JPH09866A - 排ガスの処理方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 粉塵と亜硫酸ガスを含む排ガスの処理方法及
び装置において、湿式電気集塵装置の使用を必要としな
い方法を提供。 【構成】 排ガスを冷却除塵塔３１に導入し、噴霧状液
滴粒子と接触させた後、抜出し、第１隔板６と第２隔板
３とによって第１室５と第２室６と第３室７とに区画さ
れた密閉槽の第２室に供給し、排ガス分散管９を通して
第１室の吸収液中に吹込み、上部の排ガスを、その排ガ
ス上昇筒内１０を上昇させ、上昇してきた排ガスを、先
端から排ガス洗浄液が液幕状に流下している排ガス衝突
板２６に衝突させ、排ガス液幕と接触させ、排ガス出口
１１から排出させミストエリミネータ１２に導入し、排
ガス中の液滴粒子を除去した後、大気中へ放出し、第２
隔板上の排ガス洗浄液を排ガス洗浄液槽３１に導入貯留
し、排ガス衝突板の液分散機構に供給し、供給する洗浄
液の一部を固液分離装置３３に導入し、得られた洗浄液
を清澄排ガス洗浄液槽３２に貯留し、排ガス洗浄液槽３
２に移送する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、粉塵と亜硫酸ガスを含
む排ガスの処理方法及び装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、粉塵と亜硫酸ガスを含む排ガスを
冷却除塵塔に導入し、ここで排ガスを冷却除塵した後、
脱硫装置に導入して脱硫処理し、次いで脱硫処理された
排ガスをミストエリミネータに導入し、ここで排ガス中
の液滴粒子（ミスト）を除去した後、湿式電気集塵装置
に導入し、ここで排ガス中に残存する粉塵を除去した
後、排ガス排出筒を介して大気へ放出する排ガスの処理
方法は広く行われている。

【０００３】ところで、このような排ガスの処理方法に
おいては、排ガス中に含まれる粉塵を除去するために、
前記したように、湿式電気集塵装置が用いられている
が、このものは、大規模の装置であり、その装置コスト
は非常に高く、しかもその設置面積も広いことから、排
ガス処理コストを上昇させる大きな要因の１つになって
いる。従って、このような湿式電気集塵装置は、可能で
あれば、その配設を省略することが望ましいものである
が、大気へ放出させる排ガス中の粉塵濃度規制は年々厳
しくなってきており、この点から、前記湿式電気集塵装
置の配設は余儀ないものとされていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、粉塵と亜硫
酸ガスを含む排ガスの処理方法及び装置において、湿式
電気集塵装置の使用を必要としない方法及び装置を提供
することをその課題とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、粉塵と亜硫酸ガスを
含む排ガスを処理する方法において、（ｉ）排ガスを冷
却除塵塔に導入し、噴霧状液滴粒子と接触させた後、そ
の冷却除塵塔から抜出すこと、（ii）冷却除塵塔から抜
出された排ガスを、第１隔板とその上方に位置する第２
隔板とによってその内部が第１室と第１室の上方に隣接
する第２室と第２室の上方に隣接する第３室とに区画さ
れた密閉槽におけるその第２室に供給すること、（iii)
第２室に供給された排ガスを第１隔板に形成された透孔
に垂設された肺ガス分散管を通して第１室に収容されて
いる吸収液中に吹込むこと、（iv）第１室の上部空間に
存在する排ガスを第１室と第３室との間を連絡し、その
上端が第２隔板表面より上方に位置する排ガス上昇筒内
を上昇させること、（ｖ）排ガス上昇筒を通して第３室
に上昇してきた排ガスをその排ガス上昇筒の上方に配設
されている液体流下壁と液分散機構を有し、その液体流
下壁の先端から排ガス洗浄液が液幕状に流下している排
ガス衝突板に衝突させるとともに、排ガスをその液幕と
接触させること、（vi）第３室内において前記液幕と接
触させた後の排ガスを第３室に配設された排ガス出口か
ら排出させること、（vii)第３室から排出された後の排
ガスをミストエリミネータに導入し、排ガス中に含まれ
る液滴粒子を除去した後、ミストエリミネータから抜出
すこと、（viii）ミストエリミネータから抜出した排ガ
スを湿式電気集塵処理することなく大気中へ放出させる
こと、（ix）密閉槽内の第２隔板上に滞留する排ガス洗
浄液を密閉槽外へ抜出し、排ガス洗浄液槽に導入し、貯
留すること、（ｘ）排ガス洗浄液槽に貯留された排ガス
洗浄液を排ガス衝突板に配設した液分散機構に供給する
こと、（xi）排ガス衝突板に供給する排ガス洗浄液の一
部を固液分離装置に導入すること、（xii)固液分離装置
で得られた清澄排ガス洗浄液を清澄排ガス洗浄液槽に貯
留すること、（xiii）清澄排ガス洗浄液槽の貯留液を排
ガス洗浄液槽に移送すること、を特徴とする排ガスの処
理方法が提供される。

【０００６】また、本発明によれば、排ガスを冷却除塵
する排ガス冷却除塵塔と、冷却除塵塔からの排ガスを脱
硫するための脱硫装置と、脱硫装置から排出された排ガ
ス中の液滴粒子を除去するためのミストエリミネータ
と、ミストエリミネータからの排ガスを大気中へ放出さ
せる排ガス排出筒を備えたものであって、前記脱硫装置
は、第１隔板とその上方に位置する第２隔板とによって
その内部が第１室と第１室の上方に隣接する第２室と第
２室の上方に隣接する第３室とに区画された密閉槽と、
第２室の周壁に形成された排ガス入口と、第３室に配設
された排ガス出口と、第１隔板に形成された透孔と、そ
の透孔に垂設された排ガス分散管と、第１室と第３室と
を連絡し、その上端が第２隔板表面より上方に位置する
排ガス上昇筒と、排ガス上昇筒の上方に配設され、液体
流下壁とその液体流下壁に排ガス洗浄液を供給する液分
散機構を有する排ガス衝突板と、第２隔板上に滞留する
排ガス洗浄液を排ガス洗浄液槽に移送させる排ガス洗浄
液抜出し配管と、排ガス洗浄液槽の貯留液を排ガス衝突
板に配設されている液分散機構に供給する排ガス洗浄液
供給配管と、排ガス洗浄液供給配管を流通する排ガス洗
浄液の一部を引出し、固液分離装置に移送させる排ガス
洗浄液引出し配管と、この排ガス洗浄液引出し配管を通
って引出された排ガス洗浄液を固液分離する固液分離装
置と、固液分離装置で得られた清澄排ガス洗浄液を貯留
する清澄排ガス洗浄液槽と、清澄排ガス洗浄液槽の貯留
液を排ガス洗浄液槽に移送させる配管を備えたものであ
ることを特徴とする排ガス処理装置が提供される。

【０００７】次に、本発明を図面を参照して説明する。
図１は、本発明の排ガスの処理装置の模式図を示す。こ
の図において、１は排ガス脱硫装置、１’は密閉槽、２
は第１隔板、３は第２隔板、４は天板、５は第１室、６
は第２室、７は第３室、８は排ガス導入ダクト、９は排
ガス分散管、１０は排ガス上昇筒、１１は排ガス導出ダ
クト、１２はミストエリミネータ、１３は排ガス排出
筒、１４は排ガス洗浄液抜出し管、１５は排ガス衝突
板、１６は液分散板、１７、３４、３６、３８、３９は
排ガス洗浄液供給管、２１は冷却除塵塔、２１’は密閉
筒体、２２は排ガス導入ダクト、２３は排ガス冷却液抜
出し管、２５は排ガス冷却液供給管、２６は排ガス冷却
液スプレーノズル、２８は排ガスダクト、２９はミスト
エリミネータ、３１は排ガス洗浄液槽、３２は清澄排ガ
ス洗浄液槽、３３は固液分離装置、３７、４０は排ガス
洗浄液引出し管、４１は清澄排ガス洗浄液移送管、４
２、４３、４６は清澄排ガス洗浄液供給管、５０、５
１、５２は液面調節計、５３は流量計、Ｌ₁は吸収液、
Ｌ₂は排ガス洗浄液、Ｌ₃は排ガス冷却液を各示す。

【０００８】図１に示す排ガス脱硫装置１は、大型の密
閉槽１’から構成され、その槽の内部は、第１隔板２及
びその上方に位置する第２隔板３によって第１室５と第
１室の上方に隣接する第２室６と第２室の上方に隣接す
る第３室７とに区画されている。第３室の上部空間は天
板４によって密閉されている。第１隔板２は水平又はや
や傾斜したものであることができる。第２隔板３は水平
又は傾斜したものであることができ、その傾斜角は特に
制約されない。第１室５の内部には、吸収液Ｌ₁が収容
されている。また、第１室には、撹拌機や、吸収液Ｌ₁
中に酸素を供給する必要がある場合に用いられる酸素含
有ガス噴出ノズル等（図示されず）が配設されている。
第２室６の周壁には排ガス入口が配設され、この入口に
は排ガス導入ダクト８が連結されている。第２室の空間
には特別の装置の配設は特に必要とはされないが、必要
に応じ、吸収液をスプレーするためのスプレーノズル
（図示されず）を配設することもできる。第３室７の上
方に配設された天板４には、排ガス出口が配設され、こ
の出口には排ガス導出ダクト１１が連結されている。ま
た、この排ガス導出ダクト１１には、ミストエリミネー
タ１２を介して排ガス排出筒１３が連結されている。排
ガス出口は周壁に配設することができる。密閉槽１’の
外部には、第３室７の床面を構成する第２隔板３上に滞
留する排ガス洗浄液Ｌ₂を、第３室の排ガス衝突板１５
に配設した液分散機構に循環させるための循環ラインが
配設されている。この循環ラインは、洗浄液抜出し管１
４、洗浄液槽３１、循環ポンプ３５及び洗浄液供給管３
４、３５、３８、１７からなる。

【０００９】第１隔板２には、第１室５と第２室６との
間を連絡する透孔が多数配設され、各透孔にはその先端
が第１室の吸収液Ｌ₁中に延びる排ガス分散管９が垂設
されている。また、第１隔板２及び第２隔板３には、排
ガス上昇筒１０を配設するための開口が配設され、これ
らの開口には、第１室５の上部空間に存在する排ガスを
第３室７に導入させるための排ガス上昇筒１０が連結さ
れている。この場合、排ガス上昇筒１０の上端は第２隔
板の表面より上方に突出し、第２隔板上の洗浄液が第２
隔板上に一定量滞留するようになっている。排ガス上昇
筒の横断面形状は、円形や正方形、長方形等の各種の形
状であることができる。排ガス上昇筒１０の上方には、
排ガス衝突板１５が配設されている。

【００１０】本発明で用いる排ガス衝突板１５は、液体
流下壁とその液体流下壁に洗浄液を供給する液分散機構
を有するものである。この衝突板は、排ガス上昇筒１０
を上昇してきた排ガスをその下面で受け、排ガス中に含
まれる液滴粒子をその下面に液膜として形成させる作用
を有する。また、この衝突板は、液体流下壁とその液体
流下壁に洗浄液を供給する液分散機構を有し、その液体
流下壁の先端から洗浄液を液幕状に流下させる作用を有
する。

【００１１】排ガス衝突板１５の全体形状は特に制約さ
れないが、一般的には、中央部が排ガス衝突面に形成さ
れ、その周縁に液体流下壁を有する下端開口した中空構
造物からなる。排ガス衝突面は平面や曲面、凹凸面等の
種々の面であることができる。液体流下壁面は、液体が
その面に沿って流下し、その先端から下方に流下し得る
面であればよく、平面や曲面、凹凸面等であることがで
きる。液体流下壁を有する衝突板の形状例を示すと、箱
状、中空半球状の他、周縁部よりも中央部が上方に突出
した形状、例えば陣笠形状等であることができる。

【００１２】本発明では、前記排ガス衝突板に対して、
液分散機構を配設する。図２に液分散機構を配設した衝
突板の１つの例について示す。図２において、１５は衝
突板を示し、このものは排ガス衝突部Ａと、その周縁に
形成された液体流下壁Ｂから構成される。また、衝突板
に配設された液分散機構は、衝突板の液体流下壁に洗浄
液を供給するもので、衝突板の中央部下方に開口する液
体供給管１７と、その液体供給管の開口部を包囲する短
筒２０と、その短筒の先端開口に配設した液分散板１６
から構成される。液分散板１６としては、液体を放射状
に噴出又は流出させる構造のものであればよい。図３及
び図４に液分散板の斜視図を示す。

【００１３】図２に示した液分散機構を有する排ガス衝
突板１５に対し、その液体供給管１７を通して排ガス洗
浄液を供給すると、その洗浄液は矢印ａの方向に噴出又
は流出され、衝突板１５の液体流下壁Ｂの内面に受止さ
れ、その内面を下方に流下し、その液体流下壁先端から
矢印ｂ方向に液幕状で流下する。排ガス上昇筒を上昇し
てきた排ガスは、衝突板１５の衝突部Ａの下面に衝突
し、その流路を液体流下壁Ｂに案内されて下方向に変更
し、その液体流下壁先端から下方に向けて形成されてい
る洗浄液の液幕を通過するとともに、その通過に際して
液幕と接触する。そして、排ガス中の粉塵はこの液幕と
の接触により排ガス中から除去される。

【００１４】排ガス脱硫装置１に対しては、その上流側
に、冷却除塵塔２１を配設する。この冷却除塵塔２１
は、密閉筒体２１’と、その天板に連結された排ガス導
入ダクト２２と、密閉筒体の周壁に形成された排ガス導
出口と、密閉筒体の底部に収容された排ガス冷却液Ｌ₃
を密閉筒体の上部に供給する冷却液循環ラインと、冷却
液Ｌ₃をスプレーさせるスプレーノズル２６から構成さ
れる。また、冷却液循環ラインは、冷却液抜出し管２３
と循環ポンプ２４と冷却液供給管２５から構成される。

【００１５】図１に示した装置系を用いて排ガスを処理
するには、排ガスを排ガス導入ダクト２２を介して冷却
除塵塔２１内に導入する。冷却除塵塔２１では、冷却液
Ｌ₃が冷却液抜出し管２３、循環ポンプ２４及び冷却液
供給管２５を通してスプレーノズル２６からスプレーさ
れており、冷却除塵塔２１内に導入された排ガスは、こ
のスプレーされた冷却液粒子と接触し、排ガスの除塵と
ともに、排ガスの冷却増湿が行われる。冷却液供給管２
５を流通する冷却液の一部は冷却液抜出し管２７を通っ
て抜出され、それに応じて補給用冷却液が冷却液補給管
２７’を通して供給される。冷却液としては、水や、吸
収液、アルカリ性水溶液等が用いられる。冷却除塵２１
に供給する排ガス中の粉塵濃度は、通常、３０〜１５０
ｍｇ／Ｎｍ³、ＳＯ₂濃度は、３００〜８００ｐｐｍであ
る。

【００１６】冷却除塵塔２１で処理された排ガスは、そ
の冷却除塵塔２１に連結された排ガスダクト２８、ミス
トエリミネータ２９、排ガス導入ダクト８を介して、排
ガス脱硫装置の密閉槽の第２室６内に導入され、ここか
ら排ガス分散管９を介して第１室５内の吸収液Ｌ₁中に
吹込まれる。吸収液Ｌ₁中に吹込まれた排ガスは気泡と
なって上昇し、その分散管のガス噴出孔より上方には気
泡と吸収液との混合相からなるフロス層が形成される。
排ガスが吸収液中を気泡として上昇する間に排ガス中に
含まれている粉塵や亜硫酸ガス等の汚染物質は吸収液に
捕捉され、排ガス中から除去される。脱硫装置１に導入
される排ガス中の粉塵濃度は、通常、１５０ｍｇ／Ｎｍ
³以下、好ましくは１００ｍｇ／Ｎｍ³以下である。この
ようにして浄化された排ガスは、フロス層から上部空間
に放散され、ここから排ガス上昇筒１０を通って第３室
７に導入される。この第３室内には、液体流下壁と液分
散機構を有する衝突板が配設され、その液分散機構に
は、その床面を形成する第２隔板３の上面に滞留する排
ガス洗浄液Ｌ₂を抜出すための洗浄液抜出し管１４、洗
浄液槽３１、ポンプ３５、洗浄液供給管３４、３８及び
１７を通って循環される洗浄液が供給され、その衝突板
１５の液体流下壁の先端から洗浄液が液幕状に流下して
いる。衝突板１５の下面に衝突した排ガスは、この洗浄
液の流下液幕を通過するが、その際、洗浄液の流下液幕
と接触し、排ガス中に残存している粉塵がこの液幕に捕
捉され、排ガス中から除去される。

【００１７】第３室内の排ガスは第３室の上方に配設さ
れた天板４の開口部に連結された排ガス導出ダクト１１
を通って槽外へ抜出され、ミストエリミネータ１２に導
入され、ここでそのガス中に含まれていた吸収液粒子等
が除去された後、必要に応じ加熱器（図示されず）に入
り、ここでガス中に残存するミストが気化された後、排
ガス排出筒１３を通って大気へ放出される。

【００１８】衝突板１５の液体流下壁先端から液幕状で
流下した洗浄液は、第２隔板３の上面に落下滞留し、こ
こから洗浄液抜出し管１４を通って洗浄液槽３１へ返送
される。

【００１９】排ガス分散管９としては、下端部の周壁面
にガス噴出孔を有するものや、下端がノズル構造に形成
されたもの等の各種のものを用いることができる。図５
に下端部の周壁面にガス噴出孔を有するガス分散管の斜
視図を示す。図５において、９はガス分散管を示し、５
５はその下端部周壁面に形成されたガス噴出孔を示す。

【００２０】排ガス洗浄液槽３１は、第３室の床面を形
成する第２隔板３の上面から移送された洗浄液Ｌ₂を一
時的に貯留させる貯槽としての作用とともに、補給用の
洗浄液の受槽としての作用を示す。補給用の洗浄液は、
洗浄液槽３１に対し、清澄排ガス洗浄液槽３２から配管
４２、ポンプ４３、配管４４、４５を通して供給され
る。

【００２１】衝突板１５に付設された液分散機構やスプ
レーノズル１８に循環される洗浄液の一部は、これを循
環ライン、例えば、洗浄液抜出し管１４や、洗浄液供給
管３６から抜出し、系外へ排出させることができるが、
好ましくは図１に示すように、導管３７を通って吸収液
Ｌ₁中に導入させる。このような操作により、衝突板の
液分散機構に循環される洗浄液の成分組成を常に所定の
範囲に保持し、洗浄液の排ガス中固形分の除去能力を高
く保持させることができる。

【００２２】衝突板１５の液体流下壁から液幕状に流下
させる全洗浄液の量は、排ガス上昇筒１０から上昇する
標準状態に換算された全排ガス１ｍ³／ｈｒ当り、通
常、０．２〜０．８ｋｇ／ｈｒ好ましくは０．２〜０．
３ｋｇ／ｈｒである。このような洗浄液量を衝突板１５
の液体流下壁から液幕状に流下させることにより、排ガ
ス上昇筒１０を上昇する排ガス中に含まれている粉塵を
効果的に除去することができる。排ガス上昇筒１０を上
昇する排ガス中には、冷却除塵塔２１に供給される被処
理排ガス中にもともと含まれていた粉塵の他、吸収液Ｌ
₁に含まれていた石こう等の固体微粒子が含まれるが、
本発明の場合、このような固体微粒子も効果的に除去す
ることができる。

【００２３】再び図１において、排ガス洗浄液槽３１か
らポンプ３５、洗浄液供給管３８を通って排ガス衝突板
１５に配設されている液分散機構に供給する洗浄液の一
部は、洗浄液引出し管４０を通って固液分離装置３３に
導入される。この固液分離装置３３は、固体粒子を液中
から分離除去し得る構造のものであればどのようなもの
でもよく、例えば、シックナーや、遠心分離機、濾過機
等であることができる。

【００２４】固液分離装置３３で得られた清澄な洗浄液
は、配管４１を通って清澄洗浄液槽３２に導入され、貯
留される。この清澄洗浄液槽３２内の貯留液は、配管４
２、ポンプ４３、配管４４、配管４５を通って、洗浄液
槽３１に移送される。

【００２５】補給用の洗浄液は、補給用洗浄液供給管４
７を通って清澄洗浄液槽３２に供給される。

【００２６】清澄洗浄液槽３２内の貯留液は、固体粒子
を実質上含まない清澄なものであるので、必要に応じ、
冷却除塵塔２１で用いられる固体粒子の存在の好ましく
ない冷却液として、配管４６から冷却液補給管２７’を
通して冷却除塵塔２１に対して供給することができる。
また、洗浄液槽３１内に貯留された洗浄液は、粉塵を含
むものであるが、その量は極めて微量であることから、
この洗浄液は、必要に応じ、配管３９からミストエリミ
ネータ１２や、２９の洗浄液として用いることもでき
る。

【００２７】図１に示された液面調節計５０は、洗浄液
槽３１内の貯留液の液面を一定高さに調節するためのも
ので、流量調節バルブ５０’と連動する。液面調節計５
１は、第１室５内の貯留吸収液の液面を一定高さに調節
するためのもので、流量調節バルブ５１’と連動する。
液面調節計５２は、清澄洗浄液槽３２内の貯留液の液面
を一定高さに調節するためのもので、流量調節バルブ５
２’と連動する。流量計５３は、配管４０を流通する洗
浄液量を調節するためのもので、流量調節バルブ５３’
と連動する。

【００２８】第１室５で用いる吸収液Ｌ₁は、亜硫酸ガ
スに反応性を示す各種のものが用いられる。このような
ものとしては、例えば、アルカリ金属化合物、アルカリ
土類金属化合物等のアルカリ性物質を含む溶液やスラリ
ーが用いられ、特に水酸化カルシウムスラリーや、炭酸
カルシウムスラリーが用いられる。また、吸収液として
炭酸カルシウムスラリーや水酸化カルシウムスラリーを
用いる場合、これらのカルシウム化合物は亜硫酸ガスと
反応して亜硫酸カルシウムを形成するが、この場合、吸
収液中に空気や酸素を導入することにより、硫酸カルシ
ウム（石コウ）を得ることができる。

【００２９】排ガス洗浄液としては、液体であればどの
ようなものでも用いることができる。このような洗浄液
は、水、海水等の入手容易な任意の液体を用いることも
できる。特に水の使用は、その液滴粒子が処理した排ガ
ス中に残存しても粉塵とならないので好ましい。

【００３０】

【実施例】次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明
する。 実施例１ 図１に示した構造の排ガス処理装置を用いて、粉塵：１
５０ｍｇ／Ｎｍ³、ＳＯ₂：８００ｖｏｌｐｐｍ、Ｏ₂：
５ｖｏｌ％を含む排煙を冷却除塵塔２１で処理した後、
脱硫装置１で処理した。この場合の脱硫装置条件を示す
と次の通りである。 （１）密閉槽１の直径：３．２ｍ （２）第１室５の高さ：４ｍ （３）第２室６の高さ：２ｍ （４）第３室７の高さ：２．５ｍ （５）排ガス分散管９の直径：４インチ及び本数：１１
０本 （６）排ガス上昇管１０の直径：４１０ｍｍ及び本数：
６本 （７）排ガス衝突板の構造：図２に示した構造のもの （８）第１室５における吸収液の静止液面の高さ：３ｍ 排ガス分散管９としては、図５に示す構造のものを用
い、その下端部周壁面に設けたガス噴出孔５５の位置
は、吸収液面下１８０ｍｍの位置に設定した。また、図
１に示す構造の密閉槽１’の第１室５内には、あらかじ
め、吸収液として、石こう濃度：２０重量％の水スラリ
ー液を高さ３ｍになるように収容させた。

【００３１】次に、あらかじめ冷却除塵塔２１で処理し
た排ガス（ＳＯ₂：８００ｐｐｍ、粉塵：１５０ｍｇ／
Ｎｍ³）を排ガス導入ダクト８から、４０，０００Ｎｍ³
／ｈの供給量で脱硫装置１における第２室６内に供給し
て脱硫処理した。この場合、第１室５内の吸収液の静止
液面下２５００ｍｍの位置に配設した酸素含有ガス噴出
ノズルから空気を２００Ｎｍ³／ｈで噴出させるととも
に、撹拌機を回転させて吸収液の撹拌を行った。

【００３２】また、密閉槽１’の外部には、図１に示す
ように、洗浄液槽３１、清澄洗浄液槽３２及び固液分離
装置（シックナー）３３を配設するとともに、洗浄液補
給管４７を通して洗浄液を供給し、それらの洗浄液槽３
１及び清澄洗浄液槽３２には洗浄液をあらかじめ収容さ
せた。洗浄液槽３１内の洗浄液は、これを図１に示すよ
うに、洗浄液供給管３８及び１７を介して衝突板１５に
配設した液分散機槽に供給し、衝突板の液体流下壁先端
から液幕状に流下させるとともに、第３室７の床面を形
成する第２隔板３上に滞留した洗浄液は、これを洗浄液
抜出し管１４を介して密閉槽外へ抜出し、洗浄液槽３１
に返送した。この場合、洗浄液供給管１７を介して第３
室内の衝突板１５に配設した液分散機構に供給する全洗
浄液量は、排ガス導入ダクト８から供給される排ガス量
１Ｎｍ³／ｈに対し、０．２ｋｇ／ｈの割合であった。
また、洗浄液供給管３８を流通する洗浄液の一部を抜出
し、これをシックナー３３に導入するとともに、このシ
ックナー３３で得られる粉塵を分離した後の清澄な洗浄
液を清澄洗浄液槽３２に配管４１を介して導入し、さら
に、清澄洗浄液槽３２内の清澄洗浄液を配管４２、ポン
プ４３、配管４４及び配管４５を介して洗浄液槽３１に
導入した。

【００３３】前記のようにして排ガスの処理を行った結
果、洗浄液供給管３８を流通する洗浄液中の固体粒子
（このものは、排ガス中にあらかじめ含まれていた粉塵
と、第１室５からの排ガス中に含まれる石こう粒子から
なる）の量は、８００ｍｇ／Ｌ以下であり、また、ミス
トエリミネータ１２を通過した後の排ガス中の粉塵濃度
は２．０ｍｇ／Ｎｍ³であり、ＳＯ₂濃度は２５ｐｐｍで
あった。

【００３４】次に、比較のために、排ガス衝突板の配設
を省略して排ガスの処理を行ったところ、ミストエリミ
ネータ１２を通過した後の排ガス中の粉塵濃度は４．０
ｍｇ／Ｎｍ³と高いものであった。

【００３５】

【発明の効果】本発明によれば、従来法では達成困難な
高除塵率を格別の処理コストの増加を必要とせずに、低
消費動力で容易に得ることができ、その産業的意義は多
大である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の排ガス処理装置系の１例についての模
式図を示す。

【図２】液分散機構を配設した排ガス衝突板の１つの例
についての説明図を示す。

【図３】液分散板の１つの例についての斜視図を示す。

【図４】液分散板の他の例についての斜視図を示す。

【図５】排ガス分散管の１つの例についての斜視図を示
す。

【符号の説明】 １ 脱硫装置 １’ 密閉槽 ２ 第１隔板 ３ 第２隔板 ４ 天板 ５ 第１室 ６ 第２室 ７ 第３室 ８ 排ガス導入ダクト ９ 排ガス分散管 １０ 排ガス上昇筒 １１ 排ガス導出ダクト １２、２９ ミストエリミネータ １３’ 排ガス排出筒 １４ 洗浄液抜出し管 １５ 排ガス衝突板 １６ 液分散板 １７ 洗浄液供給管 ２１ 排ガスの冷却除塵塔 ３１ 排ガス洗浄液槽 ３２ 清澄排ガス洗浄液槽 ３３ 固液分離装置 ４７ 排ガス洗浄液補給管 ５５ ガス噴出孔 Ｌ₁ 吸収液 Ｌ₂ 排ガス洗浄液 Ｌ₃ 排ガス冷却液

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｄ 50/00 ５０１ Ｂ０１Ｄ 50/00 ５０１Ｇ ５０２Ａ ５０２ 53/18 Ｅ 53/18 53/34 ＺＡＢ 53/34 ＺＡＢ

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 粉塵と亜硫酸ガスを含む排ガスを処理す
   る方法において、 （ｉ）排ガスを冷却除塵塔に導入し、噴霧状液滴粒子と
   接触させた後、その冷却除塵塔から抜出すこと、 （ii）冷却除塵塔から抜出された排ガスを、第１隔板と
   その上方に位置する第２隔板とによってその内部が第１
   室と第１室の上方に隣接する第２室と第２室の上方に隣
   接する第３室とに区画された密閉槽におけるその第２室
   に供給すること、 （iii)第２室に供給された排ガスを第１隔板に形成され
   た透孔に垂設された排ガス分散管を通して第１室に収容
   されている吸収液中に吹込むこと、 （iv）第１室の上部空間に存在する排ガスを第１室と第
   ３室との間を連絡し、その上端が第２隔板表面より上方
   に位置する排ガス上昇筒内を上昇させること、 （ｖ）排ガス上昇筒を通して第３室に上昇してきた排ガ
   スをその排ガス上昇筒の上方に配設されている液体流下
   壁と液分散機構を有し、その液体流下壁の先端から排ガ
   ス洗浄液が液幕状に流下している排ガス衝突板に衝突さ
   せるとともに、排ガスをその液幕と接触させること、 （vi）前記液幕と接触させた後の排ガスを第３室に配設
   された排ガス出口から排出させること、 （vii)第３室から排出された排ガスをミストエリミネー
   タに導入し、排ガス中に含まれる液滴粒子を除去した
   後、ミストエリミネータから抜出すこと、 （viii）ミストエリミネータから抜出した排ガスを湿式
   電気集塵処理することなく大気中へ放出させること、 （ix）前記密閉槽内の第２隔板上に滞留する排ガス洗浄
   液を密閉槽外へ抜出し、排ガス洗浄液槽に導入し、貯留
   すること、 （ｘ）排ガス洗浄液槽に貯留された排ガス洗浄液を排ガ
   ス衝突板に配設した液分散機構に供給すること、 （xi）排ガス衝突板に供給する排ガス洗浄液の一部を固
   液分離装置に導入すること、 （xii)固液分離装置で得られた清澄排ガス洗浄液を清澄
   排ガス洗浄液槽に貯留すること、 （xiii）清澄排ガス洗浄液槽の貯留液を排ガス洗浄液槽
   に移送すること、を特徴とする排ガスの処理方法。
2. 【請求項２】 密閉槽内の第３室の上方に排ガス洗浄液
   スプレーノズルを配設し、このスプレーノズルに排ガス
   洗浄液槽に貯留されている排ガス洗浄液を供給し、スプ
   レーさせる請求項１の方法。
3. 【請求項３】 排ガスを冷却除塵する排ガス冷却除塵塔
   と、冷却除塵塔からの排ガスを脱硫するための脱硫装置
   と、脱硫装置から排出された排ガス中の液滴粒子を除去
   するためのミストエリミネータと、ミストエリミネータ
   からの排ガスを大気中へ放出させる排ガス排出筒を備え
   たものであって、前記脱硫装置は、第１隔板とその上方
   に位置する第２隔板とによってその内部が第１室と第１
   室の上方に隣接する第２室と第２室の上方に隣接する第
   ３室とに区画された密閉槽と、第２室の周壁に形成され
   た排ガス入口と、第３室に配設された排ガス出口と、第
   １隔板に形成された透孔と、その透孔に垂設された排ガ
   ス分散管と、第１室と第３室とを連絡し、その上端が第
   ２隔板表面より上方に位置する排ガス上昇筒と、排ガス
   上昇筒の上方に配設され、液体流下壁とその液体流下壁
   に排ガス洗浄液を供給する液分散機構を有する排ガス衝
   突板と、第２隔板上に滞留する排ガス洗浄液を排ガス洗
   浄液槽に移送させる排ガス洗浄液抜出し配管と、排ガス
   洗浄液槽の貯留液を排ガス衝突板に配設されている液分
   散機構に供給する排ガス洗浄液供給配管と、排ガス洗浄
   液供給配管を流通する排ガス洗浄液の一部を引出し、固
   液分離装置に移送させる排ガス洗浄液引出し配管と、こ
   の排ガス洗浄液引出し配管を通って引出された排ガス洗
   浄液を固液分離する固液分離装置と、固液分離装置で得
   られた清澄排ガス洗浄液を貯留する清澄排ガス洗浄液槽
   と、清澄排ガス洗浄液槽の貯留液を排ガス洗浄液槽に移
   送させる配管を備えたものであることを特徴とする排ガ
   ス処理装置。
4. 【請求項４】 密閉槽の第３室の上方に排ガス洗浄液ス
   プレーノズルを配設し、このスプレーノズルと排ガス洗
   浄液槽との間を配管を介して連結させた請求項３の装
   置。