JP3521136B2 - 洗浄方法 - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光学部品、電子部品等
の被洗浄物を洗浄する洗浄方法および洗浄装置に関す
る。 【０００２】 【従来の技術】従来、例えば光学素子等の洗浄において
は、非水系溶剤〜洗剤〜親水性溶剤〜フロンベーパーと
いった洗浄系をとるのが一般的であった。しかし、フロ
ンは周知の通り環境に及ぼす影響が大きく、世界的に全
廃の方向に進んでいる。そこで近年、このフロンを用い
た洗浄系の代替え法が各種提案されている。そのうち、
一つの可能な代替え洗浄法として、特許国際公開番号Ｗ
Ｏ ９１／１３６９７号に開示された洗浄方法がある。 【０００３】この洗浄方法は、第１の洗浄工程におい
て、水切りあるいは洗浄剤として、低分子量シロキサン
若しくはイソパラフィン等の非水系洗浄剤を基調とする
基礎洗浄剤またはこれらと界面活性剤や親水性溶剤の洗
浄性能向上剤との混合物を用い、これを第２の洗浄工程
で更に低分子量シロキサンまたはイソパラフィン等を基
調とする基礎洗浄剤に浸漬した後、乾燥させるという方
法をとっている。 【０００４】そして、乾燥方法としては、６０℃以下の
温風乾燥またはパーフルオロカーボンのベーパー乾燥を
行い、付帯装置として、洗浄液中の水、オイルの比重差
分離、基礎洗浄剤のみの分離、再供給システムを提案し
ている。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】上記従来技術において
は、第１の洗浄工程（水切り・洗浄の工程）において、
被洗浄物を低分子量シロキサン若しくはイソパラフィン
等の非水系溶剤またはこれらと界面活性剤若しくは親水
性溶剤との混合物への浸漬を実施している。しかし、非
水系溶剤では第１工程前段の工程において被洗浄物に残
留した水や界面活性剤をほとんど溶解しないため、水切
り・洗浄は効果的に行うことができず、第２の洗浄の非
水系の基礎洗浄剤による洗浄工程に達した被洗浄物表面
には水分等が付着した状態になってしまう。 【０００６】被洗浄物表面に水分が残留した場合、次工
程の乾燥方法では化学的な溶解力がないので、何らかの
物理力を付与しないと水がきれない。しかし、化学的な
溶解力に比べて物理力は比較的均一性に欠けたり、ハー
ドの使用条件に左右され易いため、物理力に頼って精密
な洗浄を達成させるためには問題があるのが現状であ
る。 【０００７】また、第１の洗浄工程において界面活性剤
等の洗浄性能向上剤を非水系溶剤に混入させたものを使
用した場合、界面活性剤をリンスすることが第２の洗浄
の非水系溶剤のみの工程においてはたいへん困難であ
る。すなわち、結果的に両者の場合とも、被洗浄物表面
に水分や界面活性剤からなる残渣が残り易く、特に外観
品質を問題とする分野の洗浄では従来の方法の使用は不
適当であった。 【０００８】さらに、上記従来技術においては、温風乾
燥の乾燥温度が低いために、被洗浄物が温度に影響を受
け易いものの場合には有効である反面、一律に乾燥時間
がかかるという欠点があった。 【０００９】本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので、前記残渣が残らずに、また乾燥時間がか
からずに、被洗浄物の最良な洗浄品質を得ることができ
る洗浄方法を提供することを目的とする。 【００１０】 【００１１】 【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１に係る発明は、光学部品、電子部品等の被
洗浄物を洗浄するにあたり、直鎖状ポリジオルガノシロ
キサンおよび環状ポリジオルガノシロキサンから選択さ
れた低分子量ポリオルガノシロキサンから選択された少
なくとも１種である非水系溶剤に被洗浄物を浸漬する工
程と、前記非水系溶剤と同種の非水系溶剤を用いて減圧
ベーパー乾燥する工程とを有することを特徴とする。 【００１２】 【００１３】ここで、直鎖状ポリジオルガノシロキサン
としては、例えばオクタメチルトリシロキサン、ヘキサ
メチルジシロキサン、デカメチルテトラシロキサンが好
ましく、環状ポリジオルガノシロキサンとしては、例え
ばオクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシ
クロペンタシロキサンが好ましい。 【００１４】 【作用】被洗浄物は、乾燥性の高い直鎖状ポリジオルガ
ノシロキサンおよび環状ポリジオルガノシロキサンから
選択された低分子量ポリオルガノシロキサンから選択さ
れた少なくとも１種である非水系溶剤に浸漬して、被洗
浄物表面に残っている前工程の水分や界面活性剤等の残
渣を非水系溶剤により液置換し、次にこの非水系溶剤か
ら引き上げ、最終的にベーパー洗浄・乾燥する洗浄ライ
ンにより処理が施される。 【００１５】本洗浄方法は最終仕上げの工程にベーパー
洗浄・乾燥を適用していることから、浸漬引き上げ〜温
風乾燥といった一連の方法に比較すると、液残りの多い
複雑な形状の洗浄サンプルに対しても所望の洗浄品質を
満足することが可能となり、洗浄仕上がり品質は向上す
る。 【００１６】また、ベーパーによる洗浄・乾燥であるた
め、たとえベーパーにした非水系溶剤が汚れてもベーパ
ーとして被洗浄物の表面に凝縮付着し洗浄の作用をする
非水系溶剤液は、蒸留の場合の液と同様に清浄であり、
そして、減圧下でのベーパーにより引火の危険性が低下
して安全となって清浄な液による洗浄が成される。 【００１７】例えば光学素子の洗浄に発明を適用する場
合、水系洗浄剤または準水系洗浄剤による脱脂工程で研
磨剤、芯取り油、指紋等を除去し、次に水または純水に
よる前記洗浄剤の洗浄・リンスを行い、次に、水分を速
やかに溶解する溶剤としてのＩＰＡによる水の置換（脱
水）を行い、次に乾燥性の高い非水系溶剤による前記Ｉ
ＰＡの置換を行い、最終的に減圧下で前工程の非水系溶
剤と同種の非水系溶剤のベーパーによる洗浄・乾燥を行
うこととなる。 【００１８】ここで、前記乾燥性の高い非水系溶剤に光
学素子を浸漬する工程の前工程に、水分を速やかに溶解
する溶剤としてのＩＰＡを用いることにより、被洗浄物
表面に付着して持ち込まれた水分はＩＰＡにより速やか
に溶解され、溶剤液中に均一に溶解分散することとな
る。したがって、水または純水を用いる洗浄・リンスを
経た被洗浄物でも水分を速やかに溶解する溶剤としての
ＩＰＡ浸漬を行えば、被洗浄面の水分の残留はＩＰＡに
溶解分散されて皆無となるため、非水系溶剤に浸漬する
と、表面のＩＰＡは完全に非水系溶剤で置換され、均一
に濡れることになる。この状態より、被洗浄物を引き上
げてベーパー洗浄・乾燥すると、被洗浄面の水分残りを
原因とするシミの発生はなくなり、良好な洗浄品質が得
られる。 【００１９】また、最終仕上げ液として使用する非水系
溶剤の再生は、水、ＩＰＡとの溶解度差および比重差を
利用した水分離機が用いられる。減圧ベーパー乾燥後の
排ガスと排液は、冷却されつつ、水タンクへ通される。
前の脱水工程で用いたＩＰＡは水に溶解するが、ベーパ
ー乾燥に用いた非水系溶剤は水に不溶のため、水分離機
中では比重差により純度の高い非水系溶剤の上層とＩＰ
Ａを溶解した水の下層とに分離が起こり、結果的に非水
系溶剤のみを取り出すことができる。その非水系溶剤を
ベーパー槽へ送ることで繰り返し使用が可能となる。な
お、脱水工程でのＩＰＡは、常に１０ｗｔ％以下（好ま
しくは５ｗｔ％以下）の水分の溶解量となるように管理
しているが、その乾燥用非水系溶剤に溶解した僅かの水
分も、水分離機へ通すことで完全に取り除かれる。した
がって、このような再生手法は、ＩＰＡ含有量の極めて
低い良好な再生方法である。 【００２０】 【実施例１】図１に示すような洗浄工程を設定し、洗浄
を行った。図１において、Ａ部は脱脂工程（第１工
程）、Ｂ部は洗浄・リンス工程（第２工程）、Ｃ部は脱
水工程（第３工程）、Ｄ部は水を溶解する溶剤液として
のＩＰＡと非水系溶剤との置換工程（第４工程）および
ベーパー洗浄・乾燥工程（第５工程）である。 【００２１】本実施例の洗浄装置は、１１槽の処理槽１
からなる構成であり、第１，２の処理槽１には水系洗浄
液である界面活性剤２（オリンパスケミテック（株）
製、水系洗浄液；ＥＥ−１１１０）、第３，４の処理槽
１には水系洗浄液であるアルカリ性界面活性剤３（オリ
ンパスケミテック（株）製、水系洗浄液；ＥＥ−１１２
０）を投入し、第５〜７の処理槽１は純水４の掛け流
し、第８，９の処理槽１にはＩＰＡ５、第１０，１１の
処理槽１には低分子量ポリシロキサン６（オリンパスケ
ミテック（株）製、非水系洗浄液；ＥＥ−３１１０）を
投入した。この第１１の処理槽１は、低分子量ポリシロ
キサン６の減圧下でベーパー洗浄・乾燥を行う減圧ベー
パー機である。 【００２２】上記低分子量ポリシロキサン６はオクタメ
チルトリシロキサンを主成分としたものを使用した。第
１〜９槽の処理槽１の底部にはすべて超音波振動子７を
配設し、純水４を入れた槽以外はクローズドなポンプ８
（記号Ｐで示す）によるオーバーフローの循環槽を用い
た。９で示すＦの記号はフィルターである。特に、第１
０の処理槽１には、循環過程にＩＰＡ分離機１０を介装
し、持ち込まれるＩＰＡ５（下層）と低分子量ポリシロ
キサン６とを分離し、低分子量ポリシロキサン６のみを
再生することとした。 【００２３】超音波の周波数および出力は４０ＫＨｚお
よび６００Ｗとし、オーバーフローの流量は５ｍｌ／ｍ
ｉｎとした。被洗浄物（洗浄サンプル）１１として光学
レンズを用い、これを揺動アーム１２の先端に取り付け
た三点支持のカゴにてやとい洗浄を行った。三点支持の
カゴは図２および図３に示す。 【００２４】このカゴはロッド状のＳＵＳ枠１３が被洗
浄物１１の外周に３箇所から当接することにより被洗浄
物１１をやとい支持するものであり、支持された被洗浄
物１１の横移動を防ぐため、鋸歯状の固定用部材（テフ
ロン（登録商標）爪）１４が設けられている。本実施例
において１カゴの洗浄レンズ数は６０個とした。 【００２５】また、前述のように第１１の処理槽１は、
図１に示すように、減圧ベーパー機であり、低分子量ポ
リシロキサン６の減圧下でベーパー洗浄・乾燥を行うこ
とができるように、減圧乾燥槽１５とベーパー発生装置
１６とを備えている。また、この減圧乾燥槽１５とベー
パー発生装置１６との間には、ポンプ８およびフィルタ
ー９により低分子量ポリシロキサン６をリサイクルすべ
く、回収槽１７とリサイクル槽１８とが介装されてい
る。 【００２６】本実施例において、揺動アーム１２の揺動
速度は往復２Ｓ／５０ｍｍストローク、洗浄時間は各槽
１ｍｉｎとした。また、減圧ベーパー条件として、真空
度１００Ｔｏｒｒ、減圧時間１ｍｉｎ、蒸気送り時間１
０ｓｅｃ、掃気時間１５ｓｅｃとし、溶剤蒸気温度を１
４０℃に設定した。 【００２７】上記洗浄工程により洗浄し、蛍光灯下での
目視評価を、洗浄上がり、コート及び耐性後実施した。
その結果を表１に示す。本実施例によれば、洗浄品質は
良好なレベルとなった。 【００２８】 【表１】 【００２９】本発明の効果を前述の従来技術との比較に
おいて検証すべく、その従来技術を実施したところ、前
記従来技術にあってはほとんどのレンズ（被洗浄物）に
シミ等が発生してしまった。 【００３０】以下に、水系洗浄剤による脱脂後の工程が
実施例１に係る工程と同一である変形例１について述べ
る。具体的には、非水系溶剤または準水系溶剤による一
次の脱脂である第１の工程を実施した後、水系洗浄剤に
よる二次の脱脂である第２の工程を実施し、その後水ま
たは純水で第２工程液を洗浄・リンスする第３工程を実
施し、ＩＰＡによる水リンスである第４工程を実施し、
その後ＩＰＡを非水系溶剤で置換し被洗浄物を洗浄する
第５工程を実施し、更に当該非水系溶剤の減圧下でのベ
ーパー洗浄・乾燥を行う第６工程よりなる洗浄方法およ
び装置について説明する。 【００３１】この洗浄方法は、光学素子研磨加工後に残
るピッチあるいはその後の工程のために塗布する樹脂系
保護膜を除去する場合の洗浄工程として、有効な方法で
ある。 【００３２】レンズ等に付着した固形のピッチ、樹脂等
は、水系洗浄剤の洗浄工程のみでは脱脂できず、非水系
または準水系溶剤による脱脂工程が不可欠となる。この
洗浄プロセスは乳化ではなく、溶解である。被洗浄物と
同等の溶解パラメータを持つ溶剤の性質を利用し相溶さ
せるのである。次の工程は、水の置換〜乾燥性の高い非
水系溶剤によるＩＰＡ置換〜減圧ベーパー乾燥といった
一連の洗浄工程の流れをとる。つまり、水系洗浄剤後の
工程は実施例１に係る発明の実施の工程と同一であり、
作用も同様である。 【００３３】この工程を行うことにより、ピッチ等の固
形付着物および指紋、研磨剤、オイル等が一度に除去で
き、仕上がり品質もシミなく、良好にできる。 【００３４】次に、この洗浄方法を実施した具体例を図
４に基づいて説明する。図４に示すような洗浄工程を設
定し、洗浄を行った。洗浄装置は、１４槽の処理槽１か
らなる構成であり、第１〜３の処理槽１には有機溶剤２
２（オリンパスケミテック（株）製、ＥＥ−４１１
０）、第４〜７の処理槽１にはアルカリ性界面活性剤３
（例えば前記ＥＥ−１１２０）、第８〜１０の処理槽１
には純水４の掛け流し、第１１，１２の処理槽１にはＩ
ＰＡ５、第１３，１４の処理槽１には低分子量ポリシロ
キサン６（例えば前記ＥＥ−３１１０）を投入した。Ｅ
Ｅ−４１１０とは非水系テルペン炭化水素系溶剤であ
る。 【００３５】図４において、Ｈ部は一次脱脂工程、Ｉ部
は二次脱脂工程、Ｊ部は洗浄リンス工程、Ｋ部は水切り
工程、Ｌ部はＩＰＡの置換およびベーパー洗浄・乾燥工
程である。 【００３６】上記低分子量ポリシロキサン６としてオク
タメチルトリシロキサンを主成分としたものを使用し
た。第１４槽を除く処理槽１にはすべて超音波振動子７
を配設し、また、純水４を入れた処理槽１以外はクロー
ズドなオーバーフローの循環槽を用いた。洗浄サンプル
として、研磨後のピッチ付きレンズを洗浄した。その
他、洗浄条件は実施例１と同様である。洗浄時間は各槽
１ｍｉｎで超音波をかけながら、第１〜１３槽において
揺動を行った。本洗浄工程により洗浄し、洗浄仕上がり
のレンズに反射防止コートを施した。なお、乾燥工程と
しては、減圧ベーパー（使用液オリンパスケミテック
（株）製、ＥＥ−３１１０）を使用した。減圧ベーパー
条件は、真空度１００Ｔｏｒｒ、減圧時間１ｍｉｎ、蒸
気送り時間１０ｓｅｃ、掃気時間１５ｓｅｃとし、低分
子量ポリシロキサン６の蒸気温度を１４０℃に設定し
た。 【００３７】洗浄後、外観の評価においてレンズに付着
したピッチによるシミの発生はなく、良好な結果とな
り、従来の１４槽レベルのトリクレン〜フロン洗浄機の
場合と同等の洗浄品質が確認された。その結果（変形例
１として）を表２に示す。 【００３８】 【表２】 【００３９】なお、低分子量ポリシロキサン６はオクタ
メチルシロキサン、デカメチルテトラシロキサンを最終
仕上げ工程に用いた場合においても、同様な実験結果と
なり、効果が確認された。 【００４０】 【発明の効果】以上のように本発明の洗浄方法によれ
ば、被洗浄物表面に残渣が残らずに、また乾燥時間を長
くすることなしに、被洗浄物の最終仕上がりが良好で安
定した品質に仕上げることができる。
の被洗浄物を洗浄する洗浄方法および洗浄装置に関す
る。 【０００２】 【従来の技術】従来、例えば光学素子等の洗浄において
は、非水系溶剤〜洗剤〜親水性溶剤〜フロンベーパーと
いった洗浄系をとるのが一般的であった。しかし、フロ
ンは周知の通り環境に及ぼす影響が大きく、世界的に全
廃の方向に進んでいる。そこで近年、このフロンを用い
た洗浄系の代替え法が各種提案されている。そのうち、
一つの可能な代替え洗浄法として、特許国際公開番号Ｗ
Ｏ ９１／１３６９７号に開示された洗浄方法がある。 【０００３】この洗浄方法は、第１の洗浄工程におい
て、水切りあるいは洗浄剤として、低分子量シロキサン
若しくはイソパラフィン等の非水系洗浄剤を基調とする
基礎洗浄剤またはこれらと界面活性剤や親水性溶剤の洗
浄性能向上剤との混合物を用い、これを第２の洗浄工程
で更に低分子量シロキサンまたはイソパラフィン等を基
調とする基礎洗浄剤に浸漬した後、乾燥させるという方
法をとっている。 【０００４】そして、乾燥方法としては、６０℃以下の
温風乾燥またはパーフルオロカーボンのベーパー乾燥を
行い、付帯装置として、洗浄液中の水、オイルの比重差
分離、基礎洗浄剤のみの分離、再供給システムを提案し
ている。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】上記従来技術において
は、第１の洗浄工程（水切り・洗浄の工程）において、
被洗浄物を低分子量シロキサン若しくはイソパラフィン
等の非水系溶剤またはこれらと界面活性剤若しくは親水
性溶剤との混合物への浸漬を実施している。しかし、非
水系溶剤では第１工程前段の工程において被洗浄物に残
留した水や界面活性剤をほとんど溶解しないため、水切
り・洗浄は効果的に行うことができず、第２の洗浄の非
水系の基礎洗浄剤による洗浄工程に達した被洗浄物表面
には水分等が付着した状態になってしまう。 【０００６】被洗浄物表面に水分が残留した場合、次工
程の乾燥方法では化学的な溶解力がないので、何らかの
物理力を付与しないと水がきれない。しかし、化学的な
溶解力に比べて物理力は比較的均一性に欠けたり、ハー
ドの使用条件に左右され易いため、物理力に頼って精密
な洗浄を達成させるためには問題があるのが現状であ
る。 【０００７】また、第１の洗浄工程において界面活性剤
等の洗浄性能向上剤を非水系溶剤に混入させたものを使
用した場合、界面活性剤をリンスすることが第２の洗浄
の非水系溶剤のみの工程においてはたいへん困難であ
る。すなわち、結果的に両者の場合とも、被洗浄物表面
に水分や界面活性剤からなる残渣が残り易く、特に外観
品質を問題とする分野の洗浄では従来の方法の使用は不
適当であった。 【０００８】さらに、上記従来技術においては、温風乾
燥の乾燥温度が低いために、被洗浄物が温度に影響を受
け易いものの場合には有効である反面、一律に乾燥時間
がかかるという欠点があった。 【０００９】本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので、前記残渣が残らずに、また乾燥時間がか
からずに、被洗浄物の最良な洗浄品質を得ることができ
る洗浄方法を提供することを目的とする。 【００１０】 【００１１】 【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１に係る発明は、光学部品、電子部品等の被
洗浄物を洗浄するにあたり、直鎖状ポリジオルガノシロ
キサンおよび環状ポリジオルガノシロキサンから選択さ
れた低分子量ポリオルガノシロキサンから選択された少
なくとも１種である非水系溶剤に被洗浄物を浸漬する工
程と、前記非水系溶剤と同種の非水系溶剤を用いて減圧
ベーパー乾燥する工程とを有することを特徴とする。 【００１２】 【００１３】ここで、直鎖状ポリジオルガノシロキサン
としては、例えばオクタメチルトリシロキサン、ヘキサ
メチルジシロキサン、デカメチルテトラシロキサンが好
ましく、環状ポリジオルガノシロキサンとしては、例え
ばオクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシ
クロペンタシロキサンが好ましい。 【００１４】 【作用】被洗浄物は、乾燥性の高い直鎖状ポリジオルガ
ノシロキサンおよび環状ポリジオルガノシロキサンから
選択された低分子量ポリオルガノシロキサンから選択さ
れた少なくとも１種である非水系溶剤に浸漬して、被洗
浄物表面に残っている前工程の水分や界面活性剤等の残
渣を非水系溶剤により液置換し、次にこの非水系溶剤か
ら引き上げ、最終的にベーパー洗浄・乾燥する洗浄ライ
ンにより処理が施される。 【００１５】本洗浄方法は最終仕上げの工程にベーパー
洗浄・乾燥を適用していることから、浸漬引き上げ〜温
風乾燥といった一連の方法に比較すると、液残りの多い
複雑な形状の洗浄サンプルに対しても所望の洗浄品質を
満足することが可能となり、洗浄仕上がり品質は向上す
る。 【００１６】また、ベーパーによる洗浄・乾燥であるた
め、たとえベーパーにした非水系溶剤が汚れてもベーパ
ーとして被洗浄物の表面に凝縮付着し洗浄の作用をする
非水系溶剤液は、蒸留の場合の液と同様に清浄であり、
そして、減圧下でのベーパーにより引火の危険性が低下
して安全となって清浄な液による洗浄が成される。 【００１７】例えば光学素子の洗浄に発明を適用する場
合、水系洗浄剤または準水系洗浄剤による脱脂工程で研
磨剤、芯取り油、指紋等を除去し、次に水または純水に
よる前記洗浄剤の洗浄・リンスを行い、次に、水分を速
やかに溶解する溶剤としてのＩＰＡによる水の置換（脱
水）を行い、次に乾燥性の高い非水系溶剤による前記Ｉ
ＰＡの置換を行い、最終的に減圧下で前工程の非水系溶
剤と同種の非水系溶剤のベーパーによる洗浄・乾燥を行
うこととなる。 【００１８】ここで、前記乾燥性の高い非水系溶剤に光
学素子を浸漬する工程の前工程に、水分を速やかに溶解
する溶剤としてのＩＰＡを用いることにより、被洗浄物
表面に付着して持ち込まれた水分はＩＰＡにより速やか
に溶解され、溶剤液中に均一に溶解分散することとな
る。したがって、水または純水を用いる洗浄・リンスを
経た被洗浄物でも水分を速やかに溶解する溶剤としての
ＩＰＡ浸漬を行えば、被洗浄面の水分の残留はＩＰＡに
溶解分散されて皆無となるため、非水系溶剤に浸漬する
と、表面のＩＰＡは完全に非水系溶剤で置換され、均一
に濡れることになる。この状態より、被洗浄物を引き上
げてベーパー洗浄・乾燥すると、被洗浄面の水分残りを
原因とするシミの発生はなくなり、良好な洗浄品質が得
られる。 【００１９】また、最終仕上げ液として使用する非水系
溶剤の再生は、水、ＩＰＡとの溶解度差および比重差を
利用した水分離機が用いられる。減圧ベーパー乾燥後の
排ガスと排液は、冷却されつつ、水タンクへ通される。
前の脱水工程で用いたＩＰＡは水に溶解するが、ベーパ
ー乾燥に用いた非水系溶剤は水に不溶のため、水分離機
中では比重差により純度の高い非水系溶剤の上層とＩＰ
Ａを溶解した水の下層とに分離が起こり、結果的に非水
系溶剤のみを取り出すことができる。その非水系溶剤を
ベーパー槽へ送ることで繰り返し使用が可能となる。な
お、脱水工程でのＩＰＡは、常に１０ｗｔ％以下（好ま
しくは５ｗｔ％以下）の水分の溶解量となるように管理
しているが、その乾燥用非水系溶剤に溶解した僅かの水
分も、水分離機へ通すことで完全に取り除かれる。した
がって、このような再生手法は、ＩＰＡ含有量の極めて
低い良好な再生方法である。 【００２０】 【実施例１】図１に示すような洗浄工程を設定し、洗浄
を行った。図１において、Ａ部は脱脂工程（第１工
程）、Ｂ部は洗浄・リンス工程（第２工程）、Ｃ部は脱
水工程（第３工程）、Ｄ部は水を溶解する溶剤液として
のＩＰＡと非水系溶剤との置換工程（第４工程）および
ベーパー洗浄・乾燥工程（第５工程）である。 【００２１】本実施例の洗浄装置は、１１槽の処理槽１
からなる構成であり、第１，２の処理槽１には水系洗浄
液である界面活性剤２（オリンパスケミテック（株）
製、水系洗浄液；ＥＥ−１１１０）、第３，４の処理槽
１には水系洗浄液であるアルカリ性界面活性剤３（オリ
ンパスケミテック（株）製、水系洗浄液；ＥＥ−１１２
０）を投入し、第５〜７の処理槽１は純水４の掛け流
し、第８，９の処理槽１にはＩＰＡ５、第１０，１１の
処理槽１には低分子量ポリシロキサン６（オリンパスケ
ミテック（株）製、非水系洗浄液；ＥＥ−３１１０）を
投入した。この第１１の処理槽１は、低分子量ポリシロ
キサン６の減圧下でベーパー洗浄・乾燥を行う減圧ベー
パー機である。 【００２２】上記低分子量ポリシロキサン６はオクタメ
チルトリシロキサンを主成分としたものを使用した。第
１〜９槽の処理槽１の底部にはすべて超音波振動子７を
配設し、純水４を入れた槽以外はクローズドなポンプ８
（記号Ｐで示す）によるオーバーフローの循環槽を用い
た。９で示すＦの記号はフィルターである。特に、第１
０の処理槽１には、循環過程にＩＰＡ分離機１０を介装
し、持ち込まれるＩＰＡ５（下層）と低分子量ポリシロ
キサン６とを分離し、低分子量ポリシロキサン６のみを
再生することとした。 【００２３】超音波の周波数および出力は４０ＫＨｚお
よび６００Ｗとし、オーバーフローの流量は５ｍｌ／ｍ
ｉｎとした。被洗浄物（洗浄サンプル）１１として光学
レンズを用い、これを揺動アーム１２の先端に取り付け
た三点支持のカゴにてやとい洗浄を行った。三点支持の
カゴは図２および図３に示す。 【００２４】このカゴはロッド状のＳＵＳ枠１３が被洗
浄物１１の外周に３箇所から当接することにより被洗浄
物１１をやとい支持するものであり、支持された被洗浄
物１１の横移動を防ぐため、鋸歯状の固定用部材（テフ
ロン（登録商標）爪）１４が設けられている。本実施例
において１カゴの洗浄レンズ数は６０個とした。 【００２５】また、前述のように第１１の処理槽１は、
図１に示すように、減圧ベーパー機であり、低分子量ポ
リシロキサン６の減圧下でベーパー洗浄・乾燥を行うこ
とができるように、減圧乾燥槽１５とベーパー発生装置
１６とを備えている。また、この減圧乾燥槽１５とベー
パー発生装置１６との間には、ポンプ８およびフィルタ
ー９により低分子量ポリシロキサン６をリサイクルすべ
く、回収槽１７とリサイクル槽１８とが介装されてい
る。 【００２６】本実施例において、揺動アーム１２の揺動
速度は往復２Ｓ／５０ｍｍストローク、洗浄時間は各槽
１ｍｉｎとした。また、減圧ベーパー条件として、真空
度１００Ｔｏｒｒ、減圧時間１ｍｉｎ、蒸気送り時間１
０ｓｅｃ、掃気時間１５ｓｅｃとし、溶剤蒸気温度を１
４０℃に設定した。 【００２７】上記洗浄工程により洗浄し、蛍光灯下での
目視評価を、洗浄上がり、コート及び耐性後実施した。
その結果を表１に示す。本実施例によれば、洗浄品質は
良好なレベルとなった。 【００２８】 【表１】 【００２９】本発明の効果を前述の従来技術との比較に
おいて検証すべく、その従来技術を実施したところ、前
記従来技術にあってはほとんどのレンズ（被洗浄物）に
シミ等が発生してしまった。 【００３０】以下に、水系洗浄剤による脱脂後の工程が
実施例１に係る工程と同一である変形例１について述べ
る。具体的には、非水系溶剤または準水系溶剤による一
次の脱脂である第１の工程を実施した後、水系洗浄剤に
よる二次の脱脂である第２の工程を実施し、その後水ま
たは純水で第２工程液を洗浄・リンスする第３工程を実
施し、ＩＰＡによる水リンスである第４工程を実施し、
その後ＩＰＡを非水系溶剤で置換し被洗浄物を洗浄する
第５工程を実施し、更に当該非水系溶剤の減圧下でのベ
ーパー洗浄・乾燥を行う第６工程よりなる洗浄方法およ
び装置について説明する。 【００３１】この洗浄方法は、光学素子研磨加工後に残
るピッチあるいはその後の工程のために塗布する樹脂系
保護膜を除去する場合の洗浄工程として、有効な方法で
ある。 【００３２】レンズ等に付着した固形のピッチ、樹脂等
は、水系洗浄剤の洗浄工程のみでは脱脂できず、非水系
または準水系溶剤による脱脂工程が不可欠となる。この
洗浄プロセスは乳化ではなく、溶解である。被洗浄物と
同等の溶解パラメータを持つ溶剤の性質を利用し相溶さ
せるのである。次の工程は、水の置換〜乾燥性の高い非
水系溶剤によるＩＰＡ置換〜減圧ベーパー乾燥といった
一連の洗浄工程の流れをとる。つまり、水系洗浄剤後の
工程は実施例１に係る発明の実施の工程と同一であり、
作用も同様である。 【００３３】この工程を行うことにより、ピッチ等の固
形付着物および指紋、研磨剤、オイル等が一度に除去で
き、仕上がり品質もシミなく、良好にできる。 【００３４】次に、この洗浄方法を実施した具体例を図
４に基づいて説明する。図４に示すような洗浄工程を設
定し、洗浄を行った。洗浄装置は、１４槽の処理槽１か
らなる構成であり、第１〜３の処理槽１には有機溶剤２
２（オリンパスケミテック（株）製、ＥＥ−４１１
０）、第４〜７の処理槽１にはアルカリ性界面活性剤３
（例えば前記ＥＥ−１１２０）、第８〜１０の処理槽１
には純水４の掛け流し、第１１，１２の処理槽１にはＩ
ＰＡ５、第１３，１４の処理槽１には低分子量ポリシロ
キサン６（例えば前記ＥＥ−３１１０）を投入した。Ｅ
Ｅ−４１１０とは非水系テルペン炭化水素系溶剤であ
る。 【００３５】図４において、Ｈ部は一次脱脂工程、Ｉ部
は二次脱脂工程、Ｊ部は洗浄リンス工程、Ｋ部は水切り
工程、Ｌ部はＩＰＡの置換およびベーパー洗浄・乾燥工
程である。 【００３６】上記低分子量ポリシロキサン６としてオク
タメチルトリシロキサンを主成分としたものを使用し
た。第１４槽を除く処理槽１にはすべて超音波振動子７
を配設し、また、純水４を入れた処理槽１以外はクロー
ズドなオーバーフローの循環槽を用いた。洗浄サンプル
として、研磨後のピッチ付きレンズを洗浄した。その
他、洗浄条件は実施例１と同様である。洗浄時間は各槽
１ｍｉｎで超音波をかけながら、第１〜１３槽において
揺動を行った。本洗浄工程により洗浄し、洗浄仕上がり
のレンズに反射防止コートを施した。なお、乾燥工程と
しては、減圧ベーパー（使用液オリンパスケミテック
（株）製、ＥＥ−３１１０）を使用した。減圧ベーパー
条件は、真空度１００Ｔｏｒｒ、減圧時間１ｍｉｎ、蒸
気送り時間１０ｓｅｃ、掃気時間１５ｓｅｃとし、低分
子量ポリシロキサン６の蒸気温度を１４０℃に設定し
た。 【００３７】洗浄後、外観の評価においてレンズに付着
したピッチによるシミの発生はなく、良好な結果とな
り、従来の１４槽レベルのトリクレン〜フロン洗浄機の
場合と同等の洗浄品質が確認された。その結果（変形例
１として）を表２に示す。 【００３８】 【表２】 【００３９】なお、低分子量ポリシロキサン６はオクタ
メチルシロキサン、デカメチルテトラシロキサンを最終
仕上げ工程に用いた場合においても、同様な実験結果と
なり、効果が確認された。 【００４０】 【発明の効果】以上のように本発明の洗浄方法によれ
ば、被洗浄物表面に残渣が残らずに、また乾燥時間を長
くすることなしに、被洗浄物の最終仕上がりが良好で安
定した品質に仕上げることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１の洗浄方法を示す工程図である。
【図２】同実施例１で用いたカゴを示す平面図である。
【図３】同実施例１で用いたカゴを示す側面図である。
【図４】実施例１の変形例１の洗浄方法を示す工程図で
ある。 【符号の説明】 １ 処理槽 ２ 界面活性剤 ３ アルカリ性界面活性剤 ４ 純水 ５ ＩＰＡ ６ 低分子量ポリシロキサン １１ 被洗浄物 ２２ 有機溶剤
ある。 【符号の説明】 １ 処理槽 ２ 界面活性剤 ３ アルカリ性界面活性剤 ４ 純水 ５ ＩＰＡ ６ 低分子量ポリシロキサン １１ 被洗浄物 ２２ 有機溶剤
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(56)参考文献 特開 平５−245451（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−128595（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−295577（ＪＰ，Ａ)
国際公開91／013697（ＷＯ，Ａ１)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B08B 1/00 - 7/04
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 直鎖状ポリジオルガノシロキサンおよび
環状ポリジオルガノシロキサンから選択された低分子量
ポリオルガノシロキサンから選択された少なくとも１種
である非水系溶剤に被洗浄物を浸漬する工程と、前記非
水系溶剤と同種の非水系溶剤を用いて減圧ベーパー乾燥
する工程とを有することを特徴とする洗浄方法。
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