JP3386946B2 - 基板への処理液の供給装置用脱気装置 - Google Patents
基板への処理液の供給装置用脱気装置Info
- Publication number
- JP3386946B2 JP3386946B2 JP33823495A JP33823495A JP3386946B2 JP 3386946 B2 JP3386946 B2 JP 3386946B2 JP 33823495 A JP33823495 A JP 33823495A JP 33823495 A JP33823495 A JP 33823495A JP 3386946 B2 JP3386946 B2 JP 3386946B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing liquid
- vacuum chamber
- flow path
- space
- liquid flow
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハ、
液晶表示装置（ＬＣＤ）用ガラス基板、フォトマスク用
ガラス基板、光ディスク用基板などの各種基板の表面に
現像液、フォトレジスト液、純水等の洗浄液などの処理
液を供給する基板への処理液の供給装置に使用され、基
板表面に供給される処理液中の気体を除去する脱気装置
に関する。
液晶表示装置（ＬＣＤ）用ガラス基板、フォトマスク用
ガラス基板、光ディスク用基板などの各種基板の表面に
現像液、フォトレジスト液、純水等の洗浄液などの処理
液を供給する基板への処理液の供給装置に使用され、基
板表面に供給される処理液中の気体を除去する脱気装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、半導体ウエハ、ＬＣＤ用ガラス
基板等の基板を水平姿勢に保持して鉛直軸回りに回転さ
せながら、その基板表面に被着形成されたフォトレジス
ト膜を現像処理する場合、現像液は現像液供給源からフ
ィルタ等が介挿された現像液供給配管を通して吐出ノズ
ルへ送給され、吐出ノズルの吐出口から基板の表面へ供
給されるようになっている。そして、現像むらが生じな
いように、現像液が基板の表面全体にわたって均一に供
給されるように制御している。
基板等の基板を水平姿勢に保持して鉛直軸回りに回転さ
せながら、その基板表面に被着形成されたフォトレジス
ト膜を現像処理する場合、現像液は現像液供給源からフ
ィルタ等が介挿された現像液供給配管を通して吐出ノズ
ルへ送給され、吐出ノズルの吐出口から基板の表面へ供
給されるようになっている。そして、現像むらが生じな
いように、現像液が基板の表面全体にわたって均一に供
給されるように制御している。
【０００３】ところが、現像液供給配管内にエアーが噛
んだり現像液供給配管内を流れる現像液中に気体が溶存
したりすることがあり、この現像液をそのまま吐出ノズ
ルから基板の表面へ供給すると、現像液中の気体が基板
上のフォトレジスト膜面に気泡として付着することにな
る。この結果、気泡の付着部位における現像処理が阻害
され、現像不良を起こすことになる。これと同様の問題
は、現像処理に限らず各種処理工程においても起こり、
例えば、フォトレジスト液の塗布工程では、フォトレジ
スト液中に気体が溶存していると、塗布むらの原因とな
る。
んだり現像液供給配管内を流れる現像液中に気体が溶存
したりすることがあり、この現像液をそのまま吐出ノズ
ルから基板の表面へ供給すると、現像液中の気体が基板
上のフォトレジスト膜面に気泡として付着することにな
る。この結果、気泡の付着部位における現像処理が阻害
され、現像不良を起こすことになる。これと同様の問題
は、現像処理に限らず各種処理工程においても起こり、
例えば、フォトレジスト液の塗布工程では、フォトレジ
スト液中に気体が溶存していると、塗布むらの原因とな
る。
【０００４】そこで、処理液供給用配管内にエアーが噛
んだり処理液中に気体が溶存したりすることによって引
き起こされる処理不良を無くすために、図２に示すよう
に、処理液供給源から処理液の吐出口へ至る処理液供給
用配管１の途中に脱気装置２を介設して、その脱気装置
２を処理液が通過する際に処理液中の気体を除去し、気
体が溶存していない状態の処理液が吐出口から基板上へ
供給されるようにしている。図２に概略断面図を示した
脱気装置２は、処理液供給用配管１にそれぞれ流路接続
された入口側継手３及び出口側継手４、非腐食性素材、
例えば四フッ化エチレン樹脂からなる気体透過膜材によ
って形成され、互いに平行に配設されてそれぞれ両端部
が両継手３、４に連通された多数の細管で構成された処
理液流路５、並びに、この処理液流路５を内部に収容し
その周囲を気密に密閉した真空チャンバ６から構成され
ている。そして、脱気装置２に、その真空チャンバ６内
の密閉空間に連通するように脱気用配管７を接続し、脱
気用配管７を真空ポンプや工場内の真空ラインなどの真
空吸引源に接続している。脱気用配管７には、必要によ
り、真空チャンバ６内を真空吸引する真空度を所定値に
調整して接続するための調圧弁８が介設される。
んだり処理液中に気体が溶存したりすることによって引
き起こされる処理不良を無くすために、図２に示すよう
に、処理液供給源から処理液の吐出口へ至る処理液供給
用配管１の途中に脱気装置２を介設して、その脱気装置
２を処理液が通過する際に処理液中の気体を除去し、気
体が溶存していない状態の処理液が吐出口から基板上へ
供給されるようにしている。図２に概略断面図を示した
脱気装置２は、処理液供給用配管１にそれぞれ流路接続
された入口側継手３及び出口側継手４、非腐食性素材、
例えば四フッ化エチレン樹脂からなる気体透過膜材によ
って形成され、互いに平行に配設されてそれぞれ両端部
が両継手３、４に連通された多数の細管で構成された処
理液流路５、並びに、この処理液流路５を内部に収容し
その周囲を気密に密閉した真空チャンバ６から構成され
ている。そして、脱気装置２に、その真空チャンバ６内
の密閉空間に連通するように脱気用配管７を接続し、脱
気用配管７を真空ポンプや工場内の真空ラインなどの真
空吸引源に接続している。脱気用配管７には、必要によ
り、真空チャンバ６内を真空吸引する真空度を所定値に
調整して接続するための調圧弁８が介設される。
【０００５】この脱気装置２に、処理液供給源から処理
液供給用配管１を通って送給される現像液、フォトレジ
スト液、洗浄用純水などの処理液を流すと、気体透過膜
材によって形成された多数の細管からなる処理液流路５
を処理液が流れる間に、処理液中に溶存する空気等の気
体が細管の気体透過膜材を通し、真空下に保持された真
空チャンバ６内の密閉空間へ効果的に除去される。この
ように、処理液は脱気装置２に連続して通される間に速
やかに脱気処理され、脱気処理された処理液が脱気装置
２の出口から排出されて処理液供給用配管１内へ送り出
される。
液供給用配管１を通って送給される現像液、フォトレジ
スト液、洗浄用純水などの処理液を流すと、気体透過膜
材によって形成された多数の細管からなる処理液流路５
を処理液が流れる間に、処理液中に溶存する空気等の気
体が細管の気体透過膜材を通し、真空下に保持された真
空チャンバ６内の密閉空間へ効果的に除去される。この
ように、処理液は脱気装置２に連続して通される間に速
やかに脱気処理され、脱気処理された処理液が脱気装置
２の出口から排出されて処理液供給用配管１内へ送り出
される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の脱気
装置では、その処理液流路５と処理液供給用配管とを流
路接続するための継手３、４がねじ込み継手であり、そ
のねじ込み継手のねじ部にシールテープを巻き付けて、
それを真空チャンバの継手接続部分に形成された雌ねじ
部にねじ込むようにし、継手３、４を真空チャンバに固
着するようにしていた。しかし、このねじ込み継手に
は、シールテープを使用するためにパーティクルを発生
し易い、といった欠点がある。
装置では、その処理液流路５と処理液供給用配管とを流
路接続するための継手３、４がねじ込み継手であり、そ
のねじ込み継手のねじ部にシールテープを巻き付けて、
それを真空チャンバの継手接続部分に形成された雌ねじ
部にねじ込むようにし、継手３、４を真空チャンバに固
着するようにしていた。しかし、このねじ込み継手に
は、シールテープを使用するためにパーティクルを発生
し易い、といった欠点がある。
【０００７】また、ねじ込み継手及び真空チャンバの継
手接続部分をそれぞれ樹脂材によって形成し、シールテ
ープを使用せずにそのねじ込み継手を真空チャンバの継
手接続部分に螺着するようにしたときは、パーティクル
が発生する恐れは少ないが、真空チャンバ内の密閉空間
が継手接続個所で非常にリークし易い、といった問題点
がある。さらに、ねじ込み継手及び真空チャンバの継手
接続部分をそれぞれ金属材料によって形成するようにし
たときは、真空チャンバのリークの問題は軽減される
が、処理液と接触する金属部分からのイオン析出が起こ
り、金属イオンを含んだ処理液が基板の表面へ供給され
ることになるため、処理品質上の問題を生じることにな
る。
手接続部分をそれぞれ樹脂材によって形成し、シールテ
ープを使用せずにそのねじ込み継手を真空チャンバの継
手接続部分に螺着するようにしたときは、パーティクル
が発生する恐れは少ないが、真空チャンバ内の密閉空間
が継手接続個所で非常にリークし易い、といった問題点
がある。さらに、ねじ込み継手及び真空チャンバの継手
接続部分をそれぞれ金属材料によって形成するようにし
たときは、真空チャンバのリークの問題は軽減される
が、処理液と接触する金属部分からのイオン析出が起こ
り、金属イオンを含んだ処理液が基板の表面へ供給され
ることになるため、処理品質上の問題を生じることにな
る。
【０００８】この発明は、以上のような事情に鑑みてな
されたものであり、基板への処理液の供給装置における
処理液供給用配管と真空チャンバとの接続個所からパー
ティクルが発生したり金属イオンが処理液中へ析出した
りすることがなく、接続個所での真空チャンバ内部のリ
ークの心配も少ない脱気装置を提供することを目的とす
る。
されたものであり、基板への処理液の供給装置における
処理液供給用配管と真空チャンバとの接続個所からパー
ティクルが発生したり金属イオンが処理液中へ析出した
りすることがなく、接続個所での真空チャンバ内部のリ
ークの心配も少ない脱気装置を提供することを目的とす
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
気体透過膜材によって形成された処理液流路と、この処
理液流路の周囲を気密に密閉し、処理液流路の入口側及
び出口側にそれぞれ連通する各開口部がそれぞれ形成さ
れた両端部を有し、処理液流路の両端部をそれぞれ保持
して内部に固定する各保持部材によって、一方の開口部
と処理液流路の入口側との間の空間及び他方の開口部と
処理液流路の出口側との間の空間と処理液流路周囲の真
空吸引される空間とがそれぞれ気密に隔絶された真空チ
ャンバと、この真空チャンバの両端部にそれぞれ固着さ
れるとともに、処理液供給用配管がそれぞれ接続され、
前記各開口部と処理液供給用配管とを連通させる処理液
通路が内部にそれぞれ形設された一対の継手と、前記真
空チャンバの真空吸引される空間に一端が連通するよう
に接続され他端が真空吸引源に接続された脱気用配管と
を備えた基板への処理液の供給装置用脱気装置におい
て、前記各継手をそれぞれ樹脂材によって形成し、か
つ、各継手を前記真空チャンバの両端部にそれぞれ溶接
又は接着により固着したことを特徴とする。請求項２に
係る発明は、気体透過膜材によって形成された処理液流
路と、この処理液流路の周囲を気密に密閉し、処理液流
路の入口側及び出口側にそれぞれ連通する各開口部がそ
れぞれ形成された両端部を有し、処理液流路の両端部を
それぞれ保持して内部に固定する各保持部材によって、
一方の開口部と処理液流路の入口側との間の空間及び他
方の開口部と処理液流路の出口側との間の空間と処理液
流路周囲の真空吸引される空間とがそれぞれ気密に隔絶
された真空チャンバと、処理液供給用配管がそれぞれ接
続され、前記真空チャンバの両端部の前記各開口部と処
理液供給用配管とを連通させる処理液通路が内部にそれ
ぞれ形設された一対の継手と、前記真空チャンバの真空
吸引される空間に一端が連通するように接続され他端が
真空吸引源に接続された脱気用配管とを備えた基板への
処理液の供給装置用脱気装置において、前記各継手と前
記真空チャンバの両端部とをそれぞれ、樹脂材によって
一体形成された部品で構成したことを特徴とする。
気体透過膜材によって形成された処理液流路と、この処
理液流路の周囲を気密に密閉し、処理液流路の入口側及
び出口側にそれぞれ連通する各開口部がそれぞれ形成さ
れた両端部を有し、処理液流路の両端部をそれぞれ保持
して内部に固定する各保持部材によって、一方の開口部
と処理液流路の入口側との間の空間及び他方の開口部と
処理液流路の出口側との間の空間と処理液流路周囲の真
空吸引される空間とがそれぞれ気密に隔絶された真空チ
ャンバと、この真空チャンバの両端部にそれぞれ固着さ
れるとともに、処理液供給用配管がそれぞれ接続され、
前記各開口部と処理液供給用配管とを連通させる処理液
通路が内部にそれぞれ形設された一対の継手と、前記真
空チャンバの真空吸引される空間に一端が連通するよう
に接続され他端が真空吸引源に接続された脱気用配管と
を備えた基板への処理液の供給装置用脱気装置におい
て、前記各継手をそれぞれ樹脂材によって形成し、か
つ、各継手を前記真空チャンバの両端部にそれぞれ溶接
又は接着により固着したことを特徴とする。請求項２に
係る発明は、気体透過膜材によって形成された処理液流
路と、この処理液流路の周囲を気密に密閉し、処理液流
路の入口側及び出口側にそれぞれ連通する各開口部がそ
れぞれ形成された両端部を有し、処理液流路の両端部を
それぞれ保持して内部に固定する各保持部材によって、
一方の開口部と処理液流路の入口側との間の空間及び他
方の開口部と処理液流路の出口側との間の空間と処理液
流路周囲の真空吸引される空間とがそれぞれ気密に隔絶
された真空チャンバと、処理液供給用配管がそれぞれ接
続され、前記真空チャンバの両端部の前記各開口部と処
理液供給用配管とを連通させる処理液通路が内部にそれ
ぞれ形設された一対の継手と、前記真空チャンバの真空
吸引される空間に一端が連通するように接続され他端が
真空吸引源に接続された脱気用配管とを備えた基板への
処理液の供給装置用脱気装置において、前記各継手と前
記真空チャンバの両端部とをそれぞれ、樹脂材によって
一体形成された部品で構成したことを特徴とする。
【００１１】以上のように、請求項１及び請求項２に係
る各発明の脱気装置はそれぞれ、処理液供給用配管と真
空チャンバの両端部との接続個所が樹脂材によって形成
されており、処理液が金属部分と接触することがないの
で、処理液中へのイオン析出の心配が無い。また、処理
液供給用配管と真空チャンバの両端部とは、継手が真空
チャンバの両端部に溶接もしくは接着により固着され、
もしくは、継手と真空チャンバの両端部とが一体形成さ
れた部品で構成されることにより、互いに連接されてい
る。従って、シールテープを使用しないため、パーティ
クルが発生する恐れが少なく、また、処理液供給用配管
と真空チャンバの両端部との接続個所での真空チャンバ
内部のリークの心配も少ない。
る各発明の脱気装置はそれぞれ、処理液供給用配管と真
空チャンバの両端部との接続個所が樹脂材によって形成
されており、処理液が金属部分と接触することがないの
で、処理液中へのイオン析出の心配が無い。また、処理
液供給用配管と真空チャンバの両端部とは、継手が真空
チャンバの両端部に溶接もしくは接着により固着され、
もしくは、継手と真空チャンバの両端部とが一体形成さ
れた部品で構成されることにより、互いに連接されてい
る。従って、シールテープを使用しないため、パーティ
クルが発生する恐れが少なく、また、処理液供給用配管
と真空チャンバの両端部との接続個所での真空チャンバ
内部のリークの心配も少ない。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、この発明の最良の実施形態
について図１を参照しながら説明する。
について図１を参照しながら説明する。
【００１３】図１は、この発明の実施の形態の１例を示
す基板への処理液の供給装置用脱気装置の正面図であっ
て、上半部を縦断面で表わした図である。この脱気装置
１０は、真空チャンバ１２、真空チャンバ１２の左右両
側に固着された入口側及び出口側の両継手１４、１４、
真空チャンバ１２の内部に設けられた処理液流路１６、
及び、処理液流路１６の両端部を保持して真空チャンバ
１２の内部に固定する左右一対の保持部材１８、１８か
ら構成されている。
す基板への処理液の供給装置用脱気装置の正面図であっ
て、上半部を縦断面で表わした図である。この脱気装置
１０は、真空チャンバ１２、真空チャンバ１２の左右両
側に固着された入口側及び出口側の両継手１４、１４、
真空チャンバ１２の内部に設けられた処理液流路１６、
及び、処理液流路１６の両端部を保持して真空チャンバ
１２の内部に固定する左右一対の保持部材１８、１８か
ら構成されている。
【００１４】真空チャンバ１２は、円筒状胴部２０と両
端部の左右一対のキャップ２２、２２とから構成されて
おり、各キャップ２２、２２は、円筒状胴部２０の両側
にそれぞれ嵌着され円筒状胴部２０の外周面にＯ−リン
グ２４を介して気密に接合している。円筒状胴部２０及
びキャップ２２は、それぞれ樹脂材、例えば円筒状胴部
２０はポリプロピレン等のポリオレフィン、キャップ２
２は四フッ化エチレン樹脂によって形成されている。ま
た、円筒状胴部２０には、脱気用配管（図２の符号７参
照）が連通接続される接続孔２６が開設されており、接
続孔２６には雌ねじが螺刻されている。
端部の左右一対のキャップ２２、２２とから構成されて
おり、各キャップ２２、２２は、円筒状胴部２０の両側
にそれぞれ嵌着され円筒状胴部２０の外周面にＯ−リン
グ２４を介して気密に接合している。円筒状胴部２０及
びキャップ２２は、それぞれ樹脂材、例えば円筒状胴部
２０はポリプロピレン等のポリオレフィン、キャップ２
２は四フッ化エチレン樹脂によって形成されている。ま
た、円筒状胴部２０には、脱気用配管（図２の符号７参
照）が連通接続される接続孔２６が開設されており、接
続孔２６には雌ねじが螺刻されている。
【００１５】継手１４も、非腐食性の樹脂材、例えばフ
ッ素樹脂などよって形成され、内部に処理液通路２８が
形設されており、その処理液通路２８に処理液供給用配
管（図２の符号１参照）の接続端部が連通接続される。
この継手１４は、その先端部が真空チャンバ１２のキャ
ップ２２の中心部に形成された開口部に密嵌され、溶接
によってキャップ２２に固着される。また、継手１４を
真空チャンバ１２のキャップ２２に接着剤により接着し
て固着するようにしてもよい。
ッ素樹脂などよって形成され、内部に処理液通路２８が
形設されており、その処理液通路２８に処理液供給用配
管（図２の符号１参照）の接続端部が連通接続される。
この継手１４は、その先端部が真空チャンバ１２のキャ
ップ２２の中心部に形成された開口部に密嵌され、溶接
によってキャップ２２に固着される。また、継手１４を
真空チャンバ１２のキャップ２２に接着剤により接着し
て固着するようにしてもよい。
【００１６】処理液流路１６は、非腐食性素材、例えば
四フッ化エチレン樹脂からなる気体透過膜材によって形
成され互いに平行に配設された多数の細管３０で構成さ
れている。また、処理液流路１６の両端部を保持して真
空チャンバ１２の内部に固定する保持部材１８は、例え
ばウレタン樹脂によって形成されており、その外周面が
真空チャンバ１２の円筒状胴部２０の内周面に気密に接
合している。
四フッ化エチレン樹脂からなる気体透過膜材によって形
成され互いに平行に配設された多数の細管３０で構成さ
れている。また、処理液流路１６の両端部を保持して真
空チャンバ１２の内部に固定する保持部材１８は、例え
ばウレタン樹脂によって形成されており、その外周面が
真空チャンバ１２の円筒状胴部２０の内周面に気密に接
合している。
【００１７】上記説明では、継手１４を真空チャンバ１
２のキャップ２２に溶接又は接着により固着するように
したが、継手と真空チャンバのキャップとを、樹脂材で
一体形成された１つの部品として構成するようにしても
よい。
２のキャップ２２に溶接又は接着により固着するように
したが、継手と真空チャンバのキャップとを、樹脂材で
一体形成された１つの部品として構成するようにしても
よい。
【００１８】尚、脱気装置の構成は、上記説明したもの
に限定されず、同様の脱気作用が得られるものであれ
ば、どのような構成のものであってもよい。
に限定されず、同様の脱気作用が得られるものであれ
ば、どのような構成のものであってもよい。
【００１９】
【発明の効果】請求項１及び請求項２に係る各発明の脱
気装置はそれぞれ、基板への処理液の供給装置における
処理液供給用配管と真空チャンバの両端部との接続個所
が樹脂材によって形成され、また、請求項１に係る発明
の脱気装置では、継手が真空チャンバの両端部に溶接も
しくは接着により固着され、請求項２に係る発明の脱気
装置では、継手と真空チャンバの両端部とが一体形成さ
れた部品で構成されていることにより、処理液供給用配
管と真空チャンバの両端部との接続個所からパーティク
ルが発生したり金属イオンが処理液中へ析出したりする
ことがなく、接続個所での真空チャンバ内部のリークの
心配も少ない。
気装置はそれぞれ、基板への処理液の供給装置における
処理液供給用配管と真空チャンバの両端部との接続個所
が樹脂材によって形成され、また、請求項１に係る発明
の脱気装置では、継手が真空チャンバの両端部に溶接も
しくは接着により固着され、請求項２に係る発明の脱気
装置では、継手と真空チャンバの両端部とが一体形成さ
れた部品で構成されていることにより、処理液供給用配
管と真空チャンバの両端部との接続個所からパーティク
ルが発生したり金属イオンが処理液中へ析出したりする
ことがなく、接続個所での真空チャンバ内部のリークの
心配も少ない。
【図１】この発明の実施の形態の１例を示す基板への処
理液の供給装置用脱気装置の正面図であって、上半部を
縦断面で表わした図である。
理液の供給装置用脱気装置の正面図であって、上半部を
縦断面で表わした図である。
【図２】脱気装置を備えた基板への処理液の供給装置の
１例を示す概略構成図である。
１例を示す概略構成図である。
１ 処理液供給用配管
２、１０ 脱気装置
３、４、１４ 継手
５、１６ 処理液流路
６、１２ 真空チャンバ
７ 脱気用配管
２０ 真空チャンバの円筒状胴部
２２ 真空チャンバのキャップ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平５−57152（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−64250（ＪＰ，Ａ)
特開 平３−16605（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B01D 19/00 - 19/04
Claims (2)
- 【請求項１】 気体透過膜材によって形成された処理液
流路と、 この処理液流路の周囲を気密に密閉し、処理液流路の入
口側及び出口側にそれぞれ連通する各開口部がそれぞれ
形成された両端部を有し、処理液流路の両端部をそれぞ
れ保持して内部に固定する各保持部材によって、一方の
開口部と処理液流路の入口側との間の空間及び他方の開
口部と処理液流路の出口側との間の空間と処理液流路周
囲の真空吸引される空間とがそれぞれ気密に隔絶された
真空チャンバと、 この真空チャンバの両端部にそれぞれ固着されるととも
に、処理液供給用配管がそれぞれ接続され、前記各開口
部と処理液供給用配管とを連通させる処理液通路が内部
にそれぞれ形設された一対の継手と、 前記真空チャンバの真空吸引される空間に一端が連通す
るように接続され他端が真空吸引源に接続された脱気用
配管とを備えた基板への処理液の供給装置用脱気装置に
おいて、 前記各継手をそれぞれ樹脂材によって形成し、かつ、各
継手を前記真空チャンバの両端部にそれぞれ溶接又は接
着により固着したことを特徴とする基板への処理液の供
給装置用脱気装置。 - 【請求項２】 気体透過膜材によって形成された処理液
流路と、 この処理液流路の周囲を気密に密閉し、処理液流路の入
口側及び出口側にそれぞれ連通する各開口部がそれぞれ
形成された両端部を有し、処理液流路の両端部をそれぞ
れ保持して内部に固定する各保持部材によって、一方の
開口部と処理液流路の入口側との間の空間及び他方の開
口部と処理液流路の出口側との間の空間と処理液流路周
囲の真空吸引される空間とがそれぞれ気密に隔絶された
真空チャンバと、 処理液供給用配管がそれぞれ接続され、前記真空チャン
バの両端部の前記各開口部と処理液供給用配管とを連通
させる処理液通路が内部にそれぞれ形設された一対の継
手と、 前記真空チャンバの真空吸引される空間に一端が連通す
るように接続され他端が真空吸引源に接続された脱気用
配管とを備えた基板への処理液の供給装置用脱気装置に
おいて、 前記各継手と前記真空チャンバの両端部とをそれぞれ、
樹脂材によって一体形成された部品で構成したことを特
徴とする基板への処理液の供給装置用脱気装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33823495A JP3386946B2 (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | 基板への処理液の供給装置用脱気装置 |
| US08/753,706 US5762684A (en) | 1995-11-30 | 1996-11-27 | Treating liquid supplying method and apparatus |
| KR1019960059120A KR100197198B1 (ko) | 1995-11-30 | 1996-11-28 | 처리액공급방법 및 처리액공급장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33823495A JP3386946B2 (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | 基板への処理液の供給装置用脱気装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09150007A JPH09150007A (ja) | 1997-06-10 |
| JP3386946B2 true JP3386946B2 (ja) | 2003-03-17 |
Family
ID=18316198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33823495A Expired - Lifetime JP3386946B2 (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | 基板への処理液の供給装置用脱気装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3386946B2 (ja) |
-
1995
- 1995-11-30 JP JP33823495A patent/JP3386946B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09150007A (ja) | 1997-06-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100197198B1 (ko) | 처리액공급방법 및 처리액공급장치 | |
| JP3142195B2 (ja) | 薬液供給装置 | |
| US5645625A (en) | Device for removing dissolved gas from a liquid | |
| US6126725A (en) | Deaerating apparatus and treatment apparatus with gas permeable films | |
| JP2008085263A (ja) | 膜塗布装置および膜塗布方法 | |
| JPH01225320A (ja) | シリンダーキャビネット配管装置 | |
| JP2724298B2 (ja) | 流動性物質排出装置 | |
| JP3386946B2 (ja) | 基板への処理液の供給装置用脱気装置 | |
| JPH09162118A (ja) | 基板用処理液の脱気装置 | |
| JPH0910709A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP3347929B2 (ja) | 処理液供給装置 | |
| JP2001149930A (ja) | 紫外線酸化装置 | |
| JPH04122403A (ja) | 液体供給装置及び脱泡方法 | |
| JP3386947B2 (ja) | 基板への現像液の供給装置 | |
| KR100780936B1 (ko) | 화학용액 내에 포함된 기포를 제거하기 위한 기포제거장치및 이를 이용한 기포제거방법 | |
| KR101964074B1 (ko) | 액체용 탈기 장치 | |
| JP2728415B2 (ja) | 濾過フィルター | |
| JP2004340304A (ja) | 半導体製造装置等の配管システム | |
| JPH08153675A (ja) | 基板への処理液供給装置 | |
| JPH08312846A (ja) | 管状部材用シールリング保持壁とシール方法、及びその保持壁を持つ流体部品、並びにその流体部品を持つ流体装置 | |
| JPH10337447A (ja) | 液体濾過用フィルタ、膜エレメントおよびハウジングと膜エレメントの連結方法 | |
| KR102498912B1 (ko) | 처리액 공급장치 | |
| JP3400271B2 (ja) | 基板処理装置の処理液加熱装置 | |
| JP2974569B2 (ja) | 回転式基板処理装置の処理液供給装置 | |
| JPH11333229A (ja) | 基板処理装置のフィルタ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090110 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090110 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100110 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100110 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100110 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110110 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110110 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120110 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120110 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130110 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130110 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130110 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140110 Year of fee payment: 11 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |