JP3332896B2 - 回折光学素子及びそれを有した光学系 - Google Patents
回折光学素子及びそれを有した光学系Info
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Description
折光学素子及びそれを有した光学系に関し、例えば、本
発明の回折光学素子は、被写体を感光体面上に形成する
為のカメラに用いられる結像光学系、感光ドラム面上を
光走査してその面上に画像情報を形成する為の画像形成
用光学系、IC,LSI等の半導体素子(デバイス)を
製造する際にマスクの電子回路パターンを投影光学系
(投影レンズ)によりウエハ上に投影するときの投影光
学系や該マスクを照明する為の照明光学系等に好適なも
のである。
素子及びそれを有した光学系が種々と提案されている。
回折光学素子としては、例えばキノフォーム、バイナリ
オプティクス、フレネルゾーンプレート、ホログラム等
が知られている。
面に変換する光学素子として用いられている。この回折
光学素子は屈折型レンズにはない特長を持っている。例
えば、屈折型レンズと逆の分散値を有すること、実質的
には厚みを持たないこと等の特長である。
の断面をノコギリ歯状のいわゆるブレーズド形状やキノ
フォーム形状とすることにより、設計波長に対する回折
効率を100%とすることができることが知られてい
る。しかし、現実には完全なブレーズド形状を加工する
ことは困難であるために、ブレーズド形状やキノフォー
ム形状を量子化して階段状の断面形状で近似した、バイ
ナリオプティクスと呼ばれる回折光学素子が使用されて
いる。
製にリソグラフィー技術が適用可能となり、微細なピッ
チも比較的容易に実現することができる。
の一例を示す。101は回折光学素子である。図8の線
102の位置における素子101の断面形状を図9に示
す。一次回折光の回折効率は、図9に示すような8レベ
ルのバイナリオプティクスの場合95%以上を確保する
ことができる。
素子に大きなパワーを持たせるためには、回折光学素子
の周期構造のピッチは可能な限り小さいことが望まし
く、高性能な回折光学素子を得るために半導体製造で培
われたリソグラフィ技術が使用されている。このよう
な、回折光学素子はリソグラフィ工程を経て加工するた
めに、完成した素子は薄い板状である。
に、その素子よりも厚いリング形状の保持部材(以後、
これを「セル」と呼ぶ)を接合して一体化することによ
り必要な強度を確保し、投影光学系の鏡筒に回折光学素
子を組み込む際には、このセルごと鏡筒で保持すること
が考えられている。この際、セルの位置決めはセルの外
径を基準として行なう。
接合する際には、セルの中心と回折光学素子の中心を高
い精度で一致させる必要があり、万一セルの中心と回折
光学素子の中心が一致していない場合には、光学系に組
み込んだ際にいわゆる偏心誤差が生じて収差により光学
系全体の性能を低下させてしまうことになる。
等の他の物品とアライメントし易い回折光学素子及びそ
れを有した光学系の提供を目的とする。
学素子は、波長λの光を回折する回折面と、マークとを
有する回折光学素子であって、該マークは該波長λの光
のうち、該マークを通過する光線と該マークの周囲を通
過する光線との間に該λの整数倍の位相差が生じ、該波
長λとは異なる波長λ′の光のうち該マークを通過する
光線と該マークの周囲を通過する光線との間に該λ′の
整数倍の位相差が生じない形状を備えていることを特徴
としている。
て、前記マークは前記回折面の中心又は該中心の近くに
あって且つ前記回折面に形成した凹部よりなり、該凹部
は、前記波長λの光のうちの前記マークを通過する光線
と前記マークの周囲を通過する光線との間に前記λの整
数倍の位相差が生じ、前記波長λ′の光のうちの前記マ
ークを通過する光線と前記マークの周囲を通過する光線
の間に前記λ′の整数倍の位相差が生じない深さを有す
ることを特徴としている。
て、前記マークは前記回折面の中心又は該中心の近くに
あって且つ前記回折面に形成した凸部よりなり、該凸部
は、前記波長λの光のうちの前記マークを通過する光線
と前記マークの周囲を通過する光線との間に前記λの整
数倍の位相差が生じ、前記波長λ′の光のうちの前記マ
ークを通過する光線と前記マークの周囲を通過する光線
の間に前記λ′の整数倍の位相差が生じない高さを有す
ることを特徴としている。
て、前記回折面と前記マークとは、前記波長λと前記波
長λ′の各光線を透過させることを特徴としている。
の光を回折する回折面と、マークとを有する回折光学素
子であって、該マークは該波長λの光のうち、該マーク
で反射する光線と該マークの周囲で反射する光線との間
に該λの整数倍の位相差が生じ、該波長λとは異なる波
長λ′の光のうち該マークで反射する光線と該マークの
周囲で反射する光線との間に該λ′の整数倍の位相差が
生じない形状を備えていることを特徴としている。
て、前記マークは前記回折面の中心又は該中心の近くに
あって且つ前記回折面に形成した凹部よりなり、該凹部
は、前記波長λの光のうちの前記マークで反射する光線
と前記マークの周囲で反射する光線との間に前記λの整
数倍の位相差が生じ、前記波長λ′の光のうちの前記マ
ークで反射する光線と前記マークの周囲で反射する光線
の間に前記λ′の整数倍の位相差が生じない深さを有す
ることを特徴としている。
て、前記マークは前記回折面の中心又は該中心の近くに
あって且つ前記回折面に形成した凸部よりなり、該凸部
は、前記波長λの光のうちの前記マークで反射する光線
と前記マークの周囲で反射する光線との間に前記λの整
数倍の位相差が生じ、前記波長λ′の光のうちの前記マ
ークで反射する光線と前記マークの周囲で反射する光線
の間に前記λ′の整数倍の位相差が生じない高さを有す
ることを特徴としている。
て、前記回折面と前記マークとは、前記波長λと前記波
長λ′の各光線で反射させることを特徴としている。
おいて、前記回折面はbinary opticsであり、前記回折
面と前記マークとはリソグラフィー法によって形成され
たものであることを特徴としている。
において、前記回折面と前記マークとが形成してある基
板は、金属環により保持されていることを特徴としてい
る。
において、前記マークは前記回折面の中心にあって、前
記マークが前記金属環の外周の中心位置にあることを特
徴としている。
いて、前記波長λ′の光を用いて前記マークを検出する
ことで前記マークの位置を確認しつつ前記マークの位置
と前記中心位置の位置合わせが行われて、両者が一致さ
せてあることを特徴としている。
光を反射又は屈折する光学面と、マークとを有する光学
素子であって、該マークは該波長λの光のうち、該マー
クを通過する光線と該マークの周囲を通過する光線との
間に該λの整数倍の位相差が生じ、該波長λとは異なる
波長λ′の光のうち該マークを通過する光線と該マーク
の周囲を通過する光線との間に該λ′の整数倍の位相差
が生じない形状を備えていることを特徴としている。
いて、前記マークは前記光学面の中心又は該中心の近く
にあって且つ前記光学面に形成した凹部よりなり、該凹
部は、前記波長λの光のうちの前記マークを通過する光
線と前記マークの周囲を通過する光線との間に前記λの
整数倍の位相差が生じ、前記波長λ′の光のうちの前記
マークを通過する光線と前記マークの周囲を通過する光
線の間に前記λ′の整数倍の位相差が生じない深さを有
することを特徴としている。
いて、前記マークは前記光学面の中心又は該中心の近く
にあって且つ前記光学面に形成した凸部よりなり、該凸
部は、前記波長λの光のうちの前記マークを通過する光
線と前記マークの周囲を通過する光線との間に前記λの
整数倍の位相差が生じ、前記波長λ′の光のうちの前記
マークを通過する光線と前記マークの周囲を通過する光
線の間に前記λ′の整数倍の位相差が生じない高さを有
することを特徴としている。
いて、前記光学面と前記マークとは、前記波長λと前記
波長λ′の各光線を透過させることを特徴としている。
光を反射又は屈折する光学面と、マークとを有する光学
素子であって、該マークは該波長λの光のうち、該マー
クで反射する光線と該マークの周囲で反射する光線との
間に該λの整数倍の位相差が生じ、該波長λとは異なる
波長λ′の光のうち該マークで反射する光線と該マーク
の周囲で反射する光線との間に該λ′の整数倍の位相差
が生じない形状を備えていることを特徴としている。
いて、前記マークは前記光学面の中心又は該中心の近く
にあって且つ前記光学面に形成した凹部よりなり、該凹
部は、前記波長λの光のうちの前記マークで反射する光
線と前記マークの周囲で反射する光線との間に前記λの
整数倍の位相差が生じ、前記波長λ′の光のうちの前記
マークで反射する光線と前記マークの周囲で反射する光
線の間に前記λ′の整数倍の位相差が生じない深さを有
することを特徴としている。
いて、前記マークは前記光学面の中心又は該中心の近く
にあって且つ前記光学面に形成した凸部よりなり、該凸
部は、前記波長λの光のうちの前記マークで反射する光
線と前記マークの周囲で反射する光線との間に前記λの
整数倍の位相差が生じ、前記波長λ′の光のうちの前記
マークで反射する光線と前記マークの周囲で反射する光
線の間に前記λ′の整数倍の位相差が生じない高さを有
することを特徴としている。
いて、前記光学面と前記マークとは、前記波長λと前記
波長λ′の各光線で反射させることを特徴としている。
発明において、前記光学面はbinaryopticsであり、前記
光学面と前記マークとはリソグラフィー法によって形成
されたものであることを特徴としている。
発明において、前記光学面と前記マークとが形成してあ
る基板は、金属環により保持されていることを特徴とし
ている。
発明において、前記マークは前記光学面の中心にあっ
て、前記マークが前記金属環の外周の中心位置にあるこ
とを特徴としている。
いて、前記波長λ′の光を用いて前記マークを検出する
ことで前記マークの位置を確認しつつ前記マークの位置
と前記中心位置の位置合わせが行われて、両者が一致さ
せてあることを特徴としている。
ら24のいずれか1項の回折光学素子を有することを特
徴としている。
項25の投影光学系によりあるパターンを基板上に投影
することを特徴としている。
は、請求項26の投影露光装置によりデバイスパターン
で基板を露光する段階と、該露光した基板を現像する段
階とを有することを特徴としている。
折光学素子(光学素子)の実施形態1の要部正面図と要
部断面図である。図中1は回折光学素子であり、バイナ
リ形状(階段形状)やキノフォーム形状、そしてフレネ
ル形状等の回折格子を設けた回折格子部11と、その中
央部に形成したアライメントマーク(マーク)2とを有
している。
て示しているが反射型の光学素子にも本発明は適用可能
である。
(B)に示すとおり、その使用波長λ(設計波長)及び
基板4の材質の波長λに対する屈折率nに対して所望の
微小な開口aと高さ(深さ)yがそこを通過する光線
(波長λ)がその周辺部を通過する光線(波長λ)との
間で略mλ/(n−1)[mは整数]の位相差を有する
ようなアライメントマーク2を、その回折光学素子1の
中心や中心近傍等の回折光学素子の構造上の使用波長λ
の光が通過する領域内の所望の位置に配置している。
マーク2による位相ずれ(位相差)が周辺領域に対して
2πの整数倍であることで、光学系に組み込んで使用す
る際には、実質的にアライメントマークが存在しないの
と等価な効果を有する。
は理想値に対して±30%の範囲内を言う。
心の位置決めの際には、実質的にアライメントマークが
存在するように使用波長λとは異なる波長λ′(アライ
メント波長)で尚且つ略mλ′/(n′−1)を満たさ
ない(n′はλ′に対する屈折率)アライメント光を用
いて、アライトメンマーク2およびその近傍からの波面
と参照平面波を干渉させて、このマークの位置を検出す
ることでセルの中心に対する回折光学素子1の中心位置
決めを高精度に行なっている。
ルを接合した後に、必要に応じて上記アライメントマー
ク2を用いてセルを加工してセルの鏡筒への中心位置決
めを行なってもいい。
中心に配置することは、従来では光学系に組み込んで使
用する際に、散乱や不要回折光が生じるために避けられ
てきた。しかし設計波長λに対して深さを前述のように
設定することにより、アライメントマークの近傍を通過
する波面とアライメントマークの中央を通過する波面の
位相差は、波数をk=2π/λ、基板の厚みをdとして
がないのと等価となり、実質的にはアライメントマーク
が存在しないものとして扱うことが可能となる。例え
ば、ArFエキシマレーザ光を用いる光学系にこの回折
光学素子を組み込む場合には、基板として合成石英を用
いるならば、屈折率n=1.56、設計波長λ=0.1
93μmとなり、アライメントマーク2の微小開口の直
径を、例えば1μm程度で、深さが3.45μmとすれ
ばよい。
の穴に限らず、例えば図2(A),(B)に示すよう
に、円柱状の突起23でもよい。この場合も前述と同
様、この回折光学素子1の基板24の厚さをdとし、基
板24を構成する硝材の相対屈折率をnとする。このと
きアライメントマーク21は直径がaの円柱であり、そ
の高さhを略mλ/(n−1)[mは整数]としてい
る。
(周辺部)を通過する波面とアライメントマークの中央
を通過する波面の位相差は、図1で示した場合と同様に
2πの整数倍となるから、位相差がないのと等価とな
り、設計波長λで使用するにあたっては、実質的にはア
ライメントマークが存在しないものとして扱うことが可
能となる。
面形状は円形以外の形状でもよく、例えば図3に示すよ
うな十字状のマーク31でもよい。回折光学素子1の中
心やその近くに設けた凹や凸のアライメントマーク31
の形状の深さや高さが略mλ/(n−1)[mは整数]
とした穴や突起としてもよい。
える光学素子の中心とセルの中心を一致させる方法につ
いての説明図である。同図は回折光学素子1にセル51
を接合した例の要部概略図を示している。
りも厚いリング形状の保持部材から成っている。52は
セル51と回折光学素子1を接合するための固定用リン
グである。2は回折光学素子1の中央部に設けたアライ
メントマークである。
学素子1の中心は一致しており、このような状態に接合
して初めて、光学系の鏡筒内にセルごと光学素子を組み
込むことが可能となる。このような状態になるようにセ
ルを接合する方法について図5を用いて説明する。
ク(マーク)2の位置を検出し、そのマーク2の中心の
位置を回転中心としてセル51ごと回転させながらその
一部(偏心部分)を削り取り、中心出しを行なう方法に
ついての説明図である。
る波長λ′の平面波を射出する光源、62はセルを保持
して回転させるための回転ステージ、63はセル51を
削るためのブレード、64はアライメントマーク2を検
出するための検出系である。また、ここではアライメン
トマーク2は図1で示したような開口部が円形で深さが
mλ/(n−1)[mは整数]とした穴より形成してい
る。
説明する。
接合し、固定用リング52にて固定する。このようにし
て取付けたセルを回転ステージ62に固定する。次に光
源61から波長λ′(λ′≠mλ′/(n′−1))
(mは整数)の平面波を照明光として回折光学素子1の
中心近傍に照射する。このとき、アライメントマーク2
は、その近傍で光学素子の設計波長λに対して位相が2
πの整数倍になるように設計されていて、且つλ′≠m
λ′/(n′−1)であることから、波長λとは異なる
アライメント波長λ′の平面波を照射した場合にはアラ
イメントマーク2の部分を通過する光線とこの部分の周
囲の部分を通過する光線との間では位相のずれが生じ
る。
も、アライメントマーク2を透過した平面波とアライメ
ントマーク2の周囲を透過した平面波とでの位相ずれが
生じており、これらの平面波と、不図示の波長λ′の参
照平面波とを検出光学系の検出面において干渉させるこ
とで、高コントラスト像としてのアライメントマークの
像を形成し、その位置を検出することが可能となる。
ことでも、アライメントマーク2の位置を高精度に検出
できる。
出した後、回転ステージ62を不図示のXYステージに
より駆動することで、回転ステージの回転中心であると
ころの検出系64の中心とアライメントマーク2の中心
を一致させる。そして、その状態を保持しつつ、回転ス
テージ62を回転させる。
レード63をゆっくりとセル51に近付けることで、図
6の65に示すような偏心している偏心部分を削り取
り、結果としてセル51の中心をアライメントマーク2
の中心に一致するように加工する。このために、セル5
1はあらかじめ所望の大きさよりも大きいものを接合し
ておく必要がある。
取られた後のセル51は、前述した図4の状態と同じに
なっており、これを所望の光学系の鏡筒に組み込むこと
で、高精度な光軸合わせを可能としている。
IC,LSI等の半導体デバイス、CCD等の撮像デバ
イス、液晶パネル等の表示デバイス等のデバイス製造用
の工程のうちリソグラフィー工程において使用される投
影露光装置に適用した実施形態の要部概略図である。
ル、73は投影光学系78のレンズ鏡筒、74はレン
ズ、1は本発明の回折光学素子、76はウエハ、77は
ウエハステージである。
成っているもので、レンズ74の色収差を補正するよう
に設けてある。ウエハステージ77によってウエハ76
を所望の位置に位置決めし、不図示のフォーカス検出手
段により、ウエハ高さをフォーカス位置に調整する。こ
こで、場合に応じて不図示の検出系によって、ウエハに
すでに露光されている下のレイヤーのマークに対してレ
チクルをアライメントする。フォーカスとアライメント
が完了したとき、不図示のシャッターを開き、光源71
からの照明光によってレチクルを照明し、レチクル72
の上の回路パターンを投影光学系78によってウエハ7
6のレジスト上に投影露光する。
処理工程やエッチング工程等を介して複数のデバイスと
なる。本発明に係る光学素子を有した光学系は画像形成
用の光学機器や照明用の照明装置等にも同様に適用する
ことができる。また本発明の光学素子としては、回折光
学素子以外にも各種屈折素子や各種反射素子がある。
ライメントし易い光学素子及びそれを用いた光学系を達
成することができる。
図
図
図
るための加工方法の要部概略図
去する方法の説明図
態の要部概略図
Claims (27)
- 【請求項1】 波長λの光を回折する回折面と、マーク
とを有する回折光学素子であって、該マークは該波長λ
の光のうち、該マークを通過する光線と該マークの周囲
を通過する光線との間に該λの整数倍の位相差が生じ、
該波長λとは異なる波長λ′の光のうち該マークを通過
する光線と該マークの周囲を通過する光線との間に該
λ′の整数倍の位相差が生じない形状を備えていること
を特徴とする回折光学素子。 - 【請求項2】 前記マークは前記回折面の中心又は該中
心の近くにあって且つ前記回折面に形成した凹部よりな
り、該凹部は、前記波長λの光のうちの前記マークを通
過する光線と前記マークの周囲を通過する光線との間に
前記λの整数倍の位相差が生じ、前記波長λ′の光のう
ちの前記マークを通過する光線と前記マークの周囲を通
過する光線の間に前記λ′の整数倍の位相差が生じない
深さを有することを特徴とする請求項1の回折光学素
子。 - 【請求項3】 前記マークは前記回折面の中心又は該中
心の近くにあって且つ前記回折面に形成した凸部よりな
り、該凸部は、前記波長λの光のうちの前記マークを通
過する光線と前記マークの周囲を通過する光線との間に
前記λの整数倍の位相差が生じ、前記波長λ′の光のう
ちの前記マークを通過する光線と前記マークの周囲を通
過する光線の間に前記λ′の整数倍の位相差が生じない
高さを有することを特徴とする請求項1の回折光学素
子。 - 【請求項4】 前記回折面と前記マークとは、前記波長
λと前記波長λ′の各光線を透過させることを特徴とす
る請求項1の回折光学素子。 - 【請求項5】 波長λの光を回折する回折面と、マーク
とを有する回折光学素子であって、該マークは該波長λ
の光のうち、該マークで反射する光線と該マークの周囲
で反射する光線との間に該λの整数倍の位相差が生じ、
該波長λとは異なる波長λ′の光のうち該マークで反射
する光線と該マークの周囲で反射する光線との間に該
λ′の整数倍の位相差が生じない形状を備えていること
を特徴とする回折光学素子。 - 【請求項6】 前記マークは前記回折面の中心又は該中
心の近くにあって且つ前記回折面に形成した凹部よりな
り、該凹部は、前記波長λの光のうちの前記マークで反
射する光線と前記マークの周囲で反射する光線との間に
前記λの整数倍の位相差が生じ、前記波長λ′の光のう
ちの前記マークで反射する光線と前記マークの周囲で反
射する光線の間に前記λ′の整数倍の位相差が生じない
深さを有することを特徴とする請求項5の回折光学素
子。 - 【請求項7】 前記マークは前記回折面の中心又は該中
心の近くにあって且つ前記回折面に形成した凸部よりな
り、該凸部は、前記波長λの光のうちの前記マークで反
射する光線と前記マークの周囲で反射する光線との間に
前記λの整数倍の位相差が生じ、前記波長λ′の光のう
ちの前記マークで反射する光線と前記マークの周囲で反
射する光線の間に前記λ′の整数倍の位相差が生じない
高さを有することを特徴とする請求項5の回折光学素
子。 - 【請求項8】 前記回折面と前記マークとは、前記波長
λと前記波長λ′の各光線で反射させることを特徴とす
る請求項5の回折光学素子。 - 【請求項9】 前記回折面はbinary opticsであり、前
記回折面と前記マークとはリソグラフィー法によって形
成されたものであることを特徴とする請求項1又は5の
回折光学素子。 - 【請求項10】 前記回折面と前記マークとが形成して
ある基板は、金属環により保持されていることを特徴と
する請求項1又は5の回折光学素子。 - 【請求項11】 前記マークは前記回折面の中心にあっ
て、前記マークが前記金属環の外周の中心位置にあるこ
とを特徴とする請求項1又は5の回折光学素子。 - 【請求項12】 前記波長λ′の光を用いて前記マーク
を検出することで前記マークの位置を確認しつつ前記マ
ークの位置と前記中心位置の位置合わせが行われて、両
者が一致させてあることを特徴とする請求項11の回折
光学素子。 - 【請求項13】 波長λの光を反射又は屈折する光学面
と、マークとを有する光学素子であって、該マークは該
波長λの光のうち、該マークを通過する光線と該マーク
の周囲を通過する光線との間に該λの整数倍の位相差が
生じ、該波長λとは異なる波長λ′の光のうち該マーク
を通過する光線と該マークの周囲を通過する光線との間
に該λ′の整数倍の位相差が生じない形状を備えている
ことを特徴とする光学素子。 - 【請求項14】 前記マークは前記光学面の中心又は該
中心の近くにあって且つ前記光学面に形成した凹部より
なり、該凹部は、前記波長λの光のうちの前記マークを
通過する光線と前記マークの周囲を通過する光線との間
に前記λの整数倍の位相差が生じ、前記波長λ′の光の
うちの前記マークを通過する光線と前記マークの周囲を
通過する光線の間に前記λ′の整数倍の位相差が生じな
い深さを有することを特徴とする請求項13の光学素
子。 - 【請求項15】 前記マークは前記光学面の中心又は該
中心の近くにあって且つ前記光学面に形成した凸部より
なり、該凸部は、前記波長λの光のうちの前記マークを
通過する光線と前記マークの周囲を通過する光線との間
に前記λの整数倍の位相差が生じ、前記波長λ′の光の
うちの前記マークを通過する光線と前記マークの周囲を
通過する光線の間に前記λ′の整数倍の位相差が生じな
い高さを有することを特徴とする請求項13の光学素
子。 - 【請求項16】 前記光学面と前記マークとは、前記波
長λと前記波長λ′の各光線を透過させることを特徴と
する請求項13の光学素子。 - 【請求項17】 波長λの光を反射又は屈折する光学面
と、マークとを有する光学素子であって、該マークは該
波長λの光のうち、該マークで反射する光線と該マーク
の周囲で反射する光線との間に該λの整数倍の位相差が
生じ、該波長λとは異なる波長λ′の光のうち該マーク
で反射する光線と該マークの周囲で反射する光線との間
に該λ′の整数倍の位相差が生じない形状を備えている
ことを特徴とする光学素子。 - 【請求項18】 前記マークは前記光学面の中心又は該
中心の近くにあって且つ前記光学面に形成した凹部より
なり、該凹部は、前記波長λの光のうちの前記マークで
反射する光線と前記マークの周囲で反射する光線との間
に前記λの整数倍の位相差が生じ、前記波長λ′の光の
うちの前記マークで反射する光線と前記マークの周囲で
反射する光線の間に前記λ′の整数倍の位相差が生じな
い深さを有することを特徴とする請求項17の光学素
子。 - 【請求項19】 前記マークは前記光学面の中心又は該
中心の近くにあって且つ前記光学面に形成した凸部より
なり、該凸部は、前記波長λの光のうちの前記マークで
反射する光線と前記マークの周囲で反射する光線との間
に前記λの整数倍の位相差が生じ、前記波長λ′の光の
うちの前記マークで反射する光線と前記マークの周囲で
反射する光線の間に前記λ′の整数倍の位相差が生じな
い高さを有することを特徴とする請求項17の光学素
子。 - 【請求項20】 前記光学面と前記マークとは、前記波
長λと前記波長λ′の各光線で反射させることを特徴と
する請求項17の回折光学素子。 - 【請求項21】 前記光学面はbinary opticsであり、
前記光学面と前記マークとはリソグラフィー法によって
形成されたものであることを特徴とする請求項13又は
17の回折光学素子。 - 【請求項22】 前記光学面と前記マークとが形成して
ある基板は、金属環により保持されていることを特徴と
する請求項13又は17の回折光学素子。 - 【請求項23】 前記マークは前記光学面の中心にあっ
て、前記マークが前記金属環の外周の中心位置にあるこ
とを特徴とする請求項13又は17の回折光学素子。 - 【請求項24】 前記波長λ′の光を用いて前記マーク
を検出することで前記マークの位置を確認しつつ前記マ
ークの位置と前記中心位置の位置合わせが行われて、両
者が一致させてあることを特徴とする請求項23の回折
光学素子。 - 【請求項25】 請求項1から24のいずれか1項の回
折光学素子を有することを特徴とする光学系。 - 【請求項26】 請求項25の投影光学系によりあるパ
ターンを基板上に投影することを特徴とする投影露光装
置。 - 【請求項27】 請求項26の投影露光装置によりデバ
イスパターンで基板を露光する段階と、該露光した基板
を現像する段階とを有することを特徴とするデバイス製
造方法。
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---|---|---|---|
JP31804599A JP3332896B2 (ja) | 1998-11-09 | 1999-11-09 | 回折光学素子及びそれを有した光学系 |
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JP33342998 | 1998-11-09 | ||
JP10-333429 | 1998-11-09 | ||
JP31804599A JP3332896B2 (ja) | 1998-11-09 | 1999-11-09 | 回折光学素子及びそれを有した光学系 |
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---|---|
JP2000266918A JP2000266918A (ja) | 2000-09-29 |
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