JP3366680B2 - セラミックバルブ用部材及びその製造方法 - Google Patents
セラミックバルブ用部材及びその製造方法Info
- Publication number
- JP3366680B2 JP3366680B2 JP04212993A JP4212993A JP3366680B2 JP 3366680 B2 JP3366680 B2 JP 3366680B2 JP 04212993 A JP04212993 A JP 04212993A JP 4212993 A JP4212993 A JP 4212993A JP 3366680 B2 JP3366680 B2 JP 3366680B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve member
- intermediate layer
- film
- ceramic
- ceramic valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Sliding Valves (AREA)
- Multiple-Way Valves (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、湯水混合栓に用いるに
好適な、グリース等の潤滑剤不要のセラミックバルブ用
部材及びその製造方法に関する。
好適な、グリース等の潤滑剤不要のセラミックバルブ用
部材及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、湯水混合栓に組み込まれるセラミ
ック固定弁や可動弁にはアルミナ部材を使用し、このア
ルミナ部材にグリースを塗布して摺動性を持たせてい
た。しかしこのような部材には、グリース流出による吐
水の汚染や部材の固着（リンキング）等の問題があっ
た。そこで、摺動性を有する被膜を基体上に形成する技
術が開発された。例えば特開平３−１７２６８３号、特
開平３−２２３１９０号の各公報には、摺動面に非晶質
カーボン膜を形成したセラミック製摺動部材が記載され
ている。
ック固定弁や可動弁にはアルミナ部材を使用し、このア
ルミナ部材にグリースを塗布して摺動性を持たせてい
た。しかしこのような部材には、グリース流出による吐
水の汚染や部材の固着（リンキング）等の問題があっ
た。そこで、摺動性を有する被膜を基体上に形成する技
術が開発された。例えば特開平３−１７２６８３号、特
開平３−２２３１９０号の各公報には、摺動面に非晶質
カーボン膜を形成したセラミック製摺動部材が記載され
ている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記各公報の
技術によるセラミック製摺動部材は、湯水による温度変
化の反復、及び高温高湿の厳しい使用条件下では、汎用
のアルミナ基体では非晶質カーボン膜が剥離してしまう
ため、湯水混合栓の摺動部材として使用することは困難
であった。また一方、炭化ケイ素、窒化ケイ素、サイア
ロン（Ｓi−Ａl−Ｏ−Ｎ系の４元化合物の総称）等のＳ
i系非酸化物を用いるには、量産性が悪くかつ高コスト
であるという問題があった。
技術によるセラミック製摺動部材は、湯水による温度変
化の反復、及び高温高湿の厳しい使用条件下では、汎用
のアルミナ基体では非晶質カーボン膜が剥離してしまう
ため、湯水混合栓の摺動部材として使用することは困難
であった。また一方、炭化ケイ素、窒化ケイ素、サイア
ロン（Ｓi−Ａl−Ｏ−Ｎ系の４元化合物の総称）等のＳ
i系非酸化物を用いるには、量産性が悪くかつ高コスト
であるという問題があった。
【０００４】本発明は、従来の技術が有するこのような
問題点を解決するためになされたものであり、その目的
とするところは、上記の厳しい使用条件下においても基
体との密着性が良好であるため、湯水混合栓の摺動部に
使用するに好適なセラミックバルブ用部材及びその製造
方法を提供することにある。
問題点を解決するためになされたものであり、その目的
とするところは、上記の厳しい使用条件下においても基
体との密着性が良好であるため、湯水混合栓の摺動部に
使用するに好適なセラミックバルブ用部材及びその製造
方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の湯水混合栓摺動部に用いるセラミックバル
ブ用部材は、汎用のアルミナ製セラミック基体上に、中
間層として炭化ケイ素膜又は窒化ケイ素膜を設け、更に
この上に、非晶質カーボン膜を設けた。
め、本発明の湯水混合栓摺動部に用いるセラミックバル
ブ用部材は、汎用のアルミナ製セラミック基体上に、中
間層として炭化ケイ素膜又は窒化ケイ素膜を設け、更に
この上に、非晶質カーボン膜を設けた。
【０００６】
【作用】本発明のセラミックバルブ用部材は、炭化ケイ
素膜又は窒化ケイ素膜を中間層として存在させることに
よって、表層の非晶質カーボン膜とアルミナ基体との密
着性が高められている。
素膜又は窒化ケイ素膜を中間層として存在させることに
よって、表層の非晶質カーボン膜とアルミナ基体との密
着性が高められている。
【０００７】
【実施例】以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。図１は本発明に基づくセラミックバルブ用部
材の一例を示す斜視図であり、図２は、図１のＡ−Ａ線
の部分断面図である。図１において、固定弁１はやや厚
みのある円盤状の形態を有しており、その平面部には水
流入孔２、湯流入孔３及び混合水流出用弁孔４が貫通し
て設けてある。この固定弁１は、上記各孔にそれぞれ対
応する、開口部５、６及び７を有するケース８の底部に
配置されている。
説明する。図１は本発明に基づくセラミックバルブ用部
材の一例を示す斜視図であり、図２は、図１のＡ−Ａ線
の部分断面図である。図１において、固定弁１はやや厚
みのある円盤状の形態を有しており、その平面部には水
流入孔２、湯流入孔３及び混合水流出用弁孔４が貫通し
て設けてある。この固定弁１は、上記各孔にそれぞれ対
応する、開口部５、６及び７を有するケース８の底部に
配置されている。
【０００８】また可動弁９には、偏心させた空洞部１０
が穿設してあり、この空洞部１０の底部には、図示しな
い混合水用弁孔及び湯水用弁孔が貫通して設けてある。
この可動弁９は固定弁１上に圧着した状態でケース８内
に組み込まれており、このケース８は更に前記湯水混合
栓内に組み込まれている。また上記可動弁９は、図示し
ない温度調節レバーと連動する構成としてある。
が穿設してあり、この空洞部１０の底部には、図示しな
い混合水用弁孔及び湯水用弁孔が貫通して設けてある。
この可動弁９は固定弁１上に圧着した状態でケース８内
に組み込まれており、このケース８は更に前記湯水混合
栓内に組み込まれている。また上記可動弁９は、図示し
ない温度調節レバーと連動する構成としてある。
【０００９】湯水混合栓の前記温度調節レバーを作動さ
せると、このレバーの動きは可動弁９に伝達され、可動
弁９が固定弁１上を摺動して前記各孔の開度を変化させ
ることができる。従って、適温の湯の流出、あるいは給
湯の停止を自在に行うことが可能である。
せると、このレバーの動きは可動弁９に伝達され、可動
弁９が固定弁１上を摺動して前記各孔の開度を変化させ
ることができる。従って、適温の湯の流出、あるいは給
湯の停止を自在に行うことが可能である。
【００１０】前記固定弁１及び可動弁９に使用されるセ
ラミックバルブ用部材は、図２に示す層を構成してい
る。すなわち、このセラミックバルブ用部材１１は、ア
ルミナ製のセラミック基体１２の上に、非晶質のＳi系
非酸化物製の中間層１３が形成されており、更にこの中
間層１３の上には、非晶質カーボン製の表層１４が設け
られている。
ラミックバルブ用部材は、図２に示す層を構成してい
る。すなわち、このセラミックバルブ用部材１１は、ア
ルミナ製のセラミック基体１２の上に、非晶質のＳi系
非酸化物製の中間層１３が形成されており、更にこの中
間層１３の上には、非晶質カーボン製の表層１４が設け
られている。
【００１１】中間層１３の素材であるＳi系非酸化物の
例としては、既述の炭化ケイ素、窒化ケイ素、サイアロ
ン等が挙げられる。この中間層１３の厚さは、０．１〜
１０μｍ、さらには０．４〜１μｍとすることが好まし
い。この厚さが０．１μｍ未満では、中間層１３が剥離
することがあり、一方、１０μｍを超えるとコストの増
加原因となる。
例としては、既述の炭化ケイ素、窒化ケイ素、サイアロ
ン等が挙げられる。この中間層１３の厚さは、０．１〜
１０μｍ、さらには０．４〜１μｍとすることが好まし
い。この厚さが０．１μｍ未満では、中間層１３が剥離
することがあり、一方、１０μｍを超えるとコストの増
加原因となる。
【００１２】また、表層１４を形成する非晶質カーボン
膜は、ｉ−ｃコートとも呼ばれるダイヤモンド状炭素を
被膜化したものであり、摩擦係数が非常に低く、また高
い硬度を有するため、摺動部に用いるのに好適な部材で
ある。この表層１４の厚さは、０．１〜１０μｍ、さら
には０．５〜２μｍとすることが好ましい。この厚さが
０．１μｍ未満では摩耗によって消失してしまうことが
あり、一方、１０μｍを超えるとコストの増加原因とな
る。
膜は、ｉ−ｃコートとも呼ばれるダイヤモンド状炭素を
被膜化したものであり、摩擦係数が非常に低く、また高
い硬度を有するため、摺動部に用いるのに好適な部材で
ある。この表層１４の厚さは、０．１〜１０μｍ、さら
には０．５〜２μｍとすることが好ましい。この厚さが
０．１μｍ未満では摩耗によって消失してしまうことが
あり、一方、１０μｍを超えるとコストの増加原因とな
る。
【００１３】本発明に基づくセラミックバルブ用部材の
製造方法の例を以下に説明する。先ず、アルミナ製のセ
ラミック基体１２上に、気相成長法により前記Ｓi系非
酸化物の非晶質膜（中間層１３）を形成する。この気相
成長法の例としては、プラズマＣＶＤ法、イオンプレー
ティング、プラズマ励起スパッタ法等のプラズマ等を用
いた熱非平衡プロセスが挙げられる。
製造方法の例を以下に説明する。先ず、アルミナ製のセ
ラミック基体１２上に、気相成長法により前記Ｓi系非
酸化物の非晶質膜（中間層１３）を形成する。この気相
成長法の例としては、プラズマＣＶＤ法、イオンプレー
ティング、プラズマ励起スパッタ法等のプラズマ等を用
いた熱非平衡プロセスが挙げられる。
【００１４】上記中間層１３形成時の温度は、少なくと
も５００℃以上であることが必要であり、好ましくは７
００〜９００℃である。このように５００℃以上の温度
条件で中間層１３を形成すると、セラミック基体１２と
の密着性が良好となり、また適度な表面粗さ（Ｒａ）に
調製することができるため、表層１４との密着性を高め
ることができる。しかし、この温度が５００℃未満の場
合には、アルミナ基体１２と中間層１３との密着力が低
くなり、この中間層１３上に形成した表層１４のスクラ
ッチによる剥離や高温水側部分の剥離が生じやすくな
る。
も５００℃以上であることが必要であり、好ましくは７
００〜９００℃である。このように５００℃以上の温度
条件で中間層１３を形成すると、セラミック基体１２と
の密着性が良好となり、また適度な表面粗さ（Ｒａ）に
調製することができるため、表層１４との密着性を高め
ることができる。しかし、この温度が５００℃未満の場
合には、アルミナ基体１２と中間層１３との密着力が低
くなり、この中間層１３上に形成した表層１４のスクラ
ッチによる剥離や高温水側部分の剥離が生じやすくな
る。
【００１５】上記中間層１３のＲａは０．３μｍ以下、
更には０．１〜０．２５μｍであることが好ましい。こ
のＲａが０．３μｍを超えるとセラミック弁としたとき
に、止水性能が低下することがある。なお、Ｒａは東京
精密（株）製の接触型表面粗さ計を用いて測定した。
更には０．１〜０．２５μｍであることが好ましい。こ
のＲａが０．３μｍを超えるとセラミック弁としたとき
に、止水性能が低下することがある。なお、Ｒａは東京
精密（株）製の接触型表面粗さ計を用いて測定した。
【００１６】次に、中間層１３の上に非晶質カーボン膜
である表層１４を形成する。この表層１４も同じく前記
気相成長法により形成する。このとき、後述のスキャン
・スクラッチ・テスト（ＳＳＴ）による表層１４のスク
ラッチ強度（密着力）を、中間層１３を用いない場合の
１．５倍以上とすることが好ましい。
である表層１４を形成する。この表層１４も同じく前記
気相成長法により形成する。このとき、後述のスキャン
・スクラッチ・テスト（ＳＳＴ）による表層１４のスク
ラッチ強度（密着力）を、中間層１３を用いない場合の
１．５倍以上とすることが好ましい。
【００１７】上記ＳＳＴの方法を以下に説明する。この
ＳＳＴのための装置は、平面上を左右に振幅することの
できる検出部、この検出部から斜め下方に向けて伸びる
アーム、及びこのアームの先端部に取り付けたスタイラ
ス（針）からなっている。この装置を使用してスクラッ
チ強度を測定するには、先ず基盤上に載置したセラミッ
クバルブ用部材１１の表面に上記スタイラスを押し当
て、上記検出部により負荷を掛けながら、セラミックバ
ルブ用部材１１表面と平行にスタイラスを強制振動させ
る。
ＳＳＴのための装置は、平面上を左右に振幅することの
できる検出部、この検出部から斜め下方に向けて伸びる
アーム、及びこのアームの先端部に取り付けたスタイラ
ス（針）からなっている。この装置を使用してスクラッ
チ強度を測定するには、先ず基盤上に載置したセラミッ
クバルブ用部材１１の表面に上記スタイラスを押し当
て、上記検出部により負荷を掛けながら、セラミックバ
ルブ用部材１１表面と平行にスタイラスを強制振動させ
る。
【００１８】上記強制振動によって、スタイラスにはセ
ラミックバルブ用部材１１との摩擦力と上記アームから
の復元力とが作用する。このため、上記検出部が振幅最
大点から戻り始めたときに、スタイラスは摩擦力の分だ
け遅れて検出部の動きに追随する。この検出部とスタイ
ラスとの動きの差を電圧として検出する。その検出され
る電圧を記録し、電圧変化から剥離状態を把握し、その
電圧変化時の負荷値（ｇ）をスクラッチ強度とする。な
お、本実施例においては直径５０μｍのスタイラスを使
用し、検出部の振動速度２０μｍ／秒、振幅１００μｍ
の条件で測定を行った。
ラミックバルブ用部材１１との摩擦力と上記アームから
の復元力とが作用する。このため、上記検出部が振幅最
大点から戻り始めたときに、スタイラスは摩擦力の分だ
け遅れて検出部の動きに追随する。この検出部とスタイ
ラスとの動きの差を電圧として検出する。その検出され
る電圧を記録し、電圧変化から剥離状態を把握し、その
電圧変化時の負荷値（ｇ）をスクラッチ強度とする。な
お、本実施例においては直径５０μｍのスタイラスを使
用し、検出部の振動速度２０μｍ／秒、振幅１００μｍ
の条件で測定を行った。
【００１９】また、非晶質カーボン膜の硬さを、マイク
ロビッカース計を用いて荷重２０ｇで測定したところ、
非晶質カーボン膜の硬さは、中間層１３の影響を受け
ず、１８００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2程度であった。
ロビッカース計を用いて荷重２０ｇで測定したところ、
非晶質カーボン膜の硬さは、中間層１３の影響を受け
ず、１８００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2程度であった。
【００２０】本発明に基づく実施例を更に詳細に説明す
る。実施例１ 純度９７％のアルミナ基体１２上に、８００℃の温度条
件で、プラズマＣＶＤ法により非晶質の炭化ケイ素製中
間層１３を１μｍ厚に形成した。そして、この中間層１
３の上に、非晶質カーボン製の表層１４を同じくプラズ
マＣＶＤ法によって形成し、セラミックバルブ用部材と
した。上記アルミナ基体１２のＲａは０．１μｍ、表層
１４のＲａは０．２５μｍであったため、差し引きした
表面粗さＲａの劣化は０．１５μｍとなった。また、こ
の表層１４の前記スクラッチ強度は９０ｇであり、中間
層１３のない比較用部材（スクラッチ強度２５ｇ）と比
較した密着力は３．６倍であった。この内容を下記表１
にも記載した。
る。実施例１ 純度９７％のアルミナ基体１２上に、８００℃の温度条
件で、プラズマＣＶＤ法により非晶質の炭化ケイ素製中
間層１３を１μｍ厚に形成した。そして、この中間層１
３の上に、非晶質カーボン製の表層１４を同じくプラズ
マＣＶＤ法によって形成し、セラミックバルブ用部材と
した。上記アルミナ基体１２のＲａは０．１μｍ、表層
１４のＲａは０．２５μｍであったため、差し引きした
表面粗さＲａの劣化は０．１５μｍとなった。また、こ
の表層１４の前記スクラッチ強度は９０ｇであり、中間
層１３のない比較用部材（スクラッチ強度２５ｇ）と比
較した密着力は３．６倍であった。この内容を下記表１
にも記載した。
【００２１】
【表１】
【００２２】実施例２、３及び比較例１〜４
中間層１３の素材、膜厚、形成温度を代えた以外は実施
例１と同様にして実施例２及び３のセラミックバルブ用
部材を形成した。これらの詳細は表１に示した。また、
比較例に関しては、比較例１は中間層１３を形成せず、
比較例４は金属Ｓiを素材とした中間層１３をプラズマ
ＣＶＤ法の代りにプラズマ励起スパッタ法で形成してい
るが、その他は実施例２、３と同様にしてセラミックバ
ルブ用部材を形成した。これらの詳細はを表２に示し
た。
例１と同様にして実施例２及び３のセラミックバルブ用
部材を形成した。これらの詳細は表１に示した。また、
比較例に関しては、比較例１は中間層１３を形成せず、
比較例４は金属Ｓiを素材とした中間層１３をプラズマ
ＣＶＤ法の代りにプラズマ励起スパッタ法で形成してい
るが、その他は実施例２、３と同様にしてセラミックバ
ルブ用部材を形成した。これらの詳細はを表２に示し
た。
【００２３】
【表２】
【００２４】表１から明らかなように、各実施例で作成
したセラミックバルブ用部材は、表層１４の接着力が大
きく、中間層１３を形成しない場合に比較して約２倍以
上となった。また、表２に示すように、比較例で作成し
たセラミックバルブ用部材は、中間層１３の形成温度が
低い場合（比較例２）、あるいは中間層１３の素材がセ
ラミックでない場合（比較例４）については、中間層１
３を用いないときよりも密着力が低下してしまった。更
に、上記形成温度を１５００℃とした場合（比較例３）
は、アルミナ基体１２が熱変形して使用不可能となっ
た。
したセラミックバルブ用部材は、表層１４の接着力が大
きく、中間層１３を形成しない場合に比較して約２倍以
上となった。また、表２に示すように、比較例で作成し
たセラミックバルブ用部材は、中間層１３の形成温度が
低い場合（比較例２）、あるいは中間層１３の素材がセ
ラミックでない場合（比較例４）については、中間層１
３を用いないときよりも密着力が低下してしまった。更
に、上記形成温度を１５００℃とした場合（比較例３）
は、アルミナ基体１２が熱変形して使用不可能となっ
た。
【００２５】次に、上記実施例１〜３及び比較例１〜４
で作成したセラミックバルブ用部材を実際の湯水混合栓
に組み込んで試験した。その結果、比較例３の部材に関
しては、初期より止水することができなかった。残りの
部材については、「止水→水だし→止水→湯出し→止
水」のサイクルを５万回繰り返した後の漏水の有無を調
べた。その結果、実施例１〜３で作成した部材を使用し
たものに関しては漏水は全くなかった。一方、比較例
１、２、４の部材については漏水していた。
で作成したセラミックバルブ用部材を実際の湯水混合栓
に組み込んで試験した。その結果、比較例３の部材に関
しては、初期より止水することができなかった。残りの
部材については、「止水→水だし→止水→湯出し→止
水」のサイクルを５万回繰り返した後の漏水の有無を調
べた。その結果、実施例１〜３で作成した部材を使用し
たものに関しては漏水は全くなかった。一方、比較例
１、２、４の部材については漏水していた。
【００２６】試験後の部材を目視で確認したところ、上
記各比較例の部材の表層１４は高温水側に剥離が生じて
おり、これが漏水の原因となっていることが分った。一
方、実施例１〜３の部材については前記サイクルを合計
３０万回まで繰り返した。そして試験後の部材を目視で
確認したが、いずれの部材も高温水側の剥離、及びスク
ラッチ傷による剥離は生じていなかった。
記各比較例の部材の表層１４は高温水側に剥離が生じて
おり、これが漏水の原因となっていることが分った。一
方、実施例１〜３の部材については前記サイクルを合計
３０万回まで繰り返した。そして試験後の部材を目視で
確認したが、いずれの部材も高温水側の剥離、及びスク
ラッチ傷による剥離は生じていなかった。
【００２７】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明のセラミ
ックバルブ用部材は中間層として炭化ケイ素膜又は窒化
ケイ素膜を形成しているため、アルミナ基体と非晶質カ
ーボン膜製の表層との密着力が増大する。また、中間層
の厚さを０．１〜１０μｍとすれば、中間層自身が剥離
することがないため、表層と基体との密着力が安定す
る。更に、表層の厚さを０．１〜１０μｍとすれば表層
の摩耗による消失が生じにくくなる。
ックバルブ用部材は中間層として炭化ケイ素膜又は窒化
ケイ素膜を形成しているため、アルミナ基体と非晶質カ
ーボン膜製の表層との密着力が増大する。また、中間層
の厚さを０．１〜１０μｍとすれば、中間層自身が剥離
することがないため、表層と基体との密着力が安定す
る。更に、表層の厚さを０．１〜１０μｍとすれば表層
の摩耗による消失が生じにくくなる。
【００２８】また、本発明の製造方法によれば、前記中
間層としての炭化ケイ素又は窒化ケイ素の非晶質膜を、
少なくとも５００℃以上の温度条件で気相成長法により
形成するため、セラミック基体との密着性が良好とな
る。
間層としての炭化ケイ素又は窒化ケイ素の非晶質膜を、
少なくとも５００℃以上の温度条件で気相成長法により
形成するため、セラミック基体との密着性が良好とな
る。
【図１】本発明に基づくセラミックバルブ用部材の一例
を示す斜視図
を示す斜視図
【図２】図１のＡ−Ａ線における部分断面図
１１…セラミックバルブ用部材、１２…アルミナ基体、
１３…中間層、１４…表層。
１３…中間層、１４…表層。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 岡本 修
福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番
１号 東陶機器株式会社内
(72)発明者 斎藤 恭寛
京都市南区久世殿城町575番地 日本ア
イ・ティ・エフ株式会社内
(72)発明者 今井 修
京都市南区久世殿城町575番地 日本ア
イ・ティ・エフ株式会社内
(56)参考文献 特開 平３−223190（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−311569（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−154634（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C04B 41/80 - 41/91
Claims (3)
- 【請求項１】 湯水混合栓の摺動部に用いるセラミック
バルブ用部材であって、このセラミックバルブ部材は、
アルミナ製のセラミック基体上に、中間層としての炭化
ケイ素膜又は窒化ケイ素膜と、表層としての非晶質カー
ボン膜とが、この順に積層されていることを特徴とする
セラミックバルブ用部材。 - 【請求項２】 前記炭化ケイ素膜又は窒化ケイ素膜の厚
さは０．１乃至１０μｍであり、前記非晶質カーボン膜
の厚さは０．１乃至１０μｍであり、かつこの非晶質カ
ーボン膜のビッカース硬さは１５００Ｋｇ／ｍｍ２以上
であることを特徴とする請求項１記載のセラミックバル
ブ用部材。 - 【請求項３】 アルミナ製のセラミック基体上に、中間
層としての炭化ケイ素又は窒化ケイ素の非晶質膜を、少
なくとも５００℃以上の温度条件で気相成長法により形
成し、更にこの中間層の上に、表層としての非晶質カー
ボン膜を、同じく気相成長法により形成することを特徴
とするセラミックバルブ用部材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04212993A JP3366680B2 (ja) | 1993-02-05 | 1993-02-05 | セラミックバルブ用部材及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04212993A JP3366680B2 (ja) | 1993-02-05 | 1993-02-05 | セラミックバルブ用部材及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06227882A JPH06227882A (ja) | 1994-08-16 |
| JP3366680B2 true JP3366680B2 (ja) | 2003-01-14 |
Family
ID=12627334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04212993A Expired - Lifetime JP3366680B2 (ja) | 1993-02-05 | 1993-02-05 | セラミックバルブ用部材及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3366680B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1089506A (ja) * | 1996-07-25 | 1998-04-10 | Citizen Watch Co Ltd | 混合水栓部材およびその混合水栓部材への被膜形成方法 |
| US8281812B2 (en) * | 2004-03-05 | 2012-10-09 | Waters Technologies Corporation | Valve with low friction coating |
| JP4638181B2 (ja) * | 2004-06-28 | 2011-02-23 | 京セラ株式会社 | 摺動部材、ディスクバルブ及びそれを用いた混合栓 |
| US8919371B2 (en) | 2009-07-29 | 2014-12-30 | Waters Technologies Corporation | Rotary shear injector valve with coated stator surface |
| JP6213889B2 (ja) * | 2013-04-09 | 2017-10-18 | Toto株式会社 | 水栓金具 |
| JP6331222B2 (ja) * | 2013-09-26 | 2018-05-30 | Toto株式会社 | 水まわり用金属部材 |
-
1993
- 1993-02-05 JP JP04212993A patent/JP3366680B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06227882A (ja) | 1994-08-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3217696B2 (ja) | ディスクバルブ | |
| JP3057077B1 (ja) | 樹脂成形用金型および樹脂成形用金型への硬質被膜形成方法 | |
| JP3366680B2 (ja) | セラミックバルブ用部材及びその製造方法 | |
| JP4373216B2 (ja) | ガラスセラミックプレート、それらから構成されたホットプレート、およびそれらの製造方法 | |
| JPH04165170A (ja) | 水栓バルブ部材 | |
| US8349468B2 (en) | Metal material for parts of casting machine, molten aluminum alloy-contact member | |
| JPH1089506A (ja) | 混合水栓部材およびその混合水栓部材への被膜形成方法 | |
| JPH08190710A (ja) | 磁気ヘッド | |
| Kleer et al. | Effect of process parameters on the residual stresses and the wear behavior of aluminum nitride physical vapor deposition coatings | |
| Hirata et al. | Adhesion properties of CVD diamond film on binder-less sintered tungsten carbide prepared by the spark sintering process | |
| JPH07331414A (ja) | 耐摩耗性膜 | |
| JPH03223190A (ja) | セラミック製摺動部構造 | |
| Felde et al. | Deposition of alumina coatings on monocrystalline diamonds by sol–gel techniques | |
| JP3171583B2 (ja) | 樹脂成形用金型および樹脂成形用金型への硬質被膜形成方法 | |
| Lin et al. | The effect of the substrate bias voltage on the mechanical and corrosion properties of chromium carbide thin films by filtered cathodic vacuum arc deposition | |
| JPH09173995A (ja) | スクレーパ | |
| JPH03172683A (ja) | セラミック製摺動部材 | |
| JPH07907B2 (ja) | 水栓バルブ部材及びその製造方法 | |
| JPH08247318A (ja) | 水栓用バルブ部材 | |
| JP3393715B2 (ja) | ディスクバルブ | |
| JPH04276066A (ja) | スパッタリング装置 | |
| JPH0312378A (ja) | 被覆構造材料 | |
| JP2004183699A (ja) | 温水栓バルブおよびその製造方法 | |
| JPH10101463A (ja) | 硬質カーボン膜形成摺動セラミック材 | |
| JPH06101772A (ja) | 水栓バルブ部材 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20021022 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071101 Year of fee payment: 5 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071101 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081101 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081101 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091101 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101101 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111101 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111101 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121101 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131101 Year of fee payment: 11 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131101 Year of fee payment: 11 |