JP3256322B2 - 新規なイソシアヌル酸誘導体 - Google Patents
新規なイソシアヌル酸誘導体Info
- Publication number
- JP3256322B2 JP3256322B2 JP7960093A JP7960093A JP3256322B2 JP 3256322 B2 JP3256322 B2 JP 3256322B2 JP 7960093 A JP7960093 A JP 7960093A JP 7960093 A JP7960093 A JP 7960093A JP 3256322 B2 JP3256322 B2 JP 3256322B2
- Authority
- JP
- Japan
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- tert
- butyl
- isocyanuric acid
- bis
- piperidyl
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なイソシアヌル酸
誘導体に関し、詳しくは、分子内に立体障害ピペリジル
基を有する、高分子材料の安定剤として有用な新規なイ
ソシアヌル酸誘導体に関する。
誘導体に関し、詳しくは、分子内に立体障害ピペリジル
基を有する、高分子材料の安定剤として有用な新規なイ
ソシアヌル酸誘導体に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニルなどの高分子
材料は、一般に光の作用に対して敏感であり、その作用
により劣化し、変色あるいは機械的強度の低下などを引
き起こし、長期の使用に耐えないことが知られている。
チレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニルなどの高分子
材料は、一般に光の作用に対して敏感であり、その作用
により劣化し、変色あるいは機械的強度の低下などを引
き起こし、長期の使用に耐えないことが知られている。
【０００３】そこで、この光による高分子材料の劣化を
防止するために、従来種々の光安定剤が用いられてき
た。しかしながら、従来用いられてきた光安定剤はその
安定化効果がまだ不充分であり、また安定剤自体が熱あ
るいは酸化に対して不安定であったり、水などの溶剤に
よって抽出され易いものが多く、さらに樹脂に着色を与
えるものが多いなどの欠点を有しており、長期にわたっ
て高分子材料を安定化することができなかった。
防止するために、従来種々の光安定剤が用いられてき
た。しかしながら、従来用いられてきた光安定剤はその
安定化効果がまだ不充分であり、また安定剤自体が熱あ
るいは酸化に対して不安定であったり、水などの溶剤に
よって抽出され易いものが多く、さらに樹脂に着色を与
えるものが多いなどの欠点を有しており、長期にわたっ
て高分子材料を安定化することができなかった。
【０００４】これら従来用いられてきた光安定剤の中で
も、分子内に立体障害を有するピペリジン系化合物はそ
れ自体が非着色性であり、注目されている。しかしなが
ら、従来知られているピペリジン系化合物は、光安定化
効果が不充分であり、また、水によって樹脂から容易に
抽出されてしまうという欠点もあった。
も、分子内に立体障害を有するピペリジン系化合物はそ
れ自体が非着色性であり、注目されている。しかしなが
ら、従来知られているピペリジン系化合物は、光安定化
効果が不充分であり、また、水によって樹脂から容易に
抽出されてしまうという欠点もあった。
【０００５】また、これらのピペリジン系化合物は、化
合物自体の耐熱性が不充分であり、高分子材料を高温で
加工する際などに、分解あるいは揮散して、その効果を
失う場合も多かった。
合物自体の耐熱性が不充分であり、高分子材料を高温で
加工する際などに、分解あるいは揮散して、その効果を
失う場合も多かった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、かかる現
状に鑑み鋭意検討を重ねた結果、分子内に立体障害ピペ
リジル基を有する特定のイソシアヌル酸誘導体を高分子
材料に添加することによって、熱、光による高分子材料
の着色性を著しく改善し、とくに、高温加工時の安定性
を著しく改善することを見い出し本発明を完成した。
状に鑑み鋭意検討を重ねた結果、分子内に立体障害ピペ
リジル基を有する特定のイソシアヌル酸誘導体を高分子
材料に添加することによって、熱、光による高分子材料
の着色性を著しく改善し、とくに、高温加工時の安定性
を著しく改善することを見い出し本発明を完成した。
【０００７】すなわち、本発明は、下記〔化２〕の一般
式（Ｉ）（上記〔化１〕の一般式（Ｉ）と同じ）で表さ
れる、新規なイソシアヌル酸誘導体を提供するものであ
る。
式（Ｉ）（上記〔化１〕の一般式（Ｉ）と同じ）で表さ
れる、新規なイソシアヌル酸誘導体を提供するものであ
る。
【０００８】
【化２】
【０００９】以下、本発明のイソシアヌル酸誘導体につ
いて詳述する。
いて詳述する。
【００１０】上記一般式（Ｉ）で表される分子内に立体
障害ピペリジン基を有する新規なイソシアヌル酸誘導体
は、下記〔化３〕の式（II）で表される４−イソシアナ
ト−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン化合物の
単量体あるいは下記〔化４〕の式（III)で表されるオリ
ゴマーを三量化して合成することができる。
障害ピペリジン基を有する新規なイソシアヌル酸誘導体
は、下記〔化３〕の式（II）で表される４−イソシアナ
ト−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン化合物の
単量体あるいは下記〔化４〕の式（III)で表されるオリ
ゴマーを三量化して合成することができる。
【００１１】
【化３】
【００１２】
【化４】
【００１３】これらの４−イソシアナト−２，２，６，
６−テトラメチルピペリジン化合物の単量体あるいはオ
リゴマーは、たとえば、ドイツ公開特許第３１３５４８
９号公報に記載されている方法などにより、４−アミノ
−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンを原料にし
て合成することができる。
６−テトラメチルピペリジン化合物の単量体あるいはオ
リゴマーは、たとえば、ドイツ公開特許第３１３５４８
９号公報に記載されている方法などにより、４−アミノ
−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンを原料にし
て合成することができる。
【００１４】本発明のイソシアヌル酸誘導体を高分子材
料の添加剤として添加する場合、その添加量は、高分子
材料１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜５
重量部、より好ましくは０．０１〜３重量部である。
０．００１重量部未満では高分子材料の安定化効果が不
充分であり、また、５重量部を越えて添加してもそれ以
上の安定性の改善効果は認められず不経済であるばかり
でなく、かえって高分子材料の物性に悪影響を及ぼす場
合すらある。
料の添加剤として添加する場合、その添加量は、高分子
材料１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜５
重量部、より好ましくは０．０１〜３重量部である。
０．００１重量部未満では高分子材料の安定化効果が不
充分であり、また、５重量部を越えて添加してもそれ以
上の安定性の改善効果は認められず不経済であるばかり
でなく、かえって高分子材料の物性に悪影響を及ぼす場
合すらある。
【００１５】本発明のイソシアヌル酸誘導体を添加する
ことによって安定化することのできる高分子材料として
は、たとえば、高密度、低密度および直鎖鎖状低密度ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−１、ポリ−
３−メチルペンテンなどのα−オレフィン重合体または
エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロピレン
共重合体などのポリオレフィンおよびこれらの共重合
体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリ
エチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリデ
ン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化
ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデ
ン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル
三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合
体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビ
ニル−シクロヘキシルマレイミド共重合体などの含ハロ
ゲン樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリスチレン、ポ
リ酢酸ビニル、アクリル樹脂、スチレンおよび／または
α−メチルスチレンと他の単量体（たとえば、無水マレ
イン酸、フェニルマレイミド、メタクリル酸メチル、ブ
タジエン、アクリロニトリルなど）との共重合体（たと
えばＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＭＢＳ樹脂、耐熱ＡＢＳ樹
脂など）、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアル
コール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフ
タレートなどの直鎖ポリエステル、ポリカプロラクタ
ム、ポリヘキサメチレンアジパミドなどのポリアミド、
直鎖状または分岐状のポリカーボネート、ポリアセター
ル、ポリフェニレンサルファイド、ポリウレタン、繊維
素系樹脂などの熱可塑性合成樹脂およびこれらのブレン
ド物あるいはフェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹
脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂などの熱硬
化性樹脂をあげることができる。
ことによって安定化することのできる高分子材料として
は、たとえば、高密度、低密度および直鎖鎖状低密度ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−１、ポリ−
３−メチルペンテンなどのα−オレフィン重合体または
エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロピレン
共重合体などのポリオレフィンおよびこれらの共重合
体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリ
エチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリデ
ン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化
ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデ
ン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル
三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合
体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビ
ニル−シクロヘキシルマレイミド共重合体などの含ハロ
ゲン樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリスチレン、ポ
リ酢酸ビニル、アクリル樹脂、スチレンおよび／または
α−メチルスチレンと他の単量体（たとえば、無水マレ
イン酸、フェニルマレイミド、メタクリル酸メチル、ブ
タジエン、アクリロニトリルなど）との共重合体（たと
えばＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＭＢＳ樹脂、耐熱ＡＢＳ樹
脂など）、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアル
コール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフ
タレートなどの直鎖ポリエステル、ポリカプロラクタ
ム、ポリヘキサメチレンアジパミドなどのポリアミド、
直鎖状または分岐状のポリカーボネート、ポリアセター
ル、ポリフェニレンサルファイド、ポリウレタン、繊維
素系樹脂などの熱可塑性合成樹脂およびこれらのブレン
ド物あるいはフェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹
脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂などの熱硬
化性樹脂をあげることができる。
【００１６】さらに、エチレン−プロピレン共重合エラ
ストマー、エチレン−プロピレン−エチリデンノルボル
ネン共重合エラストマー、イソプレンゴム、ブタジエン
ゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共メタクリル酸メ
チル−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン共
重合ゴムなどのエラストマーおよび一般に熱可塑性エラ
ストマーと称されるこれらのエラストマーとポリオレフ
ィンなどの他の熱可塑性樹脂との混合物であってもよ
い。
ストマー、エチレン−プロピレン−エチリデンノルボル
ネン共重合エラストマー、イソプレンゴム、ブタジエン
ゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共メタクリル酸メ
チル−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン共
重合ゴムなどのエラストマーおよび一般に熱可塑性エラ
ストマーと称されるこれらのエラストマーとポリオレフ
ィンなどの他の熱可塑性樹脂との混合物であってもよ
い。
【００１７】これらの高分子材料の安定化には、本発明
のイソシアヌル酸誘導体とともに、他の汎用の酸化防止
剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤などの添加剤を
併用することができる。
のイソシアヌル酸誘導体とともに、他の汎用の酸化防止
剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤などの添加剤を
併用することができる。
【００１８】これらの添加剤として特に好ましいものと
しては、フェノール系、硫黄系、ホスファイト系などの
酸化防止剤および紫外線吸収剤、本発明のイソシアヌル
酸誘導体以外のヒンダードアミン系光安定剤などがあげ
られる。
しては、フェノール系、硫黄系、ホスファイト系などの
酸化防止剤および紫外線吸収剤、本発明のイソシアヌル
酸誘導体以外のヒンダードアミン系光安定剤などがあげ
られる。
【００１９】上記フェノール系酸化防止剤としては、た
とえば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，
６−ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ス
テアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）−プロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、チ
オジエチレングリコールビス〔（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６
−ヘキサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキ
サメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４’−チオ
ビス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール) 、２，２’−
メチレンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノー
ル）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−第三
ブチルフェノール）、ビス〔３，３−ビス（４−ヒドロ
キシ−３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕
グリコールエステル、４，４’−ブチリデンビス（６−
第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２’−エチリデン
ビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−
エチリデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェ
ノール) 、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒド
ロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス〔２−
第三ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−
第三ブチル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタ
レート、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−
ヒドロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレー
ト、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−
トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−
トリス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、
テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２
−第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオ
キシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル) フェノー
ル、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロ
ピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロ〔５. ５〕ウンデカン、トリエチレングリ
コールビス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）プロピオネート〕などがあげられる。
とえば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，
６−ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ス
テアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）−プロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、チ
オジエチレングリコールビス〔（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６
−ヘキサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキ
サメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４’−チオ
ビス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール) 、２，２’−
メチレンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノー
ル）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−第三
ブチルフェノール）、ビス〔３，３−ビス（４−ヒドロ
キシ−３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕
グリコールエステル、４，４’−ブチリデンビス（６−
第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２’−エチリデン
ビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−
エチリデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェ
ノール) 、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒド
ロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス〔２−
第三ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−
第三ブチル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタ
レート、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−
ヒドロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレー
ト、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−
トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−
トリス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、
テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２
−第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオ
キシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル) フェノー
ル、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロ
ピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロ〔５. ５〕ウンデカン、トリエチレングリ
コールビス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）プロピオネート〕などがあげられる。
【００２０】また、上記硫黄系酸化防止剤としては、た
とえば、チオジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチ
ル、ジステアリルなどのジアルキルチオジプロピオネー
ト類およびペンタエリスリトールテトラ（β−ドデシル
メルカプトプロピオネート）などのポリオールのβ−ア
ルキルメルカプトプロピオン酸エステル類があげられ
る。
とえば、チオジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチ
ル、ジステアリルなどのジアルキルチオジプロピオネー
ト類およびペンタエリスリトールテトラ（β−ドデシル
メルカプトプロピオネート）などのポリオールのβ−ア
ルキルメルカプトプロピオン酸エステル類があげられ
る。
【００２１】また、上記ホスファイト系酸化防止剤とし
ては、たとえば、トリスノニルフェニルホスファイト、
トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイ
ト、トリス〔２−第三ブチル−４−（３−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−５−メチルフェニルチオ）−５−メチ
ルフェニル〕ホスファイト、トリデシルホスファイト、
オクチルジフェニルホスファイト、ジ（デシル）モノフ
ェニルホスファイト、ジ（トリデシル）ペンタエリスリ
トールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリト
ールジホスファイト、ジ (ノニルフェニル）ペンタエリ
スリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ第三ブチ
ルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビ
ス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペン
タエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−
トリ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホス
ファイト、テトラ（トリデシル）イソプロピリデンジフ
ェノールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，
４’−ｎ−ブチリデンビス（２−第三ブチル−５−メチ
ルフェノール) ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）
−１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−
５−第三ブチルフェニル）ブタントリホスファイト、テ
トラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ビフェニレ
ンジホスホナイト、２，２’−メチレンビス（４，６−
ジ第三ブチルフェニル）オクチルホスファイト、２，
２’−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）
フルオロホスファイトなどがあげられる。
ては、たとえば、トリスノニルフェニルホスファイト、
トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイ
ト、トリス〔２−第三ブチル−４−（３−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−５−メチルフェニルチオ）−５−メチ
ルフェニル〕ホスファイト、トリデシルホスファイト、
オクチルジフェニルホスファイト、ジ（デシル）モノフ
ェニルホスファイト、ジ（トリデシル）ペンタエリスリ
トールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリト
ールジホスファイト、ジ (ノニルフェニル）ペンタエリ
スリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ第三ブチ
ルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビ
ス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペン
タエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−
トリ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホス
ファイト、テトラ（トリデシル）イソプロピリデンジフ
ェノールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，
４’−ｎ−ブチリデンビス（２−第三ブチル−５−メチ
ルフェノール) ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）
−１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−
５−第三ブチルフェニル）ブタントリホスファイト、テ
トラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ビフェニレ
ンジホスホナイト、２，２’−メチレンビス（４，６−
ジ第三ブチルフェニル）オクチルホスファイト、２，
２’−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）
フルオロホスファイトなどがあげられる。
【００２２】また、上記紫外線吸収剤としては、たとえ
ば、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−
４−オクトキシベンゾフェノン、５，５’−メチレンビ
ス（２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン）な
どの２−ヒドロキシベンゾフェノン類；２−（２−ヒド
ロキシ−５−メチルフェニル) ベンゾトリアゾール、２
−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルフェニル)
ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−
ジ第三ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾー
ル、２−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−メチ
ルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−（２−カルボ
オクトキシ）エチルフェニル) ベンゾトリアゾール、２
−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル) ベン
ゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジク
ミルフェニル) ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレ
ンビス（４−第三オクチル−６−ベンゾトリアゾリル）
フェノールなどの２−（２−ヒドロキシフェニル）ベン
ゾトリアゾール類；フェニルサリシレート、レゾルシノ
ールモノベンゾエート、２，４−ジ第三ブチルフェニル
−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、ヘキサデシル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンゾエートなどのベンゾエート類；２−エチル−
２’−エトキシオキザニリド、２−エトキシ−４’−ド
デシルオキザニリドなどの置換オキザニリド類；エチル
−α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチ
ル−２−シアノ−３−メチル−３−（ｐ−メトキシフェ
ニル）アクリレートなどのシアノアクリレート類があげ
られる。
ば、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−
４−オクトキシベンゾフェノン、５，５’−メチレンビ
ス（２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン）な
どの２−ヒドロキシベンゾフェノン類；２−（２−ヒド
ロキシ−５−メチルフェニル) ベンゾトリアゾール、２
−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルフェニル)
ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−
ジ第三ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾー
ル、２−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−メチ
ルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−（２−カルボ
オクトキシ）エチルフェニル) ベンゾトリアゾール、２
−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル) ベン
ゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジク
ミルフェニル) ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレ
ンビス（４−第三オクチル−６−ベンゾトリアゾリル）
フェノールなどの２−（２−ヒドロキシフェニル）ベン
ゾトリアゾール類；フェニルサリシレート、レゾルシノ
ールモノベンゾエート、２，４−ジ第三ブチルフェニル
−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、ヘキサデシル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンゾエートなどのベンゾエート類；２−エチル−
２’−エトキシオキザニリド、２−エトキシ−４’−ド
デシルオキザニリドなどの置換オキザニリド類；エチル
−α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチ
ル−２−シアノ−３−メチル−３−（ｐ−メトキシフェ
ニル）アクリレートなどのシアノアクリレート類があげ
られる。
【００２３】また、上記ヒンダードアミン系光安定剤と
しては、たとえば、２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジルステアレート、１，２，２，６，６−ペン
タメチル−４−ピペリジルステアレート、２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、Ｎ−
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ド
デシルコハク酸イミド、１−〔（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチ
ル〕−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル
−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリ
ジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）マロネート、Ｎ，Ｎ’−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘ
キサメチレンジアミン、テトラ（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ブタンテトラカルボキシレ
ート、テトラ（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４
−ピペリジル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・
ジ（トリデシル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）・ジ（トリデシル）ブタンテトラカルボキシレー
ト、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛トリス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオキ
シカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ｝エチ
ル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．
５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２
−｛トリス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−
ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニル
オキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサス
ピロ〔５．５〕ウンデカン、１，５，８，１２−テトラ
キス〔４，６−ビス｛Ｎ−（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）ブチルアミノ｝−１，３，５−
トリアジン−２−イル〕−１，５，８，１２−テトラア
ザドデカン、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸
ジメチル縮合物、２−第三オクチルアミノ−４，６−ジ
クロロ−ｓ−トリアジン／Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレ
ンジアミン縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミ
ン／ジブロモエタン縮合物などがあげられる。
しては、たとえば、２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジルステアレート、１，２，２，６，６−ペン
タメチル−４−ピペリジルステアレート、２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、Ｎ−
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ド
デシルコハク酸イミド、１−〔（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチ
ル〕−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル
−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリ
ジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）マロネート、Ｎ，Ｎ’−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘ
キサメチレンジアミン、テトラ（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ブタンテトラカルボキシレ
ート、テトラ（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４
−ピペリジル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・
ジ（トリデシル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）・ジ（トリデシル）ブタンテトラカルボキシレー
ト、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛トリス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオキ
シカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ｝エチ
ル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．
５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２
−｛トリス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−
ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニル
オキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサス
ピロ〔５．５〕ウンデカン、１，５，８，１２−テトラ
キス〔４，６−ビス｛Ｎ−（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）ブチルアミノ｝−１，３，５−
トリアジン−２−イル〕−１，５，８，１２−テトラア
ザドデカン、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸
ジメチル縮合物、２−第三オクチルアミノ−４，６−ジ
クロロ−ｓ−トリアジン／Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレ
ンジアミン縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミ
ン／ジブロモエタン縮合物などがあげられる。
【００２４】その他必要に応じて、重金属不活性化剤、
造核剤、金属石けん、有機錫化合物、可塑剤、エポキシ
化合物、発泡剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤
などを併用することができる。
造核剤、金属石けん、有機錫化合物、可塑剤、エポキシ
化合物、発泡剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤
などを併用することができる。
【００２５】また、本発明の新規なイソシアヌル酸誘導
体を安定剤として添加された高分子材料は、農業用資
材、自動車用塗料および内外装材などの長期間に渡って
高度の耐候性が要求される用途あるいは食品包装用途、
医療用途などの放射線を照射される用途にも好適に用い
ることができ、たとえば、フィルム、繊維、テープ、シ
ート、各種成型材料、塗料、ラッカー用結合剤、接着
剤、パテおよび写真材料における基材などに用いること
ができる。
体を安定剤として添加された高分子材料は、農業用資
材、自動車用塗料および内外装材などの長期間に渡って
高度の耐候性が要求される用途あるいは食品包装用途、
医療用途などの放射線を照射される用途にも好適に用い
ることができ、たとえば、フィルム、繊維、テープ、シ
ート、各種成型材料、塗料、ラッカー用結合剤、接着
剤、パテおよび写真材料における基材などに用いること
ができる。
【００２６】
【実施例】次に本発明を実施例によって具体的に説明す
る。しかしながら、本発明はこれらの実施例によって制
限を受けるものではない。
る。しかしながら、本発明はこれらの実施例によって制
限を受けるものではない。
【００２７】〔実施例１〕 １，３，５−トリス（２，２，６，６−テトラメチルピ
ペリジン−４−イル）イソシアヌレート（下記〔化５〕
の式で表される化合物）の合成。
ペリジン−４−イル）イソシアヌレート（下記〔化５〕
の式で表される化合物）の合成。
【００２８】
【化５】
【００２９】蒸留精製した４−イソシアナト−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジン３６．５ｇ（０．２０
mmol）および触媒としてセシウムフェノキサイド０．９
０ｇ（４．０mmol）を窒素雰囲気下に１３０℃で１５分
間攪拌する。反応終了後にｎ−ヘキサン２００mlを加え
て生成物を溶解させ、析出する触媒をろ別する。ろ液を
減圧下に脱溶媒して、目的物である１，３，５−トリス
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）イソシアヌレートがほぼ定量的に得られた。ｎ−ヘ
キサンで再結晶して融点１５８℃の白色粉末状の精製物
２０ｇを得た。
６，６−テトラメチルピペリジン３６．５ｇ（０．２０
mmol）および触媒としてセシウムフェノキサイド０．９
０ｇ（４．０mmol）を窒素雰囲気下に１３０℃で１５分
間攪拌する。反応終了後にｎ−ヘキサン２００mlを加え
て生成物を溶解させ、析出する触媒をろ別する。ろ液を
減圧下に脱溶媒して、目的物である１，３，５−トリス
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）イソシアヌレートがほぼ定量的に得られた。ｎ−ヘ
キサンで再結晶して融点１５８℃の白色粉末状の精製物
２０ｇを得た。
【００３０】得られた反応生成物の物性は、下記の通り
であり、目的物であることを確認した。
であり、目的物であることを確認した。
【００３１】ＩＲ（ＫＢｒ） ３３００ｃｍ-1（ＮＨ） １７１０ｃｍ-1（イソシアヌレート）
【００３２】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3)、δ、ｐｐｍ ０．５〜１．７（ｍ、１４Ｈ、CH3 、CH2) １．７〜２．１（ｍ、２Ｈ、CH2) ３．８〜４．５（ｍ、CH-NH) ５．１ （br、NH)
【００３３】なお、実施例１で得られた上記〔化５〕の
式で表されるイソシアヌレート化合物をハロゲン化メチ
ルで処理するか、ギ酸／ホルマリンで処理することによ
って、下記〔化６〕の式で表される１，３，５−トリス
（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−
イル）イソシアヌレートを合成することができる。
式で表されるイソシアヌレート化合物をハロゲン化メチ
ルで処理するか、ギ酸／ホルマリンで処理することによ
って、下記〔化６〕の式で表される１，３，５−トリス
（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−
イル）イソシアヌレートを合成することができる。
【００３４】
【化６】
【００３５】また、実施例１で得られた上記〔化５〕の
式で表されるイソシアヌレート化合物を過酸化水素水あ
るいは有機過酸で処理することによって、下記〔化７〕
の式で表される１，３，５−トリス（２，２，６，６−
ペンタメチルピペリジン−４−イル−１−オキシル））
イソシアヌレートを合成することができる。
式で表されるイソシアヌレート化合物を過酸化水素水あ
るいは有機過酸で処理することによって、下記〔化７〕
の式で表される１，３，５−トリス（２，２，６，６−
ペンタメチルピペリジン−４−イル−１−オキシル））
イソシアヌレートを合成することができる。
【００３６】
【化７】
【００３７】〔使用例〕 ポリプロピレン樹脂に対する安定化試験
【００３８】本発明の化合物のポリプロピレン樹脂にお
ける安定化効果をみるために、次の配合物を２５０℃、
２５ｒｐｍで押し出し加工を行ないペレットを作成し
た。さらにこのペレットを２５０℃で射出成型して、厚
さ２ｍｍの試験片を作成し、６３℃のキセノン耐候試験
機（雨あり）に入れて、試験片にクラックの発生する時
間（耐候性）を測定した。その結果を下記〔表１〕に示
す。
ける安定化効果をみるために、次の配合物を２５０℃、
２５ｒｐｍで押し出し加工を行ないペレットを作成し
た。さらにこのペレットを２５０℃で射出成型して、厚
さ２ｍｍの試験片を作成し、６３℃のキセノン耐候試験
機（雨あり）に入れて、試験片にクラックの発生する時
間（耐候性）を測定した。その結果を下記〔表１〕に示
す。
【００３９】 〔配 合〕 重量部 ポリプロピレンホモポリマー（Ｐｒｏｆａｘ６５０１） １００ カルシウムステアレート ０．０５ テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル− ０．１ ４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト ０．１ 試験化合物（表１） ０．１
【００４０】
【表１】
【００４１】＊比較１：下記〔化８〕の式で表される
１，３，５−トリス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）アミノイソシアヌレート
１，３，５−トリス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）アミノイソシアヌレート
【００４２】
【化８】
【００４３】上記〔表１〕の結果から、イソシアヌル環
に直接ピペリジル基が結合した本発明の化合物を添加し
た場合（使用例１−１、１−２及び１−３）は、アミン
を介して結合したイソシアヌル化合物を添加した場合
（比較例１−２）と比較して耐候性に優れていることが
明らかである。
に直接ピペリジル基が結合した本発明の化合物を添加し
た場合（使用例１−１、１−２及び１−３）は、アミン
を介して結合したイソシアヌル化合物を添加した場合
（比較例１−２）と比較して耐候性に優れていることが
明らかである。
【００４４】
【発明の効果】本発明の新規なイソシアヌル酸誘導体
は、高分子材料に添加することにより、高分子材料の耐
候性を大幅に改善することができる。
は、高分子材料に添加することにより、高分子材料の耐
候性を大幅に改善することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 401/14 C08K 5/3492 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】 下記〔化１〕の一般式（Ｉ）で表され
る、新規なイソシアヌル酸誘導体。 【化１】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7960093A JP3256322B2 (ja) | 1993-04-06 | 1993-04-06 | 新規なイソシアヌル酸誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7960093A JP3256322B2 (ja) | 1993-04-06 | 1993-04-06 | 新規なイソシアヌル酸誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06293754A JPH06293754A (ja) | 1994-10-21 |
| JP3256322B2 true JP3256322B2 (ja) | 2002-02-12 |
Family
ID=13694509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7960093A Expired - Fee Related JP3256322B2 (ja) | 1993-04-06 | 1993-04-06 | 新規なイソシアヌル酸誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3256322B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030011431A (ko) * | 2001-08-02 | 2003-02-11 | 주식회사 큐시스 | 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘 유도체가 도입된 반응형우레탄 아크릴레이트, 이의 제조방법 및 이를 함유한광경화형 수지 조성물 |
-
1993
- 1993-04-06 JP JP7960093A patent/JP3256322B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06293754A (ja) | 1994-10-21 |
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