JPH0957894A - Optical sheet with transparent electrode - Google Patents
Optical sheet with transparent electrodeInfo
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- JPH0957894A JPH0957894A JP7245497A JP24549795A JPH0957894A JP H0957894 A JPH0957894 A JP H0957894A JP 7245497 A JP7245497 A JP 7245497A JP 24549795 A JP24549795 A JP 24549795A JP H0957894 A JPH0957894 A JP H0957894A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子の液
晶セルの電極基板、タッチパネル用透明導電性フィルム
をはじめとする種々の光学用途に適した透明電極付き光
学用シートに関するものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical sheet with a transparent electrode suitable for various optical applications such as an electrode substrate of a liquid crystal cell of a liquid crystal display device and a transparent conductive film for a touch panel.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、光学用の基材シートとして、ポリ
カーボネートフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリ
エーテルスルホンフィルム、ポリスルホンフィルムなど
が使われている。これらのフィルムは、光等方性および
透明性が良好で、しかもある程度の耐熱性を有するから
である。2. Description of the Related Art Conventionally, polycarbonate films, polyarylate films, polyethersulfone films, polysulfone films, etc. have been used as optical base sheets. This is because these films have good optical isotropy and transparency, and have a certain degree of heat resistance.
【０００３】これらの基材シートのみでは耐透気性、耐
溶剤性、透明電極密着性などの性質が不足するので、こ
れらのフィルムの片面または両面に耐透気性樹脂層や架
橋性樹脂硬化物層を積層設置することも提案されてい
る。たとえば、本出願人の出願にかかる特開昭６３−７
１８２９号公報には、光等方性基材シート層／アンカー
コート層／耐透気性樹脂層／架橋性樹脂硬化物層の層構
成の液晶表示パネル用電極基板が示されており、特開平
４−１５９５１８号公報には、光等方性基材シート層／
耐透気性樹脂層／架橋性樹脂硬化物層の層構成の単位積
層シートの２枚以上を、架橋性樹脂硬化物層が両最外層
となるように接着剤層を介して貼着した構成を有する液
晶表示パネル用電極基板が示されている。Since only such a base sheet lacks air permeation resistance, solvent resistance, transparent electrode adhesion, etc., the air permeation resistant resin layer or the crosslinked resin cured material layer is formed on one or both surfaces of these films. It has also been proposed to stack and install. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-7 filed by the applicant.
Japanese Patent No. 1829 discloses an electrode substrate for a liquid crystal display panel having a layer structure of an optically isotropic substrate sheet layer / anchor coat layer / air permeable resin layer / crosslinkable resin cured material layer, which is disclosed in JP-A-4-159518. In the publication, an optically isotropic substrate sheet layer /
A structure in which two or more unit laminated sheets having a layer structure of an air-permeable resin layer / cured resin crosslinkable resin layer are adhered via an adhesive layer so that the cured resin crosslinkable resin layers are both outermost layers. The electrode substrate for a liquid crystal display panel having the same is shown.
【０００４】基材シートを用いない光学用シートも提案
されている。たとえば、本出願人の出願にかかる特公平
７−２７１３４号公報（特開平１−５００２１号公報）
には、耐透気性合成樹脂フィルム層と架橋性樹脂硬化物
層との積層体同士が、それぞれの耐透気性合成樹脂フィ
ルム層面同士が対向する状態で接着剤層を介して積層一
体化した液晶表示パネル用電極基板が示されており、特
公平７−２７１３５号公報（特開平１−５００２２号公
報）には、耐透気性合成樹脂フィルム層の両面に架橋性
樹脂硬化物層を流延法により直接形成させた液晶表示パ
ネル用電極基板の製造法が示されている。Optical sheets that do not use a base sheet have also been proposed. For example, Japanese Patent Publication No. 7-27134 (Japanese Patent Laid-Open No. 1-50021) filed by the applicant.
In the liquid crystal, a laminated body of a gas-permeable synthetic resin film layer and a cured crosslinkable resin layer is laminated and integrated with an adhesive layer in a state where the respective gas-permeable synthetic resin film layers face each other. An electrode substrate for a display panel is shown. Japanese Patent Publication No. 7-27135 (Japanese Patent Laid-Open No. 1-50022) discloses a method of casting a crosslinkable resin cured product layer on both sides of an air-permeable synthetic resin film layer. Describes a method of manufacturing an electrode substrate for a liquid crystal display panel which is directly formed by.
【０００５】基材シート上に、必要に応じ耐透気性樹脂
層を介して、活性エネルギー線硬化型樹脂硬化物層を設
けた光学用シートも知られている。たとえば、本出願人
の出願にかかる特開平５−１６２２２８号公報、特開平
５−１６２２２９号公報、特開平５−３０９７９４号公
報、特開平５−３１３１５０号公報を参照。また特開平
６−６４１０３号公報には、基材シート上に熱架橋性樹
脂層を介して活性エネルギー線硬化型樹脂硬化物層を設
けた光学用シートが示されている。There is also known an optical sheet in which an active energy ray-curable resin cured material layer is provided on a base material sheet with a gas-permeable resin layer interposed as necessary. For example, see JP-A-5-162228, JP-A-5-162229, JP-A-5-309794, and JP-A-5-313150, filed by the present applicant. Further, JP-A-6-64103 discloses an optical sheet in which an active energy ray-curable resin cured product layer is provided on a base material sheet via a thermally crosslinkable resin layer.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】上に述べたような光学
用シートを液晶セルの電極基板やタッチパネル用透明導
電性フィルムの用途に用いる場合は、最外層の硬化物層
（熱硬化型の架橋性樹脂硬化物層や活性エネルギー線硬
化型樹脂の硬化物層）の上からＩＴＯに代表される透明
電極をスパッタリングにより形成する。このときの透明
電極は、全面電極にする場合とパターン電極にする場合
とがあるが、後者の場合にはスパッタリングにより形成
した全面電極をパターン出しすることが必要となる。When the above-mentioned optical sheet is used for an electrode substrate of a liquid crystal cell or a transparent conductive film for a touch panel, the outermost cured layer (thermosetting type cross-linking) is used. A transparent electrode typified by ITO is formed by sputtering on the cured resin layer or the cured layer of the active energy ray-curable resin. At this time, the transparent electrode may be a full-surface electrode or a pattern electrode. In the latter case, it is necessary to pattern the whole electrode formed by sputtering.
【０００７】パターン電極とするための全面電極のパタ
ーン出しは、常法に従い、レジスト被覆、露光、現像、
エッチング、硬化レジスト剥離の手順によりなされる
が、硬化物層が活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物層
である場合には、得られたパターンが必ずしもすっきり
とせず、ディスプレイに用いたときの鮮明度が不足する
傾向があった。[0007] Patterning of the entire surface electrode for forming a pattern electrode is carried out in a conventional manner by resist coating, exposure, development,
It is carried out by the steps of etching and curing resist stripping, but when the cured product layer is a cured product layer of an active energy ray curable resin, the obtained pattern is not always neat and the sharpness when used for a display is high. Tended to run out.
【０００８】そこで本発明者らは、パターン電極を形成
した硬化物層の表面をレーザー変位計を用いて詳細に観
察したところ、図２に概念図を示したように、パターン
電極間において、露出した活性エネルギー線硬化型樹脂
硬化物層の表面が1/10μm のオーダーから数μm 程度ま
での凹凸になっていることが判明した。この原因は、レ
ジストがアクリル系の紫外線硬化型樹脂であり、一方活
性エネルギー線硬化型樹脂硬化物層も本質的には同質の
アクリル系の紫外線硬化型樹脂であるため、現像−エッ
チング−硬化レジスト剥離の一連の工程において土台と
なる硬化物層の表面が冒されることを免かれないためで
あると考えられる。Then, the inventors of the present invention observed the surface of the cured product layer on which the pattern electrodes were formed in detail by using a laser displacement meter, and as shown in the conceptual diagram of FIG. It was found that the surface of the cured active energy ray-curable resin layer had irregularities of the order of 1/10 μm to several μm. This is because the resist is an acrylic UV curable resin, and the active energy ray curable resin cured product layer is also an acrylic UV curable resin of essentially the same quality. It is considered that this is because the surface of the hardened material layer, which is the base, is affected in the series of steps of peeling.
【０００９】本発明は、このような背景下において、透
明電極のパターン出しによっても土台となる硬化物層の
表面が冒されない透明電極付き光学用シートを提供する
ことを目的とするものである。An object of the present invention is to provide an optical sheet with a transparent electrode in which the surface of the base cured material layer is not affected by the patterning of the transparent electrode under such a background.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明の透明電極付き光
学用シートは、表面にアクリル系樹脂硬化物層(2) を有
するプラスチックスシート(1) のアクリル系樹脂硬化物
層(2) 上に、耐酸耐アルカリ性を有する透明な無機化合
物の薄層(3) を設け、さらにその薄層(3) の上から透明
電極(4) を設けてなるものである。The optical sheet with a transparent electrode according to the present invention comprises a plastic sheet (1) having an acrylic resin cured product layer (2) on the surface thereof, and the acrylic resin cured product layer (2) on the plastic sheet (1). A thin layer (3) of a transparent inorganic compound having acid resistance and alkali resistance, and a transparent electrode (4) provided on the thin layer (3).
【００１１】[0011]
【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.
【００１２】表面にアクリル系樹脂硬化物層(2) を設け
るためのプラスチックスシート(1)としては、基材シー
ト、基材シートの少なくとも片面に耐透気性樹脂層を設
けたシート、これらの基材シートまたはその上に設けた
耐透気性樹脂層の上からさらに前記アクリル系樹脂硬化
物層(2) 以外の架橋性樹脂硬化物層を設けたシート、基
材シートを有しないで耐透気性樹脂層と前記アクリル系
樹脂硬化物層(2) 以外の架橋性樹脂硬化物層とを含むシ
ート、前記アクリル系樹脂硬化物層(2) 以外の架橋性樹
脂硬化物層からなるシートなどが例示され、層間にはア
ンカーコーティング層が介在していてもよい。As the plastic sheet (1) for providing the acrylic resin cured product layer (2) on the surface, a base material sheet, a sheet having an air permeation resistant resin layer on at least one surface of the base material sheet, A sheet on which a crosslinkable resin cured material layer other than the acrylic resin cured material layer (2) is further provided on the base material sheet or the gas permeable resin layer provided on the base material sheet, or the transmission resistance without the base material sheet. A sheet including a gas resin layer and a crosslinkable resin cured product layer other than the acrylic resin cured product layer (2), a sheet including a crosslinkable resin cured product layer other than the acrylic resin cured product layer (2), and the like. For example, an anchor coating layer may be interposed between the layers.
【００１３】ここで基材シートとしては、ポリカーボネ
ートフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリエーテル
スルホンフィルム、ポリスルホンフィルム、アモルファ
スポリオレフィンフィルムなどがあげられる。基材シー
トの厚みは任意であり、数μm から数１００μm あるい
はそれ以上とすることができる。Examples of the base sheet include a polycarbonate film, a polyarylate film, a polyethersulfone film, a polysulfone film and an amorphous polyolefin film. The thickness of the substrate sheet is arbitrary and can be several μm to several 100 μm or more.
【００１４】耐透気性樹脂層としては、ポリビニルアル
コールまたはその共重合変性物・グラフト物・ポリマー
アロイやエチレン含量１５〜５０モル％のエチレン−ビ
ニルアルコール共重合体等のビニルアルコール系樹脂
層、塩化ビニリデン系樹脂層、高アクリロニトリル系樹
脂層などがあげられ、特に最初に述べたビニルアルコー
ル系樹脂層が重要である。耐透気性樹脂層の厚みは２〜
３０μm 程度（好ましくは５〜１５μm 程度）とするこ
とが多い。この耐透気性樹脂層は、通常は流延法により
形成される。As the air-permeable resin layer, polyvinyl alcohol or a vinyl alcohol resin layer such as a copolymer modified product / graft / polymer alloy or an ethylene-vinyl alcohol copolymer having an ethylene content of 15 to 50 mol%, a chloride Examples thereof include a vinylidene-based resin layer and a high acrylonitrile-based resin layer, and the vinyl alcohol-based resin layer described above is particularly important. The air-permeable resin layer has a thickness of 2 to
It is often about 30 μm (preferably about 5 to 15 μm). This air-permeable resin layer is usually formed by a casting method.
【００１５】アクリル系樹脂硬化物層(2) 以外の架橋性
樹脂硬化物層としては、たとえば、熱硬化型のフェノキ
シエーテル型架橋性樹脂硬化物層があげられる。Examples of the crosslinkable resin cured product layer other than the acrylic resin cured product layer (2) include a thermosetting phenoxyether type crosslinkable resin cured product layer.
【００１６】アクリル系樹脂硬化物層(2) としては、エ
ステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタン
アクリレート、シリコーンアクリレート、ポリイミドア
クリレート、ポリアミドイミドアクリレートをはじめと
する種々の活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物層があ
げられ、該硬化物層はポリイソシアネート化合物などを
配合したものであってもよい。アクリル系樹脂硬化物層
(2) の厚みに特に限定はないが、２〜３００μm あるい
はそれ以上、殊に２〜１００μm 、さらには２〜５０μ
m とすることが多い。The acrylic resin cured product layer (2) is a cured product layer of various active energy ray curable resins such as ester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, silicone acrylate, polyimide acrylate, and polyamideimide acrylate. For example, the cured product layer may contain a polyisocyanate compound or the like. Acrylic resin cured product layer
The thickness of (2) is not particularly limited, but is 2 to 300 μm or more, especially 2 to 100 μm, and further 2 to 50 μm.
Often set to m.
【００１７】プラスチックスシート(1) 上へのアクリル
系樹脂硬化物層(2) の設置は、工業的には次のようにし
て行うことが特に望ましい。すなわち、わずかに間隙を
あけて並行に配置した１対のロールのうちの一方のロー
ルにプラスチックスシート(1) を供給し、また他方のロ
ールに鋳型フィルム(M) を供給し、これら両ロールの間
隙に向けて活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂組
成物を吐出すると共に、両ロールを互いに喰い込む方向
に回転させてプラスチックスシート(1) と鋳型フィルム
(M) との間に前記のアクリル系樹脂組成物が挟持される
ようにし、ついでその挟持された状態で活性エネルギー
線照射を行うことにより硬化させてアクリル系樹脂硬化
物層(2) となすのである。なお、一方のロールに供給す
るプラスチックスシート(1) は、予め鋳型フィルム(M)
上で流延により形成した鋳型フィルム(M) 付きのプラス
チックスシートであってもよい。From the industrial viewpoint, it is particularly desirable to install the cured acrylic resin layer (2) on the plastic sheet (1). That is, the plastic sheet (1) is supplied to one roll of a pair of rolls arranged in parallel with a slight gap, and the mold film (M) is supplied to the other roll, and both rolls are supplied. The active energy ray-curable acrylic resin composition is discharged toward the gap between the rolls and both rolls are rotated in such a manner as to bite into each other so that the plastic sheet (1) and the mold film
The acrylic resin composition is sandwiched between (M) and then cured by irradiation with active energy rays in the sandwiched state to form an acrylic resin cured product layer (2). Of. The plastic sheet (1) supplied to one of the rolls is a mold film (M) in advance.
It may be a plastic sheet with a mold film (M) formed by casting above.
【００１８】ここで鋳型フィルム(M) としては、二軸延
伸ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリブ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）フ
ィルム、二軸延伸ポリプロピレンフィルムなどのフィル
ムが好適に用いられる。この支持体フィルム表面の平滑
度は任意に選択できるので、表面粗度が± 0.1μm 以下
の極めて平滑度の高いものから、防眩性付与、入射光量
の増加などのために故意にランダムな微細凹凸やレンズ
状の微細凹凸を付したものまで、任意の平滑度ないし粗
度を有するものを用いることができる。As the template film (M), films such as biaxially oriented polyester (polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate) film and biaxially oriented polypropylene film are preferably used. Since the smoothness of the surface of this support film can be arbitrarily selected, from the surface roughness of extremely high smoothness of ± 0.1 μm or less, it is possible to intentionally select a random fineness for imparting antiglare property and increasing the amount of incident light. It is possible to use those having arbitrary smoothness or roughness, even those having irregularities or lens-like fine irregularities.
【００１９】本発明においては、上記のプラスチックス
シート(1) の表面に設けたアクリル系樹脂硬化物層(2)
上に、耐酸耐アルカリ性を有する透明な無機化合物の薄
層(3) を設ける。In the present invention, the acrylic resin cured product layer (2) provided on the surface of the above plastic sheet (1)
A thin layer (3) of a transparent inorganic compound having acid resistance and alkali resistance is provided thereon.
【００２０】耐酸耐アルカリ性を有する透明な無機化合
物の薄層(3) の好適な例は、ケイ素、スズ、インジウ
ム、バナジウム、タングステン、ニッケル、ニオブ、ア
ルミニウム、マグネシウムまたはモルブデンの酸化物ま
たはインジウムの窒化物の薄層、さらに詳しくは、Si
O2、SiOx、SnO2、In2O3 、VO2 、WO3 、NiO 、Nb2O5 、
Al2O3 、MgO 、MoO3、InN の薄層である。Suitable examples of thin layers (3) of transparent inorganic compounds having acid and alkali resistance are suitable oxides of silicon, tin, indium, vanadium, tungsten, nickel, niobium, aluminum, magnesium or morphudene or nitriding of indium. A thin layer of material, more specifically Si
O 2 , SiO x , SnO 2 , In 2 O 3 , VO 2 , WO 3 , NiO, Nb 2 O 5 ,
It is a thin layer of Al 2 O 3 , MgO, MoO 3 and InN.
【００２１】この無機化合物の薄層(3) は、スパッタリ
ング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、フォト
ＣＶＤ法などにより形成され、特にスパッタリング法が
好ましい。無機化合物の薄層(3) の厚みは、１０〜１０
００オングストローム、好ましくは１０〜３００オング
ストロームが適当である。ただし、透明性が損なわれな
い厚みとする。The thin layer (3) of the inorganic compound is formed by a sputtering method, an ion plating method, a vacuum vapor deposition method, a photo CVD method or the like, and the sputtering method is particularly preferable. The thickness of the inorganic compound thin layer (3) is 10 to 10
Suitable is 00 Å, preferably 10-300 Å. However, the thickness is set so that transparency is not impaired.
【００２２】この無機化合物の薄層(3) の上からは、透
明電極(4) が設けられる。透明電極(4) は、操作性、コ
スト、エッチング性などを総合考慮すると、事実上ＩＴ
Ｏ（インジウム−スズ複合酸化物）に限られる。透明電
極(4) の厚みは、１００〜１５００オングストローム程
度、好ましくは１５０〜１０００オングストローム、さ
らに好ましくは２００〜８００オングストロームが適当
である。A transparent electrode (4) is provided on the thin layer (3) of the inorganic compound. The transparent electrode (4) is practically an IT in consideration of operability, cost, etching property, etc.
It is limited to O (indium-tin composite oxide). The thickness of the transparent electrode (4) is about 100 to 1500 angstroms, preferably 150 to 1000 angstroms, and more preferably 200 to 800 angstroms.
【００２３】本発明の透明電極付き光学用シートは、上
述のように、プラスチックスシート(1) ／アクリル系樹
脂硬化物層(2) ／耐酸耐アルカリ性を有する透明な無機
化合物の薄層(3) ／透明電極(4) の層構成を有するが、
用途によってはプラスチックスシート(1) の反対側の面
にも、無機化合物の薄層(3) 、さらには透明電極(4)を
設けることができる。The optical sheet with a transparent electrode of the present invention comprises, as described above, a plastic sheet (1) / a cured acrylic resin layer (2) / a thin layer (3) of a transparent inorganic compound having acid and alkali resistance. ) / Has a transparent electrode (4) layer structure,
Depending on the application, a thin layer (3) of an inorganic compound and a transparent electrode (4) can be provided on the surface opposite to the plastic sheet (1).
【００２４】透明電極(4) のパターン出しをするとき
は、常法に従い、レジスト被覆、露光、現像、エッチン
グ、硬化レジスト剥離をこの順に実施する。このときの
処理液としては、たとえば、現像液としては炭酸ソー
ダ、炭酸カリウムなどのアルカリの稀薄水溶液、エッチ
ング液としては塩化第二鉄や塩化第二銅の水溶液あるい
は塩酸などの酸の水溶液、硬化エジスト剥離液としては
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの１〜５重量％
濃度の水溶液からなるアルカリ剥離液が用いられる。When patterning the transparent electrode (4), resist coating, exposure, development, etching, and cured resist stripping are carried out in this order in a conventional manner. As the processing liquid at this time, for example, a developing solution is a dilute aqueous solution of an alkali such as sodium carbonate or potassium carbonate, an etching solution is an aqueous solution of ferric chloride or cupric chloride or an aqueous solution of an acid such as hydrochloric acid, and the curing is performed. 1-5% by weight of sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.
An alkaline stripper consisting of a concentrated aqueous solution is used.
【００２５】上記構造を有する本発明の透明電極付き光
学用シートは、液晶表示素子を構成する液晶セルの電極
基板として特に有用であり、タッチパネル用の透明電極
付きフィルム（偏光板の上だけでなく偏光板の下に積層
して用いるものを含む）としても有用である。またこれ
らに限らず、透明電極を有する種々の用途の光学用シー
トとして用いることができる。The optical sheet with a transparent electrode of the present invention having the above structure is particularly useful as an electrode substrate of a liquid crystal cell constituting a liquid crystal display element, and a film with a transparent electrode for a touch panel (not only on a polarizing plate but also on a polarizing plate). It is also useful as (including one used by being laminated below the polarizing plate). The invention is not limited to these, and can be used as an optical sheet for various uses having a transparent electrode.
【００２６】次に作用について述べると、本発明の透明
電極付き光学用シートにあっては、プラスチックスシー
ト(1) のアクリル系樹脂硬化物層(2) 上に、耐酸耐アル
カリ性を有する透明な無機化合物の薄層(3) が設けら
れ、さらにその薄層(3) の上から透明電極(4) が設けら
れている。In the following, in the optical sheet with a transparent electrode of the present invention, the transparent sheet having acid-alkali resistance is formed on the acrylic resin cured material layer (2) of the plastic sheet (1). A thin layer (3) of an inorganic compound is provided, and a transparent electrode (4) is further provided on the thin layer (3).
【００２７】このように透明電極(4) の下に耐酸耐アル
カリ性を有する透明な無機化合物の薄層(3) が設けられ
ているので、アクリル系樹脂硬化物層(2) がパターン出
しのためのレジストと同系統の樹脂層であるにかかわら
ず、透明電極(4) のパターン出しによっても土台となる
アクリル系樹脂硬化物層(2) の表面が冒されず、またそ
のパターン出し工程や水洗工程においてシートのカール
を招くことがない。そして上記無機化合物の薄層(3) の
存在は、防湿性、防気性、透明電極密着性などの点でも
プラスに作用する。Since a thin layer (3) of a transparent inorganic compound having acid and alkali resistance is provided under the transparent electrode (4) as described above, the cured acrylic resin layer (2) is used for patterning. Regardless of the resin layer of the same type as the resist, the patterning of the transparent electrode (4) does not affect the surface of the cured acrylic resin layer (2), and the patterning process and water washing The sheet does not curl during the process. The presence of the thin layer (3) of the inorganic compound also has a positive effect in terms of moisture resistance, air resistance, and adhesion to transparent electrodes.
【００２８】[0028]
【実施例】次に実施例をあげて本発明をさらに説明す
る。なお表面粗度は、光の干渉を利用した非接触式表面
粗さ計にて測定したものである。EXAMPLES The present invention will be further described with reference to examples. The surface roughness was measured by a non-contact type surface roughness meter utilizing light interference.
【００２９】実施例１ 図１は本発明の透明電極付き光学用シートを製造する工
程を模式的に示した説明図である。Example 1 FIG. 1 is an explanatory view schematically showing a process for producing an optical sheet with a transparent electrode of the present invention.
【００３０】基材フィルム(1a)の一例としての厚み１０
５μm 、レターデーション値６nmのポリカーボネートフ
ィルムの片面に、固形分５重量％の水溶性ポリエステル
ウレタン系アンカーコーティング剤を流延して乾燥、キ
ュアすることにより、厚み１μm のアンカーコーティン
グ層(ac)を形成させた。続いてそのアンカーコーティン
グ層(ac)の上から、ポリビニルアルコールのＮ−メチロ
ールアクリルアミド−アクリル酸グラフト共重合体の濃
度１２重量％の水溶液にメチロールメラミン系架橋剤
（住友化学工業株式会社製の「スミテックＭ−３」）を
固形分の重量比で１００：３の割合で配合した組成物を
流延し、７０〜９０℃で乾燥して、厚み８μm の耐透気
性樹脂層(1b)を形成させた。同様にして、光等方性基材
フィルム(1) の他の面にも厚み１μm のアンカーコーテ
ィング層(ac)および厚み８μm の耐透気性樹脂層(1b)を
形成させた。これにより、(1b)/(ac)/(1a)/(ac)/(1b)の
層構成を有する厚み１２３μm のプラスチックスシート
(1) が得られた。Thickness 10 as an example of the base film (1a)
A 1 μm thick anchor coating layer (ac) is formed by casting a water-soluble polyester urethane anchor coating agent with a solid content of 5 wt% on one side of a polycarbonate film of 5 μm and a retardation value of 6 nm, drying and curing. Let Then, from above the anchor coating layer (ac), an aqueous solution of polyvinyl alcohol N-methylol acrylamide-acrylic acid graft copolymer having a concentration of 12% by weight was added to a methylol melamine-based cross-linking agent (“Sumitech” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.). M-3 ") in a weight ratio of solids of 100: 3 is cast and dried at 70 to 90 ° C to form a gas-proof resin layer (1b) having a thickness of 8 µm. It was Similarly, an anchor coating layer (ac) having a thickness of 1 μm and a gas permeable resin layer (1b) having a thickness of 8 μm were formed on the other surface of the optically isotropic substrate film (1). As a result, a plastic sheet with a thickness of 123 μm having a layer structure of (1b) / (ac) / (1a) / (ac) / (1b)
(1) was obtained.
【００３１】鋳型フィルム(M) として、コロナ放電処理
していない高度の平滑面（表面粗度が平均で 0.006μm
、最大で0.04μm ）を有する厚み１００μm の二軸延
伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを準備した。As the mold film (M), a highly smooth surface not subjected to corona discharge treatment (surface roughness of 0.006 μm on average)
A biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm and a maximum thickness of 0.04 μm) was prepared.
【００３２】わずかに間隙をあけて並行に配置した１対
のロールのうちの一方のロールに上記のプラスチックス
シート(1) を供給し、また他方のロールに上記の鋳型フ
ィルム(M) をその平滑面が上面となるように供給した。The above plastic sheet (1) was fed to one roll of a pair of rolls arranged in parallel with a slight gap, and the above mold film (M) was fed to the other roll. The supply was performed so that the smooth surface was the top surface.
【００３３】続いてこれら両ロールの間隙に向けて、ノ
ンソルベントタイプの硬化性樹脂液であるエポキシアク
リレート系の高粘度の紫外線硬化型樹脂液の「ＴＵＲ−
９８０Ｌ」１００重量部に日本ポリウレタン工業株式会
社製のノンソルベントタイプの脂肪族ポリイソシアネー
ト「コロネートＨＫ」を５重量部配合したものを吐出す
ると共に、両ロールを互いに喰い込む方向に回転させて
両フィルム（プラスチックスシート(1) と鋳型フィルム
(M) ）間に上記の硬化性樹脂液が挟持されるようにし、
ついでその挟持された状態で、出力１２０W/cm、１灯、
ランプ距離１５０mm、積算光量１０００mJ/cm2の条件で
紫外線照射を行って硬化性樹脂液を硬化させることによ
り、厚み８μm のアクリル系樹脂硬化物層(2) となし、
さらに温度１３０℃で１０分間熱処理を行った。Then, toward the gap between these two rolls, "TUR-", which is a non-solvent type curable resin liquid of epoxy acrylate type high viscosity ultraviolet curable resin liquid, is introduced.
980L "100 parts by weight of 5 parts by weight of non-solvent type aliphatic polyisocyanate" Coronate HK "manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd. was discharged, and both rolls were rotated in a direction to bite each other to form both films. (Plastic sheet (1) and mold film
(M)) so that the above curable resin liquid is sandwiched between
Then, in the sandwiched state, output 120W / cm, 1 light,
By curing the curable resin liquid by irradiating ultraviolet rays under the conditions of a lamp distance of 150 mm and an integrated light quantity of 1000 mJ / cm 2 , a cured acrylic resin layer (2) with a thickness of 8 μm is obtained.
Further, heat treatment was performed at a temperature of 130 ° C. for 10 minutes.
【００３４】これにより、(1)/(2)/(M) の層構成を有す
る積層フィルムが得られたので、今度はこの積層フィル
ムと上記鋳型フィルム(M) とを用いて、上記の操作を繰
り返した。これにより、(M)/(2)/(1)/(2)/(M) の層構成
を有する対称型の鋳型フィルム(M), (M)付き積層シート
が得られたので、爾後の適当な段階で鋳型フィルム(M),
(M)を剥離除去した。As a result, a laminated film having a layer structure of (1) / (2) / (M) was obtained. This time, this laminated film and the mold film (M) were used to carry out the above-mentioned operation. Was repeated. As a result, a symmetrical type mold film (M) having a layer structure of (M) / (2) / (1) / (2) / (M) was obtained, so that a laminated sheet with (M) was obtained. Mold film (M) at an appropriate stage,
(M) was peeled off.
【００３５】このようにして得られた(2)/(1)/(2) の層
構成のシートの片面に、スパッタリング法によりSiO2層
を形成させ、厚み１００オングストロームの薄層(3) と
なした。続いてこの薄層(3) 上にスパッタリング法によ
りＩＴＯ層を形成させ、厚み６００オングストロームの
透明電極(4) を形成させた。これにより、(2)/(1)/(2)/
(3)/(4) の層構成を有する透明電極付き光学用シートが
得られた。An SiO 2 layer was formed on one surface of the thus obtained sheet having the layer structure of (2) / (1) / (2) by a sputtering method to form a thin layer (3) having a thickness of 100 Å. Done Subsequently, an ITO layer was formed on the thin layer (3) by a sputtering method to form a transparent electrode (4) having a thickness of 600 angstrom. As a result, (2) / (1) / (2) /
An optical sheet with a transparent electrode having a layer structure of (3) / (4) was obtained.
【００３６】次に、この透明電極付き光学用シートの透
明電極(4) 側の面に対し、常法に従い、レジスト被覆、
露光、現像、エッチング、硬化レジスト剥離をこの順に
行った。得られたパターン電極面を土井精密社製のレー
ザー変位計「トリン」を用いて詳細に観察したところ、
パターン電極間の露出したアクリル系樹脂硬化物層(2)
の表面は完全に平滑であり、凹凸に冒される現象はその
徴候すら認められなかった。またパターン出し工程や水
洗工程において、シートのカールも認められなかった。Next, the surface of the optical sheet with a transparent electrode on the transparent electrode (4) side was coated with a resist by a conventional method,
Exposure, development, etching, and removal of the cured resist were performed in this order. When the obtained pattern electrode surface was observed in detail using a laser displacement meter `` Trin '' manufactured by Doi Seimitsu,
Exposed acrylic resin cured material layer between pattern electrodes (2)
The surface was completely smooth, and no phenomenon of unevenness was observed. No curling of the sheet was observed in the patterning process or the water washing process.
【００３７】比較例１ 薄層(3) を形成することなく、(2)/(1)/(2) の層構成の
片面のアクリル系樹脂硬化物層(2) 上に直接ＩＴＯによ
る透明電極(4) を形成させたほかは実施例１を繰り返し
た。Comparative Example 1 A transparent electrode made of ITO was directly formed on a cured acrylic resin layer (2) on one side having a layer structure of (2) / (1) / (2) without forming a thin layer (3). Example 1 was repeated except that (4) was formed.
【００３８】得られた透明電極付き光学用シートの透明
電極(4) 側の面に対し、常法に従い、レジスト被覆、露
光、現像、エッチング、硬化レジスト剥離をこの順に行
った。得られたパターン電極面をレーザー変位計を用い
て詳細に観察したところ、パターン電極間の露出したア
クリル系樹脂硬化物層(2) の表面が1/10μm のオーダー
から数μm までの凹凸になっていることが判明した。ま
たパターン出し工程や水洗工程において、シートにカー
ルが認められた。The surface of the obtained optical sheet with a transparent electrode on the side of the transparent electrode (4) was subjected to resist coating, exposure, development, etching and peeling of the cured resist in this order by a conventional method. When the surface of the obtained pattern electrode was observed in detail using a laser displacement meter, the exposed surface of the cured acrylic resin layer (2) between the pattern electrodes showed unevenness of the order of 1/10 μm to several μm. It turned out. Further, curl was observed on the sheet in the patterning step and the water washing step.
【００３９】実施例２ 耐酸耐アルカリ性を有する透明な無機化合物の薄層(3)
として、SiO2に代えて、SiOx、SnO2、In2O3 、VO2 、WO
3 、NiO 、Nb2O5 、Al2O3 、MgO 、MoO3、InNをスパッ
タリング法またはフォトＣＶＤ法により形成したほかは
実施例１を繰り返したところ、パターン電極間の露出し
たアクリル系樹脂硬化物層(2) の表面は完全に平滑であ
り、凹凸に冒される現象は認められなかった。またパタ
ーン出し工程や水洗工程において、シートのカールも認
められなかった。Example 2 Thin layer of transparent inorganic compound having acid and alkali resistance (3)
As a substitute for SiO 2 , SiO x , SnO 2 , In 2 O 3 , VO 2 , WO
Example 3 was repeated except that 3 , NiO, Nb 2 O 5 , Al 2 O 3 , MgO, MoO 3 , and InN were formed by a sputtering method or a photo CVD method, and the exposed acrylic resin between the pattern electrodes was cured. The surface of the product layer (2) was completely smooth, and no phenomenon of unevenness was observed. No curling of the sheet was observed in the patterning process or the water washing process.
【００４０】実施例３ エポキシアクリレート系の高粘度の紫外線硬化型樹脂液
に代えて、エステルアクリレート、ウレタンアクリレー
ト、シリコーンアクリレート、ポリイミドアクリレー
ト、ポリアミドイミドアクリレート系の高粘度の紫外線
硬化型樹脂液を用いたほかは実施例１を繰り返したとこ
ろ、パターン電極間の露出したアクリル系樹脂硬化物層
(2) の表面は完全に平滑であり、凹凸に冒される現象は
認められなかった。またパターン出し工程や水洗工程に
おいて、シートのカールも認められなかった。Example 3 Instead of the epoxy acrylate-based high-viscosity UV-curable resin liquid, ester acrylate, urethane acrylate, silicone acrylate, polyimide acrylate, polyamide-imide acrylate-based high-viscosity UV-curable resin liquid was used. Other than that, when Example 1 was repeated, the cured acrylic resin layer between the pattern electrodes was exposed.
The surface of (2) was completely smooth, and no phenomenon of unevenness was observed. No curling of the sheet was observed in the patterning process or the water washing process.
【００４１】[0041]
【発明の効果】本発明の透明電極付き光学用シートにあ
っては、透明電極(4) の下に耐酸耐アルカリ性を有する
透明な無機化合物の薄層(3) が設けられているので、ア
クリル系樹脂硬化物層(2) がパターン出しのためのレジ
ストと同系統の樹脂層であるにかかわらず、透明電極
(4) のパターン出しによっても土台となるアクリル系樹
脂硬化物層(2) の表面が冒されず、またそのパターン出
し工程や水洗工程においてシートのカールを招くことが
ない。そして上記無機化合物の薄層(3) の存在は、防湿
性、防気性、透明電極密着性などの点でもプラスに作用
する。In the optical sheet with a transparent electrode of the present invention, since a thin layer (3) of a transparent inorganic compound having acid-alkali resistance is provided under the transparent electrode (4), the acrylic electrode Although the cured resin layer (2) is a resin layer of the same system as the resist for patterning, it is a transparent electrode.
The patterning of (4) does not affect the surface of the cured acrylic resin layer (2), and the sheet does not curl in the patterning step or the water washing step. The presence of the thin layer (3) of the inorganic compound also has a positive effect in terms of moisture resistance, air resistance, and adhesion to transparent electrodes.
【図１】本発明の透明電極付き光学用シートを製造する
工程を模式的に示した説明図である。FIG. 1 is an explanatory view schematically showing a step of producing an optical sheet with a transparent electrode of the present invention.
【図２】パターン電極を形成した硬化物層の表面を観察
したときの概念図である。FIG. 2 is a conceptual diagram when observing the surface of a cured product layer on which a pattern electrode is formed.
(1) …プラスチックスシート、 (1a)…基材フィルム、 (1b)…耐透気性樹脂層、 (ac)…アンカーコーティング層、 (2) …アクリル系樹脂硬化物層、 (3) …耐酸耐アルカリ性を有する透明な無機化合物の薄
層、 (4) …透明電極 (M) …鋳型フィルム(1) ... Plastic sheet, (1a) ... Base film, (1b) ... Air-permeable resin layer, (ac) ... Anchor coating layer, (2) ... Acrylic resin cured product layer, (3) ... Acid resistance Thin layer of transparent inorganic compound having alkali resistance, (4) ... Transparent electrode (M) ... Mold film
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｂ 5/14 Ｈ０１Ｂ 5/14 Ａ ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Agency reference number FI Technical display location H01B 5/14 H01B 5/14 A
Claims (4)
るプラスチックスシート(1) のアクリル系樹脂硬化物層
(2) 上に、耐酸耐アルカリ性を有する透明な無機化合物
の薄層(3) を設け、さらにその薄層(3) の上から透明電
極(4) を設けてなる透明電極付き光学用シート。1. A cured acrylic resin layer of a plastic sheet (1) having a cured acrylic resin layer (2) on its surface.
An optical sheet with a transparent electrode, comprising a thin layer (3) of a transparent inorganic compound having acid-alkali resistance and a transparent electrode (4) provided on the thin layer (3).
ルギー線硬化型のアクリル系樹脂組成物を活性エネルギ
ー線照射により硬化した層である請求項１記載の透明電
極付き光学用シート。2. The optical sheet with a transparent electrode according to claim 1, wherein the cured acrylic resin layer (2) is a layer obtained by curing an active energy ray-curable acrylic resin composition by irradiation with active energy rays.
間隙をあけて並行に配置した１対のロールのうちの一方
のロールにプラスチックスシート(1) を供給し、また他
方のロールに鋳型フィルム(M) を供給し、これら両ロー
ルの間隙に向けて活性エネルギー線硬化型のアクリル系
樹脂組成物を吐出すると共に、両ロールを互いに喰い込
む方向に回転させてプラスチックスシート(1) と鋳型フ
ィルム(M) との間に前記のアクリル系樹脂組成物が挟持
されるようにし、ついでその挟持された状態で活性エネ
ルギー線照射を行うことにより硬化させた層である請求
項１記載の透明電極付き光学用シート。3. An acrylic resin cured product layer (2) supplies a plastic sheet (1) to one of a pair of rolls arranged in parallel with a slight gap, and the other one. The mold film (M) is supplied to the rolls, the active energy ray-curable acrylic resin composition is discharged toward the gap between these rolls, and both rolls are rotated in a direction in which the plastics sheet ( The acrylic resin composition is sandwiched between 1) and the mold film (M), and then the layer is cured by irradiation with active energy rays in the sandwiched state. The optical sheet with a transparent electrode as described above.
物の薄層(3) が、ケイ素、スズ、インジウム、バナジウ
ム、タングステン、ニッケル、ニオブ、アルミニウム、
マグネシウムまたはモルブデンの酸化物またはインジウ
ムの窒化物の薄層である請求項１ないし３のいずれかに
記載の透明電極付き光学用シート。4. A thin layer (3) of a transparent inorganic compound having acid resistance and alkali resistance, comprising: silicon, tin, indium, vanadium, tungsten, nickel, niobium, aluminum,
The optical sheet with a transparent electrode according to claim 1, which is a thin layer of an oxide of magnesium or morphudene or a nitride of indium.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7245497A JPH0957894A (en) | 1995-08-29 | 1995-08-29 | Optical sheet with transparent electrode |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7245497A JPH0957894A (en) | 1995-08-29 | 1995-08-29 | Optical sheet with transparent electrode |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0957894A true JPH0957894A (en) | 1997-03-04 |
Family
ID=17134555
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7245497A Pending JPH0957894A (en) | 1995-08-29 | 1995-08-29 | Optical sheet with transparent electrode |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0957894A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6395863B2 (en) | 2000-02-02 | 2002-05-28 | Microtouch Systems, Inc. | Touch screen with polarizer and method of making same |
| WO2005100014A1 (en) * | 2004-04-15 | 2005-10-27 | Teijin Limited | Transparent gas barrier multilayer film |
| JP2012034363A (en) * | 2010-07-29 | 2012-02-16 | Pantech Co Ltd | Video display device and its manufacturing method |
| JP2013056546A (en) * | 2000-04-20 | 2013-03-28 | Samsung Display Co Ltd | SMOOTHING LAYER AND BARRIER LAYER ON Tg SUBSTRATE |
-
1995
- 1995-08-29 JP JP7245497A patent/JPH0957894A/en active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6395863B2 (en) | 2000-02-02 | 2002-05-28 | Microtouch Systems, Inc. | Touch screen with polarizer and method of making same |
| JP2013056546A (en) * | 2000-04-20 | 2013-03-28 | Samsung Display Co Ltd | SMOOTHING LAYER AND BARRIER LAYER ON Tg SUBSTRATE |
| WO2005100014A1 (en) * | 2004-04-15 | 2005-10-27 | Teijin Limited | Transparent gas barrier multilayer film |
| JP2012034363A (en) * | 2010-07-29 | 2012-02-16 | Pantech Co Ltd | Video display device and its manufacturing method |
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| A977 | Report on retrieval |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040330 |
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| A02 | Decision of refusal |
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