JP4759760B2 - 微細霧化粒子洗浄装置 - Google Patents

微細霧化粒子洗浄装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4759760B2
JP4759760B2 JP2005212039A JP2005212039A JP4759760B2 JP 4759760 B2 JP4759760 B2 JP 4759760B2 JP 2005212039 A JP2005212039 A JP 2005212039A JP 2005212039 A JP2005212039 A JP 2005212039A JP 4759760 B2 JP4759760 B2 JP 4759760B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
atomized
atomized particles
fine
atomizing
carrier gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005212039A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007035662A (ja
Inventor
年昭 宮本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Honda Electronics Co Ltd
Original Assignee
Honda Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Honda Electronics Co Ltd filed Critical Honda Electronics Co Ltd
Priority to JP2005212039A priority Critical patent/JP4759760B2/ja
Publication of JP2007035662A publication Critical patent/JP2007035662A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4759760B2 publication Critical patent/JP4759760B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Special Spraying Apparatus (AREA)
  • Nozzles (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Description

本発明は、半導体ウエハ、液晶硝子基板等の被洗浄物を洗浄するようにした微細霧化粒子洗浄装置に関するものである。
従来の超音波洗浄装置としては、図３に示すように、ノズル１に装着した洗浄液供給管２からノズル１の内部に洗浄液を供給し、超音波発振器からリード線３を介してノズル１内の超音波振動子に発振出力を供給することにより、回転する半導体ウエハのような被洗浄物５の上にノズル１から洗浄液４が供給されるとともに、この洗浄液４に超音波振動子からの超音波を乗せて被洗浄物５に照射して洗浄するようにした洗浄装置が提案されている。
しかしながら、最近の半導体製造技術では、０．１５μｍ以細レベルの超微細パターンによって半導体ウエハを形成しているが、このような微細パターンにおいて、その障害となる超微粒子の許容形状は０．０３μｍのオーダであり、このような障害となる超微粒子を除去するには、図３に示すような超音波洗浄装置では、対応することができないという問題があり、又、流水が半導体の表面に吹き付けられるために、被洗浄体である半導体の表面を乾燥しなければならないという問題があった。
特願２０００−３６９４９０
解決しようとする問題点は、従来の超音波洗浄装置では、微細粒子を除去することができないという点であり、又、洗浄した後の乾燥に問題があるという点である。
本発明では、液体供給装置から霧化液体が供給され、該供給された霧化液体を霧化する超音波振動子が底部に装着され、該超音波振動子の上部に装着され、前記霧化液体の近傍に掛けて内部に傾斜して仕切板を設け、超音波振動子で霧化された霧化粒子に、前記超音波振動子の上部に装着された吹き出し口から、搬送ガス供給装置からの搬送ガスを前記仕切板に吹き付けて大径の霧化粒子が除去される霧化部と、該霧化部から搬送管を通って搬送された微小霧化粒子から大径の霧化粒子を除去するフィルタを備えたデミスタ部と、該デミスタ部から搬送ガスとともに搬送された微小霧化粒子を吹き出すノズル部とを備え、該ノズル部から吹き出された微小霧化粒子を被洗浄体に吹き付けて洗浄することを特徴とするものであり、又、前記デミスタ部から搬送ガスとともに搬送された霧化粒子を冷却装置で冷却して、さらに大径の霧化粒子を除去し、前記ノズル部から前記被洗浄体に吹き付けて洗浄するものであり、さらに、前記搬送ガス供給装置から搬送されるガスは窒素ガス、アルゴン、炭酸ガス又はドライエアーであり、又、前記霧化液体は機能水又は電解イオン水である。
本発明の微細粒子洗浄装置では、超音波振動子によって霧化液体が霧化された霧化粒子をデミスタ部のフィルタを通すことによって、大径の霧化粒子を除去し、微細な霧化粒子のみをノズル部から被洗浄体に吹き付けることによって、被洗浄体の表面に付着している障害となる微細粒子を除去することにより、被洗浄物を洗浄することができるという利点がある。
図１は本発明の実施例の微細霧化粒子洗浄装置の構成図で、霧化部６は霧化液体供給装置７から霧化液体８が供給され、霧化液体８の中に超音波振動子９が装着されて、超音波振動子９に発振器１０から発振出力が供給されることにより霧化液体８が霧化されて霧化粒子１１が発生し、又、霧化部６の上部に搬送ガス供給装置１２が接続され、霧化部６内に超音波振動子の上部に装着され、前記霧化液体の近傍に掛けて内部に傾斜して仕切板６ａが形成され、搬送ガス供給装置１２から供給された搬送ガスによって、超音波振動子９で発生した霧化粒子１１は仕切板６ａで大径の霧化粒子が除去され、微小霧化粒子が霧化部６から搬送管１３を通ってデミスタ部１４に搬送される。霧化された液には当然粒子の大小のものが混在している。そこで、搬送ガスを斜めに設置した仕切り板６ａに吹き付けると、ガスは仕切り板６ａに当たって反射して霧化粒子を下に抑え込むように流れる。この時、大粒の液粒子は液面に衝突して液化してしまうが、微細粒子は搬送ガスに乗って霧化槽から搬送管を通ってデミスタ部１４へ送られる。
デミスタ部１４にフィルタ１５が装着され、搬送ガスとともに搬送された微小霧化粒子の中でさらに大径の霧化粒子は除去され、フィルタ１５を通過した搬送ガスで搬送される微細霧化粒子は搬送管１６からノズル部１７に搬送され、ノズル部１７から被洗浄体１８に吹き付けられて、被洗浄体１８の微細パターン及びその間に付着している微細粒子が微細霧化粒子によって除去される。
このように構成された本実施例の微細粒子洗浄装置では、霧化部６で超音波振動子９により発生した微小霧化粒子は搬送ガスとともに搬送管１３を通ってデミスタ部１４に搬送され、デミスタ部１４で微細粒子のみが通過されるフィルタ１５で大径の霧化粒子及び微小霧化粒子が除去され、微小霧化粒子のみが搬送管１４を通ってノズル部１７から被洗浄体１８に吹き付けられることにより、被洗浄体１８の微細パターン及びその間に付着している微細粒子がノズル部１７から吹き付けられる微細霧化粒子によって被洗浄体１８の微細パターン及びその間に付着している微細粒子が除去される。
図２は本発明の他の実施例の微細霧化粒子洗浄装置の構成図で、６は霧化部、６ａは仕切板、７は霧化液体供給装置、８は霧化液体、９は超音波振動子、１０は発振器、１１は霧化粒子、１２は搬送ガス供給装置、１３は搬送管、１４はデミスタ部、１５はフィルタ、１６は搬送管、１７はノズル部、１８は被洗浄体であり、これらの構成は上記実施例と同じであるので、説明は省略するが、本実施例では、デミスタ部１４に接続された搬送管１３は冷却装置１９を装着した冷却部２０に接続され、冷却部２０に接続された搬送管２１にノズル部１７が接続されている。
このように構成された本実施例の微細霧化粒子洗浄装置では、デミスタ部１４のフィルタ１５で微小霧化粒子となって搬送ガスとともに搬送された霧化粒子は冷却部２０で冷却されて、さらに微小霧化粒子が除去され、微細霧化粒子のみが搬送ガスとともに搬送管２１からノズル部１７に搬送され、ノズル部１７から被洗浄体１８に吹き付けられ、被洗浄体１８の微細パターン及びその間に付着している微細粒子が除去される。
本実施例は、このように構成することにより、ノズル部１７から被洗浄体１８に吹き付けられる霧化粒子乾燥され、それによってさらに微細な霧化粒子を作ることにより、被洗浄体１８の微細パターン及びその間に付着しているさらに微細な粒子が除去される。
なお、上記実施例では、霧化部６に仕切板６ａを入れて大径の霧化粒子を除去するようにしたが、霧化部６で霧化した霧化粒子をそのまま搬送ガスとともに搬送してもよいし、他の構成で大径の霧化粒子を除去してもよいし、霧化部６は霧化粒子を発生すればよく、又、搬送ガス供給装置１２から供給されるガスとしては窒素ガス、アルゴン、炭酸ガス又はドライエアーが有効であり、又、霧化液体としては、機能水、純水、電解イオン水が使用され、さらに、上記図１及び図２のノズル部１７の近傍に別の搬送ガス供給装置を接続して、ノズル部１７から噴射するガスの加速用に使用してもよい。
本発明の実施例の微細霧化粒子洗浄装置の構成図である。 本発明の他の実施例の微細霧化粒子洗浄装置の構成図である。 従来の超音波洗浄装置の斜視図である。
６ 霧化部
６ａ 仕切板
７ 霧化液体供給装置
８ 霧化液体
９ 超音波振動子
１０ 発振器
１１ 霧化粒子
１２ 搬送ガス供給装置
１３ 搬送管
１４ デミスタ部
１５ フィルタ
１６ 搬送管
１７ ノズル部
１８ 被洗浄体
１９ 冷却装置
２０ 冷却部
２１ 搬送管

Claims (4)

  1. 液体供給装置から霧化液体が供給され、該供給された霧化液体を霧化する超音波振動子が底部に装着され、該超音波振動子の上部に装着され、前記霧化液体の近傍に掛けて内部に傾斜して仕切板を設け、超音波振動子で霧化された霧化粒子に、前記超音波振動子の上部に装着された吹き出し口から、搬送ガス供給装置からの搬送ガスを前記仕切板に吹き付けて大径の霧化粒子が除去される霧化部と、該霧化部から搬送管を通って搬送された微小霧化粒子から大径の霧化粒子を除去するフィルタを備えたデミスタ部と、該デミスタ部から搬送ガスとともに搬送された微小霧化粒子を吹き出すノズル部とを備え、該ノズル部から吹き出された微小霧化粒子を被洗浄体に吹き付けて洗浄することを特徴とする微細霧化粒子洗浄装置。
  2. 前記デミスタ部から搬送ガスとともに搬送された霧化粒子を冷却装置で冷却して、さらに大径の霧化粒子を除去し、前記ノズル部から前記被洗浄体に吹き付けて洗浄することを特徴とする請求項１記載の微細霧化粒子洗浄装置。
  3. 前記搬送ガス供給装置から搬送されるガスは窒素ガス、アルゴン、炭酸ガス又はドライエアーであることを特徴とする請求項１及び２のいずれか１項記載の微細霧化粒子洗浄装置。
  4. 前記霧化液体は機能水又は電解イオン水であることを特徴とする請求項１及び２のいずれか１項記載の微細霧化粒子洗浄装置。
JP2005212039A 2005-07-22 2005-07-22 微細霧化粒子洗浄装置 Expired - Fee Related JP4759760B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005212039A JP4759760B2 (ja) 2005-07-22 2005-07-22 微細霧化粒子洗浄装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005212039A JP4759760B2 (ja) 2005-07-22 2005-07-22 微細霧化粒子洗浄装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007035662A JP2007035662A (ja) 2007-02-08
JP4759760B2 true JP4759760B2 (ja) 2011-08-31

Family

ID=37794605

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005212039A Expired - Fee Related JP4759760B2 (ja) 2005-07-22 2005-07-22 微細霧化粒子洗浄装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4759760B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11880073B2 (en) 2019-01-18 2024-01-23 Ntt Advanced Technology Corporation Optical connector cleaning tool

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5217267B2 (ja) * 2007-06-22 2013-06-19 パナソニック株式会社 冷蔵庫
JP5608874B2 (ja) * 2010-11-19 2014-10-15 本多電子株式会社 炭酸ガスによる変質防止超音波処理装置
JP6049067B2 (ja) * 2012-12-27 2016-12-21 株式会社日本マイクロニクス 配線形成装置、メンテナンス方法および配線形成方法
CN106042646B (zh) * 2016-06-21 2018-01-02 祖海娇 一体化喷雾式打印喷头
CN111286747A (zh) * 2018-12-10 2020-06-16 彭志军 一种内置超声波的电解制氢氧装置
KR102620937B1 (ko) 2021-11-29 2024-01-05 주식회사 프로텍 하이브리드형 스프레이 펌프

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03295236A (ja) * 1990-04-13 1991-12-26 Hitachi Ltd 基板の洗浄方法及び装置
JP3519118B2 (ja) * 1994-04-07 2004-04-12 島田理化工業株式会社 洗浄装置
JP3454469B2 (ja) * 1999-02-09 2003-10-06 島田理化工業株式会社 基板乾燥装置
JP4588305B2 (ja) * 2003-08-13 2010-12-01 冷化工業株式会社 撹拌混合装置および殺菌装置および洗浄装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11880073B2 (en) 2019-01-18 2024-01-23 Ntt Advanced Technology Corporation Optical connector cleaning tool

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007035662A (ja) 2007-02-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4759760B2 (ja) 微細霧化粒子洗浄装置
KR100227018B1 (ko) 세정장치 및 세정방법
US9044794B2 (en) Ultrasonic cleaning fluid, method and apparatus
US20140053884A1 (en) Megasonic Precision Cleaning Of Semiconductor Process Equipment Components And Parts
TW201720538A (zh) 二相流霧化噴射清洗裝置
JPH08298252A (ja) エアロゾル表面処理
JP4938357B2 (ja) 洗浄方法と洗浄装置
JP5565673B2 (ja) ミストエッチング装置及びミストエッチング方法
KR102511172B1 (ko) 배기 가스 제해 유닛
KR20110090120A (ko) 초음파 세정장치 및 그 방법
KR20190140049A (ko) 미스트 도포 성막 장치의 도포 헤드 및 그의 메인터넌스 방법
TWI505878B (zh) 一種清洗霧化噴射裝置
JP4330694B2 (ja) 容器の洗浄装置及び容器の洗浄方法
TWI522185B (zh) Ultrasonic cleaning device and ultrasonic cleaning method
JP2008184380A (ja) 共振を利用した超音波洗浄装置
JP2006272210A (ja) 霧化洗浄装置
JP2012035166A (ja) 流体噴出ノズル及びそれを用いた洗浄装置
KR20070084475A (ko) 디스크상 기판의 건조장치 및 건조방법
JP2010114245A (ja) レジスト塗布装置
JP2006272209A (ja) 霧化洗浄装置
KR20080059691A (ko) 대면적 기판 세정장치
JP2006125648A (ja) 超音波加湿器
JPS63141320A (ja) キヤリア洗浄方法およびその装置
JP3265759B2 (ja) 洗浄装置並びに加工方法及び加工装置
KR101915053B1 (ko) 액체커튼형성 일체형 스팀노즐

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080616

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20080616

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080731

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100427

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100519

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100720

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101221

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110221

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20110303

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20110303

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110421

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110517

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140617

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees