JP3388463B2 - 液晶表示パネル - Google Patents
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
-
- G—PHYSICS
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- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示パネルに
関する。特に、対向する両基板間に設置され、両基板間
の間隙を一定に保持するスペーサに関係する。
関する。特に、対向する両基板間に設置され、両基板間
の間隙を一定に保持するスペーサに関係する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、液晶表示パネルは以下のような
方法で構成される。すなわち、２枚のガラス基板に絶縁
膜、電極などをパターンニングし、その上に液晶分子を
配向するための配向膜をローラ転写方法などにより印刷
する。次にできあがった２枚のガラス基板を数μｍ程の
間隙（ギャップ）を設けて貼り合わせ、その外枠をシー
リングし、両基板間の間隙に液晶を注入して液晶層を形
成する。液晶表示パネルには、単純マトリクス型、アク
ティブマトリクス型などがあるが、アクティブマトリク
ス液晶表示パネル（Active Matrix Liquid Crystal Dis
play 略してＡＭ−ＬＣＤ）の場合は、薄膜トランジス
ター（Thin Film Transistor 略してＴＦＴ）が作り込
まれたＴＦＴ基板と、カラーフィルタ層（着色層）を有
するＣＦ（Color Filter）基板とを備え、対向する両基
板間に液晶を封入した構造を有する。
方法で構成される。すなわち、２枚のガラス基板に絶縁
膜、電極などをパターンニングし、その上に液晶分子を
配向するための配向膜をローラ転写方法などにより印刷
する。次にできあがった２枚のガラス基板を数μｍ程の
間隙（ギャップ）を設けて貼り合わせ、その外枠をシー
リングし、両基板間の間隙に液晶を注入して液晶層を形
成する。液晶表示パネルには、単純マトリクス型、アク
ティブマトリクス型などがあるが、アクティブマトリク
ス液晶表示パネル（Active Matrix Liquid Crystal Dis
play 略してＡＭ−ＬＣＤ）の場合は、薄膜トランジス
ター（Thin Film Transistor 略してＴＦＴ）が作り込
まれたＴＦＴ基板と、カラーフィルタ層（着色層）を有
するＣＦ（Color Filter）基板とを備え、対向する両基
板間に液晶を封入した構造を有する。
【０００３】いずれの液晶表示パネルにおいても、張り
合わされる２枚の基板間の間隙を保持するため、両基板
間にはギャップ保持材が設置される。従来、かかるギャ
ップ保持材としてプラスチックビーズを両基板間に散布
する技術があった。しかし、散布ムラに起因した透過率
のバラツキにより表示ムラが生じるという問題があっ
た。そのため、柱状の樹脂スペーサを表示部及び表示部
周辺の非表示部（以下周辺部という。）の特定箇所に配
設する構成が採られ、上記問題を解決していた。以下
に、柱状の樹脂スペーサが表示部及び周辺部の特定箇所
に配設された従来のアクティブマトリクス液晶表示パネ
ルの一例につき図面を参照して脱明する。
合わされる２枚の基板間の間隙を保持するため、両基板
間にはギャップ保持材が設置される。従来、かかるギャ
ップ保持材としてプラスチックビーズを両基板間に散布
する技術があった。しかし、散布ムラに起因した透過率
のバラツキにより表示ムラが生じるという問題があっ
た。そのため、柱状の樹脂スペーサを表示部及び表示部
周辺の非表示部（以下周辺部という。）の特定箇所に配
設する構成が採られ、上記問題を解決していた。以下
に、柱状の樹脂スペーサが表示部及び周辺部の特定箇所
に配設された従来のアクティブマトリクス液晶表示パネ
ルの一例につき図面を参照して脱明する。
【０００４】まず、ＴＦＴ基板上の一セルのパターン構
成につき図４を参照して脱明する。図４は従来例のアク
ティブマトリクス液晶表示パネルにおけるＴＦＴ基板上
の一セルのパターン構成を示す平面図である。図４に示
すように、ＴＦＴ基板上の一セルのパターンは、主とし
て、ゲート線４１、半導体層４２、ドレイン線４３、ソ
ース電極４４と、それらの交差部分によって構成される
ＴＦＴ４と、ＣＦ基板側に形成されるブラックマトリク
ス６１（図６参照）の開口を形成するＢＭ開口部４５に
周縁部を除く大部分を対面させる透明画素電極４６とに
より構成され、ソース電極４４と透明画素電極４６とは
コンタクトホール４７を介して接触している。また蓄積
容量を形成するために、透明画素電極４６の一部は前段
のゲート線４１ａに重なり合うように形成されている。
成につき図４を参照して脱明する。図４は従来例のアク
ティブマトリクス液晶表示パネルにおけるＴＦＴ基板上
の一セルのパターン構成を示す平面図である。図４に示
すように、ＴＦＴ基板上の一セルのパターンは、主とし
て、ゲート線４１、半導体層４２、ドレイン線４３、ソ
ース電極４４と、それらの交差部分によって構成される
ＴＦＴ４と、ＣＦ基板側に形成されるブラックマトリク
ス６１（図６参照）の開口を形成するＢＭ開口部４５に
周縁部を除く大部分を対面させる透明画素電極４６とに
より構成され、ソース電極４４と透明画素電極４６とは
コンタクトホール４７を介して接触している。また蓄積
容量を形成するために、透明画素電極４６の一部は前段
のゲート線４１ａに重なり合うように形成されている。
【０００５】次に、図５を参照してＴＦＴ基板の形成手
順及び断面構造について脱明する。図５は図４における
Ａ−Ａ’断面図である。まずガラス基板１０１上にＣｒ
等の金属からなる第１金属膜をパターニングしてゲート
電極５１を形成する。その上にシリコン酸化膜、シリコ
ン窒化膜等の材料からなるゲート絶縁膜５２を形成す
る。次いでアモルファスシリコンからなるチャネル層５
３を形成し、さらに、ｎ型アモルファスシリコンからな
るコンタクト層５４を形成する。次に、Ｃｒ等の金属か
らなる第２金属膜をパターニングしてドレイン電極５
５、ソース電極４４を形成する。その後、チャネル部の
コンタクト層をエッチング除去したのち、シリコン窒化
膜等の材料からなる層間絶縁膜５６を形成する。次に、
ソース電極４４上の層間絶縁膜５６の一部を除去した
後、ＩＴＯ（Indium Thin Oxitde）などの材科を用いて
透明画素電極４６を形成する。なお透明画素電極４６は
ソース電極４４上の層間絶縁膜開口部（コンタクトホー
ル４７）を覆うように形成され、このコンタクトホール
４７を介してソース電極４４と導通している。
順及び断面構造について脱明する。図５は図４における
Ａ−Ａ’断面図である。まずガラス基板１０１上にＣｒ
等の金属からなる第１金属膜をパターニングしてゲート
電極５１を形成する。その上にシリコン酸化膜、シリコ
ン窒化膜等の材料からなるゲート絶縁膜５２を形成す
る。次いでアモルファスシリコンからなるチャネル層５
３を形成し、さらに、ｎ型アモルファスシリコンからな
るコンタクト層５４を形成する。次に、Ｃｒ等の金属か
らなる第２金属膜をパターニングしてドレイン電極５
５、ソース電極４４を形成する。その後、チャネル部の
コンタクト層をエッチング除去したのち、シリコン窒化
膜等の材料からなる層間絶縁膜５６を形成する。次に、
ソース電極４４上の層間絶縁膜５６の一部を除去した
後、ＩＴＯ（Indium Thin Oxitde）などの材科を用いて
透明画素電極４６を形成する。なお透明画素電極４６は
ソース電極４４上の層間絶縁膜開口部（コンタクトホー
ル４７）を覆うように形成され、このコンタクトホール
４７を介してソース電極４４と導通している。
【０００６】次に、ＣＦ基板につき図６、図７を参照し
て説明する。図６は従来例のＣＦ基板の概略構成図であ
る。図７は従来例のアクティブマトリクス液晶表示パネ
ルを示す断面図である。図６又は図７に示すように、Ｃ
Ｆ基板６は、ガラス基板１０２上に遮光膜としてブラッ
クマトリクス６１が形成された構成をとっている。ブラ
ックマトリクス６１は対向するＴＦＴ基板の透明画素電
極４６の周囲及び表示部Ｄ周辺の光漏れを防ぐために形
成されるものである。また、ＣＦ基板６上には、赤
（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）等の着色層７１がストライ
プ状に形成される。着色層７１の上には、これを覆うよ
うにしてＩＴＯ等からなる透明電極層７２が形成され
る。さらに、透明電極層７２を覆うように配向膜７３が
形成される。最後に、樹脂スペーサ１が表示部Ｄ及び周
辺部Ｃに形成される。樹脂スペーサ１は、例えば、ネガ
型透明感光性樹脂をＣＦ基板６上に塗布し、その後、露
光、現像することにより形成される。これにより均等な
高さの樹脂スペーサ１が形成される。スべーサー１はブ
ラックマトリクス６１上である遮光領域に配置するのが
望ましい。これはスペーサ周りの液晶配向乱れによる光
漏れを防ぐためである。
て説明する。図６は従来例のＣＦ基板の概略構成図であ
る。図７は従来例のアクティブマトリクス液晶表示パネ
ルを示す断面図である。図６又は図７に示すように、Ｃ
Ｆ基板６は、ガラス基板１０２上に遮光膜としてブラッ
クマトリクス６１が形成された構成をとっている。ブラ
ックマトリクス６１は対向するＴＦＴ基板の透明画素電
極４６の周囲及び表示部Ｄ周辺の光漏れを防ぐために形
成されるものである。また、ＣＦ基板６上には、赤
（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）等の着色層７１がストライ
プ状に形成される。着色層７１の上には、これを覆うよ
うにしてＩＴＯ等からなる透明電極層７２が形成され
る。さらに、透明電極層７２を覆うように配向膜７３が
形成される。最後に、樹脂スペーサ１が表示部Ｄ及び周
辺部Ｃに形成される。樹脂スペーサ１は、例えば、ネガ
型透明感光性樹脂をＣＦ基板６上に塗布し、その後、露
光、現像することにより形成される。これにより均等な
高さの樹脂スペーサ１が形成される。スべーサー１はブ
ラックマトリクス６１上である遮光領域に配置するのが
望ましい。これはスペーサ周りの液晶配向乱れによる光
漏れを防ぐためである。
【０００７】以上のようにして、従来のＴＦＴ基板５及
びＣＦ基板６が構成される。また、図７に示す液晶表示
パネルを完成するために、基板の外枠にエポキシ系の絶
縁物等からなるシール材７４を印刷するシール印刷工
程、ＴＦＴ基板５とＣＦ基板６とを貼り合わせる組立・
封着工程が施される。その後、液晶注入工程、封止工程
が施される。なお、図７に示すように、ＴＦＴ基板５は
端子部６２を有する。端子部６２は、ＣＦ基板６と対面
しない位置に配置される。端子部６２には外部接続用の
透明電極層７５及びコンタクトホール７６が形成され、
透明電極層７５は、コンタクトホール７６を介してゲー
ト層７７を互いに接触する。
びＣＦ基板６が構成される。また、図７に示す液晶表示
パネルを完成するために、基板の外枠にエポキシ系の絶
縁物等からなるシール材７４を印刷するシール印刷工
程、ＴＦＴ基板５とＣＦ基板６とを貼り合わせる組立・
封着工程が施される。その後、液晶注入工程、封止工程
が施される。なお、図７に示すように、ＴＦＴ基板５は
端子部６２を有する。端子部６２は、ＣＦ基板６と対面
しない位置に配置される。端子部６２には外部接続用の
透明電極層７５及びコンタクトホール７６が形成され、
透明電極層７５は、コンタクトホール７６を介してゲー
ト層７７を互いに接触する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】図７に示すように、液
晶表示パネルは、表示部Ｄと周辺部Ｃとに分けられる。
両基板間には、樹脂スペーサ１とスペーサ以外ものとし
てシール材７４が配置される。シール材７４は、周辺部
Ｃに設置される樹脂スペーサ１の外側に配置される。ま
た、表示部Ｄと周辺部Ｃとでは、樹脂スペーサ１の形成
位置における積層構造が異なる。すなわち、表示部Ｄに
おいては、ガラス基板１０２上に、ブラックマトリクス
６１、着色層７１、透明電極層７２、配向膜７３と順に
積層され、ＣＦ基板６が構成されており、ガラス基板１
０１上に、ゲート層７７、ゲート絶縁膜５２、層間絶縁
膜５６、透明電極層７２、配向膜７３と順に積層され、
ＴＦＴ基板５が構成されている。これに対し、周辺部Ｃ
においては、ガラス基板１０２上に、ブラックマトリク
ス６１が積層され、ＣＦ基板６が構成されており、ガラ
ス基板１０１上に、ゲート層７７、ゲート絶縁膜５２、
層間絶縁膜５６と順に積層され、ＴＦＴ基板５が構成さ
れている。したがって、表示部Ｄより周辺部Ｃの方が、
着色層７１、透明電極層７２、配向膜７３、透明電極層
７２及び配向膜７３の分だけ、間隙が大きいことにな
る。特に、着色層７１の層厚が厚いので、表示部Ｄより
周辺部Ｃの方が、ほぼ着色層７１だけ間隙が大きいとい
える。表示部Ｄより周辺部Ｃの方が間隙が大きいのに対
し、均等な高さの樹脂スペーサ１をそれそれに配設して
いるので、周辺部Ｃに設置される樹脂スペーサ１の上端
は対向するＴＦＴ基板に接触することができず、周辺部
Ｃに設置される樹脂スペーサ１はギャップ保持材として
機能しないこととなる。
晶表示パネルは、表示部Ｄと周辺部Ｃとに分けられる。
両基板間には、樹脂スペーサ１とスペーサ以外ものとし
てシール材７４が配置される。シール材７４は、周辺部
Ｃに設置される樹脂スペーサ１の外側に配置される。ま
た、表示部Ｄと周辺部Ｃとでは、樹脂スペーサ１の形成
位置における積層構造が異なる。すなわち、表示部Ｄに
おいては、ガラス基板１０２上に、ブラックマトリクス
６１、着色層７１、透明電極層７２、配向膜７３と順に
積層され、ＣＦ基板６が構成されており、ガラス基板１
０１上に、ゲート層７７、ゲート絶縁膜５２、層間絶縁
膜５６、透明電極層７２、配向膜７３と順に積層され、
ＴＦＴ基板５が構成されている。これに対し、周辺部Ｃ
においては、ガラス基板１０２上に、ブラックマトリク
ス６１が積層され、ＣＦ基板６が構成されており、ガラ
ス基板１０１上に、ゲート層７７、ゲート絶縁膜５２、
層間絶縁膜５６と順に積層され、ＴＦＴ基板５が構成さ
れている。したがって、表示部Ｄより周辺部Ｃの方が、
着色層７１、透明電極層７２、配向膜７３、透明電極層
７２及び配向膜７３の分だけ、間隙が大きいことにな
る。特に、着色層７１の層厚が厚いので、表示部Ｄより
周辺部Ｃの方が、ほぼ着色層７１だけ間隙が大きいとい
える。表示部Ｄより周辺部Ｃの方が間隙が大きいのに対
し、均等な高さの樹脂スペーサ１をそれそれに配設して
いるので、周辺部Ｃに設置される樹脂スペーサ１の上端
は対向するＴＦＴ基板に接触することができず、周辺部
Ｃに設置される樹脂スペーサ１はギャップ保持材として
機能しないこととなる。
【０００９】従来、シール材７４にガラスやプラスチッ
ク等の硬質な材料を混入し、シール材７４を固くして、
シール材７４にギャップ保持材としての機能を持たせる
という液晶表示パネルがあった。かかる液晶表示パネル
においては、周辺部Ｃに設置される樹脂スペーサ１がギ
ャップ保持材として機能しない場合でも、シール材７４
が周辺部におけるギャップ保持材として機能するため、
大きな問題は起こらなかった。しかし、シール材７４に
ガラスやプラスチック等の硬質な材料を混入し、シール
材７４にギャップ保持材としての機能を持たせると、原
価を上げてしまう。そのため、シール材７４にガラスや
プラスチック等の硬質な材料を混入せず、シール材７４
がギャップ保持材として機能しない液晶表示パネルが用
いられる。シール材７４がギャップ保持材として機能し
ない液晶表示パネルの場合、以下のような問題が生じ
る。すなわち、シール材７４及び周辺部Ｃに設置される
樹脂スペーサ１がギャップ保持材として機能せず、周辺
部Ｃには他のギャップ保持材は存在しないので、液晶注
入工程等のパネルに圧力がかかる工程において、パネル
の中心付近がふくらむことで周辺部Ｃに設置される樹脂
スペーサ１の上端がＴＦＴ基板５に接するまでＴＦＴ基
板５及びＣＦ基板６の周辺部Ｃが押されることになる。
そのように両基板の周辺部Ｃが両側から押される結果と
して、周辺部Ｃにおいて両基板の間隙が狭くなる方向に
両基板全体が撓み変形する。したがって、表示部Ｄと周
辺部Ｃの境界近傍の表示部Ｄ側では、表示部Ｄの周縁部
の間隙と表示部Ｄの中央部の間隙とに大きく差が生じて
しまうこととなる。その結果、このような構造を有する
従来のＡＭ−ＬＣＤは、透過率が表示部Ｄの中央部と表
示部Ｄの周縁部とで異なり、周辺ギャップムラ（液晶層
の厚さのバラツキに起因する液晶表示画面の周辺部にお
ける表示ムラ）が視認されやすいという間題が生じる。
ク等の硬質な材料を混入し、シール材７４を固くして、
シール材７４にギャップ保持材としての機能を持たせる
という液晶表示パネルがあった。かかる液晶表示パネル
においては、周辺部Ｃに設置される樹脂スペーサ１がギ
ャップ保持材として機能しない場合でも、シール材７４
が周辺部におけるギャップ保持材として機能するため、
大きな問題は起こらなかった。しかし、シール材７４に
ガラスやプラスチック等の硬質な材料を混入し、シール
材７４にギャップ保持材としての機能を持たせると、原
価を上げてしまう。そのため、シール材７４にガラスや
プラスチック等の硬質な材料を混入せず、シール材７４
がギャップ保持材として機能しない液晶表示パネルが用
いられる。シール材７４がギャップ保持材として機能し
ない液晶表示パネルの場合、以下のような問題が生じ
る。すなわち、シール材７４及び周辺部Ｃに設置される
樹脂スペーサ１がギャップ保持材として機能せず、周辺
部Ｃには他のギャップ保持材は存在しないので、液晶注
入工程等のパネルに圧力がかかる工程において、パネル
の中心付近がふくらむことで周辺部Ｃに設置される樹脂
スペーサ１の上端がＴＦＴ基板５に接するまでＴＦＴ基
板５及びＣＦ基板６の周辺部Ｃが押されることになる。
そのように両基板の周辺部Ｃが両側から押される結果と
して、周辺部Ｃにおいて両基板の間隙が狭くなる方向に
両基板全体が撓み変形する。したがって、表示部Ｄと周
辺部Ｃの境界近傍の表示部Ｄ側では、表示部Ｄの周縁部
の間隙と表示部Ｄの中央部の間隙とに大きく差が生じて
しまうこととなる。その結果、このような構造を有する
従来のＡＭ−ＬＣＤは、透過率が表示部Ｄの中央部と表
示部Ｄの周縁部とで異なり、周辺ギャップムラ（液晶層
の厚さのバラツキに起因する液晶表示画面の周辺部にお
ける表示ムラ）が視認されやすいという間題が生じる。
【００１０】一方、対向するＴＦＴ基板とＣＦ基板との
間の距離を一定に保持するスペーサに関する他の従来技
術が、特開平１０−４８６４０号、特開平１１−３８４
３８号に開示されている。
間の距離を一定に保持するスペーサに関する他の従来技
術が、特開平１０−４８６４０号、特開平１１−３８４
３８号に開示されている。
【００１１】しかし、特開平１０−４８６４０号に開示
された液晶表示パネルおけるスペーサは、着色層、シリ
コン層等のＴＦＴ基板やＣＦ基板を構成する層（以下、
既存層という。）と同一物により、それぞれの既存層と
同一工程によって構成される。それゆえに両基板間の間
隙は、複数の既存層の組み合わせによる数種の高さに限
定され、さらに、両基板間の間隙を均等にするため、均
等な高さとなる組み合わせに限定される。したがって、
高さを変えることはほとんどできないといえる。高さを
変えることがほとんどできないと、液晶層の厚さを自由
に制御することができないという不都合がある。
された液晶表示パネルおけるスペーサは、着色層、シリ
コン層等のＴＦＴ基板やＣＦ基板を構成する層（以下、
既存層という。）と同一物により、それぞれの既存層と
同一工程によって構成される。それゆえに両基板間の間
隙は、複数の既存層の組み合わせによる数種の高さに限
定され、さらに、両基板間の間隙を均等にするため、均
等な高さとなる組み合わせに限定される。したがって、
高さを変えることはほとんどできないといえる。高さを
変えることがほとんどできないと、液晶層の厚さを自由
に制御することができないという不都合がある。
【００１２】また、特開平１１−３８４３８号に開示さ
れた液晶表示パネルは、表示部における両基板間の間隙
と周辺部における両基板間の間隙との差を小さくし、表
示部に第１のスペーサを、周辺部に第２のスペーサを配
設する構成である。したがって、第１のスペーサと第２
のスペーサという２種のスペーサを要し、それに伴う工
程増、コスト増を免れない。
れた液晶表示パネルは、表示部における両基板間の間隙
と周辺部における両基板間の間隙との差を小さくし、表
示部に第１のスペーサを、周辺部に第２のスペーサを配
設する構成である。したがって、第１のスペーサと第２
のスペーサという２種のスペーサを要し、それに伴う工
程増、コスト増を免れない。
【００１３】本発明は以上の従来技術における問題に鑑
みてなされたものであって、同一工程により同時に形成
される柱状樹脂スペーサを用いて対向する両基板間の間
隙を、表示部から周辺部に亘って均等に保持できる液晶
表示パネルを提供し、周辺ギャップムラの低減を図るこ
とを課題とする。
みてなされたものであって、同一工程により同時に形成
される柱状樹脂スペーサを用いて対向する両基板間の間
隙を、表示部から周辺部に亘って均等に保持できる液晶
表示パネルを提供し、周辺ギャップムラの低減を図るこ
とを課題とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決する本出
願第１の発明は、所定の積層パターンが形成された２つ
の基板を柱状樹脂スペーサを介して貼り合わせてなる液
晶表示パネルにおいて、表示部と周辺部の双方に、同一
高さの柱状樹脂スペーサが配設され、表示部における柱
状樹脂スペーサ形成位置の間隙と周辺部における柱状樹
脂スペーサ形成位置の間隙との差が小さくなるように、
周辺部の柱状樹脂スペーサ形成位置に柱状樹脂スペーサ
積設専用層が前記基板のうち少なくともいずれか一方の
基板上に形成されてなることを特徴とする液晶表示パネ
ルである。
願第１の発明は、所定の積層パターンが形成された２つ
の基板を柱状樹脂スペーサを介して貼り合わせてなる液
晶表示パネルにおいて、表示部と周辺部の双方に、同一
高さの柱状樹脂スペーサが配設され、表示部における柱
状樹脂スペーサ形成位置の間隙と周辺部における柱状樹
脂スペーサ形成位置の間隙との差が小さくなるように、
周辺部の柱状樹脂スペーサ形成位置に柱状樹脂スペーサ
積設専用層が前記基板のうち少なくともいずれか一方の
基板上に形成されてなることを特徴とする液晶表示パネ
ルである。
【００１５】「所定の積層パターン」には、基板に形成
される着色層、半導体層、信号電極層、透明電極層、配
向膜等が該当する。「同一高さの柱状樹脂スペーサ」と
は、同一工程により同時にパターン形成される柱状樹脂
スペーサという。「間隙」は、両基板間の間隙をいう。
「柱状樹脂スペーサ積設専用層」とは、専ら、柱状樹脂
スペーサの台として用いられ、柱状樹脂スペーサを積み
重ねるように設けるための層であって、他の用途、例え
ば、配線、電極、半導体素子、カラーフィルタ等の用途
には本来的に用いられていない層をいう。したがって本
出願第１の発明の液晶表示パネルによれば、表示部と周
辺部の双方に同一高さの柱状樹脂スペーサが配設される
ので、すべての柱状樹脂スペーサを同一工程により形成
することができ、工程の増加が抑えられるとともに、周
辺部の柱状樹脂スペーサ形成位置に柱状樹脂スペーサ積
設専用層が形成されてなるので、表示部における柱状樹
脂スペーサ形成位置の間隙と周辺部における柱状樹脂ス
ペーサ形成位置の間隙との差を小さくすることができる
という利点がある。これにより、周辺部における柱状樹
脂スペーサがギャップ保持材として機能するので、シー
ル材がギャップ保持材として機能するとしないとに拘わ
らず、外圧を受けても容易に変形せず、均一な液晶層を
保持でき、周辺ギャップムラ等を来さない液晶表示パネ
ルが安価に得られるという利点がある。また、柱状樹脂
スペーサを用いているので、両基板間の間隙を自由に制
御することができる。
される着色層、半導体層、信号電極層、透明電極層、配
向膜等が該当する。「同一高さの柱状樹脂スペーサ」と
は、同一工程により同時にパターン形成される柱状樹脂
スペーサという。「間隙」は、両基板間の間隙をいう。
「柱状樹脂スペーサ積設専用層」とは、専ら、柱状樹脂
スペーサの台として用いられ、柱状樹脂スペーサを積み
重ねるように設けるための層であって、他の用途、例え
ば、配線、電極、半導体素子、カラーフィルタ等の用途
には本来的に用いられていない層をいう。したがって本
出願第１の発明の液晶表示パネルによれば、表示部と周
辺部の双方に同一高さの柱状樹脂スペーサが配設される
ので、すべての柱状樹脂スペーサを同一工程により形成
することができ、工程の増加が抑えられるとともに、周
辺部の柱状樹脂スペーサ形成位置に柱状樹脂スペーサ積
設専用層が形成されてなるので、表示部における柱状樹
脂スペーサ形成位置の間隙と周辺部における柱状樹脂ス
ペーサ形成位置の間隙との差を小さくすることができる
という利点がある。これにより、周辺部における柱状樹
脂スペーサがギャップ保持材として機能するので、シー
ル材がギャップ保持材として機能するとしないとに拘わ
らず、外圧を受けても容易に変形せず、均一な液晶層を
保持でき、周辺ギャップムラ等を来さない液晶表示パネ
ルが安価に得られるという利点がある。また、柱状樹脂
スペーサを用いているので、両基板間の間隙を自由に制
御することができる。
【００１６】表示部におけるすべての柱状樹脂スペーサ
形成位置の間隙がほぼ同一である場合は、本出願第１の
発明のように「表示部における柱状樹脂スペーサ形成位
置の間隙と周辺部における柱状樹脂スペーサ形成位置の
間隙との差が小さくなるように」を前記課題を解決する
ための要件とすればよい。しかし、表示部におけるすべ
ての柱状樹脂スペーサ形成位置の間隙が同一でなく無視
できないほどのバラツキが認められるが、表示部におけ
る最外周の柱状樹脂スペーサ形成位置の間隙はほぼ同一
であると認められるときは、より好適に前記課題を解決
するために、「表示部における最外周の柱状樹脂スペー
サ形成位置の間隙と周辺部における柱状樹脂スペーサ形
成位置の間隙との差が小さくなるように」を要件とすれ
ばよい。また、表示部における最外周の柱状樹脂スペー
サ形成位置の間隙についても無視できないほどのバラツ
キが認められるときは、より好適に前記課題を解決する
ために、「表示部における最外周の柱状樹脂スペーサ及
びこれに隣設される周辺部における柱状樹脂スペーサの
それぞれの形成位置の間隙の差が小さくなるように」を
要件とすればよい。
形成位置の間隙がほぼ同一である場合は、本出願第１の
発明のように「表示部における柱状樹脂スペーサ形成位
置の間隙と周辺部における柱状樹脂スペーサ形成位置の
間隙との差が小さくなるように」を前記課題を解決する
ための要件とすればよい。しかし、表示部におけるすべ
ての柱状樹脂スペーサ形成位置の間隙が同一でなく無視
できないほどのバラツキが認められるが、表示部におけ
る最外周の柱状樹脂スペーサ形成位置の間隙はほぼ同一
であると認められるときは、より好適に前記課題を解決
するために、「表示部における最外周の柱状樹脂スペー
サ形成位置の間隙と周辺部における柱状樹脂スペーサ形
成位置の間隙との差が小さくなるように」を要件とすれ
ばよい。また、表示部における最外周の柱状樹脂スペー
サ形成位置の間隙についても無視できないほどのバラツ
キが認められるときは、より好適に前記課題を解決する
ために、「表示部における最外周の柱状樹脂スペーサ及
びこれに隣設される周辺部における柱状樹脂スペーサの
それぞれの形成位置の間隙の差が小さくなるように」を
要件とすればよい。
【００１７】着色層を有するカラーフィルタ基板が対向
基板として用いられるカラー液晶表示パネルや、ＴＦＴ
等のスイッチング素子が表示部に作り込まれるアクティ
ブマトリクス液晶表示パネルにおいては、表示部におけ
る柱状樹脂スペーサ形成位置の間隙と周辺部における柱
状樹脂スペーサ形成位置の間隙との差が着色層や信号電
極層に起因して無視できない程になる。また、柱状樹脂
スペーサ積設専用層に用いることができる所定の積層パ
ターンとして着色層、半導体層、信号電極層が既存す
る。そこで本出願第２の発明は、所定の積層パターンが
形成された一の基板と、所定の積層パターンが形成され
たカラーフィルタ基板とを柱状樹脂スペーサを介して貼
り合わせてなる液晶表示パネルにおいて、表示部と周辺
部の双方に、同一高さの柱状樹脂スペーサが配設され、
表示部における柱状樹脂スペーサ形成位置の間隙と周辺
部における柱状樹脂スペーサ形成位置の間隙との差が小
さくなるように、周辺部の柱状樹脂スペーサ形成位置に
柱状樹脂スペーサ積設専用層が前記基板のうち少なくと
もいずれか一方の基板上に形成されてなることを特徴と
する液晶表示パネルである。
基板として用いられるカラー液晶表示パネルや、ＴＦＴ
等のスイッチング素子が表示部に作り込まれるアクティ
ブマトリクス液晶表示パネルにおいては、表示部におけ
る柱状樹脂スペーサ形成位置の間隙と周辺部における柱
状樹脂スペーサ形成位置の間隙との差が着色層や信号電
極層に起因して無視できない程になる。また、柱状樹脂
スペーサ積設専用層に用いることができる所定の積層パ
ターンとして着色層、半導体層、信号電極層が既存す
る。そこで本出願第２の発明は、所定の積層パターンが
形成された一の基板と、所定の積層パターンが形成され
たカラーフィルタ基板とを柱状樹脂スペーサを介して貼
り合わせてなる液晶表示パネルにおいて、表示部と周辺
部の双方に、同一高さの柱状樹脂スペーサが配設され、
表示部における柱状樹脂スペーサ形成位置の間隙と周辺
部における柱状樹脂スペーサ形成位置の間隙との差が小
さくなるように、周辺部の柱状樹脂スペーサ形成位置に
柱状樹脂スペーサ積設専用層が前記基板のうち少なくと
もいずれか一方の基板上に形成されてなることを特徴と
する液晶表示パネルである。
【００１８】また本出願第３の発明は、所定の積層パタ
ーンが形成されたアクティブマトリクス基板と、所定の
積層パターンが形成されたカラーフィルタ基板とを柱状
樹脂スペーサを介して貼り合わせてなる液晶表示パネル
において、表示部と周辺部の双方に、同一高さの柱状樹
脂スペーサが配設され、表示部における柱状樹脂スペー
サ形成位置の間隙と周辺部における柱状樹脂スペーサ形
成位置の間隙との差が小さくなるように、周辺部の柱状
樹脂スペーサ形成位置に柱状樹脂スペーサ積設専用層が
前記基板のうち少なくともいずれか一方の基板上に形成
されてなることを特徴とする液晶表示パネルである。
ーンが形成されたアクティブマトリクス基板と、所定の
積層パターンが形成されたカラーフィルタ基板とを柱状
樹脂スペーサを介して貼り合わせてなる液晶表示パネル
において、表示部と周辺部の双方に、同一高さの柱状樹
脂スペーサが配設され、表示部における柱状樹脂スペー
サ形成位置の間隙と周辺部における柱状樹脂スペーサ形
成位置の間隙との差が小さくなるように、周辺部の柱状
樹脂スペーサ形成位置に柱状樹脂スペーサ積設専用層が
前記基板のうち少なくともいずれか一方の基板上に形成
されてなることを特徴とする液晶表示パネルである。
【００１９】したがって本出願第２の発明又は本出願第
３の発明の液晶表示パネルによれば、アクティブマトリ
クス液晶表示パネルにおいて、本出願第１の発明の利点
が得られ、大きな効果が期待できる。
３の発明の液晶表示パネルによれば、アクティブマトリ
クス液晶表示パネルにおいて、本出願第１の発明の利点
が得られ、大きな効果が期待できる。
【００２０】また本出願第４の発明は、本出願第１の発
明から本出願第３の発明のうちいずれか一の発明の液晶
表示パネルにおいて、前記所定の積層パターンと同一の
層により、前記柱状樹脂スペーサ積設専用層が形成され
てなることを特徴とする。
明から本出願第３の発明のうちいずれか一の発明の液晶
表示パネルにおいて、前記所定の積層パターンと同一の
層により、前記柱状樹脂スペーサ積設専用層が形成され
てなることを特徴とする。
【００２１】「所定の積層パターンと同一の層」とは、
所定の積層パターンと同一の工程により同時にパターン
形成される層をいう。したがって本出願第４の発明の液
晶表示パネルによれば、所定の積層パターンと同一の層
により、柱状樹脂スペーサ積設専用層が形成されるの
で、柱状樹脂スペーサ積設専用層を形成するための特別
の工程を要しないという利点がある。すなわち、本出願
第４の発明の液晶表示パネルは、前記所定の積層パター
ンの形成工程時に柱状樹脂スペーサ積設専用層のパター
ンを形成するのである。
所定の積層パターンと同一の工程により同時にパターン
形成される層をいう。したがって本出願第４の発明の液
晶表示パネルによれば、所定の積層パターンと同一の層
により、柱状樹脂スペーサ積設専用層が形成されるの
で、柱状樹脂スペーサ積設専用層を形成するための特別
の工程を要しないという利点がある。すなわち、本出願
第４の発明の液晶表示パネルは、前記所定の積層パター
ンの形成工程時に柱状樹脂スペーサ積設専用層のパター
ンを形成するのである。
【００２２】また本出願第５の発明は、本出願第１の発
明から本出願第３の発明のうちいずれか一の発明の液晶
表示パネルにおいて、前記所定の積層パターンとは別の
新たな層により、前記柱状樹脂スペーサ積設専用層が形
成されてなることを特徴とする。
明から本出願第３の発明のうちいずれか一の発明の液晶
表示パネルにおいて、前記所定の積層パターンとは別の
新たな層により、前記柱状樹脂スペーサ積設専用層が形
成されてなることを特徴とする。
【００２３】したがって本出願第５の発明の液晶表示パ
ネルによれば、所定の積層パターンとは別の新たな層に
より、柱状樹脂スペーサ積設専用層が形成されるので、
柱状樹脂スペーサ積設専用層を形成するための特別の工
程を要するものの、柱状樹脂スペーサ積設専用層の層厚
を自由に制御できるという利点がある。すなわち、本出
願第５の発明の液晶表示パネルは、前記所定の積層パタ
ーンの形成工程時とは別の時に柱状樹脂スペーサ積設専
用層のパターンを形成するのである。
ネルによれば、所定の積層パターンとは別の新たな層に
より、柱状樹脂スペーサ積設専用層が形成されるので、
柱状樹脂スペーサ積設専用層を形成するための特別の工
程を要するものの、柱状樹脂スペーサ積設専用層の層厚
を自由に制御できるという利点がある。すなわち、本出
願第５の発明の液晶表示パネルは、前記所定の積層パタ
ーンの形成工程時とは別の時に柱状樹脂スペーサ積設専
用層のパターンを形成するのである。
【００２４】また本出願第６の発明は、本出願第１の発
明から本出願第５の発明のうちいずれか一の発明の液晶
表示パネルにおいて、着色層、半導体層、信号電極層、
透明電極層及び配向膜のうちから一以上の層により、前
記柱状樹脂スペーサ積設専用層が形成されてなることを
特徴とする。
明から本出願第５の発明のうちいずれか一の発明の液晶
表示パネルにおいて、着色層、半導体層、信号電極層、
透明電極層及び配向膜のうちから一以上の層により、前
記柱状樹脂スペーサ積設専用層が形成されてなることを
特徴とする。
【００２５】表示部における柱状樹脂スペーサ形成位置
の間隙と周辺部における柱状樹脂スペーサ形成位置の間
隙との差が透明電極層や配向膜に比較して大きい場合に
は、透明電極層や配向膜より層厚の厚い着色層や半導体
層、信号電極層を用いると良い。そこで本出願第７の発
明は、本出願第１の発明の液晶表示パネルにおいて、着
色層により前記柱状樹脂スペーサ積設専用層がカラーフ
ィルタを形成される基板上に形成されてなることを特徴
とする。また本出願第８の発明は、本出願第２の発明又
は本出願第３の発明の液晶表示パネルにおいて、着色層
により前記柱状樹脂スペーサ積設専用層が前記カラーフ
ィルタ基板上に形成されてなることを特徴とする。
の間隙と周辺部における柱状樹脂スペーサ形成位置の間
隙との差が透明電極層や配向膜に比較して大きい場合に
は、透明電極層や配向膜より層厚の厚い着色層や半導体
層、信号電極層を用いると良い。そこで本出願第７の発
明は、本出願第１の発明の液晶表示パネルにおいて、着
色層により前記柱状樹脂スペーサ積設専用層がカラーフ
ィルタを形成される基板上に形成されてなることを特徴
とする。また本出願第８の発明は、本出願第２の発明又
は本出願第３の発明の液晶表示パネルにおいて、着色層
により前記柱状樹脂スペーサ積設専用層が前記カラーフ
ィルタ基板上に形成されてなることを特徴とする。
【００２６】着色層の選択する方法はいろいろある。
Ｒ、Ｇ、Ｂの各着色層の層厚が同じ場合には、どの着色
層でも良い。しかし、Ｒ，Ｇ，Ｂ各着色層の層厚がそれ
ぞれ異なる場合には、両基板間の間隙を均一にするため
に最適な厚さの着色層を選択して柱状樹脂スペーサ積設
専用層を構成する。また、両基板間の間隙を均一にする
ために最適であれば、各着色層から２層以上選択しても
良い。そこで本出願第９の発明は、所定の積層パターン
が形成されたアクティブマトリクス基板と、所定の積層
パターンが形成されたカラーフィルタ基板とを柱状樹脂
スペーサを介して貼り合わせてなる液晶表示パネルにお
いて、表示部と周辺部の双方に、同一高さの柱状樹脂ス
ペーサが配設され、表示部における第一の着色層上に配
置される最外周の柱状樹脂スペーサ及びこれに隣設され
る周辺部における柱状樹脂スペーサのそれぞれの形成位
置の間隙の差が小さくなるように、周辺部の柱状樹脂ス
ペーサ形成位置に第一の着色層と層厚の異なる第二の着
色層が前記カラーフィルタ基板上に形成されてなること
を特徴とする液晶表示パネルである。
Ｒ、Ｇ、Ｂの各着色層の層厚が同じ場合には、どの着色
層でも良い。しかし、Ｒ，Ｇ，Ｂ各着色層の層厚がそれ
ぞれ異なる場合には、両基板間の間隙を均一にするため
に最適な厚さの着色層を選択して柱状樹脂スペーサ積設
専用層を構成する。また、両基板間の間隙を均一にする
ために最適であれば、各着色層から２層以上選択しても
良い。そこで本出願第９の発明は、所定の積層パターン
が形成されたアクティブマトリクス基板と、所定の積層
パターンが形成されたカラーフィルタ基板とを柱状樹脂
スペーサを介して貼り合わせてなる液晶表示パネルにお
いて、表示部と周辺部の双方に、同一高さの柱状樹脂ス
ペーサが配設され、表示部における第一の着色層上に配
置される最外周の柱状樹脂スペーサ及びこれに隣設され
る周辺部における柱状樹脂スペーサのそれぞれの形成位
置の間隙の差が小さくなるように、周辺部の柱状樹脂ス
ペーサ形成位置に第一の着色層と層厚の異なる第二の着
色層が前記カラーフィルタ基板上に形成されてなること
を特徴とする液晶表示パネルである。
【００２７】また本出願第１０の発明は、本出願第３の
発明又は本出願第８の発明の液晶表示パネルにおいて、
半導体層及び信号電極層のうち少なくともいずれか一方
により前記柱状樹脂スペーサ積設専用層が前記アクティ
ブマトリクス基板上に形成されてなることを特徴とす
る。
発明又は本出願第８の発明の液晶表示パネルにおいて、
半導体層及び信号電極層のうち少なくともいずれか一方
により前記柱状樹脂スペーサ積設専用層が前記アクティ
ブマトリクス基板上に形成されてなることを特徴とす
る。
【００２８】また本出願第１１の発明は、本出願第７の
発明又は本出願第８の発明の液晶表示パネルにおいて、
前記柱状樹脂スペーサ積設専用層である着色層に対して
遮光する遮光層を少なくとも一方の前記基板に設けたこ
とを特徴とする。
発明又は本出願第８の発明の液晶表示パネルにおいて、
前記柱状樹脂スペーサ積設専用層である着色層に対して
遮光する遮光層を少なくとも一方の前記基板に設けたこ
とを特徴とする。
【００２９】したがって本出願第１１の発明の液晶表示
パネルによれば、周辺部において柱状樹脂スペーサ積設
専用層として用いられる着色層による色付けが防止され
るという利点がある。
パネルによれば、周辺部において柱状樹脂スペーサ積設
専用層として用いられる着色層による色付けが防止され
るという利点がある。
【００３０】また本出願第１２の発明は、本出願第１１
の発明の液晶表示パネルにおいて、前記遮光層を信号電
極層としたことを特徴とする。
の発明の液晶表示パネルにおいて、前記遮光層を信号電
極層としたことを特徴とする。
【００３１】したがって本出願第１２の発明の液晶表示
パネルによれば、すでに信号電極として用いられている
信号電極層を、遮光膜として用いることができ、工程増
とならないという利点がある。
パネルによれば、すでに信号電極として用いられている
信号電極層を、遮光膜として用いることができ、工程増
とならないという利点がある。
【００３２】また本出願第１３の発明は、本出願第１の
発明から本出願第１２の発明のうちいずれか一の発明の
液晶表示パネルにおいて、前記柱状樹脂スペーサ積設専
用層を単一の柱状樹脂スペーサに対応する島状の積層パ
ターンとすることを特徴とする。
発明から本出願第１２の発明のうちいずれか一の発明の
液晶表示パネルにおいて、前記柱状樹脂スペーサ積設専
用層を単一の柱状樹脂スペーサに対応する島状の積層パ
ターンとすることを特徴とする。
【００３３】したがって本出願第１３の発明の液晶表示
パネルによれば、柱状樹脂スペーサ積設専用層を単一の
柱状樹脂スペーサに対応する島状の積層パターンとした
ので、材料を必要最小限に抑えることができるという利
点がある。
パネルによれば、柱状樹脂スペーサ積設専用層を単一の
柱状樹脂スペーサに対応する島状の積層パターンとした
ので、材料を必要最小限に抑えることができるという利
点がある。
【００３４】また本出願第１４の発明は、本出願第１の
発明から本出願第１２の発明のうちいずれか一の発明の
液晶表示パネルにおいて、前記柱状樹脂スペーサ積設専
用層を複数の柱状樹脂スペーサ形成位置を結ぶ直線状の
積層パターンとすることを特徴とする。
発明から本出願第１２の発明のうちいずれか一の発明の
液晶表示パネルにおいて、前記柱状樹脂スペーサ積設専
用層を複数の柱状樹脂スペーサ形成位置を結ぶ直線状の
積層パターンとすることを特徴とする。
【００３５】したがって本出願第１４の発明の液晶表示
パネルによれば、柱状樹脂スペーサ積設専用層を複数の
柱状樹脂スペーサ形成位置を結ぶ直線状の積層パターン
としたので、かかる直線状の積層パターンの長手方向に
ついての柱状樹脂スペーサ形成位置精度要求が緩和され
るという利点がある。
パネルによれば、柱状樹脂スペーサ積設専用層を複数の
柱状樹脂スペーサ形成位置を結ぶ直線状の積層パターン
としたので、かかる直線状の積層パターンの長手方向に
ついての柱状樹脂スペーサ形成位置精度要求が緩和され
るという利点がある。
【００３６】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態のアクティブ
マトリクス液晶表示パネルにつき図面を参照して説明す
る。以下の実施の形態における樹脂スペーサ１は、柱状
の樹脂スペーサであり、また、透明感光性樹脂からなる
ものを用いている。透明感光性樹脂として、アクリル系
透明感光性樹脂やポリイミド系透明感光性樹脂、ポリビ
ニルアルコール系透明感光性樹脂を用いることができ
る。しかし、以下の実施の形態においては、樹脂スペー
サ１を遮光膜状に形成するので、透明としなくとも十分
である。また、以下の実施の形態において、樹脂スペー
サ１は一回ずつの塗布、露光、現像の各工程により形成
されるものである。その結果、均等な高さで柱状の樹脂
スペーサ１が形成される。感光性樹脂の塗布量を調整す
ることにより、両基板間の間隙、ひいては液晶層の厚み
を液晶表示パネル毎に自由に制御できる。これに対し、
上述のプラスチックビーズような基板上に散布されるビ
ーズ材、ロッド材等のギャップ保持材では、ギャップ保
持材のサイズが予め設定されているため間隙を制御する
上で不利となる。図１、図２及び図３に示すように、液
晶表示パネルは、表示部Ｄと周辺部Ｃとに分けられる。
図１、図２及び図３にはそれぞれ、周辺部Ｃに設置され
る樹脂スペーサ１（以下、樹脂スペーサ１ｃとする。）
と表示部Ｄに配置される樹脂スペーサ１（以下、樹脂ス
ペーサ１ｄとする。）が図示される。樹脂スペーサ１ｄ
は表示部Ｄにおける最外周の樹脂スペーサであり、樹脂
スペーサ１ｃと樹脂スペーサ１ｄは互いに隣り合う位置
関係である。両基板間には、樹脂スペーサ１とスペーサ
以外ものとしてシール材７４が配置される。シール材７
４は、樹脂スペーサ１ｃの外側に配置される。本発明に
用いられるＴＦＴ基板及びＣＦ基板は上述した従来の製
法により作製することができる。以下に、従来のＡＭ−
ＬＣＤと異なる点を中心に説明する。
マトリクス液晶表示パネルにつき図面を参照して説明す
る。以下の実施の形態における樹脂スペーサ１は、柱状
の樹脂スペーサであり、また、透明感光性樹脂からなる
ものを用いている。透明感光性樹脂として、アクリル系
透明感光性樹脂やポリイミド系透明感光性樹脂、ポリビ
ニルアルコール系透明感光性樹脂を用いることができ
る。しかし、以下の実施の形態においては、樹脂スペー
サ１を遮光膜状に形成するので、透明としなくとも十分
である。また、以下の実施の形態において、樹脂スペー
サ１は一回ずつの塗布、露光、現像の各工程により形成
されるものである。その結果、均等な高さで柱状の樹脂
スペーサ１が形成される。感光性樹脂の塗布量を調整す
ることにより、両基板間の間隙、ひいては液晶層の厚み
を液晶表示パネル毎に自由に制御できる。これに対し、
上述のプラスチックビーズような基板上に散布されるビ
ーズ材、ロッド材等のギャップ保持材では、ギャップ保
持材のサイズが予め設定されているため間隙を制御する
上で不利となる。図１、図２及び図３に示すように、液
晶表示パネルは、表示部Ｄと周辺部Ｃとに分けられる。
図１、図２及び図３にはそれぞれ、周辺部Ｃに設置され
る樹脂スペーサ１（以下、樹脂スペーサ１ｃとする。）
と表示部Ｄに配置される樹脂スペーサ１（以下、樹脂ス
ペーサ１ｄとする。）が図示される。樹脂スペーサ１ｄ
は表示部Ｄにおける最外周の樹脂スペーサであり、樹脂
スペーサ１ｃと樹脂スペーサ１ｄは互いに隣り合う位置
関係である。両基板間には、樹脂スペーサ１とスペーサ
以外ものとしてシール材７４が配置される。シール材７
４は、樹脂スペーサ１ｃの外側に配置される。本発明に
用いられるＴＦＴ基板及びＣＦ基板は上述した従来の製
法により作製することができる。以下に、従来のＡＭ−
ＬＣＤと異なる点を中心に説明する。
【００３７】実施の形態１
まず、本発明の実施の形態１のアクティブマトリクス液
晶表示パネルにつき図１を参照して説明する。図１は本
発明の実施の形態１のアクティブマトリクス液晶表示パ
ネルを示す断面図である。
晶表示パネルにつき図１を参照して説明する。図１は本
発明の実施の形態１のアクティブマトリクス液晶表示パ
ネルを示す断面図である。
【００３８】表示部Ｄと周辺部Ｃとでは、樹脂スペーサ
１の形成位置における積層構造が異なる。すなわち、樹
脂スペーサ１ｄの形成位置においては、ガラス基板１０
２上に、ブラックマトリクス６１、着色層７１、透明電
極層７２、配向膜７３と順に積層され、ＣＦ基板６が構
成されており、ガラス基板１０１上に、ゲート層７７、
ゲート絶縁膜５２、層間絶縁膜５６、透明電極層７２、
配向膜７３と順に積層され、ＴＦＴ基板５が構成されて
いる。これに対し、樹脂スペーサ１ｃの形成位置におい
ては、ガラス基板１０２上に、ブラックマトリクス６
１、着色層１１と順に積層され、ＣＦ基板６が構成され
ており、ガラス基板１０１上に、ゲート層７７、ゲート
絶縁膜５２、層間絶縁膜５６と順に積層され、ＴＦＴ基
板５が構成されている。すなわち、実施の形態１のＡＭ
−ＬＣＤにおけるＣＦ基板２は、従来のＣＦ基板６に対
し、樹脂スペーサ１ｃの下層に着色層１１が設けられて
いる点で異なる。着色層１１は樹脂スペーサ積設専用層
となる。なお、ブラックマトリクス６１及びゲート層７
７は着色層１１による色付けを防止する遮光膜として機
能する。
１の形成位置における積層構造が異なる。すなわち、樹
脂スペーサ１ｄの形成位置においては、ガラス基板１０
２上に、ブラックマトリクス６１、着色層７１、透明電
極層７２、配向膜７３と順に積層され、ＣＦ基板６が構
成されており、ガラス基板１０１上に、ゲート層７７、
ゲート絶縁膜５２、層間絶縁膜５６、透明電極層７２、
配向膜７３と順に積層され、ＴＦＴ基板５が構成されて
いる。これに対し、樹脂スペーサ１ｃの形成位置におい
ては、ガラス基板１０２上に、ブラックマトリクス６
１、着色層１１と順に積層され、ＣＦ基板６が構成され
ており、ガラス基板１０１上に、ゲート層７７、ゲート
絶縁膜５２、層間絶縁膜５６と順に積層され、ＴＦＴ基
板５が構成されている。すなわち、実施の形態１のＡＭ
−ＬＣＤにおけるＣＦ基板２は、従来のＣＦ基板６に対
し、樹脂スペーサ１ｃの下層に着色層１１が設けられて
いる点で異なる。着色層１１は樹脂スペーサ積設専用層
となる。なお、ブラックマトリクス６１及びゲート層７
７は着色層１１による色付けを防止する遮光膜として機
能する。
【００３９】上述したように、従来のＣＦ基板６では表
示部Ｄと周辺部Ｃとで着色層７１、透明電極層７２及び
配向膜７３分の厚み分の段差があるため、パネルを形成
した場合に、表示部Ｄ中央部と表示部Ｄ周縁部とでギャ
ップが異なり、周辺ギャップムラとして視認されやすい
という問題があった。ここでその段差は、着色層７１が
大部分を占める。しかし、実施の形態１のＡＭ−ＬＣＤ
では、表示部Ｄと周辺部Ｃとの段差は、着色層１１が設
けられているため、透明電極層７２及び配向膜７３の厚
み分のみとなる。したがって、製造工程中にパネルにか
かる圧カによるＴＦＴ基板５及びＣＦ基板２の変動が小
さくなるため、周辺ギャップムラが改善される。
示部Ｄと周辺部Ｃとで着色層７１、透明電極層７２及び
配向膜７３分の厚み分の段差があるため、パネルを形成
した場合に、表示部Ｄ中央部と表示部Ｄ周縁部とでギャ
ップが異なり、周辺ギャップムラとして視認されやすい
という問題があった。ここでその段差は、着色層７１が
大部分を占める。しかし、実施の形態１のＡＭ−ＬＣＤ
では、表示部Ｄと周辺部Ｃとの段差は、着色層１１が設
けられているため、透明電極層７２及び配向膜７３の厚
み分のみとなる。したがって、製造工程中にパネルにか
かる圧カによるＴＦＴ基板５及びＣＦ基板２の変動が小
さくなるため、周辺ギャップムラが改善される。
【００４０】なお実施の形態１のＡＭ−ＬＣＤでは、樹
脂スペーサ１ｃの下層に着色層１１を用いているが、必
要に応じて透明電極層、配向膜を追加することも可能で
ある。また樹脂スペーサ１ｃの下層に形成する着色層１
１については以下の、ようにするのが望ましい。 Ｒ、Ｇ、Ｂの各着色層の層厚が同じ場合には、表示部
Ｄのスベーサ１の下層の着色層１１はどのＲ、Ｇ、Ｂの
どの着色層でも良い。 Ｒ，Ｇ，Ｂ各着色層の層厚がそれぞれ異なる場合に
は、ギャップを均一にするために最適な厚さの着色層を
選択して着色層１１を構成する。
脂スペーサ１ｃの下層に着色層１１を用いているが、必
要に応じて透明電極層、配向膜を追加することも可能で
ある。また樹脂スペーサ１ｃの下層に形成する着色層１
１については以下の、ようにするのが望ましい。 Ｒ、Ｇ、Ｂの各着色層の層厚が同じ場合には、表示部
Ｄのスベーサ１の下層の着色層１１はどのＲ、Ｇ、Ｂの
どの着色層でも良い。 Ｒ，Ｇ，Ｂ各着色層の層厚がそれぞれ異なる場合に
は、ギャップを均一にするために最適な厚さの着色層を
選択して着色層１１を構成する。
【００４１】樹脂スペーサ１ｃの下層の着色層１１を、
樹脂スべーサ１ｄの下層の着色層７１と異なる色の着色
層から選択して構成することによって、より精密に樹脂
スペーサ１ｃの形成位置の間隙と樹脂スべーサ１ｄの形
成位置の間隙との差を無くすことが可能である。
樹脂スべーサ１ｄの下層の着色層７１と異なる色の着色
層から選択して構成することによって、より精密に樹脂
スペーサ１ｃの形成位置の間隙と樹脂スべーサ１ｄの形
成位置の間隙との差を無くすことが可能である。
【００４２】実施の形態２
次に、本発明の実施の形態２のアクティブマトリクス液
晶表示パネルにつき図２を参照して説明する。図２は本
発明の実施の形態２のアクティブマトリクス液晶表示パ
ネルを示す断面図である。
晶表示パネルにつき図２を参照して説明する。図２は本
発明の実施の形態２のアクティブマトリクス液晶表示パ
ネルを示す断面図である。
【００４３】図２に示すように、表示部Ｄと周辺部Ｃと
では、樹脂スペーサ１の形成位置における積層構造が異
なる。すなわち、樹脂スペーサ１ｄの形成位置において
は、ガラス基板１０２上に、ブラックマトリクス６１、
着色層７１、透明電極層７２、配向膜７３と順に積層さ
れ、ＣＦ基板６が構成されており、ガラス基板１０１上
に、ゲート層７７、ゲート絶縁膜５２、層間絶縁膜５
６、透明電極層７２、配向膜７３と順に積層され、ＴＦ
Ｔ基板５が構成されている。これに対し、樹脂スペーサ
１ｃの形成位置においては、ガラス基板１０２上に、ブ
ラックマトリクス６１が積層され、ＣＦ基板６が構成さ
れており、ガラス基板１０１上に、ゲート層７７、ゲー
ト絶縁膜５２、半導体層２１、ドレイン層２２、層間絶
縁膜層５６と順に積層され、ＴＦＴ基板５が構成されて
いる。すなわち、実施の形態２のＡＭ−ＬＣＤにおける
ＴＦＴ基板３は、従来のＴＦＴ基板５に対し、樹脂スペ
ーサ１ｃの対向位置に、半導体層２１及びドレイン層２
２を設けられている点で異なる。半導体層２１及びドレ
イン層２２は樹脂スペーサ積設専用層となる。したがっ
て、樹脂スペーサ１ｃとＴＦＴ基板３との間の間隔が、
従来のＡＭ−ＬＣＤに比べ半導体層２１とドレイン層２
２を合わせた膜厚分だけ小さくなる。それゆえに、実施
の形態２のＡＭ−ＬＣＤによれば、製造工程中にパネル
にかかる圧カによるＴＦＴ基板３及びＣＦ基板６の変動
量が、従来のＡＭ−ＬＣＤよりも小さくなり、周辺ギャ
ップムラが改善される。
では、樹脂スペーサ１の形成位置における積層構造が異
なる。すなわち、樹脂スペーサ１ｄの形成位置において
は、ガラス基板１０２上に、ブラックマトリクス６１、
着色層７１、透明電極層７２、配向膜７３と順に積層さ
れ、ＣＦ基板６が構成されており、ガラス基板１０１上
に、ゲート層７７、ゲート絶縁膜５２、層間絶縁膜５
６、透明電極層７２、配向膜７３と順に積層され、ＴＦ
Ｔ基板５が構成されている。これに対し、樹脂スペーサ
１ｃの形成位置においては、ガラス基板１０２上に、ブ
ラックマトリクス６１が積層され、ＣＦ基板６が構成さ
れており、ガラス基板１０１上に、ゲート層７７、ゲー
ト絶縁膜５２、半導体層２１、ドレイン層２２、層間絶
縁膜層５６と順に積層され、ＴＦＴ基板５が構成されて
いる。すなわち、実施の形態２のＡＭ−ＬＣＤにおける
ＴＦＴ基板３は、従来のＴＦＴ基板５に対し、樹脂スペ
ーサ１ｃの対向位置に、半導体層２１及びドレイン層２
２を設けられている点で異なる。半導体層２１及びドレ
イン層２２は樹脂スペーサ積設専用層となる。したがっ
て、樹脂スペーサ１ｃとＴＦＴ基板３との間の間隔が、
従来のＡＭ−ＬＣＤに比べ半導体層２１とドレイン層２
２を合わせた膜厚分だけ小さくなる。それゆえに、実施
の形態２のＡＭ−ＬＣＤによれば、製造工程中にパネル
にかかる圧カによるＴＦＴ基板３及びＣＦ基板６の変動
量が、従来のＡＭ−ＬＣＤよりも小さくなり、周辺ギャ
ップムラが改善される。
【００４４】なお、実施の形態２のＡＭ−ＬＣＤでは高
さ調整用パターンとして半導体層２１及びドレイン層２
２を用いているが、必要に応じて透明電極層、配向膜等
の他の層を選択、追加することが可能である。また、実
施の形態２のＡＭ−ＬＣＤでは積層によってＴＦＴ基板
膜厚を調整しているが、絶縁膜、樹脂スペーサ等を新規
にパターニングしてＴＦＴ基板膜厚を大きくすることも
可能である。
さ調整用パターンとして半導体層２１及びドレイン層２
２を用いているが、必要に応じて透明電極層、配向膜等
の他の層を選択、追加することが可能である。また、実
施の形態２のＡＭ−ＬＣＤでは積層によってＴＦＴ基板
膜厚を調整しているが、絶縁膜、樹脂スペーサ等を新規
にパターニングしてＴＦＴ基板膜厚を大きくすることも
可能である。
【００４５】実施の形態３
次に、本発明の実施の形態３のアクティブマトリクス液
晶表示パネルにつき図３を参照して説明する。図３は本
発明の実施の形態３のアクティブマトリクス液晶表示パ
ネルを示す断面図である。
晶表示パネルにつき図３を参照して説明する。図３は本
発明の実施の形態３のアクティブマトリクス液晶表示パ
ネルを示す断面図である。
【００４６】図３に示すように、実施の形態３のＡＭ−
ＬＣＤは、実施の形態１のＡＭ−ＬＣＤにおけるＣＦ基
板２及び実施の形態２のＡＭ−ＬＣＤにおけるＴＦＴ基
板３の双方を実施したものである。したがって、樹脂ス
ペーサ１ｃの下層に着色層１１が設けられる。また、樹
脂スペーサ１ｃの対向に位置するＴＦＴ基板３の膜厚
が、半導体層２１及びドレイン層２２を設けることで大
きくなっている。それゆえに、樹脂スべーサ１ｃとＴＦ
Ｔ基板３との間の間隔は従来のＡＭ−ＬＣＤに比べ、着
色層１１、半導体層２１及びドレイン層２２を合わせた
膜厚分小さくなっている。したがって、実施の形態３の
ＡＭ−ＬＣＤによれば、製造工程中にパネルにかかる圧
カによるＴＦＴ基板３及びＣＦ基板２の変動量が、従来
の実施の形態３のＡＭ−ＬＣＤよりも小さくなり、周辺
ギャップムラが改善される。
ＬＣＤは、実施の形態１のＡＭ−ＬＣＤにおけるＣＦ基
板２及び実施の形態２のＡＭ−ＬＣＤにおけるＴＦＴ基
板３の双方を実施したものである。したがって、樹脂ス
ペーサ１ｃの下層に着色層１１が設けられる。また、樹
脂スペーサ１ｃの対向に位置するＴＦＴ基板３の膜厚
が、半導体層２１及びドレイン層２２を設けることで大
きくなっている。それゆえに、樹脂スべーサ１ｃとＴＦ
Ｔ基板３との間の間隔は従来のＡＭ−ＬＣＤに比べ、着
色層１１、半導体層２１及びドレイン層２２を合わせた
膜厚分小さくなっている。したがって、実施の形態３の
ＡＭ−ＬＣＤによれば、製造工程中にパネルにかかる圧
カによるＴＦＴ基板３及びＣＦ基板２の変動量が、従来
の実施の形態３のＡＭ−ＬＣＤよりも小さくなり、周辺
ギャップムラが改善される。
【００４７】なお実施の形態３のＡＭ−ＬＣＤでは高さ
調整用パターンとしてＣＦ基板２で着色層１１、ＴＦＴ
基板３で半導体層２１及びドレイン層２２を用いている
が、必要に応じて透明電極層、配向膜等の他の層を選
択、追加することが可能である。また実施の形態３のＡ
Ｍ−ＬＣＤでは積層によってＴＦＴ基板膜厚を大きくし
ているが、絶縁膜、樹脂スペーサ等を新規にパターニン
グしてＴＦＴ基板膜厚を大きくすることも可能である。
調整用パターンとしてＣＦ基板２で着色層１１、ＴＦＴ
基板３で半導体層２１及びドレイン層２２を用いている
が、必要に応じて透明電極層、配向膜等の他の層を選
択、追加することが可能である。また実施の形態３のＡ
Ｍ−ＬＣＤでは積層によってＴＦＴ基板膜厚を大きくし
ているが、絶縁膜、樹脂スペーサ等を新規にパターニン
グしてＴＦＴ基板膜厚を大きくすることも可能である。
【００４８】以上説明した実施の形態においては、樹脂
スペーサ１をＣＦ基板上に形成したが、樹脂スペーサ１
を、ＴＦＴ基板上に形成しても良い。また、樹脂スペー
サ１をＣＦ基板上とＴＦＴ基板上の双方に形成しても良
い。
スペーサ１をＣＦ基板上に形成したが、樹脂スペーサ１
を、ＴＦＴ基板上に形成しても良い。また、樹脂スペー
サ１をＣＦ基板上とＴＦＴ基板上の双方に形成しても良
い。
【００４９】
【発明の効果】上述のように本発明は、周辺部の樹脂ス
ペーサ形成位置に樹脂スペーサ積設専用層を形成し、周
辺部における樹脂スペーサがギャップ保持材として機能
するので、シール材がギャップ保持材として機能すると
しないとに拘わらず、外圧を受けても容易に変形せず、
均一な液晶層を保持でき、周辺ギャップムラ等を来さな
い液晶表示パネルが安価に得られるという利点がある。
また、樹脂スペーサを用いているので、両基板間の間隙
を自由に制御することができるという効果がある。さら
に、表示部と周辺部の双方に同一の樹脂スペーサが配設
されるので、すべての樹脂スペーサを同一工程により形
成することができ、工程の増加が抑えられ、ひいてはコ
ストが抑えられるという効果がある。以上の結果とし
て、本発明により、表示品質及び歩留まりの向上並びに
原価低減が図られた。
ペーサ形成位置に樹脂スペーサ積設専用層を形成し、周
辺部における樹脂スペーサがギャップ保持材として機能
するので、シール材がギャップ保持材として機能すると
しないとに拘わらず、外圧を受けても容易に変形せず、
均一な液晶層を保持でき、周辺ギャップムラ等を来さな
い液晶表示パネルが安価に得られるという利点がある。
また、樹脂スペーサを用いているので、両基板間の間隙
を自由に制御することができるという効果がある。さら
に、表示部と周辺部の双方に同一の樹脂スペーサが配設
されるので、すべての樹脂スペーサを同一工程により形
成することができ、工程の増加が抑えられ、ひいてはコ
ストが抑えられるという効果がある。以上の結果とし
て、本発明により、表示品質及び歩留まりの向上並びに
原価低減が図られた。
【図１】 本発明の実施の形態１のアクティブマトリク
ス液晶表示パネルを示す断面図である。
ス液晶表示パネルを示す断面図である。
【図２】 本発明の実施の形態２のアクティブマトリク
ス液晶表示パネルを示す断面図である。
ス液晶表示パネルを示す断面図である。
【図３】 本発明の実施の形態３のアクティブマトリク
ス液晶表示パネルを示す断面図である。
ス液晶表示パネルを示す断面図である。
【図４】 従来例のアクティブマトリクス液晶表示パネ
ルにおけるＴＦＴ基板上の一セルのパターン構成を示す
平面図である。
ルにおけるＴＦＴ基板上の一セルのパターン構成を示す
平面図である。
【図５】 図４におけるＡ−Ａ’断面図である。
【図６】 従来例のＣＦ基板の概略構成図である。
【図７】 従来例のアクティブマトリクス液晶表示パネ
ルを示す断面図である。
ルを示す断面図である。
１ 樹脂スペーサ
２、６ ＣＦ基板
３、５ ＴＦＴ基板
４ ＴＦＴ
１１、７１ 着色層
４１、４１ａ ゲート線
４２ 半導体層
４３ ドレイン線
４４ ソース電極
４５ ＢＭ（ブラックマトリクス）開口部
４６ 透明画素電極
４７、７６ コンタクトホール
５１ ゲート電極
５２ ゲート絶縁膜
５３ チャネル層
５４ コンタクト層
５５ ドレイン電極
５６ 層間絶縁膜
６１ ブラックマトリクス
６２ 端子部
７２、７５ 透明電極層
７３ 配向膜
７４ シール材
７７ ゲート層
１０１、１０２ ガラス基板
Ｃ 周辺部
Ｄ 表示部
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G02F 1/1339
G02F 1/1335
G02F 1/1362
G02F 1/1345
Claims (2)
- 【請求項１】 半導体層と信号電極層とを含む薄膜トラ
ンジスターが形成されたＴＦＴ基板と、着色層が形成さ
れたカラーフィルタ基板と、表示部及び表示部周辺の非
表示部の双方に設けられる同じ高さの前記柱状樹脂スペ
ーサとを有し、当該柱状樹脂スペーサを介して前記両基
板を貼り合わせてなる液晶表示パネルにおいて、前記Ｔ
ＦＴ基板上の表示部周辺の非表示部における前記柱状樹
脂スペーサと前記ブラックマトリクスとの間に、前記半
導体層と前記信号電極層を設けたことを特徴とする液晶
表示パネル。 - 【請求項２】 半導体層と信号電極層とを含む薄膜トラ
ンジスターが形成されたＴＦＴ基板と、着色層が形成さ
れたカラーフィルタ基板と、表示部及び表示部周辺の非
表示部の双方に設けられる同じ高さの柱状樹脂スペーサ
とを有し、当該柱状樹脂スペーサを介して前記両基板を
貼り合わせてなる液晶表示パネルにおいて、前記カラー
フィルタ基板上の表示部における前記柱状樹脂スペーサ
の形成された位置にブラックマトリクス、着色層、透明
電極層及び配向膜が形成されており、前記カラーフィル
タ基板上の表示部周辺の非表示部における前記柱状樹脂
スペーサと前記ブラックマトリクスとの間に、少なくと
も前記着色層を設け、前記ＴＦＴ基板上の表示部周辺の
非表示部における前記柱状樹脂スペーサと前記ブラック
マトリクスとの間に、前記半導体層と前記信号電極層を
設けたことを特徴とする液晶表示パネル。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31038299A JP3388463B2 (ja) | 1999-10-29 | 1999-10-29 | 液晶表示パネル |
| TW089122336A TW567380B (en) | 1999-10-29 | 2000-10-24 | Liquid crystal display panel and the manufacturing method thereof |
| KR10-2000-0063741A KR100403645B1 (ko) | 1999-10-29 | 2000-10-28 | 액정표시패널 및 그 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31038299A JP3388463B2 (ja) | 1999-10-29 | 1999-10-29 | 液晶表示パネル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001133787A JP2001133787A (ja) | 2001-05-18 |
| JP3388463B2 true JP3388463B2 (ja) | 2003-03-24 |
Family
ID=18004589
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31038299A Expired - Lifetime JP3388463B2 (ja) | 1999-10-29 | 1999-10-29 | 液晶表示パネル |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3388463B2 (ja) |
| KR (1) | KR100403645B1 (ja) |
| TW (1) | TW567380B (ja) |
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| JP3939140B2 (ja) | 2001-12-03 | 2007-07-04 | 株式会社日立製作所 | 液晶表示装置 |
| KR20040003095A (ko) * | 2002-06-25 | 2004-01-13 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 칼라필터 패널 및 그 제조 방법 |
| KR101000670B1 (ko) * | 2003-08-29 | 2010-12-10 | 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 액정표시장치의 지주스페이서 형성방법 및 그 구조 |
| JP3892841B2 (ja) | 2003-10-27 | 2007-03-14 | 株式会社 日立ディスプレイズ | 液晶表示装置 |
| JP4235576B2 (ja) | 2004-03-16 | 2009-03-11 | シャープ株式会社 | カラーフィルタ基板及びそれを用いた表示装置 |
| US7433004B2 (en) | 2004-06-11 | 2008-10-07 | Sharp Kabushiki Kaisha | Color filter substrate, method of making the color filter substrate and display device including the color filter substrate |
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| JP4655734B2 (ja) * | 2005-04-18 | 2011-03-23 | ソニー株式会社 | 電気光学装置及び電子機器 |
| JP2006330470A (ja) | 2005-05-27 | 2006-12-07 | Sharp Corp | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| JP4706334B2 (ja) * | 2005-05-30 | 2011-06-22 | 凸版印刷株式会社 | 段差付フォトマスク及びカラーフィルタ基板の製造方法 |
| JP5106169B2 (ja) * | 2008-02-20 | 2012-12-26 | 株式会社ジャパンディスプレイセントラル | 表示素子 |
| KR101291926B1 (ko) | 2009-07-31 | 2013-07-31 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 |
| KR101650197B1 (ko) * | 2009-12-15 | 2016-08-30 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 및 제조방법 |
| WO2012039342A1 (ja) * | 2010-09-22 | 2012-03-29 | シャープ株式会社 | 液晶パネル |
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| JP6366255B2 (ja) | 2013-11-13 | 2018-08-01 | 三菱電機株式会社 | 液晶表示装置 |
| KR102208432B1 (ko) * | 2014-12-31 | 2021-01-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 |
| KR102278946B1 (ko) * | 2014-12-31 | 2021-07-19 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
| KR102277380B1 (ko) * | 2015-01-12 | 2021-07-14 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
| CN105093704A (zh) * | 2015-07-31 | 2015-11-25 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 显示面板 |
| WO2018037988A1 (ja) * | 2016-08-23 | 2018-03-01 | シャープ株式会社 | 表示装置 |
| CN110031995A (zh) * | 2019-04-17 | 2019-07-19 | 成都中电熊猫显示科技有限公司 | 彩膜基板及液晶显示面板 |
| CN113934044A (zh) * | 2020-06-29 | 2022-01-14 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板和显示装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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