１７ａは、例えば凸レンズであり、第２のレ
ンズ１１７ｂは凹レンズである。なお、移動可能なレン
ズ、この例では凸レンズ１１７ａ、を保持する図示しな
いレンズホルダには、レンズ１１７ａを移動させるため
の推力を発生する位置制御コイル１２３と、位置制御コ
イル１２３からの推力と対抗される磁界を発生する図示
しない磁界発生装置が設けられている。すなわち、リレ
ーレンズ１１７の一方のレンズ、この例では凸レンズ１
１７ａは、磁界発生装置により発生された磁界と位置制
御コイル１２３に電流が供給されることにより生じる磁
界とから、光軸Ｏに沿って移動される。なお、位置制御
コイル１２３に供給される電流の大きさは、第１の光検
出器１１４により生成された所定の電気信号に基づいて
以下に説明するリレーレンズ位置制御部により設定され
る所定の大きさに設定される。
置された第１および第２のレンズ１１７ａ、１１７ｂを
含む。２つのレンズのうちの一方のレンズ、この実施の
形態ではレンズ１１７ａ、がレーザビーム１１の進行方
向（光軸Ｏ）に沿って移動可能に形成されている。第１
のレンズ１１７ａは、例えば凸レンズであり、第２のレ
ンズ１１７ｂは凹レンズである。なお、移動可能なレン
ズ、この例では凸レンズ１１７ａ、を保持する図示しな
いレンズホルダには、レンズ１１７ａを移動させるため
の推力を発生する位置制御コイル１２３と、位置制御コ
イル１２３からの推力と対抗される磁界を発生する図示
しない磁界発生装置が設けられている。すなわち、リレ
ーレンズ１１７の一方のレンズ、この例では凸レンズ１
１７ａは、磁界発生装置により発生された磁界と位置制
御コイル１２３に電流が供給されることにより生じる磁
界とから、光軸Ｏに沿って移動される。なお、位置制御
コイル１２３に供給される電流の大きさは、第１の光検
出器１１４により生成された所定の電気信号に基づいて
以下に説明するリレーレンズ位置制御部により設定され
る所定の大きさに設定される。
【００２３】第２のビームスプリッタ１１８により光デ
ィスク１に向けられるレーザビーム１１から分離された
第３のレーザビーム１３が向けられる方向には、第３の
レーザビーム１３を受光して、その光強度に対応する電
気信号を出力する第２の光検出器１２４と、第２の光検
出器１２４に向けて第３のレーザビーム１３に所定の集
束性（結像特性）を与える第２の結像レンズ１２５が設
けられている。なお、第２のビームスプリッタ１１８に
よるレーザビーム１１とレーザビーム１３との分岐の割
合は、例えば９（レーザビーム１１）：１（レーザビー
ム１３）に設定されている。
ィスク１に向けられるレーザビーム１１から分離された
第３のレーザビーム１３が向けられる方向には、第３の
レーザビーム１３を受光して、その光強度に対応する電
気信号を出力する第２の光検出器１２４と、第２の光検
出器１２４に向けて第３のレーザビーム１３に所定の集
束性（結像特性）を与える第２の結像レンズ１２５が設
けられている。なお、第２のビームスプリッタ１１８に
よるレーザビーム１１とレーザビーム１３との分岐の割
合は、例えば９（レーザビーム１１）：１（レーザビー
ム１３）に設定されている。
【００２４】第２のビームスプリッタ１１８により光デ
ィスク１に向けられるレーザビーム１１から分離された
第３のレーザビーム１３は、第２の結像レンズ１２５で
所定の集束性（結像特性）が与えられ、第２の光検出器
１２４の図示しない検出領域に結像される。なお、第２
の結像レンズ１２５の光入射側の面（第２のビームスプ
リッタ１１８側の面）には、第２の結像レンズ１２５に
入射される第３のレーザビーム１３の光強度が、リレー
レンズ１１７の一方のレンズ（凸レンズ１１７ａ）の光
軸方向の移動により、対物レンズ１１３上でのビーム径
の変化量を検出するために、対物レンズ１１３のアパー
チャ１１３ａとほぼ同径のアパーチャ１２５ａが設けら
れている。すなわち、第２の結像レンズ１２５は、アパ
ーチャ１２５ａにより対物レンズ１１３の開口の大きさ
と概ね等しい大きさの開口が与えられている。
ィスク１に向けられるレーザビーム１１から分離された
第３のレーザビーム１３は、第２の結像レンズ１２５で
所定の集束性（結像特性）が与えられ、第２の光検出器
１２４の図示しない検出領域に結像される。なお、第２
の結像レンズ１２５の光入射側の面（第２のビームスプ
リッタ１１８側の面）には、第２の結像レンズ１２５に
入射される第３のレーザビーム１３の光強度が、リレー
レンズ１１７の一方のレンズ（凸レンズ１１７ａ）の光
軸方向の移動により、対物レンズ１１３上でのビーム径
の変化量を検出するために、対物レンズ１１３のアパー
チャ１１３ａとほぼ同径のアパーチャ１２５ａが設けら
れている。すなわち、第２の結像レンズ１２５は、アパ
ーチャ１２５ａにより対物レンズ１１３の開口の大きさ
と概ね等しい大きさの開口が与えられている。
【００２５】第２の光検出器１２４は、リレーレンズ１
１７を通過された光ディスク１に向けられるレーザビー
ム１１の光強度をモニタ可能な図示しない所定形状およ
び面積の検出領域を有し、受光したレーザビーム１３の
光強度に対応する所定の大きさの電気信号を出力する。
この第２の光検出器１２４から出力される電気信号は、
パワーコントロール回路１３４に入力され、第１のレー
ザビーム１１の強度変化を示す信号として、主制御装置
１３１の制御により、レーザドライバ１３２にフィード
バックされる。なお、パワーコントロール回路１３４
は、第２の光検出器、通常、ＡＰＣ用光検出器と呼ばれ
ている、第２の光検出器１２４から出力されるモニタ用
のレーザビーム１３の光強度をモニタする。パワーコン
トロール回路１３４の出力は、図示しないゲインコント
ローラにより所定のゲインが与えられた後、レーザドラ
イバ１３２からレーザ装置１１２に供給されるレーザ駆
動信号のフィードバック制御に利用される。これによ
り、レーザ装置１１２を出射され、対物レンズ１１３に
向けられるレーザビーム１１のリレーレンズ１１７を透
過後の光強度が一定に制御される。
１７を通過された光ディスク１に向けられるレーザビー
ム１１の光強度をモニタ可能な図示しない所定形状およ
び面積の検出領域を有し、受光したレーザビーム１３の
光強度に対応する所定の大きさの電気信号を出力する。
この第２の光検出器１２４から出力される電気信号は、
パワーコントロール回路１３４に入力され、第１のレー
ザビーム１１の強度変化を示す信号として、主制御装置
１３１の制御により、レーザドライバ１３２にフィード
バックされる。なお、パワーコントロール回路１３４
は、第２の光検出器、通常、ＡＰＣ用光検出器と呼ばれ
ている、第２の光検出器１２４から出力されるモニタ用
のレーザビーム１３の光強度をモニタする。パワーコン
トロール回路１３４の出力は、図示しないゲインコント
ローラにより所定のゲインが与えられた後、レーザドラ
イバ１３２からレーザ装置１１２に供給されるレーザ駆
動信号のフィードバック制御に利用される。これによ
り、レーザ装置１１２を出射され、対物レンズ１１３に
向けられるレーザビーム１１のリレーレンズ１１７を透
過後の光強度が一定に制御される。
【００２６】次に、リレーレンズ位置制御部について説
明する。
明する。
【００２７】リレーレンズ位置制御部１３５は、第１の
光検出器１１４から出力される所定の電気信号に基づい
て、凸レンズ１１７ａをレーザ装置１１２側に移動する
方向または凸レンズ１１７ａを対物レンズ１１３側に移
動する方向のいずれかの方向の駆動電流を、位置制御コ
イル１２３に供給する。
光検出器１１４から出力される所定の電気信号に基づい
て、凸レンズ１１７ａをレーザ装置１１２側に移動する
方向または凸レンズ１１７ａを対物レンズ１１３側に移
動する方向のいずれかの方向の駆動電流を、位置制御コ
イル１２３に供給する。
【００２８】位置制御コイル１２３に所定の方向の駆動
電流が供給されることで、凸レンズ１１７ａがレーザ装
置１１２側に移動されると、図２に示すように、対物レ
ンズ１１３に入射されるレーザビーム１１のビーム径が
大きくなる。この場合、第２のビームスプリッタ１１８
により分離され、第２のレンズ１２５および第２の光検
出器１２４に向けられる第３のレーザビームのビーム径
も大きくなる。
電流が供給されることで、凸レンズ１１７ａがレーザ装
置１１２側に移動されると、図２に示すように、対物レ
ンズ１１３に入射されるレーザビーム１１のビーム径が
大きくなる。この場合、第２のビームスプリッタ１１８
により分離され、第２のレンズ１２５および第２の光検
出器１２４に向けられる第３のレーザビームのビーム径
も大きくなる。
【００２９】一方、位置制御コイル１２３に図２に示し
た凸レンズ１１７ａの移動を可能とする方向とは逆向き
の移動を提供する方向の駆動電流が供給されると、凸レ
ンズ１１７ｂは、対物レンズ１１３側に移動される。こ
の場合、第２のビームスプリッタ１１８により分離さ
れ、第２のレンズ１２５および第２の光検出器１２４に
向けられる第３のレーザビームのビーム径は、図３に示
すように、減少される。
た凸レンズ１１７ａの移動を可能とする方向とは逆向き
の移動を提供する方向の駆動電流が供給されると、凸レ
ンズ１１７ｂは、対物レンズ１１３側に移動される。こ
の場合、第２のビームスプリッタ１１８により分離さ
れ、第２のレンズ１２５および第２の光検出器１２４に
向けられる第３のレーザビームのビーム径は、図３に示
すように、減少される。
【００３０】詳細には、リレーレンズ１１７は、光ディ
スク１の光透過層１ｃの厚さが規定どおりの値、例えば
０．１ｍｍである時には、位置制御コイル１２３に駆動
電流が供給されていない状態で、レーザ装置１１２から
光ディスク１の記録層１ｂに向けられるレーザビーム１
１を、対物レンズ１１３に平行光として入射するように
設計されている。
スク１の光透過層１ｃの厚さが規定どおりの値、例えば
０．１ｍｍである時には、位置制御コイル１２３に駆動
電流が供給されていない状態で、レーザ装置１１２から
光ディスク１の記録層１ｂに向けられるレーザビーム１
１を、対物レンズ１１３に平行光として入射するように
設計されている。
【００３１】これに対して、光ディスク１の光透過層１
ｃの厚さが所定値から外れた厚さである場合には、リレ
ーレンズ位置制御部１３５により位置制御コイル１２３
に、図２または図３に示すようないずれかの方向に、凸
レンズ１１７ａを移動させる方向の駆動電流が供給され
る。すなわち、光ディスク１の光透過層１ｃの厚さが規
定の厚さからずれている場合には、光透過層１ｃの厚み
の誤差に起因する球面収差が生じることから、光透過層
１ｃの厚み誤差に起因する球面収差を補正するために、
リレーレンズ１１７の凸レンズ１１７ａが、所定の方向
に、所定量だけ移動される。
ｃの厚さが所定値から外れた厚さである場合には、リレ
ーレンズ位置制御部１３５により位置制御コイル１２３
に、図２または図３に示すようないずれかの方向に、凸
レンズ１１７ａを移動させる方向の駆動電流が供給され
る。すなわち、光ディスク１の光透過層１ｃの厚さが規
定の厚さからずれている場合には、光透過層１ｃの厚み
の誤差に起因する球面収差が生じることから、光透過層
１ｃの厚み誤差に起因する球面収差を補正するために、
リレーレンズ１１７の凸レンズ１１７ａが、所定の方向
に、所定量だけ移動される。
【００３２】より詳細には、光ディスク１の光透過層１
ｃの厚さが規定値から外れている場合、リレーレンズ１
１７の凸レンズ１１７ａを、光ディスク１の光透過層１
ｃの厚み誤差の方向（誤差量）に応じて光軸に沿ってに
移動させ、対物レンズ１１３へ入射するレーザビーム１
１を収束光または発散光にすることにより、光透過層１
ｃの厚み誤差により生じる球面収差の影響を除去するこ
とができる。
ｃの厚さが規定値から外れている場合、リレーレンズ１
１７の凸レンズ１１７ａを、光ディスク１の光透過層１
ｃの厚み誤差の方向（誤差量）に応じて光軸に沿ってに
移動させ、対物レンズ１１３へ入射するレーザビーム１
１を収束光または発散光にすることにより、光透過層１
ｃの厚み誤差により生じる球面収差の影響を除去するこ
とができる。
【００３３】具体的には、光ディスク１の光透過層１ｃ
の厚みが既定値よりも厚い場合、光透過層１ｃの厚みの
誤差量に応じて、対物レンズ１１３へ入射するレーザビ
ーム１１が発散光になるように、リレーレンズ１１７の
凸レンズ１１７ａを光軸Ｏに沿って移動させればよい。
反対に、光透過層１ｃの厚みが既定値よりも薄い場合、
光透過層１ｃの厚みの誤差量に応じて、対物レンズ１１
３に入射されるレーザビーム１１が収束光になるよう
に、リレーレンズ１１７の凸レンズ１１７ａを、光軸Ｏ
に沿って移動させればよい。
の厚みが既定値よりも厚い場合、光透過層１ｃの厚みの
誤差量に応じて、対物レンズ１１３へ入射するレーザビ
ーム１１が発散光になるように、リレーレンズ１１７の
凸レンズ１１７ａを光軸Ｏに沿って移動させればよい。
反対に、光透過層１ｃの厚みが既定値よりも薄い場合、
光透過層１ｃの厚みの誤差量に応じて、対物レンズ１１
３に入射されるレーザビーム１１が収束光になるよう
に、リレーレンズ１１７の凸レンズ１１７ａを、光軸Ｏ
に沿って移動させればよい。
【００３４】換言すれば、リレーレンズ１１７の凸レン
ズ１１７ａ（凸レンズと凹レンズの一方のレンズ）は、
図２あるいは図３に示したいずれかの方向に移動される
ことで、光ディスク１の光透過層１ｃの厚み誤差に起因
する球面収差を補正するように、対物レンズ１１３に入
射するレーザビーム１１を、収束光もしくは発散光に変
換する。すなわち、対物レンズ１１３を通過されて光デ
ィスク１の記録層１ｂに集光されるレーザビーム１１
は、記録層１ｂの手前に位置されている光透過層１ｃの
厚さに誤差がある場合には、誤差の程度に応じて歪んだ
集光スポット形状で記録層１ｂに集光されることにな
る。ここで、対物レンズ１１３に入射されるレーザビー
ム１１を、光透過層１ｃの厚みの誤差によりレーザビー
ム１１に与えられる球面収差の量と概ね大きさが等し
く、光透過層１ｃの厚みの誤差により与えられる収束性
もしくは発散性光と極性（向き）が逆になる発散性また
は収束性とすることで、光透過層１ｃの厚み誤差の影響
を、リレーレンズ１１７の凸レンズ１１７ａと凹レンズ
１１７ｂとの間の距離により、うち消すことができる。
ズ１１７ａ（凸レンズと凹レンズの一方のレンズ）は、
図２あるいは図３に示したいずれかの方向に移動される
ことで、光ディスク１の光透過層１ｃの厚み誤差に起因
する球面収差を補正するように、対物レンズ１１３に入
射するレーザビーム１１を、収束光もしくは発散光に変
換する。すなわち、対物レンズ１１３を通過されて光デ
ィスク１の記録層１ｂに集光されるレーザビーム１１
は、記録層１ｂの手前に位置されている光透過層１ｃの
厚さに誤差がある場合には、誤差の程度に応じて歪んだ
集光スポット形状で記録層１ｂに集光されることにな
る。ここで、対物レンズ１１３に入射されるレーザビー
ム１１を、光透過層１ｃの厚みの誤差によりレーザビー
ム１１に与えられる球面収差の量と概ね大きさが等し
く、光透過層１ｃの厚みの誤差により与えられる収束性
もしくは発散性光と極性（向き）が逆になる発散性また
は収束性とすることで、光透過層１ｃの厚み誤差の影響
を、リレーレンズ１１７の凸レンズ１１７ａと凹レンズ
１１７ｂとの間の距離により、うち消すことができる。
【００３５】しかしながら、光ディスク１の光透過層１
ｃの厚み誤差による球面収差の影響を補正することによ
り、光ディスク１に向かうレーザビーム１１が収束ある
いは発散することになり、対物レンズ１１３に入射する
レーザビーム１１の光量は、対物レンズ１１３に設けら
れたアパーチャ１１３ｃによる開口制限を受けて変化す
ることになる。すなわち、レーザ装置１１２から放射さ
れるレーザビーム１１の強度を一定に維持したとして
も、対物レンズ１１３を通って光ディスク１の記録層１
ｂに集光されるレーザビーム１１の光強度は、リレーレ
ンズ１１７により、光ディスク１の光透過層１ｃの厚み
誤差を補正した程度に応じて変化する。
ｃの厚み誤差による球面収差の影響を補正することによ
り、光ディスク１に向かうレーザビーム１１が収束ある
いは発散することになり、対物レンズ１１３に入射する
レーザビーム１１の光量は、対物レンズ１１３に設けら
れたアパーチャ１１３ｃによる開口制限を受けて変化す
ることになる。すなわち、レーザ装置１１２から放射さ
れるレーザビーム１１の強度を一定に維持したとして
も、対物レンズ１１３を通って光ディスク１の記録層１
ｂに集光されるレーザビーム１１の光強度は、リレーレ
ンズ１１７により、光ディスク１の光透過層１ｃの厚み
誤差を補正した程度に応じて変化する。
【００３６】このことは、光ディスク１に記録されてい
る情報の再生時に、光ディスク１の記録層１ｂに照射さ
れるレーザビーム１１の光量が変化するだけでなく、記
録時にも、光ディスク１の記録層１ｂに照射される光量
（すなわち、記録層１ｂを相変化させるためのエネルギ
ー）が変化することを示し、光ディスク１の記録層１ｂ
への情報の記録および記録層１ｂからの情報の再生が不
安定となることを意味している。
る情報の再生時に、光ディスク１の記録層１ｂに照射さ
れるレーザビーム１１の光量が変化するだけでなく、記
録時にも、光ディスク１の記録層１ｂに照射される光量
（すなわち、記録層１ｂを相変化させるためのエネルギ
ー）が変化することを示し、光ディスク１の記録層１ｂ
への情報の記録および記録層１ｂからの情報の再生が不
安定となることを意味している。
【００３７】この発明の光ディスク装置１０１および光
ヘッド装置１１１では、光ディスク１の光透過層１ｃの
厚み誤差すなわち球面収差を補正した後のレーザビーム
１１の光量をモニタ可能に、パワーコントロール回路１
３４へのモニタ系（第２の光検出器１２４と第２のレン
ズ１２５、一般にはＡＰＣモニタ系と呼ばれている）を
構成したことで、光ディスク１の光透過層１ｂの厚み誤
差が生じたとしても、その影響による光量の変動をなく
すことが可能である。
ヘッド装置１１１では、光ディスク１の光透過層１ｃの
厚み誤差すなわち球面収差を補正した後のレーザビーム
１１の光量をモニタ可能に、パワーコントロール回路１
３４へのモニタ系（第２の光検出器１２４と第２のレン
ズ１２５、一般にはＡＰＣモニタ系と呼ばれている）を
構成したことで、光ディスク１の光透過層１ｂの厚み誤
差が生じたとしても、その影響による光量の変動をなく
すことが可能である。
【００３８】例えば、ＡＰＣモニタ系の第２のレンズ１
２５に、対物レンズ１１３と同等の開口制限を施すこと
で、光ディスク１の光透過層１ｃの厚み誤差である球面
収差を補正することで生じるレーザビーム１１の収束あ
るいは発散による対物レンズ１１３を通過するレーザビ
ーム１１の総光量の変化を、ＡＰＣ検出系においても検
出することが可能となる（開口制限は、対物レンズと完
全に同等にする必要はなく、線形性が保たれていればよ
い）。
２５に、対物レンズ１１３と同等の開口制限を施すこと
で、光ディスク１の光透過層１ｃの厚み誤差である球面
収差を補正することで生じるレーザビーム１１の収束あ
るいは発散による対物レンズ１１３を通過するレーザビ
ーム１１の総光量の変化を、ＡＰＣ検出系においても検
出することが可能となる（開口制限は、対物レンズと完
全に同等にする必要はなく、線形性が保たれていればよ
い）。
【００３９】なお、本発明のＡＰＣ検出系は、レーザ装
置１１２によるレーザビーム１１の放射特性に関してよ
く知られている温度変化によるレーザビーム１１の光量
変動を補正することも可能である。
置１１２によるレーザビーム１１の放射特性に関してよ
く知られている温度変化によるレーザビーム１１の光量
変動を補正することも可能である。
【００４０】例えば、光ディスク１の光透過層１ｃの厚
みを検出する方法として、第１に、対物レンズ１１３を
保持する図示しないレンズホルダ（アクチュエータ）を
光軸方向に移動させて、対物レンズ１１３を光軸方向
（フォーカス方向）に移動することを考える。対物レン
ズ１１３が光ディスク１の記録層１ｂに近づくに従っ
て、第１の光検出器１１４から出力されるフォーカス誤
差信号は、図４に示されるように、記録層１ｂの位置で
極性が反転するＳ字を示す。
みを検出する方法として、第１に、対物レンズ１１３を
保持する図示しないレンズホルダ（アクチュエータ）を
光軸方向に移動させて、対物レンズ１１３を光軸方向
（フォーカス方向）に移動することを考える。対物レン
ズ１１３が光ディスク１の記録層１ｂに近づくに従っ
て、第１の光検出器１１４から出力されるフォーカス誤
差信号は、図４に示されるように、記録層１ｂの位置で
極性が反転するＳ字を示す。
【００４１】このとき、光ディスク１が静止している
（回転されていない）とすると、対物レンズ１１３の移
動距離は、フォーカスコイル１２０に供給される電流値
と対応づけることができる。すなわち、フォーカスコイ
ル１２０に供給される電流値と記録層１ｂを中心とした
対物レンズ１１３により所定の距離に収束されるレーザ
ビームの位置のずれを示すフォーカス誤差信号のＳ字曲
線から、光透過層１ｃの厚さを検出可能である。
（回転されていない）とすると、対物レンズ１１３の移
動距離は、フォーカスコイル１２０に供給される電流値
と対応づけることができる。すなわち、フォーカスコイ
ル１２０に供給される電流値と記録層１ｂを中心とした
対物レンズ１１３により所定の距離に収束されるレーザ
ビームの位置のずれを示すフォーカス誤差信号のＳ字曲
線から、光透過層１ｃの厚さを検出可能である。
【００４２】このようにして検出された光ディスク１の
光透過層１ｃの厚さに応じて、その厚さの誤差である球
面収差を打ち消すように、リレーレンズ１１７の一方、
この例では凸レンズ１０７ａ、を所定量移動させること
で、対物レンズ１１３に入射されるレーザビーム１１の
光強度を一定に維持できる。
光透過層１ｃの厚さに応じて、その厚さの誤差である球
面収差を打ち消すように、リレーレンズ１１７の一方、
この例では凸レンズ１０７ａ、を所定量移動させること
で、対物レンズ１１３に入射されるレーザビーム１１の
光強度を一定に維持できる。
【００４３】なお、第２のビームスプリッタ１１８によ
り光ディスク１に向けられるレーザビーム１１から分岐
されたＡＰＣモニタ用の第３のレーザビーム１３も、リ
レーレンズ１１７の一方のレンズが移動されて光束が収
束または発散されるが、第２のレンズに設けられたアパ
ーチャ１２５ａにより開口制限の結果、第２のレンズ１
２５すなわち第２の光検出器１２４に入射されるレーザ
ビーム１３の光量は、図２または図３を用いて既に説明
した通り、リレーレンズ１１７の一方のレンズすなわち
凸レンズ１１７ａの位置に拘わりなく概ね一定に維持さ
れる。従って、第２の光検出器１２４から出力されるパ
ワーモニタ用の出力の大きさは、リレーレンズ１１７の
凸レンズ１１７ａの位置に拘わりなく、レーザ装置１１
２が放射するレーザビーム１１（１３）の光強度に、正
確に反映される。
り光ディスク１に向けられるレーザビーム１１から分岐
されたＡＰＣモニタ用の第３のレーザビーム１３も、リ
レーレンズ１１７の一方のレンズが移動されて光束が収
束または発散されるが、第２のレンズに設けられたアパ
ーチャ１２５ａにより開口制限の結果、第２のレンズ１
２５すなわち第２の光検出器１２４に入射されるレーザ
ビーム１３の光量は、図２または図３を用いて既に説明
した通り、リレーレンズ１１７の一方のレンズすなわち
凸レンズ１１７ａの位置に拘わりなく概ね一定に維持さ
れる。従って、第２の光検出器１２４から出力されるパ
ワーモニタ用の出力の大きさは、リレーレンズ１１７の
凸レンズ１１７ａの位置に拘わりなく、レーザ装置１１
２が放射するレーザビーム１１（１３）の光強度に、正
確に反映される。
【００４４】なお、図１〜図３に示した第１の実施の形
態においては、光ディスク１が回転する前に光透過層１
ｃの厚さを検出する例を説明したが、例えば光ディスク
１の記録層１ｂの所定領域に、光透過層１ｃの厚さの変
化を示す情報を予め記録することで、記録あるいは再生
に先だって、光透過層１ｃの厚さの変化を示す情報を読
み取り、光透過層１ｃの厚さが変化している領域もしく
は位置における光透過層の厚さ誤差の影響を打ち消すよ
うに、リレーレンズ１１７の凸レンズ１１７ａの位置を
制御してもよい。
態においては、光ディスク１が回転する前に光透過層１
ｃの厚さを検出する例を説明したが、例えば光ディスク
１の記録層１ｂの所定領域に、光透過層１ｃの厚さの変
化を示す情報を予め記録することで、記録あるいは再生
に先だって、光透過層１ｃの厚さの変化を示す情報を読
み取り、光透過層１ｃの厚さが変化している領域もしく
は位置における光透過層の厚さ誤差の影響を打ち消すよ
うに、リレーレンズ１１７の凸レンズ１１７ａの位置を
制御してもよい。
【００４５】また、上述した実施の形態では、光ディス
ク１の記録層１ｂとレーザ装置１１２との間に位置され
ている光透過層１ｃの厚みの誤差に起因するレーザビー
ムの光量変化を補正する方法として、凸レンズ１１７ａ
と凹レンズ１１７ｂとからなるリレーレンズ１１７を用
い、その一方のレンズを移動させる例を説明したが、球
面収差を補正するにあたって、図５に示すように、外部
からの信号により屈折率を変化させることが可能な光学
素子、例えばＥＣＢ（印加電圧により屈折率が変化す
る）タイプの液晶素子２４１と、その液晶素子２４１の
屈折率を変化させるための球面収差補正量制御装置２５
１とを用いても同様の効果が得られる（図５に示す構成
は、図１に示した光ヘッド装置１１１のリレーレンズ１
１７と位置制御コイル１２３に代えて、ＥＣＢ（electr
ically controlled birefringence）タイプの液晶素子
２４１を用い、リレーレンズ位置制御１３５を球面収差
補正量制御部２５１に置き換えたのみであるから、それ
以外の共通な構成に対する詳細な説明は省略してい
る）。
ク１の記録層１ｂとレーザ装置１１２との間に位置され
ている光透過層１ｃの厚みの誤差に起因するレーザビー
ムの光量変化を補正する方法として、凸レンズ１１７ａ
と凹レンズ１１７ｂとからなるリレーレンズ１１７を用
い、その一方のレンズを移動させる例を説明したが、球
面収差を補正するにあたって、図５に示すように、外部
からの信号により屈折率を変化させることが可能な光学
素子、例えばＥＣＢ（印加電圧により屈折率が変化す
る）タイプの液晶素子２４１と、その液晶素子２４１の
屈折率を変化させるための球面収差補正量制御装置２５
１とを用いても同様の効果が得られる（図５に示す構成
は、図１に示した光ヘッド装置１１１のリレーレンズ１
１７と位置制御コイル１２３に代えて、ＥＣＢ（electr
ically controlled birefringence）タイプの液晶素子
２４１を用い、リレーレンズ位置制御１３５を球面収差
補正量制御部２５１に置き換えたのみであるから、それ
以外の共通な構成に対する詳細な説明は省略してい
る）。
【００４６】この場合、球面収差補正量制御装置２５１
に供給される制御量としては、図１〜図３に示した第１
の光検出器１１４から出力される出力信号から得られる
対物レンズ１１３の位置を示す制御量が、そのまま利用
可能であることはいうまでもない。
に供給される制御量としては、図１〜図３に示した第１
の光検出器１１４から出力される出力信号から得られる
対物レンズ１１３の位置を示す制御量が、そのまま利用
可能であることはいうまでもない。
【００４７】なお、上述した実施の形態においては、相
変化型の光ディスクを例に説明したが、光透過層を有す
る記録媒体向けのさまざまな光ヘッド装置および光ディ
スク装置に利用可能であり、また適用可能な記録媒体と
しても、再生専用ディスクや光磁気ディスクもしくは光
カード等がある。
変化型の光ディスクを例に説明したが、光透過層を有す
る記録媒体向けのさまざまな光ヘッド装置および光ディ
スク装置に利用可能であり、また適用可能な記録媒体と
しても、再生専用ディスクや光磁気ディスクもしくは光
カード等がある。
【００４８】次に、図６（ａ）および（ｂ）を用いて、
この発明の光ディスク装置の第２の実施の形態を、説明
する。なお、図１に示した光ディスク装置と同一の構成
には、同じ符号を附して詳細な説明を省略する。
この発明の光ディスク装置の第２の実施の形態を、説明
する。なお、図１に示した光ディスク装置と同一の構成
には、同じ符号を附して詳細な説明を省略する。
【００４９】図６（ａ）および（ｂ）に示す光ディスク
装置３０１においては、第２のビームスプリッタ３１８
により光ディスク１に向けられるレーザビーム１１から
分岐された第３のレーザビーム１３は、所定の大きさの
アパーチャ３６１ａが光入射面に一体的に設けられてい
る光検出器３６１に照射される。なお、光検出器３６１
の光検出領域（受光面）３６１ｂの大きさは、リレーレ
ンズ１１７により所定の断面形状（面積）が与えらえた
レーザビーム１１に比較して、小さく定義されている。
すなわち、光検出器３６１の受光面３６１ｂは、アパー
チャ３６１ａにより開口制限の効果を得ている。
装置３０１においては、第２のビームスプリッタ３１８
により光ディスク１に向けられるレーザビーム１１から
分岐された第３のレーザビーム１３は、所定の大きさの
アパーチャ３６１ａが光入射面に一体的に設けられてい
る光検出器３６１に照射される。なお、光検出器３６１
の光検出領域（受光面）３６１ｂの大きさは、リレーレ
ンズ１１７により所定の断面形状（面積）が与えらえた
レーザビーム１１に比較して、小さく定義されている。
すなわち、光検出器３６１の受光面３６１ｂは、アパー
チャ３６１ａにより開口制限の効果を得ている。
【００５０】このように、図６（ａ）および（ｂ）に示
した光ディスク装置３０１においては、光検出器３６１
は、図１を用いて前に説明したアパーチャ１２５ａが設
けられている結像レンズ１２５と光検出器１２４とを合
わせた効果を示す。なお、光検出器３６１は、第２のビ
ームスプリッタ３１８に近接した位置、あるいは第２の
ビームスプリッタ３１８の第３のレーザビーム１３を出
射する側の面に、直接設けることができる。従って、光
ヘッド装置３１１の大きさがコンパクトに構成可能であ
る。
した光ディスク装置３０１においては、光検出器３６１
は、図１を用いて前に説明したアパーチャ１２５ａが設
けられている結像レンズ１２５と光検出器１２４とを合
わせた効果を示す。なお、光検出器３６１は、第２のビ
ームスプリッタ３１８に近接した位置、あるいは第２の
ビームスプリッタ３１８の第３のレーザビーム１３を出
射する側の面に、直接設けることができる。従って、光
ヘッド装置３１１の大きさがコンパクトに構成可能であ
る。
【００５１】また、図６（ａ）および（ｂ）に示した光
ヘッド装置３１１においても、図１に示した光ヘッド装
置１１１と同様に、光ディスク１の記録面と平行な方向
の厚さを低減するため、第２のビームスプリッタ３１８
を通過されて対物レンズ１１３に入射されるレーザビー
ム１１は、折り返しミラー（立ち上げミラー）により９
０°折り曲げられる。なお、折り返しミラーは、図６
（ａ）および（ｂ）に示すように、第２のビームスプリ
ッタ３１８のビームスプリット面３１８ａと兼用されて
もよい。
ヘッド装置３１１においても、図１に示した光ヘッド装
置１１１と同様に、光ディスク１の記録面と平行な方向
の厚さを低減するため、第２のビームスプリッタ３１８
を通過されて対物レンズ１１３に入射されるレーザビー
ム１１は、折り返しミラー（立ち上げミラー）により９
０°折り曲げられる。なお、折り返しミラーは、図６
（ａ）および（ｂ）に示すように、第２のビームスプリ
ッタ３１８のビームスプリット面３１８ａと兼用されて
もよい。
【００５２】また、図６（ａ）および（ｂ）に示した光
ディスク装置も、相変化型の光ディスクに係わらず、光
透過層を有する記録媒体向けのさまざまな光ヘッド装置
および光ディスク装置に利用可能であり、また適用可能
な記録媒体としても、再生専用ディスクや光磁気ディス
クもしくは光カード等がある。
ディスク装置も、相変化型の光ディスクに係わらず、光
透過層を有する記録媒体向けのさまざまな光ヘッド装置
および光ディスク装置に利用可能であり、また適用可能
な記録媒体としても、再生専用ディスクや光磁気ディス
クもしくは光カード等がある。
【００５３】次に、図７を用いて、この発明の光ディス
ク装置の第３の実施の形態を、説明する。なお、図１
（図６（ａ）および（ｂ））に示した光ディスク装置と
同一の構成には、同じ符号を附して詳細な説明を省略す
る。
ク装置の第３の実施の形態を、説明する。なお、図１
（図６（ａ）および（ｂ））に示した光ディスク装置と
同一の構成には、同じ符号を附して詳細な説明を省略す
る。
【００５４】図７に示す光ディスク装置４０１において
は、レーザ装置４１２に予め組み込まれ、レーザ装置４
１２が放射するレーザビーム１１の光強度に比例した電
流を出力するバックモニタ機構４１２ａからの出力信号
を、パワーコントロール回路１３４とは独立に、主制御
回路１３１に、フィードバックしていることを特徴とし
ている。
は、レーザ装置４１２に予め組み込まれ、レーザ装置４
１２が放射するレーザビーム１１の光強度に比例した電
流を出力するバックモニタ機構４１２ａからの出力信号
を、パワーコントロール回路１３４とは独立に、主制御
回路１３１に、フィードバックしていることを特徴とし
ている。
【００５５】図７に示される通り、主制御回路１３１に
は、ＡＰＣ検出系、すなわち第２のビームスプリッタ１
１８により光ディスク１に向けられるレーザビーム１１
から分離された第３のレーザビーム１３の光強度を第２
の光検出器１２４で検出した第１のパワーモニタ信号Ｐ
１と、レーザ装置４１２のバックモニタ機構４１２ａか
ら出力されるバックモニタ信号Ｐ２とが、主制御回路１
３１に入力される。
は、ＡＰＣ検出系、すなわち第２のビームスプリッタ１
１８により光ディスク１に向けられるレーザビーム１１
から分離された第３のレーザビーム１３の光強度を第２
の光検出器１２４で検出した第１のパワーモニタ信号Ｐ
１と、レーザ装置４１２のバックモニタ機構４１２ａか
ら出力されるバックモニタ信号Ｐ２とが、主制御回路１
３１に入力される。
【００５６】なお、バックモニタ信号Ｐ２には、リレー
レンズ１１７の凸レンズ１１７ａの位置に拘わりなく、
レーザ装置４１２が放射するレーザビーム１１の光量に
比例した信号が出力される。このバックモニタ信号Ｐ２
とＡＰＣ向け光検出器１２４からの出力信号Ｐ１とを比
較することで、リレーレンズ１１７の一方のレンズ、凸
レンズ１１７ａの位置情報を得ることができる。
レンズ１１７の凸レンズ１１７ａの位置に拘わりなく、
レーザ装置４１２が放射するレーザビーム１１の光量に
比例した信号が出力される。このバックモニタ信号Ｐ２
とＡＰＣ向け光検出器１２４からの出力信号Ｐ１とを比
較することで、リレーレンズ１１７の一方のレンズ、凸
レンズ１１７ａの位置情報を得ることができる。
【００５７】すなわち、ＡＰＣモニタ系の制御ループ
（第２の光検出器１２４、パワーコントロール１３４、
レーザドライバ１３２、レーザ装置４１２）により、Ａ
ＰＣ用光検出器１２４の出力は、対物レンズ１１３上で
のレーザビーム１１の光強度が予め決められた光強度に
維持可能に、一定の値にフィードバック制御されるが、
リレーレンズ１１７の凸レンズ１１７ａが光軸Ｏに沿っ
て移動された場合、フィードバック制御により、レーザ
装置４１２から放射されるレーザビーム１１の光強度が
変動する。
（第２の光検出器１２４、パワーコントロール１３４、
レーザドライバ１３２、レーザ装置４１２）により、Ａ
ＰＣ用光検出器１２４の出力は、対物レンズ１１３上で
のレーザビーム１１の光強度が予め決められた光強度に
維持可能に、一定の値にフィードバック制御されるが、
リレーレンズ１１７の凸レンズ１１７ａが光軸Ｏに沿っ
て移動された場合、フィードバック制御により、レーザ
装置４１２から放射されるレーザビーム１１の光強度が
変動する。
【００５８】このレーザビーム１１の光強度の変動をモ
ニタすることにより、リレーレンズ１１７の凸レンズ１
１７ａの位置（移動量）を検出できる。
ニタすることにより、リレーレンズ１１７の凸レンズ１
１７ａの位置（移動量）を検出できる。
【００５９】また、予め光ディスク１の記録層１ｂの所
定の位置に、光透過層１ｃの厚さを記録した光ディスク
１においては、記録されている光透過層１ｃの厚さの情
報を読み取って、リレーレンズ１１７の凸レンズ１１７
ａの位置を半固定に設定（記録されている厚さに合わせ
てリレーレンズ位置制御部１３５から位置制御コイル１
２３に出力される制御量を概ね固定）することで、主制
御装置１３１により設定される凸レンズ１１７ａの位置
とリレーレンズ１１７の凸レンズ１１７ａの実際の位置
との誤差が大きく、光ディスク装置４０１（１０１）の
個体毎に、ばらつきが存在する場合には、任意の光ディ
スク装置において、主制御装置１３１により設定される
凸レンズ１１７ａの位置と実際の凸レンズ１１７ａの位
置の誤差を、予め校正することによって、より正確な球
面収差の補正が可能となる。
定の位置に、光透過層１ｃの厚さを記録した光ディスク
１においては、記録されている光透過層１ｃの厚さの情
報を読み取って、リレーレンズ１１７の凸レンズ１１７
ａの位置を半固定に設定（記録されている厚さに合わせ
てリレーレンズ位置制御部１３５から位置制御コイル１
２３に出力される制御量を概ね固定）することで、主制
御装置１３１により設定される凸レンズ１１７ａの位置
とリレーレンズ１１７の凸レンズ１１７ａの実際の位置
との誤差が大きく、光ディスク装置４０１（１０１）の
個体毎に、ばらつきが存在する場合には、任意の光ディ
スク装置において、主制御装置１３１により設定される
凸レンズ１１７ａの位置と実際の凸レンズ１１７ａの位
置の誤差を、予め校正することによって、より正確な球
面収差の補正が可能となる。
【００６０】なお、図７に示した光ディスク装置４０１
においては、リレーレンズ１１７の凸レンズ１１７ａの
位置を求めることができるので、光ディスク１への情報
の記録の際に、レーザ装置１２２に供給されるレーザ駆
動電流の大きさと実際に放射されるレーザビーム１１の
光強度をキャリブレーションする（相関をとる）ことが
できる。
においては、リレーレンズ１１７の凸レンズ１１７ａの
位置を求めることができるので、光ディスク１への情報
の記録の際に、レーザ装置１２２に供給されるレーザ駆
動電流の大きさと実際に放射されるレーザビーム１１の
光強度をキャリブレーションする（相関をとる）ことが
できる。
【００６１】また、上述した実施の形態と同様に、図７
に示した光ディスク装置４０１においても、相変化型の
光ディスクを例に説明したが、光透過層を有する記録媒
体向けのさまざまな光ヘッド装置および光ディスク装置
に利用可能であり、また適用可能な記録媒体としても、
再生専用ディスクや光磁気ディスクもしくは光カード等
がある。
に示した光ディスク装置４０１においても、相変化型の
光ディスクを例に説明したが、光透過層を有する記録媒
体向けのさまざまな光ヘッド装置および光ディスク装置
に利用可能であり、また適用可能な記録媒体としても、
再生専用ディスクや光磁気ディスクもしくは光カード等
がある。
【００６２】図８は、図７に示した光ディスク装置の変
形例である。なお、この光ディスク装置は、図５を用い
て前に説明したリレーレンズの代わりに液晶素子を用い
る光ディスク装置に、図７に示したバックモニタ信号の
概念を組み合わせるものである。なお、前に説明した他
の光ディスク装置と同一の構成には、同じ符号を附して
詳細な説明を、省略する。
形例である。なお、この光ディスク装置は、図５を用い
て前に説明したリレーレンズの代わりに液晶素子を用い
る光ディスク装置に、図７に示したバックモニタ信号の
概念を組み合わせるものである。なお、前に説明した他
の光ディスク装置と同一の構成には、同じ符号を附して
詳細な説明を、省略する。
【００６３】図８に示す光ディスク装置５０１は、光デ
ィスク１に向けられるレーザビーム１１からＡＰＣ向け
のレーザビーム１３を分岐する第２のビームスプリッタ
１１８と第１の光検出器１１４に向けて反射レーザビー
ム１２を分岐する第１のビームスプリッタ１１６との間
に、外部からの信号により屈折率を変化させることが可
能な光学素子、例えばＥＣＢ（印加電圧により屈折率が
変化する）タイプの液晶素子２４１と、その液晶素子２
４１の屈折率を変化させるための球面収差補正量制御装
置２５１とが挿入されているものである。
ィスク１に向けられるレーザビーム１１からＡＰＣ向け
のレーザビーム１３を分岐する第２のビームスプリッタ
１１８と第１の光検出器１１４に向けて反射レーザビー
ム１２を分岐する第１のビームスプリッタ１１６との間
に、外部からの信号により屈折率を変化させることが可
能な光学素子、例えばＥＣＢ（印加電圧により屈折率が
変化する）タイプの液晶素子２４１と、その液晶素子２
４１の屈折率を変化させるための球面収差補正量制御装
置２５１とが挿入されているものである。
【００６４】なお、液晶素子２４１は、リレーレンズ１
１７の凸レンズ１１７ａのように、それ自身が光軸に沿
って移動されるものではなく、液晶素子２４１に供給さ
れる駆動電圧と実際に収差を補正する量との誤差に関
し、光ディスク装置の個体誤差あるいは液層素子の個体
誤差に対し、光ディスク１への情報の記録の際に、レー
ザ装置１２２に供給されるレーザ駆動電流の大きさと実
際に放射されるレーザビーム１１の光強度をキャリブレ
ーションする（相関をとる）ことができる。
１７の凸レンズ１１７ａのように、それ自身が光軸に沿
って移動されるものではなく、液晶素子２４１に供給さ
れる駆動電圧と実際に収差を補正する量との誤差に関
し、光ディスク装置の個体誤差あるいは液層素子の個体
誤差に対し、光ディスク１への情報の記録の際に、レー
ザ装置１２２に供給されるレーザ駆動電流の大きさと実
際に放射されるレーザビーム１１の光強度をキャリブレ
ーションする（相関をとる）ことができる。
【００６５】以上説明したようにこの発明は、光ディス
ク装置に組み込まれる光ヘッド装置において、レーザ装
置から放射されたレーザビームが通過される光ディスク
の光透過層（透明カバー）の厚み誤差の影響を受けるこ
となく、レーザ装置から出射されるレーザビームの光強
度を一定に維持できる。なお、レーザビームのパワーを
正確にモニタするために、モニタ用のレーザビームに
は、リレーレンズと対物レンズとの間で、レーザ装置か
ら見るとリレーレンズを通過されたレーザビームを用い
ている。
ク装置に組み込まれる光ヘッド装置において、レーザ装
置から放射されたレーザビームが通過される光ディスク
の光透過層（透明カバー）の厚み誤差の影響を受けるこ
となく、レーザ装置から出射されるレーザビームの光強
度を一定に維持できる。なお、レーザビームのパワーを
正確にモニタするために、モニタ用のレーザビームに
は、リレーレンズと対物レンズとの間で、レーザ装置か
ら見るとリレーレンズを通過されたレーザビームを用い
ている。
【００６６】また、レーザビームの光強度をモニタする
ためのパワーモニタ用の光検出器にレーザビームを結像
させる結像レンズに開口制限を与えたことにより、モニ
タ用のレーザビームの光強度が対物レンズに入射される
レーザビームと同等もしくは所定の相関を有することか
ら、対物レンズにより光ディスクの記録層に集光される
レーザビームの光強度を一定に維持することのできるレ
ーザ装置の発光制御が実現される。なお、モニタ用のレ
ーザビームを開口制限機能が設けられた光検出器により
検出することで、分岐した後の光学要素の配列を低減ま
たは省略可能であり、光ヘッド装置が小型化される。
ためのパワーモニタ用の光検出器にレーザビームを結像
させる結像レンズに開口制限を与えたことにより、モニ
タ用のレーザビームの光強度が対物レンズに入射される
レーザビームと同等もしくは所定の相関を有することか
ら、対物レンズにより光ディスクの記録層に集光される
レーザビームの光強度を一定に維持することのできるレ
ーザ装置の発光制御が実現される。なお、モニタ用のレ
ーザビームを開口制限機能が設けられた光検出器により
検出することで、分岐した後の光学要素の配列を低減ま
たは省略可能であり、光ヘッド装置が小型化される。
【００６７】さらに、リレーレンズに代えて、印加され
る電圧に応じて屈折率が変化する、例えばＥＣＢタイプ
の液晶素子を用いても、同様の光ヘッド装置が得られ
る。
る電圧に応じて屈折率が変化する、例えばＥＣＢタイプ
の液晶素子を用いても、同様の光ヘッド装置が得られ
る。
【００６８】またさらに、レーザ装置から放射されるレ
ーザビームの光強度と光ディスクの光透過層の厚み誤差
の影響を補正した後のレーザビームの光強度を比較する
ことで、光透過層の厚み誤差の影響を補正するためのリ
レーレンズのうちの移動可能なレンズの位置が検知でき
る。これにより、リレーレンズの移動可能なレンズの位
置の設定値と実際のリレーレンズの移動可能なレンズの
位置とのキャリブレーションできる。
ーザビームの光強度と光ディスクの光透過層の厚み誤差
の影響を補正した後のレーザビームの光強度を比較する
ことで、光透過層の厚み誤差の影響を補正するためのリ
レーレンズのうちの移動可能なレンズの位置が検知でき
る。これにより、リレーレンズの移動可能なレンズの位
置の設定値と実際のリレーレンズの移動可能なレンズの
位置とのキャリブレーションできる。
【００６９】なお、リレーレンズに代えて、印加される
電圧に応じて屈折率が変化する、例えばＥＣＢタイプの
液晶素子を用いても、印加される電圧と実際の屈折率と
の間の偏差（個体誤差）をキャリブレーションできる。
電圧に応じて屈折率が変化する、例えばＥＣＢタイプの
液晶素子を用いても、印加される電圧と実際の屈折率と
の間の偏差（個体誤差）をキャリブレーションできる。
【００７０】すなわち、この発明によれば、光ヘッド装
置に搭載される対物レンズの開口数ＮＡを増大する一方
で、光ディスクの表面カバー層の厚みを薄くした高密度
記録が可能な光ディスク装置および光ヘッド装置におい
て、光ディスクの表面カバー層すなわち光透過層の厚み
誤差に起因する球面収差の影響が防止できるので、記録
密度が向上され、容量が増大される。なお、この発明
は、光透過層の厚み誤差の影響を抑止するために、凸レ
ンズと凹レンズからなるリレーレンズの一方のレンズを
光軸に沿って移動させた場合でも、対物レンズを通過し
て光ディスクの記録面に集光されるレーザビームの光量
を一定に維持できるので、安定な情報の記録と、安定な
信号の再生が可能となる。また、リレーレンズの移動量
（位置）を検出することも要求されない。
置に搭載される対物レンズの開口数ＮＡを増大する一方
で、光ディスクの表面カバー層の厚みを薄くした高密度
記録が可能な光ディスク装置および光ヘッド装置におい
て、光ディスクの表面カバー層すなわち光透過層の厚み
誤差に起因する球面収差の影響が防止できるので、記録
密度が向上され、容量が増大される。なお、この発明
は、光透過層の厚み誤差の影響を抑止するために、凸レ
ンズと凹レンズからなるリレーレンズの一方のレンズを
光軸に沿って移動させた場合でも、対物レンズを通過し
て光ディスクの記録面に集光されるレーザビームの光量
を一定に維持できるので、安定な情報の記録と、安定な
信号の再生が可能となる。また、リレーレンズの移動量
（位置）を検出することも要求されない。
【００７１】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、光ディスクへの情報の記録、および光ディスクから
の情報の再生に用いられる光ヘッドおよびその光ヘッド
を有する光ディスク装置において、光ディスクの表面樹
脂層の厚みに起因して生じる球面収差の影響を除去する
ことができる。これにより、対物レンズにより光ディス
クの記録面に収束されるレーザビームの光量が変動する
ことが防止され、安定な情報の記録および安定な情報の
再生が可能となる。
ば、光ディスクへの情報の記録、および光ディスクから
の情報の再生に用いられる光ヘッドおよびその光ヘッド
を有する光ディスク装置において、光ディスクの表面樹
脂層の厚みに起因して生じる球面収差の影響を除去する
ことができる。これにより、対物レンズにより光ディス
クの記録面に収束されるレーザビームの光量が変動する
ことが防止され、安定な情報の記録および安定な情報の
再生が可能となる。
【図１】この発明の光ヘッド装置およびその光ヘッド装
置を利用した光ディスク装置の一例を説明する概略図。
置を利用した光ディスク装置の一例を説明する概略図。
【図２】図１に示した光ヘッド装置の動作の一例を説明
する概略図。
する概略図。
【図３】図１に示した光ヘッド装置の動作の一例であっ
て、ＦＩＧ．２に示した方向と逆の方向への動作の一例
を説明する概略図。
て、ＦＩＧ．２に示した方向と逆の方向への動作の一例
を説明する概略図。
【図４】図１ないし図３に示した光ヘッド装置のフォー
カス誤差信号の出力特性の一例を説明する概略図。
カス誤差信号の出力特性の一例を説明する概略図。
【図５】図１に示した光ディスク装置の別の実施の形態
を説明する概略図。
を説明する概略図。
【図６】図１に示した光ディスク装置のさらに別の実施
の形態を説明する概略図。
の形態を説明する概略図。
【図７】図１に示した光ディスク装置のまたさらに別の
実施の形態を説明する概略図。
実施の形態を説明する概略図。
【図８】図７に示した光ディスク装置を変形した実施の
形態の一例を説明する概略図。
形態の一例を説明する概略図。
１ ・・・光ディスク、
１ａ・・・基板、
１ｂ・・・記録層、
１ｃ・・・光透過層（透明保護層）、
１０１ ・・・光ディスク装置、
１０２ ・・・スピンドルモータ、
１１１ ・・・光ヘッド装置、
１１２ ・・・レーザ装置、
１１３ ・・・対物レンズ、
１１３ａ・・・（対物レンズ）、
１１３ｂ・・・（対物レンズ）、
１１３ｃ・・・アパーチャ、
１１４ ・・・第１の光検出器、
１１５ ・・・コリメートレンズ、
１１６ ・・・第１のビームスプリッタ、
１１７ ・・・リレーレンズ、
１１７ａ・・・凸レンズ、
１１７ｂ・・・凹レンズ、
１１８ ・・・第２のビームスプリッタ、
１１９ ・・・λ／４波長板、
１２０ ・・・フォーカスコイル、
１２１ ・・・トラックコイル、
１２２ ・・・第１の結像レンズ、
１２３ ・・・位置制御コイル、
１２４ ・・・第２の光検出器、
１２５ ・・・第２の結像レンズ、
１２５ａ・・・アパーチャ、
１３１ ・・・主制御装置、
１３２ ・・・レーザドライバ、
１３３ ・・・メモり、
１３４ ・・・パワーコントロール回路、
１３５ ・・・リレーレンズ位置制御部、
２０１ ・・・光ディスク装置、
２１１ ・・・光ヘッド装置、
２４１ ・・・ＥＣＢタイプ液晶素子、
２５１ ・・・球面収差補正量制御装置、
３０１ ・・・光ディスク装置、
３１１ ・・・光ヘッド装置、
３１８ ・・・第２のビームスプリッタ、
３１８ａ・・・立ち上げ（折り返し）ミラー、
３６１ ・・・光検出器、
３６１ａ・・・アパーチャ、
３６１ｂ・・・受光面、
４０１ ・・・光ディスク装置、
４１１ ・・・光ヘッド装置、
４１２ ・・・レーザ装置、
４１２ａ・・・バックモニタ機構、
Ｐ１ ・・・第２の光検出器の出力、
Ｐ２ ・・・バックモニタ信号、
５０１ ・・・光ディスク装置、
５１１ ・・・光ヘッド装置。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
Ｇ１１Ｂ 7/13 Ｇ１１Ｂ 7/13
(72)発明者 丸山 純孝
神奈川県川崎市幸区柳町70番地 株式会
社東芝柳町事業所内
(56)参考文献 特開 平11−259906（ＪＰ，Ａ)
特開2000−30290（ＪＰ，Ａ)
特開2001−110082（ＪＰ，Ａ)
特開 平11−110802（ＪＰ，Ａ)
特開 平３−160632（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G11B 7/135
G11B 7/004
G11B 7/125
G11B 7/13
Claims (2)
- 【請求項１】所定の波長の光ビームを放射する発光装置
と、 前記発光装置からの光ビームを光ディスクの情報記録層
の所定の位置に集光する集光装置と、 前記発光装置と前記集光装置との間に定義されている光
軸に沿って設けられ、前記光軸に沿って配置された第１
および第２のレンズを含み、前記第１のレンズおよび前
記第２のレンズのいずれか一方は凸レンズで、他の一方
は凹レンズであり、前記発光装置から前記集光装置に案
内される上記光ビームの波面を変化させる波面変換装置
と、 上記記録層と前記集光装置との間に位置される光透過層
の厚み誤差を検出する手段と、 上記厚み誤差に起因して発生する波面収差を抑制するよ
うに、前記波面変換装置を制御する制御手段と、 前記波面変換装置と前記集光装置との間に設けられて、
前記波面変換装置から前記集光装置に向けられる上記光
ビームの一部を所定の方向に反射するビーム分離装置
と、 前記ビーム分離装置により前記波面変換装置から前記集
光装置に向かう光ビームから分離された光ビームを受光
し、その受光した光ビームの光強度に対応する電気信号
を出力する光検出器と、 前記光検出器から出力された電気信号の大きさに基づい
て前記発光装置が放射する上記光ビームの光強度を制御
する出力制御装置と、 を有し、前記波面変換装置を制御する制御手段は、前記光検出器
から出力される電気信号に基づいて前記波面変換装置の
上記第１のレンズもしくは上記第２のレンズのいずれか
一方を、光ディスクの光透過層の厚み誤差に起因して、
前記波面を抑制するように、上記光軸に沿って移動させ
ることを特徴とする 情報記録層と情報記録層を保護する
光透過層とを有する光ディスクに光透過層の側から光ビ
ームを照射して情報を記録し、または情報を再生する光
ディスク装置。 - 【請求項２】所定の波長の光ビームを放射する発光装置
と、 前記発光装置からの光ビームを光ディスクの情報記録層
の所定の位置に集光する集光装置と、 前記発光装置と前記集光装置との間に定義されている光
軸に沿って設けられ、 前記光軸に沿って配置された第１
および第２のレンズを含み、前記第１のレンズおよび前
記第２のレンズのいずれか一方は凸レンズで、他の一方
は凹レンズであり、前記発光装置から前記集光装置に案
内される上記光ビームの波面を変化させる波面変換装置
と、 上記記録層と前記集光装置との間に位置される光透過層
の厚み誤差を検出する手段と、 上記厚み誤差に起因して発生する波面収差を抑制するよ
うに、前記波面変換装置を制御する制御手段と、 前記波面変換装置と前記集光装置との間に設けられて、
前記波面変換装置から前記集光装置に向けられる上記光
ビームの一部を所定の方向に反射するビーム分離装置
と、 前記ビーム分離装置により前記波面変換装置から前記集
光装置に向かう光ビームから分離された光ビームを受光
し、その受光した光ビームの光強度に対応する電気信号
を出力する光検出器と、 前記光検出器から出力された電気信号の大きさに基づい
て前記発光装置が放射する上記光ビームの光強度を制御
する出力制御装置と、 を有し、 前記発光装置は、自身が放射する光ビームの光強度をモ
ニタ可能とするバックモニタ機構を含み、そのバックモ
ニタ機構が出力するバックモニタ信号と前記光検出器が
出力する前記ビーム分離装置で分離された光の光強度を
示すモニタ信号とに基づいて、前記波面変換装置を制御
する制御手段の駆動により前記波面変換装置の前記第１
のレンズまたは前記第２のレンズの大まかな位置を設定
可能であることを特徴とする情報記録層と情報記録層 を
保護する光透過層とを有する光ディスクに光透過層の側
から光ビームを照射して情報を記録し、または情報を再
生する 光ディスク装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001294849A JP3538171B2 (ja) | 2001-09-26 | 2001-09-26 | 光ディスク装置 |
| US10/100,172 US6925046B2 (en) | 2001-09-26 | 2002-03-19 | Optical head device and optical disk unit capable of stable signal reproduction |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001294849A JP3538171B2 (ja) | 2001-09-26 | 2001-09-26 | 光ディスク装置 |
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Family
ID=19116374
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001294849A Expired - Fee Related JP3538171B2 (ja) | 2001-09-26 | 2001-09-26 | 光ディスク装置 |
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| JP (1) | JP3538171B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US7218591B2 (en) * | 2002-04-17 | 2007-05-15 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optical pickup apparatus |
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| KR20060111481A (ko) * | 2003-11-03 | 2006-10-27 | 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. | 정보 기록매체에서의 데이터 기록층의 깊이 측정방법 및장치 |
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|---|---|---|---|---|
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| JPH11259906A (ja) | 1998-01-09 | 1999-09-24 | Sony Corp | 光学ヘッド、記録及び／又は再生装置、記録及び／又は再生方法、並びに厚み検出方法 |
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| JP2000339713A (ja) * | 1999-05-24 | 2000-12-08 | Sharp Corp | 光ピックアップ装置 |
| JP2001110082A (ja) | 1999-10-04 | 2001-04-20 | Sony Corp | 光学ピックアップ及び光ディスク装置 |
-
2001
- 2001-09-26 JP JP2001294849A patent/JP3538171B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-03-19 US US10/100,172 patent/US6925046B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7894322B2 (en) | 2006-09-29 | 2011-02-22 | Pioneer Corporation | Optical pickup and information equipment |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2003099976A (ja) | 2003-04-04 |
| US20030058770A1 (en) | 2003-03-27 |
| US6925046B2 (en) | 2005-08-02 |
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