JP3394547B2 - マルチステップバルブアクチェータ - Google Patents

マルチステップバルブアクチェータ

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JP3394547B2
JP3394547B2 JP13552692A JP13552692A JP3394547B2 JP 3394547 B2 JP3394547 B2 JP 3394547B2 JP 13552692 A JP13552692 A JP 13552692A JP 13552692 A JP13552692 A JP 13552692A JP 3394547 B2 JP3394547 B2 JP 3394547B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、特に真空室を真空状態
にする際に、真空室と真空ポンプとの間に介装して用い
られる真空バルブを段階的に駆動するためのマルチステ
ップバルブアクチェータに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体製造等に用いられる真空室
を真空状態に近づけるには、図2に示すように、真空室
(01)と真空ポンプ(02)とを導管(03)で接続
し、単一の真空バルブ(04)を開放することによっ
て、真空室(01)を真空ポンプ(02)で吸引してい
た。しかし単一の真空バルブ(04)を開放すると、急
激な真空排気による高排気速度に起因して、真空室(0
1)及び導管(03)内に乱流が発生し、これが真空室
(01)内でパーティクルを舞い上がらせる原因になっ
ていた。
【0003】それを防止するために、近年では、図3に
示すように、大口径の真空バルブ(04)をバイパスす
るように、バイパス路(06)を設け、バイパス路(0
6)に小口径の真空バルブ(05)を取り付け、両真空
バルブを併用して、段階的に真空引きを行っている。す
なわち、真空室(01)の真空引きに際して、まず初め
に小口径の真空バルブ(05)を開放して、真空ポンプ
(02)によって徐々に導管(03)及び真空室(0
1)を数トール程度になるまで排気し、その後、大口径
の真空バルブ(04)を開放して、完全な真空排気を達
成するのである。
【0004】数トール程度の真空状態では、もはやパー
ティクルを舞い上げる程の分子量は存在しないので、そ
の状態で大口径の真空バルブ(04)を全開にしても、
真空排気は支障なく安定して行われる。ところが、コン
トローラ(07)を用いて経時的に制御される小口径の
真空バルブ(05)と大口径の真空バルブ(04)との
両方を備えることは、その構造が複雑になるばかりか、
コスト的にも高価なものとなる。
【0005】このため出願人は、単一の真空バルブに所
定の圧搾ガスを導入するだけで、スロー排気から大口径
排気まで段階的に切換わるように作動できる極めて簡単
な構造の真空バルブを先に出願した。
【0006】これは、図4に示されるように、主弁体
(001)に第1ステム(002)を介して結合された
第1ピストン(003)が、シリンダ筐体(004)内
で摺動する第2ピストン(005)の内部に摺動可能に
収容されるという、いわゆる2重ピストン構造を有して
いる。
【0007】第1ピストン(003)の下方部に圧搾ガ
スを導入すると、圧搾ガスは第1ピストン(003)の
受圧面に作用して、第2ピストン(005)内部で第1
ピストン(003)を上昇せしめ、これによって主弁体
(001)が第1ステム(002)を介して第1ピスト
ン(003)とともに上方に僅かに移動し、リーク開口
部を形成する。真空ポンプは作動状態にあり、まずはリ
ーク開口部を介して真空室内の空気が徐々に吸引され、
所定時間後、真空室はもはやパーティクルの舞い上がら
ない数トール程度の気圧になる。
【0008】上記所定時間経過後、シリンダ筐体(00
4)内の第2ピストン(005)の下方部に圧搾ガスを
導入すると、主弁体(001)が第1ステム(002)
を介して第1ピストン(003)及び第2ピストン(0
05)とともに上方に急速に移動する。
【0009】そのため、真空室と真空ポンプとを連通し
ている大口径の主弁装置が全開し、真空室内の残りの空
気が排気される。当初形成されたリーク開口部は、ハン
ドル操作でステム案内部を上下移動させることにより、
極めて容易に調節される。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしこの装置におい
ては、第1ピストン(003)が第2ピストン(00
5)内にあるために、第1ピストン(003)に圧搾ガ
スを供給するための通路は必然的にシリンダ筐体(00
4)と第2ピストン(005)を横切ることになり、そ
の配管が複雑になるとともに、主弁装置を全開にするに
は両ピストンを一緒に持ち上げなければならず、それゆ
え高圧の圧搾ガスを大量に供給しなければならないとい
った問題が存在している。
【0011】本発明は、ピストン内でのピストン駆動を
無くして、極めて簡単な構成で段階的な弁体移動を達成
できる汎用性のあるマルチステップバルブアクチェータ
を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明のマルチステップ
バルブアクチェータは、弁筐体とシリンダ筐体とから構
成されるマルチステップバルブアクチェータであって、
前記弁筐体からシリンダ筐体内に貫通する第1ステムの
弁筐体側には主弁体を、またシリンダ筐体側には第1ピ
ストンをそれぞれ形成し、前記シリンダ筐体には、第1
ピストンの主弁体側に所定の隙間をおいて、第1ステム
によって貫通された第2ピストンを内装するとともに、
該第2ピストンの上限位置を限定するストッパーを設
け、第1ピストンと第2ピストンをそれそれ圧さくガス
を用いて駆動できるようにしたことを特徴としている。
【0013】
【作用】始めに第2ピストンの下方部に圧さくガスを導
入し、第2ピストンを圧さくガスによって前記ストッパ
ーに当接するまで上昇せしめ、この時第2ピストンの上
昇力で第1ピストンも押し上げ、前記主弁体によりリー
ク開口部を形成する。次に第1ピストンの下方部に圧さ
くガスを導入することにより、今度は第2ピストンを停
止させたまま第1ピストンだけを主弁体を伴って上方に
急速に移動させ、主弁体を全開位置に到達させるように
なっている。すなわち、当初主弁体がリーク開口部を形
成すると、このリーク開口部を介して真空室内の空気が
徐々に吸引され、所定時間後真空室はパーチクルの舞い
上がる心配のない数トール程度の気圧に達する。この後
第1ピストンの下方部に圧さくガスを導入し、主弁体を
全開位置とし真空室の残りの空気を完全に排気できるこ
とになる。このようにピストン内でのピストンの駆動を
無くして、極めて簡単な構成で真空バルブを段階的に駆
動できることになる
【0014】
【実施例】図1は、本発明の1実施例を示すもので、マ
ルチステップバルブアクチェータは、上方のシリンダ筐
体(1)と下方の弁筐体(2)とから構成されている。
シリンダ筐体(1)と弁筐体(2)との間に位置する隔
壁(3)は、第1ステム(4)によって貫通されてお
り、この第1ステム(4)の弁筐体(1)側の端部には
主弁体(5)が、またシリンダ筐体(2)側の端部には
第1ピストン(6)がそれぞれ取り付けられている。
【0015】シリンダ筐体(2)内の第1ピストン
(6)の主弁体(5)側には、即ち第1ピストン(6)
と隔壁(3)の間には、第1ピストン(6)に対して所
定の隙間(7)をおいて第1ステム(4)によって貫通
された第2ピストン(8)が内装されている。前記隙間
(7)を形成するために、この実施例では第2ピストン
(8)の上面に***部(9)を設けている。
【0016】第1ピストン(6)及び第2ピストン
(8)とシリンダ筐体(1)との間、並びに第2ピスト
ン(8)及び隔壁(3)と第1ステム(4)との間に
は、それぞれ適当なシール手段が介装されている。また
シリンダ筐体(1)と弁筐体(2)との間の密封をより
完全なものとするために、この実施例では主弁体(5)
と隔壁(3)との間に、第1ステム(4)を包囲するよ
うにベローズ(10)を張設しており、このベローズ
(10)の内部を、隔壁(3)に設けた通路(11)を
介して、適当な低圧力源(図示せず)に接続している。
【0017】第2ピストン(8)には第1ピストン
(6)を貫通して上方に延びる第2ステム(12)が
けられており、この第2ステム(12)の上端部には、
シリンダ筐体(1)の上端壁(13)に備えられたスト
ッパー(14)の突起(15)を受容するための凹部
(16)を有する案内片(17)がボルト(18)によ
って固着されている。
【0018】ストッパー(14)は、上端壁(13)に
突設された筒部(19)の螺合部(20)を介して上下
移動自在に保持されている。またストッパー(14)の
螺合部(20)より下方の周面には溝(21)が設けら
れており、この溝(21)内に筒部(19)を貫通した
ピン(22)の内端部が突入している。
【0019】ピン(22)の外端部は、筒部(19)に
外嵌するスリーブ(23)に当接しており、これによっ
てピン(22)が抜け落ちることはなくなる。ピン(2
2)は、溝(21)の側壁に当接することによりストッ
パー(14)の上下移動を制限する。またストッパー
(14)には調節ハンドル(24)が嵌着されており、
この調節ハンドル(24)の周縁に垂設されたスカート
片(25)は、筒部(19)を包囲している。
【0020】このスカート片(25)と筒部(19)に
それそれ目盛りを刻設することによって、ストッパー
(14)の上下位置を確認することができる。さらにス
トッパー(14)の意図せざる移動を防止するために、
上端壁(13)に刻設されたねじ孔(26)にねじ(2
7)を螺入させて、ストッパー(14)の周面にねじ
(27)の前端面を押し付けることができる。
【0021】シリンダ筐体(1)には、第1ピストン
(6)と第2ピストン(8)との間の隙間(7)に圧さ
くガスを供給するための通路(28)が設けられてお
り、隔壁(3)には、第2ピストン(8)の下方の空間
に圧さくガスを供給するための通路(29)が設けられ
ている。第1ピストン(6)は、第1ピストン(6)上
面と上端壁(13)との間に縮設されたばね(30)に
よって下方に付勢されており、これによって主弁体
(5)は、各ピストンに圧さくガスが作用していない状
態で閉弁せしめられる。
【0022】図1の右側に破線で示されるような閉弁状
態において、第2ピストン(8)の下方部に、通路(2
9)を介して、任意の圧力源から圧さくガスを導入する
と、圧さくガスは第2ピストン(8)の受圧面に作用し
て第2ピストン(8)を押し上げる。第2ピストン
(8)は、第2ステム(12)の案内片(17)の凹部
(16)内に突入しているストッパー(14)の突起
(15)によって案内されつつ上昇し、やがて突起(1
5)の前端面と凹部(16)の底面とが当接することに
よって停止せしめられる。この第2ピストン(8)の上
昇に際して、第2ピストン(8)は***部(9)を介し
て第1ピストン(6)を同時に押し上げるので、結局主
弁体(5)が、ストッパー(14)の高さに相応して押
し上げられて、リーク開口部を形成する(図1左側の状
態)。
【0023】例えば弁筐体(2)の下向きの開口に接続
された真空ポンプが作動状態にあるとこの弁筐体(2)
の横向きの開口に接続された真空室内の空気が、このリ
ーク開口部を介して徐々に吸引され、所定時間後、真空
室は、もはやパーティクルの舞い上がる心配のない数ト
ール程度の気圧に達する。
【0024】その後、隙間(7)内に通路(28)を介
して圧さくガスを導入すると、圧さくガスが第1ピスト
ン(6)の受圧面に作用するために、今度は第1ピスト
ン(6)のみが、第2ピストン(8)を停止させたまま
急速に上昇する。したがって第1ピストン(6)に第1
ステム(4)を介して連結された主弁体(5)も、それ
に伴って急速上昇して、全開位置に達する。この状態は
図1の右側に示されている。こうして、真空室内の残り
の空気は真空ポンプによって完全に排気される。
【0025】当初形成されるリーク開口部の大きさ、即
ち第2ピストン(8)の揚程は、調節ハンドル(24)
を回動して、ストッパー(14)の突起(15)を上下
に移動させることにより、つまりは突起(15)と凹部
(16)の当接位置を変更することにより、任意に調節
することができる。
【0026】本発明の構成及び用途は、上記実施例に限
定されるものではない。発明の要旨を具体化する場合に
当業者であれば容易に想到し得るレベルの実施の態様を
含んでいる。例えば、第2ピストンのためのストッパー
は、シリンダ筐体の内周壁に設けられていて、第2ピス
トンに直接係合するものであってもよい。また第1ピス
トンと第2ピストンの各半径は、互いに同一であって
も、異なっていてもよい。
【0027】本発明の構成によれば、リーク開口部を形
成した後で、主弁体を全開位置まで開放させる場合、第
2ピストンを停止させたまま第1ピストンだけを圧さく
ガスによって上昇させればよいので、圧さくガスの圧力
及び供給量を従来と比べて減少させることができ、した
がって圧さくガス源を小型化することができる。
【0028】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の1実施例の作動説明断面図である。
【図2】従来技術を示す概略図である。
【図3】従来技術を示す概略図である。
【図4】従来技術を示す概略図である。
【符号の説明】
(1)シリンダ筐体 (2)弁筐体 (3)隔壁 (4)第1ステム (5)主弁体 (6)第1ピストン (7)隙間 (8)第2ピストン (9)***部 (10)ベローズ (11)通路 (12)第2ステム (13)上端壁 (14)ストッパー (15)突起 (16)凹部 (17)案内片 (18)ボルト (19)筒部 (20)螺合部 (21)溝 (22)ピン (23)スリーブ (24)調節ハンドル (25)スカート片 (26)ねじ孔 (27)ねじ (28)通路 (29)通路 (30)ばね

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 弁筺体2とシリンダ筐体1から構成され
    る真空バルブを段階的に駆動するためのマルチステップ
    バルブアクチェータであって、前記弁筐体2からシリン
    ダ筐体1内に貫通する第1ステム4の弁筐体2側には主
    弁体5が位置し、また第1ステム4のシリンダ筐体1側
    には、外周面が前記シリンダ筐体1の内周面に摺接する
    第1ピストン6が取り付けられており、さらに同じ前記
    シリンダ筐体1には、前記第1ステム4によって貫通さ
    れ、外周面が前記シリンダ筐体1の内周面に摺接する
    2ピストン8が内装されるとともに、該第2ピストン8
    の上限位置を限定するストッパー14が設けられ、さら
    に前記シリンダ筐体1には、それぞれ第1ピストン6の
    下方部と第2ピストン8の下方部とに、圧さくガス
    入する通路28、29がそれぞれに設けられるととも
    に、前記第1ピストン6の上面に設けられたばね30に
    より前記第1ピストン6及び前記第2ピストン8を主弁
    体5の閉弁方向に付勢させておき、始めに第2ピストン
    8の下方部に圧さくガスを導入し、第2ピストン8を圧
    さくガスによって前記ストッパー14に当接するまで
    ね30に抗して上昇せしめ、この時第2ピストン8の上
    昇力で第1ピストン6も押し上げ、前記主弁体5により
    リーク開口部を形成し、次に第1ピストン6の下方部に
    圧さくガスを導入することにより、今度は第2ピストン
    8を停止させたまま第1ピストン6だけをばね30に抗
    して主弁体5を伴って上方に急速に移動させ、主弁体5
    を全開位置に到達させるようにしたことを特徴とする真
    空バルブを段階的に駆動するためのマルチステップバル
    ブアクチェータ。
  2. 【請求項2】 第2ピストンに、第1ピストンを貫通し
    て上方に延びる第2ステムを設け、該第2ステムが、第
    2ピストンの上昇時にストッパーと当接するようになっ
    ている請求項1に記載の真空バルブを段階的に駆動する
    ためのマルチステップバルブアクチェータ。
  3. 【請求項3】 ストッパーが第2ステムのための案内部
    を有している請求項2に記載の真空バルブを段階的に駆
    動するためのマルチステップバルブアクチェータ。
  4. 【請求項4】 ストッパーの高さが調節可能である請求
    項1ないし3のいずれかに記載の真空バルブを段階的に
    駆動するためのマルチステップバルブアクチェータ。
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