JP3414812B2 - Surface treatment method - Google Patents
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、表面処理方法に関す
るものである。さらに詳しくは、この発明は、真空中に
おいても保護フィルムと高分子フィルム基材との間の気
泡が膨張することなく、連続的に安定して薄膜形成、あ
るいはドライエッチング、親水化処理等の表面改質を行
うことのできる表面処理方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface treatment method. More specifically, the present invention is capable of continuously and stably forming a thin film, or dry etching, or hydrophilicity without expanding the bubbles between the protective film and the polymer film substrate even in vacuum. The present invention relates to a surface treatment method capable of performing surface modification such as chemical treatment.
【０００２】[0002]
【従来の技術】透明性に優れた高透明な高分子フィルム
基材は平滑性が高いため、その巻取時にブロッキングし
やすく、また、傷付きやすいという問題がある。そこで
従来においては、このような高分子フィルム基材を真空
中においてその表面に薄膜形成したり、あるいはドライ
エッチング、親水化処理等の表面改質を行う場合には、
高分子フィルム基材巻取時のブロッキング及び走行ロー
ルや付着するゴミなどによる擦傷の発生を防止するため
に、たとえば図３に示したように、基材フィルム（７）
の非処理面に樹脂製の保護フィルム（４）を貼り合わせ
た後に処理することが行われている。2. Description of the Related Art Since a highly transparent polymer film base material having excellent transparency has a high smoothness, it has a problem that it tends to be blocked during winding and is easily scratched. Therefore, conventionally, when such a polymer film substrate is formed into a thin film on the surface in vacuum, or when surface modification such as dry etching or hydrophilic treatment is performed,
In order to prevent blocking at the time of winding the polymer film base material and generation of scratches due to running rolls or attached dust, for example, as shown in FIG. 3, the base film (7)
A resin protective film (4) is attached to the untreated surface of
Rukoto be processed is being carried out in the after.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】この保護フィルム
（４）の貼付に際しては、基材である高分子フィルム
（７）と全面において完全に密着していることが望まし
いが、実際には、たとえクリーンルーム等の環境下でこ
れらのフィルム（４）（７）を貼り合わせても、フィル
ム（４）（７）の間に塵、埃等（５）が侵入したり、あ
るいはそもそも保護フィルム（４）表面には樹脂塊やフ
ィッシュアイ等の微小凹凸も残存するため、高分子フィ
ルム基材（７）と保護フィルム（４）との間にわずかに
空隙（６）が発生するのが避けられなかった。When applying the protective film (4), it is desirable that the protective film (4) is completely adhered to the polymer film (7) as a base material over the entire surface. However, in practice, even in a clean room. Even if these films (4) and (7) are pasted together under such an environment, dust (5) intrudes between the films (4) and (7), or the surface of the protective film (4) in the first place. Since minute ruggednesses such as resin lumps and fish eyes remain on the glass, a slight gap (6) is unavoidable between the polymer film substrate (7) and the protective film (4).
【０００４】このようにしてフィルム（４）（７）の貼
付時に発生した空隙（６）は、通常、直径１ｍｍ以下の
大きさであるものの、薄膜形成あるいは種々の表面改質
等の表面処理における減圧真空雰囲気下では、図４に示
したように空隙（６）は直径数ｃｍ位の気泡（８）に膨
張してしまう。このため、高分子フィルム基材（７）表
面に皺や凹凸などが発生し、このような状態で表面処理
を行うと、たとえば蒸着膜（９）にも傷やクラック、凹
凸等を生じ、また、処理フィルムの巻きずれの原因とな
る。The voids (6) generated when the films (4) and (7) are attached in this manner usually have a diameter of 1 mm or less, but a thin film is formed or various surface modifications are made.
In a reduced pressure vacuum atmosphere in surface treatment such as the above, the void (6) expands into a bubble (8) having a diameter of several cm as shown in FIG. For this reason, wrinkles, irregularities, etc. occur on the surface of the polymer film substrate (7), and when the surface treatment is performed in such a state, for example, scratches, cracks, irregularities, etc. also occur on the vapor deposition film (9), and It causes the winding deviation of the processed film.
【０００５】この発明は、以上の通りの事情に鑑みてな
されたものであり、従来の表面処理方法の欠点を解消
し、真空中においても保護フィルムと高分子フィルム基
材との間の空隙が大きく膨張した気泡になることなく、
連続的に安定して薄膜形成、あるいはドライエッチング
や、親水化処理等の表面改質を行うことのできる、改善
された表面処理方法を提供することを目的としている。The present invention has been made in view of the above circumstances, solves the drawbacks of the conventional surface treatment method, and creates a gap between the protective film and the polymer film substrate even in vacuum. Without becoming large expanded bubbles,
Continuous and stable thin film formation or dry etching
And, capable of modifying the surface of the hydrophilic treatment or the like, and its object is to provide an improved surface treatment method.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】この発明の発明者等は、
上記課題を解決するために鋭意研究の結果、高分子フ ィ
ルム基材に貼付する保護フィルムに予めその厚さ方向に
貫通する通気孔を複数設けることによって、高分子フィ
ルム基材とその非処理面に貼り付けた保護フィルムとの
間にわずかの空隙が生じていても、薄膜形成あるいは表
面改質の表面処理時に減圧及び熱によってその空隙が気
泡に膨張するのを抑止することができることを見出し、
この発明を完成したのである。The inventors of the present invention have
As a result of intensive research in order to solve the above problems, the polymer off I
By providing a plurality of ventilation holes in the protective film attached to the rum substrate in advance in the thickness direction, a slight gap is created between the polymer film substrate and the protective film attached to the non-treated surface. Even if it is, it is found that it is possible to suppress the expansion of the voids into bubbles due to reduced pressure and heat during thin film formation or surface treatment for surface modification,
This invention has been completed.
【０００７】すなわち、この発明は、透明な高分子フィ
ルム基材表面を真空中において物理的及び／又は化学的
に処理するに際して、前記高分子フィルム基材の非処理
面に、厚さ方向に貫通する通気孔を複数有する樹脂製の
保護フィルムを貼付し、高分子フィルム基材の表面処理
を行うことを特徴とする表面処理方法を提供するもので
ある。That is, according to the present invention, when the surface of a transparent polymer film substrate is physically and / or chemically treated in vacuum, the untreated surface of the polymer film substrate is penetrated in the thickness direction. The present invention provides a surface treatment method, which comprises applying a resin-made protective film having a plurality of ventilation holes to perform surface treatment of a polymer film substrate.
【０００８】この発明は、透明な高分子フィルム基材を
真空中でその表面を物理的あるいは化学的、又はその両
方により処理する、たとえば薄膜形成やドライエッチン
グ、親水化処理などの種々の表面改質の広範囲にわたる
いわゆる表面処理に適用されるものである。この発明に
おいて処理することのできる透明な高分子フィルムの種
類については、薄膜形成又は表面改質の表面処理が可能
で、透明性に優れたものであればよく、格別の限定はな
い。たとえばポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミ
ド、ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリエー
テルサルフォン、ポリサルフォン、ポリエーテルエーテ
ルケトン、ポリアリレート、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリフェニレンオキサイド、ポリパラバン酸等を具
体的なものとして例示することができる。The present invention treats a transparent polymer film substrate in vacuum with its surface physically or chemically, or both, for example, various surface modification such as thin film formation, dry etching, and hydrophilic treatment. It is applied to a wide variety of so-called surface treatments. The type of transparent polymer film that can be treated in the present invention is not particularly limited as long as it can be subjected to surface treatment such as thin film formation or surface modification and has excellent transparency. Specific examples include polyester, polyolefin, polyamide, polycarbonate, polyetherimide, polyether sulfone, polysulfone, polyether ether ketone, polyarylate, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, and polyparabanic acid.
【０００９】このような高分子フィルムの非処理面、す
なわち処理面の裏面に貼付する保護フィルムの種類につ
いても特に制限はない。たとえばポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ナイロン、ポリビニルアルコール、ポリエチ
レン−酢酸ビニル共重合体、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリカーボネート、ポリスチレン等のフィルムや、
その複合フィルムなどが例示される。There is no particular limitation on the kind of the protective film attached to the non-treated surface of such a polymer film, that is, the rear surface of the treated surface. For example, films of polyethylene, polypropylene, nylon, polyvinyl alcohol, polyethylene-vinyl acetate copolymer, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polystyrene and the like,
The composite film etc. are illustrated.
【００１０】以上の高分子フィルム基材と保護フィルム
との貼合せには、粘着剤を使用しても、あるいは使用し
なくてもよい。粘着剤を使用する場合には、たとえば保
護フィルムの貼合せ面に再剥離可能な特殊粘着剤を塗工
することもできる。このような再剥離可能な特殊粘着剤
としては、一般に、保護フィルム、粘着テープ等に用い
られる粘着組成物であれば、特に限定されることなく使
用することができ、従来から公知のたとえば、アクリル
系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アルキッ
ド系樹脂、シリコーン系樹脂、天然ゴム系樹脂、合成ゴ
ム系樹脂及びこれらの変性樹脂等を成分とする粘着組成
物を挙げることができる。The above-mentioned polymer film substrate and the protective film may be laminated together with or without an adhesive. When using a pressure-sensitive adhesive, for example, a re-peelable special pressure-sensitive adhesive can be applied to the bonding surface of the protective film. As such a removable special pressure-sensitive adhesive, generally, any pressure-sensitive adhesive composition used for a protective film, a pressure-sensitive adhesive tape or the like can be used without particular limitation. Examples of the adhesive composition include a resin, a vinyl resin, a polyester resin, an alkyd resin, a silicone resin, a natural rubber resin, a synthetic rubber resin, and modified resins thereof.
【００１１】また、保護フィルムに形成する通気孔は、
保護フィルムの厚さ方向に貫通していれば特にその形状
について制限はなく、たとえば図１に示したような円
形、あるいは図２に例示したスリット状などとすること
ができる。図１の円形通気孔（２）の場合には、たとえ
ばその直径を数十μｍ〜１０ｍｍ位とすることができ、
また、その数としては保護フィルム（１）の１ｃｍ2 に
つき１個以上とすることができる。もちろんこのような
通気孔の大きさや個数については何等限定的でなく、透
明高分子フィルムへの貼合せ条件や表面処理等の浮きの
発生状態などに応じて適宜に決めることができる。The ventilation holes formed in the protective film are
The shape is not particularly limited as long as it penetrates in the thickness direction of the protective film, and may be, for example, a circular shape shown in FIG. 1 or a slit shape illustrated in FIG. In the case of the circular ventilation hole (2) of FIG. 1, its diameter can be set to, for example, several tens of μm to 10 mm,
Further, the number can be one or more per 1 cm 2 of the protective film (1). Of course, the size and the number of such ventilation holes are not particularly limited, and can be appropriately determined according to the conditions for bonding to the transparent polymer film and the occurrence of floating such as surface treatment.
【００１２】図２のスリット状通気孔（３）の場合に
は、表面処理時の保護フィルム（１）の流れ方向に切り
込むことでき、その長さや個数についてはたとえば１ｃ
ｍ以内で、幅方向１ｃｍ間隔に１個以上とすることが好
ましく例示される。これらの通気孔の形成方法として
は、たとえば針やカッターなどを備えたロールを保護フ
ィルムに押し当てて形成したり、あるいは放電処理で形
成するなどの適宜なものを採用することができる。In the case of the slit-shaped ventilation hole (3) of FIG. 2, it is possible to cut in the flow direction of the protective film (1) at the time of surface treatment, and the length and the number thereof are, for example, 1c.
It is preferably exemplified that the number is 1 or more at an interval of 1 cm in the width direction within m. As a method for forming these vent holes, for example, a roll provided with a needle, a cutter or the like is pressed against the protective film, or an electric discharge treatment is used.
【００１３】[0013]
【作用】この発明の表面処理方法においては、透明高分
子フィルム基材の非処理面に、厚さ方向に貫通する通気
孔を複数有する樹脂製の保護フィルムを貼付して表面処
理を行うため、減圧真空雰囲気下でも透明高分子フィル
ム基材と保護フィルムとの間の気泡が膨張するのを抑止
することができる。高分子フィルム基材に折れ皺や凹凸
などが生じることなく、処理表面が傷やクラック、凹凸
等のない、良好なものとして安定に形成される。また、
処理フィルムの巻取による巻ずれも解消され、連続的に
安定した薄膜形成、あるいはドライエッチング、親水化
処理等の表面改質を行うことができる。さらには、走行
ロールによる処理表面の擦傷も防止される。In the surface treatment method of the present invention, the non-treated surface of the transparent polymer film substrate is subjected to the surface treatment by sticking a resin protective film having a plurality of ventilation holes penetrating in the thickness direction, It is possible to suppress the expansion of bubbles between the transparent polymer film substrate and the protective film even under a reduced pressure vacuum atmosphere . Without Rukoto occur wrinkles or unevenness Slight polymer film substrate, the process surface scratches and cracks with no such irregularities are stably formed as good. Also,
Winding misalignment due to winding of the treated film is also eliminated, and continuous stable thin film formation or surface modification such as dry etching and hydrophilic treatment can be performed. Furthermore, scratches on the treated surface due to the running rolls are also prevented.
【００１４】[0014]
【実施例】以下、実施例を示し、この発明の表面処理方
法についてさらに詳しく説明する。
実施例１
直径１ｍｍの円形で、１ｃｍ2 当たり３個の割合で配設
した通気孔を有する厚さ５０μｍのポリエチレンフィル
ムを保護フィルムとして用い、これを透明高分子フィル
ム基材としての厚さ１００μｍのポリカーボネートフィ
ルムの非処理面に貼り付けた。EXAMPLES Examples will be shown below to describe the surface treatment method of the present invention in more detail. Example 1 A polyethylene film having a diameter of 1 mm and a thickness of 50 μm and having ventilation holes arranged at a rate of 3 per 1 cm 2 was used as a protective film, and a polycarbonate film having a thickness of 100 μm was used as a transparent polymer film substrate. It was attached to the non-treated surface of the film.
【００１５】この貼合せフィルムを巻き取り、蒸着装置
の真空槽にセットした後、真空槽を５×１０-5Ｔｏｒｒ
まで減圧し、次いでアルゴンガスを導入して、５×１０
-5Ｔｏｒｒで高周波放電により、基材表面の改質処理を
行った。蒸着装置の観察窓から見たところ、目立った気
泡の膨張もなく、改質処理面には擦傷や凹凸は入らず、
巻ずれもなく連続的に改質処理することができた。
実施例２
実施例１と同様の改質処理を行った保護フィルム付き基
材を、５×１０-5Ｔｏｒｒまで減圧し、次いで７×１０
-4Ｔｏｒｒで反応性イオンプレーティング法によりポリ
カーボネートフィルムの処理面にＩＴＯ（インジウム錫
酸化物）を厚さ４００Å蒸着した。This laminated film was wound up and set in a vacuum tank of a vapor deposition apparatus, and then the vacuum tank was set at 5 × 10 -5 Torr.
Depressurize to 5x10, then introduce argon gas
The surface of the substrate was modified by high-frequency discharge at -5 Torr. When looking through the observation window of the vapor deposition device,
No expansion of bubbles, no scratches or irregularities on the modified surface,
The reforming treatment could be continuously performed without winding deviation. Example 2 A substrate with a protective film that had been subjected to the same modification treatment as in Example 1 was depressurized to 5 × 10 −5 Torr, and then 7 × 10 5.
ITO (Indium Tin Oxide) having a thickness of 400Å was vapor-deposited on the treated surface of the polycarbonate film by a reactive ion plating method at -4 Torr.
【００１６】蒸着膜表面には擦傷やクラック、凹凸など
は入らなかった。また、フィルムの巻きずれも発生せ
ず、連続的に安定してポリカーボネートフィルムにＩＴ
Ｏを蒸着することができた。
実施例３
長さ１ｃｍのスリット状の通気孔を幅方向１ｃｍ間隔で
形成したポリエチレンフィルムを保護フィルムとして使
用した他は、実施例２と同様にしてＩＴＯの蒸着を行っ
た。No scratches, cracks or irregularities were formed on the surface of the deposited film. In addition, the winding of the film does not occur, and it can be continuously and stably applied to the polycarbonate film.
O could be vapor deposited. Example 3 ITO was vapor-deposited in the same manner as in Example 2 except that a polyethylene film having slit-like ventilation holes having a length of 1 cm formed at intervals of 1 cm in the width direction was used as a protective film.
【００１７】この場合も、実施例２と同様に、蒸着膜表
面に擦傷やクラック、凹凸などが入らず、蒸着装置の観
察窓から見たところ、目立った気泡の膨張もなく、フィ
ルムの巻きずれも発生しないで連続的に安定して蒸着す
ることができた。
実施例４
直径１ｍｍの円形の通気穴を１ｃｍ2 あたり３個有し、
再剥離可能なアクリル系樹脂を成分とする特殊粘着剤付
きのポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み５０
μ）を、保護フィルムとする以外は、実施例２と同様に
蒸着を行った。[0017] In this case, in the same manner as in Example 2, scratches or cracks on the surface of a vapor deposition film, can not enter such irregularities, watch evaporation apparatus
From the observation window, there was no noticeable expansion of bubbles and no film winding deviation, and continuous and stable vapor deposition was possible. Example 4 Having three circular ventilation holes with a diameter of 1 mm per 1 cm 2,
Polyethylene terephthalate film with a special adhesive containing removable acrylic resin as a component (thickness 50
was used in the same manner as in Example 2 except that (.mu.) was used as a protective film.
【００１８】蒸着装置の観察窓から見たところ、目立っ
た気泡の膨張もなく、改質処理面及び蒸着膜面には擦傷
や凹凸は入らず、巻ずれもなく連続的に改質処理及び蒸
着を行うことができた。
比較例１
保護フィルムに通気孔を設けなかった以外は実施例１と
同様に、基材表面の改質処理を行った。As seen from the observation window of the vapor deposition apparatus, it is conspicuous
Further, there was no expansion of bubbles, and there were no scratches or irregularities on the surface of the modified treatment and the surface of the vapor-deposited film, and the modification treatment and the vapor deposition could be continuously performed without winding deviation. Comparative Example 1 The substrate surface was modified in the same manner as in Example 1 except that the protective film was not provided with vent holes.
【００１９】この基材の巻取を真空槽にセットし減圧し
た。その際、保護フィルムと基材の間に、気泡が多数発
生した。気泡の凹凸により巻ずれや折れじわを生じた。
比較例２
保護フィルムに通気孔を設けなかった以外は実施例２と
同様に、蒸着を行った。The roll of the base material was set in a vacuum chamber and depressurized. At that time, many bubbles were generated between the protective film and the substrate. Winding misalignment and creases were generated due to unevenness of bubbles. Comparative Example 2 Vapor deposition was performed in the same manner as in Example 2 except that the protective film was not provided with ventilation holes.
【００２０】この基材の巻取を真空槽にセットし減圧し
た。その際、保護フィルムと基材の間に、気泡が多数発
生した。気泡の凹凸により巻ずれや折れじわを生じ、蒸
着まで至らなかった。もちろんこの発明は、以上の例に
よって、限定されるものではない。処理操作及び処理条
件等の細部については様々な態様が可能であることはい
うまでもない。The roll of the substrate was set in a vacuum chamber and depressurized. At that time, many bubbles were generated between the protective film and the substrate. The unevenness of the bubbles caused winding misalignment and creases, which did not lead to vapor deposition. Of course, the present invention is not limited to the above examples. It goes without saying that various aspects are possible in details such as the processing operation and the processing conditions.
【００２１】[0021]
【発明の効果】以上詳しく説明した通り、この発明によ
って、透明高分子フィルム基材と保護フィルムとの間に
気泡が発生するのを抑止しつつ、品質に優れた表面処理
フィルムを連続的に安定して製造することが可能とな
る。製造効率の向上が図れる。As described in detail above, according to the present invention, it is possible to continuously stabilize a surface-treated film having excellent quality while suppressing the generation of bubbles between the transparent polymer film substrate and the protective film. Can be manufactured. Manufacturing efficiency can be improved.
【図１】この発明に用いられる保護フィルムの一例を示
した要部斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of an essential part showing an example of a protective film used in the present invention.
【図２】保護フィルムの別の例を示した要部斜視図であ
る。FIG. 2 is a main part perspective view showing another example of the protective film.
【図３】従来の表面処理方法を例示した要部断面図であ
る。FIG. 3 is a cross-sectional view of a main part illustrating a conventional surface treatment method.
【図４】従来の表面処理方法を例示した要部断面図であ
る。FIG. 4 is a cross-sectional view of an essential part illustrating a conventional surface treatment method.
１ 保護フィルム ２ 円形通気孔 ３ スリット状通気孔 ４ フィルム ５ 埃等 ６ 空隙 ７ フィルム８ 膨張した気泡 ９ 蒸着膜 1 Protective Film 2 Circular Vent 3 Slit Vent 4 Film 5 Dust 6 Gap 7 Film 8 Expanded Bubble 9 Vapor Deposition Film
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C08J 7/00 - 7/18 B32B 1/00 - 35/00 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) C08J 7 /00-7/18 B32B 1/00-35/00
Claims (5)
中において物理的及び／又は化学的に表面処理するに際
して、前記高分子フィルム基材の非処理面に、厚さ方向
に貫通する通気孔を複数有する樹脂製の保護フィルムを
貼付した後に高分子フィルム基材の表面処理を行うこと
を特徴とする表面処理方法。1. When a surface of a transparent polymer film substrate is subjected to a physical and / or chemical surface treatment in vacuum, a non-treated surface of the polymer film substrate is passed through in a thickness direction. surface treatment method, characterized in that the surface treatment of the polymer film substrate after sticking a resin protective film having a plurality of pores.
る請求項１の表面処理方法。2. The surface treatment method according to claim 1, wherein a thin film is formed on the surface of the polymer film substrate.
ング、親水化処理等により表面改質する請求項１の表面
処理方法。3. The surface treatment method according to claim 1, wherein the surface of the polymer film substrate is surface-modified by dry etching, hydrophilic treatment or the like.
付する請求項１，２又は３いずれかの表面処理方法。4. The surface treatment method according to claim 1, wherein a protective film having circular ventilation holes is attached.
ムを貼付する請求項１，２又は３のいずれかの表面処理
方法。5. The surface treatment method according to claim 1, wherein a protective film having slit-shaped ventilation holes is attached.
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