JP3517585B2 - 液晶表示パネルの製造方法およびこれに用いられる洗浄装置 - Google Patents
液晶表示パネルの製造方法およびこれに用いられる洗浄装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示装置や
液晶シャッター等に用いられる液晶表示パネルの製造方
法および液晶表示パネルの製造に用いられる洗浄装置に
関するものである。
液晶シャッター等に用いられる液晶表示パネルの製造方
法および液晶表示パネルの製造に用いられる洗浄装置に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の液晶表示パネルは、ガラス基板表
面に電極等を形成した後、配向膜の形成・硬化を行い、
次にナイロンやレーヨン等の布を用いて配向膜の表面を
擦るラビング処理を行い配向を付与した後、ラビング処
理により基板表面に付着した異物を除去するために、純
水またはイソプロピルアルコール等によるウェット洗
浄、水切り、乾燥を行う湿式洗浄、あるいは窒素ガスま
たは乾燥空気等でブローすることによる乾式洗浄を行
い、その後これら二枚の基板を対向させその間に液晶を
封入することにより構成される。また、特開平６−２３
５８９３号公報では、ラビング処理後の洗浄方法とし
て、湿式洗浄を行う前に、蒸気槽中にラビング処理され
た基板を保持して洗浄むらの発生を防止する方法が開示
されている。
面に電極等を形成した後、配向膜の形成・硬化を行い、
次にナイロンやレーヨン等の布を用いて配向膜の表面を
擦るラビング処理を行い配向を付与した後、ラビング処
理により基板表面に付着した異物を除去するために、純
水またはイソプロピルアルコール等によるウェット洗
浄、水切り、乾燥を行う湿式洗浄、あるいは窒素ガスま
たは乾燥空気等でブローすることによる乾式洗浄を行
い、その後これら二枚の基板を対向させその間に液晶を
封入することにより構成される。また、特開平６−２３
５８９３号公報では、ラビング処理後の洗浄方法とし
て、湿式洗浄を行う前に、蒸気槽中にラビング処理され
た基板を保持して洗浄むらの発生を防止する方法が開示
されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の液晶表示パネル
の製造工程におけるラビング処理後の洗浄方法におい
て、乾式洗浄方法では、ラビング時に付着した基板表面
の異物や汚染が十分に除去されないという問題があり、
また湿式洗浄方法では、水あるいは洗浄剤が最初に基板
表面にあたる際に、その圧力に強弱があるので基板表面
に配向の乱れやシミを発生させるという問題があった。
さらに、基板上の異物を水あるいは洗浄剤により洗い流
す際に、基板が完全に濡れる前に異物が配向膜表面を擦
ることにより配向の乱れやシミを発生させるという問題
があった。また、特開平６−２３５８９３号公報に開示
された方法では、蒸気槽中に基板を保持する必要がある
ため、連続的に処理を行う枚葉処理工程には適用しにく
いという問題があった。
の製造工程におけるラビング処理後の洗浄方法におい
て、乾式洗浄方法では、ラビング時に付着した基板表面
の異物や汚染が十分に除去されないという問題があり、
また湿式洗浄方法では、水あるいは洗浄剤が最初に基板
表面にあたる際に、その圧力に強弱があるので基板表面
に配向の乱れやシミを発生させるという問題があった。
さらに、基板上の異物を水あるいは洗浄剤により洗い流
す際に、基板が完全に濡れる前に異物が配向膜表面を擦
ることにより配向の乱れやシミを発生させるという問題
があった。また、特開平６−２３５８９３号公報に開示
された方法では、蒸気槽中に基板を保持する必要がある
ため、連続的に処理を行う枚葉処理工程には適用しにく
いという問題があった。
【０００４】この発明は、上記のような問題点を解決す
るためになされたもので、液晶表示パネルの製造工程に
おけるラビング処理後の洗浄工程において、基板表面の
異物や汚染を完全に除去できると共に配向の乱れやシミ
の発生を防止し、表示品位の高い液晶表示パネルを製造
する方法を得ることを目的とする。また、ラビング処理
後の洗浄工程において、基板表面の異物や汚染を完全に
除去できると共に配向の乱れやシミの発生を防止できる
洗浄装置を提供することを目的とする。
るためになされたもので、液晶表示パネルの製造工程に
おけるラビング処理後の洗浄工程において、基板表面の
異物や汚染を完全に除去できると共に配向の乱れやシミ
の発生を防止し、表示品位の高い液晶表示パネルを製造
する方法を得ることを目的とする。また、ラビング処理
後の洗浄工程において、基板表面の異物や汚染を完全に
除去できると共に配向の乱れやシミの発生を防止できる
洗浄装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明に係わる液晶表
示パネルの製造方法は、電極および配向膜が形成された
二枚の基板を対向させて接着すると共に、上記二枚の基
板間に液晶を挟持してなる液晶表示パネルの製造方法に
おいて、上記配向膜をラビング処理した後に二流体ノズ
ルまたは超音波加湿器により、上記基板の表面に霧状粒
子を噴出して付着させ、上記基板の表面全体に流れを持
たない水の膜を形成する工程と、上記流れを持たない水
の膜が形成された基板を超音波や高圧スプレイによりウ
ェット洗浄する工程を含むものである。また、電極およ
び配向膜が形成された二枚の基板を対向させて接着する
と共に、上記二枚の基板間に液晶を挟持してなる液晶表
示パネルの製造方法において、上記配向膜をラビング処
理した後に上記基板を冷却することにより上記基板表面
に結露させ、上記基板の表面全体に流れを持たない水の
膜を形成する工程と、上記流れを持たない水の膜が形成
された基板を超音波や高圧スプレイによりウェット洗浄
する工程を含むものである。
示パネルの製造方法は、電極および配向膜が形成された
二枚の基板を対向させて接着すると共に、上記二枚の基
板間に液晶を挟持してなる液晶表示パネルの製造方法に
おいて、上記配向膜をラビング処理した後に二流体ノズ
ルまたは超音波加湿器により、上記基板の表面に霧状粒
子を噴出して付着させ、上記基板の表面全体に流れを持
たない水の膜を形成する工程と、上記流れを持たない水
の膜が形成された基板を超音波や高圧スプレイによりウ
ェット洗浄する工程を含むものである。また、電極およ
び配向膜が形成された二枚の基板を対向させて接着する
と共に、上記二枚の基板間に液晶を挟持してなる液晶表
示パネルの製造方法において、上記配向膜をラビング処
理した後に上記基板を冷却することにより上記基板表面
に結露させ、上記基板の表面全体に流れを持たない水の
膜を形成する工程と、上記流れを持たない水の膜が形成
された基板を超音波や高圧スプレイによりウェット洗浄
する工程を含むものである。
【０００６】さらにこの発明に係る洗浄装置は、基板に
形成された配向膜の表面をラビング処理した後に基板の
表面を洗浄する洗浄装置において、請求項１または請求
項２記載の工程によって基板表面全体に流れを持たない
水の膜を形成する洗浄前処理室と、流れを持たない水の
膜が形成された基板を超音波や高圧スプレイによりウェ
ット洗浄するウェット洗浄室を備えたものである。
形成された配向膜の表面をラビング処理した後に基板の
表面を洗浄する洗浄装置において、請求項１または請求
項２記載の工程によって基板表面全体に流れを持たない
水の膜を形成する洗浄前処理室と、流れを持たない水の
膜が形成された基板を超音波や高圧スプレイによりウェ
ット洗浄するウェット洗浄室を備えたものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】実施の形態１．以下、この発明の
一実施の形態である液晶表示パネルの製造方法を図につ
いて説明する。図１は本発明の実施の形態１による液晶
表示パネルの製造工程の一部を示す工程図である。本実
施の形態による液晶表示パネルの製造方法は、ガラス基
板に電極等を形成した後、図１に示すように、電極等が
形成されたガラス基板に配向膜を形成・硬化した後、ナ
イロンやレーヨン等の布を用いて配向膜の表面を擦るラ
ビング処理を行い配向膜に配向を付与する。次に、ラビ
ング工程で付着した異物を除去するために湿式洗浄を行
うが、その際の水流による配向の乱れを防止する目的
で、流れを持たない水の膜をガラス基板の表面に形成す
る洗浄前処理を行う。次に、超音波洗浄、高圧水流洗浄
等のウェット洗浄を行い、ガラス基板表面に付着した異
物を除去する。次に、水切り、乾燥を行う。その後これ
ら二枚の基板を対向させその間に液晶を封入することに
より液晶表示パネルを構成する。
一実施の形態である液晶表示パネルの製造方法を図につ
いて説明する。図１は本発明の実施の形態１による液晶
表示パネルの製造工程の一部を示す工程図である。本実
施の形態による液晶表示パネルの製造方法は、ガラス基
板に電極等を形成した後、図１に示すように、電極等が
形成されたガラス基板に配向膜を形成・硬化した後、ナ
イロンやレーヨン等の布を用いて配向膜の表面を擦るラ
ビング処理を行い配向膜に配向を付与する。次に、ラビ
ング工程で付着した異物を除去するために湿式洗浄を行
うが、その際の水流による配向の乱れを防止する目的
で、流れを持たない水の膜をガラス基板の表面に形成す
る洗浄前処理を行う。次に、超音波洗浄、高圧水流洗浄
等のウェット洗浄を行い、ガラス基板表面に付着した異
物を除去する。次に、水切り、乾燥を行う。その後これ
ら二枚の基板を対向させその間に液晶を封入することに
より液晶表示パネルを構成する。
【０００８】図２は実施の形態１による液晶表示パネル
の製造方法において、ラビング処理後の洗浄方法を実施
するための洗浄装置の構成の一例を示す模式図、図３は
図２の洗浄装置の二流体ノズルを説明するための概念図
である。図において、１は液晶表示パネルを構成するガ
ラス基板、２は洗浄前処理室、３は超音波洗浄室、４は
高圧水流室、５はリンス室、６は乾燥室、７は洗浄前処
理室２に設けられた二流体ノズルで、給水配管８および
ガス配管９が接続されている。１０、１１は超音波洗浄
室３に設けられたシャワーノズルおよび超音波槽で、タ
ンク１２からポンプ１３によって給水されている。１４
は高圧水流室４に設けられた高圧スプレイノズルで、タ
ンク１５からポンプ１６によって給水されている。１７
はリンス室５に設けられたシャワーノズルで、給水配管
８が接続されている。１８は乾燥室６に設けられたエア
ナイフで、ガス配管９が接続されている。２０は二流体
ノズル７から噴出される粒径が１０〜１００μｍの霧状
粒子である。なお、リンス室５のシャワーノズル１７か
ら噴出されたリンス処理後の水はタンク１５に回収さ
れ、高圧水流室４において再使用される。また、高圧水
流室４の高圧スプレイノズル１４からスプレイされた高
圧洗浄後の水はタンク１２に回収され、超音波洗浄室３
において再利用されるよう構成されている。
の製造方法において、ラビング処理後の洗浄方法を実施
するための洗浄装置の構成の一例を示す模式図、図３は
図２の洗浄装置の二流体ノズルを説明するための概念図
である。図において、１は液晶表示パネルを構成するガ
ラス基板、２は洗浄前処理室、３は超音波洗浄室、４は
高圧水流室、５はリンス室、６は乾燥室、７は洗浄前処
理室２に設けられた二流体ノズルで、給水配管８および
ガス配管９が接続されている。１０、１１は超音波洗浄
室３に設けられたシャワーノズルおよび超音波槽で、タ
ンク１２からポンプ１３によって給水されている。１４
は高圧水流室４に設けられた高圧スプレイノズルで、タ
ンク１５からポンプ１６によって給水されている。１７
はリンス室５に設けられたシャワーノズルで、給水配管
８が接続されている。１８は乾燥室６に設けられたエア
ナイフで、ガス配管９が接続されている。２０は二流体
ノズル７から噴出される粒径が１０〜１００μｍの霧状
粒子である。なお、リンス室５のシャワーノズル１７か
ら噴出されたリンス処理後の水はタンク１５に回収さ
れ、高圧水流室４において再使用される。また、高圧水
流室４の高圧スプレイノズル１４からスプレイされた高
圧洗浄後の水はタンク１２に回収され、超音波洗浄室３
において再利用されるよう構成されている。
【０００９】次にラビング処理後の洗浄方法を説明す
る。配向膜が形成され、ラビング処理が施されたガラス
基板１は、搬送装置（図示せず）により洗浄前処理室２
に搬送され、二流体ノズル７から噴出された霧状粒子２
０によりガラス基板１表面が十分にかつ水が移動しない
程度に覆われる。次に、表面が水に覆われた状態で超音
波洗浄室３に搬送され、超音波槽１１で超音波洗浄され
る。次に、高圧水流室４に搬送され、高圧スプレイノズ
ル１４からスプレイされる水により洗浄される。次に、
リンス室５に搬送され、シャワーノズル１７によるリン
ス、最後に乾燥室６に搬送され、エアナイフ１８により
水切りが行われる。
る。配向膜が形成され、ラビング処理が施されたガラス
基板１は、搬送装置（図示せず）により洗浄前処理室２
に搬送され、二流体ノズル７から噴出された霧状粒子２
０によりガラス基板１表面が十分にかつ水が移動しない
程度に覆われる。次に、表面が水に覆われた状態で超音
波洗浄室３に搬送され、超音波槽１１で超音波洗浄され
る。次に、高圧水流室４に搬送され、高圧スプレイノズ
ル１４からスプレイされる水により洗浄される。次に、
リンス室５に搬送され、シャワーノズル１７によるリン
ス、最後に乾燥室６に搬送され、エアナイフ１８により
水切りが行われる。
【００１０】図４は洗浄前処理室２において処理後のガ
ラス基板１の状態を示す模式図である。洗浄前処理室２
において二流体ノズル７から噴霧された霧状粒子２０
は、配向膜２１が形成されたガラス基板１上で水滴２２
となるが、ガラス基板１を隙間なく覆ってガラス基板１
上に水の薄膜が形成されるまで流れを持たないよう霧状
粒子２０の噴霧は制御される。
ラス基板１の状態を示す模式図である。洗浄前処理室２
において二流体ノズル７から噴霧された霧状粒子２０
は、配向膜２１が形成されたガラス基板１上で水滴２２
となるが、ガラス基板１を隙間なく覆ってガラス基板１
上に水の薄膜が形成されるまで流れを持たないよう霧状
粒子２０の噴霧は制御される。
【００１１】この発明によれば、液晶表示パネルの製造
工程におけるラビング処理後のガラス基板１の洗浄方法
として、洗浄前処理室２において霧状粒子２０をガラス
基板１の表面に噴霧することによりガラス基板１表面に
流れを持たない水の膜を形成した後、超音波洗浄等のウ
ェット洗浄を行うため、基板が完全に濡れる前に異物が
洗浄により基板上を移動するのを防止でき、洗浄水の圧
力や異物が配向膜表面を擦ることによる配向の乱れやシ
ミの発生を防止することができる。
工程におけるラビング処理後のガラス基板１の洗浄方法
として、洗浄前処理室２において霧状粒子２０をガラス
基板１の表面に噴霧することによりガラス基板１表面に
流れを持たない水の膜を形成した後、超音波洗浄等のウ
ェット洗浄を行うため、基板が完全に濡れる前に異物が
洗浄により基板上を移動するのを防止でき、洗浄水の圧
力や異物が配向膜表面を擦ることによる配向の乱れやシ
ミの発生を防止することができる。
【００１２】実施の形態２．実施の形態１では、洗浄前
処理室２において二流体ノズル７により霧状粒子２０を
発生させガラス基板１に霧状粒子２０を噴霧したが、図
５に示すように、洗浄前処理室２に超音波加湿器２３を
配置し、水を振動子により振動させ、細かい粒径として
洗浄前処理室２に充満させることによりガラス基板１の
表面に水の膜を形成することによっても実施の形態１と
同様の効果が得られる。また、図６に示すように、超音
波加湿器２３を洗浄前処理室２の外部に配置し、導管２
４を介して洗浄前処理室２に細かい粒径とした水の粒子
を供給してもよい。
処理室２において二流体ノズル７により霧状粒子２０を
発生させガラス基板１に霧状粒子２０を噴霧したが、図
５に示すように、洗浄前処理室２に超音波加湿器２３を
配置し、水を振動子により振動させ、細かい粒径として
洗浄前処理室２に充満させることによりガラス基板１の
表面に水の膜を形成することによっても実施の形態１と
同様の効果が得られる。また、図６に示すように、超音
波加湿器２３を洗浄前処理室２の外部に配置し、導管２
４を介して洗浄前処理室２に細かい粒径とした水の粒子
を供給してもよい。
【００１３】実施の形態３．実施の形態１では、洗浄前
処理室２において二流体ノズル７により霧状粒子２０を
発生させガラス基板１に霧状粒子２０を噴霧し、ガラス
基板１の表面を流れを持たない水の膜で覆ったが、図７
に示すように、洗浄前処理室２に冷却プレート２５を配
置し、冷却プレート２５とガラス基板１を密着させ、ガ
ラス基板１を冷却して表面に結露を生じさせることによ
りガラス基板１表面に水の膜を形成することによっても
実施の形態１と同様の効果が得られる。図７において、
２５は洗浄前処理室２に配置された冷却プレ−ト、２６
はガラス基板１搬送用のコロ、２７は冷却プレ−ト２５
上に配置された上下移動可能な搬送コロで、洗浄前処理
室２の冷却プレ−ト２５上に配置された搬送コロ２７上
にガラス基板１が搬送される（図７（ａ））と、搬送コ
ロ２６、２７の回転が停止し、ガラス基板１を支持した
上下移動可能な搬送コロ２７が冷却プレ−ト２５より下
方に下降してガラス基板１を冷却プレ−ト２５上に接触
保持する（図７（ｂ）。その状態で充分に冷却されガラ
ス基板１表面に結露による水の膜が形成された後、上下
移動可能な搬送コロ２７が元の搬送位置まで上昇し（図
７（Ｃ））、搬送コロ２６、２７の回転を開始すること
により矢印方向に進んでガラス基板１を次工程に搬送す
る。また、ガラス基板１の冷却方法としては、冷風をガ
ラス基板１に吹きかける、あるいは洗浄前処理室全体を
冷却することにより、ガラス基板１を冷却してもよい。
処理室２において二流体ノズル７により霧状粒子２０を
発生させガラス基板１に霧状粒子２０を噴霧し、ガラス
基板１の表面を流れを持たない水の膜で覆ったが、図７
に示すように、洗浄前処理室２に冷却プレート２５を配
置し、冷却プレート２５とガラス基板１を密着させ、ガ
ラス基板１を冷却して表面に結露を生じさせることによ
りガラス基板１表面に水の膜を形成することによっても
実施の形態１と同様の効果が得られる。図７において、
２５は洗浄前処理室２に配置された冷却プレ−ト、２６
はガラス基板１搬送用のコロ、２７は冷却プレ−ト２５
上に配置された上下移動可能な搬送コロで、洗浄前処理
室２の冷却プレ−ト２５上に配置された搬送コロ２７上
にガラス基板１が搬送される（図７（ａ））と、搬送コ
ロ２６、２７の回転が停止し、ガラス基板１を支持した
上下移動可能な搬送コロ２７が冷却プレ−ト２５より下
方に下降してガラス基板１を冷却プレ−ト２５上に接触
保持する（図７（ｂ）。その状態で充分に冷却されガラ
ス基板１表面に結露による水の膜が形成された後、上下
移動可能な搬送コロ２７が元の搬送位置まで上昇し（図
７（Ｃ））、搬送コロ２６、２７の回転を開始すること
により矢印方向に進んでガラス基板１を次工程に搬送す
る。また、ガラス基板１の冷却方法としては、冷風をガ
ラス基板１に吹きかける、あるいは洗浄前処理室全体を
冷却することにより、ガラス基板１を冷却してもよい。
【００１４】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、液晶
表示パネルの製造工程におけるラビング処理後のガラス
基板の洗浄方法として、超音波洗浄等のウェット洗浄を
行う前に、二流体ノズルまたは超音波加湿器による霧状
粒子の付着や結露によりガラス基板の表面に流れを持た
ない水の膜を形成するため、基板が完全に濡れる前に異
物が洗浄により基板上を移動するのを防止でき、洗浄水
の圧力や異物が配向膜表面を擦ることによる配向の乱れ
やシミの発生を防止して、表示品位の高い液晶表示パネ
ルを製造する方法を提供することができる。また、ラビ
ング処理後の洗浄工程において、基板表面の異物や汚染
を完全に除去できると共に配向の乱れやシミの発生を防
止できる洗浄装置を提供することができる。
表示パネルの製造工程におけるラビング処理後のガラス
基板の洗浄方法として、超音波洗浄等のウェット洗浄を
行う前に、二流体ノズルまたは超音波加湿器による霧状
粒子の付着や結露によりガラス基板の表面に流れを持た
ない水の膜を形成するため、基板が完全に濡れる前に異
物が洗浄により基板上を移動するのを防止でき、洗浄水
の圧力や異物が配向膜表面を擦ることによる配向の乱れ
やシミの発生を防止して、表示品位の高い液晶表示パネ
ルを製造する方法を提供することができる。また、ラビ
ング処理後の洗浄工程において、基板表面の異物や汚染
を完全に除去できると共に配向の乱れやシミの発生を防
止できる洗浄装置を提供することができる。
【図１】 この発明の実施の形態１による液晶表示パネ
ルの製造工程を示す工程図である。
ルの製造工程を示す工程図である。
【図２】 この発明の実施の形態１による液晶表示パネ
ルの製造工程において用いられる洗浄装置の構成を示す
模式図である。
ルの製造工程において用いられる洗浄装置の構成を示す
模式図である。
【図３】 この発明の実施の形態１による液晶表示パネ
ルの製造工程において用いられる洗浄装置の二流体ノズ
ルを説明するための概念図である。
ルの製造工程において用いられる洗浄装置の二流体ノズ
ルを説明するための概念図である。
【図４】 この発明の実施の形態１による液晶表示パネ
ルの製造工程途中の基板の状態を示す模式図である。
ルの製造工程途中の基板の状態を示す模式図である。
【図５】 この発明の実施の形態２による液晶表示パネ
ルの製造工程において用いられる洗浄装置の洗浄前処理
室の構成を示す模式図である。
ルの製造工程において用いられる洗浄装置の洗浄前処理
室の構成を示す模式図である。
【図６】 この発明の実施の形態２による液晶表示パネ
ルの製造工程において用いられる洗浄装置の他の洗浄前
処理室の構成を示す模式図である。
ルの製造工程において用いられる洗浄装置の他の洗浄前
処理室の構成を示す模式図である。
【図７】 この発明の実施の形態３による液晶表示パネ
ルの製造工程において用いられる洗浄装置の洗浄前処理
室の構成を示す模式図である。
ルの製造工程において用いられる洗浄装置の洗浄前処理
室の構成を示す模式図である。
１ ガラス基板、２ 洗浄前処理室、３ 超音波洗浄
室、４ 高圧水流室、５ リンス室、６ 乾燥室、７
二流体ノズル、８ 給水配管、９ ガス配管、１０ シ
ャワーノズル、１１ 超音波槽、１２ タンク、１３
ポンプ、１４ 高圧スプレイノズル、１５ タンク、１
６ ポンプ、１７ シャワーノズル、１８ エアナイ
フ、２０ 霧状粒子、２１ 配向膜、２２ 水滴、２３
超音波加湿器、２４ 導管、２５ 冷却プレート、２
６ 搬送コロ、２７ 上下移動可能な搬送コロ。
室、４ 高圧水流室、５ リンス室、６ 乾燥室、７
二流体ノズル、８ 給水配管、９ ガス配管、１０ シ
ャワーノズル、１１ 超音波槽、１２ タンク、１３
ポンプ、１４ 高圧スプレイノズル、１５ タンク、１
６ ポンプ、１７ シャワーノズル、１８ エアナイ
フ、２０ 霧状粒子、２１ 配向膜、２２ 水滴、２３
超音波加湿器、２４ 導管、２５ 冷却プレート、２
６ 搬送コロ、２７ 上下移動可能な搬送コロ。
─────────────────────────────────────────────────────
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(56)参考文献 特開 平５−264942（ＪＰ，Ａ)
特開 昭63−106727（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−329789（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−235893（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−111512（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G02F 1/1333
G02F 1/1337
G02F 1/13 101
Claims (3)
- 【請求項１】 電極および配向膜が形成された二枚の基
板を対向させて接着すると共に、上記二枚の基板間に液
晶を挟持してなる液晶表示パネルの製造方法において、
上記配向膜をラビング処理した後に二流体ノズルまたは
超音波加湿器により、上記基板の表面に霧状粒子を噴出
して付着させ、上記基板の表面全体に流れを持たない水
の膜を形成する工程と、上記流れを持たない水の膜が形
成された基板を超音波や高圧スプレイによりウェット洗
浄する工程を含むことを特徴とする液晶表示パネルの製
造方法。 - 【請求項２】 電極および配向膜が形成された二枚の基
板を対向させて接着すると共に、上記二枚の基板間に液
晶を挟持してなる液晶表示パネルの製造方法において、
上記配向膜をラビング処理した後に上記基板を冷却する
ことにより上記基板表面に結露させ、上記基板の表面全
体に流れを持たない水の膜を形成する工程と、上記流れ
を持たない水の膜が形成された基板を超音波や高圧スプ
レイによりウェット洗浄する工程を含むことを特徴とす
る液晶表示パネルの製造方法。 - 【請求項３】 基板に形成された配向膜の表面をラビン
グ処理した後に上記基板の表面を洗浄する洗浄装置にお
いて、請求項１または請求項２記載の工程によって上記
基板表面全体に流れを持たない水の膜を形成する洗浄前
処理室と、上記流れを持たない水の膜が形成された基板
を超音波や高圧スプレイによりウェット洗浄するウェッ
ト洗浄室を備えたことを特徴とする洗浄装置。
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|---|---|---|---|
| JP11385098A JP3517585B2 (ja) | 1998-04-23 | 1998-04-23 | 液晶表示パネルの製造方法およびこれに用いられる洗浄装置 |
| TW087119057A TW531677B (en) | 1998-04-23 | 1998-11-18 | Method for making a liquid crystal display panel and a rinsing device therefor |
| KR1019990003316A KR100323502B1 (ko) | 1998-04-23 | 1999-02-02 | 액정표시패널의 제조방법 및 이것에 사용되는 세정장치 |
| US09/294,331 US6118511A (en) | 1998-04-23 | 1999-04-20 | Manufacturing method of liquid crystal display panel and cleaning apparatus for use therein |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11385098A JP3517585B2 (ja) | 1998-04-23 | 1998-04-23 | 液晶表示パネルの製造方法およびこれに用いられる洗浄装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11305184A JPH11305184A (ja) | 1999-11-05 |
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| JP11385098A Expired - Fee Related JP3517585B2 (ja) | 1998-04-23 | 1998-04-23 | 液晶表示パネルの製造方法およびこれに用いられる洗浄装置 |
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| JP (1) | JP3517585B2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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Families Citing this family (20)
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|---|---|---|---|---|
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| JP2003005186A (ja) * | 2001-06-20 | 2003-01-08 | Nec Corp | 液晶表示装置の製造方法及び塗布膜乾燥装置 |
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| KR101048704B1 (ko) * | 2004-08-09 | 2011-07-14 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시소자용 기판의 세정방법 |
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| KR101147653B1 (ko) | 2010-01-13 | 2012-05-24 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
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| CN103212546A (zh) * | 2013-03-26 | 2013-07-24 | 安徽省皖美装饰玻璃有限公司 | 一种用于玻璃清洗装置 |
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| CN104570496B (zh) * | 2015-02-04 | 2017-05-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种形成有取向膜的基板的清洗方法 |
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| CN107470306A (zh) * | 2017-08-31 | 2017-12-15 | 天津铭庆科技有限公司 | 一种玻璃清洗机的进水装置 |
| JP2020013127A (ja) * | 2018-07-19 | 2020-01-23 | シャープ株式会社 | 液晶用基板の製造方法 |
| CN109127580A (zh) * | 2018-10-13 | 2019-01-04 | 杭州钜洲精密制造有限公司 | 一种金属板镀膜前的清洁*** |
| CN110586597A (zh) * | 2019-09-25 | 2019-12-20 | 惠州市吉祥达智能装备有限公司 | 一种玻璃清洗装置及方法 |
| CN112808727B (zh) * | 2020-12-16 | 2022-08-30 | 彩虹（合肥）液晶玻璃有限公司 | 一种去除液晶基板玻璃素板表面玻璃粉的清理装置 |
| CN112775137A (zh) * | 2020-12-22 | 2021-05-11 | 内蒙古东岳金峰氟化工有限公司 | 一种多通道的碱洗循环槽 |
| CN113680754A (zh) * | 2021-09-01 | 2021-11-23 | 安徽永茂泰铝业有限公司 | 一种汽车铸造件回收用拆解清洗装置及其工作方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03180814A (ja) * | 1989-12-08 | 1991-08-06 | Taiyo Sanso Co Ltd | 液晶表示素子の配向処理方法 |
| JP3272801B2 (ja) * | 1993-02-09 | 2002-04-08 | 松下電器産業株式会社 | 液晶パネル用基板の製造方法 |
-
1998
- 1998-04-23 JP JP11385098A patent/JP3517585B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-11-18 TW TW087119057A patent/TW531677B/zh not_active IP Right Cessation
-
1999
- 1999-02-02 KR KR1019990003316A patent/KR100323502B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1999-04-20 US US09/294,331 patent/US6118511A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103567202A (zh) * | 2012-08-06 | 2014-02-12 | 安瀚视特韩国有限公司 | 彩色滤色用玻璃片的制造方法、彩色滤色面板的制造方法以及显示器用玻璃基板 |
| CN103567202B (zh) * | 2012-08-06 | 2016-08-10 | 安瀚视特韩国有限公司 | 彩色滤色用玻璃片的制造方法、彩色滤色面板的制造方法以及显示器用玻璃基板 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW531677B (en) | 2003-05-11 |
| KR100323502B1 (ko) | 2002-02-07 |
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