JP3449726B2 - 導電性ゴム組成物及びその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、導電性ゴム組成物とその製造方法に関し、
さらに詳しくは、導電性ゴム成形品の硬度及び電気抵抗
値を所定の範囲内に調整することができる導電性ゴム組
成物及びその製造方法に関する。本発明の導電性ゴム組
成物は、電子写真複写機や静電記録装置などの画像形成
装置(静電荷現像装置)において使用される導電性ロー
ルや導電性ブレードなどの導電性ゴム部材用のゴム材料
として特に好適である。
さらに詳しくは、導電性ゴム成形品の硬度及び電気抵抗
値を所定の範囲内に調整することができる導電性ゴム組
成物及びその製造方法に関する。本発明の導電性ゴム組
成物は、電子写真複写機や静電記録装置などの画像形成
装置(静電荷現像装置)において使用される導電性ロー
ルや導電性ブレードなどの導電性ゴム部材用のゴム材料
として特に好適である。
背景技術
導電性粒子を配合したゴム組成物を所定形状に賦形し
た後、加硫して得られるゴム加硫物(導電性ゴム成形
品)には、用途分野に応じて、硬度及び電気抵抗値をそ
れぞれ所定の範囲内に調整することが要求される。とこ
ろが、導電性粒子を配合したゴム加硫物は、十分に低い
電気抵抗値を得るために、導電性粒子の配合割合を高く
すると、硬度が高くなりすぎるという問題がある。軟化
剤などの配合剤を多量に添加して硬度を調整すると、こ
れらの配合剤が導電性ゴム成形品の表面にブリードアウ
トするという問題がある。したがって、導電性と柔軟性
を併せ持つ導電性ゴム成形品を得ることは、困難な課題
であった。
た後、加硫して得られるゴム加硫物(導電性ゴム成形
品)には、用途分野に応じて、硬度及び電気抵抗値をそ
れぞれ所定の範囲内に調整することが要求される。とこ
ろが、導電性粒子を配合したゴム加硫物は、十分に低い
電気抵抗値を得るために、導電性粒子の配合割合を高く
すると、硬度が高くなりすぎるという問題がある。軟化
剤などの配合剤を多量に添加して硬度を調整すると、こ
れらの配合剤が導電性ゴム成形品の表面にブリードアウ
トするという問題がある。したがって、導電性と柔軟性
を併せ持つ導電性ゴム成形品を得ることは、困難な課題
であった。
一般に、一種類のゴム成分のみでは、所望の物性を得
ることができない場合、複数種のゴム材料を組み合わせ
て使用することが行われている。しかし、二種類以上の
ゴム成分を併用しても、それぞれに対応する加硫剤を用
いて、同時に加硫する通常の方法では、導電性と柔軟性
を併せ持つ導電性ゴム成形品を得ることは困難である。
すなわち、各ゴム成分相互間に相溶性がある場合には、
導電性粒子が均一に分布するため、硬度が高くなってし
まう。各ゴム成分相互間に相溶性がない場合であって
も、各ゴム成分と導電性粒子との間の親和性に格別の差
がないと、やはり導電性粒子が均一に分布するため、硬
度が高くなってしまう。
ることができない場合、複数種のゴム材料を組み合わせ
て使用することが行われている。しかし、二種類以上の
ゴム成分を併用しても、それぞれに対応する加硫剤を用
いて、同時に加硫する通常の方法では、導電性と柔軟性
を併せ持つ導電性ゴム成形品を得ることは困難である。
すなわち、各ゴム成分相互間に相溶性がある場合には、
導電性粒子が均一に分布するため、硬度が高くなってし
まう。各ゴム成分相互間に相溶性がない場合であって
も、各ゴム成分と導電性粒子との間の親和性に格別の差
がないと、やはり導電性粒子が均一に分布するため、硬
度が高くなってしまう。
各ゴム成分相互間に相溶性がなく、かつ、各ゴム成分
と導電性粒子との間の親和性にも差がある場合には、導
電性粒子は親和性の高いゴム成分相中に高濃度で存在す
ることになる。この場合、導電性粒子との親和性が低
く、導電性粒子の濃度が低いゴム成分相が柔軟性に寄与
することになる。しかし、導電性粒子との親和性の差に
よって、導電性と柔軟性を調整する方法では、使用でき
るゴム成分の種類が自ら限定され、耐摩耗性など、その
他の特性を満足させることが困難である。
と導電性粒子との間の親和性にも差がある場合には、導
電性粒子は親和性の高いゴム成分相中に高濃度で存在す
ることになる。この場合、導電性粒子との親和性が低
く、導電性粒子の濃度が低いゴム成分相が柔軟性に寄与
することになる。しかし、導電性粒子との親和性の差に
よって、導電性と柔軟性を調整する方法では、使用でき
るゴム成分の種類が自ら限定され、耐摩耗性など、その
他の特性を満足させることが困難である。
ところで、電子写真複写機や静電記録装置などの画像
形成装置において使用される導電性ロールや導電性ブレ
ードなどの導電性部材は、柔軟性と導電性を合わせ持つ
ことが求められている。そこで、以下、これらの導電性
部材を例にして、前記の問題点についてより詳しく説明
する。
形成装置において使用される導電性ロールや導電性ブレ
ードなどの導電性部材は、柔軟性と導電性を合わせ持つ
ことが求められている。そこで、以下、これらの導電性
部材を例にして、前記の問題点についてより詳しく説明
する。
電子写真法、静電写真法、静電印刷法などの各種画像
形成法において、電子写真複写機や静電記録装置などの
画像形成装置が使用されている。これらの画像形成装置
には、例えば、現像ロール、帯電ロール、転写ロール等
として導電性ロールが使用されている。また、トナー層
形成用ブレード(ドクターブレード)、クリーニングブ
レード等にも導電性ブレードが使用されている。
形成法において、電子写真複写機や静電記録装置などの
画像形成装置が使用されている。これらの画像形成装置
には、例えば、現像ロール、帯電ロール、転写ロール等
として導電性ロールが使用されている。また、トナー層
形成用ブレード(ドクターブレード)、クリーニングブ
レード等にも導電性ブレードが使用されている。
画像形成装置に使用される各種ロールに要求される特
性は、画像形成装置の種類やロールの用途等によってそ
れぞれ異なるが、一般的に、共通して要求される特性と
しては、第一に、適度の柔軟性を有すること、第二に、
環境変化に対して安定した電気抵抗を示すこと、第三
に、感光体などを汚染しないこと、第四に、耐久性に優
れていること、などが挙げられる。
性は、画像形成装置の種類やロールの用途等によってそ
れぞれ異なるが、一般的に、共通して要求される特性と
しては、第一に、適度の柔軟性を有すること、第二に、
環境変化に対して安定した電気抵抗を示すこと、第三
に、感光体などを汚染しないこと、第四に、耐久性に優
れていること、などが挙げられる。
これらのロールには、柔軟性の指標として、JIS−A
硬度で20〜60度の範囲の硬度を有することが求められて
いる。これらのロールの硬度が高すぎると、例えば、ト
ナーを融着させたり、感光体を傷つけたりしやすい。こ
れらのロールの硬度が低すぎると、例えば、トナーに充
分な摩擦力を付与することができなかったり、感光体を
汚染したりしやすい。同時に、これらのロールには、電
気的特性として、104〜1010Ωの範囲の電気抵抗値を有
することが求められている。例えば、現像ロールは、現
像剤供給ロールとの間の摩擦力によりトナーを現像ロー
ルの外周面に帯電状態で付着させ、これを層形成ブレー
ドで一様にならして、感光体上の静電潜像に対して電気
的吸引力により飛翔させる役割を持っているため、適度
の範囲の電気抵抗値を有することが必要である。帯電ロ
ールの場合には、適度の範囲の電気抵抗値を持っていな
いと、感光体上に均一な帯電を付与することができな
い。しかも、この電気抵抗値は、複写像の高画質化の要
求から、例えば、35℃、80%RH(相対湿度)の高温高湿
度下でも、あるいは10℃、20%RHの低温低湿度下でも、
変動の幅が小さいこと、すなわち、耐環境性に優れ、周
囲の環境条件の変化によっても、安定した電気抵抗値を
示すことが要求されている。
硬度で20〜60度の範囲の硬度を有することが求められて
いる。これらのロールの硬度が高すぎると、例えば、ト
ナーを融着させたり、感光体を傷つけたりしやすい。こ
れらのロールの硬度が低すぎると、例えば、トナーに充
分な摩擦力を付与することができなかったり、感光体を
汚染したりしやすい。同時に、これらのロールには、電
気的特性として、104〜1010Ωの範囲の電気抵抗値を有
することが求められている。例えば、現像ロールは、現
像剤供給ロールとの間の摩擦力によりトナーを現像ロー
ルの外周面に帯電状態で付着させ、これを層形成ブレー
ドで一様にならして、感光体上の静電潜像に対して電気
的吸引力により飛翔させる役割を持っているため、適度
の範囲の電気抵抗値を有することが必要である。帯電ロ
ールの場合には、適度の範囲の電気抵抗値を持っていな
いと、感光体上に均一な帯電を付与することができな
い。しかも、この電気抵抗値は、複写像の高画質化の要
求から、例えば、35℃、80%RH(相対湿度)の高温高湿
度下でも、あるいは10℃、20%RHの低温低湿度下でも、
変動の幅が小さいこと、すなわち、耐環境性に優れ、周
囲の環境条件の変化によっても、安定した電気抵抗値を
示すことが要求されている。
そこで、各種画像形成装置には、導電性ロールの材料
として、柔軟性と導電性を併せもつ導電性ゴム材料が用
いられている。導電性ゴム材料としては、各種ゴムに導
電性カーボンブラック等の導電性粒子を配合したゴム組
成物が使用されている。これらの導電性ゴム材料には、
JIS−A硬度で20〜60度という柔軟性の規格を満たすた
めに、さらに軟化剤等を添加している場合もある。
として、柔軟性と導電性を併せもつ導電性ゴム材料が用
いられている。導電性ゴム材料としては、各種ゴムに導
電性カーボンブラック等の導電性粒子を配合したゴム組
成物が使用されている。これらの導電性ゴム材料には、
JIS−A硬度で20〜60度という柔軟性の規格を満たすた
めに、さらに軟化剤等を添加している場合もある。
従来、前記用途に使用される導電性ゴム材料として、
例えば、シリコーンゴム(特開平6−200158号公報)、
イソプレンゴム(特開平5−224501号公報)、エチレン
プロピレンゴム(特開平5−188753号公報)、ポリヘキ
センゴム(特開平4−133937号公報)に、それぞれ導電
性粒子を配合したゴム組成物が提案されている。しかし
なから、これらの導電性ゴム材料でも、充分な特性は得
られていない。また、ゴム成分として、二種類のシリコ
ーンゴムを併用した導電性ゴム材料(特開平3−190964
号公報)、ポリオレフィン系ゴムとシリコーンゴムを有
する導電層を備えた接触帯電部材(特開平3−196067号
公報)等が提案されているが、これらの導電性ゴム材料
は、耐摩耗性が不十分で、耐久性に劣るという欠点を持
っている。
例えば、シリコーンゴム(特開平6−200158号公報)、
イソプレンゴム(特開平5−224501号公報)、エチレン
プロピレンゴム(特開平5−188753号公報)、ポリヘキ
センゴム(特開平4−133937号公報)に、それぞれ導電
性粒子を配合したゴム組成物が提案されている。しかし
なから、これらの導電性ゴム材料でも、充分な特性は得
られていない。また、ゴム成分として、二種類のシリコ
ーンゴムを併用した導電性ゴム材料(特開平3−190964
号公報)、ポリオレフィン系ゴムとシリコーンゴムを有
する導電層を備えた接触帯電部材(特開平3−196067号
公報)等が提案されているが、これらの導電性ゴム材料
は、耐摩耗性が不十分で、耐久性に劣るという欠点を持
っている。
ところで、導電性カーボンブラックは、導電性粒子と
して最も一般的に使用されているものである。しかし、
所望の導電性(電気抵抗値)を得る量比で、導電性カー
ボンブラックを共役ジエン系ゴムに配合すると、導電性
カーボンブラックと共役ジエン系ゴムとの間の相互作用
により、加硫ゴムの硬度が増大し、JIS−A硬度が60度
を越えることがある。導電性ゴム材料に、一般にゴム材
料の分野で使用されている軟化剤や柔軟剤等を配合する
と、硬度を適度の範囲に調整することができるものの、
軟化剤などの配合剤がブリードアウトするため、感光体
の汚染などの問題が生じる。
して最も一般的に使用されているものである。しかし、
所望の導電性(電気抵抗値)を得る量比で、導電性カー
ボンブラックを共役ジエン系ゴムに配合すると、導電性
カーボンブラックと共役ジエン系ゴムとの間の相互作用
により、加硫ゴムの硬度が増大し、JIS−A硬度が60度
を越えることがある。導電性ゴム材料に、一般にゴム材
料の分野で使用されている軟化剤や柔軟剤等を配合する
と、硬度を適度の範囲に調整することができるものの、
軟化剤などの配合剤がブリードアウトするため、感光体
の汚染などの問題が生じる。
軟化剤や柔軟剤に代えて、液状ゴムを多量に配合して
いる導電性ゴム材料の硬度を調整する方法が提案されて
いる(特開平5−59222号公報)。しかし、充分な軟化
作用を得るには、共役ジエン系ゴムに比較的多量の液状
ゴムを配合する必要がある。そのために、ゴム組成物の
成形加工性が低下し、しかも液状ゴム中の低分子量体の
ために成形品の表面にべたつき感が残る。
いる導電性ゴム材料の硬度を調整する方法が提案されて
いる(特開平5−59222号公報)。しかし、充分な軟化
作用を得るには、共役ジエン系ゴムに比較的多量の液状
ゴムを配合する必要がある。そのために、ゴム組成物の
成形加工性が低下し、しかも液状ゴム中の低分子量体の
ために成形品の表面にべたつき感が残る。
軟化剤等の配合剤のブリードアウトを防止するため
に、例えば、導電性を有するゴム層の上に、ブリードア
ウト防止層を設ける方法(特開平6−250496号公報)、
保護層を設ける方法(特開平6−208288号公報)、表面
層を設ける方法(特開平6−167861号公報)、抵抗調整
層を積層する方法(特開平6−208289号公報)などが提
案されている。これらの方法は、ブリードアウト防止に
は有効な方法であるが、工程数が多くなるため、実用上
好ましい方法ではない。
に、例えば、導電性を有するゴム層の上に、ブリードア
ウト防止層を設ける方法(特開平6−250496号公報)、
保護層を設ける方法(特開平6−208288号公報)、表面
層を設ける方法(特開平6−167861号公報)、抵抗調整
層を積層する方法(特開平6−208289号公報)などが提
案されている。これらの方法は、ブリードアウト防止に
は有効な方法であるが、工程数が多くなるため、実用上
好ましい方法ではない。
したがって、所定量の導電性粒子を含有することで所
望の範囲の電気抵抗値を有し、かつ、硬度についても、
前記規格内にすることができ、単層でも使用可能な導電
性ゴム材料が求められている。導電性ブレードについて
も、導電性ロールと同様な要求特性があるが、それらを
充分に満足する導電性ゴム部材はなく、満足のできる導
電性ブレードはなかった。
望の範囲の電気抵抗値を有し、かつ、硬度についても、
前記規格内にすることができ、単層でも使用可能な導電
性ゴム材料が求められている。導電性ブレードについて
も、導電性ロールと同様な要求特性があるが、それらを
充分に満足する導電性ゴム部材はなく、満足のできる導
電性ブレードはなかった。
発明の開示
本発明の目的は、硬度及び電気抵抗値を所定の範囲内
に調整することができ、しかも所望の要求特性に応じ
て、ゴム成分の種類を選択することができる導電性ゴム
組成物、及びその製造方法を提供することにある。
に調整することができ、しかも所望の要求特性に応じ
て、ゴム成分の種類を選択することができる導電性ゴム
組成物、及びその製造方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、そのような特徴を有する導電性
ゴム組成物を用いた導電性ロールや導電性ブレードなど
の導電性ゴム材料、及びその製造方法を提供することに
ある。
ゴム組成物を用いた導電性ロールや導電性ブレードなど
の導電性ゴム材料、及びその製造方法を提供することに
ある。
本発明者らは、前記従来技術の問題点を克服するため
に鋭意研究した結果、加硫機構の異なる2種類のゴム材
料と導電性粒子とを組み合わせた導電性ゴム組成物によ
り上記目的を達成できることを見いだした。具体的に
は、ゴム成分(A)の加硫物、該ゴム成分(A)とは異
なる機構により加硫されるゴム成分(B)、及び導電性
粒子を含有するゴム組成物を用いることにより、ゴム成
分(B)中の導電性粒子の濃度を高くすることができ、
それによって、導電性と硬度を所定の範囲に調整するこ
とができ、しかも所望の要求特性に応じて各ゴム成分の
種類を多くのゴム材料中から選択することができる。
に鋭意研究した結果、加硫機構の異なる2種類のゴム材
料と導電性粒子とを組み合わせた導電性ゴム組成物によ
り上記目的を達成できることを見いだした。具体的に
は、ゴム成分(A)の加硫物、該ゴム成分(A)とは異
なる機構により加硫されるゴム成分(B)、及び導電性
粒子を含有するゴム組成物を用いることにより、ゴム成
分(B)中の導電性粒子の濃度を高くすることができ、
それによって、導電性と硬度を所定の範囲に調整するこ
とができ、しかも所望の要求特性に応じて各ゴム成分の
種類を多くのゴム材料中から選択することができる。
より具体的には、例えば、エピクロルヒドリン系ゴム
などのゴム成分(A)の加硫物、アクリロニトリル−ブ
タジエンゴムなどの不飽和二重結合を有するゴム成分
(B)、導電性粒子、及びゴム成分(B)の加硫剤を含
有するゴム組成物を調製し、これを所定形状に賦形した
後、加硫すると、(i)ゴム成分(A)の加硫物相とゴ
ム成分(B)の加硫物相とからなるミクロドメイン構造
が形成され、(ii)ゴム成分(A)の加硫物相よりもゴ
ム成分(B)の加硫物相の中の導電性粒子の濃度が高
く、(iii)所定の導電性を保持すると共に、導電性粒
子の濃度が低いゴム成分(A)の加硫物相の存在によ
り、所定の柔軟性を有する導電性ゴム成形品を得ること
ができる。この方法によれば、ゴム成分(A)及びゴム
成分(B)の種類を広範なゴム材料から選択することが
できるため、その他の要求特性についても充分に満足さ
せることが可能となる。
などのゴム成分(A)の加硫物、アクリロニトリル−ブ
タジエンゴムなどの不飽和二重結合を有するゴム成分
(B)、導電性粒子、及びゴム成分(B)の加硫剤を含
有するゴム組成物を調製し、これを所定形状に賦形した
後、加硫すると、(i)ゴム成分(A)の加硫物相とゴ
ム成分(B)の加硫物相とからなるミクロドメイン構造
が形成され、(ii)ゴム成分(A)の加硫物相よりもゴ
ム成分(B)の加硫物相の中の導電性粒子の濃度が高
く、(iii)所定の導電性を保持すると共に、導電性粒
子の濃度が低いゴム成分(A)の加硫物相の存在によ
り、所定の柔軟性を有する導電性ゴム成形品を得ること
ができる。この方法によれば、ゴム成分(A)及びゴム
成分(B)の種類を広範なゴム材料から選択することが
できるため、その他の要求特性についても充分に満足さ
せることが可能となる。
ゴム成分(A)の加硫物を含有する導電性ゴム組成物
を得るには、例えば、ゴム成分(A)、ゴム成分
(B)、導電性粒子、及びゴム成分(A)の加硫剤を混
練して、ゴム成分(A)のみを加硫すればよい。この方
法によるゴム成分(A)の加硫は、動的加硫法による一
時加硫である。加硫ゴム成分(A)と未加硫ゴム成分
(B)とが混在すると、導電性粒子は、未加硫ゴム成分
(B)中により高濃度で存在することが判明した。次
に、ゴム成分(B)をその加硫剤を添加して加硫すれ
ば、導電性粒子が低濃度の加硫ゴム成分(A)(加硫物
相)と導電性粒子が高濃度の加硫ゴム成分(B)(加硫
物相)とを含むゴム加硫物が得られる。このゴム加硫物
は、ゴム成分(B)の加硫の前に所望の形状に賦形する
ことにより、種々の形状の導電性ゴム成形品(すなわ
ち、導電性ゴム部材)とすることができる。
を得るには、例えば、ゴム成分(A)、ゴム成分
(B)、導電性粒子、及びゴム成分(A)の加硫剤を混
練して、ゴム成分(A)のみを加硫すればよい。この方
法によるゴム成分(A)の加硫は、動的加硫法による一
時加硫である。加硫ゴム成分(A)と未加硫ゴム成分
(B)とが混在すると、導電性粒子は、未加硫ゴム成分
(B)中により高濃度で存在することが判明した。次
に、ゴム成分(B)をその加硫剤を添加して加硫すれ
ば、導電性粒子が低濃度の加硫ゴム成分(A)(加硫物
相)と導電性粒子が高濃度の加硫ゴム成分(B)(加硫
物相)とを含むゴム加硫物が得られる。このゴム加硫物
は、ゴム成分(B)の加硫の前に所望の形状に賦形する
ことにより、種々の形状の導電性ゴム成形品(すなわ
ち、導電性ゴム部材)とすることができる。
本発明の導電性ゴム組成物を用いて得られた導電性ゴ
ム成形品は、所望の柔軟性と電気抵抗値を併せ持ち、し
かも電気抵抗値の耐環境性にも優れているため、特に、
画像形成装置において使用される導電性ロールや導電性
ブレードなどの用途に好適である。本発明は、これらの
知見に基づいて完成するに至ったものである。
ム成形品は、所望の柔軟性と電気抵抗値を併せ持ち、し
かも電気抵抗値の耐環境性にも優れているため、特に、
画像形成装置において使用される導電性ロールや導電性
ブレードなどの用途に好適である。本発明は、これらの
知見に基づいて完成するに至ったものである。
かくして、本発明によれば、ゴム成分(A)の加硫
物、該ゴム成分(A)とは異なる機構により加硫される
ゴム成分(B)、及び導電性粒子を含有する導電性ゴム
組成物であって、該ゴム成分(A)の加硫物がゴム成分
(B)中に分散しており、かつ、少なくともゴム成分
(B)が導電性粒子を含有することを特徴とする導電性
ゴム組成物が提供される。
物、該ゴム成分(A)とは異なる機構により加硫される
ゴム成分(B)、及び導電性粒子を含有する導電性ゴム
組成物であって、該ゴム成分(A)の加硫物がゴム成分
(B)中に分散しており、かつ、少なくともゴム成分
(B)が導電性粒子を含有することを特徴とする導電性
ゴム組成物が提供される。
また、本発明によれば、以下のような相互に関連性を
有する発明が提供される。
有する発明が提供される。
1.ゴム成分(A)、該ゴム成分(A)とは異なる機構に
より加硫されるゴム成分(B)、導電性粒子、及びゴム
成分(A)の加硫剤を混練して、ゴム成分(A)のみを
加硫する工程を含むことを特徴とする導電性ゴム組成物
の製造方法。
より加硫されるゴム成分(B)、導電性粒子、及びゴム
成分(A)の加硫剤を混練して、ゴム成分(A)のみを
加硫する工程を含むことを特徴とする導電性ゴム組成物
の製造方法。
2.ゴム成分(A)、該ゴム成分(A)とは異なる機構に
より加硫されるゴム成分(B)、ゴム成分(A)の加硫
剤、及び導電性粒子の配合量の一部を混練して、ゴム成
分(A)のみを加硫し、次いで、ゴム成分(B)の加硫
剤、及び導電性粒子の配合量の残余を添加する工程を含
むことを特徴とする導電性ゴム組成物の製造方法。
より加硫されるゴム成分(B)、ゴム成分(A)の加硫
剤、及び導電性粒子の配合量の一部を混練して、ゴム成
分(A)のみを加硫し、次いで、ゴム成分(B)の加硫
剤、及び導電性粒子の配合量の残余を添加する工程を含
むことを特徴とする導電性ゴム組成物の製造方法。
3.ゴム成分(A)、該ゴム成分(A)とは異なる機構に
より加硫されるゴム成分(B)、及びゴム成分(A)の
加硫剤を混練して、ゴム成分(A)のみを加硫し、次い
で、ゴム成分(B)の加硫剤、及び導電性粒子を添加す
る工程を含むことを特徴とする導電性ゴム組成物の製造
方法。
より加硫されるゴム成分(B)、及びゴム成分(A)の
加硫剤を混練して、ゴム成分(A)のみを加硫し、次い
で、ゴム成分(B)の加硫剤、及び導電性粒子を添加す
る工程を含むことを特徴とする導電性ゴム組成物の製造
方法。
4.ゴム成分(A)の加硫物、ゴム成分(A)とは異なる
機構により加硫されたゴム成分(B)の加硫物、及び導
電性粒子を含有する導電性ゴム部材であって、該ゴム成
分(A)の加硫物がゴム成分(B)の加硫物中に分散し
ており、かつ、少なくともゴム成分(B)の加硫物が導
電性粒子を含有していることを特徴とする導電性ゴム部
材。
機構により加硫されたゴム成分(B)の加硫物、及び導
電性粒子を含有する導電性ゴム部材であって、該ゴム成
分(A)の加硫物がゴム成分(B)の加硫物中に分散し
ており、かつ、少なくともゴム成分(B)の加硫物が導
電性粒子を含有していることを特徴とする導電性ゴム部
材。
5.ゴム成分(A)、該ゴム成分(A)とは異なる機構に
より加硫されるゴム成分(B)、導電性粒子、及びゴム
成分(A)の加硫剤を混練して、ゴム成分(A)のみを
加硫し、次いで、ゴム成分(B)の加硫剤を添加して混
練し、所望の形状に賦形した後、ゴム成分(B)を加硫
する工程を含むことを特徴とする導電性ゴム部材の製造
方法。
より加硫されるゴム成分(B)、導電性粒子、及びゴム
成分(A)の加硫剤を混練して、ゴム成分(A)のみを
加硫し、次いで、ゴム成分(B)の加硫剤を添加して混
練し、所望の形状に賦形した後、ゴム成分(B)を加硫
する工程を含むことを特徴とする導電性ゴム部材の製造
方法。
6.ゴム成分(A)、該ゴム成分(A)とは異なる機構に
より加硫されるゴム成分(B)、ゴム成分(A)の加硫
剤、及び導電性粒子の配合量の一部を混練して、ゴム成
分(A)のみを加硫し、次いで、ゴム成分(B)の加硫
剤、及び導電性粒子の配合量の残余を添加して混練し、
所望の形状に賦形した後、ゴム成分(B)を加硫する工
程を含むことを特徴とする導電性ゴム部材の製造方法。
より加硫されるゴム成分(B)、ゴム成分(A)の加硫
剤、及び導電性粒子の配合量の一部を混練して、ゴム成
分(A)のみを加硫し、次いで、ゴム成分(B)の加硫
剤、及び導電性粒子の配合量の残余を添加して混練し、
所望の形状に賦形した後、ゴム成分(B)を加硫する工
程を含むことを特徴とする導電性ゴム部材の製造方法。
7.ゴム成分(A)、該ゴム成分(A)とは異なる機構に
より加硫されるゴム成分(B)、及びゴム成分(A)の
加硫剤を混練して、ゴム成分(A)のみを加硫し、次い
で、ゴム成分(B)の加硫剤、及び導電性粒子を添加し
て混練し、所望の形状に賦形した後、ゴム成分(B)を
加硫する工程を含むことを特徴とする導電性ゴム部材の
製造方法。
より加硫されるゴム成分(B)、及びゴム成分(A)の
加硫剤を混練して、ゴム成分(A)のみを加硫し、次い
で、ゴム成分(B)の加硫剤、及び導電性粒子を添加し
て混練し、所望の形状に賦形した後、ゴム成分(B)を
加硫する工程を含むことを特徴とする導電性ゴム部材の
製造方法。
8.導電性の芯金の外周面に、導電性粒子を含有するゴム
被覆層が形成されている導電性ゴムロールにおいて、該
ゴム被覆層が、ゴム成分(A)の加硫物、ゴム成分
(A)とは異なる機構により加硫されたゴム成分(B)
の加硫物、及び導電性粒子を含有するものであって、該
ゴム成分(A)の加硫物がゴム成分(B)の加硫物中に
分散しており、かつ、少なくともゴム成分(B)の加硫
物が導電性粒子を含有していることを特徴とする導電性
ゴムロール。
被覆層が形成されている導電性ゴムロールにおいて、該
ゴム被覆層が、ゴム成分(A)の加硫物、ゴム成分
(A)とは異なる機構により加硫されたゴム成分(B)
の加硫物、及び導電性粒子を含有するものであって、該
ゴム成分(A)の加硫物がゴム成分(B)の加硫物中に
分散しており、かつ、少なくともゴム成分(B)の加硫
物が導電性粒子を含有していることを特徴とする導電性
ゴムロール。
9.前記の導電性ゴムロールを備えた画像形成装置。
図面の簡単な説明
図1は、本発明の導電性ロールを、例えば、現像ロー
ル、帯電ロール、または転写ロールとして備えた画像形
成装置の一例を示す断面図である。
ル、帯電ロール、または転写ロールとして備えた画像形
成装置の一例を示す断面図である。
発明を実施するための最良の形態
ゴム成分(A)
本発明で使用するゴム成分(A)用のゴム材料として
は、例えば、エピクロルヒドリン系ゴム、エポキシ基含
有ゴム、アクリルゴム、クロロプレンゴム、エチレン−
アクリル酸エステル系ゴム、ウレタンゴム、クロロスル
ホン化ポリエチレンゴム、ブチルゴム、フッ素ゴムなど
を挙げることができる。エピクロルヒドリン系ゴムとし
ては、例えば、エピクロルヒドリンゴム(CHR)やエピ
クロルヒドリン−エチレンオキシドゴム(CHC)、エピ
クロルヒドリン−プロピレンオキシドゴムなどを挙げる
ことができる。エポキシ基含有ゴムとしては、グリシジ
ルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポ
キシ基含有単量体を共重合したエポキシ化アクリルゴム
(エポキシ基含有ACM);グリシジルメタクリレート、
アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有単量体を
共重合したエポキシ化エチレン−アクリル酸エステル系
ゴム;エポキシ化変性された天然ゴム、IR、SBR、NBR等
のエポキシ化ジエン系ゴムなどを挙げることができる。
これらのゴムは、それぞれ単独で、あるいは2種以上を
組み合わせて使用することができる。これらの中でも、
好適な物性が得られやすい点で、エポキシ基及び/また
はハロゲン原子を分子鎖中に有するゴムが好ましく、エ
ポキシ基含有ACM、CHR、及びCHCが特に好ましい。
は、例えば、エピクロルヒドリン系ゴム、エポキシ基含
有ゴム、アクリルゴム、クロロプレンゴム、エチレン−
アクリル酸エステル系ゴム、ウレタンゴム、クロロスル
ホン化ポリエチレンゴム、ブチルゴム、フッ素ゴムなど
を挙げることができる。エピクロルヒドリン系ゴムとし
ては、例えば、エピクロルヒドリンゴム(CHR)やエピ
クロルヒドリン−エチレンオキシドゴム(CHC)、エピ
クロルヒドリン−プロピレンオキシドゴムなどを挙げる
ことができる。エポキシ基含有ゴムとしては、グリシジ
ルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポ
キシ基含有単量体を共重合したエポキシ化アクリルゴム
(エポキシ基含有ACM);グリシジルメタクリレート、
アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有単量体を
共重合したエポキシ化エチレン−アクリル酸エステル系
ゴム;エポキシ化変性された天然ゴム、IR、SBR、NBR等
のエポキシ化ジエン系ゴムなどを挙げることができる。
これらのゴムは、それぞれ単独で、あるいは2種以上を
組み合わせて使用することができる。これらの中でも、
好適な物性が得られやすい点で、エポキシ基及び/また
はハロゲン原子を分子鎖中に有するゴムが好ましく、エ
ポキシ基含有ACM、CHR、及びCHCが特に好ましい。
ゴム成分(A)は、ゴム成分(B)を加硫しない加硫
剤で加硫可能なゴムであり、ゴム成分(B)の加硫剤、
例えば、硫黄、硫黄供与体、有機過酸化物以外の加硫剤
で加硫できるものである。
剤で加硫可能なゴムであり、ゴム成分(B)の加硫剤、
例えば、硫黄、硫黄供与体、有機過酸化物以外の加硫剤
で加硫できるものである。
ゴム成分(B)
本発明で使用するゴム成分(B)用のゴム材料として
は、例えば、アクリロニトリル−ブタジエンゴム(NB
R)、アクリロニトリル−イソプレンゴム、アクリロニ
トリル−ブタジエン−イソプレンゴム、スチレン−ブタ
ジエンゴム(SBR)、ブタジエンゴム(BR)、イソプレ
ンゴム(IR)、天然ゴム(NR)、エチレン−プロピレン
−ジエンゴム(EPDM)、ブチルゴム(IIR)、及びこれ
らのゴムの部分水素添加物などの不飽和二重結合を有す
るゴムを挙げることができる。部分水素添加物として
は、例えば、水素化NBR、水素化SBRなどを挙げることが
できる。これらのゴムは、それぞれ単独で、あるいは2
種以上を組み合わせて使用することができる。これらの
中でも、強度が高いNBRが特に好ましい。ゴム成分
(B)用のゴム材料は、通常、常温で固形のものである
が、特に低硬度のゴム成形品を所望する場合には、液状
ゴムを少量(全ゴム成分中10重量%以下の割合)配合し
てもよい。
は、例えば、アクリロニトリル−ブタジエンゴム(NB
R)、アクリロニトリル−イソプレンゴム、アクリロニ
トリル−ブタジエン−イソプレンゴム、スチレン−ブタ
ジエンゴム(SBR)、ブタジエンゴム(BR)、イソプレ
ンゴム(IR)、天然ゴム(NR)、エチレン−プロピレン
−ジエンゴム(EPDM)、ブチルゴム(IIR)、及びこれ
らのゴムの部分水素添加物などの不飽和二重結合を有す
るゴムを挙げることができる。部分水素添加物として
は、例えば、水素化NBR、水素化SBRなどを挙げることが
できる。これらのゴムは、それぞれ単独で、あるいは2
種以上を組み合わせて使用することができる。これらの
中でも、強度が高いNBRが特に好ましい。ゴム成分
(B)用のゴム材料は、通常、常温で固形のものである
が、特に低硬度のゴム成形品を所望する場合には、液状
ゴムを少量(全ゴム成分中10重量%以下の割合)配合し
てもよい。
全ゴム成分中のゴム成分(A)の配合割合は、通常、
20〜80重量%、好ましくは30〜75重量%、より好ましく
は40〜70重量%である。全ゴム成分中のゴム成分(B)
の配合割合は、通常、80〜20重量%、好ましくは70〜25
重量%、より好ましくは60〜30重量%である。ゴム成分
(A)の配合割合が少なすぎると、所望の柔軟性(硬
度)を得ることが困難となり、多すぎると強度が低下す
る。
20〜80重量%、好ましくは30〜75重量%、より好ましく
は40〜70重量%である。全ゴム成分中のゴム成分(B)
の配合割合は、通常、80〜20重量%、好ましくは70〜25
重量%、より好ましくは60〜30重量%である。ゴム成分
(A)の配合割合が少なすぎると、所望の柔軟性(硬
度)を得ることが困難となり、多すぎると強度が低下す
る。
これらのゴム成分は、ロール、押出機、バンバリーミ
キサー等を用いた通常の混練法によりブレンドしてもよ
いが、乳化重合または懸濁重合により得られたスラリー
同士を混合して、共凝固する方法を採用することもでき
る。
キサー等を用いた通常の混練法によりブレンドしてもよ
いが、乳化重合または懸濁重合により得られたスラリー
同士を混合して、共凝固する方法を採用することもでき
る。
導電性粒子
本発明で使用する導電性粒子としては、体積固有抵抗
値が106Ω・cm以下のものであって、例えば、導電性カ
ーボンブラックやグラファイトなどのカーボン系導電性
フィラー;銀、ニッケル、銅などの金属粉;非導電性粉
体を銀などの金属や酸化錫などの金属酸化物で被覆処理
したもの;金属酸化物などを挙げることができる。これ
らの中でも、感光体を傷つけないことから、導電性カー
ボンブラックが好ましい。
値が106Ω・cm以下のものであって、例えば、導電性カ
ーボンブラックやグラファイトなどのカーボン系導電性
フィラー;銀、ニッケル、銅などの金属粉;非導電性粉
体を銀などの金属や酸化錫などの金属酸化物で被覆処理
したもの;金属酸化物などを挙げることができる。これ
らの中でも、感光体を傷つけないことから、導電性カー
ボンブラックが好ましい。
導電性カーボンブラックとしては、例えば、アセチレ
ンブラック、コンダクティブファーネスブラック、スー
パーコンダクティブファーネスブラック、エクストラコ
ンダクティブファーネスブラック、コンダクティブチャ
ンネルブラック、高温で熱処理されたファーネスブラッ
ク、チャンネルブラック等を挙げることができる。市販
品としては、例えば、ファーネスブラックの一種である
ケッチェンブラックECやケッチェンブラックEC−600JD
(ケッチェンブラックインターナショナル社製)等が好
ましいものとして挙げることができる。また、これらの
導電性に優れたカーボンブラックの他に、HAF、ISAF、S
AF、SRF、MAF、FEFなどの比較的導電性のカーボンブラ
ックでもよい。
ンブラック、コンダクティブファーネスブラック、スー
パーコンダクティブファーネスブラック、エクストラコ
ンダクティブファーネスブラック、コンダクティブチャ
ンネルブラック、高温で熱処理されたファーネスブラッ
ク、チャンネルブラック等を挙げることができる。市販
品としては、例えば、ファーネスブラックの一種である
ケッチェンブラックECやケッチェンブラックEC−600JD
(ケッチェンブラックインターナショナル社製)等が好
ましいものとして挙げることができる。また、これらの
導電性に優れたカーボンブラックの他に、HAF、ISAF、S
AF、SRF、MAF、FEFなどの比較的導電性のカーボンブラ
ックでもよい。
これらの導電性粒子は、それぞれ単独で、あるいは2
種以上の組み合わせて使用することができる。高導電性
のカーボンブラックと低導電性のカーボンブラックを併
用し、両者の量比を変えることにより導電性の程度を制
御することが好ましい場合もある。
種以上の組み合わせて使用することができる。高導電性
のカーボンブラックと低導電性のカーボンブラックを併
用し、両者の量比を変えることにより導電性の程度を制
御することが好ましい場合もある。
導電性粒子の配合割合は、ゴム成分(B)100重量部
に対して、一般に、1〜100重量部、好ましくは3〜80
重量部、より好ましくは5〜70重量部である。導電性粒
子の配合割合が少なすぎると、所望の電気抵抗値を得る
ことができず、多すぎると、電気抵抗値が低くなりす
ぎ、硬度も高くなりやすい。導電性粒子は、通常、ロー
ル、押出機、バンバリミキサー等を用いてゴム成分中に
混練される。
に対して、一般に、1〜100重量部、好ましくは3〜80
重量部、より好ましくは5〜70重量部である。導電性粒
子の配合割合が少なすぎると、所望の電気抵抗値を得る
ことができず、多すぎると、電気抵抗値が低くなりす
ぎ、硬度も高くなりやすい。導電性粒子は、通常、ロー
ル、押出機、バンバリミキサー等を用いてゴム成分中に
混練される。
ゴム成分(A)の加硫剤
ゴム成分(A)及びゴム成分(B)は、互いに異なる
加硫機構によって加硫されるゴム材料である。本発明で
は、加硫剤として、ゴム成分(A)用の加硫剤とゴム成
分(B)用の加硫剤とを用いる。
加硫機構によって加硫されるゴム材料である。本発明で
は、加硫剤として、ゴム成分(A)用の加硫剤とゴム成
分(B)用の加硫剤とを用いる。
ゴム成分(A)用の加硫剤としては、該ゴム成分
(A)の加硫条件下でゴム成分(B)を加硫しないもの
を使用する。
(A)の加硫条件下でゴム成分(B)を加硫しないもの
を使用する。
ゴム成分(A)中、エピクロルヒドリン系ゴムの加硫
剤としては、ポリアミン類、2−メルカプトイミダゾリ
ン類、2−メルカプトピリミジン類、メルカプトトリア
ジン類、チオウレア類などを挙げることができる。ポリ
アミン類としては、エチレンジアミン、ヘキサメチレン
ジアミンやこれらの塩が、2−メルカプトイミダゾリン
類としては、2−メルカプトイミダゾリン、4−メチル
−2−メルカプトイミダゾリン、5−エチル−4−ブチ
ル−2−メルカプトイミダゾリンなどが、メルカプトト
リアジン類としては、1,3,5−トリチオシアヌール酸、
2−ブチルアミノ−4,6−ジメルカプト−s−トリアジ
ンなどが、チオウレア類としては、チオウレア、ジブチ
ルチオウレア、トリエチルチオウレアなどが、それぞれ
挙げられる。
剤としては、ポリアミン類、2−メルカプトイミダゾリ
ン類、2−メルカプトピリミジン類、メルカプトトリア
ジン類、チオウレア類などを挙げることができる。ポリ
アミン類としては、エチレンジアミン、ヘキサメチレン
ジアミンやこれらの塩が、2−メルカプトイミダゾリン
類としては、2−メルカプトイミダゾリン、4−メチル
−2−メルカプトイミダゾリン、5−エチル−4−ブチ
ル−2−メルカプトイミダゾリンなどが、メルカプトト
リアジン類としては、1,3,5−トリチオシアヌール酸、
2−ブチルアミノ−4,6−ジメルカプト−s−トリアジ
ンなどが、チオウレア類としては、チオウレア、ジブチ
ルチオウレア、トリエチルチオウレアなどが、それぞれ
挙げられる。
エポキシ基含有ゴムの加硫剤としては、一般に、アミ
ン化合物とその塩、イソシアナート化合物など、エポキ
シ基を架橋点とする加硫剤系を使用することができる。
アミン化合物とその塩としては、例えば、イソシアヌル
酸、オクタデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、
ジフェニルウレア、ヘキサメチレンテトラミン、p,p′
−ジアミノジフェニルメタン、アンモニウムベンゾエー
ト等の有機カルボン酸アンモニウム、ヘキサメチレンジ
アミンカルバメート、N,N′−ジシンナミリデン−1,6−
ヘキサジアミン、4,4′−メチレンビス−(2−クロロ
アミリン)等を挙げることができる。イソシアナート化
合物としては、例えば、トルイレンジイソシアナート、
ジフェニルメタンジイソシアナート、ナフチレン−1,5
−ジイソシアナートなどのポリイソシアナート類を挙げ
ることができる。
ン化合物とその塩、イソシアナート化合物など、エポキ
シ基を架橋点とする加硫剤系を使用することができる。
アミン化合物とその塩としては、例えば、イソシアヌル
酸、オクタデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、
ジフェニルウレア、ヘキサメチレンテトラミン、p,p′
−ジアミノジフェニルメタン、アンモニウムベンゾエー
ト等の有機カルボン酸アンモニウム、ヘキサメチレンジ
アミンカルバメート、N,N′−ジシンナミリデン−1,6−
ヘキサジアミン、4,4′−メチレンビス−(2−クロロ
アミリン)等を挙げることができる。イソシアナート化
合物としては、例えば、トルイレンジイソシアナート、
ジフェニルメタンジイソシアナート、ナフチレン−1,5
−ジイソシアナートなどのポリイソシアナート類を挙げ
ることができる。
アクリルゴム及びエチレン−アクリル酸エステル系ゴ
ムの加硫剤としては、例えば、トリエチレンテトラミ
ン、トリエチルトリメチレントリアミン、ヘキサメチレ
ンジアミンカルバメートなどのアミン化合物を挙げるこ
とができる。
ムの加硫剤としては、例えば、トリエチレンテトラミ
ン、トリエチルトリメチレントリアミン、ヘキサメチレ
ンジアミンカルバメートなどのアミン化合物を挙げるこ
とができる。
クロロプレンゴムの加硫剤としては、例えば、酸化亜
鉛、酸化マグネシウムなどを挙げることができる。加硫
促進剤として、2−メルカプトイミダゾリンなどを併用
することができる。
鉛、酸化マグネシウムなどを挙げることができる。加硫
促進剤として、2−メルカプトイミダゾリンなどを併用
することができる。
ウレタンゴムの加硫剤としては、例えば、ビスマレイ
ミド、ビスシトラコンアミドなどを挙げることができ
る。クロロスルホン化ポリエチレンゴムの加硫剤として
は、例えば、酸化マグネシウム、一酸化鉛、三塩化マレ
イン酸鉛、アビエチン酸、水添ロジンなどを挙げること
ができる。ブチルゴムの加硫剤としては、p−ベンゾキ
ノンジオキシム、ベンゾイルキノンジオキシムなどのキ
ノン系架橋剤、あるいは樹脂架橋剤などを挙げることが
できる。フッ素ゴムの加硫剤としては、ヘキサメチレン
ジアミンカルバメート、エチレンジアミンカルバメート
などを挙げることができる。
ミド、ビスシトラコンアミドなどを挙げることができ
る。クロロスルホン化ポリエチレンゴムの加硫剤として
は、例えば、酸化マグネシウム、一酸化鉛、三塩化マレ
イン酸鉛、アビエチン酸、水添ロジンなどを挙げること
ができる。ブチルゴムの加硫剤としては、p−ベンゾキ
ノンジオキシム、ベンゾイルキノンジオキシムなどのキ
ノン系架橋剤、あるいは樹脂架橋剤などを挙げることが
できる。フッ素ゴムの加硫剤としては、ヘキサメチレン
ジアミンカルバメート、エチレンジアミンカルバメート
などを挙げることができる。
これらの加硫剤の配合割合は、ゴム成分(A)の種類
や加硫剤の種類によって異なるが、ゴム成分(A)100
重量部に対して、通常、1〜15重量部、好ましくは2〜
10重量部である。加硫剤は、それぞれ単独で、あるいは
2種以上を組み合わせて使用することができる。ゴム成
分(A)として、複数種のゴムを併用する場合には、そ
れぞれのゴムの種類に応じた複数種の加硫剤を使用す
る。
や加硫剤の種類によって異なるが、ゴム成分(A)100
重量部に対して、通常、1〜15重量部、好ましくは2〜
10重量部である。加硫剤は、それぞれ単独で、あるいは
2種以上を組み合わせて使用することができる。ゴム成
分(A)として、複数種のゴムを併用する場合には、そ
れぞれのゴムの種類に応じた複数種の加硫剤を使用す
る。
ゴム成分(B)の加硫剤
ゴム成分(B)の加硫剤としては、例えば、硫黄、硫
黄供与体、有機過酸化物などを挙げることができる。硫
黄供与体としては、例えば、テトラメチルチウラムジス
ルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド等のチウ
ラム類を挙げることができる。有機過酸化物としては、
例えば、ジクミルペルオキシド、ジ−t−ブチルペルオ
キシド、p−メンタンヒドロペルオキシド、クメンヒド
ロペルオキシド等を挙げることができる。
黄供与体、有機過酸化物などを挙げることができる。硫
黄供与体としては、例えば、テトラメチルチウラムジス
ルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド等のチウ
ラム類を挙げることができる。有機過酸化物としては、
例えば、ジクミルペルオキシド、ジ−t−ブチルペルオ
キシド、p−メンタンヒドロペルオキシド、クメンヒド
ロペルオキシド等を挙げることができる。
ゴム成分(B)中、EPDMの加硫剤としては、硫黄、硫
黄供与体、キノン架橋剤系、有機過酸化物、樹脂架橋剤
系などを使用することができる。
黄供与体、キノン架橋剤系、有機過酸化物、樹脂架橋剤
系などを使用することができる。
これらの加硫剤の配合割合は、ゴム成分及び加硫剤の
種類によって異なるが、ゴム成分(B)100重量部に対
して、通常、0.5〜15重量部、好ましくは1〜10重量部
である。
種類によって異なるが、ゴム成分(B)100重量部に対
して、通常、0.5〜15重量部、好ましくは1〜10重量部
である。
本発明では、必要に応じて、ジチオカーバメート類、
チウラム類、グアニジン類、チアゾール類などの加硫促
進剤、ステアリン酸、金属酸化物などの加硫促進助剤、
老化防止剤など各種ゴム用配合剤を配合することができ
る。感光ドラムを汚染しないものであれば、導電性粒子
を均一に分散させるための分散剤を配合することもでき
る。
チウラム類、グアニジン類、チアゾール類などの加硫促
進剤、ステアリン酸、金属酸化物などの加硫促進助剤、
老化防止剤など各種ゴム用配合剤を配合することができ
る。感光ドラムを汚染しないものであれば、導電性粒子
を均一に分散させるための分散剤を配合することもでき
る。
導電性ゴム組成物及びその製造方法
本発明において、ゴム成分(A)の加硫物、該ゴム成
分(A)とは異なる機構により加硫されるゴム成分
(B)、及び導電性粒子を含有する導電性ゴム組成物
(1)は、通常、ゴム成分(A)、ゴム成分(B)、導
電性粒子、及びゴム成分(A)の加硫剤を混練して、ゴ
ム成分(A)を加硫することにより得ることができる。
すなわち、ゴム材料と導電性粒子を混練する過程で、ゴ
ム成分(A)の加硫剤を加えて、一次加硫し、ゴム成分
(A)の加硫物とゴム成分(B)と導電性粒子とを含有
する導電性ゴム組成物を調製する。ゴム成分(A)とし
て、複数種のゴムを用いる場合には、それぞれのゴムに
応じた加硫剤の添加と加熱加硫の操作を必要回数行う。
分(A)とは異なる機構により加硫されるゴム成分
(B)、及び導電性粒子を含有する導電性ゴム組成物
(1)は、通常、ゴム成分(A)、ゴム成分(B)、導
電性粒子、及びゴム成分(A)の加硫剤を混練して、ゴ
ム成分(A)を加硫することにより得ることができる。
すなわち、ゴム材料と導電性粒子を混練する過程で、ゴ
ム成分(A)の加硫剤を加えて、一次加硫し、ゴム成分
(A)の加硫物とゴム成分(B)と導電性粒子とを含有
する導電性ゴム組成物を調製する。ゴム成分(A)とし
て、複数種のゴムを用いる場合には、それぞれのゴムに
応じた加硫剤の添加と加熱加硫の操作を必要回数行う。
この一次加硫工程は、いわゆる動的加硫による加硫工
程である。動的加硫は、各成分をバンバリーミキサー等
の混練装置で混練する際に、ゴム成分(A)の加硫剤を
加え、加熱してゴム成分(A)を加硫させることにより
行うことができる。ゴム成分(A)として複数種のゴム
を使用する場合には、一次加硫操作を複数回行ってもよ
い。加熱等の加硫条件は、各ゴム成分の種類に応じて、
通常の条件を採用することができる。
程である。動的加硫は、各成分をバンバリーミキサー等
の混練装置で混練する際に、ゴム成分(A)の加硫剤を
加え、加熱してゴム成分(A)を加硫させることにより
行うことができる。ゴム成分(A)として複数種のゴム
を使用する場合には、一次加硫操作を複数回行ってもよ
い。加熱等の加硫条件は、各ゴム成分の種類に応じて、
通常の条件を採用することができる。
この一次加硫工程により、ゴム組成物中には、加硫さ
れたゴム成分(A)と未加硫のゴム成分(B)と共存す
ることになるが、これにより、導電性粒子は、未加硫ゴ
ム成分(B)中に多く存在するようになり、加硫ゴム成
分(A)中には、ほとんど含まれないか、あるいは平均
含有率より小さい含有率となる。
れたゴム成分(A)と未加硫のゴム成分(B)と共存す
ることになるが、これにより、導電性粒子は、未加硫ゴ
ム成分(B)中に多く存在するようになり、加硫ゴム成
分(A)中には、ほとんど含まれないか、あるいは平均
含有率より小さい含有率となる。
一次加硫工程において、導電性粒子を混合せずに、一
次加硫工程の後に配合するか、あるいは一次加硫工程に
おいて、配合すべき導電性粒子の全量の一部を混合し
て、残余を一次加硫工程の後に追加的に配合してもよ
い。これらの方法によれば、ゴム成分(B)に対する導
電性粒子の含有率をより高めることができる。
次加硫工程の後に配合するか、あるいは一次加硫工程に
おいて、配合すべき導電性粒子の全量の一部を混合し
て、残余を一次加硫工程の後に追加的に配合してもよ
い。これらの方法によれば、ゴム成分(B)に対する導
電性粒子の含有率をより高めることができる。
上記のいずれの方法によっても、一次加硫工程の後に
は、ゴム成分(A)の加硫物、ゴム成分(B)、及び導
電性粒子を含有する導電性ゴム組成物(1)が得られ
る。次に、この導電性ゴム組成物(1)に、ゴム成分
(B)の加硫剤を配合して導電性ゴム組成物(2)を調
製する。一次加硫工程の後に、導電性粒子の全量または
残余を配合する場合には、該導電性粒子をゴム成分
(B)の加硫剤の配合時に、同時に配合することができ
る。このようにして調製したゴム組成物(2)は、混練
した後、所望の形状に賦形し、二次加硫を行って、加硫
物(導電性ゴム成形品またはゴム部材)とする。加熱温
度等の加硫条件は、ゴム成分(B)の種類に応じて、通
常の条件を採用することができる。
は、ゴム成分(A)の加硫物、ゴム成分(B)、及び導
電性粒子を含有する導電性ゴム組成物(1)が得られ
る。次に、この導電性ゴム組成物(1)に、ゴム成分
(B)の加硫剤を配合して導電性ゴム組成物(2)を調
製する。一次加硫工程の後に、導電性粒子の全量または
残余を配合する場合には、該導電性粒子をゴム成分
(B)の加硫剤の配合時に、同時に配合することができ
る。このようにして調製したゴム組成物(2)は、混練
した後、所望の形状に賦形し、二次加硫を行って、加硫
物(導電性ゴム成形品またはゴム部材)とする。加熱温
度等の加硫条件は、ゴム成分(B)の種類に応じて、通
常の条件を採用することができる。
導電性ゴム組成物(2)は、未加硫ゴム成分(B)中
に加硫ゴム成分(A)が均一に分散しており、例えば、
押出成形やプレス成形などにより、所望の形状に賦形す
ることが可能である。ゴム成分(B)の加硫剤を含有す
るゴム組成物(2)の調製方法としては、通常の混練法
を採用することができる。このようにして得られたゴム
組成物(2)は、押出成形やプレス成形等の方法を用い
て、例えば、板状や円筒状などの所望の形状に成形加工
することができる。このゴム組成物(2)を用いて導電
性ゴムロールを成形する場合には、導電性の芯金の外周
面に押出成形する。所定形状に成形したゴム組成物
(2)は、ゴム成分(B)の加硫財を利用して二次加硫
する。この結果、全てのゴム成分が加硫される。
に加硫ゴム成分(A)が均一に分散しており、例えば、
押出成形やプレス成形などにより、所望の形状に賦形す
ることが可能である。ゴム成分(B)の加硫剤を含有す
るゴム組成物(2)の調製方法としては、通常の混練法
を採用することができる。このようにして得られたゴム
組成物(2)は、押出成形やプレス成形等の方法を用い
て、例えば、板状や円筒状などの所望の形状に成形加工
することができる。このゴム組成物(2)を用いて導電
性ゴムロールを成形する場合には、導電性の芯金の外周
面に押出成形する。所定形状に成形したゴム組成物
(2)は、ゴム成分(B)の加硫財を利用して二次加硫
する。この結果、全てのゴム成分が加硫される。
このような二段階工程を採用することにより、後述の
導電性ロールや導電性ブレードを製造した場合、23℃、
50%RHでの電気抵抗値が、通常、103〜1010Ω、好まし
くは104〜109Ω、より好ましくは105〜108Ωであって、
しかも10℃、20%RHの低温低湿度下、及び35℃、80%RH
の高温高湿度下でも、電気抵抗値の変化の少ないゴム加
硫物を得ることができる。また、このような二段階工程
を採用することにより、JIS−A硬度が、通常、20〜60
度、好ましくは25〜50度、より好ましくは30〜45度の導
電性ゴム成形品が得られる。
導電性ロールや導電性ブレードを製造した場合、23℃、
50%RHでの電気抵抗値が、通常、103〜1010Ω、好まし
くは104〜109Ω、より好ましくは105〜108Ωであって、
しかも10℃、20%RHの低温低湿度下、及び35℃、80%RH
の高温高湿度下でも、電気抵抗値の変化の少ないゴム加
硫物を得ることができる。また、このような二段階工程
を採用することにより、JIS−A硬度が、通常、20〜60
度、好ましくは25〜50度、より好ましくは30〜45度の導
電性ゴム成形品が得られる。
ゴム成分として、ゴム成分(B)のみを使用して、所
望の電気抵抗値を達成しようとすると、JIS−A硬度が
高くなりやすい。ゴム成分として、ゴム成分(B)とゴ
ム成分(A)を併用しても、前述の一次加硫工程と二次
加硫工程により加硫成形せずに、一段階で加硫すると、
加工性が低下し、電気抵抗値も高くなりやすい。本発明
の方法により二段階で加硫すると、ゴム成分(B)中の
導電性粒子の含有率が高くなり、電気抵抗値が低くな
る。ところが、導電性粒子の配合割合が同じであって
も、一段階で加硫すると、ゴム成分(A)及び(B)中
の導電性粒子の含有率が同じになるため、JIS−A硬度
は低くなるものの、電気抵抗値は高くなる。ゴム成分
(A)及び(B)の両方を用いて、一段階で加硫し、電
気抵抗値を下げるには、導電性粒子の配合割合を大きく
しなければならず、その結果、硬度は高くなる。本発明
の製造方法により、ゴム成分(B)中の導電性粒子の濃
度を加硫ゴム成分(A)よりも高くすると、硬度及び電
気抵抗値を所定の範囲内にすることができるという利点
がある。
望の電気抵抗値を達成しようとすると、JIS−A硬度が
高くなりやすい。ゴム成分として、ゴム成分(B)とゴ
ム成分(A)を併用しても、前述の一次加硫工程と二次
加硫工程により加硫成形せずに、一段階で加硫すると、
加工性が低下し、電気抵抗値も高くなりやすい。本発明
の方法により二段階で加硫すると、ゴム成分(B)中の
導電性粒子の含有率が高くなり、電気抵抗値が低くな
る。ところが、導電性粒子の配合割合が同じであって
も、一段階で加硫すると、ゴム成分(A)及び(B)中
の導電性粒子の含有率が同じになるため、JIS−A硬度
は低くなるものの、電気抵抗値は高くなる。ゴム成分
(A)及び(B)の両方を用いて、一段階で加硫し、電
気抵抗値を下げるには、導電性粒子の配合割合を大きく
しなければならず、その結果、硬度は高くなる。本発明
の製造方法により、ゴム成分(B)中の導電性粒子の濃
度を加硫ゴム成分(A)よりも高くすると、硬度及び電
気抵抗値を所定の範囲内にすることができるという利点
がある。
すなわち、上記二段階加硫工程を採用することによ
り、(i)ゴム成分(A)の加硫物相とゴム成分(B)
の加硫物相とからなるミクロドメイン構造が形成され、
(ii)ゴム成分(A)の加硫物相よりもゴム成分(B)
の加硫物相の中の導電性粒子の濃度が高く、(iii)所
定の導電性を保持すると共に、導電性粒子の濃度が低い
ゴム成分(A)の加硫物相の存在により、所定の柔軟性
を有する導電性ゴム成形品を得ることができる。二段階
加硫工程により、ゴム成分(A)の加硫物相よりもゴム
成分(B)の加硫物相の中の導電性粒子の濃度が高くな
ることは、同じ組成で、一段階で加硫して得られた加硫
物と二段階で加硫して得られた加硫物の各電気抵抗値を
対比すると、後者の電気抵抗値が大幅に小さくなってい
ることから明らかである。
り、(i)ゴム成分(A)の加硫物相とゴム成分(B)
の加硫物相とからなるミクロドメイン構造が形成され、
(ii)ゴム成分(A)の加硫物相よりもゴム成分(B)
の加硫物相の中の導電性粒子の濃度が高く、(iii)所
定の導電性を保持すると共に、導電性粒子の濃度が低い
ゴム成分(A)の加硫物相の存在により、所定の柔軟性
を有する導電性ゴム成形品を得ることができる。二段階
加硫工程により、ゴム成分(A)の加硫物相よりもゴム
成分(B)の加硫物相の中の導電性粒子の濃度が高くな
ることは、同じ組成で、一段階で加硫して得られた加硫
物と二段階で加硫して得られた加硫物の各電気抵抗値を
対比すると、後者の電気抵抗値が大幅に小さくなってい
ることから明らかである。
本発明のゴム加硫物は、導電性ゴム組成物中に、ブリ
ードアウトして感光体を汚染する軟化剤のような添加剤
を含有させなくても、適度の柔軟性を有する。また、添
加剤成分のブリードアウトを防止するための特殊な積層
構造を必要としない。したがって、本発明の導電性ゴム
成形品は、例えば、帯電ロールとして、感光体と直接接
触させて使用することが可能であり、しかも単層ロール
として使用することができるため、積層体ロールよりも
簡易に製造できる。
ードアウトして感光体を汚染する軟化剤のような添加剤
を含有させなくても、適度の柔軟性を有する。また、添
加剤成分のブリードアウトを防止するための特殊な積層
構造を必要としない。したがって、本発明の導電性ゴム
成形品は、例えば、帯電ロールとして、感光体と直接接
触させて使用することが可能であり、しかも単層ロール
として使用することができるため、積層体ロールよりも
簡易に製造できる。
本発明の導電性部材には、その表面に樹脂などをコー
トすることができる。また、表面の摩擦抵抗を低下させ
るために、紫外線照射処理などを行うことができる。
トすることができる。また、表面の摩擦抵抗を低下させ
るために、紫外線照射処理などを行うことができる。
本発明の導電性ゴム成形品は、電子写真複写機や静電
記録装置などの画像形成装置において使用される現像ロ
ール、帯電ロール、転写ロールなどの導電性ロール、あ
るいはトナー層形成用ブレード、クリーニングブレード
などの導電性ブレードなどの導電性部材として使用する
ことができるが、これらの他に、電気的特性と柔軟性を
活かして、電子写真複写機における各種ベルトなどとし
ても有用である。さらには、本発明の導電性ゴム成形品
は、画像形成装置における各種ゴムロールの表面保護層
や抵抗調整層などとしても使用することができる。
記録装置などの画像形成装置において使用される現像ロ
ール、帯電ロール、転写ロールなどの導電性ロール、あ
るいはトナー層形成用ブレード、クリーニングブレード
などの導電性ブレードなどの導電性部材として使用する
ことができるが、これらの他に、電気的特性と柔軟性を
活かして、電子写真複写機における各種ベルトなどとし
ても有用である。さらには、本発明の導電性ゴム成形品
は、画像形成装置における各種ゴムロールの表面保護層
や抵抗調整層などとしても使用することができる。
画像形成装置
本発明の導電性ゴム組成物を用いて作製した導電性ゴ
ムロールなどを備えた画像形成装置の具体例について説
明する。
ムロールなどを備えた画像形成装置の具体例について説
明する。
図1に、画像形成装置の一例の断面図を示す。この画
像形成装置では、像担持体として感光体ドラム1が矢印
方向に回転自在に装着されている。感光体ドラム1は、
通常、導電性支持ドラム体の外周上に光導電層(感光体
層)を設けた構造を有している。光導電層は、例えば、
有機系感光体、セレン感光体、酸化亜鉛感光体、アモル
ファスシリコン感光体などで構成される。
像形成装置では、像担持体として感光体ドラム1が矢印
方向に回転自在に装着されている。感光体ドラム1は、
通常、導電性支持ドラム体の外周上に光導電層(感光体
層)を設けた構造を有している。光導電層は、例えば、
有機系感光体、セレン感光体、酸化亜鉛感光体、アモル
ファスシリコン感光体などで構成される。
感光体ドラム1の周囲には、その周方向に沿って、帯
電手段3、潜像形成手段4、現像手段5、転写手段6、
及びクリーニング手段2が配置されている。帯電手段3
は、感光体ドラム1の表面をプラスまたはマイナスに一
様に帯電する作用を担う。この帯電手段3として、図1
には帯電ロールを示したが、これ以外に、例えば、帯電
ブレードやコロナ放電装置などを用いることができる。
潜像形成手段4は、画像信号に対応した光を、一様に帯
電された感光体ドラム表面に所定のパターンで照射し
て、被照射部分に静電潜像を形成する(反転現像方式)
か、あるいは、光が照射されない部分に静電潜像を形成
する(正規現像方式)作用を行う。潜像形成手段4は、
例えば、レーザ装置と光学系との組み合わせ、あるいは
LEDアレイと光学系との組み合わせにより構成される。
電手段3、潜像形成手段4、現像手段5、転写手段6、
及びクリーニング手段2が配置されている。帯電手段3
は、感光体ドラム1の表面をプラスまたはマイナスに一
様に帯電する作用を担う。この帯電手段3として、図1
には帯電ロールを示したが、これ以外に、例えば、帯電
ブレードやコロナ放電装置などを用いることができる。
潜像形成手段4は、画像信号に対応した光を、一様に帯
電された感光体ドラム表面に所定のパターンで照射し
て、被照射部分に静電潜像を形成する(反転現像方式)
か、あるいは、光が照射されない部分に静電潜像を形成
する(正規現像方式)作用を行う。潜像形成手段4は、
例えば、レーザ装置と光学系との組み合わせ、あるいは
LEDアレイと光学系との組み合わせにより構成される。
現像手段5は、感光体ドラム1表面に形成された静電
潜像に現像剤(トナー)を付着させる作用を行う。現像
手段5は、通常、現像ロール8、現像ロール用ブレード
9、現像剤10の収容手段(収容ケーシング)11、及び現
像剤供給手段(供給ロール)12を備えた現像装置であ
る。現像ロール8は、感光体ドラム1に対向して配置さ
れており、通常、その一部が感光体ドラム1に接触する
ように近接して配置され、感光体ドラム1とは反対方向
に回転させる。供給ロール12は、現像ロール8に接触し
て、現像ロール8と同じ方向に回転するようにし、現像
ロール8の外周にトナー10を供給する。現像ロール8
は、現像装置内で回転させると、摩擦による静電気力な
どにより現像剤収容手段11内のトナー10が外周面に付着
する。現像ロール用ブレード9は、回転する現像ロール
8の外周面に当接し、現像ロール8の外周面に形成され
るトナー層の層厚を調節する。反転現像方式において
は、感光体ドラム1の光照射部にのみトナーを付着さ
せ、正規現像方式においては、光非照射部にのみトナー
を付着させるように、現像ロール8と感光体ドラム1と
の間にバイアス電圧が印加される。
潜像に現像剤(トナー)を付着させる作用を行う。現像
手段5は、通常、現像ロール8、現像ロール用ブレード
9、現像剤10の収容手段(収容ケーシング)11、及び現
像剤供給手段(供給ロール)12を備えた現像装置であ
る。現像ロール8は、感光体ドラム1に対向して配置さ
れており、通常、その一部が感光体ドラム1に接触する
ように近接して配置され、感光体ドラム1とは反対方向
に回転させる。供給ロール12は、現像ロール8に接触し
て、現像ロール8と同じ方向に回転するようにし、現像
ロール8の外周にトナー10を供給する。現像ロール8
は、現像装置内で回転させると、摩擦による静電気力な
どにより現像剤収容手段11内のトナー10が外周面に付着
する。現像ロール用ブレード9は、回転する現像ロール
8の外周面に当接し、現像ロール8の外周面に形成され
るトナー層の層厚を調節する。反転現像方式において
は、感光体ドラム1の光照射部にのみトナーを付着さ
せ、正規現像方式においては、光非照射部にのみトナー
を付着させるように、現像ロール8と感光体ドラム1と
の間にバイアス電圧が印加される。
転写手段6は、現像手段5により形成された感光体ド
ラム1表面のトナー像を被転写材(転写紙)7に転写す
るためのものであり、図1には転写ロールを示したが、
これ以外に、例えば、転写ベルトやコロナ放電装置など
を使用することができる。クリーニング手段2は、感光
体ドラム1の表面に残留したトナーを清掃するためのも
のであり、例えば、清掃用ブレードなどにより構成され
る。このクリーニング手段は、現像時と同時にクリーニ
ング作用を行う方式の場合には、必ずしも必要ではな
い。
ラム1表面のトナー像を被転写材(転写紙)7に転写す
るためのものであり、図1には転写ロールを示したが、
これ以外に、例えば、転写ベルトやコロナ放電装置など
を使用することができる。クリーニング手段2は、感光
体ドラム1の表面に残留したトナーを清掃するためのも
のであり、例えば、清掃用ブレードなどにより構成され
る。このクリーニング手段は、現像時と同時にクリーニ
ング作用を行う方式の場合には、必ずしも必要ではな
い。
したがって、本発明によれば、像担持体、帯電手段、
潜像形成手段、現像手段、及び転写手段を備えた画像形
成装置において、前記の導電性ゴムロールが、帯電手段
としての帯電ロール、現像手段中の現像ロール、及び転
写手段としての転写ロールの内の少なくとも1つとして
配置された画像形成装置が提供される。
潜像形成手段、現像手段、及び転写手段を備えた画像形
成装置において、前記の導電性ゴムロールが、帯電手段
としての帯電ロール、現像手段中の現像ロール、及び転
写手段としての転写ロールの内の少なくとも1つとして
配置された画像形成装置が提供される。
もちろん、本発明の導電性ゴム組成物から形成された
導電性ゴムブレードを、各種ブレードとして配置した画
像形成装置も提供することができる。
導電性ゴムブレードを、各種ブレードとして配置した画
像形成装置も提供することができる。
実施例
以下に実施例及び比較例を挙げて、本発明についてよ
り具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例のみ
に限定されるものではない。なお、配合割合の部数は、
重量基準である。
り具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例のみ
に限定されるものではない。なお、配合割合の部数は、
重量基準である。
物性の測定法は、以下のとおりである。
(1)電気抵抗値
芯金(シャフト)とロール表面に電極を接触させ、ロ
ール材料の電気抵抗値を測定した。一方の電極を金属シ
ャフトに接続させ、他方の電極を金属板に接続し、この
金属板に、ロールのシャフトの両端に250gの荷重をかけ
た状態でロールを接触させ、電気抵抗値を測定した。測
定電圧は250Vとした。測定機としては、日置電気(株)
製メガオームテスター3119型を用いた。測定環境は、
10℃、20%RH、23℃、50%RH、及び35℃、80%RHで
あり、各環境下に48時間放置した後、その環境下で抵抗
値の測定を行った。
ール材料の電気抵抗値を測定した。一方の電極を金属シ
ャフトに接続させ、他方の電極を金属板に接続し、この
金属板に、ロールのシャフトの両端に250gの荷重をかけ
た状態でロールを接触させ、電気抵抗値を測定した。測
定電圧は250Vとした。測定機としては、日置電気(株)
製メガオームテスター3119型を用いた。測定環境は、
10℃、20%RH、23℃、50%RH、及び35℃、80%RHで
あり、各環境下に48時間放置した後、その環境下で抵抗
値の測定を行った。
(2)加工性
金型からの取り出し易さを加工性の指標として、以下
の基準で評価した。
の基準で評価した。
○:金型から取り出し易い、
×:離型性が悪く、金型から取り出しにくい。
[実施例1]
ゴム成分(A)としてエポキシ基含有アクリルゴム、
ゴム成分(B)としてNBR及び液状NBR、導電性粒子とし
て導電性カーボンブラック(ケッチェンブラックインタ
ーンナショナル社製ケッチェンブラックEC)、及びゴム
成分(A)の加硫剤(一次加硫剤)としてイソシアヌル
酸、オクタデシルトリメチルアンモニウムブロマイド及
びジフェニルウレアを用い、さらに加硫促進剤としてス
テアリン酸を用いた。
ゴム成分(B)としてNBR及び液状NBR、導電性粒子とし
て導電性カーボンブラック(ケッチェンブラックインタ
ーンナショナル社製ケッチェンブラックEC)、及びゴム
成分(A)の加硫剤(一次加硫剤)としてイソシアヌル
酸、オクタデシルトリメチルアンモニウムブロマイド及
びジフェニルウレアを用い、さらに加硫促進剤としてス
テアリン酸を用いた。
表1に示す配合割合の各成分をバンバリーミキサーに
投入して混練し、その際、150℃に加熱してゴム成分
(A)のエポキシ基含有アクリルゴムの加硫(一次加
硫)を行った。導電性粒子の配合割合は、ゴム成分
(B)100部に対して10部となる。
投入して混練し、その際、150℃に加熱してゴム成分
(A)のエポキシ基含有アクリルゴムの加硫(一次加
硫)を行った。導電性粒子の配合割合は、ゴム成分
(B)100部に対して10部となる。
次いで、ゴム成分(B)の加硫剤(二次加硫剤)とし
てジクミルペルオキシドを表1に示す割合で添加して混
練し、混練物を8mmφ×280mmのステンレス鋼製の芯金の
回りに押出成形し、160℃で30分間加熱することにより
加硫(二次加硫)して、ロール状の成形品を得た。得ら
れた成形品の表面を研磨して、20mmφ×250mmの導電性
ゴムロールを得た。結果を表1に示す。
てジクミルペルオキシドを表1に示す割合で添加して混
練し、混練物を8mmφ×280mmのステンレス鋼製の芯金の
回りに押出成形し、160℃で30分間加熱することにより
加硫(二次加硫)して、ロール状の成形品を得た。得ら
れた成形品の表面を研磨して、20mmφ×250mmの導電性
ゴムロールを得た。結果を表1に示す。
[実施例2]
各成分の配合割合を表1に示すように変更したこと以
外は、実施例1と同様にして、一次加硫、押出成形、及
び二次加硫を行い、導電性ゴムロールを作製した。結果
を表1に示す。
外は、実施例1と同様にして、一次加硫、押出成形、及
び二次加硫を行い、導電性ゴムロールを作製した。結果
を表1に示す。
[実施例3]
実施例2において、導電性粒子をケッチェンブラック
ECからHAFカーボン(東海カーボン社製、シースト#
3)に代え、NBR100部当たり40部の割合で使用したこと
以外は、実施例2と同様にして、導電性ゴムロールを作
製した。結果を表1に示す。
ECからHAFカーボン(東海カーボン社製、シースト#
3)に代え、NBR100部当たり40部の割合で使用したこと
以外は、実施例2と同様にして、導電性ゴムロールを作
製した。結果を表1に示す。
[比較例1]
表1に示す配合割合の各成分を一括して混練し、エポ
キシ基含有アクリルゴム成分の一次加硫を行うことな
く、混練物を8mmφ×280mmのステンレス鋼製の芯金の回
りに押出成形し、160℃で30分間加熱することにより加
硫した。得られたロール状成形品の表面を研磨して、20
mmφ×250mmの導電性ゴムロールを得た。結果を表1に
示す。
キシ基含有アクリルゴム成分の一次加硫を行うことな
く、混練物を8mmφ×280mmのステンレス鋼製の芯金の回
りに押出成形し、160℃で30分間加熱することにより加
硫した。得られたロール状成形品の表面を研磨して、20
mmφ×250mmの導電性ゴムロールを得た。結果を表1に
示す。
[比較例2]
ゴム成分としてNBRのみを用い、表1に示す配合割合
の各成分を一括して混練し、混練物を8mmφ×280mmのス
テンレス鋼製の芯金の回りに押出成形し、160℃で30分
間加熱することにより加硫した。得られたロール状成形
品の表面を研磨して、20mmφ×250mmの導電性ゴムロー
ルを得た。結果を表1に示す。
の各成分を一括して混練し、混練物を8mmφ×280mmのス
テンレス鋼製の芯金の回りに押出成形し、160℃で30分
間加熱することにより加硫した。得られたロール状成形
品の表面を研磨して、20mmφ×250mmの導電性ゴムロー
ルを得た。結果を表1に示す。
[実施例4]
ゴム成分(A)としてエピクロルヒドリン−エチレン
オキシドゴム(CHC)、ゴム成分(B)としてNBR、ゴム
成分(A)の加硫剤として2−メルカプトイミダゾリン
と鉛丹、そして、ゴム成分(B)の加硫剤としてテトラ
メチルチウラムジスルフィドを用いた。
オキシドゴム(CHC)、ゴム成分(B)としてNBR、ゴム
成分(A)の加硫剤として2−メルカプトイミダゾリン
と鉛丹、そして、ゴム成分(B)の加硫剤としてテトラ
メチルチウラムジスルフィドを用いた。
表2に示す配合処方の各ゴム成分、導電性粒子、ステ
アリン酸(0.5部)、及び一次加硫剤をバンバリーミキ
サーを用いて混練し、その際に、150℃に加熱してエピ
クロルヒドリンゴム成分の加硫(一次加硫)を行った。
次いで、二次加硫剤及びステアリン酸(3.0部)を添加
して再度混練し、混練物を8mmφ×280mmのステンレス鋼
製の芯金の回りに押出成形し、160℃で30分間加熱する
ことにより加硫(二次加硫)してロール状の成形品を得
た。得られた成形品の表面を研磨して、20mmφ×250mm
のゴムロールを得た。結果を表2に示す。
アリン酸(0.5部)、及び一次加硫剤をバンバリーミキ
サーを用いて混練し、その際に、150℃に加熱してエピ
クロルヒドリンゴム成分の加硫(一次加硫)を行った。
次いで、二次加硫剤及びステアリン酸(3.0部)を添加
して再度混練し、混練物を8mmφ×280mmのステンレス鋼
製の芯金の回りに押出成形し、160℃で30分間加熱する
ことにより加硫(二次加硫)してロール状の成形品を得
た。得られた成形品の表面を研磨して、20mmφ×250mm
のゴムロールを得た。結果を表2に示す。
[比較例3]
表2に示す配合割合の各成分を一括して混練して、エ
ピクロルヒドリンゴム成分の一次加硫を行うことなく、
混練物を8mmφ×280mmのステンレス鋼製の芯金の回りに
押出成形し、160℃で30分間加熱することにより加硫し
た。得られたロール状成形品の表面を研磨して、20mmφ
×250mmの導電性ゴムロールを得た。結果を表2に示
す。
ピクロルヒドリンゴム成分の一次加硫を行うことなく、
混練物を8mmφ×280mmのステンレス鋼製の芯金の回りに
押出成形し、160℃で30分間加熱することにより加硫し
た。得られたロール状成形品の表面を研磨して、20mmφ
×250mmの導電性ゴムロールを得た。結果を表2に示
す。
[実施例5〜8]
ゴム成分(B)を表3に示す各ゴム材料に変更したこ
と以外は、実施例2と同様にして、一次加硫、押出成
形、及び二次加硫を行い、導電性ゴムロールを作製し
た。結果を表3に示す。
と以外は、実施例2と同様にして、一次加硫、押出成
形、及び二次加硫を行い、導電性ゴムロールを作製し
た。結果を表3に示す。
産業上の利用可能性
本発明によれば、硬度及び電気抵抗値を所定の範囲内
に調整することができ、しかも所望の要求特性に応じ
て、ゴム成分の種類を選択することができる導電性ゴム
組成物、及びその製造方法が提供される。本発明の導電
性ゴム組成物は、電子写真複写機や静電記録装置などの
画像形成装置において使用される導電性ロールや導電性
ブレードなどの用途に好適である。本発明の導電性ゴム
部材は、電気抵抗及び硬度が所望の範囲内にあり、電気
抵抗の耐環境性に優れている。本発明の導電性ゴム部材
は、導電性ゴム組成物中に、ブリードアウトして感光体
を汚染する軟化剤のような添加剤を含有せしめなくて
も、適度の柔軟性を有し、添加剤成分のブリードアウト
を防止するための特殊な積層構造を必要としない。
に調整することができ、しかも所望の要求特性に応じ
て、ゴム成分の種類を選択することができる導電性ゴム
組成物、及びその製造方法が提供される。本発明の導電
性ゴム組成物は、電子写真複写機や静電記録装置などの
画像形成装置において使用される導電性ロールや導電性
ブレードなどの用途に好適である。本発明の導電性ゴム
部材は、電気抵抗及び硬度が所望の範囲内にあり、電気
抵抗の耐環境性に優れている。本発明の導電性ゴム部材
は、導電性ゴム組成物中に、ブリードアウトして感光体
を汚染する軟化剤のような添加剤を含有せしめなくて
も、適度の柔軟性を有し、添加剤成分のブリードアウト
を防止するための特殊な積層構造を必要としない。
─────────────────────────────────────────────────────
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(58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名)
C08C 19/00 - 19/44
C08K 3/00 - 3/40
C08L 7/00 - 21/02
C08L 101/00 - 101/10
G03G 15/02
G03G 15/08
G03G 15/16
WPI/L(QUESTEL)
Claims (32)
- 【請求項1】(補正後)ゴム成分(A)の加硫物、該ゴ
ム成分(A)とは異なる機構により加硫されるゴム成分
(B)、及び導電性粒子を含有する導電性ゴム組成物で
あって、該ゴム成分(A)の加硫物がゴム成分(B)中
に分散しており、かつ、少なくともゴム成分(B)が導
電性粒子を含有することを特徴とする導電性ゴム組成
物。 - 【請求項2】さらにゴム成分(B)の加硫剤を含有する
請求項1記載の導電性ゴム組成物。 - 【請求項3】ゴム成分(A)が、硫黄、硫黄供与体、及
び有機過酸化物から選ばれる加硫剤以外の加硫剤により
加硫可能なゴムである請求項1記載の導電性ゴム組成
物。 - 【請求項4】ゴム成分(A)が、エポキシ基またはハロ
ゲン原子を分子鎖中に有するゴムである請求項1記載の
導電性ゴム組成物。 - 【請求項5】エポキシ基またはハロゲン原子を分子鎖中
に有するゴムが、エピクロルヒドリンゴム、エピクロル
ヒドリン−エチレンオキシドゴム、エピクロルヒドリン
−プロピレンオキシドゴム、及びエポキシ基含有アクリ
ルゴムからなる群より選ばれる少なくとも一種のゴムで
ある請求項4記載の導電性ゴム組成物。 - 【請求項6】ゴム成分(B)が、ゴム成分(A)には該
当しない不飽和二重結合を有するゴムである請求項1記
載の導電性ゴム組成物。 - 【請求項7】不飽和二重結合を有するゴムが、硫黄、硫
黄供与体、及び有機過酸化物からなる群より選ばれる少
なくとも一種の加硫剤で加硫可能なものである請求項6
記載の導電性ゴムの組成物。 - 【請求項8】不飽和二重結合を有するゴムが、アクリロ
ニトリル−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−イソプ
レンゴム、アクリロニトリル−ブタジエン−イソプレン
ゴム、スチレン−ブタジエンゴム、ブタジエンゴム、イ
ソプレンゴム、天然ゴム、エチレン−プロピレン−ジエ
ンゴム、ブチルゴム、及びこれらのゴムの部分水素添加
物からなる群より選ばれる少なくとも一種のゴムである
請求項7記載の導電性ゴム組成物。 - 【請求項9】ゴム成分として、ゴム成分(A)20〜80重
量%とゴム成分(B)80〜20重量%とを含有する請求項
1記載の導電性ゴム組成物。 - 【請求項10】導電性粒子を、ゴム成分(B)100重量
部に対して、1〜100重量部の割合で含有する請求項1
記載の導電性ゴム組成物。 - 【請求項11】ゴム成分(A)、該ゴム成分(A)とは
異なる機構により加硫されるゴム成分(B)、導電性粒
子、及びゴム成分(A)の加硫剤を混練して、ゴム成分
(A)のみを加硫する工程を含むことを特徴とする導電
性ゴム組成物の製造方法。 - 【請求項12】ゴム成分(A)、該ゴム成分(A)とは
異なる機構により加硫されるゴム成分(B)、ゴム成分
(A)の加硫剤、及び導電性粒子の配合量の一部を混練
して、ゴム成分(A)のみを加硫し、次いで、ゴム成分
(B)の加硫剤、及び導電性粒子の配合量の残余を添加
する工程を含むことを特徴とする導電性ゴム組成物の製
造方法。 - 【請求項13】ゴム成分(A)、該ゴム成分(A)とは
異なる機構により加硫されるゴム成分(B)、及びゴム
成分(A)の加硫剤を混練して、ゴム成分(A)のみを
加硫し、次いで、ゴム成分(B)の加硫剤、及び導電性
粒子を添加する工程を含むことを特徴とする導電性ゴム
組成物の製造方法。 - 【請求項14】(補正後)ゴム成分(A)の加硫物、ゴ
ム成分(A)とは異なる機構により加硫されたゴム成分
(B)の加硫物、及び導電性粒子を含有する導電性ゴム
部材であって、該ゴム成分(A)の加硫物がゴム成分
(B)の加硫物中に分散しており、かつ、少なくともゴ
ム成分(B)の加硫物が導電性粒子を含有していること
を特徴とする導電性ゴム部材。 - 【請求項15】ゴム成分(A)の加硫物相とゴム成分
(B)の加硫物相とからなるミクロドメイン構造が形成
され、ゴム成分(A)の加硫物相よりもゴム成分(B)
の加硫物相の中の導電性粒子の濃度が高い請求項14記載
の導電性ゴム部材。 - 【請求項16】電気抵抗値(23℃、50%RH)が103〜10
10Ωの範囲内で、かつ、JIS−A硬度が20〜60度の範囲
内である請求項14記載の導電性ゴム部材。 - 【請求項17】ゴム成分(A)が、硫黄、硫黄供与体、
及び有機過酸化物から選ばれる加硫剤以外の加硫剤によ
り加硫可能なゴムである請求項14記載の導電性ゴム部
材。 - 【請求項18】ゴム成分(A)が、エポキシ基またはハ
ロゲン原子を分子鎖中に有するゴムである請求項14記載
の導電性ゴム部材。 - 【請求項19】ゴム成分(B)が、ゴム成分(A)には
該当しない不飽和二重結合を有するゴムである請求項14
記載の導電性ゴム部材。 - 【請求項20】不飽和二重結合を有するゴムが、硫黄、
硫黄供与体、及び有機過酸化物からなる群より選ばれる
少なくとも一種の加硫剤で加硫可能なものである請求項
19記載の導電性ゴム部材。 - 【請求項21】ゴム成分(A)、該ゴム成分(A)とは
異なる機構により加硫されるゴム成分(B)、導電性粒
子、及びゴム成分(A)の加硫剤を混練して、ゴム成分
(A)のみを加硫し、次いで、ゴム成分(B)の加硫剤
を添加して混練し、所望の形状に賦形した後、ゴム成分
(B)を加硫する工程を含むことを特徴とする導電性ゴ
ム部材の製造方法。 - 【請求項22】ゴム成分(A)、該ゴム成分(A)とは
異なる機構により加硫されるゴム成分(B)、ゴム成分
(A)の加硫剤、及び導電性粒子の配合量の一部を混練
して、ゴム成分(A)のみを加硫し、次いで、ゴム成分
(B)の加硫剤、及び導電性粒子の配合量の残余を添加
して混練し、所望の形状に賦形した後、ゴム成分(B)
を加硫する工程を含むことを特徴とする導電性ゴム部材
の製造方法。 - 【請求項23】ゴム成分(A)、該ゴム成分(A)とは
異なる機構により加硫されるゴム成分(B)、及びゴム
成分(A)の加硫剤を混練して、ゴム成分(A)のみを
加硫し、次いで、ゴム成分(B)の加硫剤、及び導電性
粒子を添加して混練し、所望の形状に賦形した後、ゴム
成分(B)を加硫する工程を含むことを特徴とする導電
性ゴム部材の製造方法。 - 【請求項24】(補正後)導電性の芯金の外周面に、導
電性粒子を含有するゴム被覆層が形成されている導電性
ゴムロールにおいて、該ゴム被覆層が、ゴム成分(A)
の加硫物、ゴム成分(A)とは異なる機構により加硫さ
れたゴム成分(B)の加硫物、及び導電性粒子を含有す
るものであって、該ゴム成分(A)の加硫物がゴム成分
(B)の加硫物中に分散しており、かつ、少なくともゴ
ム成分(B)の加硫物が導電性粒子を含有していること
を特徴とする導電性ゴムロール。 - 【請求項25】ゴム成分(A)の加硫物相とゴム成分
(B)の加硫物相とからなるミクロドメイン構造が形成
され、ゴム成分(A)の加硫物相よりもゴム成分(B)
の加硫物相の中の導電性粒子の濃度が高い請求項24記載
の導電性ゴムロール。 - 【請求項26】ゴム被覆層の電気抵抗値(23℃、50%R
H)が103〜1010Ωの範囲内で、かつ、JIS−A硬度が20
〜60度の範囲内である請求項24記載の導電性ゴムロー
ル。 - 【請求項27】ゴム成分(A)が、硫黄、硫黄供与体、
及び有機過酸化物から選ばれる加硫剤以外の加硫剤によ
り加硫可能なゴムである請求項24記載の導電性ゴムロー
ル。 - 【請求項28】ゴム成分(A)が、エポキシ基またはハ
ロゲン原子を分子鎖中に有するゴムである請求項24記載
の導電性ゴムロール。 - 【請求項29】ゴム成分(B)が、ゴム成分(A)には
該当しない不飽和二重結合を有するゴムである請求項24
記載の導電性ゴムロール。 - 【請求項30】不飽和二重結合を有するゴムが、硫黄、
硫黄供与体、及び有機過酸化物からなる群より選ばれる
少なくとも一種の加硫剤で加硫可能なものである請求項
29記載の導電性ゴムロール。 - 【請求項31】(補正後)導電性ゴムロールを備えた画
像形成装置において、該導電性ゴムロールが、導電性の
芯金の外周面に、ゴム成分(A)の加硫物、ゴム成分
(A)とは異なる機構により加硫されたゴム成分(B)
の加硫物、及び導電性粒子を含有するゴム被覆層が形成
されたものであって、該ゴム成分(A)の加硫物がゴム
成分(B)の加硫物中に分散しており、かつ、少なくと
もゴム成分(B)の加硫物が導電性粒子を含有している
ことを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項32】導電性ゴムロールが、帯電ロール、現像
ロールまたは転写ロールのうちの少なくとも1つである
請求項31記載の画像形成装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7-198070 | 1995-07-11 | ||
JP19807095 | 1995-07-11 | ||
PCT/JP1996/001934 WO1997003122A1 (fr) | 1995-07-11 | 1996-07-11 | Composition de caoutchouc conductrice et procede de production |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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ID=16385029
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP50568197A Expired - Fee Related JP3449726B2 (ja) | 1995-07-11 | 1996-07-11 | 導電性ゴム組成物及びその製造方法 |
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Country | Link |
---|---|
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WO (1) | WO1997003122A1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100989602B1 (ko) * | 2007-06-01 | 2010-10-25 | 스미토모 고무 고교 가부시키가이샤 | 화상 형성 장치용 클리닝 블레이드의 제조 방법 및 클리닝블레이드 |
US8882646B2 (en) | 2010-05-12 | 2014-11-11 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Semiconductive roller, charging roller and electrophotographic apparatus |
US9539744B2 (en) | 2014-05-01 | 2017-01-10 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Semiconductive roller and production method therefor |
JP2017015800A (ja) * | 2015-06-29 | 2017-01-19 | 住友理工株式会社 | 電子写真機器用導電性部材 |
Families Citing this family (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6458883B1 (en) * | 1999-01-14 | 2002-10-01 | Jsr Corporation | Conductive rubber composition and manufacturing method and conductive rubber member thereof |
US6432394B2 (en) | 1999-04-19 | 2002-08-13 | Unilever Home & Personal Care Usa, Division Of Conopco, Inc | Hair conditioning compositions comprising one or more dibasic amino acids |
CN1206271C (zh) | 1999-11-01 | 2005-06-15 | 东海橡胶工业株式会社 | 橡胶防振器及其生产方法 |
JP4602500B2 (ja) * | 1999-12-06 | 2010-12-22 | 電気化学工業株式会社 | ハロゲン含有ゴム組成物 |
US6656582B2 (en) * | 2000-06-16 | 2003-12-02 | Tokai Rubber Industries, Ltd. | Rubber product with metallic structure and method of producing the same |
US20040133301A1 (en) * | 2002-07-09 | 2004-07-08 | Signature Control Systems | Process and apparatus for improving and controlling the vulcanization of natural and synthetic rubber compounds |
US7167773B2 (en) * | 2001-03-21 | 2007-01-23 | Signature Control Systems | Process and apparatus for improving and controlling the curing of natural and synthetic moldable compounds |
US6774643B2 (en) | 2001-03-21 | 2004-08-10 | Signature Control Systems | Non-bridged single electrode impedance measurement system for determining a condition of a dielectric according to impedance related changes over a range of frequencies |
US7245985B2 (en) * | 2001-03-21 | 2007-07-17 | Signature Control Systems | Process and apparatus for improving and controlling the vulcanization of natural and synthetic rubber compounds |
US6855791B2 (en) * | 2002-07-09 | 2005-02-15 | Signature Control Systems | Process and apparatus for improving and controlling the vulcanization of natural and synthetic rubber compounds |
US6652968B1 (en) | 2001-03-22 | 2003-11-25 | Dorothy H. J. Miller | Pressure activated electrically conductive material |
WO2004050761A1 (ja) * | 2002-11-29 | 2004-06-17 | Zeon Corporation | 半導電性ゴムロール用ゴム組成物及び半導電性ゴムロール |
US7135122B2 (en) * | 2004-03-31 | 2006-11-14 | Freudenberg-Nok General Partnership | Polytetrafluoroethylene composites |
US7452577B2 (en) * | 2004-06-30 | 2008-11-18 | Freudenberg-Nok General Partnership | Electron beam curing of fabricated polymeric structures |
US20060000801A1 (en) * | 2004-06-30 | 2006-01-05 | Park Edward H | Surface bonding in halogenated polymeric components |
US7244329B2 (en) * | 2004-06-30 | 2007-07-17 | Freudenberg-Nok General Partnership | Electron beam curing in a composite having a flow resistant adhesive layer |
US7230038B2 (en) * | 2004-06-30 | 2007-06-12 | Freudenberg-Nok General Partnership | Branched chain fluoropolymers |
US7342072B2 (en) | 2004-06-30 | 2008-03-11 | Freudenberg-Nok General Partnership | Bimodal compounds having an elastomeric moiety |
US7521508B2 (en) * | 2004-06-30 | 2009-04-21 | Freudenberg-Nok General Partnership | Electron beam inter-curing of plastic and elastomer blends |
JP4602717B2 (ja) * | 2004-08-30 | 2010-12-22 | 住友ゴム工業株式会社 | ゴム組成物 |
US20060099368A1 (en) * | 2004-11-08 | 2006-05-11 | Park Edward H | Fuel hose with a fluoropolymer inner layer |
US7381765B2 (en) | 2004-11-08 | 2008-06-03 | Freudenberg-Nok General Partnership | Electrostatically dissipative fluoropolymers |
US20060100368A1 (en) * | 2004-11-08 | 2006-05-11 | Park Edward H | Elastomer gum polymer systems |
JP4700985B2 (ja) * | 2005-03-15 | 2011-06-15 | キヤノン株式会社 | 電子写真用導電性部材、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
US20070048476A1 (en) * | 2005-08-31 | 2007-03-01 | Freudenberg-Nok General Partnership | Assemblies sealed with multilayer composite compression seals having a layer of dispersed fluoroelastomer in thermoplastic |
US20070045967A1 (en) * | 2005-08-31 | 2007-03-01 | Freudenberg-Nok General Partnership | Assemblies sealed with multilayer composite torsion seals having a layer of dispersed fluoroelastomer in thermoplastic |
US20070044906A1 (en) * | 2005-08-31 | 2007-03-01 | Freudenberg-Nok General Partnership | Multilayer polymeric composites having a layer of dispersed fluoroelastomer in thermoplastic |
JP4463798B2 (ja) * | 2005-12-20 | 2010-05-19 | 住友ゴム工業株式会社 | 画像形成装置用クリーニングブレード |
US7863365B2 (en) | 2006-12-20 | 2011-01-04 | Freudenberg-Nok General Partnership | Robust magnetizable elastomeric thermoplastic blends |
US7676953B2 (en) * | 2006-12-29 | 2010-03-16 | Signature Control Systems, Inc. | Calibration and metering methods for wood kiln moisture measurement |
EP2154196B1 (en) * | 2007-06-13 | 2017-01-25 | Denka Company Limited | Acrylic rubber composition, vulcanized rubber obtained therefrom, and use thereof |
JP5496825B2 (ja) * | 2010-02-25 | 2014-05-21 | 東海ゴム工業株式会社 | 電子写真機器用導電性ロール |
WO2012023547A1 (ja) * | 2010-08-19 | 2012-02-23 | 東海ゴム工業株式会社 | 改質ポリマー基材およびその製造方法ならびに表面処理剤 |
JP6000580B2 (ja) * | 2011-03-29 | 2016-09-28 | キヤノン株式会社 | 接触帯電ローラ、現像部材、導電性部材およびこれらの製造方法、プロセスカートリッジならびに電子写真装置 |
CN103857746A (zh) * | 2011-10-07 | 2014-06-11 | 大曹株式会社 | 半导电性橡胶组合物 |
CN107407897B (zh) * | 2015-03-30 | 2019-05-03 | 住友理工株式会社 | 电子照相设备用导电性部件 |
JP6546570B2 (ja) | 2016-08-31 | 2019-07-17 | 住友理工株式会社 | 防振ゴム組成物および防振ゴム |
CN115678282A (zh) * | 2021-07-21 | 2023-02-03 | 未来穿戴技术有限公司 | 导电硅胶及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0798876B2 (ja) * | 1986-05-30 | 1995-10-25 | エヌオーケー株式会社 | 導電性ゴム組成物の製造法 |
JPH03137121A (ja) * | 1989-06-19 | 1991-06-11 | Showa Denko Kk | 導電性樹脂接続材 |
JPH0816195B2 (ja) * | 1989-12-19 | 1996-02-21 | 信越化学工業株式会社 | ゴム組成物の製造方法 |
JP2705780B2 (ja) * | 1989-12-25 | 1998-01-28 | キヤノン株式会社 | 接触帯電部材 |
JPH04133937A (ja) * | 1990-09-27 | 1992-05-07 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 低硬度かつ導電性のゴムロール |
JPH06167861A (ja) * | 1991-07-04 | 1994-06-14 | Canon Inc | 画像形成装置の帯電部材 |
JPH0559222A (ja) * | 1991-09-02 | 1993-03-09 | Tokai Rubber Ind Ltd | ゴム組成物 |
JPH05188753A (ja) * | 1992-01-09 | 1993-07-30 | Showa Electric Wire & Cable Co Ltd | 導電性ローラ |
JP3120540B2 (ja) * | 1992-02-10 | 2000-12-25 | 株式会社ブリヂストン | 導電性ロール |
JP3331225B2 (ja) * | 1992-07-28 | 2002-10-07 | 信越ポリマー株式会社 | シリコーンゴム組成物 |
JP3140874B2 (ja) * | 1993-01-08 | 2001-03-05 | 昭和電線電纜株式会社 | 導電性ローラ |
JP3121163B2 (ja) * | 1993-01-11 | 2000-12-25 | 昭和電線電纜株式会社 | 導電性ローラ |
JPH06250496A (ja) * | 1993-02-23 | 1994-09-09 | Bando Chem Ind Ltd | 接触帯電用導電性ローラー |
-
1996
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100989602B1 (ko) * | 2007-06-01 | 2010-10-25 | 스미토모 고무 고교 가부시키가이샤 | 화상 형성 장치용 클리닝 블레이드의 제조 방법 및 클리닝블레이드 |
US8882646B2 (en) | 2010-05-12 | 2014-11-11 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Semiconductive roller, charging roller and electrophotographic apparatus |
US9274460B2 (en) | 2010-05-12 | 2016-03-01 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Semiconductive roller, charging roller and electrophotographic apparatus |
US9539744B2 (en) | 2014-05-01 | 2017-01-10 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Semiconductive roller and production method therefor |
JP2017015800A (ja) * | 2015-06-29 | 2017-01-19 | 住友理工株式会社 | 電子写真機器用導電性部材 |
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