JP3454469B2 - 基板乾燥装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板乾燥装置に係
り、より詳細には半導体製造工程において洗浄工程終了
後の半導体基板、液晶用ガラス基板などの被処理基板
（被乾燥物）に付着した液滴を乾燥させる基板乾燥装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体製造工程では、洗浄工程終
了後の半導体基板、液晶用ガラス基板などの被処理基板
に対して表面に付着した液滴を乾燥させるため、乾燥工
程が実施されている。この被処理基板の乾燥方法として
は、例えば、回転する基板に水溶性アルコールを吹き付
ける基板乾燥装置が開発されている。このような従来技
術としては、例えば、特開平６−３１０４８６号公報に
開示されている。図７は、このような回転する基板に水
溶性アルコールを吹き付ける従来の基板乾燥装置を示す
斜視図である。

【０００３】図７に示すように、従来の基板乾燥装置
は、回転軸４２を中心として放射状延在した４本のアー
ム４４と、このアーム４４の先端部に円板状の半導体基
板５０（以下、基板と称す）の外周縁を保持する段部４
６とを備えたスピンチャック４０を備えている。そし
て、スピンチャック４０は、基板５０を４本のアーム４
４上に同心的に位置決めして基板５０を保持する。ま
た、スピンチャック４０には、アーム４４が下部に延在
して接続される回転軸４２を備えており、この回転軸４
２に駆動モータ（図示せず）を連結している。従って、
スピンチャック４０は、回転軸４２に連結した駆動モー
タが駆動することにより回転して同時に基板５０を回転
させることができる。

【０００４】また、従来の基板乾燥装置は、スピンチャ
ック４０の上部に水溶性アルコールのベーパ（蒸気）を
含んだガスを吹き付けるノズル４８を配置している。こ
のノズル４８は、図示されていないが、水溶性のイソプ
ロピルアルコールベーパと窒素ガスとを混合させて供給
する供給装置に接続されている。

【０００５】従って、従来の基板乾燥装置は、基板５０
を回転させて遠心力を加えるとともに、水溶性アルコー
ルのベーパを含んだガスを吹き付けることによって基板
５０の表面に付着した液滴を吹き飛ばすことができる。
詳細には基板５０の表面に吹き付けられた水溶性アルコ
ールのベーパを含んだガスは、その一部が基板５０の表
面に付着した液滴に溶解して表面張力を低下させること
で基板５０の回転時における液滴の液切れを向上させ
る。このように、液滴に溶解した水溶性アルコールのベ
ーパを含んだガスは、液滴部分の蒸気を向上させて、ア
ルコール分とともに液滴を蒸発させる。

【０００６】しかしながら、このような従来の基板乾燥
装置では、回転により遠心力が大きく加わる基板５０の
周辺部が乾燥し、その後、ガスの吹き付けにより液が中
心部から周辺部に広がってしまう。このため、基板５０
の表面には、乾燥ムラ、及びウォータマークが発生する
原因となっていた。特に、この欠点は、大型基板で多く
発生し、矩形状の基板で顕著であった。

【０００７】このような不具合を解決するため、乾燥ガ
スを被乾燥物（大型または矩形状の基板）の表面に吹き
付けて付着した液滴を吹き飛ばす方法が知られている。
また、乾燥ガスを吹き付ける乾燥方法において、ミスト
の再付着を防止するため、吹き付けたガスを吸引する手
段を付加したものが開発されている。このように吹き付
けたガスを吸引する手段を備えた基板乾燥装置として、
本願出願人は特開平７−３５４７８号公報によりすでに
出願している。図８はこのような吹き付けたガスを吸引
する手段を備えた従来の基板乾燥装置の他の実施の形態
を示す平面図である。

【０００８】図８に示すように、吸引する手段を備えた
従来の基板乾燥装置の他の実施の形態は、被乾燥物７０
の上方に設置され、この被乾燥物７０の搬送方向に直交
する対向面を傾斜させて吹き付け手段として気体配管６
３に連通したエアーナイフ６２を備えている。このエア
ーナイフ６２には、反搬送方向に微小の間隔を備えて噴
射用スリット６２ａを設けるとともに、搬送方向の前後
に平行して２箇所配置して吸気する吸気ダクト６４を設
けている。また、吸気ダクト６４は、エアーナイフ６２
が配置された内側に各々吸気口６４ａを開口している。
そして、エアーナイフ６２及び吸気ダクト６４は、両側
を各々取付金具６９により固定されている。

【０００９】従って、従来の基板乾燥装置の他の実施の
形態は、エアーナイフ６２から噴射した噴射気体で被乾
燥物７０上の液滴６５を吹き飛ばして急速乾燥させる。
この際、被乾燥物７０の表面で発生したミストを反搬送
側の吸気ダクト６４が吸引し、更に、エアーナイフ６２
の搬送側の吸気ダクト６４が吸引してミスト再付着を防
止する。そして、吸気ダクト６４には、排風機６８が接
続されており、吸気ダクト６４で吸引してミストを所定
の外部に排出する。

【００１０】従って、従来の基板乾燥装置の他の実施の
形態によれば、噴射気体で液滴を飛ばして急速乾燥でき
る。また、この際、発生するミストは、吸気ダクトによ
り吸気することで、ミストの再付着を防止し、ウォータ
マークの発生を防止できる。また、エアーナイフを通過
した後にも吸気ダクトにより吸気を行うため、乾燥を確
実に行うことができる。

【００１１】このように、従来の基板乾燥装置は、回転
する基板に水溶性アルコールを吹き付ける方法、または
乾燥ガスを吹き付けて基板表面に付着した液滴を吹き飛
ばす方法のいずれかにより被乾燥物の乾燥を実行してい
た。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
基板乾燥装置では、図７に示した回転する基板に水溶性
アルコールを含んだガスを吹き付ける装置の場合、前述
したように液滴が遠心力により周辺部に広がるため、特
に、大型基板、矩形状基板などの基板で乾燥ムラ及びウ
ォータマークが発生してしまう不具合があった。

【００１３】また、従来の基板乾燥装置では、図８に示
した乾燥ガスを吹き付けて被乾燥物の表面に付着した液
滴を吹き飛ばす装置の場合、被乾燥物上の液滴を効果的
に除去するためには被乾燥物の搬送スピードを２．５ｍ
／ｍｉｎ程度以下、吹き付けスピードを約２００ｍ／ｓ
程度以上に設定する必要があり、スループット（処理時
間）が遅く、ガス使用量が多いという不具合があった。

【００１４】本発明はこのような課題を解決し、ガスの
使用量を低減してスループットを向上させるとともに被
乾燥物を効率良く効果的に乾燥できる基板乾燥装置を提
供することを目的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに、本発明による基板乾燥装置の実施の形態は、被乾
燥物を載置して所定の方向に搬送する搬送手段と、被乾
燥物の表面に近接して前後左右方向に動作するとともに
水溶性アルコールのベーパを含んだガスを吹き付ける吹
き付け手段と、この吹き付け手段に水溶性アルコールの
ベーパを含んだガスを供給する供給手段とを備え、被乾
燥物が搬送手段により搬送されて移動している状態また
は搬送して停止した状態のいずれか一方の状態で吹き付
け手段を前後左右方向に移動して被乾燥物の表面に水溶
性アルコールのベーパを含んだガスを吹き付けることに
より被乾燥物の表面に付着した液滴を効果的に乾燥させ
るとともに、搬送手段の上部に吹き付け手段を平行に配
置してこの平行面を０°〜６０°の角度で傾斜可能に設
けて底部における配置スペースを縮小する。

【００１６】ここで、被乾燥物の上部には、吹き付け手
段とともに移動して被乾燥物の表面に吹き付けたガスを
吸気する吸気ダクトを少なくとも１箇所以上設けること
が好ましい。また、吸気ダクトは、吹き付け手段の前後
両側に平行して２箇所配置することが好ましい。また、
吹き付け手段と吸気ダクトとは、搬送手段の上部に平行
に配置されて搬送方向と直交する対向面を所定の角度に
傾斜させて設置することが好ましい。また、吹き付け手
段は、水溶性アルコールのベーパを含んだガスを吹き付
けるエアーナイフであることが好ましい。

【００１７】また、搬送手段の上部には、被乾燥物を吹
き付け手段により乾燥処理を行う前に液切りを実行する
液切り用吹き付け手段を更に配置することが好ましい。
また、吸気ダクトは、搬送手段及び吹き付け手段ととも
に０°〜６０°の角度で傾斜可能に設けることが好まし
い。また、水溶性アルコールのベーパを含んだガスは、
被乾燥物の表面にイジェクタを介して供給することが好
ましい。

【００１８】また、供給手段は、水溶性アルコール内に
乾燥ガスを供給してバブリングすることにより水溶性ア
ルコールのベーパを含んだガスを発生させて供給するよ
うに形成することが好ましい。また供給手段の他の実施
の形態として、水溶性アルコールをヒータにより加熱し
て発生するミスト内に乾燥ガスを混合することにより水
溶性アルコールのベーパを含んだガスを発生させて供給
するように形成することが好ましい。また、供給手段の
更なる他の実施の形態として、水溶性アルコールを超音
波霧化器により霧化するとともに、この霧化したミスト
内に乾燥ガスを混合することにより水溶性アルコールの
ベーパを含んだガスを発生させて供給するように形成す
ることが好ましい。ここで、乾燥ガスは、窒素ガスであ
ることが好ましい。

【００１９】また、吹き付け手段と吸気ダクトとが移動
する方向は、搬送手段の搬送方向に対して逆方向に駆動
するように設けることが好ましい。また、吹き付け手段
と吸気ダクトとは、被乾燥物の搬送方向に対して直交す
る両側方向に更にスライドするように設けることが好ま
しい。また、被乾燥物は、半導体基板、液晶用ガラス基
板などの被処理基板であることが好ましい。

【００２０】

【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
による基板乾燥装置の実施の形態を詳細に説明する。図
１は、本発明による基板乾燥装置の第１の実施の形態を
示す平面図である。また、図２は、図１に示したＡ−Ａ
線の断面を示す断面図である。

【００２１】図１に示すように、本発明による基板乾燥
装置の第１の実施の形態は、被洗浄物１を搬送する搬送
手段（図示せず）と、この搬送手段により搬送された被
洗浄物１の表面に水溶性アルコールのベーパを含んだガ
スを吹き付けるエアーナイフ２と、このエアーナイフ２
と平行して搬送方向の前後２箇所に配置されて吸気する
吸気ダクト４と、エアーナイフ２に水溶性アルコールの
ベーパを含んだガスを供給する供給手段１０とを備えて
いる。

【００２２】ここで、エアーナイフ２は、被洗浄物１の
上方に配置され、この被洗浄物１の搬送方向と直交する
対向面を所定の角度に傾斜させて配置している。ここ
で、この角度は、好ましくは３５°〜４５°に傾斜させ
ることが望ましい。また、エアーナイフ２には、反搬送
方向に微小の間隔を備えて形成した噴射用スリット２ａ
を設けている。そして、エアーナイフ２は、両側に各々
取付金具９を設けて吸気ダクト４の間に固定されてい
る。

【００２３】また、吸気ダクト４は、エアーナイフ２と
平行して搬送方向の前後に２箇所配置され、エアーナイ
フ２から噴出させた水溶性アルコールのベーパを含んだ
ガスを吸気するように設置されている。この吸気ダクト
４は、エアーナイフ２の両側で各々内側に吸気口４ａを
開口している。また、吸気ダクト４には、パイプ状の管
路８ａを介して排風機８が接続されている。

【００２４】また、エアーナイフ２には、水溶性アルコ
ールのベーパを含んだガスを供給する供給手段１０が管
路１０ｃを介して接続されている。この供給手段１０
は、水溶性のイソプロピルアルコール（以下、ＩＰＡと
称す）を貯留する貯留槽１０ａと、この貯留槽１０ａか
ら延在してエアーナイフ２の両側に接続する管路１０ｃ
と、貯留槽１０ａに窒素ガスを供給する管路１０ｂとを
備えている。従って、貯留槽１０ａ内では、貯留したＩ
ＰＡ３内に管路１０ｂにより窒素ガスが供給されて混合
（飽和）し、水溶性アルコールのベーパを含んだガスが
発生する。そして、このガスは、管路１０ｃによりエア
ーナイフ２に供給され、被洗浄物１の表面に吹き付けら
れる。

【００２５】ここで、本発明による基板乾燥装置は、図
２に示すように、エアーナイフ２、吸気ダクト４、及び
搬送手段（図示せず）を所定の角度θで傾斜させて図２
に示した一点鎖線のように傾けることができる。この基
板乾燥装置は、傾斜する角度θを０°〜６０°の範囲内
で傾けることができる。このように、エアーナイフ２、
吸気ダクト４、及び搬送手段を所定の角度θに傾斜させ
ることで、基板乾燥装置の底部における設置スペースを
図２に示した幅Ｂから幅Ｂ′（Ｂに対してほぼ１／２の
幅）に縮小することができる。

【００２６】このように形成された本発明による基板乾
燥装置の第１の実施の形態により乾燥工程を実行する場
合、まず、被乾燥物１を搬送手段に載置する。そして、
供給手段１０には、管路１０ｂを介して窒素ガスを供給
する。これにより、貯留槽１０内では、貯留したＩＰＡ
３と窒素ガスとが混合され、水溶性アルコールのベーパ
を含んだガスが発生する。そして、このガスは、管路１
０ｃによりエアーナイフ２に供給され、搬送手段により
搬送されている被洗浄物１の表面に向かって吹き付けら
れる。これにより、被乾燥物１は、エアーナイフ２から
噴射した噴射ガスにより液滴を吹き飛ばして急速乾燥す
る。

【００２７】また、被乾燥物１の表面では、エアーナイ
フ２により液滴５を吹き飛ばした際にミストが発生す
る。このミストは、エアーナイフ２と平行して搬送方向
の前後に配置した２つの吸気ダクト４により吸引され、
被乾燥物１の表面に再付着することを防止している。ま
た、図２に示したように、エアーナイフ２、吸気ダクト
４、及び搬送手段を所定の角度θで傾斜させることによ
り、被乾燥物１の表面に付着した液滴が傾斜に沿って流
れて除去しやすくなる。

【００２８】このように第１の実施の形態によると、搬
送される被乾燥物１の表面に水溶性アルコールのベーパ
を含んだガスをエアーナイフ２により噴射するため、こ
のガスが被乾燥物１上の液滴を吹き飛ばして急速乾燥で
きる。また、第１の実施の形態によると、図２に示した
ように、装置全体を所定の角度に傾斜させることができ
るため、図８に示した従来技術の装置に比べて配置スペ
ースを縮小することができるとともに、効果的な乾燥を
実行することができる。

【００２９】次に、図３乃至図５を参照して本発明によ
る基板乾燥装置の第２の実施の形態を詳細に説明する。
図３は、本発明による基板乾燥装置の第２の実施の形態
を示す平面図である。また、図４は、図１に示した基板
乾燥装置の動作を示す平面図である。また、図５は、図
１に示した基板乾燥装置の更なる他の動作を示す平面図
である。

【００３０】図３に示すように、本発明による基板乾燥
装置の第２の実施の形態は、第１の実施の形態と同様
に、被洗浄物１を搬送する搬送手段（図示せず）と、こ
の搬送手段により搬送される被洗浄物１の表面に水溶性
アルコールのベーパを含んだガスを吹き付けるエアーナ
イフ２と、このエアーナイフ２と平行して搬送方向の前
後２箇所に配置されて吸気する吸気ダクト４と、エアー
ナイフ２に水溶性アルコールのベーパを含んだガスを供
給する供給手段２０とを備えている。

【００３１】ここで、エアーナイフ２は、被洗浄物１の
上方に配置され、この被洗浄物１の搬送方向と直交する
対向面を所定の角度に傾斜させて配置している。ここ
で、この角度は、好ましくは３５°〜４５°に傾斜させ
ることが望ましい。また、エアーナイフ２には、反搬送
方向に微小の間隔を備えて形成した噴射用スリット２ａ
を設けている。また、エアーナイフ２は、第１の実施の
形態と異なり、図３に示した前後左右方向に移動可能に
設けてある。従って、エアーナイフ２は、水溶性アルコ
ールのベーパを含んだガスを被洗浄物１の表面に吹き付
ける際、前後左右方向に移動して吹き付けるため、処理
時間を短縮することができる。

【００３２】また、吸気ダクト４は、エアーナイフ２と
平行して搬送方向の前後に２箇所配置され、エアーナイ
フ２から噴出する水溶性アルコールのベーパを含んだガ
スにより発生したミストを吸気するように設置されてい
る。この吸気ダクト４は、エアーナイフ２の両側で各々
内側に吸気口４ａを開口している。また、吸気ダクト４
には、パイプ状の管路８ａを介して排風機８が接続され
ている。この吸気ダクト４は、第１の実施の形態と異な
り、エアーナイフ２の動作に合わせて同時に駆動するよ
うに形成されている。

【００３３】また、エアーナイフ２には、水溶性アルコ
ールのベーパを含んだガスを供給する供給手段２０が管
路２０ｅを介して接続されている。この供給手段２０
は、第１の実施の形態と異なり、ＩＰＡ３を貯留する貯
留槽２０ａと、この貯留槽２０ａから延在してエアーナ
イフ２の両側に接続する管路２０ｅと、この管路２０ｅ
の途中に装着するイジェクタ２２と、このイジェクタ２
２に窒素ガスを供給する管路２０ｄと、貯留槽２０ａに
窒素ガスを供給する管路２０ｃと、貯留槽２０ａの底部
に配置して加熱するヒータ２０ｂとを備えている。

【００３４】従って、貯留槽２０ａ内には、貯留したＩ
ＰＡ３をヒータ２０ｂにより加熱して発生する蒸気に管
路２０ｃを介して窒素ガスを供給する。これにより貯留
槽２０ａ内では、ＩＰＡ３の蒸気と窒素ガスとが混合
（飽和）して水溶性アルコールのベーパを含んだガスが
発生する。そして、このガスは、管路２０ｅによりエア
ーナイフ２に供給され、被洗浄物１の表面に吹き付けら
れる。この際、管路２０ｅには、イジェクタ２２を装着
するとともに、このイジェクタ２２に管路２０ｄを接続
している。従って、水溶性アルコールのベーパを含んだ
ガスは、管路２０ｄに窒素ガスを所定の速度で供給する
ことで、イジェクタ２２内で負圧（真空）が発生してエ
アーナイフ２に供給される。

【００３５】ここで、第２の実施の形態は、図２に示し
た第１の実施の形態と同様に、エアーナイフ２、吸気ダ
クト４、及び搬送手段（図示せず）を所定の角度で傾斜
させることができる。従って、第２の実施の形態は、第
１の実施の形態と同様に装置の設置スペースを縮小する
ことができる。

【００３６】このように形成された本発明による基板乾
燥装置の第２の実施の形態により乾燥工程を実行する場
合、２つの乾燥方法がある。まず、第１の方法は、被乾
燥物１を搬送手段の上部に載置して、この搬送手段が載
置した被乾燥物１を所定の位置まで搬送して停止する。
そして、前述したように供給手段２０内でＩＰＡ３と窒
素ガスとを混合させて水溶性アルコールのベーパを含ん
だガスを発生させる。このガスは、イジェクタ２２を介
してエアーナイフ２に供給され、被乾燥物１の表面に噴
出する。この際、エアーナイフ２と吸気ダクト４とは、
図４に示すように、所定の位置から被洗浄物１の搬送方
向とは逆方向（図３に示した後方向）に移動して所定の
範囲にガスを吹き付ける。そして、エアーナイフ２と吸
気ダクト４とは、所定の範囲移動して吹き付けを完了す
ると元の位置に戻って待機する。これと同時に搬送手段
は、再び被洗浄物１を搬送してエアーナイフ２により吹
き付けられていない表面の位置まで搬送して停止する。
以後、前述した動作を繰り返すことにより被乾燥物１
は、エアーナイフ２から噴射した噴射ガスにより液滴を
吹き飛ばして急速乾燥する。また、被乾燥物１の表面で
は、エアーナイフ２により液滴５を吹き飛ばした際にミ
ストが発生する。このミストは、エアーナイフ２と平行
して配置した２つの吸気ダクト４により吸引され、被乾
燥物１の表面に再付着することを防止している。また、
図２に示した従来技術と同様に、エアーナイフ２、吸気
ダクト４、及び搬送手段を所定の角度で傾斜させること
により、被乾燥物１の表面に付着した液滴が傾斜に沿っ
て流れて除去しやすくなる。

【００３７】一方、第２の方法は、まず、第１の方法と
同様に、供給手段２０内で水溶性アルコールのベーパを
含んだガスを発生させてエアーナイフ２に供給する。そ
して、被乾燥物１を搬送手段の上部に載置して図５に示
す矢印方向（図３に示した前方向）に搬送する。このよ
うに搬送される被乾燥物１の表面には、エアーナイフ２
から噴出されるガスが吹き付けられる。この際、エアー
ナイフ２と吸気ダクト４とは、図５に示す矢印方向（図
３に示した左右方向）に往復動作を行いながらガスの吹
き付けを実行する。これにより被乾燥物１は、エアーナ
イフ２から噴射した噴射ガスにより液滴を吹き飛ばして
急速乾燥する。また、被乾燥物１の表面では、エアーナ
イフ２により液滴５を吹き飛ばした際にミストが発生す
る。このミストは、エアーナイフ２と平行して配置した
２つの吸気ダクト４により吸引され、被乾燥物１の表面
に再付着することを防止している。また、図２に示した
従来技術と同様に、エアーナイフ２、吸気ダクト４、及
び搬送手段を所定の角度で傾斜させることにより、被乾
燥物１の表面に付着した液滴が傾斜に沿って流れて除去
しやすくなる。

【００３８】このように第２の実施の形態によると、水
溶性アルコールのベーパを含んだガスを被乾燥物の表面
に噴射可能にして装置全体を所定の角度に傾斜できるよ
うに形成しているため、第１の実施の形態と同様の効果
を得ることができる。

【００３９】また、第２の実施の形態によると、エアー
ナイフ及び吸気ダクトを前後左右方向に移動可能にして
乾燥工程を実行できるように形成しているため、被洗浄
物の乾燥工程を短縮することができる。

【００４０】次に、図６を参照して、本発明による基板
乾燥装置の第３の実施の形態を詳細に説明する。図６
は、本発明による基板乾燥装置の第３の実施の形態を示
す平面図である。ここで、第３の実施の形態における供
給手段３０及び液切り用エアーナイフ６以外の構成要素
は第２の実施の形態と同一構成要素であり、この同じ構
成要素には同一符号を記載するとともに、重複する説明
は省略する。

【００４１】図６に示すように、本発明による基板乾燥
装置の第３の実施の形態は、第２の実施の形態と同様
に、被洗浄物１を搬送する搬送手段（図示せず）と、こ
の搬送手段により搬送される被洗浄物１の表面に水溶性
アルコールのベーパを含んだガスを吹き付けるエアーナ
イフ２と、このエアーナイフ２と平行して搬送方向の前
後２箇所に配置されて吸気する吸気ダクト４とを備えて
いる。

【００４２】また、第３の実施の形態は、第２の実施の
形態と異なり、被洗浄物１をエアーナイフ２により水溶
性アルコールのベーパを含んだガスを吹き付ける前に液
切りを行う液切り用エアーナイフ６を備えている。この
液切り用エアーナイフ６は、エアーナイフ２の反進行方
向前方に設置され、予め液切りを行うことで短いスルー
プット（処理時間）で被洗浄物１の乾燥を行えるように
設けてある。

【００４３】また、第３の実施の形態は、第２の実施の
形態と異なり、超音波霧化器３０ｂにより貯留したＩＰ
Ａ３を霧化させて窒素ガスと混合させることにより水溶
性アルコールのベーパを発生させる供給手段３０を備え
ている。この供給手段３０は、ＩＰＡ３を貯留する貯留
槽３０ａと、この貯留槽３０ａにＩＰＡ３を供給するＩ
ＰＡ供給部３０ｇと、貯留槽３０ａから延在してエアー
ナイフ２の両側に接続する管路３０ｅと、この管路３０
ｅの途中に装着するイジェクタ３２と、このイジェクタ
３２に窒素ガスを供給する管路３０ｄと、貯留槽３０ａ
に窒素ガスを供給する管路３０ｃと、貯留槽３０ａの底
部に配置して超音波により貯留槽３０ａに貯留したＩＰ
Ａ３を霧化する超音波霧化器３０ｂとを備えている。

【００４４】従って、貯留槽３０ａ内には、貯留したＩ
ＰＡ３を超音波霧化器３０ｂにより霧化し、そこに管路
３０ｃを介して窒素ガスを供給する。これにより貯留槽
３０ａ内では、ＩＰＡ３のミスト（蒸気）と窒素ガスと
が混合（飽和）して水溶性アルコールのベーパを含んだ
ガスが発生する。そして、このガスは、管路３０ｅによ
りエアーナイフ２に供給され、被洗浄物１の表面に吹き
付けられる。この際、管路３０ｅには、イジェクタ３２
を装着するとともに、このイジェクタ３２に管路３０ｄ
を接続している。従って、水溶性アルコールのベーパを
含んだガスは、管路３０ｄに窒素ガスを所定の速度で供
給することで、イジェクタ３２内で負圧（真空）が発生
してエアーナイフ２に供給される。

【００４５】そして、このように形成された本発明によ
る基板乾燥装置の第３の実施の形態により乾燥工程を実
行する場合、前述したように供給手段３０内でＩＰＡ３
と窒素ガスとを混合させて水溶性アルコールのベーパを
含んだガスを発生させる。このガスは、イジェクタ３２
を介してエアーナイフ２に供給され、被乾燥物１の表面
に噴出する。この際、エアーナイフ２及び吸気ダクト４
は、図４及び図５に示した第２の実施の形態と同様に、
２つの方法により前後左右方向に移動可能にして乾燥工
程を実行する。ここで、被乾燥物１は、エアーナイフ２
により表面を吹き付ける前に、液切り用エアーナイフ６
により液切りが実行される。従って、被乾燥物１は、エ
アーナイフ２の位置まで搬送される前に液切り用エアー
ナイフ６により図６に示した液滴７を液滴５のように最
小化することができる。

【００４６】このように第３の実施の形態によると、第
２の実施の形態と同様にエアーナイフと吸気ダクトとが
移動可能に設けているため、第２の実施の形態と同様の
効果を得ることができる。

【００４７】また、第３の実施の形態によると、エアー
ナイフの前に液切り用エアーナイフを更に設けており被
乾燥物の液切れが向上するため、第２の実施の形態と比
べて処理時間をより短縮でき、効果的な乾燥工程を実行
することができる。

【００４８】以上、本発明による基板乾燥装置の実施の
形態を詳細に説明したが、本発明は前述の実施の形態に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
変更可能である。例えば、エアーナイフの両側に吸気ダ
クトを設けた実施の形態を詳細に説明したが、これに限
定されるものではなく、エアーナイフのみを設置して乾
燥を行ってもよい。また、前後左右に動作するエアーナ
イフの実施の形態を詳細に説明したが、これに限定され
るものではなく、例えば、斜め方向に移動して被乾燥物
の表面にガスを吹き付けてもよい。

【００４９】

【発明の効果】このように本発明による基板乾燥装置に
よれば、水溶性アルコールのベーパを含んだガスを被乾
燥物の表面に吹き付けて乾燥させるため、液切れが向上
して従来技術の搬送スピードを速く（３０％程度速く）
搬送できるとともに、吹き付けガスの使用量を低減（３
０％程度低減）することができる。

【００５０】また、本発明による基板乾燥装置によれ
ば、装置全体を所定の角度に傾斜することができるた
め、被乾燥物を鉛直近くにまで傾けることができ、乾燥
効果を向上させるのみでなく、フットプリント（設置ス
ペースの縮小化）の向上を実現することが可能になる。

【００５１】さらに、本発明による基板乾燥装置によれ
ば、乾燥効率が向上することにより、搬送スピードの高
速化によるスループット（処理時間）の向上、及び吹き
付けガスの流量低減によるランニングコストの低減が可
能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による基板乾燥装置の第１の実施の形態
を示す平面図。

【図２】図１に示したＡ−Ａ線の断面を示す断面図。

【図３】本発明による基板乾燥装置の第２の実施の形態
を示す平面図。

【図４】図１に示した基板乾燥装置の動作を示す平面
図。

【図５】図１に示した基板乾燥装置の更なる他の動作を
示す平面図。

【図６】本発明による基板乾燥装置の第３の実施の形態
を示す平面図。

【図７】従来の基板乾燥装置を示す斜視図。

【図８】従来の基板乾燥装置の他の実施の形態を示す平
面図。

【符号の説明】

１ 被乾燥物 ５ 液滴 ４ 吸気ダクト ４ａ 吸気口 ２ エアーナイフ ２ａ 噴出用スリット ９ 取付金具 ８ 排風機 ８ａ 管路 ３ ＩＰＡ １０ 供給手段 １０ａ 貯留槽 １０ｂ、１０ｃ 管路

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平７−35478（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−180205（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−189529（ＪＰ，Ａ) 実開 平２−137039（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/304 F26B 21/00

Claims (16)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被乾燥物を載置して所定の方向に搬送す
   る搬送手段と、 前記被乾燥物の表面に近接して前後左右方向に動作する
   とともに水溶性アルコールのベーパを含んだガスを吹き
   付ける吹き付け手段と、 前記吹き付け手段に前記水溶性アルコールのベーパを含
   んだガスを供給する供給手段とを備え、 前記被乾燥物が前記搬送手段により搬送されて移動して
   いる状態または搬送して停止した状態のいずれか一方の
   状態で前記吹き付け手段を前後左右方向に移動して前記
   被乾燥物の表面に前記水溶性アルコールのベーパを含ん
   だガスを吹き付けることにより前記被乾燥物の表面に付
   着した液滴を効果的に乾燥させるとともに、 前記搬送手段の上部に前記吹き付け手段を平行に配置し
   てこの平行面を０°〜６０°の角度で傾斜可能に設けて
   底部における配置スペースを縮小した ことを特徴とする
   基板乾燥装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板乾燥装置におい
   て、 前記被乾燥物の上部には、前記吹き付け手段とともに移
   動して前記被乾燥物の表面に吹き付けた前記ガスを吸気
   する吸気ダクトを少なくとも１箇所以上設けたことを特
   徴とする基板乾燥装置。
3. 【請求項３】 請求項２に記載の基板乾燥装置におい
   て、 前記吸気ダクトは、前記吹き付け手段の前後両側に平行
   して２箇所配置していることを特徴とする基板乾燥装
   置。
4. 【請求項４】 請求項１に記載の基板乾燥装置におい
   て、 前記吹き付け手段は、前記搬送手段の上部に平行に配置
   されて搬送方向と直交する対向面を所定の角度に傾斜さ
   せて設置していることを特徴とする基板乾燥装置。
5. 【請求項５】 請求項２に記載の基板乾燥装置におい
   て、 前記吹き付け手段と吸気ダクトとは、前記搬送手段の上
   部に平行に配置されて搬送方向と直交する対向面を所定
   の角度に傾斜させて設置していることを特徴とする基板
   乾燥装置。
6. 【請求項６】 請求項２に記載の基板乾燥装置におい
   て、 前記吹き付け手段は、前記水溶性アルコールのベーパを
   含んだガスを吹き付けるエアーナイフであることを特徴
   とする基板乾燥装置。
7. 【請求項７】 請求項２に記載の基板乾燥装置におい
   て、 前記搬送手段の上部には、前記被乾燥物を前記吹き付け
   手段により乾燥処理を行う前に液切りを実行する液切り
   用吹き付け手段を更に配置したことを特徴とする基板乾
   燥装置。
8. 【請求項８】 請求項２乃至５のいずれかに記載の基板
   乾燥装置において、前記吸気ダクトは、前記搬送手段及び吹き付け手段とと
   もに ０°〜６０°の角度で傾斜可能に設けたことを特徴
   とする基板乾燥装置。
9. 【請求項９】 請求項１に記載の基板乾燥装置におい
   て、 前記水溶性アルコールのベーパを含んだガスは、前記被
   乾燥物の表面にイジェクタを介して供給することを特徴
   とする基板乾燥装置。
10. 【請求項１０】 請求項１に記載の基板乾燥装置におい
    て、 前記供給手段は、水溶性アルコール内に乾燥ガスを供給
    してバブリングすることにより前記水溶性アルコールの
    ベーパを含んだガスを発生させて供給するように形成し
    たことを特徴とする基板乾燥装置。
11. 【請求項１１】 請求項１に記載の基板乾燥装置におい
    て、 前記供給手段は、水溶性アルコールをヒータにより加熱
    して発生するミスト内に乾燥ガスを混合することにより
    前記水溶性アルコールのベーパを含んだガスを発生させ
    て供給するように形成したことを特徴とする基板乾燥装
    置。
12. 【請求項１２】 請求項１に記載の基板乾燥装置におい
    て、 前記供給手段は、水溶性アルコールを超音波霧化器によ
    り霧化するとともに、この霧化したミスト内に乾燥ガス
    を混合することにより前記水溶性アルコールのベーパを
    含んだガスを発生させて供給するように形成したことを
    特徴とする基板乾燥装置。
13. 【請求項１３】 請求項１０または１２に記載の基板乾
    燥装置において、 前記乾燥ガスは、窒素ガスであることを特徴とする基板
    乾燥装置。
14. 【請求項１４】 請求項２に記載の基板乾燥装置におい
    て、 前記吹き付け手段と吸気ダクトとが移動する方向は、前
    記搬送手段の搬送方向に対して逆方向に駆動するように
    設けたことを特徴とする基板乾燥装置。
15. 【請求項１５】 請求項２に記載の基板乾燥装置におい
    て、 前記吹き付け手段と吸気ダクトとは、前記被乾燥物の搬
    送方向に対して直交する両側方向に更にスライドするよ
    うに設けたことを特徴とする基板乾燥装置。
16. 【請求項１６】 請求項１に記載の基板乾燥装置におい
    て、 前記被乾燥物は、半導体基板、液晶用ガラス基板などの
    被処理基板であることを特徴とする基板乾燥装置。