JP3372246B2 - ダイオキシンなどの,有害物質が含まれる有害ガスの浄化方法及び装置 - Google Patents

ダイオキシンなどの,有害物質が含まれる有害ガスの浄化方法及び装置

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】技術分野 本発明は,一般に,ダイオキシンなどの,有害物質が含
まれる有害ガスの浄化方法及び装置に関し,さらに詳細
には,好ましくは,焼却システムの各種毒物に含まれる
排気ガスの浄化に使用され,あるいは,無塵清浄空気を
半導体製造装置などの製造工場のクリンリームに供給す
るために空気を浄化するためのガス浄化方法及び装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】背景技術 当業者に既知であるように,ダイオキシンや亜硫酸ガス
などの有害物質は,様々な産業分野で発生し,重大な大
気汚染を引き起こす。即ち,石油精製工程や重油燃焼工
程は大量の亜硫酸ガスが発生するので,焼却システムの
排気ガスには大量のダイオキシンが含まる。即ち,かか
る石油精製工程や石油燃焼工程の間,石油あるいは油の
中の硫黄は酸化されて亜硫酸ガスを形成し,排気ガスと
共に大気中に放出される。特に,油が近年の重要なエネ
ルギ資源であり,大量に使用されるので,油燃焼工程に
より発生する有害物質は,日毎に,深刻に大気を汚染す
る。
【0003】かかる有害物質に起因する大気汚染を制御
するために,排気ガス中に含まれる有害物質の許容量は
厳格に規制される。従って,排気ガス中に含まれる有害
物質の許容量のかかる厳格な規則に適合するガス浄化装
置を提供することが必要である。また,半導体製造,高
集積電子デバイス製造,光工学技術,遺伝子工学技術,
宇宙空間工学技術あるいは非常に高精度が要求される医
療薬が処理されるクリーンルームに対して清浄空気を供
給することも必要である。かかる清浄空気により,クリ
ーンルームを,塵,バクテリアあるいは他の異物質が完
全に存在しない最適な環境とすることができる。
【0004】上記要求を実現する成果として,種々のタ
イプの空気浄化装置が提案された。
【0005】かかる従来の空気浄化装置は,大略,2つ
のタイプ,即ち,湿式装置と乾式装置に分類される。
【0006】かかる湿式ガス浄化装置の代表例は,大型
タワーの下側部分にガス噴出管が具備され,ガス噴出管
上部の複数の異なる高さ位置でタワー内に水平に取り付
けられた複数の金網を具備する充装タワー式装置であ
る。粒子は,所定の厚さを有する金網上に均一に積層さ
れ,各金網上に粒子層が形成されている。さらに,複数
の浄化液スプレイ管が粒子層上に設置され,粒子層表面
に浄化液を均一にスプレイして,粒子層を湿らせる。
【0007】上記充装タワー式ガス浄化装置の処理にお
いては,粒子層を通り抜けている間,有害ガスは,ガス
噴出管からタワー内に噴出され,粒子層を通過してタワ
ー内の上方に流れる。有害ガスが,湿った粒子層を上方
に通り抜ける際には,粒子層の浄化液と接触するように
導かれる。ガスの有害物質は浄化液中に溶解され,浄化
空気がタワー内で上方に上昇した後,タワーから大気中
に放出される。
【0008】しかしながら,上記充装タワー式ガス浄化
装置は,以下のような問題がある。有害ガスが粒子層を
通り抜けるときだけ,有害ガスが限定的に浄化液と接触
するので,タワー内の有害ガスの浄化液接触領域が限定
される。これは,結果的に,装置のガス浄化効率を低下
させ,装置の大きさを拡大することになる。
【0009】湿式ガス浄化装置他のの例は,ガス噴出管
が浄化液タワーの下方位置に具備され,ガス噴出管の上
方位置でタワー内に取り付けられた電動プロペラを有す
る,攪拌式装置である。上記攪拌式ガス浄化装置の処理
においては,プロペラにより攪拌されている間,ガス噴
出管から放出されるガス気泡は浄化液と接触するように
導かれる。ガスの有害物質は,浄化液中にこのように溶
解され,浄化空気がタワー内で上方に流れた後,タワー
から大気中に放出される。
【0010】しかしながら,上記攪拌式ガス浄化装置
は,以下のような問題がある。ガス気泡の浮力が,プロ
ペラにより形成された浄化液の攪拌力よりも高いので,
ガス気泡はタワー内で急速に上昇する。これは,結果的
に,ガス気泡が浄化液と接触する時間を制限することに
なる。従って,有害ガスが,必要な長時間の間,浄化液
と接触することは,ほとんど不可能である。さらに,装
置のガス浄化効率は低減する。また,タワー径と同一直
径の大型プロペラを設置することも必要である。かかる
大型プロペラは,装置周囲に動作振動や人々に迷惑な雑
音を発生させ,さらに電力を浪費する大容量モータを必
要とする。さらに,プロペラの中央部分及び縁部分に位
置するガス気泡は,トルクの影響なしでタワー内を上昇
する。このことは,装置のガス浄化効率をさらに低下さ
せる。
【0011】乾式ガス浄化装置の例は,制御集塵機であ
る。しかしながら,かかる制御集塵機は,湿式ガス浄化
装置と比較して,処理効率が低く,設置費用が増大する
点で問題がある。
【0012】上述のように,従来のガス浄化装置は,設
置費用が増大するという点で問題がある。上記装置も,
必要なガス浄化効果を達成することができないので,大
気汚染を引き起こし,実際の使用には余り適していな
い。その結果,より効果的にかかる有害ガスを処理する
ことが可能なガス浄化装置を提供することが必要であ
る。
【0013】本発明の発明者は,韓国特許公告番号91
−447において,「有害ガスの浄化方法及び装置」を
提案した。上記韓国の装置は,添付図面1及び2に示さ
れる。
【0014】図に示すように,上記韓国のガス浄化装置
は,筒状の浄化液タワーを有し,その中に,ガス浄化液
が渦流を形成するためにスプレイされ,有害ガスも渦流
と同一方向に噴射される。上記韓国の装置の処理では,
ガス浄化液中に溶解しているガス有害物質を有する有害
ガス気泡は,徐々に延伸されて薄くなり,最終的に破裂
する。
【0015】従って,上記韓国の装置は,有害ガスが,
タワー内を高速で渦巻くガス浄化液中に,妨害されずに
滑らかに挿入されるように設計することが必要である。
この装置は,また,ガス浄化液の渦巻力がガス気泡の浮
力よりも高くなるように,従って,有害ガス気泡を徐々
に延伸して薄くし,最終的に破裂できるように設計しな
ければならない。このようにして,有害物質を反応さ
せ,ガス浄化液中に溶解することができる。
【0016】上記韓国のガス浄化装置は,有害ガスは,
主としてガス気泡になり,渦巻きながらタワー内の長い
通路に沿って上昇する点で効果がある。このように,こ
の装置中の有害ガスは,従来の湿式ガス浄化装置と比較
して,必要な長時間の間,効果的にガス浄化液と接触す
ることができる。従って,ガスの有害物質がガス浄化液
中に効果的に溶解するので,従来の湿式ガス浄化装置と
比較して,この装置のガス浄化効果が改善される。この
韓国の装置は,また,大きさを小型化して,近年のコン
パクト化傾向を実現し,製造コストを低減する。
【0017】
【発明が解決しようとする課題】近年においては,排気
ガス中に含まれるダイオキシン,塵などの有害物質の許
容量は,かかる有害物質に起因する大気汚染を抑制する
ために,さらに厳密に規制される。さらに,ダイオキシ
ンなどの非常に浄化が困難な有害物質量の増加をともな
って工業が発達がなされる。従って,高い処理効率を達
成すると同時に,大量の有害ガスを処理するように設計
されたガス浄化装置を提供することが必要である。かか
る浄化装置は,また,人々から反感を買うことのない設
置費用に低減すると同時に,限られた領域中に容易に設
置することができる所定のコンパクト化を達成するよう
に設計する必要がある。
【0018】
【課題を解決するための手段】発明の開示 従って,本発明は,従来技術に起因する上記課題を留意
し,本発明の目的は,大量の有害ガスを処理するように
設計する同時に,高い処理効率及び近年のコンパクト化
傾向を共に実現する有害ガス浄化方法及びその装置を提
供することにある。
【0019】上記目的を達成するために,本発明は,有
害ガスの浄化法及び装置を提供する。本方法及び装置に
おいては,有害ガスは,複数のガス噴出管からタワー内
に充填されている浄化液の渦流に噴射される。かかる場
合には各ガス噴出管から噴射される有害ガスは,各ガス
噴出管の前方に位置する他のガス噴出管と衝突して,各
ガス噴出管のガス放出方向の略垂直方向にはね飛ばされ
る際に,微小サイズのガス気泡を形成する。ガス気泡は
浄化液の渦流と共に対流するので,ガスの有害物質をよ
り活発に浄化液中に吸収して溶解することができる。本
方法と装置においては,ガス気泡は,また,相互に衝突
するように導かれるので,ガスの有害物質をより活発に
浄化液中に吸収して溶解することが可能な付加的渦流が
形成される。
【0020】
【発明の実施の形態】発明を実施するための最良な形態 図3は,本発明の好ましい実施例にかかるガスガス浄化
装置の図である。
【0021】図に示すように,本発明のガス浄化装置
は,浄化液が供給される浄化液タワー1を有する。オー
バフロータンク2は,タワー1内の下側中央部分に設置
され,タワー1内の浄化液の必要なレベルを維持するた
めに使用される。排水ポート3は,オーバフロータンク
2の周囲位置でタワー1の底部壁に形成され,予め設定
された量の浄化液を,タワー1から排水するために使用
される。複数の浄化液スプレイ管4が,タワー1内に規
則的に垂直に設置され,タワー1に浄化液をスプレイす
るために使用される。ポンプ5は,全ての浄化液スプレ
イ管4に接続され,強制的に,浄化液スプレイ管4に浄
化液を供給する。輪状のガス給送ダクト6は,タワー1
の側壁外部表面の周囲に形成される。複数のガス噴出管
7は,ガス供給ダクト6からタワー1内に放射状に内方
向に延びている。上記構成は,従来のガス浄化装置のも
の同様である。本発明の装置は,ガス噴出管7がタワー
1内の同一平面上に配置され,多層のガス噴出管配置を
形成する点に特徴がある。複数の上部及び下部ガス噴出
ノズル8,9は,各ガス噴出管7の側壁の2つの縦直線
に沿って規則的に形成される。本装置の処理において
は,各ガス噴出管7の上部及び下部ガス噴出ノズル8,
9は,有害ガスを各ガス噴出管7の前方にある他のガス
噴出管上に噴出し,そのガスは,ガスの噴出方向の略垂
直方向にはじき飛ばされる。かかる場合において,有害
ガスは,扇子の骨の形ではね飛ばされる。さらに,複数
の液体スプレイノズル10は,各浄化液管4の側壁に,
多層のガス噴出管7の間の位置で形成される。
【0022】図4は,上記装置のガス浄化処理を示す図
である。
【0023】図に示すように,ガス浄化液は,液体スプ
レイ管4からタワー1にスプレイされ,タワー1の渦流
を形成する。浄化液の渦流のため,ガス噴出管7から放
出される有害ガスは気泡になり,浄化液に渦巻かれ,従
来のガス浄化装置のものと同様の方法で吸収されて溶解
される。しかしながら,本発明の装置は,各ガス噴出管
7から放出される有害ガスが,各パイプ7の前方に配置
される他のパイプ7に衝突するように導かれ,各パイプ
7のガス噴射方向の略垂直方向にはじき飛ばされる点に
特徴がある。かかる場合には,ガスは扇子の骨の形では
ね飛ばされて,大量の数のガス気泡“A”が浄化液中に
形成される。ガス気泡“A”は,浄化液により形成され
た渦流に巻き込まれて,急速に破壊され,液体から破裂
される。ダイオキシンなどのガスの有害物質は,このよ
うにして浄化液中に吸収されて,溶解される。
【0024】本装置の処理においては,ガス気泡“A”
は,さらに互いに衝突するように導かれるので,ガス気
泡“A”はより効果的に破壊される。
【0025】本発明の装置は,ガス噴出管7から噴射さ
れる有害ガスが,より効果的に,及びより急速に浄化液
中に吸収され,溶解することができる。このことは,最
終的に,タワー1の大きさを拡大することなく,浄化液
タワー1内に必要な数のガス噴出管7を設置することが
できる。従って,本発明の装置に関して,ガス浄化効率
は著しく改善され,ガス浄化量も高めることができる。
【0026】有害物質が含まれる浄化液は,液体スプレ
イ管4からの液の連続噴射により,タワー1内のレベル
が徐々に上昇すると,オーバフロータンク2に流入す
る。
【0027】オーバフロータンク2に流入された液は,
その後,タンク2の底部に設置された第1の排水バルブ
の制御下でタンク2から排出され,タワー1内で予め設
定された液体レベルを維持することができる。他方で
は,タワー1内の液体レベルが極めて高い場合には,排
水ポート3が第2の排水バルブにより好適に開放され,
タワー1から必要量の液を排出し,タワー1内で好適な
液体レベルの液体が維持される。かかる排水バルブの操
作は,従来のレベルセンサにより自動的に制御すること
もできる。
【0028】本発明の装置の処理においては,可溶性の
有害物質は,各ガス噴出管7から噴射される際,及びガ
ス気泡“A”を形成するための他のパイプ7との衝突に
導かれて扇子の骨の形ではね飛ばされる際に,容易に浄
化液中に溶解され,タワー1内の液の渦流共に循環す
る。他方では,非可溶性有害物質あるいは塵は,上記と
同様の工程を介して処理される際に液中に吸収される。
可溶性あるいは非可溶性の有害物質は,浄化液によりガ
スから除去され,液と共にタワー1から排出される。か
かる有害物質あるいは塵が除去されたガスは,タワー1
内を上昇して大気中に排出される。
【0029】本発明の装置と方法は,ガスからダイオキ
シン,亜硫酸ガス及び塵などの有害物質を取り除いて,
排気ガスを浄化し,浄化ガスを大気中に排出する。本発
明の装置及び方法は,焼却システムあるいはクリーンル
ームに対する清浄空気供給システムで使用されるのが好
ましい。
【0030】本発明においては,ガス噴出管7を近接し
て配置するのが好ましく,このようパイプ7の近接配置
はガスの跳ね角度を拡大し,各ガス噴出管7から噴出し
たガスが他のパイプ7への衝突に導かれた際に,タワー
1内でより効果的に小さいサイズのガス気泡“A”を形
成するからである。
【0031】実験によれば,タワー1内のガス噴出管7
を,パイプ7間の間隔20mm−25mmで形成するの
が好ましい。かかるパイプ7間の間隔は,ガス跳ね角度
を最大にして,タワー1内のガス気泡“A”を最も効果
的に形成する。 本発明の好ましい実施例においては,
水を浄化液として使用するのが好ましい。ダイオキシン
が効果的に浄化液中に吸収されるためには,液化活性炭
素を浄化液として使用するのがより好ましい。有機物質
が含まれる有害ガスを浄化する場合には,浄化液中にパ
ラフィンを加えるのが好ましい。簡単な説明では,本発
明のガス浄化方法及び装置は,浄化液の成分及び構成を
変えることにより,様々な有害物質で汚染されるガスを
処理するために使用されるのが好ましい。
【0032】上記のように,本発明は,有害ガスの浄化
方法及び装置を提供する。本装置の処理においては,有
害ガスは,タワー内の浄化液中に液の渦流と同一方向に
噴出され,形成されたガス気泡は渦流と共に対流し,破
壊される。本装置は,有害ガスが浄化液と接触させる時
間を増大させるので,ガス浄化効率が改善される。
【0033】本発明の装置においては,有害ガスが各ガ
ス噴出管から各ガス噴出管の前方に配置される他のガス
噴出管に向けて噴出され,形成された微小サイズのガス
気泡が各ガス噴射管の噴出方向の略垂直方向にはね飛ば
される。かかる場合においては,ガス気泡は,扇子の骨
の形ではね飛ばされる。かかるガス気泡は,また,互い
に衝突するように導かれ,さらに,タワー内の液の渦流
を活発化し,活発化した渦流と共に対流する。ガス気泡
は,このように,より急速に破壊される。このことによ
り,最終的に,ダイオキシンや塵などのガスの有害物質
が,より効果的に吸収され溶解することができる。本発
明の方法及び装置は,かかるダイオキシンや塵(従来の
ガス浄化装置により浄化することが困難であったダイオ
キシンや塵)をより効果的に除去する。本発明の方法及
び装置の他の利点は,大量の有害ガスを処理することが
できると同時に,高い処理効率及び近年のコンパクト化
傾向を実現する点にある。
【0034】本発明の好ましい実施例を説明の目的のた
めに開示したが,従属請求項に開示するように,本発明
の範囲及び精神から離れることなく,当業者は,各種の
修正,追加及び変更が可能である。 [図面の簡単な説明]図面の簡単な説明 本発明の上記及び他の目的,特徴及び他の利点は,添付
図面と関連付けられる以下の詳細な説明によりより明確
に理解されるであろう。
【図1】図1は,従来のガス浄化装置の断面図である;
【図2】図2は,図1の装置をガス浄化処理を示す斜視
図ある;
【図3】図3は,本発明の好ましい実施形態にかかるガ
ス浄化装置の断面図である;
【図4】図4は,図3の装置のガス浄化処理を示す図で
ある;及び
【図5】図5は,図3の装置の平面図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI // C07D 319/24 B01D 53/34 ZAB (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B01D 53/14 - 53/18 B01D 53/34 - 53/85 B01J 10/00 B01F 1/00 - 5/26

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 有害ガスを,複数のガス噴出管から,各
    ガス噴出管から噴出された有害ガスが各ガス噴出管の前
    方に配置された他のガス噴出管に衝突するように導かれ
    るように,タワー内に充填された浄化液の渦流に噴出
    し,従って,各ガス噴出管の噴出方向の略垂直方向には
    ね飛ばされて,微小サイズのガス気泡を形成し,前記ガ
    ス気泡は,前記浄化液の渦流と共に対流し,従って,ガ
    スの有害物質が前記浄化液中に活発に吸収及び溶解す
    る,工程を有することを特徴とする有害ガスの浄化方
    法。
  2. 【請求項2】 前記ガス気泡は,互いに衝突するように
    導かれ,従って,ガスの有害物質が前記浄化液中により
    活発に吸収及び溶解することが可能な付加的な渦流を形
    成する,ことを特徴とする請求項1に記載の有害ガスの
    浄化方法。
  3. 【請求項3】 浄化液タワーと,前記タワー内の下部中
    央位置に設置され,タワー内の必要な浄化液レベルを維
    持するために使用されるオーバフロータンクと,前記タ
    ワーの底部壁に形成され,予め設定された浄化液量をタ
    ワーから排水するために使用される排水ポートと,前記
    タワー内に規則的に垂直に設置され,浄化液をタワー内
    にスプレイするために使用される複数の浄化液スプレイ
    管と,全ての液体スプレイ管と接続され、浄化液を浄化
    液スプレイ管に供給するための液体ポンプと,タワーの
    側壁外部の周囲に形成される輪状の供給ダクトと,及
    び,ガス供給ダクトからタワー内に放射状に内部方向に
    延びており,有害ガスをタワー内の浄化液の渦流に噴出
    するために使用される,複数のガス噴出管と,を有する
    有害ガスの浄化装置であって,前記ガス噴出管は,タワ
    ー内の少なくとも1つの水平面上に配置され,前記各ガ
    ス噴出管の側壁の2つの縦直線に沿って規則的に形成さ
    れる複数の上部及び下部ガス噴出ノズルを有し,各ガス
    噴出ノズルの上部及び下部ノズルは,各ガス噴出管の前
    方に配置されて,有害ガスを他のガス噴出管上に噴出
    し,有害ガスが各ガス噴出管のガス噴出方向の略垂直方
    向にはね飛ばされる,ことを特徴とする,有害ガスの浄
    化装置。
  4. 【請求項4】 前記ガス噴出管は,タワー内の2以上の
    水平面上に配置され,従って,多層ガス噴出管が形成さ
    れ,ガス噴出管から噴出されたガス気泡は,互いに衝突
    するように導かれて,付加的な渦流を形成する,ことを
    特徴とする,請求項3に記載の有害ガスの浄化装置。
  5. 【請求項5】 前記浄化液スプレイ管は,水平配置され
    たガス噴出管の間の位置に複数の液体スプレイノズルを
    有する,ことを特徴とする,請求項3に記載の有害ガス
    の浄化装置。
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