JP3507538B2 - 排ガス用浄化触媒および浄化方法 - Google Patents
排ガス用浄化触媒および浄化方法Info
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、排ガス用浄化触媒およ
び浄化方法に関し、さらに詳しくは排ガス中の窒素酸化
物（ＮＯｘ）、一酸化炭素（ＣＯ）およびアンモニア
（ＮＨ3 ）の浄化に好適な排ガス用浄化触媒および浄化
方法に関する。
び浄化方法に関し、さらに詳しくは排ガス中の窒素酸化
物（ＮＯｘ）、一酸化炭素（ＣＯ）およびアンモニア
（ＮＨ3 ）の浄化に好適な排ガス用浄化触媒および浄化
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ボイラから排出される燃焼排ガス中の窒
素酸化物（ＮＯｘ）は、光化学スモッグや酸性雨の原因
物質であるため、ＮＯｘを除去する方法として、触媒を
用いて排ガス中に添加したアンモニア（ＮＨ3 ）で選択
的に還元する接触還元法が広く採用されている。上記触
媒としては、酸化チタンをベースにした各種の脱硝触
媒、例えば、触媒成分をハニカム状や球状に成形した触
媒、セラミックスハニカムや金属基板上に触媒成分をコ
ーティングして触媒使用量を低減した触媒等が実用化さ
れている（特開昭５０−１２８６８１号公報、特開昭５
３−２８１４８号公報、特開平２−８３０８６号公
報）。
素酸化物（ＮＯｘ）は、光化学スモッグや酸性雨の原因
物質であるため、ＮＯｘを除去する方法として、触媒を
用いて排ガス中に添加したアンモニア（ＮＨ3 ）で選択
的に還元する接触還元法が広く採用されている。上記触
媒としては、酸化チタンをベースにした各種の脱硝触
媒、例えば、触媒成分をハニカム状や球状に成形した触
媒、セラミックスハニカムや金属基板上に触媒成分をコ
ーティングして触媒使用量を低減した触媒等が実用化さ
れている（特開昭５０−１２８６８１号公報、特開昭５
３−２８１４８号公報、特開平２−８３０８６号公
報）。
【０００３】一方、最近では、排ガス中のＮＯｘだけで
なく、同時に排ガス中のＣＯの除去や還元剤として注入
したＮＨ3 の未反応ＮＨ3 流出量の低減が求められてお
り、これらの成分を同時に浄化する触媒や浄化方法等の
開発が進められている。例えば特開平５−３２９３３４
号公報には、ＮＯｘとＣＯを除去し、かつ未反応アンモ
ニアの流出量の低減を図ることができる触媒、具体的に
は白金を担持したシリカまたはモルデナイトと酸化チタ
ン系脱硝触媒成分とを組合わせた触媒が開示されてい
る。
なく、同時に排ガス中のＣＯの除去や還元剤として注入
したＮＨ3 の未反応ＮＨ3 流出量の低減が求められてお
り、これらの成分を同時に浄化する触媒や浄化方法等の
開発が進められている。例えば特開平５−３２９３３４
号公報には、ＮＯｘとＣＯを除去し、かつ未反応アンモ
ニアの流出量の低減を図ることができる触媒、具体的に
は白金を担持したシリカまたはモルデナイトと酸化チタ
ン系脱硝触媒成分とを組合わせた触媒が開示されてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記触媒で
は、ＮＯｘとＮＨ3 の除去反応が下記式（１）および
（２）式の反応により行われ、触媒表面層でＮＨ3 が白
金触媒と接触して酸化されてＮＯを生成するため、この
生成したＮＯが残留ＮＨ3 と反応する確率が少なくな
り、結果的に排ガス中のＮＯ濃度が低くならず、脱硝性
能が悪くなるという問題があった。 ＮＯ＋ＮＨ3 ＋3/4 Ｏ2 → Ｎ2 ＋3/2 Ｈ2 Ｏ （１） ＮＨ3 ＋5/4 Ｏ2 → ＮＯ＋3/2 Ｈ2 Ｏ （２）
は、ＮＯｘとＮＨ3 の除去反応が下記式（１）および
（２）式の反応により行われ、触媒表面層でＮＨ3 が白
金触媒と接触して酸化されてＮＯを生成するため、この
生成したＮＯが残留ＮＨ3 と反応する確率が少なくな
り、結果的に排ガス中のＮＯ濃度が低くならず、脱硝性
能が悪くなるという問題があった。 ＮＯ＋ＮＨ3 ＋3/4 Ｏ2 → Ｎ2 ＋3/2 Ｈ2 Ｏ （１） ＮＨ3 ＋5/4 Ｏ2 → ＮＯ＋3/2 Ｈ2 Ｏ （２）
【０００５】すなわち、排ガス中のＮＯｘは、還元剤と
してのＮＨ3 の存在下で触媒中の酸化チタン系脱硝触媒
成分により（１）式の反応でＮ2 とＨ2 Ｏとなる。一
方、（１）式の反応に使用されなかった未反応のＮＨ3
は、触媒内の白金触媒の存在下で（２）式によりＮＯに
酸化される。生成したＮＯは、白金触媒粒子に隣接する
脱硝触媒粒子および残存するＮＨ3 と接触して（１）式
の反応によりＮ2 とＨ2 Ｏとなり、その結果、未反応Ｎ
Ｈ3 の系外への流出量が低減されることとなる。しか
し、白金触媒と脱硝触媒成分を混合したものを成形また
は基板上にコーティングした上記従来の触媒では、該触
媒表面において、ＮＨ3 が触媒表面上の白金触媒と接触
してＮＯを生成するため、このＮＯが残留するＮＨ3 と
接触して上記（１）の反応をする機会が少なくなり、脱
硝率が低下すると考えられる。
してのＮＨ3 の存在下で触媒中の酸化チタン系脱硝触媒
成分により（１）式の反応でＮ2 とＨ2 Ｏとなる。一
方、（１）式の反応に使用されなかった未反応のＮＨ3
は、触媒内の白金触媒の存在下で（２）式によりＮＯに
酸化される。生成したＮＯは、白金触媒粒子に隣接する
脱硝触媒粒子および残存するＮＨ3 と接触して（１）式
の反応によりＮ2 とＨ2 Ｏとなり、その結果、未反応Ｎ
Ｈ3 の系外への流出量が低減されることとなる。しか
し、白金触媒と脱硝触媒成分を混合したものを成形また
は基板上にコーティングした上記従来の触媒では、該触
媒表面において、ＮＨ3 が触媒表面上の白金触媒と接触
してＮＯを生成するため、このＮＯが残留するＮＨ3 と
接触して上記（１）の反応をする機会が少なくなり、脱
硝率が低下すると考えられる。
【０００６】 本発明の目的は、上記従来技術の問題点
を解決し、少ない触媒使用量で、ＮＯｘとＣＯの除去お
よび未反応ＮＨ3 の流出量の低減を効率よく行うことが
できる排ガス用浄化触媒および浄化方法を提供すること
にある。
を解決し、少ない触媒使用量で、ＮＯｘとＣＯの除去お
よび未反応ＮＨ3 の流出量の低減を効率よく行うことが
できる排ガス用浄化触媒および浄化方法を提供すること
にある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本願で特許請求される発
明は以下のとおりである。 （１）金属基板上に、該金属基板側から白金成分層と脱
硝触媒成分層を順次担持させたことを特徴とする窒素酸
化物、一酸化炭素およびアンモニアを含有する排ガス用
浄化触媒。 （２）（１）記載の脱硝触媒成分が、酸化チタンと酸化
モリブデンと酸化バナジウムの混合物、酸化チタンと酸
化タングステンと酸化バナジウムの混合物または酸化チ
タンと酸化バナジウムの混合物であることを特徴とする
窒素酸化物、一酸化炭素およびアンモニアを含有する排
ガス用浄化触媒。 （３）窒素酸化物、一酸化炭素およびアンモニアを含有
する排ガスを触媒の存在下に浄化する排ガス浄化方法で
あって、該触媒として、（１）または（２）に記載の浄
化触媒を用いることを特徴とする排ガス浄化方法。
明は以下のとおりである。 （１）金属基板上に、該金属基板側から白金成分層と脱
硝触媒成分層を順次担持させたことを特徴とする窒素酸
化物、一酸化炭素およびアンモニアを含有する排ガス用
浄化触媒。 （２）（１）記載の脱硝触媒成分が、酸化チタンと酸化
モリブデンと酸化バナジウムの混合物、酸化チタンと酸
化タングステンと酸化バナジウムの混合物または酸化チ
タンと酸化バナジウムの混合物であることを特徴とする
窒素酸化物、一酸化炭素およびアンモニアを含有する排
ガス用浄化触媒。 （３）窒素酸化物、一酸化炭素およびアンモニアを含有
する排ガスを触媒の存在下に浄化する排ガス浄化方法で
あって、該触媒として、（１）または（２）に記載の浄
化触媒を用いることを特徴とする排ガス浄化方法。
【０００８】図１は、本発明の排ガス浄化用触媒の一例
を示す断面模式図である。図において、排ガス浄化用触
媒１は、金属基板２上に白金粒子層３と脱硝触媒粒子層
４を順に有する。排ガス中のＮＯｘは、まず、触媒表面
の脱硝触媒粒子層４と接触し、ＮＨ3 と反応してＮ2 と
Ｈ2 Ｏとなる。この脱硝触媒粒子層４には白金粒子が存
在しないため、ＮＨ3 が酸化されてＮＯになることはな
い。ＮＯｘと反応しなかった未反応のＮＨ3 は、脱硝触
媒粒子層４の内部に拡散し、白金粒子層３と接触してＮ
Ｏに酸化される。発生したＮＯは、白金粒子に隣接する
脱硝触媒粒子と接触して残存するＮＨ3 と反応し、Ｎ2
とＨ2 Ｏとなる。一方、排ガス中のＣＯは、触媒内を容
易に拡散する性質があるため、速やかに白金酸化触媒成
分３と接触してＣＯ2 に酸化される。
を示す断面模式図である。図において、排ガス浄化用触
媒１は、金属基板２上に白金粒子層３と脱硝触媒粒子層
４を順に有する。排ガス中のＮＯｘは、まず、触媒表面
の脱硝触媒粒子層４と接触し、ＮＨ3 と反応してＮ2 と
Ｈ2 Ｏとなる。この脱硝触媒粒子層４には白金粒子が存
在しないため、ＮＨ3 が酸化されてＮＯになることはな
い。ＮＯｘと反応しなかった未反応のＮＨ3 は、脱硝触
媒粒子層４の内部に拡散し、白金粒子層３と接触してＮ
Ｏに酸化される。発生したＮＯは、白金粒子に隣接する
脱硝触媒粒子と接触して残存するＮＨ3 と反応し、Ｎ2
とＨ2 Ｏとなる。一方、排ガス中のＣＯは、触媒内を容
易に拡散する性質があるため、速やかに白金酸化触媒成
分３と接触してＣＯ2 に酸化される。
【０００９】このように本発明の排ガス浄化用触媒で
は、従来の触媒のように白金粒子が触媒表面に出ておら
ず、触媒表面層でＮＨ3 がＮＯに酸化されることがない
ため、ＮＯがそのまま系外に排出されることはなく高い
脱硝率を得ることができ、しかも排ガス中のＣＯをも容
易に酸化でき、かつ未反応ＮＨ3 の流出量も大幅に低減
することができる。また本発明の排ガス浄化用触媒は、
金属基板上に各触媒成分をそれぞれ薄くコーティングす
ることにより得られるため、触媒使用量の低減が図れ
る。例えば、エキスパンドメタルにコーティングした場
合、従来のエキスパンドメタルの目開きを触媒で充填し
た形状の板状触媒と較べ、触媒使用量が１／１０以下に
でき、経済的に優れたものとなる。
は、従来の触媒のように白金粒子が触媒表面に出ておら
ず、触媒表面層でＮＨ3 がＮＯに酸化されることがない
ため、ＮＯがそのまま系外に排出されることはなく高い
脱硝率を得ることができ、しかも排ガス中のＣＯをも容
易に酸化でき、かつ未反応ＮＨ3 の流出量も大幅に低減
することができる。また本発明の排ガス浄化用触媒は、
金属基板上に各触媒成分をそれぞれ薄くコーティングす
ることにより得られるため、触媒使用量の低減が図れ
る。例えば、エキスパンドメタルにコーティングした場
合、従来のエキスパンドメタルの目開きを触媒で充填し
た形状の板状触媒と較べ、触媒使用量が１／１０以下に
でき、経済的に優れたものとなる。
【００１０】本発明に用いられる金属基板としては特に
制限はなく、ステンレス鋼、軟鋼等いずれでも使用する
ことができ、またその形状も平板、網状、エキスパンド
メタル等いずれでも使用可能である。該金属表面をアル
ミニウム等で金属溶射処理して粗面を形成させた金属基
板は、金属表面と触媒との接触が強化され、また触媒表
面積が増加し、活性が向上するため好ましい。本発明に
おける白金成分層は、例えば白金の塩化物、硝酸塩等の
可溶性塩類またはアミン錯体の形で溶解した水溶液中に
金属基板を浸漬し、またはこの水溶液を金属基板に塗布
し、該金属表面に白金をイオン交換させて担持し、乾燥
することにより得られる。
制限はなく、ステンレス鋼、軟鋼等いずれでも使用する
ことができ、またその形状も平板、網状、エキスパンド
メタル等いずれでも使用可能である。該金属表面をアル
ミニウム等で金属溶射処理して粗面を形成させた金属基
板は、金属表面と触媒との接触が強化され、また触媒表
面積が増加し、活性が向上するため好ましい。本発明に
おける白金成分層は、例えば白金の塩化物、硝酸塩等の
可溶性塩類またはアミン錯体の形で溶解した水溶液中に
金属基板を浸漬し、またはこの水溶液を金属基板に塗布
し、該金属表面に白金をイオン交換させて担持し、乾燥
することにより得られる。
【００１１】本発明における脱硝触媒成分には、触媒成
分の活性、分散性および剥離強度等の点から、酸化チタ
ンと酸化モリブデンと酸化バナジウムの混合物、酸化チ
タンと酸化タングステンと酸化バナジウムの混合物また
は酸化チタンと酸化バナジウムの混合物が用いられる。
脱硝触媒成分層は、例えば、上記酸化物の混合粉末を水
に懸濁させてスラリー化し、上記白金成分層を有する金
属基板上に塗布して数十μｍの厚さに担持させ、その
後、公知の方法で乾燥、焼成することにより得られる。
分の活性、分散性および剥離強度等の点から、酸化チタ
ンと酸化モリブデンと酸化バナジウムの混合物、酸化チ
タンと酸化タングステンと酸化バナジウムの混合物また
は酸化チタンと酸化バナジウムの混合物が用いられる。
脱硝触媒成分層は、例えば、上記酸化物の混合粉末を水
に懸濁させてスラリー化し、上記白金成分層を有する金
属基板上に塗布して数十μｍの厚さに担持させ、その
後、公知の方法で乾燥、焼成することにより得られる。
【００１２】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳しく説明す
る。 実施例１ 厚さ０．２mmのＳＵＳ３０４製エキスパンドメタル１ｍ
2 を、濃度２０mg／ｌの塩化白金酸水溶液中に浸漬し、
エキスパンドメタル表面に白金をイオン交換させて担持
した。この基板を水洗後乾燥させて触媒基板とした。酸
化チタン３０重量％を含むメタチタン酸５０kgに、モリ
ブデン酸アンモニウム３．８１kgおよびメタバナジン酸
アンモニウム１．０４kgを加え、ニーダで加熱混練し、
水分３５重量％のペーストを得た。このペーストを押出
造粒機で造粒後、乾燥し、５５０℃で２時間焼成した。
得られた顆粒をハンマーハルで１００メッシュパス９０
％以上に粉砕した。この粉末５．４kgに水４．６kgを加
えて懸濁させて脱硝触媒のスラリを得た。このスラリ
に、前記白金を担持した基板を浸漬し、余剰のスラリを
除去した後、乾燥し、５００℃で２時間焼成して担持量
が１５０ｇ／ｍ2 の触媒を得た。
る。 実施例１ 厚さ０．２mmのＳＵＳ３０４製エキスパンドメタル１ｍ
2 を、濃度２０mg／ｌの塩化白金酸水溶液中に浸漬し、
エキスパンドメタル表面に白金をイオン交換させて担持
した。この基板を水洗後乾燥させて触媒基板とした。酸
化チタン３０重量％を含むメタチタン酸５０kgに、モリ
ブデン酸アンモニウム３．８１kgおよびメタバナジン酸
アンモニウム１．０４kgを加え、ニーダで加熱混練し、
水分３５重量％のペーストを得た。このペーストを押出
造粒機で造粒後、乾燥し、５５０℃で２時間焼成した。
得られた顆粒をハンマーハルで１００メッシュパス９０
％以上に粉砕した。この粉末５．４kgに水４．６kgを加
えて懸濁させて脱硝触媒のスラリを得た。このスラリ
に、前記白金を担持した基板を浸漬し、余剰のスラリを
除去した後、乾燥し、５００℃で２時間焼成して担持量
が１５０ｇ／ｍ2 の触媒を得た。
【００１３】実施例２
実施例１において、塩化白金酸水溶液をエキスパンドメ
タルに塗布し、乾燥後、５００℃で２時間焼成してエキ
スパンドメタルに白金を担持させた以外は、実施例１と
同様の方法で触媒を調製した。 実施例３ 実施例２において、塩化白金酸水溶液の代わりにジニト
ロジアンミン白金水溶液を使用した以外は、実施例２と
同様の方法で触媒を調製した。 実施例４ 実施例２において、ＳＵＳ３０４製エキスパンドメタル
の代わりにアルミニウム溶射を５０ｇ／ｍ2 施したＳＵ
Ｓ３０４製エキスパンドメタルを使用した以外は、実施
例２と同様の方法で触媒を調製した。
タルに塗布し、乾燥後、５００℃で２時間焼成してエキ
スパンドメタルに白金を担持させた以外は、実施例１と
同様の方法で触媒を調製した。 実施例３ 実施例２において、塩化白金酸水溶液の代わりにジニト
ロジアンミン白金水溶液を使用した以外は、実施例２と
同様の方法で触媒を調製した。 実施例４ 実施例２において、ＳＵＳ３０４製エキスパンドメタル
の代わりにアルミニウム溶射を５０ｇ／ｍ2 施したＳＵ
Ｓ３０４製エキスパンドメタルを使用した以外は、実施
例２と同様の方法で触媒を調製した。
【００１４】比較例１
シリカ粉末５kgに、塩化白金酸６．６４ｇを水８ｌに溶
解させた塩化白金酸水溶液を加えて加熱しながら攪拌
し、塩化白金酸を担持したシリカ粉末を得た。この塩化
白金酸担持シリカ粉末を乾燥後、５００℃で２時間焼成
して白金を０．０５％担持したシリカとした。この白金
を０．０５％担持したシリカ粉末と、実施例１で使用し
たチタン、モリブデンおよびバナジウムの酸化物からな
る脱硝触媒の粉末を、重量比で２：９８の割合で混合
し、これに水を添加し、攪拌懸濁して触媒のスラリを得
た。このスラリ中に厚さ０．２mmのＳＵＳ３０４製エキ
スパンドメタルを触媒基板を浸漬し、実施例１と同様に
乾燥、焼成して触媒の担持量が１５０ｇ／ｍ2 の触媒を
得た。
解させた塩化白金酸水溶液を加えて加熱しながら攪拌
し、塩化白金酸を担持したシリカ粉末を得た。この塩化
白金酸担持シリカ粉末を乾燥後、５００℃で２時間焼成
して白金を０．０５％担持したシリカとした。この白金
を０．０５％担持したシリカ粉末と、実施例１で使用し
たチタン、モリブデンおよびバナジウムの酸化物からな
る脱硝触媒の粉末を、重量比で２：９８の割合で混合
し、これに水を添加し、攪拌懸濁して触媒のスラリを得
た。このスラリ中に厚さ０．２mmのＳＵＳ３０４製エキ
スパンドメタルを触媒基板を浸漬し、実施例１と同様に
乾燥、焼成して触媒の担持量が１５０ｇ／ｍ2 の触媒を
得た。
【００１５】＜試験例＞実施例１〜４および比較例１で
得られたそれぞれの触媒を用いて排ガス処理を行い、Ｎ
Ｏの除去率、ＣＯの除去率およびＮＨ3 の流出量を調べ
た。使用した排ガス成分および処理条件を表１に示し、
得られた結果を表２に示した。
得られたそれぞれの触媒を用いて排ガス処理を行い、Ｎ
Ｏの除去率、ＣＯの除去率およびＮＨ3 の流出量を調べ
た。使用した排ガス成分および処理条件を表１に示し、
得られた結果を表２に示した。
【表１】
【００１６】
【表２】
【００１７】表２から、金属基板上に白金を担持させ、
その上に脱硝触媒を薄層にコーティングした構造の触媒
（実施例１〜４）では、白金を担持したシリカと脱硝触
媒成分とを混合した触媒をコーティングしたもの（比較
例１）と同等のＮＨ3 分解率を示し、かつ脱硝率は、単
に白金を担持したシリカと脱硝触媒成分を混合してコー
ティングした触媒に較べて格段に高い性能を示すことが
わかる。
その上に脱硝触媒を薄層にコーティングした構造の触媒
（実施例１〜４）では、白金を担持したシリカと脱硝触
媒成分とを混合した触媒をコーティングしたもの（比較
例１）と同等のＮＨ3 分解率を示し、かつ脱硝率は、単
に白金を担持したシリカと脱硝触媒成分を混合してコー
ティングした触媒に較べて格段に高い性能を示すことが
わかる。
【００１８】
【発明の効果】本発明の排ガス用浄化触媒および浄化方
法によれば、触媒表層部でのＮＨ3 のＮＯへの酸化反応
が起きないため、また未反応ＮＨ3 が基板表面上の白金
粒子によりＮＯに酸化された後、該ＮＯが隣接する脱硝
触媒上で残留ＮＨ3 と反応してＮ2 とＨ2 Ｏとされるた
め、脱硝性能の低下を招くことなく、しかも未反応ＮＨ
3 の流出量を低減することができる。また排ガス中のＣ
Ｏも触媒中の白金成分によりＣＯ2 に酸化されて除去さ
れる。従って、本発明の触媒を用いた脱硝装置は、低コ
ストで流出ＮＨ3 を抑え、しかも高脱硝率とＣＯの除去
を達成することができる。また触媒使用量を少なくする
ことができるため、経済性に優れる。
法によれば、触媒表層部でのＮＨ3 のＮＯへの酸化反応
が起きないため、また未反応ＮＨ3 が基板表面上の白金
粒子によりＮＯに酸化された後、該ＮＯが隣接する脱硝
触媒上で残留ＮＨ3 と反応してＮ2 とＨ2 Ｏとされるた
め、脱硝性能の低下を招くことなく、しかも未反応ＮＨ
3 の流出量を低減することができる。また排ガス中のＣ
Ｏも触媒中の白金成分によりＣＯ2 に酸化されて除去さ
れる。従って、本発明の触媒を用いた脱硝装置は、低コ
ストで流出ＮＨ3 を抑え、しかも高脱硝率とＣＯの除去
を達成することができる。また触媒使用量を少なくする
ことができるため、経済性に優れる。
【図１】本発明の排ガス浄化用触媒の一例を示す断面模
式図。
式図。
１…排ガス浄化用触媒、２…金属基板、３…白金粒子
層、４…脱硝触媒粒子層。
層、４…脱硝触媒粒子層。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B01J 21/00 - 38/74
B01D 53/00 - 53/96
Claims (3)
- 【請求項１】 金属基板上に、該金属基板側から白金成
分層と脱硝触媒成分層を順次担持させたことを特徴とす
る窒素酸化物、一酸化炭素およびアンモニアを含有する
排ガス用浄化触媒。 - 【請求項２】 請求項１記載の脱硝触媒成分が、酸化チ
タンと酸化モリブデンと酸化バナジウムの混合物、酸化
チタンと酸化タングステンと酸化バナジウムの混合物ま
たは酸化チタンと酸化バナジウムの混合物であることを
特徴とする窒素酸化物、一酸化炭素およびアンモニアを
含有する排ガス用浄化触媒。 - 【請求項３】 窒素酸化物、一酸化炭素およびアンモニ
アを含有する排ガスを触媒の存在下に浄化する排ガス浄
化方法であって、該触媒として、請求項１または請求項
２に記載の浄化触媒を用いることを特徴とする排ガス浄
化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01283694A JP3507538B2 (ja) | 1994-02-04 | 1994-02-04 | 排ガス用浄化触媒および浄化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01283694A JP3507538B2 (ja) | 1994-02-04 | 1994-02-04 | 排ガス用浄化触媒および浄化方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07213914A JPH07213914A (ja) | 1995-08-15 |
| JP3507538B2 true JP3507538B2 (ja) | 2004-03-15 |
Family
ID=11816469
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01283694A Expired - Fee Related JP3507538B2 (ja) | 1994-02-04 | 1994-02-04 | 排ガス用浄化触媒および浄化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3507538B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112107993B (zh) * | 2019-06-21 | 2022-08-16 | 中国石化工程建设有限公司 | 一种不完全再生催化裂化装置烟气的脱硝方法和*** |
| CN117019143A (zh) * | 2023-07-21 | 2023-11-10 | 中节能(山东)催化剂有限公司 | 一种脱硝、脱碳、脱氨三效复合催化剂及其制备方法 |
-
1994
- 1994-02-04 JP JP01283694A patent/JP3507538B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07213914A (ja) | 1995-08-15 |
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