JPH0652582B2 - 光ヘッド - Google Patents

光ヘッド

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JPH0652582B2
JPH0652582B2 JP62216479A JP21647987A JPH0652582B2 JP H0652582 B2 JPH0652582 B2 JP H0652582B2 JP 62216479 A JP62216479 A JP 62216479A JP 21647987 A JP21647987 A JP 21647987A JP H0652582 B2 JPH0652582 B2 JP H0652582B2
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邦一 大西
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【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光学式情報記録再生装置等において用いられ
る光ヘツドに関し、特に、情報記録円盤(以下、光デイ
スクと記す。)に信号を記録し、記録された該信号を再
生および消去するのに好適な光ヘツドに関するものであ
る。
〔従来の技術〕
従来における消去可能な光ヘツドでは、光デイスクに記
録された信号を消去する際、消し残りを防止するため
に、消去用光スポツトのスポツト径の大きさを記録ピツ
ト幅よりも充分大きくする必要がある。しかし、これを
実現するために、光ヘツドに所望の光学系を設けるとす
ると、光ヘツドの部品点数が増大してしまうという問題
がある。
そこで、このような問題に対して、例えば、特開昭61
−206926号公報では、極めて近接した位置に独立
の2つの発光点を持つ半導体レーザアレイを光源として
用い、この半導体レーザアレイからの2つの光ビーム
が、記録トラツク上のほぼ同一位置に、2つの光スポツ
トとして光デイスクの半径方向に並んで照射されるよう
にこの半導体レーザアレイを配置し、記録または再生時
には、一方の光ビームのみを点燈して記録または再生を
行い、消去時には、2つの光ビームを同時に点燈する事
によつて記録ピツト列の幅以上で記録ピツトを消去する
ような構成が述べられている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、上記した既提案例では、独立した2つの
光ビームを同一記録トラツク上のほぼ同一位置に照射さ
せる必要があり、その位置調整や安定性の確保に大きな
問題がある上、記録または再生時には、記録ピツトに対
して、記録・再生用光ビームが若干ずれて照射されるの
で、記録・再生性能が劣化するといつた問題があつた。
ところで、近年では、信号の記録と消去をほぼ同時刻に
行なう即時書き換えの要望がある。しかし、これを実行
するためには、光デイスクの同一記録トラツク上に、記
録用光ビームの光スポツトと消去用光ビームの光スポツ
トとが同時に近接して位置するように、記録用光ビーム
と消去用光ビームとを各々別個の光源から発生させ、独
立に強度変調できる構成にする必要がある(尚、一般
に、記録用光ビームを発生する光源は、再生用光ビーム
を発生する光源でもあり、記録と再生とで共用されてい
る。)。このため、従来、消去可能な光ヘツドでは2個
以上の半導体レーザ光源を搭載する構成が一般的であつ
た。しかし、このような構成では、どうしても光ヘツド
が大型化,複雑化してしまうという問題があつた。
尚、前述した既提案例においては、消去する場合、2つ
の光ビームを同時点燈させなければならないので、消去
とほぼ同時に信号を記録することができず、従つて、上
記した即時書き換えは不可能であつた。
本発明の目的は、上記した従来技術の問題点を解決し、
簡単な構成にて、消去用光スポツトのスポツト径を記録
ビツトよりも充分大きくして信号の消し残りを防止し、
かつ、信号の即時書き換えを可能とする光ヘツドを提供
することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
上記目的を達成するために、本発明では、光源として、
互いに異なる波長の光ビームを発する2つの半導体レー
ザ発光素子を近接して同一平板上に配して固定して成る
半導体レーザ光源を用いると共に、例えば、一方の波長
の光ビームは透過し、他方の波長の光ビームは反射する
波長選択性を有するミラー面の略中心に、光デイスクの
半径方向に対応する長さが対物レンズの開口径よりも小
さい開口を有して成る空間フイルタを、前記半導体レー
ザ光源と対物レンズとの間の光路中に配設するようにし
た。
〔作用〕
2つの前記半導体レーザ発光素子は、同一平板上に、互
いに数十μm程度の距離をおいて対向して配置され、各
々基台を介して固定されており、各々独立に点燈させる
ことができる。従つて、従来の1レーザ光ヘツドと略同
様の構成で、記録・再生用光スポツトと消去用スポツト
とを光デイスクの同一記録トラツク上の近接した位置に
各々独立に照射させることができ、信号の即時書き換え
が可能となる。
また、前記半導体レーザ光源から前記空間フイルタに入
射される光ビームのうち、前記ミラー面において、記録
・再生用光ビームを透過し、消去用光ビームを反射する
ようにすれば、記録・再生用光ビームは該空間フイルタ
を全て透過するが、消去用光ビームは前記開口に入射し
たものだけしか該空間フイルタを透過しない。従つて、
消去用光ビームの光束径のみを選択的に前記対物レンズ
の開口径よりも小さくさせることができる。
ところで、対物レンズに入射する光ビームの光束径が対
物レンズの開口径よりも小さい場合、光デイスクに照射
される光スポツトのスポツト径は光ビームの光束径に逆
比例する。従つて、上記の如く、前記空間フイルタによ
つて消去用光ビームの光束径のみを選択的に縮小させる
ことにより、消去用光スポツトはそれに逆比例して記録
ピツト幅より充分大きくなるので、信号の消し残りを防
止することができる。
〔実施例〕
以下、本発明の第1の実施例を第1図により説明する。
第1図は本発明の第1の実施例としての光ヘツドの構成
を模式的に示した断面図である。また、第1A図は第1
図における光デイスク面の要部拡大図である。
第1図において、1は半導体レーザ光源、2はコリメー
トレンズ、3は偏光ビームスプリツタ(以下、PBSと
記す。)、4は1/4波長板、5は対物レンズ、6は光
デイスク、7はフーコプリズム、8は検出レンズ、9は
多分割光検出器、40は空間フイルタ、である。また、
第1A図において、矢印vは光デイスク6の回転方向を
示している。
また、第2図は第1図における半導体レーザ光源を一部
破断して示した斜視図である。
半導体レーザ光源1は、第2図に示すように、互いに波
長の異なるレーザ光を各々独立に発光する2個の半導体
レーザ発光素子1a,1bおよび基台1c,1dを同一
の筐体1e内に対向して配置したものである。このよう
な対向配置によつて、半導体レーザ発光素子1dと1b
の発光点の間隔tを数十μm程度にする事ができる。
第1図に示す様に、半導体レーザ光源1から発生した波
長λの記録・再生用光ビーム31(実線)と波長λ
の消去用光ビーム32(破線)は、共に、少なくともλ
およびλの波長の光に対して色収差を補正したコリ
メートレンズ2によつて平行光ビームに変換された後、
空間フイルタ40に達する。
第3図は第1図における空間フイルタ40の構成を示す
斜視図であり、第4図は第3図の空間フイルタ40を構
成する波長選択性ミラー面41の反射率の波長依存性を
示すグラフ、である。
第3図に示すように、空間フイルタ40は、第4図の如
き記録・再生用光ビーム31の波長λでほぼ0%,消
去用光ビーム32の波長λでほぼ100%の反射率を
有する波長選択性ミラー面41と、その略中心部に設け
た円型開口42から成る。円型開口42の開口径D
は、対物レンズ5の開口径よりも小さくなつている。
このような空間フイルタ40に光ビーム31と32が入
射すると、波長λの記録・再生用光ビーム31は、波
長選択性ミラー面41をそのまま透過するので、空間フ
イルタ40の通過後の光ビーム31の光束径Dは入射
前と全く変わらない。一方、波長λの消去用光ビーム
32は、波長選択性ミラー面41では反射されてしまう
ので、空間フイルタ40を通過するのは、円型開口42
に入射した光束のみである。したがつて、空間フイルタ
40通過後の消去用光ビーム32の光束径はDに縮小
される。
次に、空間フイルタ40を通過した光ビーム31,32
は、PBS3,1/4波長板4を経て、対物レンズ5に
よつて絞り込まれ、第1A図に示すように、光デイスク
6の記録トラツク6a上の互いに近接した位置に、記録
・再生用光スポツト21および消去用光スポツト22を
それぞれ形成する。
さらに、光デイスク6を反射した各光ビームは、再度、
対物レンズ5,1/4波長板4を経、PBS3にて反射
されて、フーコプリズム7,検出レンズ8,多分割光検
出器9から成る光検出系に入射し、記録信号およびフオ
ーカス,トラツキングサーボ信号がそれぞれ検出され
る。尚、この検出系については、本発明と直接関係ない
ので詳細な説明は省略する。
ところで、対物レンズ5によつて光デイスク6上に絞り
込まれる光スポツト径dと、その光スポツトを形成する
光ビームの光束径Dとの間には、光束径Dが対物レンズ
5の開口径よりも小さい場合、次式の関係が成り立つ。
d≒2・k・λ・f/D ……(1) ここで、λ:光ビームの波長 f:対物レンズ5の焦点距離 k:比例定数 (1)式より明らかなように、スポツト径dは、対物レン
ズ5に入射する光ビームの光束径Dに逆比例する。すな
わち、対物レンズ5に入射する光ビームの光束径Dを縮
小してゆく程、大きなスポツト径dが得られる。
第5図は第1図における対物レンズ5に入射する光ビー
ム31,32の光束径と光スポツト21,22のスポツ
ト径との関係を説明するための説明図である。
即ち、本実施例によれば、既に述べたように、消去用光
ビーム32の光束径は、第5図(a)に示す如く、空間
フイルタ40によつて円形開口42の開口径Dと同じ
径に縮小されるので、開口径Dを適当な大きさに設定
する事によつて、消去用光スポツト22のスポツト径d
を第5図(b)に示す如く、記録トラツク6aに記録
されている記録ピツトのピツト幅に対して充分広くする
事ができる。従つて、信号の消し残りを充分防止するこ
とができる。
第6図は空間フイルタ40の開口42の形状が第5図と
異なる場合における、光ビーム31,32の光束径と光
スポツト21,22のスポツト径との関係を説明するた
めの説明図である。
第6図(a)に示すように、空間フイルタ40の開口4
2を長円型にして、記録トラツク6a方向に対応する光
束径D2′を、光デイスク6の半径方向に対応する光束
径Dよりも短くすると、消去用光スポツト22は第6
図(b)に示すように記録トラツク6a方向に長い長円
型光スポツトとなり、徐熱徐冷効果により消去性能をよ
り向上させる事ができる。
尚、空間フイルタ40に設けられる開口42の形状,大
きさには制限はなく、任意の形状によつて所望の形状を
持つ消去用光スポツト22が得られる。
更にまた、本実施例によれば、記録・再生用光ビーム3
1と消去用光ビーム32は、従来の如く、独立した2つ
の半導体レーザ光源から発せられるのではなく、第2図
に示した如く、同一の筐体1e内において、同一平板上
に近接して配置され固定された2つの半導体レーザ発光
素子1a,1bから成る1つの半導体レーザ光源1から
発せられ、その後、同一の光学系を経て光デイスク6上
に照射される構成となつているので、熱,振動などの影
響により、光スポツト21,22が相対的位置ずれを起
したりするのを抑え、高い照射位置安定性を得ることが
できるという利点がある。
第7図は、本発明の第2の実施例の構成を模式的に示し
た断面図である。
第7図において、第1図の実施例と同一の構成部品には
同一の番号を付した。
本実施例では、波長選択性ミラー面41と開口42とか
ら成る空間フイルタ40が、第7図に示すように、PB
S3の光ビーム入射面上に形成されている。このよう
に、空間フイルタ40と他の光学部品とを複合化する事
により、光学部品点数の削減が可能になる。
第8図は本発明の第3の実施例の構成を模式的に示した
断面図である。
第8図において、第1図,第7図の実施例と同一の構成
部品には同一の番号を付した。
本実施例では、第8図に示すように、空間フイルタ40
は対物レンズ5と共にホルダ10に固定され、一体化さ
れている。
即ち、光検出器9の出力信号によつて信号処理回路11
を経て、フオーカスアクチユエータ12,トラツキング
アクチユエータ13が制御され、これによつて、ホルダ
10とホルダ10に固定されている対物レンズ5および
空間フイルタ40が一体となつて、光軸方向(z軸方
向)およびトラツキング方向(x軸方向)に駆動され、
フオーカスおよびトラツキング制御が行われる。
このように、対物レンズ5と空間フイルタ40を一体に
駆動する事によつて、空間フイルタ40の開口42と対
物レンズ5との相対位置を固定できるので、対物レンズ
5の移動による消去用光ビーム32のケラレ量(空間フ
イルタ40から出射した消去用光ビーム32のうち、対
物レンズ5に入射されない光の量)の変化を無くすこと
ができる。
以上の実施例のように、空間フイルタ40は、半導体レ
ーザ光源1から対物レンズ5までの任意の光路中に配置
することができ、また、他の光学部品と複合化する事も
可能である。
第9図は本発明の第4の実施例の構成を模式的に示した
断面図である。
第9図において、既に述べた実施例と同一の構成部品に
は同一の符号を付した。
本実施例では、第9図に示すように、空間フイルタ40
は光ビーム31,32に対して傾斜して配置されてお
り、空間フイルタ40を反射する消去用光ビーム32
が、半導体レーザ光源1に戻らない構成になつている。
このような構成により、戻り光によるレーザノイズの発
生を防ぐことができる。
このように、空間フイルタ40は光ビーム31,32に
対して任意の角度で傾斜配置しても良い。ただし、この
際、波長選択性ミラー面41は光ビームの入射角によつ
て波長選択性が変化するので、所定の入射角の光ビーム
に対して所望の波長選択性が得られるように膜設計を行
なう必要がある。また、開口42の形状についても、消
去用光スポツトが所望の形状をなすように設計する必要
がある。
第10図は本発明の第5の実施例の構成を模式的に示し
た断面図である。また、第10A図は第10図における
光デイスク面の要部拡大図である。
第10図において、既に述べた実施例と同一の構成部品
には同一の符号を付した。
本実施例では、PBS3を反射した光デイスク6からの
反射光ビームは、光路変更用ミラー14によつて光路を
曲げられた後、光検出系に達する。
また、本実施例では、立ち上げミラー15と空間フイル
タ40が複合化されている。すなわち、第11図に示す
ように、立ち上げミラー15の反射面上に波長選択性ミ
ラー面41と円型開口42から成る空間フイルタ40が
形成されている。しかも、図に示すように、波長選択性
ミラー面41は立ち上げミラー15の反射面に対してy
z面内で若干傾斜するように設けられている。
従つて、空間フイルタ40に入射した記録・再生用光ビ
ーム31、消去用光ビーム32の内、光ビーム31の全
光束と空間フイルタ40の開口42に入射した光ビーム
32の中心部32aは、空間フイルタ40を透過し、立
ち上げミラー15の反射面で反射する。一方、空間フイ
ルタ40の波長選択性ミラー面41に入射した光ビーム
32の外周部32bは、波長選択性ミラー面41で反射
される。この時、波長選択性ミラー面41は立ち上げミ
ラー15の反射面に対して若干傾斜しているから、光ビ
ーム32bは光ビーム31および32aに対して光デイ
スクの円周方向(y軸方向)に若干傾むいて反射され
る。
この結果、光デイスク6の記録トラツク6a上には、第
12図に示すように、記録・再生用光ビーム31から形
成された記録・再生用光スポツト21と、消去用光ビー
ム32aから形成されたスポツト径の大きな消去用光ス
ポツト22aと、それに隣接して、消去用光ビーム32
bから形成され、スポツト径が小さくかつ周囲の円環部
の強度が大きい光スポツト22bと、がそれぞれ照射さ
れる。従つて、消去時は、この消去用光スポツト22a
と22bが共に強い光強度で記録トラツク6aを照射
し、昇温徐冷効果によつて消去を行う。
本実施例のような構成をとる事によつて、消去用光ビー
ムの光量損失を無くし、効率のよい消去を行う事ができ
る。
第13図は本発明の第6の実施例の構成を模式的に示し
た断面図である。
第13図において、既に述べた実施例と同一の構成部品
には同一の符号を付した。
本実施例では、空間フイルタ40′は、第14図に示す
ように波長選択性ミラー面43と全反射ミラー面44か
らなる。波長選択性ミラー面43は、既に述べた実施例
と異なり、第15図に示すように記録・再生用光ビーム
31の波長λで反射率が高く、消去用光ビーム32の
波長λで反射率が低くなつている。
従つて、空間フイルタ40′を用いる事によつて、記録
・再生用光ビーム31は全光束が反射され、消去用光ビ
ーム32は全反射ミラー面44に入射した光束の中心部
のみが反射されるので、全反射ミラー面44の面積を適
当な大きさにする事により、消去用光ビーム32の光束
径を任意の径に縮小でき、その結果、消去用光スポツト
22のスポツト径を拡大することができる。
このように空間フイルタ40を反射型で用いる事によ
り、光路を曲げながら消去用光ビーム32の光束径の縮
小が行なえる。従つて、空間フイルタ40を立ち上げミ
ラーや光路変更用ミラーと兼用させる事が可能であり、
部品点数の削減が図れる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、従来の記録専用の1レーザ光ヘツドと
略同程度の簡単な構成にて、消去用光スポツトのスポツ
ト径を記録ピツトよりも充分大きくして信号の消し残り
を防止できると共に、信号の即時書き換えも可能とな
る。
また、記録・再生用光ビームと消去用光ビームは、同一
平板上に近接して配置され固定された2つ以上の半導体
レーザ発光素子から成る1つの半導体レーザ光源から発
せられ、同一の光学系を経て光デイスク上に照射される
ので、熱,振動などの影響によつて発生する各光スポツ
トの相対的位置ずれを抑え、高い照射位置安定性を得る
ことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例の構成を模式的に示した
断面図、第1A図は第1図における光デイスク面の要部
拡大図、第2図は第1図における半導体レーザ光源を一
部破断して示した斜視図、第3図は第1図における空間
フイルタの構成を示す斜視図、第4図は第3図における
波長選択性ミラー面の反射率の波長依存性を示すグラ
フ、第5図は第1図における対物レンズに入射する各光
ビームの光束径と光スポツトのスポツト径との関係を説
明するための説明図、第6図は空間フイルタの開口の形
状が第5図とは異なる場合の、各光ビームの光束径と光
スポツトのスポツト径との関係を説明するための説明
図、第7図は本発明の第2の実施例の構成を模式的に示
した断面図、第8図は本発明の第3の実施例の構成を模
式的に示した断面図、第9図は本発明の第4の実施例の
構成を模式的に示した断面図、第10図は本発明の第5
の実施例の構成を模式的に示した断面図、第10A図は
第10図における光デイスク面の要部拡大図、第11図
は第10図における立ち上げミラー及び空間フイルタの
構成を示す斜視図、第12図は第10A図における記録
トラツク6a上の光強度を示した説明図、第13図は本
発明の第6の実施例の構成を模式的に示した断面図、第
14図は第13図における空間フイルタの構成を示す斜
視図、第15図は第14図における波長選択性ミラー面
の反射率の波長依存性を示すグラフ、である。 符号の説明 1……半導体レーザ光源、1a,1b……半導体レーザ
発光素子、3……偏光ビームスプリツタ、5……対物レ
ンズ、6……光デイスク、21……記録・再生用光スポ
ツト、22……消去用光スポツト、31……記録・再生
用光ビーム、32……消去用光ビーム、40,40′…
…空間フイルタ、41,43……波長選択性ミラー面、
42……開口、44……全反射ミラー面。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】情報記録円盤に信号を光学的に記録すると
    共に、記録された該信号を光学的に再生及び消去する光
    ヘツドにおいて、 互いに波長の異なる記録・再生用の第1の光ビームと消
    去用の第2の光ビームとをそれぞれ発生する少なくとも
    2個の半導体レーザ発光素子を、近接して同一平板上に
    配して固定して成る半導体レーザ光源と、前記各半導体
    レーザ発光素子から発生した第1及び第2の光ビームを
    前記情報記録円盤上の互いに近接した位置に2つの光ス
    ポツトとして照射させる対物レンズと、照射された前記
    第1及び第2の光ビームの前記情報記録円盤からの反射
    光のうちで少なくとも第1の光ビームの反射光を、前記
    半導体レーザ光源と情報記録円盤とを結ぶ光路から分離
    する光ビーム分離手段と、を少なくとも具備し、少なく
    とも前記第1の光ビームは透過(または反射)し前記第
    2の光ビームは反射(または透過)する波長選択性を有
    するミラー面の略中心に、該第1及び第2の光ビームを
    透過(または反射)し、少なくとも前記情報記録円盤の
    半径方向に対応する長さが前記対物レンズの開口径より
    も小さい領域を有して成る空間フイルタを、前記半導体
    レーザ光源と対物レンズとの間の光路中に設け、該半導
    体レーザ光源から該空間フイルタに入射した前記第1及
    び第2の光ビームのうち、少なくとも該空間フイルタを
    透過(または反射)した光ビームが前記対物レンズに入
    射するように配置したことを特徴とする光ヘツド。
  2. 【請求項2】特許請求の範囲第1項に記載の光ヘツドに
    おいて、前記半導体レーザ光源における前記第1及び第
    2の光ビームをそれぞれ発生する少なくとも2個の半導
    体レーザ発光素子は第1及び第2の半導体レーザ発光素
    子から成り、該第1及び第2の半導体レーザ発光素子
    は、前記平板上において、互いに、その接合面に立てた
    各垂線が略一致し、かつ該第1及び第2の半導体レーザ
    発光素子が各々配設される第1及び第2の基台と共に、
    前記第1及び第2の光ビームの光軸に平行な所定の基準
    面に対して略対称な位置に、対向して配置され、固定さ
    れることを特徴とする光ヘツド。
  3. 【請求項3】特許請求の範囲第1項に記載の光ヘツドに
    おいて、前記空間フイルタは、前記半導体レーザ光源と
    対物レンズとの間の光路中に配された前記光ビーム分離
    手段の、所定の光学面上に配設されることを特徴とする
    光ヘツド。
  4. 【請求項4】特許請求の範囲第1項に記載の光ヘツドに
    おいて、前記対物レンズがトラツキング制御によつて駆
    動される際、少なくとも前記空間フイルタは、該対物レ
    ンズと一体となつて駆動されることを特徴とする光ヘツ
    ド。
  5. 【請求項5】特許請求の範囲第1項に記載の光ヘツドに
    おいて、前記空間フイルタは、前記半導体レーザ光源と
    対物レンズとの間の光路中に配される光路変更用全反射
    ミラーの、反射面上に配設されることを特徴とする光ヘ
    ツド。
JP62216479A 1987-09-01 1987-09-01 光ヘッド Expired - Lifetime JPH0652582B2 (ja)

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