JP3348744B2 - ノズルプレート製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、インクが噴射されるノ
ズルが形成される基板と、基板の一面に形成された撥水
性膜とを有するノズルプレートの製造方法に関するもの
である。
ズルが形成される基板と、基板の一面に形成された撥水
性膜とを有するノズルプレートの製造方法に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】インクを噴射するヘッドでは、ノズルの
周囲表面にインクの濡れができるとインク滴の飛翔方向
にズレが生じたり、さらに濡れがひどくなるとインク滴
が飛ばないといった問題がおきる。このような問題に対
して、特開昭５５−６５５６４号公報あるいは特開平２
−５５１４０号公報には、ノズルが形成されたノズルプ
レートの表面に撥水性膜を設けて濡れが生じるのを抑え
るようにした技術が示されている。
周囲表面にインクの濡れができるとインク滴の飛翔方向
にズレが生じたり、さらに濡れがひどくなるとインク滴
が飛ばないといった問題がおきる。このような問題に対
して、特開昭５５−６５５６４号公報あるいは特開平２
−５５１４０号公報には、ノズルが形成されたノズルプ
レートの表面に撥水性膜を設けて濡れが生じるのを抑え
るようにした技術が示されている。
【０００３】ところが、プレートにノズルを形成した
後、プレートの表面に撥水性膜を塗布すると、撥水性膜
の一部がノズル内部に不均一に回り込んだり、またはノ
ズルを塞いでしまったりする。その結果、ノズルで形成
されるインクのメニスカスがノズル毎に異なって、イン
クの噴射タイミングにばらつきが生じたり、インクが噴
射しないと言った不都合が生じる。
後、プレートの表面に撥水性膜を塗布すると、撥水性膜
の一部がノズル内部に不均一に回り込んだり、またはノ
ズルを塞いでしまったりする。その結果、ノズルで形成
されるインクのメニスカスがノズル毎に異なって、イン
クの噴射タイミングにばらつきが生じたり、インクが噴
射しないと言った不都合が生じる。
【０００４】このため、ノズルの内部に被覆材を完全に
埋め込んだ後、ノズルプレートの表面に撥水性膜を施す
ことも考えられているが、ノズルの内部に被覆材を完全
に埋め込むことが非常に難しく、実用的でない。
埋め込んだ後、ノズルプレートの表面に撥水性膜を施す
ことも考えられているが、ノズルの内部に被覆材を完全
に埋め込むことが非常に難しく、実用的でない。
【０００５】このような背景から、特開平２−１８７３
４２号公報には、インクジェットプリンタのノズルを、
ノズルプレートに撥水性膜を施した後、ノズルプレート
の基板と撥水性膜とをエキシマレーザ等によって同時に
加工して作製する方法が記載されている。このノズルプ
レートの作製方法においては、ノズルプレートには、ド
ライフィルム（東京応化製ＳＥ−３２０）が用いられ、
撥水性膜には、ポリイミドフィルムが用いられている。
高分子材料がエキシマレーザビームで加工される時、ア
ブレーション加工が行われる。このアブレーションに関
するメカニズムはアメリカン・ケミカル・ソサエティ発
行のケミカル・レビュー、１９８９年、ｖｏｌ．８９，
Ｎｏ．６に記載されており、その内容を紹介すると、図
５の（ａ）〜（ｃ）の３工程からなっている。まず、最
初に（ａ）で高分子材料９がマスク５を透過したエキシ
マレーザビーム６を吸収し、次に（ｂ）で高分子材料９
の分子結合が切られ、（ｃ）で結合が切られた分子、原
子が分解、飛散するものである。
４２号公報には、インクジェットプリンタのノズルを、
ノズルプレートに撥水性膜を施した後、ノズルプレート
の基板と撥水性膜とをエキシマレーザ等によって同時に
加工して作製する方法が記載されている。このノズルプ
レートの作製方法においては、ノズルプレートには、ド
ライフィルム（東京応化製ＳＥ−３２０）が用いられ、
撥水性膜には、ポリイミドフィルムが用いられている。
高分子材料がエキシマレーザビームで加工される時、ア
ブレーション加工が行われる。このアブレーションに関
するメカニズムはアメリカン・ケミカル・ソサエティ発
行のケミカル・レビュー、１９８９年、ｖｏｌ．８９，
Ｎｏ．６に記載されており、その内容を紹介すると、図
５の（ａ）〜（ｃ）の３工程からなっている。まず、最
初に（ａ）で高分子材料９がマスク５を透過したエキシ
マレーザビーム６を吸収し、次に（ｂ）で高分子材料９
の分子結合が切られ、（ｃ）で結合が切られた分子、原
子が分解、飛散するものである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】一般的に、撥水性を向
上するためには、フッ素系またはシリコン系の撥水膜が
用いられる。しかしながら、撥水性膜として、フッ素系
またはシリコン系が用いられると、レーザ加工性は著し
く悪くなる。これは、フッ素系やシリコン系の材質の撥
水性膜は、紫外線用レーザであるエキシマレーザ（例え
ば、ＡｒＦ＝１９８ｎｍ，ＫｒＦ＝２４８ｎｍ，ＸｅＫ
ｒ＝３０８ｎｍ）を吸収しないので、エキシマレーザで
は加工されなく、上述したプレートの分子、原子の分
解、飛散によるエネルギによって加工されるからであ
る。従って、撥水性膜の加工が良好に行なわれなく、バ
リが残って、インク滴の飛翔方向にばらつきが生じて、
印字品質が悪くなる問題があった。
上するためには、フッ素系またはシリコン系の撥水膜が
用いられる。しかしながら、撥水性膜として、フッ素系
またはシリコン系が用いられると、レーザ加工性は著し
く悪くなる。これは、フッ素系やシリコン系の材質の撥
水性膜は、紫外線用レーザであるエキシマレーザ（例え
ば、ＡｒＦ＝１９８ｎｍ，ＫｒＦ＝２４８ｎｍ，ＸｅＫ
ｒ＝３０８ｎｍ）を吸収しないので、エキシマレーザで
は加工されなく、上述したプレートの分子、原子の分
解、飛散によるエネルギによって加工されるからであ
る。従って、撥水性膜の加工が良好に行なわれなく、バ
リが残って、インク滴の飛翔方向にばらつきが生じて、
印字品質が悪くなる問題があった。
【０００７】また、プレス加工やドリル加工してノズル
を形成するときには、フッ素系またはシリコン系以外の
撥水性膜においても、ノズル形成時にバリが残り同様の
問題があった。
を形成するときには、フッ素系またはシリコン系以外の
撥水性膜においても、ノズル形成時にバリが残り同様の
問題があった。
【０００８】本発明は、上述した問題点を解決するため
になされたものであり、撥水性膜のバリの無いノズルプ
レートの製造方法を提供することを目的とする。
になされたものであり、撥水性膜のバリの無いノズルプ
レートの製造方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明では、インクが噴射されるノズルが形成される
基板と、前記基板のノズルが形成される位置の周囲に形
成された撥水性膜とを有するノズルプレートの製造方法
であって、前記基板にＦＥＰ樹脂又はＰＴＦＥ樹脂から
なる撥水性膜を形成する工程と、その基板及び撥水性膜
にエキシマレーザでの穴明け加工によりノズルを形成す
る工程と、そのノズルを形成した後、所定温度で所定時
間前記撥水性膜を熱処理する工程とを有し、前記所定温
度をＴ、前記所定時間をｔとしたとき、前記熱処理は、
前記ＦＥＰ樹脂又はＰＴＦＥ樹脂の溶融温度＋１５≦Ｔ
≦前記ＦＥＰ樹脂又はＰＴＦＥ樹脂の溶融温度＋７０
（度）、及び５≦ｔ≦１００（分）を満たし、さらに−
２ｔ＋４０≦Ｔ≦−ｔ／３＋８０の関係を満たす条件で
行われることを特徴とする。
に本発明では、インクが噴射されるノズルが形成される
基板と、前記基板のノズルが形成される位置の周囲に形
成された撥水性膜とを有するノズルプレートの製造方法
であって、前記基板にＦＥＰ樹脂又はＰＴＦＥ樹脂から
なる撥水性膜を形成する工程と、その基板及び撥水性膜
にエキシマレーザでの穴明け加工によりノズルを形成す
る工程と、そのノズルを形成した後、所定温度で所定時
間前記撥水性膜を熱処理する工程とを有し、前記所定温
度をＴ、前記所定時間をｔとしたとき、前記熱処理は、
前記ＦＥＰ樹脂又はＰＴＦＥ樹脂の溶融温度＋１５≦Ｔ
≦前記ＦＥＰ樹脂又はＰＴＦＥ樹脂の溶融温度＋７０
（度）、及び５≦ｔ≦１００（分）を満たし、さらに−
２ｔ＋４０≦Ｔ≦−ｔ／３＋８０の関係を満たす条件で
行われることを特徴とする。
【００１０】また請求項２では、前記基板が、ポリイミ
ド樹脂であることを特徴とする。
ド樹脂であることを特徴とする。
【００１１】
【００１２】
【作用】上記の構成を有する本発明のノズルプレート製
造方法では、熱可塑性を有する前記撥水性膜が、穴明け
加工後に前記撥水性材料の軟化温度より所定温度高い温
度で所定時間熱処理されるので、撥水性膜の穴明け加工
時に残ったバリは溶融され平坦化され、かつノズル内に
流れ込まない。
造方法では、熱可塑性を有する前記撥水性膜が、穴明け
加工後に前記撥水性材料の軟化温度より所定温度高い温
度で所定時間熱処理されるので、撥水性膜の穴明け加工
時に残ったバリは溶融され平坦化され、かつノズル内に
流れ込まない。
【００１３】
【実施例】以下、本発明を具体化した一実施例を図面を
参照して詳細に説明する。
参照して詳細に説明する。
【００１４】図１はノズルプレートの断面図である。ノ
ズルプレート３は基板１の一面に撥水性膜２が塗布され
ているものであり、基板１は、使用インク成分中に含ま
れる溶剤に対して耐溶剤性のある材質であり、また、撥
水性膜２より軟化温度の高い材料である。例えば本実施
例においては、撥水性膜２は、４フッ化エチレン−６フ
ッ化プロプレン共重合樹脂（ＦＥＰ樹脂）を約１μｍ程
度に塗布成膜したものである。また基板１にはポリイミ
ド樹脂を用いている。ここで、ＦＥＰ樹脂の軟化点（融
点）は、２５０℃〜２８０℃であり、ポリイミド樹脂に
関しては、融点がなく非常に熱的特性の優れた樹脂であ
る。
ズルプレート３は基板１の一面に撥水性膜２が塗布され
ているものであり、基板１は、使用インク成分中に含ま
れる溶剤に対して耐溶剤性のある材質であり、また、撥
水性膜２より軟化温度の高い材料である。例えば本実施
例においては、撥水性膜２は、４フッ化エチレン−６フ
ッ化プロプレン共重合樹脂（ＦＥＰ樹脂）を約１μｍ程
度に塗布成膜したものである。また基板１にはポリイミ
ド樹脂を用いている。ここで、ＦＥＰ樹脂の軟化点（融
点）は、２５０℃〜２８０℃であり、ポリイミド樹脂に
関しては、融点がなく非常に熱的特性の優れた樹脂であ
る。
【００１５】本実施例においては、このような材料を用
いたが、他に撥水性膜２としてはポリ４フッ化エチレン
樹脂（ＰＴＦＥ樹脂）、４フッ化エチレン−パーフルオ
ロアルコキシエチレン共重合樹脂（ＰＦＡ樹脂）、３フ
ッ化塩化エチレン樹脂（ＰＣＴＦＥ樹脂）、４フッ化エ
チレン−エチレン共重合樹脂（ＥＴＦＥ樹脂）、フッ化
ビニリデン樹脂、フッ化ビニル樹脂等のフッ素系の樹脂
が上げられる。これらフッ素系の樹脂は特に、インク溶
剤に対する撥水特性、耐溶剤性が優れている。また、用
いるインク溶剤によっては、シリコン系樹脂等でも問題
無い。
いたが、他に撥水性膜２としてはポリ４フッ化エチレン
樹脂（ＰＴＦＥ樹脂）、４フッ化エチレン−パーフルオ
ロアルコキシエチレン共重合樹脂（ＰＦＡ樹脂）、３フ
ッ化塩化エチレン樹脂（ＰＣＴＦＥ樹脂）、４フッ化エ
チレン−エチレン共重合樹脂（ＥＴＦＥ樹脂）、フッ化
ビニリデン樹脂、フッ化ビニル樹脂等のフッ素系の樹脂
が上げられる。これらフッ素系の樹脂は特に、インク溶
剤に対する撥水特性、耐溶剤性が優れている。また、用
いるインク溶剤によっては、シリコン系樹脂等でも問題
無い。
【００１６】さらに、基板１としては、本実施例におい
ては、ポリイミド樹脂を用いているが、熱硬化性樹脂や
軟化温度が撥水性膜２として用いた材料より比較的高い
樹脂であれば一向に問題無い。
ては、ポリイミド樹脂を用いているが、熱硬化性樹脂や
軟化温度が撥水性膜２として用いた材料より比較的高い
樹脂であれば一向に問題無い。
【００１７】また、本実施例においては、次に述べるノ
ズル加工において、エキシマレーザ加工を用いるが、例
えば打ち抜き加工やドリル加工を用いた場合には、基板
１は、これらの加工で加工可能な材料であり、且つ撥水
性膜２より比較的高い温度の軟化温度を持つ材料、例え
ば金属材料であっても一向に差し支えない。
ズル加工において、エキシマレーザ加工を用いるが、例
えば打ち抜き加工やドリル加工を用いた場合には、基板
１は、これらの加工で加工可能な材料であり、且つ撥水
性膜２より比較的高い温度の軟化温度を持つ材料、例え
ば金属材料であっても一向に差し支えない。
【００１８】次に図２に示すように、エキシマレーザを
発するレーザ発振器１４より出たエキシマレーザビーム
１１を、所望する加工形状と相似系のマスク１２を通
し、レンズ１３によりマスク形状をノズルプレート３の
基板１上に結像させてノズル加工を行う。ここで、本実
施例においては、エキシマレーザは２４８ｎｍの波長を
もつＫｒＦエキシマレーザである。また、マスク１２お
よびレンズ１３はノズル形状やレーザ加工条件等によっ
て適切に設定する。本実施例では、１／５の縮小レンズ
１３および直径３００μｍの穴を開けたマスク１２を用
いた。
発するレーザ発振器１４より出たエキシマレーザビーム
１１を、所望する加工形状と相似系のマスク１２を通
し、レンズ１３によりマスク形状をノズルプレート３の
基板１上に結像させてノズル加工を行う。ここで、本実
施例においては、エキシマレーザは２４８ｎｍの波長を
もつＫｒＦエキシマレーザである。また、マスク１２お
よびレンズ１３はノズル形状やレーザ加工条件等によっ
て適切に設定する。本実施例では、１／５の縮小レンズ
１３および直径３００μｍの穴を開けたマスク１２を用
いた。
【００１９】この加工によって得られた、ノズルの噴射
口付近には、図２に示すように撥水性膜２にバリが存在
する。次に、この撥水性膜２のバリを軟化溶融させて平
坦化させるために、３００℃に加熱されたオーブン中に
１時間放置した。その結果、図３に示すように、撥水性
膜２のバリが軟化し、バリがほぼ平坦化されたノズルが
形成される。本実施例においては、塗布したＦＥＰ樹脂
の溶融温度の関係から熱処理温度を３００℃としたが、
処理温度が撥水性膜２の溶融温度よりかなり高い場合あ
るいは熱処理時間が長すぎる場合は、図４に示すように
撥水性膜２がノズル内に流れ込む恐れがあるため、温度
及び時間管理には注意を要する。
口付近には、図２に示すように撥水性膜２にバリが存在
する。次に、この撥水性膜２のバリを軟化溶融させて平
坦化させるために、３００℃に加熱されたオーブン中に
１時間放置した。その結果、図３に示すように、撥水性
膜２のバリが軟化し、バリがほぼ平坦化されたノズルが
形成される。本実施例においては、塗布したＦＥＰ樹脂
の溶融温度の関係から熱処理温度を３００℃としたが、
処理温度が撥水性膜２の溶融温度よりかなり高い場合あ
るいは熱処理時間が長すぎる場合は、図４に示すように
撥水性膜２がノズル内に流れ込む恐れがあるため、温度
及び時間管理には注意を要する。
【００２０】そこで、上記熱処理の温度・時間と、熱処
理の結果について実験し、温度・時間の最適範囲を求め
たので、図６（ａ）、（ｂ）を用いて説明する。図６
（ａ）は熱処理時間ｔが３〜３０分のときのグラフであ
り、図６（ｂ）は熱処理時間ｔが２０〜１２０分のとき
のグラフである。グラフ中、縦軸の温度Ｔは、撥水性材
料の溶融温度から何度高い温度で熱処理をしたかを示
し、横軸の熱処理時間ｔは、処理温度の下におかれてか
ら熱処理終了までの時間を示すものである。熱処理の結
果は、撥水性膜２のバリが軟化しほぼ平坦化されたもの
を○、バリがあまり平坦化されなかったものを▲、図４
のように撥水性膜２がノズル内に流れ込んでしまったも
のを×で表わした。実験に用いた撥水性材料は軟化点２
８０℃のＦＥＰ樹脂であり、熱処理はオーブンを用い
た。また、熱処理の結果は、光学顕微鏡を用いてバリの
形状を確認することにより行った。
理の結果について実験し、温度・時間の最適範囲を求め
たので、図６（ａ）、（ｂ）を用いて説明する。図６
（ａ）は熱処理時間ｔが３〜３０分のときのグラフであ
り、図６（ｂ）は熱処理時間ｔが２０〜１２０分のとき
のグラフである。グラフ中、縦軸の温度Ｔは、撥水性材
料の溶融温度から何度高い温度で熱処理をしたかを示
し、横軸の熱処理時間ｔは、処理温度の下におかれてか
ら熱処理終了までの時間を示すものである。熱処理の結
果は、撥水性膜２のバリが軟化しほぼ平坦化されたもの
を○、バリがあまり平坦化されなかったものを▲、図４
のように撥水性膜２がノズル内に流れ込んでしまったも
のを×で表わした。実験に用いた撥水性材料は軟化点２
８０℃のＦＥＰ樹脂であり、熱処理はオーブンを用い
た。また、熱処理の結果は、光学顕微鏡を用いてバリの
形状を確認することにより行った。
【００２１】その結果、図６（ａ）からは、温度Ｔは１
５〜７０度（熱処理温度２９５〜３５０℃）、熱処理時
間ｔは５分以上、かつＴ≧−２ｔ＋４０（図中の直線Ｌ
１の関係式）を満たす場合が、また図６（ｂ）からは、
温度Ｔは１５〜７０度（熱処理温度２９５〜３５０
℃）、熱処理時間ｔは１００分以下、かつＴ≦−ｔ／３
＋８０（図中の直線Ｌ２の関係式）を満たす場合が熱処
理の結果が良いことがわかった。尚、上記と同様の実験
を撥水性材料として軟化点３２７℃のＰＴＦＥ樹脂を用
いて行ったが、全く同様の結果であったため実験結果の
図示は省略した。
５〜７０度（熱処理温度２９５〜３５０℃）、熱処理時
間ｔは５分以上、かつＴ≧−２ｔ＋４０（図中の直線Ｌ
１の関係式）を満たす場合が、また図６（ｂ）からは、
温度Ｔは１５〜７０度（熱処理温度２９５〜３５０
℃）、熱処理時間ｔは１００分以下、かつＴ≦−ｔ／３
＋８０（図中の直線Ｌ２の関係式）を満たす場合が熱処
理の結果が良いことがわかった。尚、上記と同様の実験
を撥水性材料として軟化点３２７℃のＰＴＦＥ樹脂を用
いて行ったが、全く同様の結果であったため実験結果の
図示は省略した。
【００２２】従って、熱処理は、１５≦Ｔ≦７０
（度）、及び５≦ｔ≦１００（分）を満たし、さらに−
２ｔ＋４０≦Ｔ≦−ｔ／３＋８０の関係を満たす条件で
行われることが好ましいことがこれらの実験より明らか
になった。
（度）、及び５≦ｔ≦１００（分）を満たし、さらに−
２ｔ＋４０≦Ｔ≦−ｔ／３＋８０の関係を満たす条件で
行われることが好ましいことがこれらの実験より明らか
になった。
【００２３】このようにして得られたノズルプレート３
を用いてインク噴射を行った結果、インク噴射時のメニ
スカスの破壊がなく、またインク滴の飛翔方向にばらつ
きを生じないことが確認された。
を用いてインク噴射を行った結果、インク噴射時のメニ
スカスの破壊がなく、またインク滴の飛翔方向にばらつ
きを生じないことが確認された。
【００２４】上述したように、本実施例では、ノズルプ
レート３にエキシマレーザビーム１１でノズル加工を行
なった後に、ノズルプレート３を撥水性膜２の軟化温度
より所定温度高い温度で所定時間熱処理を行なっている
ので、ノズル加工時に残った撥水性膜２のバリが溶融す
る。このため、バリの無いノズルが形成されたノズルプ
レート３が得られ、このノズルプレート３を用いたイン
ク噴射装置では、インク滴の飛翔方向にばらつきがな
く、印字品質がよい。
レート３にエキシマレーザビーム１１でノズル加工を行
なった後に、ノズルプレート３を撥水性膜２の軟化温度
より所定温度高い温度で所定時間熱処理を行なっている
ので、ノズル加工時に残った撥水性膜２のバリが溶融す
る。このため、バリの無いノズルが形成されたノズルプ
レート３が得られ、このノズルプレート３を用いたイン
ク噴射装置では、インク滴の飛翔方向にばらつきがな
く、印字品質がよい。
【００２５】尚、本発明は上述した実施例にのみ限定さ
れるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において
種々の変更を加えても一向に差し支えない。
れるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において
種々の変更を加えても一向に差し支えない。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したことから明かなように、本
発明のノズルプレートの製造方法によれば、基板にＦＥ
Ｐ樹脂又はＰＴＦＥ樹脂からなる撥水性膜を形成し、そ
の基板及び撥水性膜にエキシマレーザでの穴明け加工に
よりノズルを形成した後、撥水性材料の軟化温度より所
定温度高い温度で所定時間撥水性膜を熱処理するものに
おいて、前記所定温度をＴ、前記所定時間をｔとしたと
き、前記熱処理を、ＦＥＰ樹脂又はＰＴＦＥ樹脂の溶融
温度＋１５≦Ｔ≦ＦＥＰ樹脂又はＰＴＦＥ樹脂の溶融温
度＋７０（度）、及び５≦ｔ≦１００（分）を満たし、
さらに−２ｔ＋４０≦Ｔ≦−ｔ／３＋８０の関係を満た
す条件で行うことにより、撥水性膜の穴明け加工時に残
ったバリが軟化して、バリの無いノズルが形成される。
また撥水性膜がノズル内に流れ込まない。このため、バ
リの無いかつノズルが狭められないノズルプレートが得
られ、インク噴射時のメニスカスの破壊がなく、またイ
ンク滴の飛翔方向にばらつきを生じない。従って、この
ノズルプレート製造方法で製造されたノズルプレートを
使用したインク噴射装置では、印字品質が良好である。
発明のノズルプレートの製造方法によれば、基板にＦＥ
Ｐ樹脂又はＰＴＦＥ樹脂からなる撥水性膜を形成し、そ
の基板及び撥水性膜にエキシマレーザでの穴明け加工に
よりノズルを形成した後、撥水性材料の軟化温度より所
定温度高い温度で所定時間撥水性膜を熱処理するものに
おいて、前記所定温度をＴ、前記所定時間をｔとしたと
き、前記熱処理を、ＦＥＰ樹脂又はＰＴＦＥ樹脂の溶融
温度＋１５≦Ｔ≦ＦＥＰ樹脂又はＰＴＦＥ樹脂の溶融温
度＋７０（度）、及び５≦ｔ≦１００（分）を満たし、
さらに−２ｔ＋４０≦Ｔ≦−ｔ／３＋８０の関係を満た
す条件で行うことにより、撥水性膜の穴明け加工時に残
ったバリが軟化して、バリの無いノズルが形成される。
また撥水性膜がノズル内に流れ込まない。このため、バ
リの無いかつノズルが狭められないノズルプレートが得
られ、インク噴射時のメニスカスの破壊がなく、またイ
ンク滴の飛翔方向にばらつきを生じない。従って、この
ノズルプレート製造方法で製造されたノズルプレートを
使用したインク噴射装置では、印字品質が良好である。
【図１】本発明の一実施例のノズルプレートを示す断面
図である。
図である。
【図２】前記実施例のノズルプレート加工を示す説明図
である。
である。
【図３】前記実施例によって得られたノズル部分を示す
断面図である。
断面図である。
【図４】前記実施例の条件を大きく逸脱した時のノズル
部分を示す断面図である。
部分を示す断面図である。
【図５】エキシマレーザによる高分子材料のアブレーシ
ョン加工を示す説明図である。
ョン加工を示す説明図である。
【図６】熱処理の温度・時間と、熱処理の結果を示すグ
ラフである。
ラフである。
１ 基板 ２ 撥水性膜 ２ ノズルプレート １１ エキシマレーザ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−279356（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−96235（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−96684（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−188254（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−45950（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−328698（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−116309（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−87216（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−211959（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B41J 2/135 - 2/165
Claims (2)
- 【請求項１】 インクが噴射されるノズルが形成される
基板と、前記基板のノズルが形成される位置の周囲に形
成された撥水性膜とを有するノズルプレートの製造方法
であって、 前記基板にＦＥＰ樹脂又はＰＴＦＥ樹脂からなる撥水性
膜を形成する工程と、 その基板及び撥水性膜にエキシマレーザでの穴明け加工
によりノズルを形成する工程と、 そのノズルを形成した後、所定温度で所定時間前記撥水
性膜を熱処理する工程とを有し、 前記所定温度をＴ、前記所定時間をｔとしたとき、前記
熱処理は、前記ＦＥＰ樹脂又はＰＴＦＥ樹脂の溶融温度
＋１５≦Ｔ≦前記ＦＥＰ樹脂又はＰＴＦＥ樹脂の溶融温
度＋７０（度）、及び５≦ｔ≦１００（分）を満たし、
さらに−２ｔ＋４０≦Ｔ≦−ｔ／３＋８０の関係を満た
す条件で行われることを特徴とするノズルプレート製造
方法。 - 【請求項２】 前記基板は、ポリイミド樹脂であること
を特徴とする請求項１記載のノズルプレート製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00977794A JP3348744B2 (ja) | 1993-08-18 | 1994-01-31 | ノズルプレート製造方法 |
| US08/650,348 US5653901A (en) | 1993-08-18 | 1996-05-20 | Method of fabricating a nozzle plate |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5-203878 | 1993-08-18 | ||
| JP20387893 | 1993-08-18 | ||
| JP00977794A JP3348744B2 (ja) | 1993-08-18 | 1994-01-31 | ノズルプレート製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07108683A JPH07108683A (ja) | 1995-04-25 |
| JP3348744B2 true JP3348744B2 (ja) | 2002-11-20 |
Family
ID=26344573
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00977794A Expired - Lifetime JP3348744B2 (ja) | 1993-08-18 | 1994-01-31 | ノズルプレート製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5653901A (ja) |
| JP (1) | JP3348744B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5608108A (en) * | 1988-11-14 | 1997-03-04 | Sloan-Kettering Institute For Cancer Research | Potent inducers of terminal differentiation and method of use thereof |
| IL106803A (en) | 1993-08-25 | 1998-02-08 | Scitex Corp Ltd | Printable inkjet head |
| US6439702B1 (en) * | 1993-08-25 | 2002-08-27 | Aprion Digital Ltd. | Inkjet print head |
| JP3099646B2 (ja) * | 1994-09-01 | 2000-10-16 | ブラザー工業株式会社 | インクジェット装置の製造方法 |
| US6053600A (en) * | 1997-01-22 | 2000-04-25 | Minolta Co., Ltd. | Ink jet print head having homogeneous base plate and a method of manufacture |
| US6155675A (en) * | 1997-08-28 | 2000-12-05 | Hewlett-Packard Company | Printhead structure and method for producing the same |
| US6209203B1 (en) * | 1998-01-08 | 2001-04-03 | Lexmark International, Inc. | Method for making nozzle array for printhead |
| US6371600B1 (en) | 1998-06-15 | 2002-04-16 | Lexmark International, Inc. | Polymeric nozzle plate |
| JP2000015820A (ja) * | 1998-06-30 | 2000-01-18 | Canon Inc | オリフィスプレートおよび液体吐出ヘッドの製造方法 |
| JP2000043274A (ja) | 1998-07-27 | 2000-02-15 | Fujitsu Ltd | ノズルプレート及びその製造方法 |
| GB9818891D0 (en) | 1998-08-28 | 1998-10-21 | Xaar Technology Ltd | Nozzle plates for ink jet printers and like devices |
| US6447984B1 (en) | 1999-02-10 | 2002-09-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head, method of manufacture therefor and liquid discharge recording apparatus |
| US6745467B1 (en) * | 1999-02-10 | 2004-06-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of producing a liquid discharge head |
| US6288360B1 (en) * | 1999-07-14 | 2001-09-11 | Aradigm Corporation | Excimer laser ablation process control of multilaminate materials |
| US6290331B1 (en) * | 1999-09-09 | 2001-09-18 | Hewlett-Packard Company | High efficiency orifice plate structure and printhead using the same |
| US6390610B1 (en) * | 2000-10-25 | 2002-05-21 | Eastman Kodak Company | Active compensation for misdirection of drops in an inkjet printhead using electrodeposition |
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| GB0510991D0 (en) * | 2005-05-28 | 2005-07-06 | Xaar Technology Ltd | Method of printhead passivation |
| JP2007307885A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-11-29 | Ricoh Co Ltd | 画像処理方法、記録物、プログラム、画像処理装置、画像形成装置及び画像形成システム、画像形成方法及びインク |
| JP2008200931A (ja) * | 2007-02-19 | 2008-09-04 | Brother Ind Ltd | ノズルプレート、ノズルプレートの製造方法及びインクジェットヘッドの製造方法 |
| JP6252687B2 (ja) * | 2014-11-10 | 2017-12-27 | 株式会社村田製作所 | 樹脂多層基板の製造方法 |
| JP6898998B2 (ja) * | 2017-03-06 | 2021-07-07 | エル・ピー・ケー・エフ・レーザー・ウント・エレクトロニクス・アクチエンゲゼルシヤフト | 電磁放射及び続くエッチングプロセスにより材料内に少なくとも１つの空隙を施すための方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5565564A (en) * | 1978-11-09 | 1980-05-17 | Canon Inc | Recording head |
| JPH0764061B2 (ja) * | 1988-07-05 | 1995-07-12 | テクトロニックス・インコーポレイテッド | インクジェットヘッド及びその製造方法 |
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| EP0468712B1 (en) * | 1990-07-21 | 1998-10-07 | Canon Kabushiki Kaisha | A method of manufacturing an ink jet head and an ink jet head |
| JP2791226B2 (ja) * | 1991-03-08 | 1998-08-27 | キヤノン株式会社 | 記録ヘッドの製造方法および記録ヘッド |
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| US5194713A (en) * | 1991-10-17 | 1993-03-16 | International Business Machines Corporation | Removal of excimer laser debris using carbon dioxide laser |
-
1994
- 1994-01-31 JP JP00977794A patent/JP3348744B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-05-20 US US08/650,348 patent/US5653901A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| JPH07108683A (ja) | 1995-04-25 |
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