JP3536088B2 - モノアザチアクラウン化又はモノアザオリゴチオエチレングリコール化スピロベンゾピラン - Google Patents

モノアザチアクラウン化又はモノアザオリゴチオエチレングリコール化スピロベンゾピラン

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JP3536088B2
JP3536088B2 JP2001043367A JP2001043367A JP3536088B2 JP 3536088 B2 JP3536088 B2 JP 3536088B2 JP 2001043367 A JP2001043367 A JP 2001043367A JP 2001043367 A JP2001043367 A JP 2001043367A JP 3536088 B2 JP3536088 B2 JP 3536088B2
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spirobenzopyran
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mmol
arh
chloroform
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睦生 田中
尚功 安藤
恵一 木村
英文 坂本
摂子 矢嶋
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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なスピロベン
ゾピラン化合物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、スピロベンゾピラン、スピロオキ
サジンを始めとする種々の化合物は、フォトクロミック
機能を有するため、光素子としての応用を広く検討され
ている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、フォトクロ
ミック材料として有用な新規化合物の提供を目的とす
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記従来技
術の問題点に鑑み鋭意検討を重ねた結果、文献未記載の
新規化合物であるモノアザチアクラウン化又はモノアザ
オリゴチオエチレングリコール化スピロベンゾピラン化
合物が、金属イオンの存在によってフォトクロミック性
が変化する特性を有するフォトクロミック化合物である
ことを見いだした。
【0005】すなわち、本発明は、以下の化合物を提供
するものである。 項1.一般式[1]
【0006】
【化3】
【0007】〔式中、Rは炭素数1〜20のアルキル
基、アリール基又は複素環基を示し、nは0〜5の整数
である。〕又は一般式[2]
【0008】
【化4】
【0009】〔式中、Rは炭素数1〜20のアルキル
基、アリール基又は複素環基を示し、R 1は水素、炭素
数1〜5のアルキル基を示し、nは0〜5の整数であ
る。〕で表されるスピロベンゾピラン化合物。
【0010】項2.項1に記載のスピロベンゾピラン化
合物をフォトクロミック材料として使用する方法。
【0011】
【発明の実施の形態】上記一般式[1]で表される化合物
及び一般式[2]で表される化合物において、Rは、直鎖
状または分枝状の炭素数1〜20のアルキル基、アリー
ル基又は複素環基を示す。好ましくはメチル、エチル、
プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オ
クチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリ
デシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、
ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、エイコシル
等を例示できる。さらに好ましくは炭素数1〜3のアル
キル基である。
【0012】上記一般式[1]で表される化合物及び一般
式[2]で表される化合物において、nは0〜5の整数で
あり、好ましくは0〜3の整数である。
【0013】以下、本発明化合物の製造法を説明する。
【0014】下記反応式に従ってビス(クロロエチル)
アミンとオリゴチオエチレングリコール誘導体を反応さ
せてモノアザチアクラウンエーテルを合成する。
【0015】
【化5】
【0016】〔式中、nは、0〜5の整数を示す〕 この反応に使用される溶媒としては、特に制限されない
が、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサン、エタ
ノール、ベンゼン、ジメチルホルムアミド(DMF)、
ジメチルスルホキシド等の有機溶媒が例示され、好まし
くは脱水THFが例示される。
【0017】また、この反応におけるビス(クロロエチ
ル)アミン及びオリゴチオエチレングリコール誘導体の
使用量は、ビス(クロロエチル)アミン1モルに対して
オリゴチオエチレングリコール誘導体を0.5〜2モル
程度、好ましくは両者を等モル程度反応させればよい。
この反応は、窒素雰囲気下で行うことが望ましい。
【0018】また、この反応の反応温度は、25〜10
0℃程度、好ましくは70〜80℃程度とすればよい。
反応時間は1〜3日程度とすればよい。
【0019】この反応は、触媒として水酸化リチウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水
酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金
属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩などを任意に用いて
行うことができる。好ましくはアルカリ金属水酸化物、
さらに好ましくは水酸化リチウムが使用される。
【0020】また、下記反応式に従ってビス(クロロエ
チル)アミンとオリゴチオエチレングリコール誘導体を
反応させてモノアザオリゴチオエチレングリコールを合
成する。
【0021】
【化6】
【0022】〔式中、R1は水素、炭素数1〜5のアル
キル基を示し、nは、0〜5の整数を示す〕 この反応に使用される溶媒としては、特に制限されない
が、エタノール、テトラヒドロフラン(THF)、ジオ
キサン、ベンゼン、ジメチルホルムアミド(DMF)等
の有機溶媒が例示され、好ましくはエタノールが例示さ
れる。
【0023】また、この反応におけるビス(クロロエチ
ル)アミン及びオリゴチオエチレングリコール誘導体の
使用量は、ビス(クロロエチル)アミン1モルに対して
オリゴチオエチレングリコール誘導体を1〜5モル程
度、好ましくは3モル程度とすればよい。この反応は、
窒素雰囲気下で行うことが望ましい。
【0024】また、この反応の反応温度は、25〜10
0℃程度、好ましくは70〜80℃程度とすればよい。
反応時間は1〜12時間程度とすればよい。この反応
は、触媒としてナトリウムエトキシド、ナトリウムメト
キシド、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭
酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸
水素塩等の塩基性化合物などを任意に用いて行うことが
できる。好ましくはアルカリ金属水酸化物、さらに好ま
しくはナトリウムエトキシドが使用される。
【0025】上記のようにして、得られたモノアザチア
クラウンエーテル又はモノアザオリゴチオエチレングリ
コールを、下記反応式に示すように、クロロメチルスピ
ロベンゾピランと反応させることによって、本発明の一
般式[1]で表される化合物又は一般式[2]で表される化
合物を得ることができる。
【0026】
【化7】
【0027】
【化8】
【0028】〔式中、Rは炭素数1〜20のアルキル
基、アリール基又は複素環基を示し、R 1は水素、炭素
数1〜5のアルキル基を示し、nは0〜5の整数であ
る。〕 この反応に使用される溶媒としては、特に制限されない
が、アセトニトリル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ベンゼン等の有機溶媒が例示され、好ましくはテト
ラヒドロフランが例示される。
【0029】この反応は、触媒の非存在下でも行える
が、触媒の存在下で行うことが好ましい。触媒としてト
リエチルアミン、ピリジン、炭酸ナトリウム、水酸化ナ
トリウム等の塩基性化合物、好ましくはトリエチルアミ
ンを用いることができる。
【0030】また、この反応におけるモノアザチアクラ
ウンエーテル又はモノアザオリゴチオエチレングリコー
ルに対するクロロメチルスピロベンゾピランの使用量
は、前者1モルに対して後者を1モル程度以上、好まし
くは1.5〜2.5モル程度とすればよい。触媒の使用
量は、モノアザチアクラウンエーテル又はモノアザオリ
ゴチオエチレングリコール1モルに対して1モル程度以
上、好ましくは5〜10モル程度とすればよい。この反
応の反応温度は、0〜120℃程度、好ましくは80℃
程度とすればよく、反応時間は1時間から二日程度とす
ればよい。
【0031】このようにして得られる本発明化合物は、
慣用されている分離精製手段に従って反応混合物から容
易に単離、精製できる。
【0032】本発明のスピロベンゾピラン化合物には、
金属イオンに対する錯形成能を有するモノアザチアクラ
ウンエーテル及びモノアザオリゴチオエチレングリコー
ル部分が存在し、フォトクロミズム機能を有するスピロ
ベンゾピラン部分が存在する。このため、本発明のスピ
ロベンゾピラン化合物は、金属イオンの存在によってフ
ォトクロミック性が変化する特性を有する。特に、銀イ
オン存在下でフォトクロミズム特性が強調され、マグネ
シウムイオン、亜鉛イオン、鉛イオンおよび水銀イオン
存在下で逆フォトクロミズム特性を示す。従って、本発
明のスピロベンゾピラン化合物の存在下で、フォトクロ
ミズム性を強調する際には、銀イオンを添加し、逆フォ
トクロミズム性を強調する際には、マグネシウムイオ
ン、亜鉛イオン、鉛イオンおよび水銀イオンからなる群
から選択される少なくとも1種を添加することによっ
て、フォトクロミズム特性を調整できる。
【0033】従って、本発明のスピロベンゾピラン化合
物は、従来フォトクロミック材料が使用、研究されてい
る分野、例えば調光材料、光メモリー材料、光多重記
録、液晶等に有用である。また、金属イオンに対する錯
形成能とそれに応じたフォトクロミック性を利用した金
属イオン検出試薬、好ましくは重金属イオン検出試薬、
銀イオン検出試薬、さらに好ましくは銀イオン検出試薬
として有用である。
【0034】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【0035】実施例1 モノアザトリチア−12−クラウン−4−スピロベンゾ
ピラン(SBP−MAzT12C4)の合成 (1)モノアザトリチア−12−クラウン−4の合成
【0036】
【化9】
【0037】三つ口フラスコ(300ml)に窒素雰囲
気下、脱水THF150ml、LiOH288mg(1
2mmol)、ビス(2−クロロエチル)アミン塩酸塩
357mg(2mmol)、ジチオエチレングリコール
308mg(2mmol)を入れ、24〜72時間加熱
還流した。反応液を放冷した後、クロロホルム200m
lと水200mlを加えてクロロホルム層を分離した。
さらに水相をクロロホルム200mlを用いて抽出し
た。クロロホルムを留去し、目的物を得た。1 H−NMR(CDCl3);δ=2.7〜3.0(16
H、m、SCH2、NCH2)。 (2)モノアザトリチア−12−クラウン−4−スピロ
ベンゾピラン(SBP−MAzT12C4)の合成
【0038】
【化10】
【0039】三口フラスコ(300ml)に窒素雰囲気
下クロロメチルスピロベンゾピラン741mg(2mm
ol)、モノアザトリチア−12−クラウン−4を22
3mg(1mmol)、トリエチルアミン1.11g
(11mmol)、脱水THF100mlを入れ、6時
間加熱還流した。反応液を放冷した後THFを留去し、
GPCにて目的物を単離した。収率11%。1 H−NMR;(CDCl3、400MHz)δ:1.2
0(3H、s、CH3)、1.28(3H、s、C
3)、2.43(4H、t、J=7.0Hz、NCH2
CH2 S)、2.58(4H、t、J=7.0Hz、N
CH2)、2.71(3H、s、NCH3)、2.7−
2.8(8H、m、SCH2)、3.3−3.5(2
H、m、PhCH2)、5.88(1H、d、J=1
0.4Hz、CH=)、6.55(1H、d、J=7.
6Hz、ArH)、6.89(1H、t、J=7.4H
z、ArH)、6.94(1H、d、J=10.4H
z、CH=)、7.08(1H、d、J=6.8Hz、
ArH)、7.20(1H、t、J=8.2Hz、Ar
H)、7.94(1H、s、ArH)、8.17(1
H、s、ArH)。
【0040】実施例2 モノアザテトラチア−15−クラウン−5−スピロベン
ゾピラン(SBP−MAzT15C5)の合成 (1)モノアザテトラチア−15−クラウン−5の合成
【0041】
【化11】
【0042】三つ口フラスコ(300ml)に窒素雰囲
気下、脱水THF150ml、LiOH288mg(1
2mmol)、ビス(2−クロロエチル)アミン塩酸塩
357mg(2mmol)、トリチオエチレングリコー
ル428mg(2mmol)を入れ、24〜72時間加
熱還流した。反応液を放冷した後、クロロホルム200
mlと水200mlを加えてクロロホルム層を分離し
た。さらに水相をクロロホルム200mlを用いて抽出
した。クロロホルムを留去し、目的物を得た。1 H−NMR(CDCl3);δ=2.7〜3.0(20
H、m、SCH2、NCH2)。 (2)モノアザテトラチア−15−クラウン−5−スピ
ロベンゾピラン(SBP−MAzT15C5)の合成
【0043】
【化12】
【0044】三口フラスコ(300ml)に窒素雰囲気
下クロロメチルスピロベンゾピラン741mg(2mm
ol)、モノアザテトラチア−15−クラウン−5を2
83mg(1mmol)、トリエチルアミン1.11g
(11mmol)、脱水THF100mlを入れ、36
時間加熱還流した。反応液を放冷した後THFを留去
し、GPCにて目的物を単離した。収率44%。1 H−NMR;(CDCl3、400MHz)δ:1.1
8(3H、s、CH3)、1.27(3H、s、C
3)、2.39(4H、t、J=7.8Hz、NCH2
CH2 S)、2.56(4H、t、J=7.6Hz、N
CH2)、2.8−2.9(15H、m、SCH2、NC
3)、3.3−3.5(2H、m、PhCH 2)、5.
86(1H、d、J=10.4Hz、CH=)、6.5
4(1H、d、J=7.6Hz、ArH)、6.87
(1H、t、J=7.4Hz、ArH)、6.92(1
H、d、J=10.4Hz、CH=)、7.07(1
H、d、J=6.8Hz、ArH)、7.18(1H、
t、J=7.8Hz、ArH)、7.91(1H、s、
ArH)、8.12(1H、s、ArH)。
【0045】実施例3 モノアザペンタチア−18−クラウン−6−スピロベン
ゾピラン(SBP−MAzT18C6)の合成 (1)モノアザペンタチア−18−クラウン−6の合成
【0046】
【化13】
【0047】三つ口フラスコ(300ml)に窒素雰囲
気下、脱水THF150ml、LiOH288mg(1
2mmol)、ビス(2−クロロエチル)アミン塩酸塩
357mg(2mmol)、テトラチオエチレングリコ
ール548mg(2mmol)を入れ、24〜72時間
加熱還流した。反応液を放冷した後、クロロホルム20
0mlと水200mlを加えてクロロホルム層を分離し
た。さらに水相をクロロホルム200mlを用いて抽出
した。クロロホルムを留去し、目的物を得た。1H−N
MR(CDCl3);δ=2.7〜3.0(24H、
m、SCH2、NCH2)。 (2)モノアザペンタチア−18−クラウン−6−スピ
ロベンゾピラン(SBP−MAzT18C6)の合成
【0048】
【化14】
【0049】三口フラスコ(300ml)に窒素雰囲気
下クロロメチルスピロベンゾピラン741mg(2mm
ol)、モノアザペンタチア−18−クラウン−6を3
43mg(1mmol)、トリエチルアミン1.11g
(11mmol)、脱水THF100mlを入れ、48
時間加熱還流した。反応液を放冷した後THFを留去
し、GPCにて目的物を単離した。収率35%。1 H−NMR;(CDCl3、400MHz)δ:1.1
9(3H、s、CH3)、1.27(3H、s、C
3)、2.4−2.9(27H、m、SCH2、NCH
2、NCH3)、3.3−3.5(2H、m、PhC
2)、5.87(1H、d、J=10.4Hz、CH
=)、6.55(1H、d、J=7.6Hz、Ar
H)、6.89(1H、t、J=7.4Hz、Ar
H)、6.93(1H、d、J=10.8Hz、CH
=)、7.09(1H、d、J=7.2Hz、Ar
H)、7.20(1H、t、J=7.6Hz、Ar
H)、7.93(1H、s、ArH)、8.18(1
H、s、ArH)。
【0050】実施例4 6−モノアザ−3,9−ジチアウンデカンスピロベンゾ
ピラン(SBP−MAzTDEG)の合成 (1)6−モノアザ−3,9−ジチアウンデカンの合成
【0051】
【化15】
【0052】三つ口フラスコ(500ml)に窒素雰囲
気下、エタノール200mlを入れ、Na4.60g
(200mmol)を溶かした後、エタンチオール7.
44g(120mmol)を加え、加熱還流した。ビス
(クロロエチル)アミン塩酸塩7.14g(40mmo
l)をエタノール100mlに溶かした溶液を窒素雰囲
気下にて滴下し、さらに2時間加熱還流した。放冷後反
応液にクロロホルム100mlと5wt%NaOH水溶
液500mlを加え、クロロホルム相を分離し、水相は
さらにクロロホルム100mlで抽出した。クロロホル
ムを留去し、減圧蒸留により目的物を単離した。1 H−NMR(CDCl3);δ=1.27(6H、t、
CH3)、2.55(4H、q、SCH2 CH3)、2.
70(4H、q、SCH2)、2.83(4H、t、N
CH2)。 (2)6−モノアザ−3,9−ジチアウンデカンスピロ
ベンゾピラン(SBP−MAzTDEG)の合成
【0053】
【化16】
【0054】三口フラスコ(300ml)に窒素雰囲気
下クロロメチルスピロベンゾピラン741mg(2mm
ol)、6−モノアザ−3,9−ジチアウンデカンを1
93mg(1mmol)、トリエチルアミン1.11g
(11mmol)、脱水THF100mlを入れ、3時
間加熱還流した。反応液を放冷した後THFを留去し、
GPCにて目的物を単離した。収率24%1 H−NMR;(CDCl3、400MHz)δ:1.1
9(6H、t、J=7.4Hz、CH2CH3)、1.2
0(3H、s、CH3)、1.28(3H、s、C
3)、2.3−2.5(8H、m、SCH2)、2.5
−2.6(4H、m、NCH2)、2.71(3H、
s、NCH3)、3.3−3.5(2H、m、PhC
2)、5.86(1H、d、J=10.4Hz、CH
=)、6.54(1H、d、J=7.6Hz、Ar
H)、6.88(1H、t、J=7.4Hz、Ar
H)、6.93(1H、d、J=10Hz、CH=)、
7.08(1H、d、J=7.2Hz、ArH)、7.
19(1H、t、J=7.4Hz、ArH)、7.92
(1H、s、ArH)、8.17(1H、s、Ar
H)。
【0055】実施例5 9−モノアザ−3,6,12,15−テトラチアヘプタ
デカンスピロベンゾピラン(SBP−MAzTTEG)
の合成 (1)9−モノアザ−3,6,12,15−テトラチア
ヘプタデカンの合成
【0056】
【化17】
【0057】三口フラスコ(500ml)に窒素雰囲気
下、エタノール250mlを入れ、Na5.75g(2
50mmol)を溶かした後、モノエチルチオエチレン
グリコール18.30g(150mmol)を加え、加
熱還流した。ビス(クロロエチル)アミン塩酸塩8.9
25g(50mmol)をエタノール150mlに溶か
した溶液を窒素雰囲気下にて滴下し、さらに4時間加熱
還流した。放冷後エタノールを留去し、クロロホルム1
00mlと5wt%NaOH水溶液500mlを加え、
クロロホルム相を分離し、水相はさらにクロロホルム1
00mlで抽出した。クロロホルムを留去し、減圧蒸留
(100℃)により低沸点成分を留去し、目的物を得
た。1 H−NMR(CDCl3);δ=1.27(6H、t、
CH3)、2.58(4H、q、SCH2 CH3)、2.
70(12H、q、SCH2)、2.84(4H、t、
NCH2)。 (2)9−モノアザ−3,6,12,15−テトラチア
ヘプタデカンスピロベンゾピラン(SBP−MAzTT
EG)の合成
【0058】
【化18】
【0059】三口フラスコ(300ml)に窒素雰囲気
下クロロメチルスピロベンゾピラン741mg(2mm
ol)、9−モノアザ−3,6,12,15−テトラチ
アヘプタデカンを313mg(1mmol)、トリエチ
ルアミン1.11g(11mmol)、脱水THF10
0mlを入れ、3時間加熱還流した。反応液を放冷した
後THFを留去し、GPCにて目的物を単離した。収率
27%。1 H−NMR;(CDCl3、400MHz)δ:1.0
−1.2(12H、m、CH3、CH2 CH3 )、2.4
−2.8(23H、m、SCH2、NCH2、NC
3)、3.3−3.5(2H、m、PhCH2)、5.
86(1H、d、J=10.4Hz、CH=)、6.5
5(1H、d、J=7.6Hz、ArH)、6.89
(1H、t、J=7.6Hz、ArH)、6.93(1
H、d、J=10.4Hz、CH=)、7.08(1
H、d、J=7.2Hz、ArH)、7.20(1H、
t、J=7.6Hz、ArH)、7.93(1H、s、
ArH)、8.17(1H、s、ArH)。
【0060】実施例6 実施例1〜5で合成したモノアザチアクラウン化又はモ
ノアザオリゴチオエチレングリコール化スピロベンゾピ
ラン化合物のフォトクロミズム特性を検討した。モノア
ザチアクラウン化又はモノアザオリゴチオエチレングリ
コール化スピロベンゾピラン化合物、金属イオン(アル
カリ土類金属過塩素酸塩(マグネシウム)、重金属イオ
ン硝酸塩(銀、鉛、水銀、亜鉛)を用いた)を1×10
-4モルずつ含むアセトニトリル溶液を調製し、暗所に一
晩放置した溶液の吸収スペクトルと365nmの紫外線
を3分間照射した溶液の吸収スペクトルを測定した。S
BP−MAzT12C4の吸収スペクトルを図1に示
す。マグネシウムイオン存在下では、マグネシウムイオ
ンによる熱異性化の促進が顕著であり、その結果として
逆フォトクロミズムが発現した。重金属イオン存在下で
は、鉛、水銀、亜鉛イオンは熱異性化を顕著に促進し、
逆フォトクロミズムを誘起した。その一方で、銀イオン
は同様に熱異性化を促進するが、唯一紫外線照射時にも
光異性化を促進する。
【0061】以上の結果より、12員環のモノアザチア
クラウン化スピロベンゾピランはマグネシウムイオン、
銀イオン、水銀イオン、亜鉛イオン、鉛イオン存在下で
特異的なフォトクロミズム挙動を示すことが明らかであ
る。実施例で得られたそのほかの化合物においても同様
な傾向が認められた。
【図面の簡単な説明】
【図1】金属イオン存在下におけるUV照射前の本発明
化合物の吸収スペクトルを示す図である。
【図2】金属イオン存在下におけるUV照射後の本発明
化合物の吸収スペクトルを示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂本 英文 和歌山県和歌山市栄谷930番地 和歌山 大学システム工学部内 (72)発明者 矢嶋 摂子 和歌山県和歌山市栄谷930番地 和歌山 大学システム工学部内 (56)参考文献 特開 平4−353569(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 491/107 C09K 9/02 G03C 1/685 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式[1] 【化1】 〔式中、Rは炭素数1〜20のアルキル基、アリール基
    又は複素環基を示し、nは0〜5の整数である。〕又は
    一般式[2] 【化2】 〔式中、Rは炭素数1〜20のアルキル基、アリール基
    又は複素環基を示し、R 1は水素、炭素数1〜5のアル
    キル基を示し、nは0〜5の整数である。〕で表される
    スピロベンゾピラン化合物。
  2. 【請求項2】請求項1に記載のスピロベンゾピラン化合
    物をフォトクロミック材料として使用する方法。
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