JP3451810B2 - 光結合型半導体リレー - Google Patents

光結合型半導体リレー

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JP3451810B2
JP3451810B2 JP24264495A JP24264495A JP3451810B2 JP 3451810 B2 JP3451810 B2 JP 3451810B2 JP 24264495 A JP24264495 A JP 24264495A JP 24264495 A JP24264495 A JP 24264495A JP 3451810 B2 JP3451810 B2 JP 3451810B2
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久和 宮島
周一郎 山口
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【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光結合方式を用い
て入出力回路間を絶縁した光結合型半導体リレーに関す
るものであり、特に、緩やかな状態移行を実現するソフ
トオン・ソフトオフ型の光結合型半導体リレーに関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】図3に基づいて従来のソフトオン・ソフ
トオフ型の光結合型半導体リレーの一例について説明す
る。図で、1は入力端子7A,7B間に接続された発光
ダイオード、2は発光ダイオード1の光信号を受光する
ように配置された、発光ダイオード1の光信号を受光し
て光起電力を発するフォトダイオードアレイ、3は、フ
ォトダイオードアレイ2の光起電力が、ゲート・ソース
間に印加されて、ドレイン・ソース間が非導通状態から
導通状態に切り替わる、nチャネルエンハンスメント型
の出力用MOSFETであり、出力用MOSFET3の
ゲートは、フォトダイオードアレイ2のアノードに接続
され、出力用MOSFET3のソースは、後述する第1
MOSFET4を制御するために接続された高抵抗素子
5を介してフォトダイオードアレイ2のカソードに接続
されている。また、出力用MOSFET3のドレイン及
びソースは、それぞれ、出力端子8A,8Bに接続され
ている。
【0003】次に、4は出力用MOSFET3のゲート
・ソース間の蓄積電荷の放電経路を形成する、nチャネ
ルデプレッション型(ノーマリ・オン型)の第1MOS
FETで、第1MOSFET4のゲートは、フォトダイ
オードアレイ2のカソードに接続され、ソースは、出力
用MOSFET3のソースに接続され、ドレインは、高
抵抗素子6を介して出力用MOSFET3のゲートに接
続されている。
【0004】図3に示す光結合型半導体リレーにおい
て、入力端子7A,7Bを介して、発光ダイオード1に
入力信号が印加され、フォトダイオードアレイ2が光起
電力を発生させると、高抵抗素子6と、ノーマリ・オン
型の第1MOSFET4のドレイン・ソース間と、高抵
抗素子5を介して光電流が流れ、高抵抗素子6及び高抵
抗素子5の両端に電圧が発生する。高抵抗素子5の両端
に発生した電圧により、ノーマリ・オン型の第1MOS
FET4が高抵抗状態にバイアスされるので、出力用M
OSFET3のゲート・ソース間に、フォトダイオード
アレイ2の光起電力が印加されて出力用MOSFET3
がオン状態となる。この時、出力用MOSFET3のゲ
ート・ソース間容量へ電荷が蓄積されるスピードは、高
抵抗素子5により制限されるため、その勾配(ゲート・
ソース間電圧の立ち上がり時の勾配)は緩やかであり、
出力用MOSFET3の緩やかなオン状態移行が実現さ
れる。
【0005】次に、発光ダイオード1への入力信号が遮
断されると、フォトダイオードアレイ2の光起電力が消
失し、高抵抗素子5の両端電圧が消失するので、ノーマ
リ・オン型の第1MOSFET4はオン状態に戻る。こ
れにより、出力用MOSFET3のゲート・ソース間に
蓄積された電荷は、高抵抗素子6と第1MOSFET4
を介して放電され、出力用MOSFET3はオフ状態と
なる。この時、出力用MOSFET3のゲート・ソース
間容量に蓄積されていた電荷が放電されるスピードは、
高抵抗素子6により制限されるため、その勾配(ゲート
・ソース間電圧の立ち下がり時の勾配)は緩やかであ
り、出力用MOSFET3の緩やかなオフ状態移行が実
現される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】図3に示した従来の光
結合型半導体リレーをIC化した場合、ノーマリ・オン
型の第1MOSFET4は、フォトダイオードアレイ2
の近傍に形成されるので、発光ダイオード1の光信号
は、フォトダイオードアレイ2のみでなく、ノーマリ・
オン型の第1MOSFET4にも照射されていた。この
ような構造のため、発光ダイオード1が過大な光信号を
発すると、ノーマリ・オン型の第1MOSFET4のP
N接合において光電流が発生し、この光電流が高抵抗素
子5を介して流れ、高抵抗素子5の両端電圧が増加する
という現象が発生していた。これにより、出力用MOS
FET3のゲート・ソース間電圧が減少し、出力用MO
SFET3がオフに至り誤動作するという問題点があっ
た。
【0007】本発明は、上記問題点に鑑みなされたもの
で、その目的とするところは、発光ダイオードが過大な
光信号を発した場合でも誤動作を防止することができる
光結合型半導体リレーの構造を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1記載の光結合型半導体リレーは、入力信号
に応答して光信号を発する発光ダイオードと、その発光
ダイオードの光信号を受光するように配置されたフォト
ダイオードアレイと、そのフォトダイオードアレイの光
起電力が、ゲート・ソース間に印加されて、ドレイン・
ソース間が非導通状態から導通状態に切り替わる出力用
MOSFETと、ゲートが前記フォトダイオードアレイ
のカソードに接続された、前記出力用MOSFETのゲ
ート・ソース間の蓄積電荷の放電経路を形成するノーマ
リ・オン型の第1MOSFETと、前記出力用MOSF
ETのソースと前記フォトダイオードアレイのカソード
間に接続された高抵抗素子と、前記第1MOSFETの
ソースと前記フォトダイオードアレイのカソード間に接
続された、前記第1MOSFETを制御する抵抗素子と
からなることを特徴とするものである。
【0009】請求項2記載の光結合型半導体リレーは、
請求項1記載の光結合型半導体リレーで、ゲートが前記
出力用MOSFETのソースに接続された、ノーマリ・
オフ型の第2MOSFETが、前記フォトダイオードア
レイのアノード・カソード間に接続されていることを特
徴とするものである。
【0010】請求項1及び請求項2記載の光結合型半導
体リレーは、出力用MOSFETのソースとフォトダイ
オードアレイのカソード間に、放電経路を構成する、ノ
ーマリ・オン型の第1MOSFETを制御する抵抗素子
を設けないように回路を構成して、発光ダイオードが過
大な光信号を発した場合の誤動作を防止するように構成
したことを特徴とするものである。つまり、請求項1及
び請求項2記載の光結合型半導体リレーは、ノーマリ・
オン型の第1MOSFETを制御する高抵抗素子を介さ
ずに、出力用MOSFETのソースとフォトダイオード
アレイのカソードを接続するように構成したため、ノー
マリ・オン型の第1MOSFETのPN接合に照射され
た過大な光信号により、ノーマリ・オン型の第1MOS
FETのPN接合において光電流が発生しても、出力用
MOSFETのゲート・ソース間電圧を減少させること
がないので、出力用MOSFETの誤動作を防止するこ
とができる。
【0011】また、請求項2記載の光結合型半導体リレ
ーは、フォトダイオードアレイのアノード・カソード間
に、ノーマリ・オフ型の第2MOSFETを接続して、
過大な光信号が印加された場合に、その第2MOSFE
Tを介して過電流を放電するように構成したため、出力
用MOSFETのゲート・ソース間に流れる光電流を精
度良く抑制することができ、緩やかなオン状態移行が実
現できる。
【0012】
【発明の実施の形態】図1に基づいて本発明の光結合型
半導体リレーの一実施形態について説明する。但し、図
3に示した構成と同等構成については同符号を付すこと
とする。図で、1は入力端子7A,7B間に接続された
発光ダイオード、2は発光ダイオード1に光学的に結合
されたフォトダイオードアレイで、発光ダイオード1の
光信号を受光して光起電力を発するように構成されてい
る。3は、フォトダイオードアレイ2の光起電力が、ゲ
ート・ソース間に印加されて、ドレイン・ソース間が非
導通状態から導通状態に切り替わる、nチャネルエンハ
ンスメント型の出力用MOSFETであり、出力用MO
SFET3のゲートは、フォトダイオードアレイ2のア
ノードに接続され、出力用MOSFET3のソースは、
高抵抗素子9を介してフォトダイオードアレイ2のカソ
ードに接続されている。また、出力用MOSFET3の
ドレイン及びソースは、それぞれ、出力端子8A,8B
に接続されている。
【0013】次に、4は出力用MOSFET3のゲート
・ソース間に蓄積された電荷の放電経路を形成するノー
マリ・オン型の第1MOSFETで、第1MOSFET
4のゲートは、フォトダイオードアレイ2のカソードに
接続され、ソースは抵抗素子10を介してフォトダイオ
ードアレイ2のカソードに接続され、ドレインは出力用
MOSFET3のゲートに接続されている。
【0014】以下、図1に示す回路の動作について説明
する。入力端子7A,7B間に入力信号が印加される
と、発光ダイオード1が光信号を発する。この光信号を
受光して、フォトダイオードアレイ2が光起電力を発す
る。この光起電力によって、ノーマリ・オン型の第1M
OSFET4、抵抗素子10を介して電流が流れ、抵抗
素子10の両端に電圧が発生する。この電圧により、ノ
ーマリ・オン型の第1MOSFET4が高抵抗状態にバ
イアスされるので、出力用MOSFET3のゲート・ソ
ース間に、フォトダイオードアレイ2の光起電力が、高
抵抗素子9を介して印加されて、出力用MOSFET3
がオン状態となる。この時、出力用MOSFET3のゲ
ート・ソース間容量へ電荷が蓄積されるスピードは、高
抵抗素子9により制限されるためその勾配(ゲート・ソ
ース間電圧の立ち上がり時の勾配)は緩やかであり、出
力用MOSFET3の緩やかなオン状態移行が実現され
る。ここで、発光ダイオード1が過大な光信号を発する
と、ノーマリ・オン型の第1MOSFET4のPN接合
に照射された光信号により、ノーマリ・オン型の第1M
OSFET4のPN接合において光電流が発生し、この
光電流により抵抗素子10の両端電圧(電圧降下)が大
きくなるが、抵抗素子10はフォトダイオードアレイ2
から出力用MOSFET3のゲート・ソース間容量への
充電経路に存在しないため、発光ダイオード1の過大な
光信号による誤動作は発生しない。
【0015】入力端子7A,7B間への入力信号が遮断
されると、フォトダイオードアレイ2の端子間に発生し
ていた光起電力が消失し、ノーマリ・オン型の第1MO
SFET4が導通状態へと復帰する。これにより、出力
用MOSFET3のゲート・ソース間容量に蓄えられて
いた電荷は、ノーマリ・オン型の第1MOSFET4及
び抵抗素子10及び高抵抗素子9を介して放電されて、
出力用MOSFET3がオフ状態となる。ここで、出力
用MOSFET3のゲート・ソース間容量に蓄えられて
いた電荷は、高抵抗素子9を介して放電されるため、高
抵抗素子9により放電電荷量が抑制され、出力用MOS
FET3の緩やかなオフ状態移行が実現される。
【0016】次に、図2に基づいて本発明の光結合型半
導体リレーの異なる実施形態について説明する。但し、
図1に示した構成と同等構成については同符号を付すこ
ととし詳細な説明を省略する。図1に示した回路では、
発光ダイオード1が過大な光信号を発した場合、フォト
ダイオードアレイ2の出力電流(光電流)が増加し、オ
ン状態移行が急峻になるという問題点があった。図2に
示す回路は、発光ダイオード1が過大な光信号を発した
場合の、急峻なオン状態移行を抑制するために、フォト
ダイオードアレイ2のアノード・カソード間に、nチャ
ネルエンハンスメント型(ノーマリ・オフ型)の第2M
OSFET11を接続したものである。図に示すよう
に、第2MOSFET11のゲートを出力用MOSFE
T3のソースに接続し、第2MOSFET11のソース
をフォトダイオードアレイ2のカソードに接続し、第2
MOSFET11のドレインをフォトダイオードアレイ
2のアノードに接続する。
【0017】図2に示す回路の動作は、図1に示した回
路の動作に準ずるものであるが、図2に示す回路では、
オン時に、フォトダイオードアレイ2より過大な光電流
が発生した場合、高抵抗素子9の両端電圧が増加し、ノ
ーマリ・オフ型の第2MOSFET11が導通状態とな
り余分な光電流を放電する。これにより、フォトダイオ
ードアレイ2から出力用MOSFET3のゲート・ソー
ス間に流れる電流は抑制され、緩やかなオン状態移行が
実現できる。
【0018】
【発明の効果】請求項1及び請求項2記載の光結合型半
導体リレーでは、その入力側回路を構成する発光ダイオ
ードが過大な光信号を発し、ノーマリ・オン型の第1M
OSFETのPN接合で光電流が発生しても、出力用M
OSFETのゲート・ソース間電圧が減少することがな
いので、出力用MOSFETの誤動作を防止することが
できる。
【0019】また、請求項2記載の光結合型半導体リレ
ーでは、フォトダイオードアレイのアノード・カソード
間に、ノーマリ・オフ型の第2MOSFETを接続し、
そのノーマリ・オフ型の第2MOSFETを介して過電
流を放電するように構成したため、出力用MOSFET
のゲート・ソース間に流れる光電流を精度良く抑制する
ことができ、緩やかなオン状態移行を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光結合型半導体リレーの一実施形態を
示す回路図である。
【図2】本発明の光結合型半導体リレーの異なる実施形
態を示す回路図である。
【図3】従来の光結合型半導体リレーの一例を示す回路
図である。
【符号の説明】
1 発光ダイオード 2 フォトダイオードアレイ 3 出力用MOSFET 4 第1MOSFET 9 高抵抗素子 10 抵抗素子 11 第2MOSFET
フロントページの続き (72)発明者 杉浦 義幸 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工 株式会社内 (56)参考文献 特開 平5−3427(JP,A) 特開 平6−232722(JP,A) 特開 平4−167618(JP,A) 特開 平9−46204(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H03K 17/78 H01L 31/12

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 入力信号に応答して光信号を発する発光
    ダイオードと、その発光ダイオードの光信号を受光する
    ように配置されたフォトダイオードアレイと、そのフォ
    トダイオードアレイの光起電力が、ゲート・ソース間に
    印加されて、ドレイン・ソース間が非導通状態から導通
    状態に切り替わる出力用MOSFETと、ゲートが前記
    フォトダイオードアレイのカソードに接続された、前記
    出力用MOSFETのゲート・ソース間の蓄積電荷の放
    電経路を形成するノーマリ・オン型の第1MOSFET
    と、前記出力用MOSFETのソースと前記フォトダイ
    オードアレイのカソード間に接続された高抵抗素子と、
    前記第1MOSFETのソースと前記フォトダイオード
    アレイのカソード間に接続された、前記第1MOSFE
    Tを制御する抵抗素子とからなることを特徴とする光結
    合型半導体リレー。
  2. 【請求項2】 ゲートが前記出力用MOSFETのソー
    スに接続された、ノーマリ・オフ型の第2MOSFET
    が、前記フォトダイオードアレイのアノード・カソード
    間に接続されていることを特徴とする請求項1記載の光
    結合型半導体リレー。
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