JP3463785B2 - 封止装置および処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明は、封止装置および処理装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】内部が処理ガス雰囲気および減圧雰囲気
とされる処理容器を有し、この処理容器における封止部
の互いの対向面間を封止装置により封止するようにした
ものとしては、例えば半導体デバイスの製造工程で用い
られる熱処理装置がある。この熱処理装置は、被処理体
である半導体ウエハを収容する処理容器である反応管を
有しており、この反応管の周囲には反応管内を所定の温
度に加熱するヒータが設けられている。

【０００３】上記反応管の開口端には、処理ガス等の供
給、排気を行なうガス供給管部や排気管部を有するマニ
ホールドが接続されており、炉口として開口したマニホ
ールドの開口端は開閉可能な蓋体により閉じられるよう
になっている。また、上記マニホールドのガス供給管部
には、処理ガスや不活性ガスを供給するガス供給管が接
続され、排気管部には、反応管内を所定の減圧雰囲気に
するための真空ポンプ等を有する排気管が接続されてい
る。

【０００４】上記熱処理装置においては、反応管内を処
理ガス雰囲気および減圧雰囲気に保つために、上記反応
管とマニホールドの接続部、マニホールドと蓋体の当接
部等が、反応管内を気密に保つための封止部とされてお
り、これらの封止部に封止装置が設けられている。この
ような封止装置としては、種々のものが提案されている
（例えば、実開平１−１２３３６号公報等参照。）。

【０００５】従来、一般的に用いられている封止装置
は、封止部の互いの対向面間をＯリングを介して封止す
るようになっている。また、高耐熱性を有する封止装置
としては、封止部の互いの対向面間にメタルシートを挟
み、その対向面に形成された環状溝部を介して排気手段
によりメタルシートを対向面に吸着させるようにしたも
のなどがある。

【０００６】しかしながら、従来の封止装置において
は、反応管内が高真空の状態にされる場合、十分な封止
効果を得ることが困難となり、外部から容器内へリーク
が発生しやすくなる問題があった。また、Ｏリングやメ
タルシートが封止部の対向面間の隙間を通して反応管内
に露出する構造であったため、Ｏリングの場合には、Ｏ
リングからガスや含有水分の放出（脱ガスともいう）が
生じ、熱処理上の不具合が発生したり、あるいはメタル
シートの場合には、腐食性を有する処理ガスとの接触に
よりメタルシートが腐食したり、ウエハへの金属汚染が
発生しやすくなる問題があった。

【０００７】そこで、本出願人は、上記問題点を解決す
るために、封止部の対向面間に、内周側対向面を互に面
接触させて封止する内周シール部と、外周側対向面間に
メタルシートを挟んで封止する外周シール部とを設け、
外周側対向面に形成した環状溝部にメタルシートを吸着
する第１の排気手段を接続し、内周シール部と外周シー
ル部との間に形成した環状空間部に第２の排気手段を接
続してなる封止装置を先に出願した（特願平９−５４１
５４号、未公開）。この封止装置によれば、処理容器内
が高真空の状態にされる場合でも、高い封止効果が得ら
れ、リークを十分に抑制ないし防止することが可能とな
り、熱処理装置に適用した場合における金属汚染等の問
題も解消し得る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記封
止装置においては、高真空下での処理を想定して構成さ
れているため、処理容器内を大気圧付近の圧力となるよ
うに減圧排気して処理（これを微減圧プロセスともい
う。）を行う場合に、高真空下での処理と同様に環状空
間部を第２の排気手段により高真空で排気してしまう
と、その圧力差によって処理容器内側から環状空間部側
へ内周シール部を介して処理ガスを吸い出してしまうこ
とが考えられる。また、このような処理容器内からの処
理ガスの吸い出しが生じると、処理容器内のプロセス環
境に悪影響を及ぼすだけでなく、第２の排気手段を構成
する機器が処理ガスにさらされて腐食等の不具合が生じ
る。

【０００９】そこで、本発明は、上記問題点を解決すべ
くなされたもので、高真空プロセスだけでなく、いわゆ
る微減圧プロセスにおいても簡単な構成で高い封止効果
が得られる封止装置および処理装置を提供することを目
的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のうち請求項１記載の封止装置は、内部が処理
ガス雰囲気および減圧雰囲気とされる処理容器の封止部
の対向面間を封止する装置において、上記対向面間に、
内周側対向面を互に面接触させて封止する内周シール部
と、外周側対向面間にメタルシートを挟んで封止する外
周シール部とを設け、外周側対向面に形成した環状溝部
にメタルシートを吸着する第１の排気手段を接続し、内
周シール部と外周シール部との間に形成した環状空間部
に第２の排気手段を接続し、この第２の排気手段は上記
処理容器内を排気管により大気圧付近の圧力となるよう
に排気して処理を行う時に排気管と環状空間部を接続す
る接続管を有することを特徴としている。

【００１１】請求項２記載の封止装置は、上記封止部が
処理容器とマニホールドの接続部およびマニホールドと
蓋体の当接部にそれぞれ設けられていることを特徴とし
ている。

【００１２】請求項３記載の封止装置は、上記第２の排
気手段が接続管に不活性ガスを供給する不活性ガス供給
管を有していることを特徴としている。請求項４記載の
処理装置は、内部が処理ガス雰囲気および減圧雰囲気と
される処理容器に対向面間を封止する封止部を有する処
理装置において、上記対向面間に、内周側対向面を互い
に面接触させて封止する内周シール部と、外周側対向面
間にメタルシート８を挟んで封止する外周シール部とを
設け、外周側対向面に形成した環状溝部にメタルシート
を吸着する第１の排気手段を接続し、内周シール部と外
周シール部との間に形成した環状空間部に第２の排気手
段を接続し、この第２の排気手段は上記処理容器内を排
気管により大気圧付近の圧力となるように排気して処理
を行う微減圧プロセス時に排気管と環状空間部を接続す
る接続管を有していることを特徴としている。

【００１３】

【実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を添付図面
に基づいて詳述する。図１は本発明の実施の形態を示す
封止装置の断面図、図２は同封止装置に用いられるメタ
ルシートを一部切欠状態で示す斜視図、図３は本発明を
縦型熱処理装置に適用した一例を示す縦断面図である。

【００１４】先ず、本発明を半導体デバイスの製造工程
で用いられる処理装置の一つである縦型熱処理装置に適
用した一例について図３を参照して説明する。この縦型
熱処理装置は、処理容器として、耐熱性および耐食性を
有する材料例えば石英ガラスからなる反応管１を有して
いる。この反応管１の外部は、大気圧側となる。上記反
応管１は、縦長の円筒状で、その上端が閉塞され、下端
が開口されている。この反応管１の開口端には、処理ガ
ス等の供給、排気を行なうガス供給管部２および排気管
部３を側壁に有する円筒状のマニホールド４が接続され
ている。

【００１５】このマニホールド４は、一般に、耐熱性お
よび耐食性を有する材料例えばステンレスにより形成さ
れている。マニホールド４は、更に高耐食性とするため
に、例えば炭化ケイ素（ＳｉＣ）により形成されていて
もよい。上記マニホールド４は、上方に水平に配置され
たベースプレート５に図示しない取付部材を介して取付
けられており、そのマニホールド４上に上記反応管１を
設置した構成がとられる。

【００１６】上記マニホールド４の内側には、石英ガラ
スからなる円筒状の内管６が起立した状態で取付けら
れ、この内管６と外管である反応管１とにより反応管１
は二重管構造とされていることが好ましい。上記ガス供
給管部２は、上記内管６の内側に沿って上方へ処理ガス
等を供給するように設けられ、上記排気管部３は、上記
内管６と反応管１との間の環状通路７から処理後の排ガ
スを排気するように設けられている。

【００１７】上記反応管１の周囲には、反応管１内を所
定の温度、例えば５００〜１２００℃に加熱するため
に、ヒータ８が配置されている。このヒータ８は、ヒー
タ線（発熱抵抗線）９をコイル状等に形成し、このヒー
タ線９の外側を断熱材１０で覆い、更にこの断熱材１０
の外側を冷却ジャケット等のアウターシェル１１で覆っ
た構造になっている。このヒータ８は、上記ベースプレ
ート５上に設置されている。

【００１８】上記マニホールド４の下端の開口端は、蓋
体１２で開閉可能に閉じられるようになっている。この
蓋体１２は、耐熱性および耐食性を有する材料、例えば
ステンレスにより形成されている。この蓋体１２上に
は、例えば石英製の保温筒１３を介して被処理体保持具
である例えば石英製のボート１４が載置される。ボート
１４には、被処理体であるウエハＷが水平状態で高さ方
向に所定の間隔で多数枚、例えば１５０枚程度保持され
る。

【００１９】上記蓋体１２は、昇降機構１５の昇降アー
ム１６に取付けられており、この昇降機構１５により蓋
体１２の開閉と共に、反応管１に対するボート１４の搬
入、搬出が行なわれるようになっている。上記蓋体１２
には、保温筒１３を介してボート１４を軸廻りに回転さ
せるための回転機構（図示省略）が設けられていること
が好ましい。上記マニホールド４の側壁に設けられたガ
ス供給管部２には、処理ガス等の供給源に通じるガス供
給管１７が接続され、排気管部３には、排気系に通じる
排気管１８が接続されている。排気管１８には、反応管
１内を所定の減圧雰囲気ないし真空度、例えば大気圧付
近から１０^-8Ｔｏｒｒ程度まで減圧排気することができ
る図示しない真空ポンプ等を有する減圧制御装置（図示
省略）が設けられている。

【００２０】以上のように構成された縦型熱処理装置に
おいては、反応管１内を所定の処理ガス雰囲気および減
圧雰囲気に保つために、上記反応管１とマニホールド４
の接続部およびマニホールド４と蓋体１１の当接部に、
反応管１内を気密に保つための封止部１９ａ，１９ｂが
設けられており、これらの封止部１９ａ、１９ｂに封止
装置が設けられている。

【００２１】次に、上記封止装置について図１を参照し
て説明する。図１は、反応管１とマニホールド４の間の
封止部１９ａに封止装置を適用した一例を示している。
なお、マニホールド４と蓋体１２の間の封止部１９ｂに
設けられる封止装置も同様の構成である。封止部１８ａ
は、互に対向する広い対向面２０を有するように、フラ
ンジ２１ａ，２１ｂにより形成されていることが好まし
い。この場合、反応管１の開口端とマニホールド４の開
口端に、相対向するフランジ２１ａ，２１ｂが形成され
ている。なお、マニホールド４が炭化ケイ素製である場
合、マニホールド４の肉厚を厚くすれば、必ずしもフラ
ンジ部２１ｂが形成されていなくてもよい。

【００２２】上記反応管１とマニホールド４の対向面２
０間に、内周側対向面２０ａを互に面接触させて封止す
る内周シール部２２と、外周側対向面２０ｂ間にメタル
シート２３を挟んで封止する外周シール部２４とが設け
られている。内周シール部２２を形成する内周側対向面
２０ａは、互に面接触で密着して高いシール効果が得ら
れるように、鏡面仕上げにされていることが好ましい。

【００２３】上記外周側対向面２０ｂには、環状溝部２
５が形成され、これら環状溝部２５にはメタルシート２
３を外周側対向面２０ｂに吸着させるための第１の排気
手段２６が接続されている。上記メタルシート２３は、
図２に示すように、耐食性を有する材料例えばステンレ
ス製の環状の二枚の薄板２３ａ，２３ｂを重ね合わせ、
両薄板２３ａ，２３ｂを内周部にて溶接２３ｃにより接
合してなる。

【００２４】上記メタルシート２３は、両薄板２３ａ，
２３ｂの外周側が大気側に開口していることにより、両
薄板２３ａ，２３ｂ間に大気圧が作用し、各薄板２３
ａ，２３ｂが減圧排気される環状溝部２５を有する外周
側対向面２０ｂにそれぞれ十分に吸着されて外周側対向
面２０ｂ間をシールすることができるようになってい
る。上記第１の排気手段２６は、上記両フランジ２１
ａ，２１ｂに各環状溝部２５と連通するようにそれぞれ
設けられた配管２７ａ，２７ｂと、これら配管２７ａ，
２７ｂの共通の排気系に設けられた第１の減圧排気装置
２８とにより構成されている。この第１の減圧排気装置
２８は、例えばドライポンプにより構成されていること
が好ましい。

【００２５】上記内周シール部２２と外周シール部２４
との間には、環状空間部２９が形成されており、この環
状空間部２９には第２の排気手段３０が接続されてい
る。この第２の排気手段３０は、上記フランジ２１ａ，
２１ｂのうちのいずれか一方のフランジ、例えば反応管
１側のフランジ２０ａに上記環状空間部２９と連通する
ように設けられた配管３１と、この配管３１に設けられ
た第２の減圧排気装置３２とにより構成されている。こ
の第２の減圧排気装置３２は、例えばターボ分子ポンプ
により構成されていることが好ましい。

【００２６】反応管１内が高真空、例えば１０^-7Ｔｏｒ
ｒとされる高真空プロセスを行う場合、上記内周シール
部２２におけるリークが極めて少ない値、例えば１０^-2
〜１０^-4Ｔｏｒｒ・ｌ／ｓｅｃ以下のリークレートとな
るように内周の対向面２０ａ同士が密着されるように、
上記環状空間部２９は、第２の減圧排気装置３２により
所定の高い真空度、例えば１０^-4〜１０^-7ＴｏｒｒＴｏ
ｒｒに減圧排気されることが好ましい。また、上記外周
シール部２４の環状溝部２５は、第１の減圧排気装置２
８により所定の低い真空度、例えば１０〜１０^-2Ｔｏｒ
ｒに減圧排気されることが好ましい。

【００２７】一方、上記第２の排気手段３０は、反応管
１内を大気圧付近の圧力となるように排気管１８により
排気して処理（微減圧プロセス）を行う時にその排気管
１８と上記環状空間部２９を接続する接続管（バイパス
管ともいう）３３を有している。この場合、接続管３３
は、第２の排気手段３０の配管３１に一端が接続され、
排気管１８に他端が接続されている。第２の排気手段３
０を構成する第２の減圧排気装置３２による減圧排気ま
たは排気管１８を利用した減圧排気の何れかに切り換え
るために、上記配管３１と接続管３３には弁３４，３５
が設けられている。上記弁３４は、配管３１における接
続管３３の接続部と第２の減圧排気装置３２との間に設
けられている。

【００２８】上記微減圧プロセスは、反応管内を大気圧
付近の圧力例えば１００〜７６０Ｔｏｒｒに排気して行
われるため、環状空間部２９と排気管１８を接続管３３
で連通接続することにより、環状空間部２９を反応管１
内とほぼ同じ圧力にすることができ、反応管１内から環
状空間部２９への内周シール部２２を介した処理ガスの
吸い出しを極めて簡単な構成で防止することができる。
この微減圧プロセスの場合においても、高真空プロセス
の場合と同様に、上記外周シール部２４の環状溝部２５
は、第１の減圧排気装置２８により所定の低い真空度、
例えば１０〜１０^-2Ｔｏｒｒに減圧排気されることが好
ましい。

【００２９】また、上記第２の排気手段３０は、排気管
１８から環状空間部２９への接続管３３を介しての排気
ガスの逆侵入を防止するために、上記接続管３３に不活
性ガス（パージガスともいう）を供給する不活性ガス供
給管３６を有している。この不活性ガス供給管３６に
は、弁３７が設けられている。不活性ガスとしては、例
えば窒素（Ｎ₂）ガスが好ましい。不活性ガス供給管３
６は、図示例では配管３１と接続管３３の接続部に接続
されているが、配管３１上に接続されていてもよく、あ
るいは接続管３３上に接続されていてもよい。

【００３０】以上のように構成された封止装置によれ
ば、内部が処理ガス雰囲気および減圧雰囲気とされる反
応管１の封止部１９ａ，１９ｂの対向面２０間を封止す
る装置において、上記対向面２０間に、内周側対向面２
０ａを互に面接触させて封止する内周シール部２２と、
外周側対向面間２０ｂにメタルシート２３を挟んで封止
する外周シール部２４とを設け、外周側対向面２０ｂに
形成した環状溝部２５にメタルシート２３を吸着する第
１の排気手段２６を接続し、内周シール部２２と外周シ
ール部２４との間に形成した環状空間部２９に第２の排
気手段３０を接続している。

【００３１】このため、反応管１内を高真空にする高真
空プロセスを行う場合、上記内周シール部２２を境とす
る内外の圧力差が小さくなるように環状空間部２９を第
２の排気手段３０により減圧排気することにより、高い
封止効果が得られ、リークを十分に抑制ないし防止する
ことが可能となり、熱処理装置に適用した場合における
金属汚染や耐熱性等の問題も解消し得る。上記高真空プ
ロセスを行う場合には、接続管３３の弁３５および不活
性ガス供給管３６の弁３７を閉にし、第２の排気手段３
０の配管３１の弁３４を開にすればよい。

【００３２】上記メタルシート２３は、耐食性を有する
材料により形成されているといえども腐食性を有する処
理ガスと接触した場合には腐食が生じ、また、金属製で
あることから、ウエハＷに対して汚染源にもなる。とこ
ろが、封止部１９ａには内周シール部２２が設けられて
いるため、メタルシート２３が反応管１内に露出するこ
とがなく、しかも、環状空間部２９を真空引きすること
により、上記内周シール部２２を境とする内外の圧力差
を小さくして、内周シール部２２におけるリークを抑制
ないし防止しているため、腐食性を有する処理ガスを使
用したとしても、メタルシート２３が腐食することがな
く、また、メタルシート２３がウエハＷの汚染源となる
こともない。

【００３３】そして、特に、上記第２の排気手段３０
が、上記反応管１内を排気管１８により大気圧付近の圧
力となるように排気して処理を行う時にその排気管１８
と上記環状空間部２９を接続する接続管３３を有してい
るため、いわゆる微減圧プロセスを行う場合、排気管１
８を利用した簡単な構成で上記環状空間部２９を反応管
１内とほぼ同じ圧力にすることができ、反応管１内から
環状空間部２９への内周シール部２２を介した吸い出し
を防止することができ、高い封止効果が得られる。従っ
て、反応管１内のプロセス環境を最適な状態に維持でき
ると共に、第２の排気手段３０を構成する機器が処理ガ
スにさらされて腐食等を生じることもない。上記微減圧
プロセスを行う場合には、第２の排気手段３０の配管３
１の弁３４を閉にし、接続管３３の弁３５および不活性
ガス供給管３６の弁３７を開にすればよい。

【００３４】このように上記封止装置によれば、高真空
プロセスだけでなく、いわゆる微減圧プロセスにおいて
も簡単な構成で高い封止効果が得られる。また、上記第
２の排気手段３０が、接続管３３に不活性ガスを供給す
る不活性ガス供給管３６を有しているため、上記微減圧
プロセス時に、接続管３３に少量の不活性ガスを流すこ
とにより、排気管１８から環状空間部２９への接続管３
３を介した排気ガスの逆浸入を防止することができ、腐
食性を有する排ガスからメタルシート２３等を保護する
ことができる。

【００３５】以上、本発明の実施の形態を図面により詳
述してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での種々の
設計変更等が可能である。例えば、本発明の封止装置
は、高耐熱性を有するため、反応管１とマニホールド４
の接続部（封止部）１９ａおよびマニホールド４と蓋体
１２の当接部（封止部）１９ｂに好適に適用されるが、
マニホールド４のガス供給管部２とガス供給管１７の接
続部（封止部）１９ｃおよび排気管部３と排気管１８の
接続部（封止部）１９ｄにも適用可能である。上記実施
の形態では、縦型熱処理装置を例にとって説明されてい
るが、拡散炉や常圧ＣＶＤ装置等の熱処理装置に応用し
てもよく、縦型装置に限られず、横型装置にも適用可能
である。また、熱処理装置に限られず、封止部を有する
ものであれば、エッチング装置やイオン注入装置等の処
理装置にも適用可能である。

【００３６】

【発明の効果】以上要するに本発明によれば、次のよう
な優れた効果が得られる。

【００３７】（１）請求項１記載の封止装置によれば、
内部が処理ガス雰囲気および減圧雰囲気とされる処理容
器の封止部の対向面間を封止する装置において、上記対
向面間に、内周側対向面を互に面接触させて封止する内
周シール部と、外周側対向面間にメタルシートを挟んで
封止する外周シール部とを設け、外周側対向面に形成し
た環状溝部にメタルシートを吸着する第１の排気手段を
接続し、内周シール部と外周シール部との間に形成した
環状空間部に第２の排気手段を接続し、この第２の排気
手段は上記処理容器内を排気管により大気圧付近の圧力
となるように排気して処理を行う時に排気管と環状空間
部を接続する接続管を有するため、高真空プロセスだけ
でなく、いわゆる微減圧プロセスにおいても簡単な構成
で高い封止効果が得られる。

【００３８】（２）請求項２記載の封止装置によれば、
上記封止部が処理容器とマニホールドの接続部およびマ
ニホールドと蓋体の当接部にそれぞれ設けられているた
め、処理容器の気密性を著しく高めることができる。

【００３９】（３）請求項３記載の封止装置によれば、
上記第２の排気手段が接続管に不活性ガスを供給する不
活性ガス供給管を有しているため、接続管に少量の不活
性ガスを流すことにより、排気管から環状空間部への接
続管を介した排気ガスの逆侵入を防止することができ
る。（４）請求項４記載の処理装置によれば、内部が処理ガ
ス雰囲気および減圧雰囲気とされる処理容器に対向面間
を封止する封止部を有する処理装置において、上記対向
面間に、内周側対向面を互いに面接触させて封止する内
周シール部と、外周側対向面間にメタルシート８を挟ん
で封止する外周シール部とを設け、外周側対向面に形成
した環状溝部にメタルシートを吸着する第１の排気手段
を接続し、内周シール部と外周シール部との間に形成し
た環状空間部に第２の排気手段を接続し、この第２の排
気手段は上記処理容器内を排気管により大気圧付近の圧
力となるように排気して処理を行う微減圧プロセス時に
排気管と環状空間部を接続する接続管を有しているた
め、高真空プロセスだけでなく、いわゆる微減圧プロセ
スにおいても簡単な構成で高い封止効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態を示す封止装置の断面図で
ある。

【図２】同封止装置に用いられるメタルシートを一部切
欠状態で示す斜視図である。

【図３】本発明を縦型熱処理装置に適用した一例を示す
縦断面図である。

【符号の説明】

１ 反応管（処理容器） ４ マニホールド １２ 蓋体 １８ 排気管 １８ａ，１８ｂ 封止部 ２０ 対向面 ２０ａ 内周側対向面 ２０ｂ 外周側対向面 ２２ 内周シール部 ２３ メタルシート ２４ 外周シール部 ２５ 環状溝部 ２６ 第１の排気手段 ２９ 環状空間部 ３０ 第２の排気手段 ３３ 接続管 ３６ 不活性ガス供給管

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/26 - 21/268 H01L 21/322 - 21/324 B01J 3/02 H01L 21/205 H01L 21/22 - 21/24

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 内部が処理ガス雰囲気および減圧雰囲気
   とされる処理容器の封止部の対向面間を封止する装置に
   おいて、上記対向面間に、内周側対向面を互いに面接触
   させて封止する内周シール部と、外周側対向面間にメタ
   ルシート８を挟んで封止する外周シール部とを設け、外
   周側対向面に形成した環状溝部にメタルシートを吸着す
   る第１の排気手段を接続し、内周シール部と外周シール
   部との間に形成した環状空間部に第２の排気手段を接続
   し、この第２の排気手段は上記処理容器内を排気管によ
   り大気圧付近の圧力となるように排気して処理を行う時
   に排気管と環状空間部を接続する接続管を有しているこ
   とを特徴とする封止装置。
2. 【請求項２】 上記封止部が処理容器とマニホールドの
   接続部およびマニホールドと蓋体の当接部にそれぞれ設
   けられていることを特徴とする請求項１記載の封止装
   置。
3. 【請求項３】 上記第２の排気手段が接続管に不活性ガ
   スを供給する不活性ガス供給管を有していることを特徴
   とする請求項１記載の封止装置。
4. 【請求項４】 内部が処理ガス雰囲気および減圧雰囲気
   とされる処理容器に対向面間を封止する封止部を有する
   処理装置において、上記対向面間に、内周側対向面を互
   いに面接触させて封止する内周シール部と、外周側対向
   面間にメタルシート８を挟んで封止する外周シール部と
   を設け、外周側対向面に形成した環状溝部にメタルシー
   トを吸着する第１の排気手段を接続し、内周シール部と
   外周シール部との間に形成した環状空間部に第２の排気
   手段を接続し、この第２の排気手段は上記処理容器内を
   排気管により大気圧付近の圧力となるように排気して処
   理を行う微減圧プロセス時に排気管と環状空間部を接続
   する接続管を有していることを特徴とする処理装置。