JP3428440B2 - 半導体発光装置及びこれを備えた表示装置構造 - Google Patents
半導体発光装置及びこれを備えた表示装置構造Info
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Description
の半導体発光装置に係り、特にサブマウント素子と複合
素子化して機能の拡充を図るとともに薄型化も可能とし
た半導体発光装置及びこれを備える表示装置構造に関す
る。
nAlGaN等のGaN系化合物半導体を利用した青色
発光の半導体発光素子は、結晶基板として一般的には絶
縁性のサファイアが利用される。このような絶縁性の基
板を用いるものでは、基板とは反対側の面にp側及びn
側の電極がそれぞれ形成される。そして、このことを利
用して、各電極をマイクロバンプを介してリードフレー
ムの搭載面に搭載して接合するフリップチップ型のもの
が既に知られている。このフリップチップ型とする場合
では、基板側を主光取出し面としたLEDランプやチッ
プLEDの発光装置が得られる。
型的な例であって、同図の(a)は縦断面図、同図の
(b)は平面図である。
パターン51a,51bに導通させてフリップチップ型
の発光素子52が搭載され、この発光素子52を含んで
エポキシ樹脂53によって封止されている。
基板52aの上にp型及びn型の半導体薄膜層を積層
し、p型層及びn型層のそれぞれの表面にp側電極52
b及びn側電極52cをそれぞれ形成したものである。
そして、配線パターン51a,51bに導通させるた
め、p側及びn側の電極52b,52cにはそれぞれマ
イクロバンプ52d,52eを形成し、発光素子52に
加圧と超音波振動を与えることによってマイクロバンプ
52d,52eをそれぞれ配線パターン51a,51b
に接合するアセンブリが行われる。
型層との間のpn接合域が活性層となり、図4の透明の
サファイアの基板52aの上端面を主光取出し面とした
発光が得られる。なお、活性層からの光は下側及び側方
にも抜ける成分も含まれるが、下側に向かう光に限って
は、たとえば配線パターン51a,51bの金属光沢を
利用して一部を反射させることで、主光取出し面側に回
収される。
化合物半導体層を積層したものでは、素子材料のたとえ
ば誘電率εなどの物理定数や素子構造に起因して、静電
気に対して非常に弱いことが従来から知られている。た
とえば、LEDランプと静電気がチャージされたコンデ
ンサとを対向させて両者間に放電を生じさせたとき、順
方向でおよそ100Vの静電圧で、逆方向ではおよそ3
0Vの静電圧で破壊されてしまう。
素子の破壊を防止するためには、Siダイオードを利用
した静電気保護素子を備えることが有効である。この静
電気保護素子は、本願出願人が先に提案して特願平9−
18782号として既に出願した明細書及び図面に記載
のものが適用できる。これは、n型のシリコン基板を基
材としたSiダイオードを発光素子と逆極性の関係にな
るように導通をとりながら接続した構成としたものであ
る。
用のSiダイオードに発光素子52を搭載して複合素子
化すると、これらのSiダイオードと発光素子52の積
層方向の嵩が大きくなる。そして、一般にSiダイオー
ドのほうが発光素子52よりも大きく形成される傾向が
あるので、少なくとも図4の(a)の発光素子52の2
倍以上の高さまで増えてしまう。
電気保護機能を付加しようとした場合、配線基板51の
表面からの高さ寸法が大きくなってしまうので、封止用
のエポキシ樹脂53を含めた全体が大型化する。そし
て、半導体発光装置の分野では、装置の小型化が最大の
課題であることから、Siダイオードを付帯することは
発光装置の設計に大きな影響を及ぼすことになる。
52を搭載するリードフレームの搭載面はすり鉢状とし
たものが従来から多用されている。このようなリードフ
レームであれば、搭載面の底面及び内周面を金属メッキ
等によって光反射率が高いものとしておけば、発光素子
52の活性層から下側及び側方に抜ける光を効率よく光
取出し面側に回収することができる。
素子52が平板状の配線基板51の上面に搭載されるの
で、先に述べたように配線パターン51a,51bの金
属面からの光の反射があるものの、量的には極めて僅か
である。したがって、光の取出し効率が十分でなくな
り、発光輝度にも影響を及ぼす。
等の配線基板に実装する場合でも、サブマウント素子と
複合素子化したものでは、厚さが大きくなることから、
小型化への障害の一つとなる。
気保護等の機能付加のためにSiダイオードと複合素子
化しようとしても、発光装置の嵩が厚くなってしまい、
装置の小型化に対応できない。また、発光素子の主光取
出し面以外から漏れる光が無駄になり、輝度の向上も十
分に図られていない。
加のためのサブマウント素子とともに発光素子を複合化
してもディスプレイ等の配線基板にコンパクトにアセン
ブリできしかも発光輝度の向上も可能な半導体発光装置
を提供することにある。
に半導体薄膜層を積層するとともにこの積層膜の表面側
にp側及びn側の電極をそれぞれ形成した半導体発光素
子と、2つの電極を持ちこれらのそれぞれを前記p側及
びn側の電極に導通させて前記半導体発光素子を接合す
るサブマウント素子と、前記2つの電極にそれぞれ導通
させる配線を備えた保持基板とを備え、前記保持基板
は、前記半導体発光素子をその主光取出し面が発光方向
を向く姿勢として差し込み可能なスルーホールを備え、
前記半導体発光素子を前記スルーホールの中に位置させ
るとともに前記サブマウント素子を前記保持基板の表面
側に対峙させて配置し、前記サブマウント素子の2つの
電極のそれぞれを前記保持基板の配線と導通させてこの
保持基板に接合固定してなることを特徴とする。
ブマウント素子とともに複合素子化しても、半導体発光
素子をスルーホールの中に位置させることで保持基板に
よって半導体発光素子の嵩を吸収することができる。
基板の配線に導通する配線基板に前記サブマウント素子
を差し込み可能な孔または凹部を設け、前記サブマウン
ト素子を前記孔または凹部に落とし込ませて配置してな
ることを特徴とする。
突き出て配置されるサブマウント素子を孔または凹部に
差し込んで配線基板に対して保持基板をアセンブリでき
るので、配線基板からは保持基板の厚さに相当する分だ
けが突き出しの嵩となり、ディスプレイパネルの薄型化
が可能となる。
板の上に半導体薄膜層を積層するとともにこの積層膜の
表面側にp側及びn側の電極をそれぞれ形成した半導体
発光素子と、2つの電極を持ちこれらのそれぞれを前記
p側及びn側の電極に導通させて前記半導体発光素子を
接合するサブマウント素子と、前記2つの電極にそれぞ
れ導通させる配線を備えた保持基板とを備え、前記保持
基板は、前記半導体発光素子をその主光取出し面が発光
方向を向く姿勢として差し込み可能なスルーホールを備
え、前記半導体発光素子を前記スルーホールの中に位置
させるとともに前記サブマウント素子を前記保持基板の
表面側に対峙させて配置し、前記サブマウント素子の2
つの電極のそれぞれを前記保持基板の配線と導通させて
この保持基板に接合固定してなるものであり、半導体発
光素子をサブマウント素子とともに複合素子化しても、
コンパクトなアセンブリができるという作用を有する。
ルは、前記半導体発光装置の主光取出し面からの発光方
向とほぼ調心するすり鉢状の内周面を持ち、この内周面
を前記半導体発光素子からの光をその発光方向へ反射さ
せる反射面としてなる請求項1記載の半導体発光装置で
あり、半導体発光素子から側方に抜ける光を主光取出し
面側に反射させて回収できるという作用を有する。
配線を光反射性の金属配線として前記スルーホールの内
周面まで展開し、この金属配線によって前記反射面を形
成してなる請求項2記載の半導体発光装置であり、光反
射性の金属配線を半導体発光素子の反射部材としても兼
用できるという作用を有する。
ルの内周面をAg,Alなどの銀白色系の金属によって
被覆し、この被覆金属によって前記反射面を形成してな
る請求項2記載の半導体発光装置であり、銀白色系の金
属は青色等の短波長可視光に対して反射率が高いので、
半導体発光素子から側面に抜ける光を更に一層効率よく
主光取出し面側に回収できるという作用を有する。
を、前記スルーホールの内部に充填して前記半導体発光
素子を封止するとともに、外側に向けて膨出する凸面の
レンズとして備えてなる請求項1から4のいずれかに記
載の半導体発光装置であり、凸面のレンズ形状の光透過
性樹脂によって半導体発光素子からの光を集光させて光
軸上の輝度を高くしパネルディスプレイ等の正面輝度を
向上させるという作用を有する。
樹脂によって形成した凸面のレンズは、その光軸と直交
する面内に含まれる断面を楕円形状としてなる請求項5
記載の半導体発光装置であり、パネルディスプレイ等の
配光を左右方向には広くて上下方向には狭くした発光が
可能となるとともに正面輝度も更に高めるという作用を
有する。
装置とサブマウント素子との電極どうし及びサブマウン
ト素子と前記保持基板の配線どうしをマイクロバンプに
より接合してなる請求項1から6のいずれかに記載の半
導体発光装置であり、ワイヤボンディングする場合に比
べて嵩を更に小さくできるという作用を有する。
ト素子は、n型またはp型のシリコン基板を用いた静電
気保護素子である請求項1から7のいずれかに記載の半
導体発光装置であり、静電気等による過電流の印加があ
っても半導体発光素子の損傷を防止するという作用を有
する。
のいずれかに記載の半導体発光装置を備える表示装置で
あって、前記保持基板の配線に導通する配線基板に前記
サブマウント素子を差し込み可能な孔または凹部を設
け、前記サブマウント素子を前記孔または凹部に落とし
込ませて配置してなる表示装置構造であり、サブマウン
ト素子を配線基板に設けた孔または凹部に落とし込んで
全体の嵩を薄くしたアセンブリが得られるという作用を
有する。
面を参照しながら説明する。図1は本発明の半導体発光
装置であって、同図の(a)は平面図、同図の(b)は
縦断面図である。
保持基板1、この保持基板1の下面にサブマウント素子
として接合された静電気保護用のツェナーダイオード2
及びこのツェナーダイオード2の上に導通搭載した発光
素子3とから構成されたものである。
として中央にはすり鉢状のスルーホール1aを貫通させ
たもので、このスルーホール1aを挟んで金属配線1
b,1cを表面に形成している。これらの金属配線1
b,1cは保持基板1の底面だけでなく、スルーホール
1aの内周面から上端部にかけて展開させたもので、ス
ルーホール1aのテーパに沿って金属光沢のすり鉢状の
反射面を形成する。なお、金属配線1bはスルーホール
1aの中まで設けられるが、1b,1cの間の境界部分
は離間して導通しないようにすることは無論である。
板2aを素材としたもので、図において右側に偏った位
置の上面側からp型不純物イオンを注入して拡散させ
て、p型半導体領域2bを部分的に形成したものであ
る。そして、n型半導体領域に相当する部分にn側電極
2c及びp型半導体領域2bに相当する部分にp側電極
2dをそれぞれ形成している。
物半導体を用いた青色発光のフリップチップ型のもので
あって、サファイアの基板3aにp型層及びn型層を積
層するとともに、これらの層の表面にp側電極3b及び
n側電極3cを蒸着法によって形成したものである。そ
して、これらのp側及びn側の電極3b,3cにマイク
ロバンプ3d,3eを形成し、熱,加重及び超音波振動
の付加によってマイクロバンプ3d,3eをツェナーダ
イオード2のn側電極2c及びp側電極2dに接合す
る。これにより、ツェナーダイオード2と発光素子3と
は逆極性によって接続される。
板1の金属配線1b,1cに高電圧による過電流が印加
されたときには、発光素子3に印加される逆方向電圧は
ツェナーダイオード2の順方向電圧付近すなわち0.9
Vでバイパスが開く。また、発光素子3に印加される順
方向電圧はツェナーダイオード2のツェナー電圧Vzを
10V付近に設定することにより、その電圧でバイパス
が開き、それぞれ過電流が逃がされる。したがって、静
電気による発光素子3の破壊を確実に防ぐことができ
る。
ード2は、p側電極2d及びn側電極2cにそれぞれマ
イクロバンプ4a,4bを形成し、これによって金属配
線1b,1cに導通接続する。そして、スルーホール1
a内には透明または光透過性の樹脂5を充填して、ツェ
ナーダイオード2と金属配線1b,1cとの接合部分を
含めて封止する。このように樹脂5によって封止するこ
とにより、ツェナーダイオード2はマイクロバンプ4
a,4bによる接合力だけでなく、封止された樹脂5を
利用してより安定した保持基板1への固定が可能とな
る。
ーホール1aの中だけでなく保持基板1の表面から膨出
させて凸レンズ形状とした例であって、同図の(a)は
平面図、同図の(b)は縦断面図である。
及び発光素子3の取付けや導通構造は先の例と全く同様
であり、樹脂5はスルーホール1aの中だけでなく保持
基板1から凸面状に膨出してレンズ状に形成されてい
る。このレンズ状の樹脂5は、同図の(a)に示すよう
に楕円形状であって、発光素子3の中心を通る軸すなわ
ち光軸と直交する断面は、左右方向を長軸とし上下方向
を短軸とした楕円として現れる。
発光素子3を備えることによって、この発光素子3から
の光を集光させることができ、光軸上の輝度が高くな
る。したがって、パネルディスプレイ等の画面に組み込
んだときには、正面輝度を高めることができ、鮮明な画
像が得られる。また、凸レンズ状に形成された樹脂5は
光軸と直交する断面が楕円状なので、左右方向の配光を
広くして上下方向には狭くする発光が得られる。
組み込んだ表示装置構造の要部の縦断面図である。
a,6bを設けるとともに、発光素子を搭載する部分に
はツェナーダイオード2を落とし込める程度の内径のボ
ア6cを開けたものである。そして、発光装置はそのツ
ェナーダイオード2をボア6cと調心させて配置され、
金属配線1b,1cのそれぞれを配線パターン6a,6
bに導通させる半田7a,7bを利用して配線基板6に
導通固定される。
して静電気保護用のツェナーダイオード2を備えること
によって、過電流等の発生を受けても発光素子3の保護
が可能となり耐久性の向上が可能となる。そして、印加
電流はツェナーダイオード2のn型シリコン基板2aの
中を通らないので、このn型シリコン基板2aの抵抗を
受けず、順方向動作電圧を低減することができ、消費電
力が削減される。
ル1aの中に入り込んでいて、その基板3aの上面を主
光取出し面としている。そして、活性層から側方に抜け
る光は、スルーホール1aの内周に金属配線1bが形成
されるのでこれらを反射面とし主光取出し面側に回収さ
れ、発光輝度を上げることができる。
るツェナーダイオード2は、配線基板6のボア6c内に
落とし込まれるアセンブリなので、図3に示すように配
線基板6の表面からの発光素子3の突き出し長さTは保
持基板1の厚さにほぼ等しい。したがって、ツェナーダ
イオード2と発光素子3とを積層した複合素子化してい
ても、ツェナーダイオードの厚さ方向の嵩をボア6c内
に収めて配線基板6側で吸収することができ、配線基板
6を含む表示用のパネルディスプレイの薄型化が可能と
なる。
子と複合素子化しても保持基板の中に発光素子を差し込
むようなアセンブリとすることによって、全体を薄型と
することができ、サブマウント素子による機能付加と小
型化の両面が改善される。また、保持基板のスルーホー
ルの内周面をたとえばこの内周面にまで展開した光反射
性の金属配線を利用した反射面としたり銀白色の反射面
とすることで、発光輝度を高めることができる。更に、
スルーホールの中の発光素子を封止する光透過性の樹脂
を凸レンズ状に形成すれば、光の集光性を高めて光軸上
の輝度を上げることができ、より一層鮮明な画像が得ら
れる。
(a)は平面図 (b)は縦断面図
て、(a)は平面図 (b)は縦断面図
部の縦断面図
の縦断面図 (b)は平面図
Claims (9)
- 【請求項1】 透明基板の上に半導体薄膜層を積層する
とともにこの積層膜の表面側にp側及びn側の電極をそ
れぞれ形成した半導体発光素子と、2つの電極を持ちこ
れらのそれぞれを前記p側及びn側の電極に導通させて
前記半導体発光素子を接合するサブマウント素子と、前
記2つの電極にそれぞれ導通させる配線を備えた保持基
板とを備え、前記保持基板は、前記半導体発光素子をそ
の主光取出し面が発光方向を向く姿勢として差し込み可
能なスルーホールを備え、前記半導体発光素子を前記ス
ルーホールの中に位置させるとともに前記サブマウント
素子を前記保持基板の表面側に対峙させて配置し、前記
サブマウント素子の2つの電極のそれぞれを前記保持基
板の配線と導通させてこの保持基板に接合固定してなる
半導体発光装置。 - 【請求項2】 前記スルーホールは、前記半導体発光装
置の主光取出し面からの発光方向とほぼ調心するすり鉢
状の内周面を持ち、この内周面を前記半導体発光素子か
らの光をその発光方向へ反射させる反射面としてなる請
求項1記載の半導体発光装置。 - 【請求項3】 前記保持基板の配線を光反射性の金属配
線として前記スルーホールの内周面まで展開し、この金
属配線によって前記反射面を形成してなる請求項2記載
の半導体発光装置。 - 【請求項4】 前記スルーホールの内周面をAg,Al
などの銀白色系の金属によって被覆し、この被覆金属に
よって前記反射面を形成してなる請求項2記載の半導体
発光装置。 - 【請求項5】 光透過性の樹脂を、前記スルーホールの
内部に充填して前記半導体発光素子を封止するととも
に、外側に向けて膨出する凸面のレンズとして備えてな
る請求項1から4のいずれかに記載の半導体発光装置。 - 【請求項6】 前記光透過性の樹脂によって形成した凸
面のレンズは、その光軸と直交する面内に含まれる断面
を楕円形状としてなる請求項5記載の半導体発光装置。 - 【請求項7】 前記半導体発光装置とサブマウント素子
との電極どうし及びサブマウント素子と前記保持基板の
配線どうしをマイクロバンプにより接合してなる請求項
1から6のいずれかに記載の半導体発光装置。 - 【請求項8】 前記サブマウント素子は、n型またはp
型のシリコン基板を用いた静電気保護素子である請求項
1から7のいずれかに記載の半導体発光装置。 - 【請求項9】 請求項1から8のいずれかに記載の半導
体発光装置を備える表示装置であって、前記保持基板の
配線に導通する配線基板に前記サブマウント素子を差し
込み可能な孔または凹部を設け、前記サブマウント素子
を前記孔または凹部に落とし込ませて配置してなる表示
装置構造。
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