JP3489460B2 - 塗布装置及び塗布方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶ディス
プレイ（Liquid Crystal Display：ＬＣＤ）に使われる
ガラス基板上にレジスト液を塗布する塗布装置及び塗布
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＬＣＤの製造工程においては、ＬＣＤ用
のガラス基板上にＩＴＯ（Indium TinOxide）の薄膜や
電極パターンを形成するために、半導体デバイスの製造
に用いられるものと同様のフォトリソグラフィ技術が利
用される。フォトリソグラフィ技術では、フォトレジス
トを基板に塗布し、これを露光し、さらに現像する。

【０００３】このようなレジスト塗布工程では、ガラス
基板Ｇを回転させながらその上にレジスト液を滴下する
ことが従来から行われている。

【０００４】図１１は従来のレジスト塗布装置の一例を
示す正面図、図１２はその平面図である。これらの図に
示すように、ガラス基板Ｇを搬出入するための開口部１
０１が上部に設けられたカップ１０２内にガラス基板Ｇ
を真空吸着保持するスピンチャック１０３が配置されて
おり、スピンチャック１０３は図示を省略した回転駆動
機構により回転されるようになっている。そして、ガラ
ス基板Ｇをスピンチャック１０３上に真空吸着保持した
後、ノズル１０４をガラス基板Ｇのほぼ中心の上方に位
置させ、ノズル１０４からガラス基板Ｇの上面にレジス
ト液を滴下するようになっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなレジスト塗布装置では、ガラス基板Ｇ上の全面に亙
ってレジスト液を塗布するために、ノズル１０４からガ
ラス基板Ｇ上に必要以上のレジスト液を供給する必要が
あり、そのためレジスト液の使用量が多くなる、という
課題がある。また、現像ノズルで直接液盛すると、レジ
ストに対するファーストインパクトが大きくなり、気泡
を取り込むことがあり、解像度が低下するおそれがあっ
た。

【０００６】本発明は上記のような課題を解決するため
になされたもので、レジスト液等の塗布液の使用量を少
なくすることができ、塗膜不良を低下可能な塗布装置及
び塗布方法を提供することを目的とする。

【０００７】本発明の別の目的は、塗布液を被処理体へ
供給するための部材を容易に洗浄することができる塗布
装置及び塗布方法を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め、本発明の塗布装置は、被処理体を保持する保持部材
と、前記保持部材により保持された被処理体上を走行自
在に配置され、開口部が上部に設けられると共にスリッ
トが下部に設けられた受け器ノズルと、前記開口部を介
して受け器ノズルへ塗布液を供給する供給ノズルとを具
備する。即ち、本発明では、供給ノズルより開口部を介
して受け器ノズルへ塗布液を供給しつつ、受け器ノズル
が被処理体上を走行することで、受け器ノズルよりスリ
ットを介して被処理体表面に塗布液が塗布されていく。
その際、従来のように圧力により被処理体表面へ塗布液
を吐出するのではなく、塗布液の自重によりスリットか
ら被処理体表面へ塗布液を垂らすように作用し、しかも
スリットから被処理体表面に垂らされ塗布された塗布液
が塗布液の表面張力や粘性によってスリットから垂れて
くる塗布液を引っ張るように作用するので、被処理体表
面には塗布液が均一に塗布されることになり、塗布液の
使用量を少なくすることができる。また、受け器ノズル
と供給ノズルとを物理的に分離することが可能な構成で
あるので、塗布液を被処理体へ供給するための部材であ
る受け器ノズルを容易に洗浄することができる。

【０００９】本発明の塗布装置は、長方形の被処理体を
保持する保持部材と、開口部が上部に設けられると共に
スリットが下部に設けられ、前記被処理体の短辺とほぼ
同じ長さとされた受け器ノズルと、前記受け器ノズル
を、前記保持部材により保持された被処理体上を当該被
処理体の長辺に沿って走行させる走行駆動機構と、前記
開口部を介して走行する受け器ノズルへ塗布液を供給す
る供給ノズルとを具備する。即ち、本発明では、塗布液
の使用量を少なくすることができ、かつ、受け器ノズル
を容易に洗浄することができると共に、受け器ノズルの
幅を短くすることができ、装置の小型化に寄与すること
になる。

【００１０】本発明の塗布装置は、被処理体を保持しつ
つ回転する保持回転部材と、開口部が上部に設けられる
と共にスリットが下部に設けられた受け器ノズルと、前
記受け器ノズルを、前記保持回転部材により保持回転さ
れる被処理体上を走行させる走行駆動機構と、前記開口
部を介して走行する受け器ノズルへ塗布液を供給する供
給ノズルとを具備する。即ち、被処理体を回転しながら
受け器ノズルより被処理体表面へ塗布液を垂らしている
ので、遠心力により塗布液が被処理体表面へより均一に
広がることになる。よって、塗布液の使用量を更に少な
くすることができる。

【００１１】本発明の塗布装置は、矩形の被処理体を保
持しつつ回転する保持回転部材と、開口部が上部に設け
られると共にスリットが下部に設けられ、前記被処理体
の対角長のほぼ半分の長さとされた受け器ノズルと、前
記受け器ノズルを保持しつつ、前記保持回転部材により
保持回転される被処理体上を走行させる走行駆動機構
と、前記開口部を介して走行する受け器ノズルへ塗布液
を供給する供給ノズルとを具備する。即ち、本発明で
は、塗布液の使用量を更に少なくすることができ、か
つ、受け器ノズルを容易に洗浄することができると共
に、受け器ノズルの幅を短くすることができ、装置の小
型化に寄与することになる。

【００１２】本発明の塗布装置は、前記供給ノズルには
前記開口部に向けて塗布液を吐出する複数の吐出孔が前
記開口部に沿って設けられ、この供給ノズルを前記受け
器ノズルの走行に追従させることを特徴とする。即ち、
本発明では、受け器ノズルから被処理体表面へ塗布液を
垂らしながら吐出孔から受け器ノズルへ塗布液を供給す
ることができるので、スリットから被処理体表面へ塗布
液を安定して均一に垂らすことができる。

【００１３】本発明の塗布装置は、前記供給ノズルには
前記開口部に向けて塗布液を吐出する吐出孔が先端部に
設けられ、前記吐出孔が前記走行する受け器ノズルの開
口部に沿って走行するように前記供給ノズルを回動する
ことを特徴とする。即ち、本発明では、吐出孔が先端部
に設けられた供給ノズルを回動することで受け器ノズル
へ塗布液を供給するように構成されているので、上記作
用に加え、供給ノズルの小型簡略化を図ることができ、
また従来構成の簡単な改良で本発明を実現することがで
きる。

【００１４】本発明の塗布装置は、前記受け器ノズルを
洗浄する洗浄手段をさらに具備する。即ち、本発明で
は、受け器ノズルを洗浄する洗浄手段を具備するので、
不純物を含有した塗布液や濃度のばらついた塗布液が被
処理体へ塗布されることはなくなる。

【００１５】本発明の塗布装置は、前記洗浄手段が、前
記受け器ノズルが浸されるように洗浄液を貯溜する洗浄
漕を具備する。即ち、本発明では、受け器ノズルが浸さ
れるように洗浄液を貯溜する洗浄漕によって受け器ノズ
ルを洗浄しているので、簡単な構成で効率よく受け器ノ
ズルを洗浄することができる。

【００１６】本発明の塗布装置は、前記洗浄手段が、前
記受け器ノズルのスリット付近に向けて洗浄液を噴出す
る噴出機構を具備する。即ち、本発明では、受け器ノズ
ルに向けて洗浄液を噴出する噴出機構によって受け器ノ
ズルを洗浄しているので、簡単な構成で効率よく受け器
ノズルを洗浄することができる。

【００１７】本発明の塗布装置は、前記洗浄手段が、前
記受け器ノズルの開口部より当該受け器ノズルの内壁に
向けて洗浄液を噴出する噴出機構を具備する。即ち、本
発明では、受け器ノズルの内壁に向けて洗浄液を噴出し
て受け器ノズルの内側を洗浄しているので、洗浄の効果
をより高めることができる。

【００１８】本発明の塗布装置は、前記受け器ノズルの
先端部に、前記スリットから被処理体に塗布された塗布
液を広げるためのへら状の部材が取り付けられているこ
とを特徴とする。即ち、本発明では、受け器ノズルの先
端部に、スリットから被処理体に塗布された塗布液を広
げるためのへら状の部材が取り付けられているので、被
処理体に塗布された塗布液をまんべんなく均一に広げる
ことができる。

【００１９】本発明の塗布方法は、開口部が上部に設け
られると共にスリットが下部に設けられた受け器ノズル
を洗浄する工程と、前記洗浄された受け器ノズルを、被
処理体上を走行しつつ、前記開口部を介して受け器ノズ
ルへ塗布液を供給する工程とを具備する。即ち、本発明
では、塗布液の使用量を少なくすることができ、かつ、
受け器ノズルを容易に洗浄することができる。

【００２０】本発明の塗布方法は、開口部が上部に設け
られると共にスリットが下部に設けられた受け器ノズル
を洗浄する工程と、前記洗浄された受け器ノズルを、回
転する被処理体上を走行しつつ、前記開口部を介して受
け器ノズルへ塗布液を供給する工程とを具備する。即
ち、本発明では、塗布液の使用量を更に少なくすること
ができ、かつ、受け器ノズルを容易に洗浄することがで
きる。

【００２１】本発明の塗布方法は、１つの被処理体毎に
受け器ノズルを洗浄することを特徴とする。即ち、本発
明では、洗浄効果をより高めることができる。

【００２２】本発明の塗布方法、１つの被処理体毎に、
1つの被処理体に必要な量の塗布液を受け器ノズルへ供
給することを特徴とする。即ち、本発明では、常に新鮮
な塗布液を塗布することが可能となる。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づき説明する。図１は本発明の一実施形態に係る塗
布・現像処理システムの斜視図である。図１に示すよう
に、この塗布・現像処理システム１の前方には、ラス基
板Ｇを、塗布・現像処理システム１に対して搬出入する
ローダ・アンローダ部２が設けられている。このローダ
・アンローダ部２には、ガラス基板Ｇを例えば２５枚ず
つ収納したカセットＣを所定位置に整列させて載置させ
るカセット載置台３と、各カセットＣから処理すべきガ
ラス基板Ｇを取り出し、また塗布・現像処理システム１
において処理の終了したガラス基板Ｇを各カセットＣへ
戻すローダ・アンローダ４が設けられている。図示のロ
ーダアンローダ４は、本体５の走行によってカセットＣ
の配列方向に移動し、本体５に搭載された板片状のピン
セット６によって各カセットＣからガラス基板Ｇを取り
出し、また各カセットＣへガラス基板Ｇを戻すようにな
っている。また、ピンセット６の両側には、ガラス基板
Ｇの四隅を保持して位置合わせを行う基板位置合わせ部
材７が設けられている。

【００２４】塗布・現像処理システム１の中央部には、
長手方向に配置された廊下状の搬送路１０、１１が第１
の受け渡し部１２を介して一直線上に設けられており、
この搬送路１０、１１の両側には、ガラス基板Ｇに対す
る各処理を行うための各種処理装置が配置されている。

【００２５】図示の塗布・現像処理システム１にあって
は、搬送路１０の一側方に、ガラス基板Ｇをブラシ洗浄
すると共に高圧ジェット水により洗浄を施すための洗浄
装置１６が例えば２台並設されている。また、搬送路１
０を挟んで反対側に、二基の現像装置１７が並設され、
その隣りに二基の加熱装置１８が積み重ねて設けられて
いる。

【００２６】また、搬送路１１の一側方に、ガラス基板
Ｇにレジスト液を塗布する前にガラス基板Ｇを疎水処理
するアドヒージョン装置２０が設けられ、このアドヒー
ジョン装置２０の下方には冷却用のクーリング装置２１
が配置されている。また、これらアドヒージョン装置２
０とクーリング装置２１の隣には加熱装置２２が二列に
二個ずつ積み重ねて配置されている。また、搬送路１１
を挟んで反対側に、ガラス基板Ｇの表面にレジスト液を
塗布することによってガラス基板Ｇの表面にレジスト膜
を形成するレジスト塗布装置２３が配置されている。図
示はしないが、これら塗布装置２３の側部には、第２の
受け渡し部２８を介し、ガラス基板Ｇ上に形成されたレ
ジスト膜に所定の微細パターンを露光するための露光装
置等が設けられる。第２の受け渡し部２８は、ガラス基
板Ｇを搬入および搬出するための搬出入ピンセット２９
および受け渡し台３０を備えている。

【００２７】以上の各処理装置１５〜１８および２０〜
２３は、何れも搬送路１０、１１の両側において、ガラ
ス基板Ｇの出入口を内側に向けて配設されている。第１
の搬送装置２５がローダ・アンローダ部２、各処理装置
１５〜１８および第１の受け渡し部１２との間でガラス
基板Ｇを搬送するために搬送路１０上を移動し、第２の
搬送装置２６が第１の受け渡し部１２、第２の受け渡し
部２８および各処理装置２０〜２３との間でガラス基板
Ｇを搬送するために搬送路１１上を移動するようになっ
ている。

【００２８】各搬送装置２５、２６は、それぞれ上下一
対のアーム２７、２７を有しており、各処理装置１５〜
１８および２０〜２３にアクセスするときは、一方のア
ーム２７で各処理装置のチャンバから処理済みのガラス
基板Ｇを搬出し、他方のアーム２７で処理前のガラス基
板Ｇをチャンバ内に搬入するように構成されている。

【００２９】図２は図１に示したレジスト塗布装置２３
の正面図、図３はその平面図である。これらの図に示す
ように、レジスト塗布装置２３のほぼ中央には、カップ
２９が配置され、カップ２９内にはガラス基板Ｇを保持
するためのスピンチャック２８が配置されている。

【００３０】スピンチャック２８には、ガラス基板Ｇを
真空吸着保持するための真空吸着装置３７が接続されて
いる。カップ２９の上部には、ガラス基板Ｇを出し入れ
するための開口部３８が設けられている。開口部３８に
は、上蓋３０が被せられるようになっている。上蓋３０
は開閉機構（図示を省略）によって移動可能に支持され
ている。

【００３１】第１のモータ３１はスピンチャック２８を
回転させるための駆動源であり、第２のモータ３２はカ
ップ２９を回転させるための駆動源である。昇降シリン
ダ３３はスピンチャック２８をＺ軸方向に昇降させるた
めの駆動源である。

【００３２】スピンチャック２９の載置部４０の外周側
下面には、シール部材４１が取り付けられている。スピ
ンチャック２８を下降させて、シール部材４１をカップ
２９の底部に当接させると、気密な処理スペース４２が
形成されるようになっている。

【００３３】第１のモータ３１及び第２のモータ３２は
ＣＰＵ３６によって回転駆動が制御されるようになって
いる。また、ＣＰＵ３６によって昇降シリンダ３３は昇
降制御されるようになっている。

【００３４】昇降シリンダ３３の回転軸４３は、固定カ
ラー４４の内周面にベアリング４５を介して回転可能に
装着される回転円筒４６の円周面に嵌着されるスプライ
ン軸受４７に摺動可能に連結されている。スプライン軸
受４７には、従動プーリ４８が装着されており、従動プ
ーリ４８には第1のモータ３１の駆動軸４９に装着され
た駆動プーリ５０との間にタイミングベルト５１が掛け
渡されている。

【００３５】したがって、第1のモータ３１の駆動によ
ってタイミングベルト５１を介して回転軸４３が回転し
てスピンチャック２８が回転される。

【００３６】また、回転軸４３の下部側は図示しない筒
体内に配設されており、筒体内において回転軸４３はバ
キュームシール部５２を介して昇降シリンダ３３の駆動
によって回転軸４３がＺ軸方向に移動し得るようになっ
ている。

【００３７】カップ２９は、固定カラー４４の外周面に
ベアリング５３を介して装着される回転外筒５４の上端
部に固定される連結筒５５を介して取り付けられてお
り、回転外筒５４に装着されろ従動プーリ５６と第2の
モータ３２の駆動軸５７に装着される駆動プーリ５８に
掛け渡されるタイミングベルト５９によって第2のモー
タ３２からの駆動がカップ２９に伝達されてカップ２９
が水平方向に回転されるように構成されている。

【００３８】また、カップ２９の外周側には、中空リン
グ状のドレンカップ６０が配設されており、カップ２９
から飛散されたミストを回収し得るようになっている。

【００３９】さらに、第1のモータ３１にはエンコーダ
６１が取り付けられ、第2のモータ３２にはエンコーダ
６２が取り付けられている。これらエンコーダ６１、６
２によって検出された検出信号はＣＰＵ３６に伝達さ
れ、ＣＰＵ３６にて比較演算された出力信号に基づいて
第1のモータ３１及び第2のモータ３２についての回転動
作がそれぞれ制御されるようになっている。

【００４０】カップ２９の両側には、搬送用レール７
１、７１が配置されている。そして、図示を省略した駆
動機構によって受け器ノズル７２及び供給ノズル７３が
搬送用レール７１、７１に沿って走行するようになって
いる。また、受け器ノズル７２及び供給ノズル７３は、
図示を省略した昇降機構により上下動可能にされてい
る。また、搬送用レール７１、７１の走行端であって、
カップ２９の外側には、ノズル洗浄バス７４が配置され
ている。

【００４１】図４及び図５に示すように、受け器ノズル
７２では、上部に開口部７５が設けられ、下部にスリッ
ト７６が設けられている。また、供給ノズル７３には、
開口部７５に向けてレジスト液を吐出する複数の吐出孔
７７が開口部７５に沿って設けられている。

【００４２】ノズル洗浄バス７４は、受け器ノズル７２
を収容可能な大きさとなっている。このノズル洗浄バス
７４内には、受け器ノズル７２を洗浄するためのシンナ
ー等の洗浄液が貯留されるようになっている。この洗浄
液は、図示を省略した洗浄液供給機構及び廃液機構によ
って例えば一枚のガラス基板Ｇへのレジスト液の塗布が
行われる度に交換されるようになっている。

【００４３】また、ノズル洗浄バス７４の上部には、ノ
ズル洗浄バス７４内に収容された受け器ノズル７２の開
口部７５より当該受け器ノズル７２の内壁に向けてシン
ナー等の洗浄液を噴出する噴出機構７８が配置されてい
る。噴出機構７８では、洗浄液を噴出する洗浄用ノズル
７９を駆動機構８０によってノズル洗浄バス７４内に収
容された受け器ノズル７２の開口部７５に沿って移動す
るようになっている。

【００４４】次に、このように構成されたレジスト塗布
装置２３の動作について説明する。スピンチャック２８
がカップ２９の開口部３８より上方に上昇している状態
で、搬送装置２６よりスピンチャック２８上にガラス基
板Ｇが移載され、真空吸着保持される。

【００４５】次に、昇降シリンダ３３の駆動によりスピ
ンチャック２８が下降され、ガラス基板Ｇが開口部３８
を介してカップ２９内に搬入される。

【００４６】そして、第１のモータ３１によりスピンチ
ャック２８の回転が開始される。これと共に、ノズル洗
浄バス７４内で洗浄された受け器ノズル７２が搬送用レ
ール７１、７１に沿ってガラス基板Ｇ上を走行する。そ
の際、受け器ノズル７２と共に移動する供給ノズル７３
の吐出口７７より受け器ノズル７２の開口部７５に向け
てレジスト液が吐出される。レジスト液は、例えばガラ
ス基板Ｇ１枚分に相当する量だけ吐出される。このよう
な動作によって回転するガラス基板Ｇの全面に亙って受
け器ノズル７２のスリット７６よりレジスト液が供給さ
れることになる。

【００４７】なお、レジスト液の供給に先立ちガラス基
板Ｇ上にシンナーを供給するようにしてもよい。これに
より、レジスト液はシンナーによって濡れたガラス基板
Ｇの表面に塗布され、レジスト液の使用量を低減するこ
とができる。

【００４８】その後、第１のモータ３１の回転が停止さ
れてガラス基板Ｇの回転が停止される。また、受け器ノ
ズル７２は、ノズル洗浄バス７４まで搬送され、ノズル
洗浄バス７４内に収容されて、貯留されたシンナーによ
って洗浄される。その際、ノズル洗浄バス７４の上部に
配置された噴出機構７８より受け器ノズル７２の内壁に
向けてシンナーが噴出され、受け器ノズル７２の内部に
ついても洗浄される。

【００４９】また、開閉機構（図示を省略）によって上
蓋３０が下降されて開口部３８に被せられ、開口部３８
が閉じられる。そして、第１のモータ３１と第２のモー
タ３２が同期回転されることによって、スピンチャック
２８、カップ２９、上蓋３０及びガラス基板Ｇが一体的
に回転される。これにより、ガラス基板Ｇ上に塗布され
たレジスト液が乾燥し、ガラス基板Ｇ上にレジスト膜が
形成される。

【００５０】その後、第１のモータ３１と第２のモータ
３２の回転が停止されてスピンチャック２８、カップ２
９、上蓋３０及びガラス基板Ｇの一体的な回転が停止さ
れ、開閉機構（図示を省略）によって上蓋３０が上昇さ
れ、開口部３８が空けられる。

【００５１】次に、昇降シリンダ３３の駆動によりスピ
ンチャック２８が上昇され、ガラス基板Ｇが開口部３８
を介してカップ２９外に搬出され、ガラス基板Ｇがスピ
ンチャック２８上から搬送装置２６に移載される。

【００５２】以上のように、この実施の形態によれば、
レジスト液の自重によりスリット７６からガラス基板Ｇ
上へレジスト液を垂らすように供給し、しかもスリット
７６からガラス基板Ｇ上に垂らされ塗布されたレジスト
液がレジスト液の表面張力や粘性によってスリット７６
から垂れてくる塗布液を引っ張るように作用するので、
ガラス基板Ｇの表面にレジスト液を少ない量で均一に塗
布することができる。

【００５３】なお、本発明は上述した実施の形態には限
定されない。例えば、上述した実施の形態では、レジス
ト液を供給する際にガラス基板Ｇを回転させていたが、
ガラス基板Ｇを静止した状態でレジスト液を供給するよ
うにしてもよい。その際、図６に示すように、ガラス基
板Ｇの長辺方向に沿って受け器ノズル７２を走行するよ
うに構成すれば、受け器ノズル７２の長さはガラス基板
Ｇの短辺に相当する長さでよくなり、これにより装置の
小型化を図ることができる。

【００５４】また、図７に示すように、供給ノズル８１
を回動可能にすると共に、供給ノズル８１の先端部に受
け器ノズル７２の開口部７５に向けてレジスト液を吐出
する吐出孔８２に設け、吐出孔８２が走行する受け器ノ
ズル７２の開口部７５に沿って走行するように供給ノズ
ル８１を回動するように構成してもよい。これにより、
供給ノズルの小型簡略化を図ることができ、また従来構
成の簡単な改良で本発明を実現することができる。

【００５５】更に、図８に示すように、回転するガラス
基板Ｇ上にレジスト液を供給する場合には、受け器ノズ
ル８３をガラス基板Ｇの対角長Ｌのほぼ半分の長さとす
ることでも、ガラス基板Ｇの全面に亙りレジスト液を供
給することができる。これにより、装置の小型化を図る
ことができる。

【００５６】また、上述した実施の形態では、シンナー
液を貯留するノズル洗浄バス７４内に受け器ノズル７２
を浸して受け器ノズル７２を洗浄していたが、図９に示
すように、受け器ノズル７２のスリット７６付近に向け
てシンナー等の洗浄液を噴出する噴出機構８４をノズル
洗浄バス７４内に設けるようにしてもよい。

【００５７】また更に、図１０に示すように、受け器ノ
ズル７２の先端部に、スリット７６からガラス基板Ｇに
塗布されたレジスト液を広げるためのへら状の部材８５
を取り付けてもよい。これにより、レジスト液をまんべ
んなく均一に広げることができる。

【００５８】また、上述し実施の形態では、レジスト液
を塗布する装置に本発明を適用したが、現像液等の他の
塗布液を塗布する装置にも本発明を当然適用することが
でき、またガラス基板ばかりでなく他の被処理体にも当
然本発明を適用できる。

【００５９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
被処理体を保持する保持部材と、前記保持部材により保
持された被処理体上を走行自在に配置され、開口部が上
部に設けられると共にスリットが下部に設けられた受け
器ノズルと、前記開口部を介して受け器ノズルへ塗布液
を供給する供給ノズルとを具備するように構成したの
で、塗布液の使用量を少なくすることができ、また受け
器ノズルを容易に洗浄することができる。

【００６０】本発明によれば、長方形の被処理体を保持
する保持部材と、開口部が上部に設けられると共にスリ
ットが下部に設けられ、前記被処理体の短辺とほぼ同じ
長さとされた受け器ノズルと、前記受け器ノズルを、前
記保持部材により保持された被処理体上を当該被処理体
の長辺に沿って走行させる走行駆動機構と、前記開口部
を介して走行する受け器ノズルへ塗布液を供給する供給
ノズルとを具備するように構成したので、塗布液の使用
量を少なくすることができ、かつ、受け器ノズルを容易
に洗浄することができると共に、装置の小型化に寄与す
る。

【００６１】本発明によれば、被処理体を保持しつつ回
転する保持回転部材と、開口部が上部に設けられると共
にスリットが下部に設けられた受け器ノズルと、前記受
け器ノズルを、前記保持回転部材により保持回転される
被処理体上を走行させる走行駆動機構と、前記開口部を
介して走行する受け器ノズルへ塗布液を供給する供給ノ
ズルとを具備するように構成したので、塗布液の使用量
を更に少なくすることができる。

【００６２】本発明によれば、矩形の被処理体を保持し
つつ回転する保持回転部材と、開口部が上部に設けられ
ると共にスリットが下部に設けられ、前記被処理体の対
角長のほぼ半分の長さとされた受け器ノズルと、前記受
け器ノズルを保持しつつ、前記保持回転部材により保持
回転される被処理体上を走行させる走行駆動機構と、前
記開口部を介して走行する受け器ノズルへ塗布液を供給
する供給ノズルとを具備するように構成したので、塗布
液の使用量を更に少なくすることができ、かつ、受け器
ノズルを容易に洗浄することができると共に、装置の小
型化に寄与する。

【００６３】本発明によれば、前記供給ノズルには前記
開口部に向けて塗布液を吐出する複数の吐出孔が前記開
口部に沿って設けられ、この供給ノズルを前記受け器ノ
ズルの走行に追従させるように構成したので、スリット
から被処理体表面へ塗布液を安定して均一に垂らすこと
ができる。

【００６４】本発明によれば、前記供給ノズルには前記
開口部に向けて塗布液を吐出する吐出孔が先端部に設け
られ、前記吐出孔が前記走行する受け器ノズルの開口部
に沿って走行するように前記供給ノズルを回動するよう
に構成したので、供給ノズルの小型簡略化を図ることが
でき、また従来構成の簡単な改良で本発明を実現するこ
とができる。

【００６５】本発明によれば、前記受け器ノズルを洗浄
する洗浄手段をさらに具備するように構成したので、不
純物を含有した塗布液や濃度のばらついた塗布液が被処
理体へ塗布されることはなくなる。

【００６６】本発明によれば、前記洗浄手段が、前記受
け器ノズルが浸されるように洗浄液を貯溜する洗浄漕を
具備するように構成したので、簡単な構成で効率よく受
け器ノズルを洗浄することができる。

【００６７】本発明によれば、前記洗浄手段が、前記受
け器ノズルのスリット付近に向けて洗浄液を噴出する噴
出機構を具備するように構成したので、簡単な構成で効
率よく受け器ノズルを洗浄することができる。

【００６８】本発明によれば、前記洗浄手段が、前記受
け器ノズルの開口部より当該受け器ノズルの内壁に向け
て洗浄液を噴出する噴出機構を具備するように構成した
ので、洗浄の効果をより高めることができる。

【００６９】本発明によれば、前記受け器ノズルの先端
部に、前記スリットから被処理体に塗布された塗布液を
広げるためのへら状の部材が取り付けられているように
構成したので、被処理体に塗布された塗布液をまんべん
なく均一に広げることができる。

【００７０】本発明によれば、開口部が上部に設けられ
ると共にスリットが下部に設けられた受け器ノズルを洗
浄する工程と、前記洗浄された受け器ノズルを、被処理
体上を走行しつつ、前記開口部を介して受け器ノズルへ
塗布液を供給する工程とを具備するように構成したの
で、塗布液の使用量を少なくすることができ、かつ、受
け器ノズルを容易に洗浄することができる。

【００７１】本発明によれば、開口部が上部に設けられ
ると共にスリットが下部に設けられた受け器ノズルを洗
浄する工程と、前記洗浄された受け器ノズルを、回転す
る被処理体上を走行しつつ、前記開口部を介して受け器
ノズルへ塗布液を供給する工程とを具備するように構成
したので、塗布液の使用量を更に少なくすることがで
き、かつ、受け器ノズルを容易に洗浄することができ
る。

【００７２】本発明によれば、１つの被処理体毎に受け
器ノズルを洗浄するように構成したので、洗浄効果をよ
り高めることができる。

【００７３】本発明によれば、１つの被処理体毎に、1
つの被処理体に必要な量の塗布液を受け器ノズルへ供給
するように構成したので、常に新鮮な塗布液を塗布する
ことが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の一実施形態に係る塗布・現像処理シ
ステムの斜視図である。

【図２】 図１に示した塗布装置の正面図である。

【図３】 図１に示した塗布装置の平面図である。

【図４】 図２及び図３に示した受け器ノズル等の正面
図である。

【図５】 図２及び図３に示した受け器ノズル等の側面
図である。

【図６】 本発明の他の実施形態に係る塗布装置の平面
図である。

【図７】 本発明の他の実施形態に係る塗布装置の平面
図である。

【図８】 本発明の他の実施形態に係る塗布装置の平面
図である。

【図９】 本発明の他の実施形態に係る受け器ノズル等
の正面図である。

【図１０】 本発明の他の実施形態に係る受け器ノズル
等の正面図である。

【図１１】 従来のレジスト塗布装置の一例を示す正面
図である。

【図１２】 従来のレジスト塗布装置の一例を示す平面
図である。

【符号の説明】

２３ レジスト塗布装置 ２８ スピンチャック ７２ 受け器ノズル ７３ 供給ノズル ７４ ノズル洗浄バス ７５ 開口部 ７６ スリット ７７ 吐出孔 ７８ 噴出機構 Ｇ ガラス基板Ｇ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平７−80385（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−289161（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−113597（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−328513（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−76207（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−135124（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−166715（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−124812（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−335543（ＪＰ，Ａ) 実開 平６−41869（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B05C 11/08 B05C 5/00 101 G02F 1/13 101 G03F 7/16 502 H01L 21/027

Claims (15)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理体を保持する保持部材と、 前記保持部材により保持された被処理体上を走行自在に
   配置され、開口部が上部に設けられると共にスリットが
   下部に設けられた受け器ノズルと、 前記開口部を介して受け器ノズルへ塗布液を供給する供
   給ノズルとを具備することを特徴とする塗布装置。
2. 【請求項２】 長方形の被処理体を保持する保持部材
   と、 開口部が上部に設けられると共にスリットが下部に設け
   られ、前記被処理体の短辺とほぼ同じ長さとされた受け
   器ノズルと、 前記受け器ノズルを、前記保持部材により保持された被
   処理体上を当該被処理体の長辺に沿って走行させる走行
   駆動機構と、 前記開口部を介して走行する受け器ノズルへ塗布液を供
   給する供給ノズルとを具備することを特徴とする塗布装
   置。
3. 【請求項３】 被処理体を保持しつつ回転する保持回転
   部材と、 開口部が上部に設けられると共にスリットが下部に設け
   られた受け器ノズルと、 前記受け器ノズルを、前記保持回転部材により保持回転
   される被処理体上を走行させる走行駆動機構と、 前記開口部を介して走行する受け器ノズルへ塗布液を供
   給する供給ノズルとを具備することを特徴とする塗布装
   置。
4. 【請求項４】 矩形の被処理体を保持しつつ回転する保
   持回転部材と、 開口部が上部に設けられると共にスリットが下部に設け
   られ、前記被処理体の対角長のほぼ半分の長さとされた
   受け器ノズルと、 前記受け器ノズルを保持しつつ、前記保持回転部材によ
   り保持回転される被処理体上を走行させる走行駆動機構
   と、 前記開口部を介して走行する受け器ノズルへ塗布液を供
   給する供給ノズルとを具備することを特徴とする塗布装
   置。
5. 【請求項５】 請求項１から請求項４のうちいずれか1
   項記載の塗布装置であって、 前記供給ノズルには前記開口部に向けて塗布液を吐出す
   る複数の吐出孔が前記開口部に沿って設けられ、この供
   給ノズルを前記受け器ノズルの走行に追従させることを
   特徴とする塗布装置。
6. 【請求項６】 請求項１から請求項４のうちいずれか１
   項記載の塗布装置であって、 前記供給ノズルには前記開口部に向けて塗布液を吐出す
   る吐出孔が先端部に設けられ、前記吐出孔が前記走行す
   る受け器ノズルの開口部に沿って走行するように前記供
   給ノズルを回動することを特徴とする塗布装置。
7. 【請求項７】 請求項１から請求項６のうちいずれか１
   項記載の塗布装置であって、 前記受け器ノズルを洗浄する洗浄手段をさらに具備する
   ことを特徴とする塗布装置。
8. 【請求項８】 請求項７記載の塗布装置であって、 前記洗浄手段が、前記受け器ノズルが浸されるように洗
   浄液を貯溜する洗浄漕を具備することを特徴とする塗布
   装置。
9. 【請求項９】 請求項７記載の塗布装置であって、 前記洗浄手段が、前記受け器ノズルのスリット付近に向
   けて洗浄液を噴出する噴出機構を具備することを特徴と
   する塗布装置。
10. 【請求項１０】 請求項７から請求項９のうちいずれか
    1項記載の塗布装置であって、 前記洗浄手段が、前記受け器ノズルの開口部より当該受
    け器ノズルの内壁に向けて洗浄液を噴出する噴出機構を
    具備することを特徴とする塗布装置。
11. 【請求項１１】 請求項１から請求項１０のうちいずれ
    か１項記載の塗布装置であって、 前記受け器ノズルの先端部に、前記スリットから被処理
    体に塗布された塗布液を広げるためのへら状の部材が取
    り付けられていることを特徴とする塗布装置。
12. 【請求項１２】 開口部が上部に設けられると共にスリ
    ットが下部に設けられた受け器ノズルを洗浄する工程
    と、 前記洗浄された受け器ノズルを、被処理体上を走行しつ
    つ、前記開口部を介して受け器ノズルへ塗布液を供給す
    る工程とを具備することを特徴とする塗布方法。
13. 【請求項１３】 開口部が上部に設けられると共にスリ
    ットが下部に設けられた受け器ノズルを洗浄する工程
    と、 前記洗浄された受け器ノズルを、回転する被処理体上を
    走行しつつ、前記開口部を介して受け器ノズルへ塗布液
    を供給する工程とを具備することを特徴とする塗布方
    法。
14. 【請求項１４】 請求項１１または１２記載の塗布方法
    であって、 １つの被処理体毎に受け器ノズルを洗浄することを特徴
    とする塗布方法。
15. 【請求項１５】 請求項１１から請求項１３のうちいず
    れか1項記載の塗布方法であって、 １つの被処理体毎に、1つの被処理体に必要な量の塗布
    液を受け器ノズルへ供給することを特徴とする塗布方
    法。