JP3454469B2 - 基板乾燥装置 - Google Patents
基板乾燥装置Info
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- JP3454469B2 JP3454469B2 JP03194399A JP3194399A JP3454469B2 JP 3454469 B2 JP3454469 B2 JP 3454469B2 JP 03194399 A JP03194399 A JP 03194399A JP 3194399 A JP3194399 A JP 3194399A JP 3454469 B2 JP3454469 B2 JP 3454469B2
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板乾燥装置に係
り、より詳細には半導体製造工程において洗浄工程終了
後の半導体基板、液晶用ガラス基板などの被処理基板
(被乾燥物)に付着した液滴を乾燥させる基板乾燥装置
に関する。
り、より詳細には半導体製造工程において洗浄工程終了
後の半導体基板、液晶用ガラス基板などの被処理基板
(被乾燥物)に付着した液滴を乾燥させる基板乾燥装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体製造工程では、洗浄工程終
了後の半導体基板、液晶用ガラス基板などの被処理基板
に対して表面に付着した液滴を乾燥させるため、乾燥工
程が実施されている。この被処理基板の乾燥方法として
は、例えば、回転する基板に水溶性アルコールを吹き付
ける基板乾燥装置が開発されている。このような従来技
術としては、例えば、特開平6−310486号公報に
開示されている。図7は、このような回転する基板に水
溶性アルコールを吹き付ける従来の基板乾燥装置を示す
斜視図である。
了後の半導体基板、液晶用ガラス基板などの被処理基板
に対して表面に付着した液滴を乾燥させるため、乾燥工
程が実施されている。この被処理基板の乾燥方法として
は、例えば、回転する基板に水溶性アルコールを吹き付
ける基板乾燥装置が開発されている。このような従来技
術としては、例えば、特開平6−310486号公報に
開示されている。図7は、このような回転する基板に水
溶性アルコールを吹き付ける従来の基板乾燥装置を示す
斜視図である。
【0003】図7に示すように、従来の基板乾燥装置
は、回転軸42を中心として放射状延在した4本のアー
ム44と、このアーム44の先端部に円板状の半導体基
板50(以下、基板と称す)の外周縁を保持する段部4
6とを備えたスピンチャック40を備えている。そし
て、スピンチャック40は、基板50を4本のアーム4
4上に同心的に位置決めして基板50を保持する。ま
た、スピンチャック40には、アーム44が下部に延在
して接続される回転軸42を備えており、この回転軸4
2に駆動モータ(図示せず)を連結している。従って、
スピンチャック40は、回転軸42に連結した駆動モー
タが駆動することにより回転して同時に基板50を回転
させることができる。
は、回転軸42を中心として放射状延在した4本のアー
ム44と、このアーム44の先端部に円板状の半導体基
板50(以下、基板と称す)の外周縁を保持する段部4
6とを備えたスピンチャック40を備えている。そし
て、スピンチャック40は、基板50を4本のアーム4
4上に同心的に位置決めして基板50を保持する。ま
た、スピンチャック40には、アーム44が下部に延在
して接続される回転軸42を備えており、この回転軸4
2に駆動モータ(図示せず)を連結している。従って、
スピンチャック40は、回転軸42に連結した駆動モー
タが駆動することにより回転して同時に基板50を回転
させることができる。
【0004】また、従来の基板乾燥装置は、スピンチャ
ック40の上部に水溶性アルコールのベーパ(蒸気)を
含んだガスを吹き付けるノズル48を配置している。こ
のノズル48は、図示されていないが、水溶性のイソプ
ロピルアルコールベーパと窒素ガスとを混合させて供給
する供給装置に接続されている。
ック40の上部に水溶性アルコールのベーパ(蒸気)を
含んだガスを吹き付けるノズル48を配置している。こ
のノズル48は、図示されていないが、水溶性のイソプ
ロピルアルコールベーパと窒素ガスとを混合させて供給
する供給装置に接続されている。
【0005】従って、従来の基板乾燥装置は、基板50
を回転させて遠心力を加えるとともに、水溶性アルコー
ルのベーパを含んだガスを吹き付けることによって基板
50の表面に付着した液滴を吹き飛ばすことができる。
詳細には基板50の表面に吹き付けられた水溶性アルコ
ールのベーパを含んだガスは、その一部が基板50の表
面に付着した液滴に溶解して表面張力を低下させること
で基板50の回転時における液滴の液切れを向上させ
る。このように、液滴に溶解した水溶性アルコールのベ
ーパを含んだガスは、液滴部分の蒸気を向上させて、ア
ルコール分とともに液滴を蒸発させる。
を回転させて遠心力を加えるとともに、水溶性アルコー
ルのベーパを含んだガスを吹き付けることによって基板
50の表面に付着した液滴を吹き飛ばすことができる。
詳細には基板50の表面に吹き付けられた水溶性アルコ
ールのベーパを含んだガスは、その一部が基板50の表
面に付着した液滴に溶解して表面張力を低下させること
で基板50の回転時における液滴の液切れを向上させ
る。このように、液滴に溶解した水溶性アルコールのベ
ーパを含んだガスは、液滴部分の蒸気を向上させて、ア
ルコール分とともに液滴を蒸発させる。
【0006】しかしながら、このような従来の基板乾燥
装置では、回転により遠心力が大きく加わる基板50の
周辺部が乾燥し、その後、ガスの吹き付けにより液が中
心部から周辺部に広がってしまう。このため、基板50
の表面には、乾燥ムラ、及びウォータマークが発生する
原因となっていた。特に、この欠点は、大型基板で多く
発生し、矩形状の基板で顕著であった。
装置では、回転により遠心力が大きく加わる基板50の
周辺部が乾燥し、その後、ガスの吹き付けにより液が中
心部から周辺部に広がってしまう。このため、基板50
の表面には、乾燥ムラ、及びウォータマークが発生する
原因となっていた。特に、この欠点は、大型基板で多く
発生し、矩形状の基板で顕著であった。
【0007】このような不具合を解決するため、乾燥ガ
スを被乾燥物(大型または矩形状の基板)の表面に吹き
付けて付着した液滴を吹き飛ばす方法が知られている。
また、乾燥ガスを吹き付ける乾燥方法において、ミスト
の再付着を防止するため、吹き付けたガスを吸引する手
段を付加したものが開発されている。このように吹き付
けたガスを吸引する手段を備えた基板乾燥装置として、
本願出願人は特開平7−35478号公報によりすでに
出願している。図8はこのような吹き付けたガスを吸引
する手段を備えた従来の基板乾燥装置の他の実施の形態
を示す平面図である。
スを被乾燥物(大型または矩形状の基板)の表面に吹き
付けて付着した液滴を吹き飛ばす方法が知られている。
また、乾燥ガスを吹き付ける乾燥方法において、ミスト
の再付着を防止するため、吹き付けたガスを吸引する手
段を付加したものが開発されている。このように吹き付
けたガスを吸引する手段を備えた基板乾燥装置として、
本願出願人は特開平7−35478号公報によりすでに
出願している。図8はこのような吹き付けたガスを吸引
する手段を備えた従来の基板乾燥装置の他の実施の形態
を示す平面図である。
【0008】図8に示すように、吸引する手段を備えた
従来の基板乾燥装置の他の実施の形態は、被乾燥物70
の上方に設置され、この被乾燥物70の搬送方向に直交
する対向面を傾斜させて吹き付け手段として気体配管6
3に連通したエアーナイフ62を備えている。このエア
ーナイフ62には、反搬送方向に微小の間隔を備えて噴
射用スリット62aを設けるとともに、搬送方向の前後
に平行して2箇所配置して吸気する吸気ダクト64を設
けている。また、吸気ダクト64は、エアーナイフ62
が配置された内側に各々吸気口64aを開口している。
そして、エアーナイフ62及び吸気ダクト64は、両側
を各々取付金具69により固定されている。
従来の基板乾燥装置の他の実施の形態は、被乾燥物70
の上方に設置され、この被乾燥物70の搬送方向に直交
する対向面を傾斜させて吹き付け手段として気体配管6
3に連通したエアーナイフ62を備えている。このエア
ーナイフ62には、反搬送方向に微小の間隔を備えて噴
射用スリット62aを設けるとともに、搬送方向の前後
に平行して2箇所配置して吸気する吸気ダクト64を設
けている。また、吸気ダクト64は、エアーナイフ62
が配置された内側に各々吸気口64aを開口している。
そして、エアーナイフ62及び吸気ダクト64は、両側
を各々取付金具69により固定されている。
【0009】従って、従来の基板乾燥装置の他の実施の
形態は、エアーナイフ62から噴射した噴射気体で被乾
燥物70上の液滴65を吹き飛ばして急速乾燥させる。
この際、被乾燥物70の表面で発生したミストを反搬送
側の吸気ダクト64が吸引し、更に、エアーナイフ62
の搬送側の吸気ダクト64が吸引してミスト再付着を防
止する。そして、吸気ダクト64には、排風機68が接
続されており、吸気ダクト64で吸引してミストを所定
の外部に排出する。
形態は、エアーナイフ62から噴射した噴射気体で被乾
燥物70上の液滴65を吹き飛ばして急速乾燥させる。
この際、被乾燥物70の表面で発生したミストを反搬送
側の吸気ダクト64が吸引し、更に、エアーナイフ62
の搬送側の吸気ダクト64が吸引してミスト再付着を防
止する。そして、吸気ダクト64には、排風機68が接
続されており、吸気ダクト64で吸引してミストを所定
の外部に排出する。
【0010】従って、従来の基板乾燥装置の他の実施の
形態によれば、噴射気体で液滴を飛ばして急速乾燥でき
る。また、この際、発生するミストは、吸気ダクトによ
り吸気することで、ミストの再付着を防止し、ウォータ
マークの発生を防止できる。また、エアーナイフを通過
した後にも吸気ダクトにより吸気を行うため、乾燥を確
実に行うことができる。
形態によれば、噴射気体で液滴を飛ばして急速乾燥でき
る。また、この際、発生するミストは、吸気ダクトによ
り吸気することで、ミストの再付着を防止し、ウォータ
マークの発生を防止できる。また、エアーナイフを通過
した後にも吸気ダクトにより吸気を行うため、乾燥を確
実に行うことができる。
【0011】このように、従来の基板乾燥装置は、回転
する基板に水溶性アルコールを吹き付ける方法、または
乾燥ガスを吹き付けて基板表面に付着した液滴を吹き飛
ばす方法のいずれかにより被乾燥物の乾燥を実行してい
た。
する基板に水溶性アルコールを吹き付ける方法、または
乾燥ガスを吹き付けて基板表面に付着した液滴を吹き飛
ばす方法のいずれかにより被乾燥物の乾燥を実行してい
た。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
基板乾燥装置では、図7に示した回転する基板に水溶性
アルコールを含んだガスを吹き付ける装置の場合、前述
したように液滴が遠心力により周辺部に広がるため、特
に、大型基板、矩形状基板などの基板で乾燥ムラ及びウ
ォータマークが発生してしまう不具合があった。
基板乾燥装置では、図7に示した回転する基板に水溶性
アルコールを含んだガスを吹き付ける装置の場合、前述
したように液滴が遠心力により周辺部に広がるため、特
に、大型基板、矩形状基板などの基板で乾燥ムラ及びウ
ォータマークが発生してしまう不具合があった。
【0013】また、従来の基板乾燥装置では、図8に示
した乾燥ガスを吹き付けて被乾燥物の表面に付着した液
滴を吹き飛ばす装置の場合、被乾燥物上の液滴を効果的
に除去するためには被乾燥物の搬送スピードを2.5m
/min程度以下、吹き付けスピードを約200m/s
程度以上に設定する必要があり、スループット(処理時
間)が遅く、ガス使用量が多いという不具合があった。
した乾燥ガスを吹き付けて被乾燥物の表面に付着した液
滴を吹き飛ばす装置の場合、被乾燥物上の液滴を効果的
に除去するためには被乾燥物の搬送スピードを2.5m
/min程度以下、吹き付けスピードを約200m/s
程度以上に設定する必要があり、スループット(処理時
間)が遅く、ガス使用量が多いという不具合があった。
【0014】本発明はこのような課題を解決し、ガスの
使用量を低減してスループットを向上させるとともに被
乾燥物を効率良く効果的に乾燥できる基板乾燥装置を提
供することを目的とする。
使用量を低減してスループットを向上させるとともに被
乾燥物を効率良く効果的に乾燥できる基板乾燥装置を提
供することを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに、本発明による基板乾燥装置の実施の形態は、被乾
燥物を載置して所定の方向に搬送する搬送手段と、被乾
燥物の表面に近接して前後左右方向に動作するとともに
水溶性アルコールのベーパを含んだガスを吹き付ける吹
き付け手段と、この吹き付け手段に水溶性アルコールの
ベーパを含んだガスを供給する供給手段とを備え、被乾
燥物が搬送手段により搬送されて移動している状態また
は搬送して停止した状態のいずれか一方の状態で吹き付
け手段を前後左右方向に移動して被乾燥物の表面に水溶
性アルコールのベーパを含んだガスを吹き付けることに
より被乾燥物の表面に付着した液滴を効果的に乾燥させ
るとともに、搬送手段の上部に吹き付け手段を平行に配
置してこの平行面を0°〜60°の角度で傾斜可能に設
けて底部における配置スペースを縮小する。
めに、本発明による基板乾燥装置の実施の形態は、被乾
燥物を載置して所定の方向に搬送する搬送手段と、被乾
燥物の表面に近接して前後左右方向に動作するとともに
水溶性アルコールのベーパを含んだガスを吹き付ける吹
き付け手段と、この吹き付け手段に水溶性アルコールの
ベーパを含んだガスを供給する供給手段とを備え、被乾
燥物が搬送手段により搬送されて移動している状態また
は搬送して停止した状態のいずれか一方の状態で吹き付
け手段を前後左右方向に移動して被乾燥物の表面に水溶
性アルコールのベーパを含んだガスを吹き付けることに
より被乾燥物の表面に付着した液滴を効果的に乾燥させ
るとともに、搬送手段の上部に吹き付け手段を平行に配
置してこの平行面を0°〜60°の角度で傾斜可能に設
けて底部における配置スペースを縮小する。
【0016】ここで、被乾燥物の上部には、吹き付け手
段とともに移動して被乾燥物の表面に吹き付けたガスを
吸気する吸気ダクトを少なくとも1箇所以上設けること
が好ましい。また、吸気ダクトは、吹き付け手段の前後
両側に平行して2箇所配置することが好ましい。また、
吹き付け手段と吸気ダクトとは、搬送手段の上部に平行
に配置されて搬送方向と直交する対向面を所定の角度に
傾斜させて設置することが好ましい。また、吹き付け手
段は、水溶性アルコールのベーパを含んだガスを吹き付
けるエアーナイフであることが好ましい。
段とともに移動して被乾燥物の表面に吹き付けたガスを
吸気する吸気ダクトを少なくとも1箇所以上設けること
が好ましい。また、吸気ダクトは、吹き付け手段の前後
両側に平行して2箇所配置することが好ましい。また、
吹き付け手段と吸気ダクトとは、搬送手段の上部に平行
に配置されて搬送方向と直交する対向面を所定の角度に
傾斜させて設置することが好ましい。また、吹き付け手
段は、水溶性アルコールのベーパを含んだガスを吹き付
けるエアーナイフであることが好ましい。
【0017】また、搬送手段の上部には、被乾燥物を吹
き付け手段により乾燥処理を行う前に液切りを実行する
液切り用吹き付け手段を更に配置することが好ましい。
また、吸気ダクトは、搬送手段及び吹き付け手段ととも
に0°〜60°の角度で傾斜可能に設けることが好まし
い。また、水溶性アルコールのベーパを含んだガスは、
被乾燥物の表面にイジェクタを介して供給することが好
ましい。
き付け手段により乾燥処理を行う前に液切りを実行する
液切り用吹き付け手段を更に配置することが好ましい。
また、吸気ダクトは、搬送手段及び吹き付け手段ととも
に0°〜60°の角度で傾斜可能に設けることが好まし
い。また、水溶性アルコールのベーパを含んだガスは、
被乾燥物の表面にイジェクタを介して供給することが好
ましい。
【0018】また、供給手段は、水溶性アルコール内に
乾燥ガスを供給してバブリングすることにより水溶性ア
ルコールのベーパを含んだガスを発生させて供給するよ
うに形成することが好ましい。また供給手段の他の実施
の形態として、水溶性アルコールをヒータにより加熱し
て発生するミスト内に乾燥ガスを混合することにより水
溶性アルコールのベーパを含んだガスを発生させて供給
するように形成することが好ましい。また、供給手段の
更なる他の実施の形態として、水溶性アルコールを超音
波霧化器により霧化するとともに、この霧化したミスト
内に乾燥ガスを混合することにより水溶性アルコールの
ベーパを含んだガスを発生させて供給するように形成す
ることが好ましい。ここで、乾燥ガスは、窒素ガスであ
ることが好ましい。
乾燥ガスを供給してバブリングすることにより水溶性ア
ルコールのベーパを含んだガスを発生させて供給するよ
うに形成することが好ましい。また供給手段の他の実施
の形態として、水溶性アルコールをヒータにより加熱し
て発生するミスト内に乾燥ガスを混合することにより水
溶性アルコールのベーパを含んだガスを発生させて供給
するように形成することが好ましい。また、供給手段の
更なる他の実施の形態として、水溶性アルコールを超音
波霧化器により霧化するとともに、この霧化したミスト
内に乾燥ガスを混合することにより水溶性アルコールの
ベーパを含んだガスを発生させて供給するように形成す
ることが好ましい。ここで、乾燥ガスは、窒素ガスであ
ることが好ましい。
【0019】また、吹き付け手段と吸気ダクトとが移動
する方向は、搬送手段の搬送方向に対して逆方向に駆動
するように設けることが好ましい。また、吹き付け手段
と吸気ダクトとは、被乾燥物の搬送方向に対して直交す
る両側方向に更にスライドするように設けることが好ま
しい。また、被乾燥物は、半導体基板、液晶用ガラス基
板などの被処理基板であることが好ましい。
する方向は、搬送手段の搬送方向に対して逆方向に駆動
するように設けることが好ましい。また、吹き付け手段
と吸気ダクトとは、被乾燥物の搬送方向に対して直交す
る両側方向に更にスライドするように設けることが好ま
しい。また、被乾燥物は、半導体基板、液晶用ガラス基
板などの被処理基板であることが好ましい。
【0020】
【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
による基板乾燥装置の実施の形態を詳細に説明する。図
1は、本発明による基板乾燥装置の第1の実施の形態を
示す平面図である。また、図2は、図1に示したA−A
線の断面を示す断面図である。
による基板乾燥装置の実施の形態を詳細に説明する。図
1は、本発明による基板乾燥装置の第1の実施の形態を
示す平面図である。また、図2は、図1に示したA−A
線の断面を示す断面図である。
【0021】図1に示すように、本発明による基板乾燥
装置の第1の実施の形態は、被洗浄物1を搬送する搬送
手段(図示せず)と、この搬送手段により搬送された被
洗浄物1の表面に水溶性アルコールのベーパを含んだガ
スを吹き付けるエアーナイフ2と、このエアーナイフ2
と平行して搬送方向の前後2箇所に配置されて吸気する
吸気ダクト4と、エアーナイフ2に水溶性アルコールの
ベーパを含んだガスを供給する供給手段10とを備えて
いる。
装置の第1の実施の形態は、被洗浄物1を搬送する搬送
手段(図示せず)と、この搬送手段により搬送された被
洗浄物1の表面に水溶性アルコールのベーパを含んだガ
スを吹き付けるエアーナイフ2と、このエアーナイフ2
と平行して搬送方向の前後2箇所に配置されて吸気する
吸気ダクト4と、エアーナイフ2に水溶性アルコールの
ベーパを含んだガスを供給する供給手段10とを備えて
いる。
【0022】ここで、エアーナイフ2は、被洗浄物1の
上方に配置され、この被洗浄物1の搬送方向と直交する
対向面を所定の角度に傾斜させて配置している。ここ
で、この角度は、好ましくは35°〜45°に傾斜させ
ることが望ましい。また、エアーナイフ2には、反搬送
方向に微小の間隔を備えて形成した噴射用スリット2a
を設けている。そして、エアーナイフ2は、両側に各々
取付金具9を設けて吸気ダクト4の間に固定されてい
る。
上方に配置され、この被洗浄物1の搬送方向と直交する
対向面を所定の角度に傾斜させて配置している。ここ
で、この角度は、好ましくは35°〜45°に傾斜させ
ることが望ましい。また、エアーナイフ2には、反搬送
方向に微小の間隔を備えて形成した噴射用スリット2a
を設けている。そして、エアーナイフ2は、両側に各々
取付金具9を設けて吸気ダクト4の間に固定されてい
る。
【0023】また、吸気ダクト4は、エアーナイフ2と
平行して搬送方向の前後に2箇所配置され、エアーナイ
フ2から噴出させた水溶性アルコールのベーパを含んだ
ガスを吸気するように設置されている。この吸気ダクト
4は、エアーナイフ2の両側で各々内側に吸気口4aを
開口している。また、吸気ダクト4には、パイプ状の管
路8aを介して排風機8が接続されている。
平行して搬送方向の前後に2箇所配置され、エアーナイ
フ2から噴出させた水溶性アルコールのベーパを含んだ
ガスを吸気するように設置されている。この吸気ダクト
4は、エアーナイフ2の両側で各々内側に吸気口4aを
開口している。また、吸気ダクト4には、パイプ状の管
路8aを介して排風機8が接続されている。
【0024】また、エアーナイフ2には、水溶性アルコ
ールのベーパを含んだガスを供給する供給手段10が管
路10cを介して接続されている。この供給手段10
は、水溶性のイソプロピルアルコール(以下、IPAと
称す)を貯留する貯留槽10aと、この貯留槽10aか
ら延在してエアーナイフ2の両側に接続する管路10c
と、貯留槽10aに窒素ガスを供給する管路10bとを
備えている。従って、貯留槽10a内では、貯留したI
PA3内に管路10bにより窒素ガスが供給されて混合
(飽和)し、水溶性アルコールのベーパを含んだガスが
発生する。そして、このガスは、管路10cによりエア
ーナイフ2に供給され、被洗浄物1の表面に吹き付けら
れる。
ールのベーパを含んだガスを供給する供給手段10が管
路10cを介して接続されている。この供給手段10
は、水溶性のイソプロピルアルコール(以下、IPAと
称す)を貯留する貯留槽10aと、この貯留槽10aか
ら延在してエアーナイフ2の両側に接続する管路10c
と、貯留槽10aに窒素ガスを供給する管路10bとを
備えている。従って、貯留槽10a内では、貯留したI
PA3内に管路10bにより窒素ガスが供給されて混合
(飽和)し、水溶性アルコールのベーパを含んだガスが
発生する。そして、このガスは、管路10cによりエア
ーナイフ2に供給され、被洗浄物1の表面に吹き付けら
れる。
【0025】ここで、本発明による基板乾燥装置は、図
2に示すように、エアーナイフ2、吸気ダクト4、及び
搬送手段(図示せず)を所定の角度θで傾斜させて図2
に示した一点鎖線のように傾けることができる。この基
板乾燥装置は、傾斜する角度θを0°〜60°の範囲内
で傾けることができる。このように、エアーナイフ2、
吸気ダクト4、及び搬送手段を所定の角度θに傾斜させ
ることで、基板乾燥装置の底部における設置スペースを
図2に示した幅Bから幅B′(Bに対してほぼ1/2の
幅)に縮小することができる。
2に示すように、エアーナイフ2、吸気ダクト4、及び
搬送手段(図示せず)を所定の角度θで傾斜させて図2
に示した一点鎖線のように傾けることができる。この基
板乾燥装置は、傾斜する角度θを0°〜60°の範囲内
で傾けることができる。このように、エアーナイフ2、
吸気ダクト4、及び搬送手段を所定の角度θに傾斜させ
ることで、基板乾燥装置の底部における設置スペースを
図2に示した幅Bから幅B′(Bに対してほぼ1/2の
幅)に縮小することができる。
【0026】このように形成された本発明による基板乾
燥装置の第1の実施の形態により乾燥工程を実行する場
合、まず、被乾燥物1を搬送手段に載置する。そして、
供給手段10には、管路10bを介して窒素ガスを供給
する。これにより、貯留槽10内では、貯留したIPA
3と窒素ガスとが混合され、水溶性アルコールのベーパ
を含んだガスが発生する。そして、このガスは、管路1
0cによりエアーナイフ2に供給され、搬送手段により
搬送されている被洗浄物1の表面に向かって吹き付けら
れる。これにより、被乾燥物1は、エアーナイフ2から
噴射した噴射ガスにより液滴を吹き飛ばして急速乾燥す
る。
燥装置の第1の実施の形態により乾燥工程を実行する場
合、まず、被乾燥物1を搬送手段に載置する。そして、
供給手段10には、管路10bを介して窒素ガスを供給
する。これにより、貯留槽10内では、貯留したIPA
3と窒素ガスとが混合され、水溶性アルコールのベーパ
を含んだガスが発生する。そして、このガスは、管路1
0cによりエアーナイフ2に供給され、搬送手段により
搬送されている被洗浄物1の表面に向かって吹き付けら
れる。これにより、被乾燥物1は、エアーナイフ2から
噴射した噴射ガスにより液滴を吹き飛ばして急速乾燥す
る。
【0027】また、被乾燥物1の表面では、エアーナイ
フ2により液滴5を吹き飛ばした際にミストが発生す
る。このミストは、エアーナイフ2と平行して搬送方向
の前後に配置した2つの吸気ダクト4により吸引され、
被乾燥物1の表面に再付着することを防止している。ま
た、図2に示したように、エアーナイフ2、吸気ダクト
4、及び搬送手段を所定の角度θで傾斜させることによ
り、被乾燥物1の表面に付着した液滴が傾斜に沿って流
れて除去しやすくなる。
フ2により液滴5を吹き飛ばした際にミストが発生す
る。このミストは、エアーナイフ2と平行して搬送方向
の前後に配置した2つの吸気ダクト4により吸引され、
被乾燥物1の表面に再付着することを防止している。ま
た、図2に示したように、エアーナイフ2、吸気ダクト
4、及び搬送手段を所定の角度θで傾斜させることによ
り、被乾燥物1の表面に付着した液滴が傾斜に沿って流
れて除去しやすくなる。
【0028】このように第1の実施の形態によると、搬
送される被乾燥物1の表面に水溶性アルコールのベーパ
を含んだガスをエアーナイフ2により噴射するため、こ
のガスが被乾燥物1上の液滴を吹き飛ばして急速乾燥で
きる。また、第1の実施の形態によると、図2に示した
ように、装置全体を所定の角度に傾斜させることができ
るため、図8に示した従来技術の装置に比べて配置スペ
ースを縮小することができるとともに、効果的な乾燥を
実行することができる。
送される被乾燥物1の表面に水溶性アルコールのベーパ
を含んだガスをエアーナイフ2により噴射するため、こ
のガスが被乾燥物1上の液滴を吹き飛ばして急速乾燥で
きる。また、第1の実施の形態によると、図2に示した
ように、装置全体を所定の角度に傾斜させることができ
るため、図8に示した従来技術の装置に比べて配置スペ
ースを縮小することができるとともに、効果的な乾燥を
実行することができる。
【0029】次に、図3乃至図5を参照して本発明によ
る基板乾燥装置の第2の実施の形態を詳細に説明する。
図3は、本発明による基板乾燥装置の第2の実施の形態
を示す平面図である。また、図4は、図1に示した基板
乾燥装置の動作を示す平面図である。また、図5は、図
1に示した基板乾燥装置の更なる他の動作を示す平面図
である。
る基板乾燥装置の第2の実施の形態を詳細に説明する。
図3は、本発明による基板乾燥装置の第2の実施の形態
を示す平面図である。また、図4は、図1に示した基板
乾燥装置の動作を示す平面図である。また、図5は、図
1に示した基板乾燥装置の更なる他の動作を示す平面図
である。
【0030】図3に示すように、本発明による基板乾燥
装置の第2の実施の形態は、第1の実施の形態と同様
に、被洗浄物1を搬送する搬送手段(図示せず)と、こ
の搬送手段により搬送される被洗浄物1の表面に水溶性
アルコールのベーパを含んだガスを吹き付けるエアーナ
イフ2と、このエアーナイフ2と平行して搬送方向の前
後2箇所に配置されて吸気する吸気ダクト4と、エアー
ナイフ2に水溶性アルコールのベーパを含んだガスを供
給する供給手段20とを備えている。
装置の第2の実施の形態は、第1の実施の形態と同様
に、被洗浄物1を搬送する搬送手段(図示せず)と、こ
の搬送手段により搬送される被洗浄物1の表面に水溶性
アルコールのベーパを含んだガスを吹き付けるエアーナ
イフ2と、このエアーナイフ2と平行して搬送方向の前
後2箇所に配置されて吸気する吸気ダクト4と、エアー
ナイフ2に水溶性アルコールのベーパを含んだガスを供
給する供給手段20とを備えている。
【0031】ここで、エアーナイフ2は、被洗浄物1の
上方に配置され、この被洗浄物1の搬送方向と直交する
対向面を所定の角度に傾斜させて配置している。ここ
で、この角度は、好ましくは35°〜45°に傾斜させ
ることが望ましい。また、エアーナイフ2には、反搬送
方向に微小の間隔を備えて形成した噴射用スリット2a
を設けている。また、エアーナイフ2は、第1の実施の
形態と異なり、図3に示した前後左右方向に移動可能に
設けてある。従って、エアーナイフ2は、水溶性アルコ
ールのベーパを含んだガスを被洗浄物1の表面に吹き付
ける際、前後左右方向に移動して吹き付けるため、処理
時間を短縮することができる。
上方に配置され、この被洗浄物1の搬送方向と直交する
対向面を所定の角度に傾斜させて配置している。ここ
で、この角度は、好ましくは35°〜45°に傾斜させ
ることが望ましい。また、エアーナイフ2には、反搬送
方向に微小の間隔を備えて形成した噴射用スリット2a
を設けている。また、エアーナイフ2は、第1の実施の
形態と異なり、図3に示した前後左右方向に移動可能に
設けてある。従って、エアーナイフ2は、水溶性アルコ
ールのベーパを含んだガスを被洗浄物1の表面に吹き付
ける際、前後左右方向に移動して吹き付けるため、処理
時間を短縮することができる。
【0032】また、吸気ダクト4は、エアーナイフ2と
平行して搬送方向の前後に2箇所配置され、エアーナイ
フ2から噴出する水溶性アルコールのベーパを含んだガ
スにより発生したミストを吸気するように設置されてい
る。この吸気ダクト4は、エアーナイフ2の両側で各々
内側に吸気口4aを開口している。また、吸気ダクト4
には、パイプ状の管路8aを介して排風機8が接続され
ている。この吸気ダクト4は、第1の実施の形態と異な
り、エアーナイフ2の動作に合わせて同時に駆動するよ
うに形成されている。
平行して搬送方向の前後に2箇所配置され、エアーナイ
フ2から噴出する水溶性アルコールのベーパを含んだガ
スにより発生したミストを吸気するように設置されてい
る。この吸気ダクト4は、エアーナイフ2の両側で各々
内側に吸気口4aを開口している。また、吸気ダクト4
には、パイプ状の管路8aを介して排風機8が接続され
ている。この吸気ダクト4は、第1の実施の形態と異な
り、エアーナイフ2の動作に合わせて同時に駆動するよ
うに形成されている。
【0033】また、エアーナイフ2には、水溶性アルコ
ールのベーパを含んだガスを供給する供給手段20が管
路20eを介して接続されている。この供給手段20
は、第1の実施の形態と異なり、IPA3を貯留する貯
留槽20aと、この貯留槽20aから延在してエアーナ
イフ2の両側に接続する管路20eと、この管路20e
の途中に装着するイジェクタ22と、このイジェクタ2
2に窒素ガスを供給する管路20dと、貯留槽20aに
窒素ガスを供給する管路20cと、貯留槽20aの底部
に配置して加熱するヒータ20bとを備えている。
ールのベーパを含んだガスを供給する供給手段20が管
路20eを介して接続されている。この供給手段20
は、第1の実施の形態と異なり、IPA3を貯留する貯
留槽20aと、この貯留槽20aから延在してエアーナ
イフ2の両側に接続する管路20eと、この管路20e
の途中に装着するイジェクタ22と、このイジェクタ2
2に窒素ガスを供給する管路20dと、貯留槽20aに
窒素ガスを供給する管路20cと、貯留槽20aの底部
に配置して加熱するヒータ20bとを備えている。
【0034】従って、貯留槽20a内には、貯留したI
PA3をヒータ20bにより加熱して発生する蒸気に管
路20cを介して窒素ガスを供給する。これにより貯留
槽20a内では、IPA3の蒸気と窒素ガスとが混合
(飽和)して水溶性アルコールのベーパを含んだガスが
発生する。そして、このガスは、管路20eによりエア
ーナイフ2に供給され、被洗浄物1の表面に吹き付けら
れる。この際、管路20eには、イジェクタ22を装着
するとともに、このイジェクタ22に管路20dを接続
している。従って、水溶性アルコールのベーパを含んだ
ガスは、管路20dに窒素ガスを所定の速度で供給する
ことで、イジェクタ22内で負圧(真空)が発生してエ
アーナイフ2に供給される。
PA3をヒータ20bにより加熱して発生する蒸気に管
路20cを介して窒素ガスを供給する。これにより貯留
槽20a内では、IPA3の蒸気と窒素ガスとが混合
(飽和)して水溶性アルコールのベーパを含んだガスが
発生する。そして、このガスは、管路20eによりエア
ーナイフ2に供給され、被洗浄物1の表面に吹き付けら
れる。この際、管路20eには、イジェクタ22を装着
するとともに、このイジェクタ22に管路20dを接続
している。従って、水溶性アルコールのベーパを含んだ
ガスは、管路20dに窒素ガスを所定の速度で供給する
ことで、イジェクタ22内で負圧(真空)が発生してエ
アーナイフ2に供給される。
【0035】ここで、第2の実施の形態は、図2に示し
た第1の実施の形態と同様に、エアーナイフ2、吸気ダ
クト4、及び搬送手段(図示せず)を所定の角度で傾斜
させることができる。従って、第2の実施の形態は、第
1の実施の形態と同様に装置の設置スペースを縮小する
ことができる。
た第1の実施の形態と同様に、エアーナイフ2、吸気ダ
クト4、及び搬送手段(図示せず)を所定の角度で傾斜
させることができる。従って、第2の実施の形態は、第
1の実施の形態と同様に装置の設置スペースを縮小する
ことができる。
【0036】このように形成された本発明による基板乾
燥装置の第2の実施の形態により乾燥工程を実行する場
合、2つの乾燥方法がある。まず、第1の方法は、被乾
燥物1を搬送手段の上部に載置して、この搬送手段が載
置した被乾燥物1を所定の位置まで搬送して停止する。
そして、前述したように供給手段20内でIPA3と窒
素ガスとを混合させて水溶性アルコールのベーパを含ん
だガスを発生させる。このガスは、イジェクタ22を介
してエアーナイフ2に供給され、被乾燥物1の表面に噴
出する。この際、エアーナイフ2と吸気ダクト4とは、
図4に示すように、所定の位置から被洗浄物1の搬送方
向とは逆方向(図3に示した後方向)に移動して所定の
範囲にガスを吹き付ける。そして、エアーナイフ2と吸
気ダクト4とは、所定の範囲移動して吹き付けを完了す
ると元の位置に戻って待機する。これと同時に搬送手段
は、再び被洗浄物1を搬送してエアーナイフ2により吹
き付けられていない表面の位置まで搬送して停止する。
以後、前述した動作を繰り返すことにより被乾燥物1
は、エアーナイフ2から噴射した噴射ガスにより液滴を
吹き飛ばして急速乾燥する。また、被乾燥物1の表面で
は、エアーナイフ2により液滴5を吹き飛ばした際にミ
ストが発生する。このミストは、エアーナイフ2と平行
して配置した2つの吸気ダクト4により吸引され、被乾
燥物1の表面に再付着することを防止している。また、
図2に示した従来技術と同様に、エアーナイフ2、吸気
ダクト4、及び搬送手段を所定の角度で傾斜させること
により、被乾燥物1の表面に付着した液滴が傾斜に沿っ
て流れて除去しやすくなる。
燥装置の第2の実施の形態により乾燥工程を実行する場
合、2つの乾燥方法がある。まず、第1の方法は、被乾
燥物1を搬送手段の上部に載置して、この搬送手段が載
置した被乾燥物1を所定の位置まで搬送して停止する。
そして、前述したように供給手段20内でIPA3と窒
素ガスとを混合させて水溶性アルコールのベーパを含ん
だガスを発生させる。このガスは、イジェクタ22を介
してエアーナイフ2に供給され、被乾燥物1の表面に噴
出する。この際、エアーナイフ2と吸気ダクト4とは、
図4に示すように、所定の位置から被洗浄物1の搬送方
向とは逆方向(図3に示した後方向)に移動して所定の
範囲にガスを吹き付ける。そして、エアーナイフ2と吸
気ダクト4とは、所定の範囲移動して吹き付けを完了す
ると元の位置に戻って待機する。これと同時に搬送手段
は、再び被洗浄物1を搬送してエアーナイフ2により吹
き付けられていない表面の位置まで搬送して停止する。
以後、前述した動作を繰り返すことにより被乾燥物1
は、エアーナイフ2から噴射した噴射ガスにより液滴を
吹き飛ばして急速乾燥する。また、被乾燥物1の表面で
は、エアーナイフ2により液滴5を吹き飛ばした際にミ
ストが発生する。このミストは、エアーナイフ2と平行
して配置した2つの吸気ダクト4により吸引され、被乾
燥物1の表面に再付着することを防止している。また、
図2に示した従来技術と同様に、エアーナイフ2、吸気
ダクト4、及び搬送手段を所定の角度で傾斜させること
により、被乾燥物1の表面に付着した液滴が傾斜に沿っ
て流れて除去しやすくなる。
【0037】一方、第2の方法は、まず、第1の方法と
同様に、供給手段20内で水溶性アルコールのベーパを
含んだガスを発生させてエアーナイフ2に供給する。そ
して、被乾燥物1を搬送手段の上部に載置して図5に示
す矢印方向(図3に示した前方向)に搬送する。このよ
うに搬送される被乾燥物1の表面には、エアーナイフ2
から噴出されるガスが吹き付けられる。この際、エアー
ナイフ2と吸気ダクト4とは、図5に示す矢印方向(図
3に示した左右方向)に往復動作を行いながらガスの吹
き付けを実行する。これにより被乾燥物1は、エアーナ
イフ2から噴射した噴射ガスにより液滴を吹き飛ばして
急速乾燥する。また、被乾燥物1の表面では、エアーナ
イフ2により液滴5を吹き飛ばした際にミストが発生す
る。このミストは、エアーナイフ2と平行して配置した
2つの吸気ダクト4により吸引され、被乾燥物1の表面
に再付着することを防止している。また、図2に示した
従来技術と同様に、エアーナイフ2、吸気ダクト4、及
び搬送手段を所定の角度で傾斜させることにより、被乾
燥物1の表面に付着した液滴が傾斜に沿って流れて除去
しやすくなる。
同様に、供給手段20内で水溶性アルコールのベーパを
含んだガスを発生させてエアーナイフ2に供給する。そ
して、被乾燥物1を搬送手段の上部に載置して図5に示
す矢印方向(図3に示した前方向)に搬送する。このよ
うに搬送される被乾燥物1の表面には、エアーナイフ2
から噴出されるガスが吹き付けられる。この際、エアー
ナイフ2と吸気ダクト4とは、図5に示す矢印方向(図
3に示した左右方向)に往復動作を行いながらガスの吹
き付けを実行する。これにより被乾燥物1は、エアーナ
イフ2から噴射した噴射ガスにより液滴を吹き飛ばして
急速乾燥する。また、被乾燥物1の表面では、エアーナ
イフ2により液滴5を吹き飛ばした際にミストが発生す
る。このミストは、エアーナイフ2と平行して配置した
2つの吸気ダクト4により吸引され、被乾燥物1の表面
に再付着することを防止している。また、図2に示した
従来技術と同様に、エアーナイフ2、吸気ダクト4、及
び搬送手段を所定の角度で傾斜させることにより、被乾
燥物1の表面に付着した液滴が傾斜に沿って流れて除去
しやすくなる。
【0038】このように第2の実施の形態によると、水
溶性アルコールのベーパを含んだガスを被乾燥物の表面
に噴射可能にして装置全体を所定の角度に傾斜できるよ
うに形成しているため、第1の実施の形態と同様の効果
を得ることができる。
溶性アルコールのベーパを含んだガスを被乾燥物の表面
に噴射可能にして装置全体を所定の角度に傾斜できるよ
うに形成しているため、第1の実施の形態と同様の効果
を得ることができる。
【0039】また、第2の実施の形態によると、エアー
ナイフ及び吸気ダクトを前後左右方向に移動可能にして
乾燥工程を実行できるように形成しているため、被洗浄
物の乾燥工程を短縮することができる。
ナイフ及び吸気ダクトを前後左右方向に移動可能にして
乾燥工程を実行できるように形成しているため、被洗浄
物の乾燥工程を短縮することができる。
【0040】次に、図6を参照して、本発明による基板
乾燥装置の第3の実施の形態を詳細に説明する。図6
は、本発明による基板乾燥装置の第3の実施の形態を示
す平面図である。ここで、第3の実施の形態における供
給手段30及び液切り用エアーナイフ6以外の構成要素
は第2の実施の形態と同一構成要素であり、この同じ構
成要素には同一符号を記載するとともに、重複する説明
は省略する。
乾燥装置の第3の実施の形態を詳細に説明する。図6
は、本発明による基板乾燥装置の第3の実施の形態を示
す平面図である。ここで、第3の実施の形態における供
給手段30及び液切り用エアーナイフ6以外の構成要素
は第2の実施の形態と同一構成要素であり、この同じ構
成要素には同一符号を記載するとともに、重複する説明
は省略する。
【0041】図6に示すように、本発明による基板乾燥
装置の第3の実施の形態は、第2の実施の形態と同様
に、被洗浄物1を搬送する搬送手段(図示せず)と、こ
の搬送手段により搬送される被洗浄物1の表面に水溶性
アルコールのベーパを含んだガスを吹き付けるエアーナ
イフ2と、このエアーナイフ2と平行して搬送方向の前
後2箇所に配置されて吸気する吸気ダクト4とを備えて
いる。
装置の第3の実施の形態は、第2の実施の形態と同様
に、被洗浄物1を搬送する搬送手段(図示せず)と、こ
の搬送手段により搬送される被洗浄物1の表面に水溶性
アルコールのベーパを含んだガスを吹き付けるエアーナ
イフ2と、このエアーナイフ2と平行して搬送方向の前
後2箇所に配置されて吸気する吸気ダクト4とを備えて
いる。
【0042】また、第3の実施の形態は、第2の実施の
形態と異なり、被洗浄物1をエアーナイフ2により水溶
性アルコールのベーパを含んだガスを吹き付ける前に液
切りを行う液切り用エアーナイフ6を備えている。この
液切り用エアーナイフ6は、エアーナイフ2の反進行方
向前方に設置され、予め液切りを行うことで短いスルー
プット(処理時間)で被洗浄物1の乾燥を行えるように
設けてある。
形態と異なり、被洗浄物1をエアーナイフ2により水溶
性アルコールのベーパを含んだガスを吹き付ける前に液
切りを行う液切り用エアーナイフ6を備えている。この
液切り用エアーナイフ6は、エアーナイフ2の反進行方
向前方に設置され、予め液切りを行うことで短いスルー
プット(処理時間)で被洗浄物1の乾燥を行えるように
設けてある。
【0043】また、第3の実施の形態は、第2の実施の
形態と異なり、超音波霧化器30bにより貯留したIP
A3を霧化させて窒素ガスと混合させることにより水溶
性アルコールのベーパを発生させる供給手段30を備え
ている。この供給手段30は、IPA3を貯留する貯留
槽30aと、この貯留槽30aにIPA3を供給するI
PA供給部30gと、貯留槽30aから延在してエアー
ナイフ2の両側に接続する管路30eと、この管路30
eの途中に装着するイジェクタ32と、このイジェクタ
32に窒素ガスを供給する管路30dと、貯留槽30a
に窒素ガスを供給する管路30cと、貯留槽30aの底
部に配置して超音波により貯留槽30aに貯留したIP
A3を霧化する超音波霧化器30bとを備えている。
形態と異なり、超音波霧化器30bにより貯留したIP
A3を霧化させて窒素ガスと混合させることにより水溶
性アルコールのベーパを発生させる供給手段30を備え
ている。この供給手段30は、IPA3を貯留する貯留
槽30aと、この貯留槽30aにIPA3を供給するI
PA供給部30gと、貯留槽30aから延在してエアー
ナイフ2の両側に接続する管路30eと、この管路30
eの途中に装着するイジェクタ32と、このイジェクタ
32に窒素ガスを供給する管路30dと、貯留槽30a
に窒素ガスを供給する管路30cと、貯留槽30aの底
部に配置して超音波により貯留槽30aに貯留したIP
A3を霧化する超音波霧化器30bとを備えている。
【0044】従って、貯留槽30a内には、貯留したI
PA3を超音波霧化器30bにより霧化し、そこに管路
30cを介して窒素ガスを供給する。これにより貯留槽
30a内では、IPA3のミスト(蒸気)と窒素ガスと
が混合(飽和)して水溶性アルコールのベーパを含んだ
ガスが発生する。そして、このガスは、管路30eによ
りエアーナイフ2に供給され、被洗浄物1の表面に吹き
付けられる。この際、管路30eには、イジェクタ32
を装着するとともに、このイジェクタ32に管路30d
を接続している。従って、水溶性アルコールのベーパを
含んだガスは、管路30dに窒素ガスを所定の速度で供
給することで、イジェクタ32内で負圧(真空)が発生
してエアーナイフ2に供給される。
PA3を超音波霧化器30bにより霧化し、そこに管路
30cを介して窒素ガスを供給する。これにより貯留槽
30a内では、IPA3のミスト(蒸気)と窒素ガスと
が混合(飽和)して水溶性アルコールのベーパを含んだ
ガスが発生する。そして、このガスは、管路30eによ
りエアーナイフ2に供給され、被洗浄物1の表面に吹き
付けられる。この際、管路30eには、イジェクタ32
を装着するとともに、このイジェクタ32に管路30d
を接続している。従って、水溶性アルコールのベーパを
含んだガスは、管路30dに窒素ガスを所定の速度で供
給することで、イジェクタ32内で負圧(真空)が発生
してエアーナイフ2に供給される。
【0045】そして、このように形成された本発明によ
る基板乾燥装置の第3の実施の形態により乾燥工程を実
行する場合、前述したように供給手段30内でIPA3
と窒素ガスとを混合させて水溶性アルコールのベーパを
含んだガスを発生させる。このガスは、イジェクタ32
を介してエアーナイフ2に供給され、被乾燥物1の表面
に噴出する。この際、エアーナイフ2及び吸気ダクト4
は、図4及び図5に示した第2の実施の形態と同様に、
2つの方法により前後左右方向に移動可能にして乾燥工
程を実行する。ここで、被乾燥物1は、エアーナイフ2
により表面を吹き付ける前に、液切り用エアーナイフ6
により液切りが実行される。従って、被乾燥物1は、エ
アーナイフ2の位置まで搬送される前に液切り用エアー
ナイフ6により図6に示した液滴7を液滴5のように最
小化することができる。
る基板乾燥装置の第3の実施の形態により乾燥工程を実
行する場合、前述したように供給手段30内でIPA3
と窒素ガスとを混合させて水溶性アルコールのベーパを
含んだガスを発生させる。このガスは、イジェクタ32
を介してエアーナイフ2に供給され、被乾燥物1の表面
に噴出する。この際、エアーナイフ2及び吸気ダクト4
は、図4及び図5に示した第2の実施の形態と同様に、
2つの方法により前後左右方向に移動可能にして乾燥工
程を実行する。ここで、被乾燥物1は、エアーナイフ2
により表面を吹き付ける前に、液切り用エアーナイフ6
により液切りが実行される。従って、被乾燥物1は、エ
アーナイフ2の位置まで搬送される前に液切り用エアー
ナイフ6により図6に示した液滴7を液滴5のように最
小化することができる。
【0046】このように第3の実施の形態によると、第
2の実施の形態と同様にエアーナイフと吸気ダクトとが
移動可能に設けているため、第2の実施の形態と同様の
効果を得ることができる。
2の実施の形態と同様にエアーナイフと吸気ダクトとが
移動可能に設けているため、第2の実施の形態と同様の
効果を得ることができる。
【0047】また、第3の実施の形態によると、エアー
ナイフの前に液切り用エアーナイフを更に設けており被
乾燥物の液切れが向上するため、第2の実施の形態と比
べて処理時間をより短縮でき、効果的な乾燥工程を実行
することができる。
ナイフの前に液切り用エアーナイフを更に設けており被
乾燥物の液切れが向上するため、第2の実施の形態と比
べて処理時間をより短縮でき、効果的な乾燥工程を実行
することができる。
【0048】以上、本発明による基板乾燥装置の実施の
形態を詳細に説明したが、本発明は前述の実施の形態に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
変更可能である。例えば、エアーナイフの両側に吸気ダ
クトを設けた実施の形態を詳細に説明したが、これに限
定されるものではなく、エアーナイフのみを設置して乾
燥を行ってもよい。また、前後左右に動作するエアーナ
イフの実施の形態を詳細に説明したが、これに限定され
るものではなく、例えば、斜め方向に移動して被乾燥物
の表面にガスを吹き付けてもよい。
形態を詳細に説明したが、本発明は前述の実施の形態に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
変更可能である。例えば、エアーナイフの両側に吸気ダ
クトを設けた実施の形態を詳細に説明したが、これに限
定されるものではなく、エアーナイフのみを設置して乾
燥を行ってもよい。また、前後左右に動作するエアーナ
イフの実施の形態を詳細に説明したが、これに限定され
るものではなく、例えば、斜め方向に移動して被乾燥物
の表面にガスを吹き付けてもよい。
【0049】
【発明の効果】このように本発明による基板乾燥装置に
よれば、水溶性アルコールのベーパを含んだガスを被乾
燥物の表面に吹き付けて乾燥させるため、液切れが向上
して従来技術の搬送スピードを速く(30%程度速く)
搬送できるとともに、吹き付けガスの使用量を低減(3
0%程度低減)することができる。
よれば、水溶性アルコールのベーパを含んだガスを被乾
燥物の表面に吹き付けて乾燥させるため、液切れが向上
して従来技術の搬送スピードを速く(30%程度速く)
搬送できるとともに、吹き付けガスの使用量を低減(3
0%程度低減)することができる。
【0050】また、本発明による基板乾燥装置によれ
ば、装置全体を所定の角度に傾斜することができるた
め、被乾燥物を鉛直近くにまで傾けることができ、乾燥
効果を向上させるのみでなく、フットプリント(設置ス
ペースの縮小化)の向上を実現することが可能になる。
ば、装置全体を所定の角度に傾斜することができるた
め、被乾燥物を鉛直近くにまで傾けることができ、乾燥
効果を向上させるのみでなく、フットプリント(設置ス
ペースの縮小化)の向上を実現することが可能になる。
【0051】さらに、本発明による基板乾燥装置によれ
ば、乾燥効率が向上することにより、搬送スピードの高
速化によるスループット(処理時間)の向上、及び吹き
付けガスの流量低減によるランニングコストの低減が可
能になる。
ば、乾燥効率が向上することにより、搬送スピードの高
速化によるスループット(処理時間)の向上、及び吹き
付けガスの流量低減によるランニングコストの低減が可
能になる。
【図1】本発明による基板乾燥装置の第1の実施の形態
を示す平面図。
を示す平面図。
【図2】図1に示したA−A線の断面を示す断面図。
【図3】本発明による基板乾燥装置の第2の実施の形態
を示す平面図。
を示す平面図。
【図4】図1に示した基板乾燥装置の動作を示す平面
図。
図。
【図5】図1に示した基板乾燥装置の更なる他の動作を
示す平面図。
示す平面図。
【図6】本発明による基板乾燥装置の第3の実施の形態
を示す平面図。
を示す平面図。
【図7】従来の基板乾燥装置を示す斜視図。
【図8】従来の基板乾燥装置の他の実施の形態を示す平
面図。
面図。
1 被乾燥物
5 液滴
4 吸気ダクト
4a 吸気口
2 エアーナイフ
2a 噴出用スリット
9 取付金具
8 排風機
8a 管路
3 IPA
10 供給手段
10a 貯留槽
10b、10c 管路
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平7−35478(JP,A)
特開 平10−180205(JP,A)
特開 平10−189529(JP,A)
実開 平2−137039(JP,U)
(58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名)
H01L 21/304
F26B 21/00
Claims (16)
- 【請求項1】 被乾燥物を載置して所定の方向に搬送す
る搬送手段と、 前記被乾燥物の表面に近接して前後左右方向に動作する
とともに水溶性アルコールのベーパを含んだガスを吹き
付ける吹き付け手段と、 前記吹き付け手段に前記水溶性アルコールのベーパを含
んだガスを供給する供給手段とを備え、 前記被乾燥物が前記搬送手段により搬送されて移動して
いる状態または搬送して停止した状態のいずれか一方の
状態で前記吹き付け手段を前後左右方向に移動して前記
被乾燥物の表面に前記水溶性アルコールのベーパを含ん
だガスを吹き付けることにより前記被乾燥物の表面に付
着した液滴を効果的に乾燥させるとともに、 前記搬送手段の上部に前記吹き付け手段を平行に配置し
てこの平行面を0°〜60°の角度で傾斜可能に設けて
底部における配置スペースを縮小した ことを特徴とする
基板乾燥装置。 - 【請求項2】 請求項1に記載の基板乾燥装置におい
て、 前記被乾燥物の上部には、前記吹き付け手段とともに移
動して前記被乾燥物の表面に吹き付けた前記ガスを吸気
する吸気ダクトを少なくとも1箇所以上設けたことを特
徴とする基板乾燥装置。 - 【請求項3】 請求項2に記載の基板乾燥装置におい
て、 前記吸気ダクトは、前記吹き付け手段の前後両側に平行
して2箇所配置していることを特徴とする基板乾燥装
置。 - 【請求項4】 請求項1に記載の基板乾燥装置におい
て、 前記吹き付け手段は、前記搬送手段の上部に平行に配置
されて搬送方向と直交する対向面を所定の角度に傾斜さ
せて設置していることを特徴とする基板乾燥装置。 - 【請求項5】 請求項2に記載の基板乾燥装置におい
て、 前記吹き付け手段と吸気ダクトとは、前記搬送手段の上
部に平行に配置されて搬送方向と直交する対向面を所定
の角度に傾斜させて設置していることを特徴とする基板
乾燥装置。 - 【請求項6】 請求項2に記載の基板乾燥装置におい
て、 前記吹き付け手段は、前記水溶性アルコールのベーパを
含んだガスを吹き付けるエアーナイフであることを特徴
とする基板乾燥装置。 - 【請求項7】 請求項2に記載の基板乾燥装置におい
て、 前記搬送手段の上部には、前記被乾燥物を前記吹き付け
手段により乾燥処理を行う前に液切りを実行する液切り
用吹き付け手段を更に配置したことを特徴とする基板乾
燥装置。 - 【請求項8】 請求項2乃至5のいずれかに記載の基板
乾燥装置において、前記吸気ダクトは、前記搬送手段及び吹き付け手段とと
もに 0°〜60°の角度で傾斜可能に設けたことを特徴
とする基板乾燥装置。 - 【請求項9】 請求項1に記載の基板乾燥装置におい
て、 前記水溶性アルコールのベーパを含んだガスは、前記被
乾燥物の表面にイジェクタを介して供給することを特徴
とする基板乾燥装置。 - 【請求項10】 請求項1に記載の基板乾燥装置におい
て、 前記供給手段は、水溶性アルコール内に乾燥ガスを供給
してバブリングすることにより前記水溶性アルコールの
ベーパを含んだガスを発生させて供給するように形成し
たことを特徴とする基板乾燥装置。 - 【請求項11】 請求項1に記載の基板乾燥装置におい
て、 前記供給手段は、水溶性アルコールをヒータにより加熱
して発生するミスト内に乾燥ガスを混合することにより
前記水溶性アルコールのベーパを含んだガスを発生させ
て供給するように形成したことを特徴とする基板乾燥装
置。 - 【請求項12】 請求項1に記載の基板乾燥装置におい
て、 前記供給手段は、水溶性アルコールを超音波霧化器によ
り霧化するとともに、この霧化したミスト内に乾燥ガス
を混合することにより前記水溶性アルコールのベーパを
含んだガスを発生させて供給するように形成したことを
特徴とする基板乾燥装置。 - 【請求項13】 請求項10または12に記載の基板乾
燥装置において、 前記乾燥ガスは、窒素ガスであることを特徴とする基板
乾燥装置。 - 【請求項14】 請求項2に記載の基板乾燥装置におい
て、 前記吹き付け手段と吸気ダクトとが移動する方向は、前
記搬送手段の搬送方向に対して逆方向に駆動するように
設けたことを特徴とする基板乾燥装置。 - 【請求項15】 請求項2に記載の基板乾燥装置におい
て、 前記吹き付け手段と吸気ダクトとは、前記被乾燥物の搬
送方向に対して直交する両側方向に更にスライドするよ
うに設けたことを特徴とする基板乾燥装置。 - 【請求項16】 請求項1に記載の基板乾燥装置におい
て、 前記被乾燥物は、半導体基板、液晶用ガラス基板などの
被処理基板であることを特徴とする基板乾燥装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03194399A JP3454469B2 (ja) | 1999-02-09 | 1999-02-09 | 基板乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03194399A JP3454469B2 (ja) | 1999-02-09 | 1999-02-09 | 基板乾燥装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000232087A JP2000232087A (ja) | 2000-08-22 |
JP3454469B2 true JP3454469B2 (ja) | 2003-10-06 |
Family
ID=12345059
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP03194399A Expired - Fee Related JP3454469B2 (ja) | 1999-02-09 | 1999-02-09 | 基板乾燥装置 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP3454469B2 (ja) |
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---|---|---|---|---|
US20040031167A1 (en) | 2002-06-13 | 2004-02-19 | Stein Nathan D. | Single wafer method and apparatus for drying semiconductor substrates using an inert gas air-knife |
JP4759760B2 (ja) * | 2005-07-22 | 2011-08-31 | 本多電子株式会社 | 微細霧化粒子洗浄装置 |
-
1999
- 1999-02-09 JP JP03194399A patent/JP3454469B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
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